JPH08283267A - Carbapenem-based compound and its production - Google Patents

Carbapenem-based compound and its production

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JPH08283267A
JPH08283267A JP7113812A JP11381295A JPH08283267A JP H08283267 A JPH08283267 A JP H08283267A JP 7113812 A JP7113812 A JP 7113812A JP 11381295 A JP11381295 A JP 11381295A JP H08283267 A JPH08283267 A JP H08283267A
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JP
Japan
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group
formula
compound
methyl
substituent
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Application number
JP7113812A
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Japanese (ja)
Inventor
Tamio Hara
民雄 原
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Nippon Soda Co Ltd
Original Assignee
Nippon Soda Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH08283267A publication Critical patent/JPH08283267A/en
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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Abstract

PURPOSE: To obtain the subject compound having a carbonate group, easily synthesized, stable and useful as an intermediate for carbapenem as an antimicrobial agent. CONSTITUTION: This carbapenem-based compound is a compound of formula I [R<1> is a (protected) hydroxy-substituted lower alkyl; R<2> is H or a lower alkyl; R<3> is a protecting group for carboxyl; R<4> is an alkyl, an alkenyl, an alkynyl or an aryl which may have a substituting group], e.g. 4-nitrobenzyl(4R,5R,6S)-3- methoxycarbonyloxy-6-[(R)-1-hydroxyethyl]-4-methyl-7-oxo-1- azabicyclo[3,2,0]hepto-2-ene-2-carboxylate. Further, the compound of formula II is reacted with the compound of the formula XC(=0)OR<4> (X is a halogen) of 1-5 fold mol in the presence of a base (e.g.; diethylamine) of 1-10 fold mol in a solvent such as toluene, at (-)30-50 deg.C reaction temperature for 10min to several days to obtain the objective compound.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は優れた抗菌剤であるカル
バペネム中間体として有用な式(I)
The present invention relates to a compound of formula (I) useful as a carbapenem intermediate which is an excellent antibacterial agent

【化6】 (式中、R1 は保護されていてもよいヒドロキシ置換低
級アルキル基を示し、R2 は水素原子又は低級アルキル
基を示し、R3 はカルボキシ基の保護基を示し、R4
置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、
アルキニル基またはアリール基を示す。)で表される化
合物に関する。
[Chemical 6] (In the formula, R 1 represents an optionally protected hydroxy-substituted lower alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 3 represents a protecting group for a carboxy group, and R 4 represents a substituent. An alkyl group which may have, an alkenyl group,
An alkynyl group or an aryl group is shown. ) Relates to a compound represented by

【0002】[0002]

【従来の技術】カルバペネム誘導体を合成する有力な方
法として、式(II)で表される化合物に脱離基を導入
し、化合物(VI)とし、この脱離基をチオール残基を有
する化合物と置換し、式(V)で表される化合物とする
方法がある。(特開平4−217985)
2. Description of the Related Art As an effective method for synthesizing a carbapenem derivative, a leaving group is introduced into a compound represented by the formula (II) to form a compound (VI), and the leaving group is converted to a compound having a thiol residue. There is a method of substituting it to obtain a compound represented by formula (V). (JP-A-4-217985)

【化7】 [Chemical 7]

【0003】しかしながら、ここでOLで示される脱離
基は燐酸基、スルホン酸基、ハロゲン、アセチル又はベ
ンゾイル等のカルボン酸残基、ピリジニウムオキシ誘導
体残基が例示されているのみで、実施例に至ってはジフ
ェニル燐酸基の場合のみである。又、このジフェニル燐
酸基が導入された化合物(VI)は結晶では安定である
が、無晶形では不安定であり、結晶以外ではバルク原料
としては商取り引きし難いとの報告(特開昭4−330
085)がある。製造上は、結晶として取り出すか、分
解する前に単離すること無しに使用する等の操作が必要
であり、安定性上の問題があった。
However, the leaving group represented by OL is only exemplified by a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid residue such as halogen, acetyl or benzoyl, and a pyridinium oxy derivative residue. Only in the case of diphenyl phosphate group. Further, the compound (VI) having the diphenyl phosphate group introduced therein is stable in a crystal, but unstable in an amorphous form, and it is reported that it is difficult to trade as a bulk raw material other than the crystal (Japanese Patent Laid-Open Publication No. SHO 4- 330
085). In terms of production, it is necessary to take out the crystals as crystals or to use them without isolating them before decomposing them, and there is a problem in stability.

【0004】一方、小田らは、化合物(VIII)On the other hand, Oda et al.

【化8】 のフェニルスルホキシド又はフェニルスルホン部分を金
属塩又は金属塩の錯体を用いて脱離、チオール置換さ
せ、式(V)で表される化合物へと導いた。(特開平6
−293765,特開平6−220058)これまで脱
離、チオール置換し難かった基でも利用できる可能性を
示唆したと言える。
Embedded image The phenyl sulfoxide or phenyl sulfone moiety of was removed using a metal salt or a complex of a metal salt, and thiol substitution was performed to obtain the compound represented by the formula (V). (JP-A-6
-293765, JP-A-6-220058) It can be said that the possibility of using even a group which has been difficult to be eliminated or substituted with thiol has been suggested.

【0005】しかしながら、化合物(VIII)のフェニル
スルホキシド又はフェニルスルホン部分はオルト位に金
属と配位できる置換基を有した時のみ好収率であった。
このような特異な化合物(VIII)は合成上ではより多段
階反応を必要として実用的ではない。
However, the phenyl sulfoxide or phenyl sulfone moiety of the compound (VIII) had a good yield only when it had a substituent capable of coordinating with a metal at the ortho position.
Such a unique compound (VIII) is not practical because it requires more multistep reactions in synthesis.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、従来カ
ルバペネム中間体の脱離基としては用いられなかったカ
ーボネート基を有する合成容易で安定な新規カルバペネ
ム中間体を見い出し、更に金属塩又は金属塩の錯体を用
いて、脱離、チオール置換する利用方法を見出し、本発
明を完成させるに至った。
The present inventors have found a novel carbapenem intermediate having a carbonate group, which has not been used as a leaving group for a carbapenem intermediate, and which is easy to synthesize and stable, and further has a metal salt or a metal. The inventors have found a method of utilizing elimination and thiol substitution using a salt complex, and completed the present invention.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は式(I)で示さ
れるカルバペネム中間体、その製造方法及び該化合物の
利用方法である。
The present invention is a carbapenem intermediate represented by formula (I), a method for producing the same, and a method for using the compound.

【化9】 [Chemical 9]

【0008】上記式中、R1 は保護されていても良いヒ
ドロキシ置換低級アルキル基を示し、R2 は水素原子又
は低級アルキル基を示し、R3 はカルボキシ基の保護基
を示し、R4 は置換基を有していてもよいアルキル基、
アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を示す。
In the above formula, R 1 represents an optionally protected hydroxy-substituted lower alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 3 represents a protecting group for a carboxy group, and R 4 represents An alkyl group which may have a substituent,
An alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group is shown.

