JPH08304778A - ガス放電パネルの製造方法 - Google Patents

ガス放電パネルの製造方法

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JPH08304778A
JPH08304778A JP10640895A JP10640895A JPH08304778A JP H08304778 A JPH08304778 A JP H08304778A JP 10640895 A JP10640895 A JP 10640895A JP 10640895 A JP10640895 A JP 10640895A JP H08304778 A JPH08304778 A JP H08304778A
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JP
Japan
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plasma
panel
gas
tip tube
discharge
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JP10640895A
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Kazuyuki Endo
和之 遠藤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 プラズマパネル1に例えばヘリウム、ネオ
ン、アルゴンあるいはこれらの混合気体等のようなイオ
ン化可能なプラズマガスを封入する前にプラズマパネル
1に接着されたガラス製のチップ管2を介して行う排気
処理の際、プラズマパネル1を加熱すると共に、該チッ
プ管2も電気封止治具8により加熱して、プラズマパネ
ル1を製造する。 【効果】 ガスの純度を保ち、放電を均一に安定して行
うことができるガス放電パネルを製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、封入されたガス中で放
電を行うガス放電パネルを製造するガス放電パネルの製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、液晶を駆動する画像表示装置とし
て、プラズマアドレス液晶表示装置が知られている。こ
のプラズマアドレス液晶表示装置は、プラズマパネルと
電気光学表示パネルとを薄板状の誘電シートを介して積
層してなり、プラズマパネルでの放電プラズマを利用し
て電気光学表示パネルの液晶を駆動し、二次元画像の表
示を行う。
【0003】このプラズマアドレス液晶表示装置の具体
例について図3及び4を参照しながら説明する。先ず、
電気光学表示パネル20は、上側のガラス基板(以下、
上側基板という。)21を用いて構成される。上側基板
21の内側主面には、透明導電膜材料からなると共に行
方向に延びる複数本のデータ電極22が所定の間隔を保
持して列方向に並列的に形成される。上側基板21は、
スペーサ24によって所定の間隔を保持した状態で薄板
状の誘電シート12に接合される。上側基板21及び誘
電シート12の間隙には、電気光学材料としての液晶が
充填されて液晶層23が形成される。ここで、上側基板
21及び誘電シート12の間隙の寸法は、例えば4〜1
0μmとされ、表示面全体にわたって均一に保たれる。
なお、電気光学材料としては液晶以外のものを使用する
こともできる。
【0004】一方、プラズマパネル10は下側のガラス
基板であるプラズマ基板11を用いて構成される。プラ
ズマ基板11の内側主面には、プラズマ電極を構成する
列方向に延びる複数のアノード電極14A及びカソード
電極14Kが交互に所定の間隔を保持して行方向に並列
的に形成される。また、アノード電極14A及びカソー
ド電極14Kの各上面のほぼ中央部には、それぞれ電極
に沿って延在するように所定幅の隔壁13が形成され
る。そして、各隔壁13の頂部は誘電シート12の下面
に当接され、プラズマ基板11及び誘電シート12の間
隙の寸法が一定に保持される。
【0005】また、プラズマ基板11の周辺部にはその
周辺部に沿って低融点ガラス等を使用したフリット材1
5が配設され、プラズマ基板11と誘電シート12とが
