JPH0733709A - Production of oxalic acid monoester compound - Google Patents

Production of oxalic acid monoester compound

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JPH0733709A
JPH0733709A JP18466193A JP18466193A JPH0733709A JP H0733709 A JPH0733709 A JP H0733709A JP 18466193 A JP18466193 A JP 18466193A JP 18466193 A JP18466193 A JP 18466193A JP H0733709 A JPH0733709 A JP H0733709A
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JP
Japan
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group
oxalic acid
substituent
formula
compound
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Application number
JP18466193A
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Japanese (ja)
Inventor
Norio Takamura
則夫 高村
Kuniyuki Oda
邦幸 小田
Masao Sofugawa
正夫 曽布川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tanabe Seiyaku Co Ltd
Original Assignee
Tanabe Seiyaku Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To selectively produce an oxalic acid monoester from oxalic acid in one step and high yield under mild condition. CONSTITUTION:An oxalic acid monoester of formula II is produced by reacting oxalic acid with a compound of formula I [R is residue obtained by removing hydroxyl group from corresponding alcohol (ROH); X is a reactive residue] in the presence of a base preferably in a proper solvent. The reaction is effective for producing the compound in high efficiency even when the ester residue is originated from an alcohol unstable to acid, alkali, etc., especially an ester residue for getting a prodrug to promote the peroral absorption of beta-lactam antibacterial agent. The compound of formula II is easily converted to an oxalic acid monoester halide compound of formula III (Y is halogen) by reacting with a halogenating agent and is usable for the production of a penem or cephem compound of formula IV (R<2> is OH-substituted alkyl; R<3> is organic group; Z is CH2CH2, SCH2, OCH2, CH2, etc.; R<4> is alkyl).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、シュウ酸モノエステル
化合物の製法に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing an oxalic acid monoester compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】シュウ酸モノエステルから誘導されるシ
ュウ酸モノエステルハライドは、経口用β−ラクタム系
抗菌剤等の合成中間体として有用である。とりわけ、β
−ラクタム系抗菌剤の分野でプロドラッグ化して経口吸
収性が改善された化合物を製造するための合成中間体と
して有用である(特開昭62−99379号、WO91
/14691、特開平2−49783号)。
Oxalic acid monoester halides derived from oxalic acid monoesters are useful as synthetic intermediates for oral β-lactam antibacterial agents and the like. Above all, β
-In the field of lactam type antibacterial agents, it is useful as a synthetic intermediate for producing a compound which is converted into a prodrug to improve oral absorption (JP-A-62-99379, WO91).
/ 14691, JP-A-2-49783).

【0003】かかる目的で用いられるシュウ酸モノエス
テルハライドは、一般にエステル残基(例えばピバロイ
ルオキシメチル基、アセトキシメチル基、イソブチリル
オキシメチル基等)に対応するアルコールが不安定であ
るため、その合成には大きな困難が伴っていた。
Oxalic acid monoester halides used for such purpose generally have unstable alcohols corresponding to ester residues (eg, pivaloyloxymethyl group, acetoxymethyl group, isobutyryloxymethyl group). , Its synthesis involved great difficulties.

【0004】例えば、特開昭62−99379号公報に
は、シュウ酸モノピバロイルオキシメチルクロライドの
製法として、オキサリルクロライドとベンジルアルコー
ルとを反応させてシュウ酸モノベンジルクロライドと
し、これを水酸化アンモニウム水溶液で加水分解してシ
ュウ酸モノベンジルエステルとし、次いで硫酸水素テト
ラブチルアンモニウム及び炭酸水素ナトリウムで処理し
たのち、ピバロイルオキシメチルクロライドと反応させ
てシュウ酸・ベンジル・ピバロイルオキシメチルとし、
さらに接触還元後、クロル化する方法が開示されてい
る。
For example, Japanese Patent Laid-Open No. 62-99379 discloses a method for producing oxalic acid monopivaloyloxymethyl chloride by reacting oxalyl chloride with benzyl alcohol to give oxalic acid monobenzyl chloride, which is then hydroxylated. Oxalic acid monobenzyl ester was hydrolyzed with an aqueous ammonium solution, then treated with tetrabutylammonium hydrogensulfate and sodium hydrogen carbonate, and then reacted with pivaloyloxymethyl chloride to give oxalic acid benzyl pivaloyloxymethyl. ,
Further, a method of chlorination after catalytic reduction is disclosed.