【0009】R1 の保護されていても良いヒドロキシ置
換低級アルキル基の保護基としては、水酸基の保護基と
して常用される保護基、好適にはt−ブチルジメチルシ
リル基、t−ブチルジフェニルシリル基、トリエチルシ
リル基、トリメチルシリル基等の置換シリル基、ベンジ
ルオキシカルボニル基、4−ニトロベンジルオキシカル
ボニル基等のアラルキルオキシカルボニル基、アセチ
ル、クロロアセチル、メトキシアセチル等の置換してい
ても良いアセチル基があげられる。
The protecting group for the optionally substituted hydroxy-substituted lower alkyl group for R 1 is a protecting group commonly used as a protecting group for a hydroxyl group, preferably t-butyldimethylsilyl group, t-butyldiphenylsilyl group. , Substituted silyl groups such as triethylsilyl group and trimethylsilyl group, aralkyloxycarbonyl groups such as benzyloxycarbonyl group and 4-nitrobenzyloxycarbonyl group, and optionally substituted acetyl groups such as acetyl, chloroacetyl and methoxyacetyl. can give.

【0010】R1 の保護されていても良いヒドロキシ置
換低級アルキル基の低級アルキル基としては炭素数1か
ら3までの直鎖又は分枝アルキル基、好適にはエチル基
があげられる。
The lower alkyl group of the optionally substituted hydroxy-substituted lower alkyl group for R 1 is a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, preferably an ethyl group.

【0011】R1 の保護されていても良いヒドロキシ置
換低級アルキル基の置換位置としては1から3位、好適
には1位があげられる。
The substitution position of the optionally substituted hydroxy-substituted lower alkyl group for R 1 is 1 to 3 position, preferably 1 position.

【0012】R2 の低級アルキル基としては炭素数1か
ら3までの直鎖又は分枝アルキル基、好適にはメチル基
があげられる。
The lower alkyl group for R 2 is a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a methyl group.

【0013】R3 のカルボキシ基の保護基としては、カ
ルバペネム誘導体合成に常用されるカルボキシ基の保護
基であり、好適にはメチル、エチル、t−ブチル等の低
級アルキル基、2−クロロアリル、クロチル、シンナミ
ル等の置換又は非置換アリル基、4−ニトロベンジル、
2−ニトロベンジル、4−ブロモベンジル、4−クロロ
ベンジル、4−メトキシベンジル、ジフェニルメチル等
の置換又は非置換ベンジル基があげられる。
The protecting group for the carboxy group of R 3 is a protecting group for the carboxy group commonly used in the synthesis of carbapenem derivatives, preferably a lower alkyl group such as methyl, ethyl or t-butyl, 2-chloroallyl or crotyl. A substituted or unsubstituted allyl group such as cinnamyl, 4-nitrobenzyl,
Examples of the substituted or unsubstituted benzyl group include 2-nitrobenzyl, 4-bromobenzyl, 4-chlorobenzyl, 4-methoxybenzyl, diphenylmethyl and the like.

【0014】R4 の置換基を有していても良いアルキル
基、アルケニル基またはアルキニル基の置換基として
は、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、メチル
チオ基、エチルチオ基等のアルキルチオ基、アセトキシ
基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、フェノキ
シ基、フェニルチオ基、ハロゲン基、ニトロ基、フェニ
ル基、4−ニトロフェニル基、ジメチルアミノ基、ジエ
チルアミノ基、シアノ基、アセチル基、ベンゾイル基、
ジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、ジ
メチルスルファモイル基またはジエチルスルファモイル
基があげられる。
Examples of the substituent of the alkyl group, alkenyl group or alkynyl group which may have a substituent of R 4 include alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, alkylthio groups such as methylthio group and ethylthio group, acetoxy group. Group, acyloxy group such as benzoyloxy group, phenoxy group, phenylthio group, halogen group, nitro group, phenyl group, 4-nitrophenyl group, dimethylamino group, diethylamino group, cyano group, acetyl group, benzoyl group,
Examples thereof include a dimethylcarbamoyl group, a diethylcarbamoyl group, a dimethylsulfamoyl group and a diethylsulfamoyl group.

【0015】R4 の(置換基を有していても良い)アル
キル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、is
o−プロピル、n−ブチル、t−ブチル、n−ペンチ
ル、n−ヘキシル、n−オクチル、シクロペンチル又は
シクロヘキシル等のC1〜8の直鎖、分枝又は環状のア
ルキル基があげられる。
The alkyl group (which may have a substituent) of R 4 includes methyl, ethyl, n-propyl and is.
Examples thereof include C1-8 linear, branched or cyclic alkyl groups such as o-propyl, n-butyl, t-butyl, n-pentyl, n-hexyl, n-octyl, cyclopentyl or cyclohexyl.

【0016】R4 の(置換基を有していても良い)アル
ケニル基としては、アリル基、シクロヘキセニル基等の
C1〜8の直鎖または環状のアルキル基があげられる。
Examples of the alkenyl group (which may have a substituent) of R 4 include C1-8 linear or cyclic alkyl groups such as an allyl group and a cyclohexenyl group.

【0017】R4 の(置換基を有していても良い)アル
キニル基としては、2−プロピニル基等の直鎖のアルキ
ニル基があげられる。
Examples of the alkynyl group (which may have a substituent) of R 4 include linear alkynyl groups such as 2-propynyl group.

【0018】R4 の置換基を有していても良いアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基の置換位置としては1
〜3位があげられる。
The substitution position of the alkyl group, alkenyl group or alkynyl group which may have a substituent of R 4 is 1
~ 3rd place is given.

【0019】R4 の置換基を有していても良いアリール
基の置換基としてはメチル、エチル、n−プロピル、i
so−プロピル、n−ブチル又はtert−ブチル等の
C1〜4の直鎖又は分枝アルキル基、メトキシ基、エト
キシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン基、
ニトロ基、フェニル基、ジメチルアミノ基、ジエチルア
ミノ基、シアノ基、アセチル基、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、ベンゾイル基、ジメチルカ
ルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、ジメチルスル
ファモイル基又はジエチルスルファモイル基等があげら
れる。
The substituent of the aryl group which may have a substituent of R 4 is methyl, ethyl, n-propyl or i.
C1-4 linear or branched alkyl group such as so-propyl, n-butyl or tert-butyl, alkoxy group such as methoxy group and ethoxy group, phenoxy group, halogen group,
Nitro group, phenyl group, dimethylamino group, diethylamino group, cyano group, acetyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, benzoyl group, dimethylcarbamoyl group, diethylcarbamoyl group, dimethylsulfamoyl group, diethylsulfamoyl group, etc. Can be given.

【0020】R4 の(置換基を有していても良い)アリ
ール基としてはフェニル基、ナフチル基等の芳香族環
基、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジル基、ピラゾイ
ル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリ
ル基又はベンゾイミダゾリル基等の複素環基があげられ
る。
The aryl group of R 4 (which may have a substituent) is an aromatic ring group such as a phenyl group and a naphthyl group, a pyridyl group, a pyrazyl group, a pyrimidyl group, a pyrazoyl group, an imidazolyl group and a thiazolyl group. And a heterocyclic group such as a benzothiazolyl group or a benzimidazolyl group.

【0021】式(I)で表される化合物の製造方法とし
ては、式(II)
As a method for producing the compound represented by the formula (I), the formula (II)

【化10】 で表される化合物と1〜5倍モルの式(III) XC(=O)OR4 (III) で表される化合物を1〜10倍モルの塩基の存在下、反
応させる方法があげられる。反応温度の範囲は、−70
℃から70℃までで、好適には−30℃から〜50℃ま
でである。反応時間は10分から数日間である。
[Chemical 10] And a compound represented by the formula (III) XC (═O) OR 4 (III) in a 1- to 5-fold molar amount in the presence of a 1- to 10-fold molar amount of a base. The reaction temperature range is -70.
C to 70 ° C, preferably -30 to -50 ° C. The reaction time is 10 minutes to several days.

