JPH08304761A - Color liquid crystal display device - Google Patents

Color liquid crystal display device

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JPH08304761A
JPH08304761A JP7127503A JP12750395A JPH08304761A JP H08304761 A JPH08304761 A JP H08304761A JP 7127503 A JP7127503 A JP 7127503A JP 12750395 A JP12750395 A JP 12750395A JP H08304761 A JPH08304761 A JP H08304761A
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JP
Japan
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liquid crystal
electrodes
substrate
layer
electrode
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Pending
Application number
JP7127503A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuko Yokoyama
優子 横山
Tetsuo Saito
哲郎 斉藤
Tadashi Mihara
正 三原
Yuichi Masaki
裕一 正木
Yoshinori Shimamura
吉則 島村
Kazuya Ishiwatari
和也 石渡
Kazunori Katakura
一典 片倉
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Priority to EP96106665A priority patent/EP0740184A3/en
Priority to US08/638,219 priority patent/US6144435A/en
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Priority to US09/613,625 priority patent/US6335777B1/en
Priority to US09/895,183 priority patent/US20010055084A1/en
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Abstract

PURPOSE: To widen a driving margin and to make well display even under any use conditions by supplying scanning signals to the electrodes on a flattening film and supplying information signals corresponding to every color to information electrodes formed finer than these electrodes. CONSTITUTION: Color filters 3 are formed via an undercoating layer 2 on an insulating substrate 1a and the flattening layer 4 is formed thereon. Further, scanning electrodes consisting of striped transparent electrodes 6a and auxiliary electrodes 7a are formed via a barrier layer 5 on its surface. A shorting preventive layer 8a, a rough surface forming layer 9a and an oriented film 10a are formed thereon. On the other hand, the information electrodes consisting of the transparent electrodes 6b and auxiliary electrodes 7b finer than the scanning electrodes are formed on an insulating substrate 1b. A shorting preventive layer 8b, a rough surface forming layer and an oriented film 10b are formed thereon. Both substrates 1a, 1b are disposed to face each other and chiral smectic liquid crystals 13 are held between the substrates. The scanning electrodes are supplied to the scanning electrodes and the information signals corresponding to every color of the color filters 3 are supplied to the information electrodes.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、文字や画像を表示する
ための表示装置等に用いられる液晶素子、特にカイラル
スメクティック液晶を用い、フルカラー表示する液晶表
示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal element used for a display device for displaying characters and images, and more particularly to a liquid crystal display device for full color display using a chiral smectic liquid crystal.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、カラー液晶表示装置としては、ス
トライプ状の赤(R)、緑(G)、青(B)フィルター
を有するものや、R,G,Bの各フィルターが2分の1
ピッチづつずれたモザイクフィルター、R,G,Bに加
えて無着色(W)フィルターを設けたモザイクフィルタ
ー等を有するものが用いられている。このようなフィル
ターは通常、ガラス基板の内面に設けられるため、白黒
の液晶表示装置とは異なり、上下のガラス基板に付与さ
れる膜の積層構造が互いに異なる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a color liquid crystal display device having a red (R), green (G), and blue (B) filter in a stripe shape, and each of the R, G, and B filters is halved.
What has a mosaic filter in which a non-colored (W) filter is provided in addition to a mosaic filter having a pitch shift, R, G, and B is used. Since such a filter is usually provided on the inner surface of the glass substrate, the laminated structure of the films provided on the upper and lower glass substrates is different from that of the black and white liquid crystal display device.

【0003】一方、強誘電性液晶や反強誘電性液晶に用
いられるカイラルスメクティック液晶は、ある基準電位
レベルに対して一方の極性の電界印加により一方の配向
状態となり、他方の極性の電界印加により他方の配向状
態となる。このような特性は従来のTN型液晶とは大き
く異なり、当該特性を利用したカラー表示の液晶表示装
置の開発も行なわれている。
On the other hand, a chiral smectic liquid crystal used for a ferroelectric liquid crystal or an anti-ferroelectric liquid crystal is in one alignment state when an electric field of one polarity is applied to a certain reference potential level, and when an electric field of the other polarity is applied. The other orientation state is obtained. Such characteristics are significantly different from those of the conventional TN type liquid crystal, and a liquid crystal display device for color display utilizing the characteristics is being developed.

【0004】図14に強誘電性液晶を用いた従来の二値
表示(白黒)の液晶素子の断面を示す。図中、1a,1
bは絶縁性基板、6a,6bは透明電極、7a,7bは
補助電極、8a,8bはショート防止層、9a,9bは
粗面形成層、10a,10bは配向層、11は接着ビー
ズ、12はスペーサビーズ、13は液晶層である。透明
電極6a,6bと補助電極7a,7bからなる駆動電極
はそれぞれストライプ形状に形成され、互いに直交する
ように対向してマトリクスを組んでいる。また、図中の
点線から点線までが1画素とする。
FIG. 14 shows a cross section of a conventional binary display (black and white) liquid crystal element using a ferroelectric liquid crystal. 1a, 1 in the figure
b is an insulating substrate, 6a and 6b are transparent electrodes, 7a and 7b are auxiliary electrodes, 8a and 8b are short-circuit preventing layers, 9a and 9b are rough surface forming layers, 10a and 10b are alignment layers, 11 is adhesive beads, 12 Is a spacer bead, and 13 is a liquid crystal layer. The drive electrodes, which are composed of the transparent electrodes 6a and 6b and the auxiliary electrodes 7a and 7b, are each formed in a stripe shape, and form a matrix so as to face each other so as to be orthogonal to each other. In addition, one pixel is from the dotted line to the dotted line in the figure.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記カイラルスメクテ
ィック液晶の2つの配向状態のポテンシャルエネルギー
は、対称的でなければならないが、上下ガラス基板内面
の構造が前述したように相違していると、該ポテンシャ
ルエネルギーが非対称になる恐れがある。ポテンシャル
エネルギーの非対称性は一方の配向状態から他方へスイ
ッチングする閾値の非対称性を引き起こし易い。
The potential energies of the two orientation states of the chiral smectic liquid crystal must be symmetrical, but if the structures of the inner surfaces of the upper and lower glass substrates are different as described above, the potential energies are different. Energy may be asymmetric. The potential energy asymmetry tends to cause a threshold asymmetry that switches from one orientation state to the other.

【0006】このような技術課題は従来のネマティック
液晶ではほとんど問題にならないが、カイラルスメクテ
ィック液晶では特性が異なるため、問題となってしま
う。特に、スイッチング閾値の非対称性は、駆動信号の
波形の電圧レベル、パルス幅、周波数を選択するための
選択範囲(駆動マージン)を狭くし易い。
Although such a technical problem hardly occurs in the conventional nematic liquid crystal, it becomes a problem in the chiral smectic liquid crystal because of different characteristics. In particular, the asymmetry of the switching threshold tends to narrow the selection range (driving margin) for selecting the voltage level, pulse width, and frequency of the waveform of the driving signal.

【0007】従って、カイラルスメクティック液晶を用
いたカラー表示装置においては、駆動マージンに大きな
影響を与えるパラメータを見出し、適宜選択する必要が
ある。
Therefore, in a color display device using a chiral smectic liquid crystal, it is necessary to find out a parameter having a great influence on the drive margin and select it appropriately.

【0008】本発明の目的は、駆動マージンが広く、い
かなる使用条件においても良好な表示が行なえるカラー
表示装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a color display device which has a wide driving margin and can perform a good display under any conditions of use.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段及び作用】本発明の特徴
は、一方が基板上にカラーフィルターと平坦化膜とスト
ライプ状電極を有し、他方がストライプ状電極を有する
一対の電極基板間にカイラルスメクティック液晶を挟持
してなる液晶表示装置であって、上記平坦化膜上の電極
よりも他方の電極が細く形成され、平坦化膜上の電極を
走査電極として走査信号を供給する手段と、他方の電極
を情報電極としてカラーフィルターの色毎に対応した情
報信号を供給する手段を有することにある。
A feature of the present invention is that a chiral film is provided between a pair of electrode substrates, one of which has a color filter, a flattening film and a striped electrode on the substrate and the other of which has a striped electrode. A liquid crystal display device sandwiching a smectic liquid crystal, wherein the other electrode is formed thinner than the electrode on the flattening film, and means for supplying a scanning signal using the electrode on the flattening film as a scanning electrode, There is a means for supplying an information signal corresponding to each color of the color filter by using the electrode as the information electrode.

【0010】本発明は上記構成をとることにより、駆動
マージンに影響を与え易い条件が固定されるため、広い
駆動マージンが確保され、あらゆる使用条件において良
好な表示を行なうことができる。
According to the present invention, by adopting the above-mentioned structure, the condition that easily influences the drive margin is fixed, so that a wide drive margin is secured, and good display can be performed under all usage conditions.

【0011】[0011]

【実施例】図17に本発明の一実施例のカラー表示装置
のブロック図を示す。図中107はグラフィックコント
ローラであり、ここから送出されるデータは駆動制御回
路105を通して走査信号制御回路104と情報信号制
御回路106に入力され、それぞれアドレスデータと表
示データに変換される。このアドレスデータに従って走
査信号印加回路102が走査選択信号波形及び走査比選
択信号波形を発生し、1280×1024画素からなる
表示部101の走査電極に印加する。また表示データに
従って上下に配された情報信号印加回路103がR,
G,B,Wの各情報信号波形を発生し、表示部101の
走査電極より細い幅の情報電極に印加する。
FIG. 17 is a block diagram of a color display device according to an embodiment of the present invention. In the figure, 107 is a graphic controller, and the data sent from this is input to the scanning signal control circuit 104 and the information signal control circuit 106 through the drive control circuit 105 and converted into address data and display data, respectively. The scanning signal applying circuit 102 generates a scanning selection signal waveform and a scanning ratio selection signal waveform according to the address data, and applies the scanning selection signal waveform and the scanning ratio selection signal waveform to the scanning electrodes of the display unit 101 including 1280 × 1024 pixels. Further, the information signal applying circuits 103 arranged above and below according to the display data are
The G, B, and W information signal waveforms are generated and applied to the information electrodes having a width narrower than that of the scanning electrodes of the display unit 101.