【0005】また、WO91/14691には、シュウ
酸モノアセトキシメチルクロライドの製法として、グリ
コール酸のカリウム塩とアセトキシメチルブロマイドと
を反応させてグリコール酸アセトキシメチルとし、これ
を三酸化クロムで酸化してシュウ酸モノアセトキシメチ
ルとし、次いでクロル化する方法が開示されている。
Further, WO 91/14691 discloses a method for producing oxalic acid monoacetoxymethyl chloride by reacting a potassium salt of glycolic acid with acetoxymethyl bromide to give acetoxymethyl glycolate, which is oxidized with chromium trioxide. A method of making monoacetoxymethyl oxalate and then chlorination is disclosed.

【0006】しかしながら、これら既知方法は多工程を
必要としたり、シリカゲルカラムクロマトによる精製工
程を必要としたり、毒性のある酸化剤を使用するなどの
難点があった。従って、シュウ酸モノエステル及びその
ハライドを簡便に合成できる製法の開発が望まれてい
た。
However, these known methods have drawbacks such as requiring multiple steps, requiring a purification step by silica gel column chromatography, and using a toxic oxidizing agent. Therefore, it has been desired to develop a production method capable of easily synthesizing oxalic acid monoester and its halide.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、シュウ酸モ
ノエステル及びそのハライド化合物の工業的に有利な新
規製法を提供するものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention provides a novel industrially advantageous process for producing an oxalic acid monoester and its halide compound.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは種々研究を
重ねた結果、シュウ酸モノエステルのエステル残基が安
定なアルコールに由来するもののみならず、例えば、酸
やアルカリ等に不安定なアルコールに由来するものであ
っても、シュウ酸から一工程でかつ選択的にシュウ酸モ
ノエステルが収率よく得られることを見い出した。
As a result of various researches conducted by the present inventors, the ester residue of oxalic acid monoester is not only derived from a stable alcohol, but also unstable to, for example, acid or alkali. It has been found that oxalic acid monoesters can be selectively obtained from oxalic acid in a single step in a high yield even if they are derived from different alcohols.

【0009】即ち、本発明によれば、一般式〔I〕That is, according to the present invention, the general formula [I]

【0010】[0010]

【化8】 [Chemical 8]

【0011】(式中、Rは対応するアルコール(RO
H)から水酸基を除いた残基を表す。)で示されるシュ
ウ酸モノエステル化合物は、シュウ酸と一般式〔II〕
(Where R is the corresponding alcohol (RO
H) represents a residue obtained by removing a hydroxyl group. ), An oxalic acid monoester compound represented by the following general formula [II]

【0012】[0012]

【化9】 [Chemical 9]

【0013】(式中、Xは反応性残基を表し、Rは前記
と同一意味を有する。)で示される化合物とを反応させ
ることにより製造することができる。
(In the formula, X represents a reactive residue, and R has the same meaning as described above.).

【0014】原料化合物〔II〕において、記号R、即
ち対応するアルコール(ROH)から水酸基を除いた残
基は、特に限定されず、安定なアルコールから水酸基を
除いた残基であってもよく、それ自体不安定なアルコー
ル、例えば酸又はアルカリ等に不安定なアルコールから
水酸基を除いた残基であってもよい。
In the starting compound [II], the symbol R, that is, the residue obtained by removing the hydroxyl group from the corresponding alcohol (ROH) is not particularly limited, and may be a residue obtained by removing the hydroxyl group from a stable alcohol. It may be a residue obtained by removing a hydroxyl group from an alcohol which is itself unstable, for example, an alcohol which is unstable to acid or alkali.