【0022】上記式(II)中、R1 ,R2 およびR3
前記と同じ意味を表す。
In the above formula (II), R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as described above.

【0023】上記式(III)中、Xは塩素、臭素等のハロ
ゲン基を示し、R4 は前記と同じ意味を表す。
In the above formula (III), X represents a halogen group such as chlorine and bromine, and R 4 has the same meaning as described above.

【0024】式(I)で表される化合物の製造方法で用
いられる塩基としては、ジエチルアミン、シクロヘキシ
ルイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジシク
ロヘキシルアミン、ジベンジルアミン、トリエチルアミ
ン、トリn−プロピルアミン、トリn−ブチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、トリベンジルアミン等の
二級または三級アミン、N−メチルアニリン、N−エチ
ルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエ
チルアニリン、ジフェニルメチルアミン等の二級または
三級アニリンまたはピロール、イミダゾール、ピリジ
ン、4−ジメチルアミノピリジン、ピコリン、ルチジ
ン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、1−メチル
ピペリジン、4−メチルモルホリン、1−メチルピペリ
ジン、キノリン、キノキサリン、1,8−ジアザビシク
ロ[5.4.0]ウンデセン等の複素環状の塩基があげ
られ、これ等を混合して用いても良い。
Examples of the base used in the method for producing the compound represented by the formula (I) are diethylamine, cyclohexylisopropylamine, diisopropylamine, dicyclohexylamine, dibenzylamine, triethylamine, tri-n-propylamine and tri-n-butylamine. ,
Secondary or tertiary amines such as diisopropylethylamine and tribenzylamine, secondary or tertiary anilines such as N-methylaniline, N-ethylaniline, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline and diphenylmethylamine. Alternatively, pyrrole, imidazole, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, picoline, lutidine, morpholine, piperidine, piperazine, 1-methylpiperidine, 4-methylmorpholine, 1-methylpiperidine, quinoline, quinoxaline, 1,8-diazabicyclo [5. 4.0] Examples include heterocyclic bases such as undecene, which may be mixed and used.

【0025】式(I)で表される化合物の製造方法で用
いる反応溶媒は、反応に関与しなければ特に限定され
ず、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族系
溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、プ
ロピオン酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチ
ルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン等のケトン系溶媒、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘ
プタン等の炭化水素系溶媒、アセトニトリル、ベンゾニ
トリル等のニトリル系溶媒、ジイソプロピルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、
ジメチルスルホキシド、スルホラン、N,N−ジメチル
ホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルム等があげら
れ、これ等を混合して用いても良い。
The reaction solvent used in the method for producing the compound represented by the formula (I) is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and aromatic solvents such as toluene, xylene and chlorobenzene, methyl acetate, ethyl acetate, Ester solvents such as n-propyl acetate and ethyl propionate, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone and methyl isobutyl ketone, hydrocarbon solvents such as cyclohexane, hexane and heptane, nitrile solvents such as acetonitrile and benzonitrile. Solvent, diisopropyl ether,
Ether solvents such as dioxane and tetrahydrofuran,
Examples thereof include dimethyl sulfoxide, sulfolane, N, N-dimethylformamide, methylene chloride, chloroform and the like, and these may be mixed and used.

【0026】原料として用いる式(II)で表される化合
物は公知であり、特開平4−217985号に示されて
いる方法に従って容易に得ることができる。
The compound represented by the formula (II) used as a starting material is known and can be easily obtained according to the method described in JP-A-4-217985.

【0027】式(I)で表される化合物は、式(IV) HSR5 (IV) で表されるチオール化合物と金属塩または金属塩の錯体
を塩基の存在下または非存在下、反応させ、式(V)
The compound represented by the formula (I) is obtained by reacting a thiol compound represented by the formula (IV) HSR 5 (IV) with a metal salt or a complex of a metal salt in the presence or absence of a base, Formula (V)

【化11】 で表される化合物へと誘導することができる。反応温度
の範囲は、−70℃から70℃までで、好適には−30
℃から〜50℃までである。反応時間は10分から数日
間である。反応のモル比は式(I)で表される化合物1
モルに対し、式(IV)で表される化合物1〜3モル、金
属塩または金属塩1〜20モル、塩基を用いる場合には
1〜40モルである。式(V)で表される化合物は、こ
の後、脱保護、修飾することにより対応するカルバペネ
ム誘導体へ導くことができる。
[Chemical 11] It is possible to induce the compound represented by The reaction temperature range is -70 ° C to 70 ° C, preferably -30 ° C.
C to -50 ° C. The reaction time is 10 minutes to several days. The molar ratio of the reaction is Compound 1 represented by the formula (I)
The amount is 1 to 3 mol of the compound represented by the formula (IV), 1 to 20 mol of a metal salt or metal salt, and 1 to 40 mol when a base is used. Thereafter, the compound represented by the formula (V) can be deprotected and modified to give a corresponding carbapenem derivative.

【0028】上記式中、R5 は置換基を有していても良
い鎖状または現状のアルキル基または複素環を示す。
In the above formula, R 5 represents a chain-like or current alkyl group or heterocycle which may have a substituent.

【0029】R5 の置換基を有していても良い鎖状また
は環状のアルキル基または複素環の置換基としては、ア
ミノ基、アセチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチ
ルアミノ基、メトキシアミノ基、エトキシアミノ基、水
酸基、メトキシ基、エトキシ基、ジメチルカルバモイル
基、ジエチルカルバモイル基、ジメチルスルファモイル
基、ジエチルスルファモイル基、置換基を有する複素環
基等があげられる。
Examples of the substituent of the chain or cyclic alkyl group or heterocyclic ring which may have a substituent of R 5 include amino group, acetylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, methoxyamino group and ethoxy group. Examples thereof include an amino group, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a dimethylcarbamoyl group, a diethylcarbamoyl group, a dimethylsulfamoyl group, a diethylsulfamoyl group, and a heterocyclic group having a substituent.

【0030】R5 は、カルバペネム誘導体のペンダント
と呼ばれる部分であり、各製薬、医薬メーカー等では、
中枢神経毒性軽減、抗菌活性向上のため、合成展開され
てきた。本発明の利用法はこれらの相当するR5 に及
び、更にこれらに限定されるものではない。以下、例と
して、各製薬、医薬メーカー等の文献記載のR5 を文献
と共に以下に示す。
R 5 is a portion called a pendant of the carbapenem derivative.
It has been synthetically developed to reduce central nervous system toxicity and improve antibacterial activity. Usage of the present invention spans the R 5 to their corresponding, not to be further limiting. Hereinafter, as an example, R 5 described in literatures such as pharmaceuticals and pharmaceutical manufacturers will be shown together with the literatures.