【0012】次に表示部101の構成を示す。図1は図
17の表示部の一例である液晶素子の概略平面図であ
り、図2はそのA−A’断面図、図3はB−B’断面図
である。図中、点線で囲まれた領域が1画素であり、1
a,1bは絶縁性基板、2はアンダーコート層、3は所
定パターンを構成するカラーフィルター、4は平坦化
層、5はバリア層、6a,6bは透明電極、7a,7b
は補助電極、8a,8bはショート防止層、9a,9b
は粗面形成層、10a,10bは配向層、11は接着ビ
ーズ、12はスペーサビーズ、13は液晶層、14は遮
光層であり、図2及び3において、液晶を挟んで上側を
第1基板、下側を第2基板と呼ぶ。尚、図1は第1基板
側から見た平面図である。本発明において、第1基板上
の駆動電極が走査電極、第2基板側が情報電極として、
それぞれ走査信号、情報信号が印加される。
Next, the structure of the display unit 101 is shown. 1 is a schematic plan view of a liquid crystal element which is an example of the display unit of FIG. 17, FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA ′, and FIG. 3 is a sectional view taken along the line BB ′. In the figure, the area surrounded by the dotted line is one pixel, and
a and 1b are insulating substrates, 2 is an undercoat layer, 3 is a color filter forming a predetermined pattern, 4 is a flattening layer, 5 is a barrier layer, 6a and 6b are transparent electrodes, and 7a and 7b.
Are auxiliary electrodes, 8a and 8b are short-circuit prevention layers, and 9a and 9b
Is a rough surface forming layer, 10a and 10b are alignment layers, 11 is adhesive beads, 12 is spacer beads, 13 is a liquid crystal layer, and 14 is a light shielding layer. In FIGS. , The lower side is called the second substrate. Note that FIG. 1 is a plan view seen from the first substrate side. In the present invention, the drive electrode on the first substrate is the scanning electrode, the second substrate side is the information electrode,
A scanning signal and an information signal are applied respectively.

【0013】尚、当該素材において観察者側は、第1の
基板及び第2の基板のいずれかに設定しても良いが、好
ましくはカラーフィルター膜を有する第1基板側とす
る。
The observer side of the material may be set to either the first substrate or the second substrate, but it is preferably the first substrate side having the color filter film.

【0014】以下、図1〜3に示した液晶素子の各部位
を図面を参照して製造工程に沿ってて詳述する。
Hereinafter, each part of the liquid crystal device shown in FIGS. 1 to 3 will be described in detail along with a manufacturing process with reference to the drawings.

【0015】先ず第1基板について説明する。First, the first substrate will be described.

【0016】工程−a(図15(a)) 絶縁性基板1aとしては、透明性に優れた基板、一般に
液晶用ガラスとして市販されているものを使用でき、例
えば青板ガラス、無アルカリガラスが挙げられる。好ま
しくは、片面が研磨してあるものを用いる。また、厚
さ、大きさは、画面サイズや、1枚から何枚のパネルを
取るかにより、適宜選択されるが、例えば大型画面(1
4.8インチ)の液晶素子を作製する場合には、1.1
mm程度の厚さのものを用いる。
Step-a (FIG. 15 (a)) As the insulating substrate 1a, a substrate having excellent transparency, which is generally commercially available as glass for liquid crystal, can be used, and examples thereof include soda lime glass and non-alkali glass. To be Preferably, one having one surface polished is used. The thickness and size are appropriately selected depending on the screen size and how many panels are taken from one sheet.
When manufacturing a 4.8 inch liquid crystal device, 1.1
A material having a thickness of about mm is used.

【0017】工程−b(図15(a)) 本発明において、好ましくは上記絶縁性基板1a表面
に、アンダーコート層2を設け、ガラスからのアルカリ
の溶出を防ぐ。アンダーコート層2としては、下層の保
護効果があればよく、例えばSiO2,MgO,Si
N,TiO2,Al23,ZrOが用いられ、200〜
1000Åの厚みで用いられる。
Step-b (FIG. 15 (a)) In the present invention, an undercoat layer 2 is preferably provided on the surface of the insulating substrate 1a to prevent the elution of alkali from the glass. The undercoat layer 2 only needs to have a protective effect on the lower layer, for example, SiO 2 , MgO, Si.
N, TiO 2, Al 2 O 3, ZrO are used, 200
Used with a thickness of 1000Å.

【0018】工程−c(図15(a)) アンダーコー
ト層2を表面に形成した絶縁性基板1aを純水シャワ
ー、純水+超音波洗浄、ブラシ等のうち少なくとも一つ
の方法を用い、適当な回数・組合せで洗浄、乾燥後、紫
外線照射により有機物を除去する。
Step-c (FIG. 15 (a)) The insulating substrate 1a having the undercoat layer 2 formed on the surface thereof is subjected to at least one of pure water shower, pure water + ultrasonic cleaning, brush, etc. After washing and drying for various times and combinations, organic substances are removed by UV irradiation.

【0019】工程−d(図15(a)) 図3に示した
遮光層14は図4に示すように、ストライプパターン
(ブラックストライプ)であるが、この他にも通常のブ
ラックマトリクス等所望の形状を適宜使用できる。遮光
層14の素材としては、Cr、Mo等の金属、或いはそ
の合金、酸化物のCr23等、更には樹脂に黒色顔料を
分散したもの等有機材料をはじめとする遮光性に優れた
材料を用いることができる。厚さは500〜1500Å
の範囲で、素材の遮光能により設定する。例えば金属を
用いた場合は厚みが薄くても遮光効果が得られる。本発
明においては、Mo−Ta合金層が好ましく用いられ、
望ましくは1000Å以下で用いられる。遮光層14は
その素材をスパッタ、塗布などにより基板全面に積層し
た後パターニングして得られる。具体的には、素材との
密着性により選択されたレジストを、スピンナー、印刷
等により遮光層表面に塗布し、70〜120℃でプリベ
ークし、90〜120mJで露光後、現像、洗浄、乾燥
した後、遮光層の材料に応じた酸などのエッチング液で
エッチングし、洗浄し、上記レジストを剥離して更に洗
浄する。
Step-d (FIG. 15 (a)) The light-shielding layer 14 shown in FIG. 3 has a stripe pattern (black stripe) as shown in FIG. The shape can be appropriately used. The material of the light-shielding layer 14 is excellent in light-shielding property including metals such as Cr and Mo, alloys thereof, Cr 2 O 3 such as oxides, and organic materials such as resin in which black pigment is dispersed. Materials can be used. Thickness is 500-1500Å
The range is set according to the light-shielding ability of the material. For example, when a metal is used, the light blocking effect can be obtained even if the thickness is thin. In the present invention, a Mo-Ta alloy layer is preferably used,
It is preferably used at 1000 Å or less. The light shielding layer 14 is obtained by stacking the material on the entire surface of the substrate by sputtering, coating or the like and then patterning. Specifically, a resist selected according to the adhesion to the material is applied to the surface of the light-shielding layer by spinner, printing, etc., prebaked at 70 to 120 ° C., exposed at 90 to 120 mJ, developed, washed and dried. After that, etching is performed with an etching solution such as an acid depending on the material of the light-shielding layer and cleaning is performed. Then, the resist is peeled off and further cleaning is performed.

【0020】尚、遮光層14は後述する封止剤近傍まで
形成し、若干の非遮光部分を残しておき、かかる部分を
液晶配向状態の検査に用いることができる。
The light-shielding layer 14 can be formed up to the vicinity of the sealant described later, leaving a small amount of non-light-shielding portion, and this portion can be used for the inspection of the liquid crystal alignment state.

【0021】工程−e(図15(b)) 本発明において、カラーフィルター3は、緑(G)、赤
(R)、青(B)の他に好ましくは白(W)を形成す
る。形成方法としては、染色法、顔料分散法、電着法な
どがあり、本発明はそのいずれもが利用できるが、顔料
分散法を例に説明する。所望の顔料(Wには顔料を加え
ない)が分散された感光性樹脂のカラーレジストをスピ
ンナー、コーター等で例えば厚さ1.0〜2.0μmに
塗布し、一定の温度でレベリングした後、80℃前後で
プリベークする。この時の温度や保持時間、上記塗布す
る厚さはレジスト材料により適宜選択される。次に20
0〜1000mJで露光する。露光程度はR、G、B、
Wで感度が異なるため、露光時間を変えて調整する。露
光後、レジスト材料に応じた現像液、方法、温度で現像
し、120〜250℃でポストベークし、洗浄する。各
カラーフィルターは例えば図4に示すように、先に形成
した遮光層14のパターン、及び隣接するカラーフィル
ターに接しないように、数μmの隙間をあけて形成す
る。また、全体では表示領域に加え、その周辺となる非
表示領域となる領域に後述する基板端部近傍の封止剤に
はかからないように形成する。ここで、表示領域内外の
カラーフィルターのパターン形状(カラーフィルターの
大きさ)は、互いに異なってもよく、例えば表示領域外
では一単位を表示領域内より大きくすることができる。
上記形成工程は各カラーフィルターの色毎に順次行なう
が、その順序は使用する材料によって適宜選択される。
Step-e (FIG. 15 (b)) In the present invention, the color filter 3 preferably forms white (W) in addition to green (G), red (R) and blue (B). As the forming method, there are a dyeing method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method and the like, and any of them can be used in the present invention, but the pigment dispersion method will be described as an example. For example, a color resist of a photosensitive resin in which a desired pigment (no pigment is added to W) is dispersed is applied to a thickness of 1.0 to 2.0 μm with a spinner, a coater or the like, and after leveling at a constant temperature, Pre-bake at around 80 ° C. The temperature and holding time at this time, and the thickness to be applied are appropriately selected depending on the resist material. Then 20
Exposure is performed at 0 to 1000 mJ. The degree of exposure is R, G, B,
Since the sensitivity varies depending on W, the exposure time is changed and adjusted. After the exposure, it is developed with a developing solution, a method and a temperature according to the resist material, post-baked at 120 to 250 ° C. and washed. For example, as shown in FIG. 4, each color filter is formed with a gap of several μm so as not to contact the pattern of the light shielding layer 14 formed previously and the adjacent color filter. Further, in addition to the display area as a whole, the non-display area around the display area is formed so as not to be covered with the sealant near the edge of the substrate, which will be described later. Here, the pattern shapes (size of the color filters) of the color filters inside and outside the display area may be different from each other, and for example, one unit can be made larger outside the display area than inside the display area.
The forming process is sequentially performed for each color of each color filter, and the order is appropriately selected depending on the material used.