気密的に接合される。プラズマ基板11及び誘電シート
12の間隙には、イオン化可能なガス(以下、プラズマ
ガスという。)が封入される。プラズマガスとしては、
例えばヘリウム、ネオン、アルゴンあるいはこれらの混
合気体等が使用される。
【0006】プラズマ基板11及び誘電シート12の間
隙には、各隔壁13で分離された列方向に延びる複数の
放電チャネル(空間)16が行方向に並列的に形成され
る。すなわち、放電チャネル16はデータ電極22と直
行するように形成される。各データ電極22は列駆動単
位となると共に、各放電チャネル16は行駆動単位とな
り、両者の交差部にはそれぞれ図4に示すように画素2
5が規定される。
【0007】以上の構成において、所定の放電チャネル
16に対応するアノード電極14Aとカソード電極14
Kとの間に所定電圧が印加されると、その放電チャネル
16の部分のプラズマガスが選択的にイオン化されてプ
ラズマ放電が発生し、その内部は略アノード電位に維持
される。この状態で、データ電極22にデータ電圧が印
加されると、その放電チャネル16に対応して列方向に
並ぶ複数の画素25の液晶層23に誘電シート12を介
してデータ電位が書き込まれる。
【0008】プラズマ放電が終了すると、放電チャネル
16に対応して列方向に並ぶ複数の画素25の液晶層2
3に誘電シート12を介してデータ電位が書き込まれ
る。また、プラズマ放電が終了すると、放電チャネル1
6は浮遊電位となり、各画素25の液晶層23に書き込
まれたデータ電圧は、次の書き込み期間(例えば1フィ
ールド後あるいは1フレーム後)まで保持される。この
場合、放電チャネル16はサンプリングスイッチとして
機能すると共に、各画素25の液晶層23はサンプリン
グキャパシタとして機能する。
【0009】各画素25の液晶層23に書き込まれたデ
ータ電圧によって液晶が動作することから画素単位で表
示が行われる。したがって、上述したようにプラズマ放
電を発生させて列方向に並ぶ複数の画素25の液晶層2
3にデータ電圧を書き込む放電チャネル16を行方向に
順次走査していくことで、二次元画像の表示を行うこと
ができる。
【0010】このプラズマパネル10のプラズマ基板1
1及び誘電シート12の間隙、すなわち放電チャネル1
6には、上述したようなプラズマガスが封入されてお
り、プラズマパネル10は、封入されたガス中で放電を
行うガス放電パネルの一種と呼ぶことができる。
【0011】このプラズマパネル10は、図5に示すよ
うに、金属の定盤上26に載置された誘電シート12上
に、既に隔壁13とアノード電極とカソード電極が形成
されたプラズマ基板11をフリット材15で支持した状
態で載置し、さらに、このプラズマ基板11上に、重り
27を載置してから、上記フリット材15を焼成して形
成されている。ここで、プラズマ基板11には、誘電シ
ート12とプラズマ基板11との間に隔壁13で仕切ら
れて形成される放電チャネル16内から排気を行うため
にガラス製のチップ管2が接着されている。さらに、こ
のチップ管2は、上記排気処理の後に、放電チャネル1
6内に上記プラズマガスを封入する際にも使われる。最
終的に、このチップ管2は、電気封止治具により封止さ
れる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記放電チ
ャネル16内でのプラズマ放電は、上記プラズマガスの
不純物の濃度に大きく影響を受ける。つまり、上記プラ
ズマガスへの不純物ガスの混入は、放電動作や放電の寿
命に悪影響を与える。不純物ガスとしては、H2O、C
O、N2、Ar、CO2等がある。特に、H2Oの影響が
大きく、プラズマ放電時に放電を不安定にしてしまう。
【0013】したがって、排気処理の際には、上記プラ
ズマパネル10を約300℃まで加熱し、パネルを形成
しているガラス製のプラズマ基板11等の表面等、パネ
ルの内壁表面に吸着した吸着物質を取り除いている。こ
れは、加熱をしないと上記プラズム基板11等の表面に
吸着した水分等の吸着物質が排気後に徐々に該プラズマ
基板11から離れて上記放電ガスに不純物ガスとして混
ざってしまうのを防ぐためである。
【0014】しかし、プラズマパネル10に接着された
ガラス製のチップ管2の表面に吸着している吸着物質に
ついては、従来、特に対策が取られていなかった。この
ため、上記放電ガスが封入された後、電気封止治具によ