【化12】 [Chemical 12]

【化13】 [Chemical 13]

【化14】 Embedded image

【化15】 [Chemical 15]

【化16】 Embedded image

【化17】 [Chemical 17]

【化18】 Embedded image

【0031】式(I)で表される化合物から式(V)で
表される化合物を製造する際に用いる金属塩または金属
塩の錯体としては、塩化マグネシウム、臭化マグネシウ
ム、ヨウ化マグネシウム、臭化マグネシウム・エーテル
錯体、メチルマグネシウムブロミド、フェニルマグネシ
ウムブロミド、マグネシウムメトキシド、マグネシウム
エトキシド、臭化カルシウム、ブロモマグネシウムシク
ロヘキシルイソプロピルアミド、ブロモマグネシウムジ
イソプロピルアミド、ブロモマグネシウムジエチルアミ
ド、ブロモマグネシウムヘキサメチルジシラジド、ブロ
モマグネシウムt−ブトキシド、ジエチルアルミニウム
クロライド等のII族または III族の金属を含むものがあ
げられ、これ等を混合して用いても良い。
The metal salt or the complex of the metal salt used in the production of the compound represented by the formula (V) from the compound represented by the formula (I) includes magnesium chloride, magnesium bromide, magnesium iodide and odor. Magnesium ether complex, methyl magnesium bromide, phenyl magnesium bromide, magnesium methoxide, magnesium ethoxide, calcium bromide, bromomagnesium cyclohexyl isopropylamide, bromomagnesium diisopropylamide, bromomagnesium diethylamide, bromomagnesium hexamethyldisilazide, bromo Examples thereof include those containing Group II or Group III metals such as magnesium t-butoxide and diethylaluminum chloride, and these may be used as a mixture.

【0032】式(I)で表される化合物から式(V)で
表される化合物を製造する際に用いる塩基としては、ジ
エチルアミン、シクロヘキシルイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジベン
ジルアミン、トリエチルアミン、トリn−プロピルアミ
ン、トリn−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、トリベンジルアミン等の二級または三級アミン、N
−メチルアニリン、N−エチルアニリン、N,N−ジメ
チルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、ジフェニル
メチルアミン等の二級または三級アニリンまたはピロー
ル、イミダゾール、ピリジン、4−ジメチルアミノピリ
ジン、ピコリン、ルチジン、モルホリン、ピペリジン、
ピペラジン、1−メチルピペリジン、4−メチルモルホ
リン、1−メチルピペリジン、キノリン、キノキサリ
ン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン
等の複素環状の塩基があげられ、これ等を混合して用い
ても良い。
As the base used for producing the compound represented by the formula (V) from the compound represented by the formula (I), diethylamine, cyclohexylisopropylamine, diisopropylamine, dicyclohexylamine, dibenzylamine, triethylamine, Secondary or tertiary amines such as tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, diisopropylethylamine and tribenzylamine, N
-Secondary or tertiary aniline or pyrrole such as methylaniline, N-ethylaniline, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline and diphenylmethylamine, imidazole, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, picoline, lutidine , Morpholine, piperidine,
Heterocyclic bases such as piperazine, 1-methylpiperidine, 4-methylmorpholine, 1-methylpiperidine, quinoline, quinoxaline, and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene can be mentioned. You may use.

【0033】式(I)で表される化合物から式(V)で
表される化合物を製造する際に用いる反応溶媒は、反応
に関与しなければ特に限定されず、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼン等の芳香族系溶媒、酢酸メチル、酢
酸エチル、酢酸n−プロピル、プロピオン酸エチル等の
エステル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、ジエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶
媒、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素
系溶媒、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル
系溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、N,N−ジメチルホルムアミド、塩化
メチレン、クロロホルム等があげられる。
The reaction solvent used for producing the compound represented by the formula (V) from the compound represented by the formula (I) is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and may be toluene, xylene, chlorobenzene or the like. Aromatic solvents, ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate and ethyl propionate, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone and methyl isobutyl ketone, hydrocarbons such as cyclohexane, hexane and heptane. Examples thereof include system solvents, nitrile solvents such as acetonitrile and benzonitrile, ether solvents such as diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, sulfolane, N, N-dimethylformamide, methylene chloride and chloroform.

【0034】反応温度の範囲は、−70℃から70℃ま
でで、好適には−30℃から〜50℃までである。反応
時間は10分から数日間である。
The reaction temperature range is -70 ° C to 70 ° C, preferably -30 ° C to -50 ° C. The reaction time is 10 minutes to several days.

【0035】[0035]

【実施例】次に実施例を挙げ、本発明を更に具体的に説
明する。 実施例1 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−3−メト
キシカルボニルオキシ−6−[(R)−1−ヒドロキシ
エチル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザビシクロ
[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボキシレー
ト(化合物A):
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. Example 1 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -3-methoxycarbonyloxy-6-[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-7-oxo-1-azabicyclo [3.2. 0] hept-2-ene-2-carboxylate (Compound A):

【化19】 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−3,
7−ジオキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタ
ン−2−カルボキシレート(18.12g)のメチルイ
ソブチルケトン(100ml)溶液を−7℃に冷却し、
4−ジメチルアミノピリジン(0.09g)とクロル炭
酸メチル(7.09g)を添加した。同温度で、ジイソ
プロピルエチルアミン(9.69g)を16分間で滴下
し、2時間熟成した。反応終了後、飽和燐酸二水素ナト
リウム水溶液をpH7.3となるように添加し、洗浄
後、分液し、更に、得られた有機層を水(50ml)に
て洗浄し、分液した。得られた有機層を濃縮し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、標記
化合物(17.61g)を得た。融点108〜110℃1 H NMR(270MHz.CDCl3 )δppm:
1.25(3H,d),1.35(3H,d),3.3
0〜3.45(2H,m),3.83(3H,s),
4.22〜4.35(2H,m),5.35(2H,d
d,J=13.8,51.0Hz),7.61(2H,
d),8.24(2H,d)
[Chemical 19] 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -6-
[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-3,
A solution of 7-dioxo-1-azabicyclo [3.2.0] heptane-2-carboxylate (18.12 g) in methyl isobutyl ketone (100 ml) was cooled to -7 ° C.
4-Dimethylaminopyridine (0.09g) and methyl chlorocarbonate (7.09g) were added. At the same temperature, diisopropylethylamine (9.69 g) was added dropwise over 16 minutes, and the mixture was aged for 2 hours. After the reaction was completed, a saturated aqueous solution of sodium dihydrogen phosphate was added so as to have a pH of 7.3, the solution was washed and then separated, and the obtained organic layer was further washed with water (50 ml) and separated. The obtained organic layer was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (17.61 g). Melting point 108-110 ° C. 1 H NMR (270 MHz. CDCl 3 ) δ ppm:
1.25 (3H, d), 1.35 (3H, d), 3.3
0 to 3.45 (2H, m), 3.83 (3H, s),
4.22 to 4.35 (2H, m), 5.35 (2H, d
d, J = 13.8, 51.0 Hz), 7.61 (2H,
d), 8.24 (2H, d)

【0036】実施例2 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−3−エト
キシカルボニルオキシ−6−[(R)−1−ヒドロキシ
エチル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザビシクロ
[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボキシレー
ト(化合物B):
Example 2 4-nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -3-ethoxycarbonyloxy-6-[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-7-oxo-1-azabicyclo [3 .2.0] hept-2-ene-2-carboxylate (Compound B):