【0022】工程−f(図15(c)) 次にカラーフィルター間の間隙を埋め、表面を平坦化す
るための平坦化層4を形成する。本発明において平坦化
層4は、最大厚(図2中のt)が1.5〜5μmになる
ように、スピンナー、印刷、コーター等で平坦化材を塗
布し、後、60〜150℃でレベリングし、必要ならば
150〜330℃でポストベークすることにより形成さ
れる(これらの温度は平坦化材により設定される)。平
坦化材としては、カラーフィルター3と遮光層14によ
り生じた段差を平坦化し得るもので、後工程に耐え、耐
熱性、耐薬品性を有するものであれば無機物、有機物を
問わない。具体的には、ポリアミド、エポキシ樹脂、有
機シラン系樹脂が挙げられ、中でも有機シラン系樹脂が
好ましく用いられる。
Step-f (FIG. 15C) Next, a flattening layer 4 for filling the gaps between the color filters and flattening the surface is formed. In the present invention, the flattening layer 4 is coated with a flattening material by a spinner, printing, coater or the like so that the maximum thickness (t in FIG. 2) is 1.5 to 5 μm, and then at 60 to 150 ° C. Formed by leveling and post-baking at 150-330 ° C if necessary (these temperatures are set by the planarizing material). The flattening material may be an inorganic material or an organic material as long as it is capable of flattening the step formed by the color filter 3 and the light shielding layer 14 and is resistant to the subsequent steps, and has heat resistance and chemical resistance. Specific examples thereof include polyamide, epoxy resin, and organic silane-based resin, and of these, organic silane-based resin is preferably used.

【0023】本発明において、液晶層13の厚さ(T)
が上記平坦化層の最大厚(t)よりも小さい。当該構成
により、液晶を注入した際に発生する空隙の発生率が低
くなり、製造時の歩留が向上する。また、本発明の液晶
素子においては、後述するスペーサビーズ12の直径が
液晶層13の厚さ(T)よりも大きく、スペーサビーズ
12は両基板に埋め込まれるようにして固定される。従
って、スペーサビーズが埋まる程度に基板が鉛筆硬度に
おいて7H以下程度に柔軟であることが望ましく、平坦
化層4の硬度は、3H〜7Hの範囲にあることがより好
ましい。尚鉛筆硬度は、JIS−K5401における鉛
筆硬度測定装置を用いた方法に準じて測定することによ
り得られる値である。また、平坦化層4は好ましくは後
述する封止剤の下側まで形成する。当該構成により、液
晶が注入し易くなり、製造時に液晶の注入不良による不
良品の発生が防止される。
In the present invention, the thickness (T) of the liquid crystal layer 13
Is smaller than the maximum thickness (t) of the flattening layer. With this structure, the generation rate of voids generated when the liquid crystal is injected is reduced, and the production yield is improved. Further, in the liquid crystal element of the present invention, the diameter of the spacer beads 12 described later is larger than the thickness (T) of the liquid crystal layer 13, and the spacer beads 12 are fixed so as to be embedded in both substrates. Therefore, it is desirable that the substrate has a pencil hardness of about 7H or less so as to be filled with the spacer beads, and the hardness of the flattening layer 4 is more preferably in the range of 3H to 7H. The pencil hardness is a value obtained by measurement according to a method using a pencil hardness measuring device according to JIS-K5401. Further, the flattening layer 4 is preferably formed up to the lower side of the sealing agent described later. With this configuration, the liquid crystal can be easily injected, and a defective product due to defective injection of the liquid crystal can be prevented from being produced during manufacturing.

【0024】工程−g(図15(c)) 平坦化層4の表面に、バリア層5を形成し、その後の上
層の製膜工程やエッチング等の工程においてカラーフィ
ルター3を保護する。バリア層5の素材としては、保護
効果を有するものであれば限定されないが、例えばSi
2,MgO,SiN,TiO2,Al23,ZrO等が
好ましく用いられる。バリア層5の厚さは例えば100
〜1000Å程度で、印刷、スパッタ等、素材に応じた
方法により形成される。
Step-g (FIG. 15 (c)) A barrier layer 5 is formed on the surface of the flattening layer 4, and the color filter 3 is protected in subsequent steps such as film forming step and etching. The material of the barrier layer 5 is not limited as long as it has a protective effect.
O 2 , MgO, SiN, TiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO and the like are preferably used. The thickness of the barrier layer 5 is 100, for example.
It is formed at a thickness of about 1000 Å by a method suitable for the material such as printing or spattering.

【0025】以上は第1基板のみの工程であり、以下の
工程は第1、第2基板に共通の工程である。また、第2
基板の絶縁性基板1bは、第1基板の絶縁性基板1aと
一般的には同じ素材が用いられる。
The above is the process for the first substrate only, and the following processes are common to the first and second substrates. Also, the second
The insulating substrate 1b of the substrate is generally made of the same material as the insulating substrate 1a of the first substrate.

【0026】工程−h(図15(c)及び図16
(a)) 透明電極6a,6bとして、例えばITO等の透明導電
材料からなる層をスパッタ、蒸着、焼成等で形成する。
好ましくは、In23に対してSnO2が5〜10%の
ものを用いるが、透過率、導電性により適宜選択すれば
良い。透明電極6a,6bの厚さは例えば300〜30
00Åで、該厚さも用いる液晶の光学特性、抵抗により
選択される。上記ITO層は、遮光層14と同様にフォ
トリソグラフィによりパターニングして所望の形状特に
第1基板では画素に対応し、第2基板では対向する基板
のカラーフィルターに対応するようなパターン(例えば
第1基板は図4に示す遮光層14間に対応するストライ
プ形状、第2基板は図6に示す形状)に形成する。但
し、エッチング液は塩化鉄、ヨウ化水素酸、次亜リン酸
等の水溶液を用いる。第1基板側の透明電極6aは表示
領域外にも形成したカラーフィルター3上にも対応して
パターン形成することが好ましい。
Step-h (FIGS. 15C and 16)
(A)) As the transparent electrodes 6a and 6b, a layer made of a transparent conductive material such as ITO is formed by sputtering, vapor deposition, firing or the like.
It is preferable to use SnO 2 of 5 to 10% with respect to In 2 O 3 , but it may be appropriately selected depending on the transmittance and the conductivity. The thickness of the transparent electrodes 6a and 6b is, for example, 300 to 30.
The value is 00Å, and the thickness is also selected depending on the optical characteristics and resistance of the liquid crystal used. Similar to the light shielding layer 14, the ITO layer is patterned by photolithography to have a desired shape, in particular, a pattern corresponding to a pixel on the first substrate and a color filter on the opposite substrate on the second substrate (for example, the first substrate). The substrate is formed in a stripe shape corresponding to between the light shielding layers 14 shown in FIG. 4, and the second substrate is formed in a shape shown in FIG. However, as the etching solution, an aqueous solution of iron chloride, hydroiodic acid, hypophosphorous acid, or the like is used. It is preferable that the transparent electrode 6a on the side of the first substrate is patterned correspondingly not only on the display region but also on the color filter 3 formed.

【0027】本工程において、表示領域外にも、配線を
形成しておくことにより、駆動電極には影響を与えずに
抵抗を測定することができる。図11(a)は第2基板
に設けた配線41を示し、同様に第1基板にも配線を設
ける。
In this step, by forming the wiring also outside the display area, the resistance can be measured without affecting the drive electrodes. FIG. 11A shows the wiring 41 provided on the second substrate, and the wiring is similarly provided on the first substrate.

【0028】また、図11(a)に示す略L字形の堰4
2は、後工程で塗布形成する層を堰き止める作用を有
し、不必要に溶液が流れ出すのを防ぐことができる。更
に、図11(b)に示す堰(パターン)43は、後述す
る液晶注入口に対し平行に好ましくは第2基板側に形成
されており、後述するように、液晶の注入を容易に且つ
均一にする作用を有する。これら堰42,43は上記し
た作用を有していれば、特にITOで形成する必要はな
いが、透明電極形成時に同時に形成することができ、製
造工程上有利である。
Further, the weir 4 having a substantially L shape shown in FIG.
2 has the function of blocking the layer formed by coating in the subsequent step, and can prevent the solution from flowing out unnecessarily. Further, the weir (pattern) 43 shown in FIG. 11 (b) is preferably formed on the second substrate side in parallel to the liquid crystal injection port described later, so that the liquid crystal can be injected easily and uniformly as described later. Has the effect of The weirs 42 and 43 need not be formed of ITO as long as they have the above-described action, but they can be formed simultaneously when the transparent electrode is formed, which is advantageous in the manufacturing process.