【0015】安定なアルコールから水酸基を除いた残基
の例としては、炭素数1〜10のアルキル基、アリール
低級アルキル基又は低級アルキルチオ低級アルキル基等
があげらる。また不安定なアルコールから水酸基を除い
た残基の例としては、とりわけβ−ラクタム系抗菌剤の
分野で経口吸収性を促進するためにプロドラッグするの
に用いられるエステル残基があげられ、この具体例とし
ては、一般式:−Q−OR1 (式中R1 は置換基を有し
ていてもよい低級アルキル基、置換基を有していてもよ
いアリール基、置換基を有していてもよい複素環式基、
置換基を有していてもよい低級アルケニル基、置換基を
有していてもよい低級アルキニル基、置換基を有してい
てもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよい
低級アルカノイル基、置換基を有していてもよいアリー
ルカルボニル基、置換基を有していてもよい複素環式基
置換カルボニル基、置換基を有していてもよい低級アル
ケニルカルボニル基、置換基を有していてもよい低級ア
ルキニルカルボニル基、置換基を有していてもよいシク
ロアルキルカルボニル基、置換基を有していてもよい低
級アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよい
アリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよ
い複素環式基置換オキシカルボニル基、置換基を有して
いてもよい低級アルケニルオキシカルボニル基、置換基
を有していてもよい低級アルキニルオキシカルボニル基
又は置換基を有していてもよいシクロアルキルオキシカ
ルボニル基等であり、Qは直鎖又は分岐鎖低級アルキレ
ン基である)で示されるエステル残基が好適にあげられ
る。
Examples of the residue obtained by removing a hydroxyl group from a stable alcohol include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl lower alkyl group, a lower alkylthio lower alkyl group and the like. In addition, examples of the residue obtained by removing the hydroxyl group from the unstable alcohol include ester residues used for prodrugs to promote oral absorption especially in the field of β-lactam antibacterial agents. Specific examples include the general formula: -Q-OR 1 (wherein R 1 has a lower alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and a substituent which has a substituent). A heterocyclic group, which may be
A lower alkenyl group which may have a substituent, a lower alkynyl group which may have a substituent, a cycloalkyl group which may have a substituent, a lower alkanoyl which may have a substituent Group, an arylcarbonyl group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent, a substituted carbonyl group, a lower alkenylcarbonyl group which may have a substituent, and a substituent. Optionally lower alkynylcarbonyl group, optionally substituted cycloalkylcarbonyl group, optionally substituted lower alkoxycarbonyl group, optionally substituted aryloxycarbonyl group Group, optionally substituted heterocyclic group, substituted oxycarbonyl group, optionally substituted lower alkenyloxycarbonyl group, optionally substituted Lower have a alkynyloxy group or substituent a good cycloalkyloxycarbonyl group, Q is straight or ester residue represented by branched lower alkylene group) is preferably mentioned.

【0016】なお、アリール基としては、フェニル基、
ナフチル基等があげられ、複素環式基としては、ピリジ
ル基、チエニル基、フリル基又はピロリジニル基等があ
げられる。
As the aryl group, a phenyl group,
Examples thereof include a naphthyl group, and examples of the heterocyclic group include a pyridyl group, a thienyl group, a furyl group and a pyrrolidinyl group.

【0017】上記R1 における置換基としては、例え
ば、低級アルキル基、複素環式基(例えばピリジル基、
チエニル基又はフリル基)、シクロアルキル基、低級ア
ルコキシ基、アリール基、低級アルケニル基、低級アル
キニル基、低級アルカノイルオキシ基、低級アルコキシ
カルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、低
級アルキルチオ基、低級アルケニルチオ基又はジ低級ア
ルキルアミノ基等があげられる。また、基R1 は酸に不
安定なアセタール基、イミノ基、エポキシ基又はシアノ
基やアルカリに不安定なエステル等の官能基を含んでい
てもよい。
The substituent for R 1 is, for example, a lower alkyl group or a heterocyclic group (eg pyridyl group,
(Thienyl group or furyl group), cycloalkyl group, lower alkoxy group, aryl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, lower alkanoyloxy group, lower alkoxycarbonyloxy group, arylcarbonyloxy group, lower alkylthio group, lower alkenylthio group Alternatively, a di-lower alkylamino group and the like can be mentioned. Further, the group R 1 may contain a functional group such as an acid-labile acetal group, an imino group, an epoxy group or a cyano group and an alkali-labile ester.

【0018】R1 の具体例としては、低級アルキル基、
低級アルカノイルオキシ低級アルキル基、低級アルコキ
シ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニルオキシ低
級アルキル基、アリールカルボニルオキシ低級アルキル
基、アリール基、シクロアルキル基、低級アルカノイル
基、低級アルコキシ低級アルカノイル基、アラルキルカ
ルボニル基、シクロアルキル低級アルカノイル基、アリ
ールカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級
アルキニルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル
基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシ低級
アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル
基、シクロアルキル低級アルコキシカルボニル基、低級
アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシ
カルボニル基又はシクロアルキルオキシカルボニル基等
があげられる。
Specific examples of R 1 include a lower alkyl group,
Lower alkanoyloxy lower alkyl group, lower alkoxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyloxy lower alkyl group, arylcarbonyloxy lower alkyl group, aryl group, cycloalkyl group, lower alkanoyl group, lower alkoxy lower alkanoyl group, aralkylcarbonyl group, cyclo Alkyl lower alkanoyl group, arylcarbonyl group, lower alkenylcarbonyl group, lower alkynylcarbonyl group, cycloalkylcarbonyl group, lower alkoxycarbonyl group, lower alkoxy lower alkoxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, cycloalkyl lower alkoxycarbonyl group, lower alkenyl Examples thereof include an oxycarbonyl group, a lower alkynyloxycarbonyl group and a cycloalkyloxycarbonyl group.