【化20】 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−3,
7−ジオキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタ
ン−2−カルボキシレート(3.62g)のメチルイソ
ブチルケトン(25ml)溶液を5℃に冷却し、4−ジ
メチルアミノピリジン(0.02g)とクロル炭酸エチ
ル(1.63g)を添加した。同温度で、ジイソプロピ
ルエチルアミン(1.94g)を20分間で滴下し、3
時間熟成した。反応終了後、飽和燐酸二水素ナトリウム
水溶液をpH7.0となるように添加し、洗浄後、分液
し、更に、得られた有機層を水(40ml)にて洗浄
し、分液した。得られた有機層を濃縮し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、標記化合物
(2.36g)を得た。1 H NMR(270MHz.CDCl3 )δppm:
1.23〜1.36(9H,m),3.30〜3.42
(2H,m),4.21〜4.33(4H,m),5.
36(2H,dd,J=13.8,51.0Hz),
7.62(2H,d),8.23(2H,d)
Embedded image 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -6-
[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-3,
A solution of 7-dioxo-1-azabicyclo [3.2.0] heptane-2-carboxylate (3.62 g) in methyl isobutyl ketone (25 ml) was cooled to 5 ° C. and 4-dimethylaminopyridine (0.02 g). And ethyl chlorocarbonate (1.63 g) were added. Diisopropylethylamine (1.94 g) was added dropwise at the same temperature over 20 minutes, and 3
Aged for hours. After completion of the reaction, a saturated aqueous solution of sodium dihydrogen phosphate was added so as to have a pH of 7.0, washed and then separated, and the obtained organic layer was further washed with water (40 ml) and separated. The obtained organic layer was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (2.36 g). 1 H NMR (270 MHz.CDCl 3 ) δppm:
1.23-1.36 (9H, m), 3.30-3.42
(2H, m), 4.21 to 4.33 (4H, m), 5.
36 (2H, dd, J = 13.8, 51.0Hz),
7.62 (2H, d), 8.23 (2H, d)

【0037】実施例3 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−3−イソ
プロピルオキシカルボニルオキシ−6−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−メチル−7−オキソ−1−ア
ザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カル
ボキシレート(化合物C):
Example 3 4-nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -3-isopropyloxycarbonyloxy-6-[(R) -1-
Hydroxyethyl] -4-methyl-7-oxo-1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-2-carboxylate (Compound C):

【化21】 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−3,
7−ジオキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタ
ン−2−カルボキシレート(7.25g)のメチルイソ
ブチルケトン(50ml)溶液を−10℃に冷却し、4
−ジメチルアミノピリジン(0.04g)とクロル炭酸
イソプロピル(3.68g)を添加した。同温度で、ジ
イソプロピルエチルアミン(3.88g)を20分間で
滴下し、4時間熟成した。反応終了後、飽和燐酸二水素
ナトリウム水溶液をpH7.3となるように添加し、洗
浄後、分液し、更に、得られた有機層を水(40ml)
にて洗浄し、分液した。得られた有機層を濃縮し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、標
記化合物(2.51g)を得た。1 H NMR(270MHz.CDCl3 )δppm:
1.23〜1.37(12H,m),3.30〜3.4
2(2H,m),4.25〜4.32(2H,m),
4.91(1H,dq),5.36(2H,dd,J=
13.8,51.0Hz),7.62(2H,d),
8.22(2H,d)
[Chemical 21] 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -6-
[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-3,
A solution of 7-dioxo-1-azabicyclo [3.2.0] heptane-2-carboxylate (7.25 g) in methyl isobutyl ketone (50 ml) was cooled to -10 ° C and 4
-Dimethylaminopyridine (0.04g) and isopropyl chlorocarbonate (3.68g) were added. Diisopropylethylamine (3.88 g) was added dropwise at the same temperature over 20 minutes, and the mixture was aged for 4 hours. After the reaction was completed, a saturated aqueous solution of sodium dihydrogenphosphate was added to adjust the pH to 7.3, the mixture was washed and then separated, and the obtained organic layer was added to water (40 ml).
It was washed with and separated. The obtained organic layer was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (2.51 g). 1 H NMR (270 MHz.CDCl 3 ) δppm:
1.23-1.37 (12H, m), 3.30-3.4
2 (2H, m), 4.25 to 4.32 (2H, m),
4.91 (1H, dq), 5.36 (2H, dd, J =
13.8, 51.0 Hz), 7.62 (2H, d),
8.22 (2H, d)

【0038】実施例4 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−3−アリ
ルオキシカルボニルオキシ−6−[(R)−1−ヒドロ
キシエチル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボキシ
レート(化合物D):
Example 4 4-nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -3-allyloxycarbonyloxy-6-[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-7-oxo-1-azabicyclo [ 3.2.0] Hept-2-ene-2-carboxylate (Compound D):

【化22】 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−3,
7−ジオキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタ
ン−2−カルボキシレート(7.25g)のメチルイソ
ブチルケトン(40ml)溶液を−10℃に冷却し、4
−ジメチルアミノピリジン(0.04g)と、クロル炭
酸アリル(3.62g)を添加した。同温度で、ジイソ
プロピルエチルアミン(3.88g)を30分間で滴下
し、2時間熟成した。反応終了後、飽和塩化アンモニウ
ム水溶液(20ml)を添加し、洗浄後、分液し、更
に、得られた有機層を水(50ml)にて洗浄し、分液
した。得られた有機層を濃縮し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し、標記化合物(7.6
6g)を得た。1 H NMR(270MHz.CDCl3 )δppm:
1.25(3H,d),1.36(3H,d),3.3
4〜3.41(2H,m),4.25〜4.33(2
H,m),4.66(2H,dd),4.91(1H,
dq),5.35(2H,dd,J=13.8,51.
3Hz),5.34〜5.42(2H,m),5.84
〜5.96(1H,m),7.61(2H,d),8.
22(2H,d)
[Chemical formula 22] 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -6-
[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-3,
A solution of 7-dioxo-1-azabicyclo [3.2.0] heptane-2-carboxylate (7.25 g) in methyl isobutyl ketone (40 ml) was cooled to −10 ° C. and 4
-Dimethylaminopyridine (0.04g) and allyl chlorocarbonate (3.62g) were added. Diisopropylethylamine (3.88 g) was added dropwise at the same temperature over 30 minutes, and the mixture was aged for 2 hours. After the reaction was completed, a saturated aqueous solution of ammonium chloride (20 ml) was added, and the mixture was washed and separated, and the obtained organic layer was further washed with water (50 ml) and separated. The obtained organic layer was concentrated, the residue was purified by silica gel column chromatography, and the title compound (7.6
6 g) was obtained. 1 H NMR (270 MHz.CDCl 3 ) δppm:
1.25 (3H, d), 1.36 (3H, d), 3.3
4 to 3.41 (2H, m), 4.25 to 4.33 (2
H, m), 4.66 (2H, dd), 4.91 (1H,
dq), 5.35 (2H, dd, J = 13.8, 51.
3 Hz), 5.34 to 5.42 (2H, m), 5.84
~ 5.96 (1H, m), 7.61 (2H, d), 8.
22 (2H, d)

【0039】実施例5 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−3−ベン
ジルオキシカルボニルオキシ−6−[(R)−1−ヒド
ロキシエチル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザビ
シクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボキ
シレート(化合物E):
Example 5 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -3-benzyloxycarbonyloxy-6-[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-7-oxo-1-azabicyclo [ 3.2.0] Hept-2-ene-2-carboxylate (Compound E):