【0029】工程−i(図15(d)及び図16
(b)) 透明電極6a,6bの配線抵抗を下げるための補助電極
7a,7bを形成する(図15(d),図16
(b))。素材は金属で、Cr、Al、Mo、或いはそ
の合金、Mo−Ta等が用いられる。また、透明電極6
a,6bとの密着性、抵抗、レジストとの密着性を考慮
し、多層構成としても良い。具体的には、Mo/Alや
Mo/Al/Mo−Ta等である。特に多層構成の場合
には、素材によってエッチングスピードが異なるため、
後工程のエッチングを考慮して素材を選択する。例え
ば、上記3層構成を同時にエッチングする場合、Mo−
Ta5〜10%(例えば200〜500Å)/Al合金
(例えば200〜1500Å)/Mo−Ta10〜20
%(例えば100〜500Å)とする積層構成とするこ
とががエッチング液との相性が良い。また、多層構成を
各層毎にエッチングしながら積層して形成しても構わな
い。
Step-i (FIGS. 15D and 16)
(B)) Auxiliary electrodes 7a and 7b for reducing the wiring resistance of the transparent electrodes 6a and 6b are formed (FIGS. 15D and 16).
(B)). The material is a metal, and Cr, Al, Mo, or an alloy thereof, Mo-Ta, or the like is used. In addition, the transparent electrode 6
In consideration of the adhesiveness with a and 6b, the resistance, and the adhesiveness with the resist, a multilayer structure may be used. Specifically, it is Mo / Al or Mo / Al / Mo-Ta. Especially in the case of a multilayer structure, the etching speed differs depending on the material,
The material is selected in consideration of etching in the subsequent process. For example, when simultaneously etching the above three-layer structure, Mo-
Ta5-10% (for example 200-500Å) / Al alloy (for example 200-1500Å) / Mo-Ta10-20
% (For example, 100 to 500 Å) has a good compatibility with the etching solution. Further, the multilayer structure may be formed by stacking layers while etching each layer.

【0030】上記金属を基板全面に積層し、レジスト塗
布、露光、現像、ポストべーク、エッチング、レジスト
剥離の各工程を順次行なって、例えば第1基板において
は、先の透明電極6aに重なり、且つカラーフィルター
3上に開口部を有する補助電極7a(図5)、及び第2
基板においては透明電極6b端部に重なる補助電極7b
(図7)を形成する。補助電極7bは表示領域外では透
明電極6b全面に重ねて形成してもよい。
The above metal is laminated on the entire surface of the substrate, and the steps of resist coating, exposure, development, post baking, etching, and resist stripping are sequentially carried out. For example, in the first substrate, the transparent electrode 6a is overlaid. And an auxiliary electrode 7a (FIG. 5) having an opening on the color filter 3, and a second
In the substrate, the auxiliary electrode 7b overlapping the end of the transparent electrode 6b
(FIG. 7) is formed. The auxiliary electrode 7b may be formed over the entire surface of the transparent electrode 6b outside the display area.

【0031】また、表示領域外において各駆動電極の両
端にショート検査用のパッド部を設ける。図9に第2基
板のパッド部を、図10に第1基板のパッド部を示す。
図中、31が第2基板の駆動電極、32が第1基板の駆
動電極、33がパッド部である。図9には図示していな
いが、駆動電極32の他端にもパッド部が形成され、図
9と同じ構成が採られている。パッド部33は本来補助
電極7a,7bが形成される領域において補助電極を形
成せず、下側の透明電極6a,6bを露出させた部分で
ある。各駆動電極31,32は非常に微細であるため、
ショート検査用の検査端子もこれに合わせた細い端子針
であり、駆動電極31,32に接する際に該電極を傷つ
けたり、また特に微細な駆動電極31には検査端子が乗
らない恐れがある。図9、10に示すように、金属より
も硬いITO等の透明電極を露出させたパッド部33を
設けることにより、検査端子による駆動電極31,32
の損傷が防止される。また、図9に示すように、特に微
細な駆動電極31においては、互い違いにパッド部33
を設け、パッド部33の幅を広げることにより、検査端
子が乗り易くなる。尚、同図に示すようにパッド部に隣
接する、電極の幅の狭い部分においても下層のITO等
の電極を露出することが好ましい。また、図10に示す
ように、駆動電極32においては、補助電極6aを端部
に形成しておくことにより配線抵抗の上昇を抑えてい
る。
Further, outside the display area, pad portions for short circuit inspection are provided at both ends of each drive electrode. 9 shows the pad portion of the second substrate, and FIG. 10 shows the pad portion of the first substrate.
In the figure, 31 is a drive electrode of the second substrate, 32 is a drive electrode of the first substrate, and 33 is a pad portion. Although not shown in FIG. 9, a pad portion is also formed on the other end of the drive electrode 32, and the same configuration as that of FIG. 9 is adopted. The pad portion 33 is a portion where the lower transparent electrodes 6a and 6b are exposed without forming the auxiliary electrode in the region where the auxiliary electrodes 7a and 7b are originally formed. Since each drive electrode 31, 32 is very fine,
The inspection terminal for short-circuit inspection is also a thin terminal needle adapted to this, and there is a risk that the electrode may be damaged when it comes into contact with the drive electrodes 31 and 32, or the inspection terminal may not be placed on the particularly fine drive electrode 31. As shown in FIGS. 9 and 10, by providing a pad portion 33 exposing a transparent electrode such as ITO which is harder than metal, drive electrodes 31, 32 by inspection terminals are provided.
Damage is prevented. Further, as shown in FIG. 9, particularly in the fine drive electrodes 31, the pad portions 33 are staggered.
And the width of the pad portion 33 is widened, the inspection terminal can be easily mounted. Incidentally, as shown in the figure, it is preferable to expose the lower electrode such as ITO in the narrow portion of the electrode adjacent to the pad portion. Further, as shown in FIG. 10, in the drive electrode 32, the auxiliary electrode 6a is formed at the end portion to suppress an increase in wiring resistance.

【0032】補助電極7a,7b形成後、配線41及び
パッド部33を利用して、配線抵抗の測定とショートの
検査を行なう。
After forming the auxiliary electrodes 7a and 7b, the wiring 41 and the pad portion 33 are used to measure the wiring resistance and inspect for a short circuit.

【0033】工程−k(図15(e)及び図16
(c)) 配線上にショート防止層8a,8bを形成する。ショー
ト防止層8a,8bは、上下基板間でのショートを防止
するための絶縁層であり、スパッタ、塗布・焼成等で有
機或いは無機の絶縁膜を基板全面に形成する。具体的に
は、Ti−Si、SiO2、TiO2、Ta25が用いら
れ、これらを単層でも、多層でも用いることができる。
例えば、Ta25をスパッタで500〜1200Å形成
した上に、Ti−Si等の塗布型絶縁膜材料の溶液を印
刷、焼成し、500〜1000Åの絶縁層を形成した多
層構成が好ましく用いられる。該ショート防止層8a,
8bは後述する封止領域の外側まで形成する。
Step-k (FIG. 15 (e) and FIG. 16)
(C)) Short-circuit prevention layers 8a and 8b are formed on the wiring. The short-circuit prevention layers 8a and 8b are insulating layers for preventing a short circuit between the upper and lower substrates, and an organic or inorganic insulating film is formed on the entire surface of the substrate by sputtering, coating, baking or the like. Specifically, Ti-Si, SiO 2, TiO 2, Ta 2 O 5 is used, these have a single layer, it is possible to use a multilayer.
For example, a multilayer structure in which Ta 2 O 5 is formed by sputtering to 500 to 1200Å and a solution of a coating type insulating film material such as Ti-Si is printed and baked to form an insulating layer of 500 to 1000Å is preferably used. . The short-circuit prevention layer 8a,
8b is formed up to the outside of the sealing area described later.

【0034】工程−l(図15(e)及び図16
(c)) 素子駆動中の液晶分子の移動を防止するため、粗面形成
層9a,9bを形成し、後述する配向膜表面の粗面化を
図る。粗面形成層9a,9bは300〜700ÅのSi
2ビーズをTi−Si=1:1の比率の絶縁膜溶液中
に5〜30重量%分散し、展色板を用いて印刷、焼成す
ることにより得られる。膜厚は100〜300Åが好ま
しく、封止領域の外側まで形成する。
Step-1 (FIG. 15 (e) and FIG. 16)
(C)) In order to prevent movement of liquid crystal molecules during device driving, rough surface forming layers 9a and 9b are formed to roughen the alignment film surface described later. The rough surface forming layers 9a and 9b are made of Si of 300 to 700Å
The O 2 beads are obtained by dispersing 5 to 30% by weight in an insulating film solution having a ratio of Ti-Si = 1: 1 and printing and firing using a color spreading plate. The film thickness is preferably 100 to 300Å, and is formed up to the outside of the sealing region.