【0019】このうち、好ましいものとして、低級アル
キル基、低級アルカノイルオキシ低級アルキル基、低級
アルコキシ低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級
アルコキシ低級アルカノイル基、シクロアルキルカルボ
ニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルコキシ
カルボニル基又は低級アルコキシ低級アルコキシカルボ
ニル基等があげられる。
Of these, preferred are lower alkyl groups, lower alkanoyloxy lower alkyl groups, lower alkoxy lower alkyl groups, lower alkanoyl groups, lower alkoxy lower alkanoyl groups, cycloalkylcarbonyl groups, lower alkenylcarbonyl groups, lower alkoxycarbonyl. Group or lower alkoxy lower alkoxycarbonyl group.

【0020】特に好ましいR1 として、低級アルカノイ
ル基又は低級アルコキシカルボニル基、とりわけアセチ
ル基、ピバロイル基又はイソブチリル基等があげられ、
特に好ましいQとしてメチレン基があげられる。
Particularly preferred R 1 is a lower alkanoyl group or a lower alkoxycarbonyl group, especially an acetyl group, a pivaloyl group or an isobutyryl group.
A particularly preferred Q is a methylene group.

【0021】一方、原料化合物〔II〕において、反応
性残基Xとしては、シュウ酸と反応して、シュウ酸モノ
エステル化合物〔I〕を製造することができるものをい
ずれも用いることができる。このような反応性残基Xと
してはハロゲン原子、低級アルキルスルホニルオキシ基
又はアリールスルホニルオキシ基等を好適に用いること
ができるが、とりわけ臭素原子、塩素原子等のハロゲン
原子が好ましい。
On the other hand, in the starting compound [II], as the reactive residue X, any of those capable of reacting with oxalic acid to produce an oxalic acid monoester compound [I] can be used. As the reactive residue X, a halogen atom, a lower alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group or the like can be preferably used, but a halogen atom such as a bromine atom or a chlorine atom is particularly preferable.

【0022】本発明の反応は、適当な溶媒中、塩基の存
在下好適に実施することができる。
The reaction of the present invention can be suitably carried out in a suitable solvent in the presence of a base.

【0023】塩基としては、シュウ酸との塩を形成しう
るものであれば、用いることができ、有機及び無機のい
ずれの塩基も用いることができる。
Any base can be used as long as it can form a salt with oxalic acid, and both organic and inorganic bases can be used.

【0024】好ましい塩基としては、シュウ酸との塩が
反応溶媒に溶けるものがあげられ、又、シュウ酸との塩
と化合物〔II〕とが反応して容易にモノエステルを生
成することができる程度の塩基性を有する塩基がより好
ましい。かかる塩基の例としては、例えば有機アミン化
合物(例えばジ低級アルキルアミン、トリ低級アルキル
アミン、N−低級アルキルモルホリン、N−低級アルキ
ルピロリジン、ピリジン、4−(1−ピロリジニル)ピ
リジン、ルチジン、4−ピコリン、コリジン、キノリ
ン、N,N−ジ低級アルキルアニリン、1,8−ジアザ
ビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセン(DBU)、
1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノン−5−エン
(DBN)、1,4−ジアザビシクロ〔2.2.2〕オ
クタン(DABCO)、モルホリン、ピロリジン、ピペ
ラジン、ピペリジン又は4−N,N−ジ低級アルキルア
ミノピリジン等)があげられる。
Preferred bases include those in which a salt with oxalic acid is soluble in a reaction solvent, and a salt with oxalic acid and compound [II] can easily react to form a monoester. A base having a degree of basicity is more preferable. Examples of such base include, for example, organic amine compounds (for example, di-lower alkylamine, tri-lower alkylamine, N-lower alkylmorpholine, N-lower alkylpyrrolidine, pyridine, 4- (1-pyrrolidinyl) pyridine, lutidine, 4- Picoline, collidine, quinoline, N, N-dilower alkylaniline, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU),
1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), morpholine, pyrrolidine, piperazine, piperidine or 4-N, N-di (lower alkylaminopyridine) and the like.