【化23】 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−3,
7−ジオキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタ
ン−2−カルボキシレート(7.25g)のメチルイソ
ブチルケトン(40ml)溶液を−5℃に冷却し、4−
ジメチルアミノピリジン(0.04g)とクロル炭酸ベ
ンジル(4.09g)を添加した。同温度で、ジイソプ
ロピルエチルアミン(3.10g)を2時間で滴下し、
1.5時間熟成した。反応終了後、飽和燐酸二水素ナト
リウム水溶液をpH7.8となるように添加し、洗浄
後、分液し、更に、得られた有機層を水(50ml)に
て洗浄し、分液した。得られた有機層を濃縮し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、標記
化合物(7.43g)を得た。融点111〜114℃1 H NMR(270MHz.CDCl3 )δppm:
1.23(3H,d),1.34(3H,d),3.3
3〜3.40(2H,m),4.27〜4.32(2
H,m),5.15〜5.39(4H,m),7.36
(5H,s),7.55(2H,d),8.15(2
H,d)
[Chemical formula 23] 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -6-
[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-3,
A solution of 7-dioxo-1-azabicyclo [3.2.0] heptane-2-carboxylate (7.25 g) in methyl isobutyl ketone (40 ml) was cooled to -5 ° C and 4-
Dimethylaminopyridine (0.04g) and benzyl chlorocarbonate (4.09g) were added. At the same temperature, diisopropylethylamine (3.10 g) was added dropwise over 2 hours,
Aged for 1.5 hours. After completion of the reaction, a saturated aqueous solution of sodium dihydrogen phosphate was added so as to have a pH of 7.8, and after washing, the layers were separated, and the obtained organic layer was washed with water (50 ml) to separate the layers. The obtained organic layer was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (7.43 g). Melting point 111-114 ° C. 1 H NMR (270 MHz. CDCl 3 ) δ ppm:
1.23 (3H, d), 1.34 (3H, d), 3.3
3 to 3.40 (2H, m), 4.27 to 4.32 (2
H, m), 5.15 to 5.39 (4H, m), 7.36
(5H, s), 7.55 (2H, d), 8.15 (2
H, d)

【0040】実施例6 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−3−(4
−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ)−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−7−
オキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−
エン−2−カルボキシレート(化合物F):
Example 6 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -3- (4
-Nitrobenzyloxycarbonyloxy) -6-
[(R) -1-Hydroxyethyl] -4-methyl-7-
Oxo-1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-
En-2-carboxylate (Compound F):

【化24】 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−3,
7−ジオキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタ
ン−2−カルボキシレート(7.25g)のメチルイソ
ブチルケトン(50ml)溶液を−5℃に冷却し、4−
ジメチルアミノピリジン(0.04g)とクロル炭酸4
−ニトロベンジル(6.47g)を添加した。同温度
で、ジイソプロピルエチルアミン(6.47g)を30
分間で滴下し、30時間熟成した。反応終了後、飽和燐
酸二水素ナトリウム水溶液をpH7.8となるように添
加し、洗浄後、分液し、更に、得られた有機層を水(5
0ml)にて洗浄し、分液した。得られた有機層を濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精
製し、標記化合物(5.03g)を得た。融点57〜6
1℃1 H NMR(270MHz.CDCl3 )δppm:
1.25(3H,d),1.36(3H,d),3.2
9〜3.41(2H,m),4.23〜4.34(2
H,m),5.30(2H,s),5.33(2H,d
d),7.55(2H,d),7.59(2H,d),
8.19(2H,d),8.22(2H,d)
[Chemical formula 24] 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -6-
[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-3,
A solution of 7-dioxo-1-azabicyclo [3.2.0] heptane-2-carboxylate (7.25 g) in methyl isobutyl ketone (50 ml) was cooled to −5 ° C., and 4-
Dimethylaminopyridine (0.04g) and chlorocarbonic acid 4
-Nitrobenzyl (6.47g) was added. At the same temperature, diisopropylethylamine (6.47 g) was added to 30
The mixture was added dropwise for 1 minute and aged for 30 hours. After the reaction was completed, a saturated aqueous solution of sodium dihydrogen phosphate was added to adjust the pH to 7.8, the mixture was washed, and the layers were separated.
It was washed with 0 ml) and separated. The obtained organic layer was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (5.03 g). Melting point 57-6
1 ° C. 1 H NMR (270 MHz. CDCl 3 ) δ ppm:
1.25 (3H, d), 1.36 (3H, d), 3.2
9 to 3.41 (2H, m), 4.23 to 4.34 (2
H, m), 5.30 (2H, s), 5.33 (2H, d
d), 7.55 (2H, d), 7.59 (2H, d),
8.19 (2H, d), 8.22 (2H, d)

【0041】実施例7 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−3−フェ
ノキシカルボニルオキシ−6−[(R)−1−ヒドロキ
シエチル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザビシク
ロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボキシレ
ート(化合物G):
Example 7 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -3-phenoxycarbonyloxy-6-[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-7-oxo-1-azabicyclo [3 .2.0] hept-2-ene-2-carboxylate (Compound G):

【化25】 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−3,
7−ジオキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタ
ン−2−カルボキシレート(7.25g)のメチルイソ
ブチルケトン(45ml)溶液を−5℃に冷却し、4−
ジメチルアミノピリジン(0.04g)とクロル炭酸フ
ェニル(3.45g)を添加した。同温度で、ジイソプ
ロピルエチルアミン(2.84g)を1時間で滴下し、
4時間熟成した。反応終了後、飽和燐酸二水素ナトリウ
ム水にて洗浄後、分液し、更に、得られた有機層を水洗
浄し、分液した。得られた有機層を濃縮し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、標記化合
物(9.65g)を得た。1 H NMR(270MHz.CDCl3 )δppm:
1.31(3H,d),1.35(3H,d),3.3
6〜3.44(2H,m),4.29〜4.37(2
H,m),5.39(2H,dd,J=13.8,5
2.9Hz),7.14〜7.40(5H,m),7.
62(2H,d),8.17(2H,d)
[Chemical 25] 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -6-
[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-3,
A solution of 7-dioxo-1-azabicyclo [3.2.0] heptane-2-carboxylate (7.25 g) in methyl isobutyl ketone (45 ml) was cooled to -5 ° C and 4-
Dimethylaminopyridine (0.04g) and phenyl chlorocarbonate (3.45g) were added. At the same temperature, diisopropylethylamine (2.84 g) was added dropwise over 1 hour,
Aged for 4 hours. After completion of the reaction, the mixture was washed with saturated aqueous sodium dihydrogenphosphate and then separated, and the obtained organic layer was washed with water and separated. The obtained organic layer was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (9.65 g). 1 H NMR (270 MHz.CDCl 3 ) δppm:
1.31 (3H, d), 1.35 (3H, d), 3.3
6 to 3.44 (2H, m), 4.29 to 4.37 (2
H, m), 5.39 (2H, dd, J = 13.8, 5
2.9 Hz), 7.14 to 7.40 (5 H, m), 7.
62 (2H, d), 8.17 (2H, d)

【0042】実施例8 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−3−(2
−クロロエトキシカルボニルオキシ)−6−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−7−オキソ−1
−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−
カルボキシレート(化合物H):
Example 8 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -3- (2
-Chloroethoxycarbonyloxy) -6-[(R)-
1-Hydroxyethyl] -4-methyl-7-oxo-1
-Azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-2-
Carboxylate (Compound H):