【0035】工程−m(図15(e)及び図16
(c)) 液晶分子の配向を制御するための配向膜10a,10b
を形成する。配向膜の材料としては、ポリビニルアルコ
ール、ポリイミド、ポリアミドイミド等から選択し、基
板全面に塗布或いは印刷し、200〜300℃で焼成
し、厚さ50〜100Åで封止領域の内側のみ絶縁層を
形成する。かかる絶縁層は、封止領域内の全面、また必
要に応じ例えば表示領域に対応した領域に形成する。該
絶縁層(配向膜)表面に、起毛のラビング布を巻き付け
たローラーを押し当て、回転速度500〜2000rp
mで回転させながら、該絶縁層(配向膜)表面をラビン
グ処理し、配向膜10a,10bとする。ラビング布の
素材としては、綿等の天然繊維、アラミド、ナイロン、
レーヨン、テフロン、ポリプロピレン、アクリル等の合
成繊維から選択され、中でもアラミド繊維が好ましく用
いられる。尚、ラビング処理の際、絶縁層の例えば枠部
(外周)にマスクを設け、枠部を除いて絶縁層表面をラ
ビング処理することもできる。上記ローラーの回転方
向、送り速度はラビング処理の程度により適宜選択され
る。ラビング処理後、両基板を洗浄する。
Step-m (FIG. 15 (e) and FIG. 16)
(C)) Alignment films 10a and 10b for controlling the alignment of liquid crystal molecules
To form. The material of the alignment film is selected from polyvinyl alcohol, polyimide, polyamideimide, etc., coated or printed on the entire surface of the substrate, baked at 200 to 300 ° C., and has an insulating layer only inside the sealing region with a thickness of 50 to 100 Å. Form. Such an insulating layer is formed on the entire surface in the sealing region and, if necessary, on the region corresponding to the display region, for example. A roller wrapped with a raised rubbing cloth is pressed against the surface of the insulating layer (alignment film), and the rotation speed is 500 to 2000 rp.
While rotating at m, the surface of the insulating layer (alignment film) is rubbed to form alignment films 10a and 10b. As the material of the rubbing cloth, natural fibers such as cotton, aramid, nylon,
It is selected from synthetic fibers such as rayon, Teflon, polypropylene and acrylic, and among them, aramid fiber is preferably used. During the rubbing treatment, a mask may be provided on, for example, the frame portion (outer periphery) of the insulating layer, and the surface of the insulating layer may be rubbed without the frame portion. The rotation direction and feed rate of the roller are appropriately selected depending on the degree of rubbing treatment. After the rubbing process, both substrates are washed.

【0036】工程−n(図13(a)) 一方の基板、好ましくは第1基板表面(配向膜の表面)
に接着ビーズ11を散布する。該接着ビーズ11は、常
温並びに素子の駆動条件下では粘着性を持たず、後述す
る基板の貼り合わせ時の熱処理等の種々の処理において
粘着性を呈する。接着ビーズ11は例えばエポキシ樹脂
やアクリル樹脂等、液晶に影響を与えない熱硬化性樹脂
等からなる接着剤で形成されている。接着ビーズ11の
直径は2〜10μmが好ましく、イソプロピルアルコー
ル等の溶媒に分散して、50〜130個/mm2程度に
散布する。また、接着ビーズ11は基板封止後両基板に
接着されてしまう。後述するように、第1基板と第2基
板で切断する位置をずらし、基板端部の端子を露出させ
る。接着ビーズ11が存在すると、切り離される部分が
接着ビーズ11を介してもう一方の基板に接着してしま
うため、該接着ビーズ11は切断で切り離される領域に
は無い方が好ましく、封止領域内に相当する領域にのみ
散布するのが好ましい。
Step-n (FIG. 13 (a)) One substrate, preferably the first substrate surface (the surface of the alignment film)
Adhesive beads 11 are sprinkled on. The adhesive beads 11 have no tackiness at room temperature and under the driving condition of the element, and exhibit tackiness in various treatments such as heat treatment at the time of bonding substrates to be described later. The adhesive beads 11 are made of an adhesive made of a thermosetting resin or the like that does not affect the liquid crystal, such as epoxy resin or acrylic resin. The diameter of the adhesive beads 11 is preferably 2 to 10 μm, and the beads are dispersed in a solvent such as isopropyl alcohol and sprayed at about 50 to 130 beads / mm 2 . Moreover, the adhesive beads 11 are adhered to both substrates after the substrates are sealed. As will be described later, the positions where the first substrate and the second substrate are cut are shifted to expose the terminals at the end portions of the substrate. If the adhesive beads 11 are present, the part to be cut off adheres to the other substrate via the adhesive beads 11. Therefore, it is preferable that the adhesive beads 11 are not in the region to be cut and cut off. It is preferable to apply only in the corresponding areas.

【0037】工程−o(図8) 他方の基板、好ましくは第2基板表面(例えば配向膜表
面)に、注入口を残して図8に示すシールパターンを封
止剤により描画する。図中21が封止剤で22が液晶注
入口、23は後述するダミー壁である。封止剤21とし
ては、例えば熱硬化性エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂材
料が用いられ、ディスペンサにより描画する。描画方法
はこれに限らず、スクリーン印刷等、封止剤の素材に応
じて適宜選択される。また、幅はセル厚や印刷時の厚み
を考慮して設定すれば良い。尚、ダミー壁23は図8に
示すような辺りに設けることには限定されず、使用する
液晶材料等の条件に応じて形成箇所を適宜変えることが
でき、例えば注入口22の対辺に形成してもよい。また
図8において、ダミー壁23は、表示領域外の非表示領
域にカラーフィルターを形成している場合、かかるフィ
ルターに対応する位置或いは、フィルターの形成領域外
の位置に設けることができる。この時、セルギャップの
観点でフィルター形成領域外にダミー壁を形成すること
が好ましい。
Step-o (FIG. 8) On the other substrate, preferably the surface of the second substrate (for example, the surface of the alignment film), the seal pattern shown in FIG. In the figure, 21 is a sealant, 22 is a liquid crystal inlet, and 23 is a dummy wall described later. As the sealant 21, for example, a thermosetting resin material such as a thermosetting epoxy resin is used, and drawing is performed with a dispenser. The drawing method is not limited to this, and is appropriately selected depending on the material of the sealant, such as screen printing. The width may be set in consideration of the cell thickness and the thickness at the time of printing. The dummy wall 23 is not limited to being provided in the vicinity as shown in FIG. 8, and the formation location can be appropriately changed according to the conditions such as the liquid crystal material to be used. For example, the dummy wall 23 is formed on the opposite side of the injection port 22. May be. Further, in FIG. 8, when the color filter is formed in the non-display area outside the display area, the dummy wall 23 can be provided at a position corresponding to the filter or a position outside the filter forming area. At this time, it is preferable to form a dummy wall outside the filter formation region from the viewpoint of the cell gap.

【0038】工程−p(図13(a)) 接着ビーズを散布した基板とは異なる基板、好ましくは
封止剤を描画した基板表面にスペーサビーズ12を散布
する。スペーサビーズ12の直径は、セル厚より大にな
るように選択されるが、0.6〜3.5μmの範囲が好
ましい。例えば、セル厚を1μmとする場合には、1.
2〜1.3μm程度の径のビーズを選択する。ビーズの
素材としては、シリカビーズ、アルミナビーズが好まし
く用いられ、例えばエタノール等に分散して100〜7
00個/mm2になるように基板全面に散布する。かか
る溶媒については、スペーサービーズの溶融性の小さな
ものを選択して用いることが好ましい。本発明において
は、最終的に液晶層厚の設定よりも大きな径のビーズを
スペーサとして用いることにより、該ビーズが半ば基板
表面に埋め込まれた様な状態で基板間に固定されるた
め、封止後のビーズの移動が防止され、均一な液晶層厚
が保持される。
Step-p (FIG. 13A) Spacer beads 12 are scattered on a substrate different from the substrate on which the adhesive beads are scattered, preferably on the surface of the substrate on which the sealant is drawn. The diameter of the spacer beads 12 is selected to be larger than the cell thickness, but is preferably in the range of 0.6 to 3.5 μm. For example, when the cell thickness is 1 μm, 1.
Select beads having a diameter of about 2 to 1.3 μm. As beads, silica beads and alumina beads are preferably used.
It is sprinkled on the entire surface of the substrate so that the number becomes 00 / mm 2 . As such a solvent, it is preferable to select and use a spacer bead having a low melting property. In the present invention, beads having a diameter larger than the setting of the liquid crystal layer thickness are finally used as spacers, so that the beads are fixed between the substrates in a state that they are half embedded in the substrate surface. Later movement of the beads is prevented, and a uniform liquid crystal layer thickness is maintained.

【0039】工程−q 図13に示すように、接着ビーズ11を散布した側の基
板を固定し、スペーサビーズ12を散布した側の基板を
配向膜10a,10bが内側になるように重ねて加圧し
ながら10〜120分間加熱し、接着ビーズ11及び封
止剤21を硬化させ、両基板を接着する。即ち、接着ビ
ーズ11とスペーサビーズ12を別の基板に散布し、接
着ビーズ11を散布した側の基板を固定して貼り合わせ
ることにより、当該工程において接着ビーズ11が偏っ
たり、基板表面から脱着する心配がない。また、スペー
サビーズ12は接着ビーズ11に比べて直径が非常に小
さく、基板を裏返しても基板表面に付着しているため、
スペーサビーズ12が偏ったり基板から脱落することは
ない。本工程により、接着ビーズ11、スペーサビーズ
12のいずれもが均一に散布された状態で基板が貼り合
わされる。
Step-q As shown in FIG. 13, the substrate on which the adhesive beads 11 are dispersed is fixed, and the substrate on which the spacer beads 12 are dispersed is added so that the alignment films 10a and 10b are on the inside. The pressure is applied for 10 to 120 minutes to heat the adhesive beads 11 and the sealant 21 to bond both substrates. That is, the adhesive beads 11 and the spacer beads 12 are dispersed on another substrate, and the substrate on the side on which the adhesive beads 11 are dispersed is fixed and bonded, so that the adhesive beads 11 are biased or detached from the substrate surface in the process. Don't worry. Further, since the spacer beads 12 have a diameter much smaller than that of the adhesive beads 11, the spacer beads 12 are attached to the surface of the substrate even when the substrate is turned upside down.
The spacer beads 12 are neither biased nor fall off from the substrate. By this step, the substrates are bonded together in a state where both the adhesive beads 11 and the spacer beads 12 are uniformly dispersed.