【0025】このうち、特に好ましい塩基としては、ト
リエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、DB
U、DBN、DABCO又は4−N,N−ジメチルアミ
ノピリジンがあげられ、とりわけ工業的に安価なトリエ
チルアミンが好ましい。
Of these, particularly preferred bases include triethylamine, diisopropylethylamine, DB
U, DBN, DABCO or 4-N, N-dimethylaminopyridine may be mentioned, and industrially inexpensive triethylamine is particularly preferable.

【0026】また、塩基の使用量としては、シュウ酸に
対し、1.5〜3モル等量、とりわけ2〜3モル等量、
特に2モル等量もしくはその小過剰量用いるのが好まし
い。
The amount of the base used is 1.5 to 3 molar equivalents, especially 2 to 3 molar equivalents, based on oxalic acid.
It is particularly preferable to use 2 molar equivalents or a small excess thereof.

【0027】溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない
ものであればいずれも用いることができるが、シュウ酸
との塩の溶解度を考慮して非プロトン性極性溶媒が好ま
しく、このような溶媒としては、例えば塩化メチレン、
アセトニトリル、アセトン、クロロホルム、1、2−ジ
クロロエタン、ジメチルホルムアミド又はジメチルスル
ホキシド等があげられ、とりわけ塩化メチレン、アセト
ニトリル又はアセトン等を好適に用いることができる。
Any solvent can be used as long as it does not adversely affect the reaction, but an aprotic polar solvent is preferable in consideration of the solubility of the salt with oxalic acid. As such a solvent, , For example methylene chloride,
Acetonitrile, acetone, chloroform, 1,2-dichloroethane, dimethylformamide, dimethylsulfoxide and the like can be mentioned, and among them, methylene chloride, acetonitrile or acetone can be preferably used.

【0028】また、シュウ酸に対し、化合物〔II〕は
0.4〜0.9モル等量、とりわけ0.5〜0.75等
量、特に0.5モル等量もしくはその小過剰量用いるの
が好ましい。本反応は冷却〜加熱下、例えば−20℃〜
室温、とりわけ0℃〜室温で好適に進行する。
Compound [II] is used in an amount of 0.4 to 0.9 molar equivalents, particularly 0.5 to 0.75 equivalents, particularly 0.5 molar equivalents or a small excess thereof, relative to oxalic acid. Is preferred. This reaction is carried out under cooling to heating, for example, at -20 ° C.
Suitably proceeds at room temperature, especially from 0 ° C to room temperature.

【0029】かくして得られたシュウ酸モノエステル化
合物〔I〕は、ハロゲン化剤と反応させることにより、
一般式〔III〕
The oxalic acid monoester compound [I] thus obtained is reacted with a halogenating agent to give
General formula [III]

【0030】[0030]

【化10】 [Chemical 10]

【0031】(式中、Yはハロゲン原子を表し、他の記
号は前記と同一意味を有する。)で示されるシュウ酸モ
ノエステルハライド化合物へ変換することができる。
(In the formula, Y represents a halogen atom, and other symbols have the same meanings as described above.), And can be converted into an oxalic acid monoester halide compound.

【0032】化合物〔I〕とハロゲン化剤との反応は、
溶媒の存在又は非存在下に実施することができる。ハロ
ゲン化剤としては、チオニルクロライド、オキサリルク
ロライド、三塩化リン、五塩化リン又はオキシ塩化リン
等、とりわけチオニルクロライド又はオキサリルクロラ
イド等を好適に用いることができ、また、溶媒を使用す
る場合、溶媒としては反応に悪影響を及ぼさないもので
あればよく、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン等
を好適に用いることができる。本反応は、−20℃〜室
温、とりわけ0℃〜室温で好適に進行する。
The reaction between the compound [I] and the halogenating agent is
It can be carried out in the presence or absence of a solvent. As the halogenating agent, thionyl chloride, oxalyl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus oxychloride and the like, particularly thionyl chloride or oxalyl chloride and the like can be preferably used, and when a solvent is used, as a solvent Is not limited as long as it does not adversely affect the reaction, and methylene chloride, 1,2-dichloroethane and the like can be preferably used. This reaction suitably proceeds at -20 ° C to room temperature, particularly 0 ° C to room temperature.