【化26】 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−メチル−3,
7−ジオキソ−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタ
ン−2−カルボキシレート(3.25g)のメチルイソ
ブチルケトン(40ml)溶液を−7℃に冷却し、4−
ジメチルアミノピリジン(0.04g)と、クロル炭酸
2−クロロエチル(4.30g)を添加した。同温度
で、ジイソプロピルエチルアミン(3.88g)を30
分間で滴下し、30分間熟成した。反応終了後、飽和塩
化アンモニウム水溶液(10ml)を加え、洗浄後、分
液し、更に、得られた有機層を水(40ml)にて洗浄
し、分液した。得られた有機層を濃縮し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、標記化合物
(8.38g)を得た。1 H NMR(270MHz.CDCl3 )δppm:
1.26(3H,d),1.35(3H,d),3.3
0〜3.44(2H,m),3.71(2H,t),
4.23〜4.33(2H,m),4.44(2H,
t),5.36(2H,dd),7.62(2H,
d),8.23(2H,d)
[Chemical formula 26] 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -6-
[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-3,
A solution of 7-dioxo-1-azabicyclo [3.2.0] heptane-2-carboxylate (3.25 g) in methyl isobutyl ketone (40 ml) was cooled to -7 ° C, and 4-
Dimethylaminopyridine (0.04 g) and 2-chloroethyl chlorocarbonate (4.30 g) were added. At the same temperature, diisopropylethylamine (3.88 g) was added to 30
The solution was added dropwise over a period of 30 minutes and aged for 30 minutes. After completion of the reaction, saturated aqueous ammonium chloride solution (10 ml) was added, and the mixture was washed and then separated, and the obtained organic layer was further washed with water (40 ml) and separated. The obtained organic layer was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (8.38 g). 1 H NMR (270 MHz.CDCl 3 ) δppm:
1.26 (3H, d), 1.35 (3H, d), 3.3
0-3.44 (2H, m), 3.71 (2H, t),
4.23 to 4.33 (2H, m), 4.44 (2H,
t), 5.36 (2H, dd), 7.62 (2H,
d), 8.23 (2H, d)

【0043】実施例9 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−3−(2
−アセチルアミノエチルチオ)−6−[(R)−1−ヒ
ドロキシエチル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザ
ビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボ
キシレート(化合物I)の製造法
Example 9 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -3- (2
-Acetylaminoethylthio) -6-[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-7-oxo-1-azabicyclo [3.2.0] hept-2-ene-2-carboxylate (compound Method I)

【化27】 実施例1により製造した化合物A(0.63g)の塩化
メチレン(10ml)溶液にN−アセチルシステアミン
(0.18g)とマグネシウムブロマイドエーテル錯体
(1.55g)を添加した。−10℃に冷却し、ジイソ
プロピルエチルアミン(0.39g)を10分間で滴下
した。−10℃にて3時間熟成後、ジイソプロピルエチ
ルアミン(0.39g)を添加し、更に同温度にて18
時間熟成した。反応終了後、飽和塩化アンモニウム水溶
液(10ml)を加え、洗浄後、分液した。得られた有
機層を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製し、化合物I(0.38g)を得た。
[Chemical 27] To a solution of the compound A (0.63 g) prepared in Example 1 in methylene chloride (10 ml) was added N-acetylcysteamine (0.18 g) and magnesium bromide ether complex (1.55 g). After cooling to -10 ° C, diisopropylethylamine (0.39g) was added dropwise over 10 minutes. After aging at −10 ° C. for 3 hours, diisopropylethylamine (0.39 g) was added, and the mixture was further heated at the same temperature for 18 hours.
Aged for hours. After completion of the reaction, saturated aqueous ammonium chloride solution (10 ml) was added, and the mixture was washed and separated. The obtained organic layer was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain compound I (0.38 g).

【0044】実施例10 化合物Iの製造法:N−
アセチルシステアミン(0.22g)のテトラヒドロフ
ラン(10ml)溶液を−10℃に冷却し、1.0Nブ
ロモマグネシウムシクロヘキシルイソプロピルアミド・
テトラヒドロフラン溶液(2.5ml)と実施例1で製
造した化合物A(0.63g)を添加した。室温にて1
6時間熟成し、酢酸エチル(20ml)と飽和塩化アン
モニウム水溶液(10ml)を加え、洗浄後、分液し
た。得られた有機層を濃縮し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し、化合物I(0.18
g)を得た。
Example 10 Method for producing compound I: N-
A solution of acetylcysteamine (0.22 g) in tetrahydrofuran (10 ml) was cooled to -10 ° C, and 1.0N bromomagnesium cyclohexylisopropylamide.
Tetrahydrofuran solution (2.5 ml) and compound A prepared in Example 1 (0.63 g) were added. 1 at room temperature
The mixture was aged for 6 hours, ethyl acetate (20 ml) and saturated aqueous ammonium chloride solution (10 ml) were added, and the mixture was washed and separated. The obtained organic layer was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to give compound I (0.18
g) was obtained.

【0045】実施例11 化合物Iの製造法:N−
アセチルシステアミン(0.18g)のテトラヒドロフ
ラン(10ml)溶液を−10℃に冷却し、1.0Nブ
ロモマグネシウムシクロヘキシルイソプロピルアミド・
テトラヒドロフラン溶液(2.5ml)と化合物A
(0.84g)を添加した。−10℃にて22時間熟成
し、酢酸エチル(20ml)と飽和塩化アンモニウム水
溶液(10ml)を加え、洗浄後、分液した。得られた
有機層を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製し、化合物I(0.13g)を得た。
Example 11 Method for producing compound I: N-
A solution of acetylcysteamine (0.18 g) in tetrahydrofuran (10 ml) was cooled to -10 ° C, and 1.0N bromomagnesium cyclohexylisopropylamide.
Tetrahydrofuran solution (2.5 ml) and compound A
(0.84 g) was added. The mixture was aged at −10 ° C. for 22 hours, ethyl acetate (20 ml) and saturated aqueous ammonium chloride solution (10 ml) were added, and the mixture was washed and then separated. The obtained organic layer was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain compound I (0.13 g).