【0040】工程−r 実装端子部が露出するように、第1基板と第2基板とで
切断する位置をずらせてスクライブし、余分な基板を除
去する。また例えばスクライブ直前に、両基板において
注入口に相当する位置近傍にバーコードラベル等を貼付
し、基板の識別を行なうこともできる。
Step-r Scribing is performed by shifting the cutting positions of the first substrate and the second substrate so that the mounting terminal portions are exposed, and the excess substrate is removed. Also, for example, immediately before scribing, a barcode label or the like can be attached to the vicinity of the position corresponding to the injection port on both substrates to identify the substrates.

【0041】工程−s 上記工程で得られた液晶セルにカイラルスメクティック
液晶を注入する。先ず、液晶セルを真空装置内に入れ、
十分セル内が真空になった状態で、注入口に液晶を付着
させる。次にこの状態で徐々に圧力をかけ、なるべく等
速で液晶を液晶セル内に引き込ませる。
Step-s Chiral smectic liquid crystal is injected into the liquid crystal cell obtained in the above step. First, put the liquid crystal cell in the vacuum device,
The liquid crystal is attached to the inlet while the cell is sufficiently evacuated. Next, pressure is gradually applied in this state to draw the liquid crystal into the liquid crystal cell at a constant speed as much as possible.

【0042】本液晶素子においては、液晶層13の厚さ
(T)よりも平坦化層4の厚さ(t)が厚いことによ
り、従来の平坦化層を持たない素子に比べて、液晶層の
空隙発生率が低く、液晶注入工程における歩留が向上す
る。また、本素子では、前述のように平坦化層4を封止
剤21の下側にまで形成してあるため、液晶の注入が容
易になり、更に製造歩留が向上する。更に、液晶セル内
には図11(b)にも示したように、ITOで堰43が
形成されており、図12(a)に矢印で示すように、液
晶が堰43に沿って外側に広がり、気泡の発生が防止さ
れる。図12(b)は従来の液晶セルの液晶の流れを示
す。また、例え気泡が発生しても、封止剤21で描画し
たダミー壁23と外側の封止剤21との間に気泡が押し
込まれるため、表示領域には気泡が存在せず、不良品発
生率を低く抑えることができる。
In the present liquid crystal element, the thickness (t) of the flattening layer 4 is larger than the thickness (T) of the liquid crystal layer 13, so that the liquid crystal layer is not as thick as the conventional element having no flattening layer. The void generation rate is low, and the yield in the liquid crystal injection step is improved. Further, in this element, since the flattening layer 4 is formed up to the lower side of the sealant 21 as described above, the liquid crystal can be easily injected, and the manufacturing yield is further improved. Further, as shown in FIG. 11B, the weir 43 is formed of ITO in the liquid crystal cell, and the liquid crystal is outwardly extended along the weir 43 as shown by an arrow in FIG. 12A. Spreads and prevents the formation of bubbles. FIG. 12B shows the flow of liquid crystals in the conventional liquid crystal cell. Further, even if bubbles are generated, the bubbles are pushed between the dummy wall 23 drawn by the sealant 21 and the outer sealant 21, so that there are no bubbles in the display area and a defective product is generated. The rate can be kept low.

【0043】本発明において用いることのできる、カイ
ラルスメクティック相を呈する液晶としては、複数の液
晶性化合物及び少なくとも一種の光学活性化合物(カイ
ラルドーパント)を含有する液晶組成物が好ましく用い
られる。該液晶組成物を構成する好ましい液晶性化合物
としては、下記一般式1〜5の構造を有する液晶性化合
物等(光学活性化合物を包含する)を挙げることがで
き、これらを主な構成成分とし、適宜、各液晶性化合物
の配合比を変え、液晶組成物とすることができる。尚、
ここでいう液晶性化合物は、それ自体単独で液晶性を呈
するか否かは限定されず、液晶組成物中の液晶成分とし
て適切に機能するものであればよい。
As the liquid crystal exhibiting a chiral smectic phase which can be used in the present invention, a liquid crystal composition containing a plurality of liquid crystal compounds and at least one optically active compound (chiral dopant) is preferably used. Examples of preferable liquid crystal compounds that compose the liquid crystal composition include liquid crystal compounds having the structures of the following general formulas 1 to 5 (including optically active compounds), and these are the main constituent components, A liquid crystal composition can be prepared by appropriately changing the compounding ratio of each liquid crystal compound. still,
The liquid crystal compound as used herein is not limited as to whether or not it exhibits liquid crystal properties by itself, and may be any compound that appropriately functions as a liquid crystal component in a liquid crystal composition.

【0044】[0044]

【化1】 Embedded image

【0045】p,qは、0、1、2、であって、p+q
は1又は2であり、R21、R22は、炭素原子数1〜18
の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、該アルキル基
中の1つ、もしくは2つ以上のメチレン基は、ヘテロ原
子が隣接しない条件で−O−、−S−、−CO−、−C
HW−、−CH=CH−、−C≡C−によって置き換え
られていてもよく、Wは、ハロゲン、CN、CF3を示
す。
P and q are 0, 1, 2 and p + q
Is 1 or 2, and R 21 and R 22 each have 1 to 18 carbon atoms.
Is a linear or branched alkyl group, and one or two or more methylene groups in the alkyl group are -O-, -S-, -CO-, -under the condition that hetero atoms are not adjacent to each other. C
HW -, - CH = CH - , - C≡C- may be replaced by, W is a halogen, CN, a CF 3.

【0046】また、R21、R22は光学活性であっても良
い。
Further, R 21 and R 22 may be optically active.

【0047】Y1は、水素又はフッ素を表わす。Y 1 represents hydrogen or fluorine.

【0048】[0048]

【化2】 Embedded image

【0049】Y1は、水素又はフッ素を表わし、R
23は、炭素原子数1〜18の直鎖状又は分岐状のアルキ
ル基であり、R24は、水素原子、ハロゲン、CN基、又
は、炭素原子数1〜18の直鎖状又は分岐状のアルキル
基であり、R23、R24の示す該アルキル基中の1つ、も
しくは2つ以上のメチレン基は、ヘテロ原子が隣接しな
い条件で−O−、−S−、−CO−、−CHW−、−C
H=CH−、−C≡C−によって置き換えられていても
良く、Wは、ハロゲン、CN、CF3を示す。また、R
23、R24は光学活性であっても良い。
Y 1 represents hydrogen or fluorine, and R
23 is a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and R 24 is a hydrogen atom, a halogen, a CN group, or a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. An alkyl group, and one or two or more methylene groups in the alkyl group represented by R 23 and R 24 are —O—, —S—, —CO—, —CHW under the condition that hetero atoms are not adjacent to each other. -, -C
H = CH -, - may be replaced by C≡C-, W denotes halogen, CN, a CF 3. Also, R
23 and R 24 may be optically active.

【0050】[0050]

【化3】 Embedded image

【0051】R25、R26は、炭素原子数1〜18の直鎖
状又は分岐状のアルキル基であり、該アルキル基中の1
つ、もしくは2つ以上のメチレン基は、ヘテロ原子が隣
接しない条件で−O−、−S−、−CO−、−CHW
−、−CH=CH−、−C≡C−によって置き換えられ
ていても良く、Wは、ハロゲン、CN、CF3を示す。
R 25 and R 26 are linear or branched alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms, and 1 of the alkyl groups is
Or two or more methylene groups are -O-, -S-, -CO-, -CHW under the condition that hetero atoms are not adjacent to each other.
-, - CH = CH -, - may be replaced by C≡C-, W denotes halogen, CN, a CF 3.

【0052】また、R25、R26は光学活性であっても良
い。
Further, R 25 and R 26 may be optically active.

【0053】[0053]

【化4】 [Chemical 4]

【0054】R27、R28は、炭素原子数1〜18の直鎖
状又は分岐状のアルキル基であり、該アルキル基中の1
つ、もしくは2つ以上のメチレン基は、ヘテロ原子が隣
接しない条件で−O−、−S−、−CO−、−CHW
−、−CH=CH−、−C≡C−によって置き換えられ
ていても良く、Wは、ハロゲン、CN、CF3を示す。
R 27 and R 28 are linear or branched alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms.
Or two or more methylene groups are -O-, -S-, -CO-, -CHW under the condition that hetero atoms are not adjacent to each other.
-, - CH = CH -, - may be replaced by C≡C-, W denotes halogen, CN, a CF 3.

【0055】また、R27、R28は光学活性であっても良
い。
Further, R 27 and R 28 may be optically active.

【0056】[0056]

【化5】 Embedded image

【0057】R29、R30は、炭素原子数1〜18の直鎖
状又は分岐状のアルキル基であり、該アルキル基中の1
つ、もしくは2つ以上のメチレン基は、ヘテロ原子が隣
接しない条件で−O−、−S−、−CO−、−CHW
−、−CH=CH−、−C≡C−によって置き換えられ
ていても良く、Wは、ハロゲン、CN、CF3を示す。
R 29 and R 30 are linear or branched alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms, each of which is 1
Or two or more methylene groups are -O-, -S-, -CO-, -CHW under the condition that hetero atoms are not adjacent to each other.
-, - CH = CH -, - may be replaced by C≡C-, W denotes halogen, CN, a CF 3.

【0058】また、R29、R30は光学活性であっても良
い。
Further, R 29 and R 30 may be optically active.

【0059】一般式1〜4の化合物のより好ましい化合
物例を下記に示す。
More preferable examples of the compounds of the general formulas 1 to 4 are shown below.