り封止される際、チップ管2に吸着した吸着物質により
不純物ガスが発生し、上記放電ガスに混入してしまって
いた。
【0015】本発明は、上記実情に鑑みてなされたもの
であり、上記放電ガスの純度を保ち、放電を均一に安定
して行うことができるガス放電パネルの製造方法の提供
を目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明に係るガス放電パ
ネルの製造方法は、上記ガスを封入する前に上記ガス放
電パネルに接着されたガラス管を介して行う排気処理の
際、上記ガス放電パネルを加熱すると共に、該ガラス管
も加熱することにより上記課題を解決する。
【0017】
【作用】排気処理の際、上記ガラス管を加熱することに
よって、上記ガラス管に吸着した吸着物質によって発生
する不純物ガスの上記ガスへの混入を防ぐことが出来
る。
【0018】
【実施例】以下、本発明に係るガス放電パネルの製造方
法の実施例について図面を参照しながら説明する。この
実施例は、プラズマアドレス液晶表示装置に使用される
プラズマパネルを製造する方法である。
【0019】この実施例は、図1に示すように、プラズ
マパネル1に例えばヘリウム、ネオン、アルゴンあるい
はこれらの混合気体等のようなイオン化可能なガス(以
下、プラズマガスという。)を封入する前にプラズマパ
ネル1に接着されたガラス製のチップ管を介して行う排
気処理の際、プラズマパネル1を加熱すると共に、該チ
ップ管2も加熱して、プラズマパネル1を製造するよう
な方法である。
【0020】ここで、プラズマパネル1は、ガラスより
なるプラズマ基板1a及び薄板状の誘電シート1bと、
図示しない隔壁及びプラズマ電極とからなり、図示しな
い放電チャネルを内部に形成している。この放電チャネ
ルに排気及びガス封入が行われる。
【0021】チップ管2は、プラズマパネル1に開けら
れた孔1cを介して排気を行うように、フリット9でプ
ラズマパネル1に接着される。このチップ管2は、排気
ポート3を介して排気装置の排気管4に接続される。
【0022】排気ポート3は、排気管4の先端部に設け
られたネジ部4aと、このネジ部4aに導かれてチップ
管2と排気管4の締め付けを行う締め付けキャップ5と
を備えている。また、排気ポート3には、チップ管2と
排気管4と締め付けキャップ5との空間内でチップ管2
及び排気管4が外気に触れずに完全に密閉されるよう
に、スペーサ6とOリング7とが備えられる。
【0023】Oリング7は、例えばフッ素ゴムを材料と
しており、弾性を有すると共に、不純物ガスを発生しに
くい。このため、Oリング7は、締め付けキャップ5の
締め付けにより、スペーサ6を介して押しつぶされるよ
うに変形し、スペーサ6を保持する上記空間と排気管4
内とを完全に遮断する。
【0024】以上のように、チップ管2を排気ポート3
に接続してから排気を開始するが、本実施例では上述し
たように、プラズマパネル1を約300℃まで加熱する
と共に、チップ管2を電気封止治具8により、約300
℃以上で約400℃以内の範囲で加熱する。
【0025】プラズマパネル1の内壁に吸着した水分等
の吸着物質は、例えば20℃前後のような室温で排気し
ただけでは取り除くことができない。このため、プラズ
マパネル1を約300℃で加熱して上記吸着物質を取り
除いている。
【0026】また、チップ管2もガラスであるため、パ
ラズマパネル1と同様に上記吸着物質を持っている。こ
のため、上記プラズマガスが封入された後、電気封止治
具8により封止される際、チップ管2に吸着された水分
等の吸着物質により不純物ガスが発生し、上記プラズマ
ガスに混入してしまう。
【0027】そこで、本実施例では、チップ管2も排気
処理の際、電気封止治具8により、約300℃以上で約
400℃以内の範囲で加熱している。
【0028】ここで、チップ管2の加熱温度をプラズマ
パネル1の加熱温度よりも高くするのは、プラズマパネ
ル1から排気された不純物ガスが再びチップ管2に吸着
するのを防ぐためである。ただし、チップ管2の加熱温
度の上限は、フリット9が軟化せず、かつプラズマパネ
ル1に熱ストレスをかけないように約400℃以下であ
る必要がある。フリット9の軟化開始温度は約540℃
であり、チップ管2とプラズマパネル1の許容温度差は
200℃以下であり、さらにマージンを考慮している。
【0029】また、チップ管2の温度変化とプラズマパ