【0046】参考例1 化合物Iの製造法:Reference Example 1 Method for producing compound I:

【化28】 4−ニトロベンジル (4R,5R,6S)−3−ジフ
ェニルホスホリルオキシ−6−[(R)−1−ヒドロキ
シエチル]−4−メチル−7−オキソ−1−アザビシク
ロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボキシレ
ート(1.02g)のアセトニトリル(10ml)溶液
にN−アセチルシステアミン(0.20g)を溶液し、
−10℃まで冷却した後、ジイソプロピルエチルアミン
(0.22g)を滴下した。反応液を−10℃にて2時
間、更に10℃にて70時間熟成後、N−アセチルシス
テアミン(0.03g)とジイソプロピルエチルアミン
(0.04g)を追加し、24時間熟成した。反応液に
飽和塩化アンモニウム(10ml)を加え、酢酸エチル
(50ml)にて抽出した。得られた有機層を濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製
し、標記化合物(0.58g)を得た。1 H NMR(270MHz.CDCl3 )δppm:
1.26(3H,d),1.37(3H,d),1.9
9(3H,s),2.79〜2.89(1H,m),
3.10〜3.17(1H,m),3.26〜3.39
(2H,m),3.52〜3.63(2H,m),4.
22〜4.29(2H,m),5.36(2H,dd,
J=13.8,78.0Hz),5.92(1H,
m),7.66(2H,d),8.22(2H,d)
[Chemical 28] 4-Nitrobenzyl (4R, 5R, 6S) -3-diphenylphosphoryloxy-6-[(R) -1-hydroxyethyl] -4-methyl-7-oxo-1-azabicyclo [3.2.0] hept N-acetylcysteamine (0.20 g) was dissolved in a solution of 2-ene-2-carboxylate (1.02 g) in acetonitrile (10 ml),
After cooling to -10 ° C, diisopropylethylamine (0.22g) was added dropwise. The reaction solution was aged at −10 ° C. for 2 hours and further at 10 ° C. for 70 hours, then N-acetylcysteamine (0.03 g) and diisopropylethylamine (0.04 g) were added and aged for 24 hours. Saturated ammonium chloride (10 ml) was added to the reaction solution, and the mixture was extracted with ethyl acetate (50 ml). The obtained organic layer is concentrated,
The residue was purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (0.58 g). 1 H NMR (270 MHz.CDCl 3 ) δppm:
1.26 (3H, d), 1.37 (3H, d), 1.9
9 (3H, s), 2.79 to 2.89 (1H, m),
3.10 to 3.17 (1H, m), 3.26 to 3.39
(2H, m), 3.52 to 3.63 (2H, m), 4.
22-4.29 (2H, m), 5.36 (2H, dd,
J = 13.8, 78.0 Hz), 5.92 (1H,
m), 7.66 (2H, d), 8.22 (2H, d)

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明の製造方法によって得られる式
(I)で表される化合物は、式(IV)で表される化合物
と反応させることにより、式(III)で表される化合物へ
と導くことができる。
The compound represented by the formula (I) obtained by the production method of the present invention is converted into the compound represented by the formula (III) by reacting with the compound represented by the formula (IV). I can guide you.

【0048】本発明の製造方法によって得られる式
(I)で表される化合物は、従来のカルバペネム中間体
である化合物(VI)より安定である。
The compound represented by the formula (I) obtained by the production method of the present invention is more stable than the conventional carbapenem intermediate compound (VI).

【0049】式(III)で表される化合物はR1 に水酸基
の保護基があるときには常法によりこれを除去し、さら
にカルボキシ基の保護基R3 を除去することにより優れ
た抗菌活性を示すカルバペネム誘導体へと導くことがで
きる。従って本発明化合物はカルバペネム抗生物質合成
の有用な中間体であり、その利用方法と製造方法はカル
バペネム誘導体合成に寄与するものである。
The compound represented by the formula (III) exhibits excellent antibacterial activity by removing a hydroxyl-protecting group in R 1 by a conventional method and further removing a carboxy-protecting group R 3. It can lead to carbapenem derivatives. Therefore, the compound of the present invention is a useful intermediate in the synthesis of carbapenem antibiotics, and the utilization method and production method thereof contribute to the synthesis of carbapenem derivatives.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 式(I) 【化1】 (式中、R1 は保護されていてもよいヒドロキシ置換低
級アルキル基を示し、R2 は水素原子又は低級アルキル
基を示し、R3 はカルボキシ基の保護基を示し、R4
置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基またはアリール基を示す。)で表され
る化合物。
1. Formula (I): (In the formula, R 1 represents an optionally protected hydroxy-substituted lower alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 3 represents a protecting group for a carboxy group, and R 4 represents a substituent. A compound represented by an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group which may be present.
【請求項2】 R1 が保護されていてもよい1−ヒドロ
キシエチル基である請求項1記載の化合物。
2. The compound according to claim 1, wherein R 1 is an optionally protected 1-hydroxyethyl group.
【請求項3】 R2 がメチル基である請求項1または請
求項2記載の化合物。
3. The compound according to claim 1 or 2, wherein R 2 is a methyl group.
【請求項4】 R4 がアルコキシ基、アルキルチオ基、
アシルオキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、ジアルキルカ
ルバモイル基、ジアルキルスルファモイル基、ジアルキ
ルアミノ基、シアノ基、アシル基または置換基を有して
いてもよいフェニル基に置換されてもよい直鎖、分枝ま
たは環状のアルキル基、アリル基、2−プロピニル基、
フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピラジル基、ピ
リミジル基、ピラゾイル基、イミダゾリル基、チアゾリ
ル基、ベンゾチアゾリル基またはベンゾイミダゾリル基
である請求項1,請求項2または請求項3記載の化合
物。
4. R 4 is an alkoxy group, an alkylthio group,
An acyloxy group, a halogen group, a nitro group, a dialkylcarbamoyl group, a dialkylsulfamoyl group, a dialkylamino group, a cyano group, an acyl group, or a linear group which may be substituted with a phenyl group which may have a substituent, A branched or cyclic alkyl group, an allyl group, a 2-propynyl group,
The compound according to claim 1, 2 or 3, which is a phenyl group, a naphthyl group, a pyridyl group, a pyrazyl group, a pyrimidyl group, a pyrazoyl group, an imidazolyl group, a thiazolyl group, a benzothiazolyl group or a benzimidazolyl group.
【請求項5】 式(II) 【化2】 (式中、R1 ,R2 およびR3 は前記と同じ意味を示
す。)で表される化合物と式(III) XC(=O)OR4 (III) (式中、Xはハロゲン基を示し、R4 は前記と同じ意味
を示す。)で表される化合物を塩基の存在下、反応させ
ることを特徴とする式(I) 【化3】 (式中、R1 ,R2 ,R3 およびR4 は前記と同じ意味
を示す。)で表される化合物の製造方法。
5. Formula (II): (In the formula, R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as described above.) And the formula (III) XC (═O) OR 4 (III) (wherein, X represents a halogen group. R 4 has the same meaning as described above.), And the compound represented by the formula (I): is reacted in the presence of a base. (Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as described above).
【請求項6】 式(I) 【化4】 (式中、R1 ,R2 ,R3 およびR4 は前記と同じ意味
を示す。)で表される化合物と式(IV) HSR5 (IV) (式中、R5 は置換基を有していても良い鎖状または環
状のアルキル基または複素環を示す。)で表される化合
物を金属塩または金属塩の錯体と塩基の存在下または非
存在下、反応させることを特徴とする式(V) 【化5】 (式中、R1 ,R2 ,R3 およびR5 は前記と同じ意味
を示す。)で表される化合物の製造方法。
6. Formula (I): (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as described above.) And the formula (IV) HSR 5 (IV) (wherein R 5 has a substituent. A chain or cyclic alkyl group or heterocycle which may be present) is reacted with a metal salt or a complex of a metal salt in the presence or absence of a base. (V) (Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 5 have the same meanings as described above).
【請求項7】 金属塩または金属塩の錯体の金属がII
族、 III族に属する金属である請求項6記載の製造方
法。
7. The metal of a metal salt or a complex of a metal salt is II.
The method according to claim 6, wherein the metal is a group III or group III metal.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113929684A (en) * 2021-12-21 2022-01-14 深圳市海滨制药有限公司 Meropenem intermediate and preparation method thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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