【0060】一般式1の化合物のより好ましい化合物例More Preferred Compound Examples of Compounds of General Formula 1

【0061】[0061]

【化6】 [Chemical 6]

【0062】一般式2の化合物のより好ましい化合物例More Preferred Compound Examples of Compounds of General Formula 2

【0063】[0063]

【化7】 [Chemical 7]

【0064】一般式3の化合物のより好ましい化合物例More preferred examples of the compound of formula 3

【0065】[0065]

【化8】 Embedded image

【0066】一般式4の化合物のより好ましい化合物例More preferred examples of the compound of formula 4

【0067】[0067]

【化9】 [Chemical 9]

【0068】Rは、水素原子、ハロゲン、CN基、又
は、炭素原子数1〜18の直鎖状又は分岐状又は環状の
アルキル基であり、該アルキル基中の1つ、もしくは2
つ以上のメチレン基は、ヘテロ原子が隣接しない条件で
−O−、−S−、−CO−、−CHW−、−CH=CH
−、−C≡C−によって置き換えられていても良く、W
は、ハロゲン、CN、CF3を示す。また、Rは光学活
性であっても良い。
R is a hydrogen atom, a halogen, a CN group, or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, one of which is 2 or 2
One or more methylene groups are -O-, -S-, -CO-, -CHW-, -CH = CH under the condition that hetero atoms are not adjacent to each other.
May be replaced by-, -C≡C-, W
Represents halogen, CN, or CF 3 . Further, R may be optically active.

【0069】Y1は、水素又はフッ素を表わす。Y 1 represents hydrogen or fluorine.

【0070】尚、上下基板は不図示の封止剤により封止
されており、該封止剤としては、例えば熱硬化性エポキ
シ樹脂が用いられる。
The upper and lower substrates are sealed with a sealing agent (not shown), and as the sealing agent, for example, a thermosetting epoxy resin is used.

【0071】次に本実施例の液晶装置の駆動方法につい
て説明する。
Next, a method of driving the liquid crystal device of this embodiment will be described.

【0072】図18〜24は本発明に用いられる駆動信
号波形を示すタイミングチャートである。図中、Aは走
査選択信号波形、Bは走査非選択信号波形、C及びDは
情報信号波形であり、それぞれ明又は暗に対応する。1
Hは1水平走査期間である。blkは選択された走査電
極上の画素を消去(リセット)するための消去パルス、
winは選択された走査電極上の画素の表示状態を決定
するための書き込みパルスである。この書き込みパルス
と、情報信号との合成波形が対応する画素の液晶に印加
され、その画素が消去パルスによる表示状態をそのまま
続けるか、消去パルスによる表示状態から他方の表示状
態へ変化させるかが決定される。
18 to 24 are timing charts showing drive signal waveforms used in the present invention. In the figure, A is a scanning selection signal waveform, B is a scanning non-selection signal waveform, and C and D are information signal waveforms, which correspond to bright or dark, respectively. 1
H is one horizontal scanning period. blk is an erase pulse for erasing (resetting) the pixel on the selected scan electrode,
win is a write pulse for determining the display state of the pixel on the selected scan electrode. The composite waveform of the write pulse and the information signal is applied to the liquid crystal of the corresponding pixel, and it is determined whether the pixel continues the display state by the erase pulse or changes from the display state by the erase pulse to the other display state. To be done.

【0073】また図21〜24中、高フレーム周波数を
望む場合には、図21,22の波形を用いるのが好まし
い。また、画面のちらつきや、必要とする駆動マージン
の大きさに応じて適宜好ましい波形を用いる。
When a high frame frequency is desired in FIGS. 21 to 24, it is preferable to use the waveforms shown in FIGS. In addition, a preferable waveform is appropriately used according to the flicker of the screen and the size of the required drive margin.

【0074】図25は、ある情報電極に印加される情報
信号を示した波形で、暗或いは明のいずれか一方の信号
のみを複数の連続する水平走査期間に亙って連続した場
合の波形である。図25中、波形AAはΔTの幅を持つ
正極性パルスaと負極性パルスbを連続して交互に印加
する交流波形であり、図21や図22のC或いはDを連
続した波形である。
FIG. 25 is a waveform showing an information signal applied to a certain information electrode, which is a waveform when only one of the dark signal and the bright signal is continuously applied over a plurality of consecutive horizontal scanning periods. is there. In FIG. 25, a waveform AA is an AC waveform in which a positive polarity pulse a and a negative polarity pulse b having a width of ΔT are continuously and alternately applied, and is a waveform in which C or D in FIGS. 21 and 22 is continuous.

【0075】一方、図25の波形BBは、波形AAのパ
ルスaの間に(1/2)ΔTの休止期間を設けた波形、
波形CCはパルスbの間に同様の休止期間を設けた波形
であり、いずれも同じ実効値を持ち、図23及び図24
のC及びDをそれぞれ連続した波形である。AA、B
B、CCのそれぞれの波形を印加して観察したところ、
波形により液晶分子の揺らぎの程度が変わり、負極性電
圧により反転する方向をU1状態からU2状態とする
と、U1状態の時にはパルスb、即ち負極性パルスによ
って大きく揺らぎ、U2状態の時にはパルスaによって
大きく揺らぐことがわかった。
On the other hand, the waveform BB in FIG. 25 is a waveform in which a pause period of (1/2) ΔT is provided between the pulses a of the waveform AA,
The waveform CC is a waveform in which a similar rest period is provided between the pulses b, and both have the same effective value.
C and D are continuous waveforms. AA, B
When each waveform of B and CC was applied and observed,
The degree of fluctuation of the liquid crystal molecules changes depending on the waveform, and when the direction of inversion due to the negative voltage is changed from the U1 state to the U2 state, it largely fluctuates by the pulse b, that is, the negative pulse in the U1 state, and largely by the pulse a in the U2 state. I found it to shake.

【0076】このような揺らぎは、特にカラー表示装置
においては、表示色の色変化となって表れるため、注意
が必要である。
It should be noted that such a fluctuation appears as a color change of the display color, especially in a color display device.

【0077】そこでU1状態の画素にパルスbが印加さ
れる回数を少なくする波形を考える。図23及び24に
示すように、情報信号に(1/2)ΔTの休止期間in
tを入れると、図23及び図24のC又はDが連続して
もU2状態への書き込みパルス以外に直流パルスbは印
加されない。つまり、同一情報電極上にU1状態を表示
する画素が他に1つあれば直流パルスbが印加される回
数が1フレーム当たり1回減る。同一情報電極上の画素
が全てU1状態を表示する場合には、直流パルスbは1
回も印加されない、即ち図25のCC波形になる。同様
に、同一情報電極上の画素が全てU2状態を表示する場
合には、BB波形になる。従って、従来駆動マージンを
制限していた揺らぎが抑えられ、該揺らぎによる色変化
も認識されないため、結果的に駆動マージンを広げるこ
とができる。
Therefore, consider a waveform that reduces the number of times the pulse b is applied to a pixel in the U1 state. As shown in FIGS. 23 and 24, the information signal has a pause period in of (1/2) ΔT in
When t is entered, the DC pulse b is not applied other than the write pulse for the U2 state even if C or D in FIGS. 23 and 24 continues. That is, if there is another pixel that displays the U1 state on the same information electrode, the number of times the DC pulse b is applied is reduced by one per frame. When all the pixels on the same information electrode display the U1 state, the DC pulse b is 1
It is not applied even once, that is, the CC waveform in FIG. 25 is obtained. Similarly, when all the pixels on the same information electrode display the U2 state, the BB waveform is obtained. Therefore, the fluctuation that has conventionally limited the driving margin is suppressed, and the color change due to the fluctuation is not recognized, and as a result, the driving margin can be widened.

【0078】また、休止期間と駆動マージンとの関係を
(1/2)ΔT刻みで調べたところ、図26に示すよう
に、休止期間が(1/2)ΔT前後で駆動マージンの幅
が飽和してしまうことがわかった。この測定は温度を1
0℃、駆動条件をV1=14.3v、V2=−14.3
v、V3=5.7v、V4=−5.7v、V5=6.4
v、V6=0.8vに設定し、本実施例の表示部101
が良好な表示をし得る範囲を測定したものである。フレ
ーム周波数を高くするには、休止期間はなるべく短い方
が良いので、マージン、スピードの両方の観点から休止
期間は(1/2)ΔTが適切である。
Further, when the relationship between the idle period and the driving margin was examined at intervals of (1/2) ΔT, as shown in FIG. 26, the width of the driving margin was saturated when the idle period was around (1/2) ΔT. I found out that I would do it. This measurement is 1
0 ° C., driving conditions V 1 = 14.3 v, V 2 −14.3
v, V 3 = 5.7v, V 4 = -5.7v, V 5 = 6.4
v, V 6 = 0.8 v, and the display unit 101 of the present embodiment is set.
Is a range in which a good display can be obtained. In order to increase the frame frequency, it is preferable that the pause period is as short as possible. Therefore, from the viewpoints of both margin and speed, (1/2) ΔT is appropriate for the pause period.

【0079】尚、休止期間の幅と駆動マージンとの関係
を更に細かく刻んで厳密に測定しても良いが、駆動回路
の構成上、休止期間と各パルス幅の比が簡単な整数にな
るよう設定することが望ましい。その理由は、駆動波形
を出力するために1Hを分割して選択パルスや補助パル
スや休止期間の整数倍となるよう駆動回路系の基準クロ
ックを設定するので、パルス幅の比が複雑になり過ぎる
とクロックが非常に速くなってしまう。その結果、必要
以上に応答速度の速い回路を作ることが必要となり、コ
ストがかさんでしまうことを避けるためである。
Although the relationship between the width of the idle period and the drive margin may be finely divided and measured precisely, the ratio of the idle period to each pulse width may be a simple integer due to the configuration of the drive circuit. It is desirable to set. The reason is that 1H is divided to output the drive waveform and the reference pulse of the drive circuit system is set so as to be an integral multiple of the selection pulse, the auxiliary pulse, or the idle period, so the pulse width ratio becomes too complicated. And the clock becomes very fast. As a result, it is necessary to make a circuit with a response speed faster than necessary, and to avoid cost increase.