ネル1の温度変化は、図2に示すような特性である。す
なわち、チップ管2の加熱のヒートパターンとプラズマ
パネル1の加熱のヒートパターンは、2時間以内の同時
間で昇温し、1時間以内の同時間で保温し、2時間以内
の同時間で降温するように同一である。そして、降温さ
れてからしばらく冷却され、その後プラズマガスがチッ
プ管2を介して導入される。
【0030】なお、チップ管2の温度変化とプラズマパ
ネル1の温度変化は少なくとも降温のパターンが同一で
あればよい。
【0031】以上により、本実施例となるプラズマパネ
ルを製造する方法は、排気処理の際、プラズマパネル1
を加熱すると共に、チップ管2を加熱するので、チップ
管2に吸着した水分等の吸着物質による不純物ガスの発
生を抑えることができる。このため、本実施例によって
製造したプラズマパネル1によれば、上記プラズマガス
の純度を保ち、プラズマ放電を均一に安定して行うこと
ができる。
【0032】なお、本発明に係るガス放電パネルの製造
方法は、上記プラズマパネルの製造のみに限定されず、
例えば冷陰極管や、プラズマアドレス液晶表示装置以外
に用いられるプラズマディスプレイの製造にも適用され
る。
【0033】
【発明の効果】以上より本発明に係るガス放電パネルの
製造方法によれば、ガスを封入する前に上記ガス放電パ
ネルに接着されたガラス管を介して行う排気処理の際、
上記ガス放電パネルを加熱すると共に、該ガラス管も加
熱するので、上記ガスの純度を保ち、放電を均一に安定
して行うことができるガス放電パネルを製造できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るガス放電パネルの製造方法の実施
例を説明するための模式図である。
【図2】上記実施例におけるチップ管とプラズマパネル
の温度変化パターンを示す特性図である。
【図3】プラズマアドレス液晶表示装置の概略構成を示
す断面図である。
【図4】上記プラズマアドレス液晶表示装置のデータ電
極、プラズマ電極、放電チャネルの配列を示す図であ
る。
【図5】上記プラズマアドレス液晶表示装置に用いられ
るプラズマパネルの製造を説明するための分解図であ
る。
【符号の説明】
1 プラズマパネル 2 チップ管 3 排気ポート

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 封入されたガス中で放電を行うガス放電
    パネルを製造するガス放電パネルの製造方法において、 上記ガスを封入する前に上記ガス放電パネルに接着され
    たガラス管を介して行う排気処理の際、上記ガス放電パ
    ネルを加熱すると共に該ガラス管も加熱することを特徴
    とするガス放電パネルの製造方法。
  2. 【請求項2】 上記ガラス管の加熱温度は、上記ガス放
    電パネルの加熱温度よりも、高いことを特徴とする請求
    項1記載のガス放電パネルの製造方法。
  3. 【請求項3】 上記ガラス管は、該ガラス管を電気封止
    する電気封止治具により加熱されることを特徴とする請
    求項1記載のガス放電パネルの製造方法。
  4. 【請求項4】 上記ガラス管の温度変化と、上記ガス放
    電パネルの温度変化は、少なくとも降温パターンが同一
    であることを特徴とする請求項1記載のガス放電パネル
    の製造方法。
JP10640895A 1995-04-28 1995-04-28 ガス放電パネルの製造方法 Withdrawn JPH08304778A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990043949A (ko) * 1997-11-30 1999-06-25 김영남 플라즈마 표시소자의 배기구조
KR19990054702A (ko) * 1997-12-26 1999-07-15 구자홍 평판소자용 배기관결합구조

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990043949A (ko) * 1997-11-30 1999-06-25 김영남 플라즈마 표시소자의 배기구조
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Effective date: 20020702