【0080】つまり、本発明において、U1状態、U2
状態それぞれに大きく揺らぎを与えるパルスの印加回数
を、選択期間をΔTとした時に少なくとも(1/2)Δ
Tの休止期間を入れることによって抑え、駆動マージン
の確保とフレーム周波数の高速化と駆動回路の簡略化を
両立させることができる。
That is, in the present invention, the U1 state, U2
When the selection period is ΔT, the number of times of application of a pulse that greatly fluctuates in each state is at least (1/2) Δ
This can be suppressed by including the quiescent period of T, so that it is possible to secure the drive margin, increase the frame frequency, and simplify the drive circuit.

【0081】本実施例の表示装置を、図23又は図24
の波形を用いて、温度10℃で、駆動条件をV1=1
4.3v、V2=−14.3v、V3=5.7v、V4
−5.7v(V5=6.4v)、ΔT=80μsに設定
し、駆動したところ、表示部101全面に亙って良好な
表示ができた。
FIG. 23 or FIG. 24 shows the display device of this embodiment.
Driving condition V 1 = 1 at a temperature of 10 ° C.
4.3v, V 2 = -14.3v, V 3 = 5.7v, V 4 =
-5.7v (V 5 = 6.4v), set [Delta] T = 80 [mu] s, was driven, could excellent display over the display section 101 entirely.

【0082】更には、温度が所定温度以上となった場合
には、図18〜図22に示す駆動信号を用いるようにす
ると、1水平走査期間が短くなり表示の高速化を達成で
きる。
Further, when the temperature becomes higher than the predetermined temperature, by using the drive signals shown in FIGS. 18 to 22, one horizontal scanning period is shortened and the display speed can be increased.

【0083】[0083]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
駆動マージンが広く、いかなる使用条件にも適応し良好
な表示を行なうことができる。また、駆動波形を選択す
ることにより、高速駆動、或いは画面のちらつき防止し
た高画質な画像表示が可能である。
As described above, according to the present invention,
It has a wide drive margin, and can be adapted to any use condition to perform good display. Further, by selecting a drive waveform, high-speed drive or high-quality image display in which flicker on the screen is prevented is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の表示部の一例である液晶素
子の平面概略図である。
FIG. 1 is a schematic plan view of a liquid crystal element that is an example of a display unit according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示した液晶素子のA−A’断面図であ
る。
2 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of the liquid crystal element shown in FIG.

【図3】図1に示した液晶素子のB−B’断面図であ
る。
3 is a cross-sectional view of the liquid crystal device shown in FIG. 1 taken along the line BB ′.

【図4】図1に示した液晶素子のカラーフィルターと遮
光層を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a color filter and a light shielding layer of the liquid crystal element shown in FIG.

【図5】図1に示した液晶素子の第1基板側の補助電極
を示す図である。
5 is a diagram showing an auxiliary electrode on the first substrate side of the liquid crystal element shown in FIG.

【図6】図1に示した液晶素子の第2基板側の透明電極
を示す図である。
6 is a diagram showing a transparent electrode on the second substrate side of the liquid crystal element shown in FIG.

【図7】図1に示した液晶素子の第2基板側の補助電極
を示す図である。
7 is a diagram showing auxiliary electrodes on the second substrate side of the liquid crystal element shown in FIG.

【図8】図1に示した液晶素子のシールパターンを示す
図である。
8 is a diagram showing a seal pattern of the liquid crystal element shown in FIG.

【図9】図1に示した液晶素子の第2基板側のショート
検査用パッド部を示す図である。
9 is a diagram showing a short circuit inspection pad portion on the second substrate side of the liquid crystal element shown in FIG.

【図10】図1に示した液晶素子の第1基板側のショー
ト検査用パッド部を示す図である。
10 is a diagram showing a short circuit inspection pad portion on the first substrate side of the liquid crystal element shown in FIG.

【図11】図1に示した液晶素子の第2基板に設けたダ
ミー配線及び堰を示す図である。
11 is a diagram showing dummy wirings and weirs provided on the second substrate of the liquid crystal element shown in FIG.

【図12】図1に示した液晶素子と従来の液晶素子の液
晶注入時の液晶の流れを示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a flow of liquid crystal when liquid crystal is injected into the liquid crystal element shown in FIG. 1 and a conventional liquid crystal element.

【図13】図1に示した液晶素子の、基板貼り合わせ工
程を示す図である。
13 is a diagram showing a substrate bonding process of the liquid crystal element shown in FIG.

【図14】二値表示の強誘電性液晶素子の断面図を示す
図である。
FIG. 14 is a diagram showing a cross-sectional view of a binary display ferroelectric liquid crystal device.

【図15】図1に示した液晶素子の第1基板の製造工程
を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a manufacturing process of the first substrate of the liquid crystal element shown in FIG. 1.

【図16】図1に示した液晶素子の第2基板の製造工程
を示す図である。
16 is a diagram showing a manufacturing process of the second substrate of the liquid crystal element shown in FIG. 1. FIG.

【図17】本発明の一実施例の表示装置のブロック図で
ある。
FIG. 17 is a block diagram of a display device according to an embodiment of the present invention.

【図18】本発明の一実施例の表示装置の駆動信号波形
の一例を示すタイミングチャートである。
FIG. 18 is a timing chart showing an example of drive signal waveforms of the display device according to the embodiment of the present invention.

【図19】本発明の一実施例の表示装置の駆動信号波形
の一例を示すタイミングチャートである。
FIG. 19 is a timing chart showing an example of drive signal waveforms of the display device according to the exemplary embodiment of the present invention.

【図20】本発明の一実施例の表示装置の駆動信号波形
の一例を示すタイミングチャートである。
FIG. 20 is a timing chart showing an example of drive signal waveforms of the display device according to the embodiment of the present invention.

【図21】本発明の一実施例の表示装置の駆動信号波形
の一例を示すタイミングチャートである。
FIG. 21 is a timing chart showing an example of drive signal waveforms of the display device according to the embodiment of the present invention.

【図22】本発明の一実施例の表示装置の駆動信号波形
の一例を示すタイミングチャートである。
FIG. 22 is a timing chart showing an example of drive signal waveforms of the display device according to the embodiment of the present invention.

【図23】本発明の一実施例の表示装置の駆動信号波形
の一例を示すタイミングチャートである。
FIG. 23 is a timing chart showing an example of drive signal waveforms of the display device according to the embodiment of the present invention.

【図24】本発明の一実施例の表示装置の駆動信号波形
の一例を示すタイミングチャートである。
FIG. 24 is a timing chart showing an example of drive signal waveforms of the display device according to the embodiment of the present invention.

【図25】一方の情報信号のみを連続した情報信号波形
を示す図である。
FIG. 25 is a diagram showing an information signal waveform in which only one information signal is continuous.

【図26】休止期間と駆動マージンとの関係を示す図で
ある。
FIG. 26 is a diagram showing a relationship between a rest period and a drive margin.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a,1b 絶縁性基板 2 アンダーコート層 3 カラーフィルター 4 平坦化層 5 バリア層 6a,6b 透明電極 7a,7b 補助電極 8a,8b ショート防止層 9a,9b 粗面形成層 10a,10b 配向層 11 接着ビーズ 12 スペーサビーズ 13 液晶層 14 遮光層 21 封止剤 22 注入口 23 ダミー壁 31,32 駆動電極 33 パッド部 41 ダミー配線 42,43 堰 101 表示部 102 走査信号印加回路 103 情報信号印加回路 104 走査信号制御回路 105 駆動制御回路 106 情報信号制御回路 1a, 1b Insulating substrate 2 Undercoat layer 3 Color filter 4 Flattening layer 5 Barrier layer 6a, 6b Transparent electrode 7a, 7b Auxiliary electrode 8a, 8b Short prevention layer 9a, 9b Rough surface forming layer 10a, 10b Alignment layer 11 Adhesion Beads 12 Spacer beads 13 Liquid crystal layer 14 Light-shielding layer 21 Sealant 22 Filling port 23 Dummy walls 31, 32 Drive electrode 33 Pad part 41 Dummy wiring 42, 43 Weir 101 Display part 102 Scan signal applying circuit 103 Information signal applying circuit 104 Scanning Signal control circuit 105 Drive control circuit 106 Information signal control circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G09F 9/35 330 7426−5H G09F 9/35 330 G09G 3/36 G09G 3/36 (72)発明者 正木 裕一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 島村 吉則 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 石渡 和也 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 片倉 一典 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI Technical indication location G09F 9/35 330 7426-5H G09F 9/35 330 G09G 3/36 G09G 3/36 (72) Invention Yuichi Masaki 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Yoshinori Shimamura 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Kazuya Ishiwatari Canon Inc., 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo (72) Inventor Kazunori Katakura 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一方が基板上にカラーフィルターと平坦
化膜とストライプ状電極を有し、他方がストライプ状電
極を有する一対の電極基板間にカイラルスメクティック
液晶を挟持してなる液晶表示装置であって、上記平坦化
膜上の電極よりも他方の電極が細く形成され、平坦化膜
上の電極を走査電極として走査信号を供給する手段と、
他方の電極を情報電極としてカラーフィルターの色毎に
対応した情報信号を供給する手段を有することを特徴と
するカラー液晶表示装置。
1. A liquid crystal display device in which a chiral smectic liquid crystal is sandwiched between a pair of electrode substrates, one of which has a color filter, a flattening film and a striped electrode on a substrate and the other of which has a striped electrode. Then, the other electrode is formed thinner than the electrode on the flattening film, and means for supplying a scanning signal using the electrode on the flattening film as a scanning electrode,
A color liquid crystal display device comprising means for supplying an information signal corresponding to each color of a color filter using the other electrode as an information electrode.
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