【0033】上記の方法で得られた化合物〔III〕
は、常法(例えば特開昭59−51286号、WO91
/14691)に従い、抗菌剤として有用な一般式〔I
V〕
Compound [III] obtained by the above method
Is a conventional method (for example, JP-A-59-51286, WO91).
/ 14691), the general formula [I
V]

【0034】[0034]

【化11】 [Chemical 11]

【0035】(式中、R2 は保護されていてもよいヒド
ロキシ置換低級アルキル基、R3 は有機基、Zは式:−
CH2 −CH2 −、−S−CH2 −、−O−CH2 −、
−CH2 −、−CH (R4 )−、−S−又は−O−で示
される基を表し、R4 は低級アルキル基を表す。)で示
されるペネム系又はセフェム系化合物に導くことができ
る。
(In the formula, R 2 is an optionally protected hydroxy-substituted lower alkyl group, R 3 is an organic group, and Z is a formula:
CH 2 -CH 2 -, - S -CH 2 -, - O-CH 2 -,
It represents a group represented by —CH 2 —, —CH (R 4 ) —, —S— or —O—, and R 4 represents a lower alkyl group. ) Can be introduced into a penem-based or cephem-based compound.

【0036】例えば、化合物〔III〕と一般式〔V〕For example, compound [III] and general formula [V]

【0037】[0037]

【化12】 [Chemical 12]

【0038】(式中、記号は前記と同一意味を有す
る。)で示される化合物とを反応させて得られる一般式
〔VI〕
[Wherein the symbols have the same meanings as defined above] and are reacted with a compound of the general formula [VI]

【0039】[0039]

【化13】 [Chemical 13]

【0040】で示される化合物又はその塩を、一般式A compound represented by the formula:

【0041】[0041]

【化14】 [Chemical 14]

【0042】(式中、R5 は低級アルコキシ基、アリー
ルオキシ基又はジ低級アルキルアミノ基を表す。)で示
される有機リン化合物と反応させ、次いで閉環させるこ
とにより抗菌剤として有用なペネム系又はセフェム系化
合物〔IV〕とし、所望により生成物をその薬理的に許
容しうる塩とすることができる。
(Wherein R 5 represents a lower alkoxy group, an aryloxy group or a di-lower alkylamino group) is reacted with an organophosphorus compound, and then the ring is closed to form a penem-based compound useful as an antibacterial agent or The cephem compound [IV] can be used, and the product can be made into a pharmacologically acceptable salt thereof if desired.

【0043】上記反応において、R3 としては式:−C
2 OCONHR6 (R6 は水素原子又は低級アルキル
基を表す。)、−CH2 OCOR7 (R7 は低級アルキ
ル基を表す。)、−CH2 SR8 又は−SR8 (R8
ヘテロ原子として1〜4個のN原子を有し、場合により
S原子を有する5員環の複素環式基を表し、場合によ
り、オキソ基もしくはチオキソ基で置換されていてもよ
い。)で示される基を好適に用いることができ、とりわ
けカルバモイルオキシメチル基、アセチルオキシメチル
基又はピロリジン−2−チオン−4−イルチオ基が好ま
しい。
In the above reaction, R 3 has the formula: —C
H 2 OCONHR 6, (R 6 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.) - CH 2 OCOR 7, (R 7 represents a lower alkyl group.) - CH 2 SR 8, or -SR 8 (R 8 is heteroaryl Represents a 5-membered heterocyclic group having 1 to 4 N atoms as an atom and optionally an S atom, which may be optionally substituted with an oxo group or a thioxo group). A group can be preferably used, and a carbamoyloxymethyl group, an acetyloxymethyl group or a pyrrolidin-2-thion-4-ylthio group is particularly preferable.

【0044】本発明において、低級アルキル基、低級ア
ルキレン基及び低級アルコキシ基としては、炭素数1〜
6、とりわけ炭素数1〜4のものがあげられ、低級アル
カノイル基、低級アルケニル基及び低級アルキニル基と
しては、炭素数2〜8、とりわけ炭素数2〜6のものが
あげられ、さらに低級アルケノイル基、低級アルキノイ
ル基、シクロアルケニル基及びシクロアルキル基として
は、炭素数3〜8、とりわけ炭素数3〜6のものがあげ
られる。
In the present invention, the lower alkyl group, the lower alkylene group and the lower alkoxy group have 1 to 1 carbon atoms.
6, especially those having 1 to 4 carbon atoms, and examples of the lower alkanoyl group, lower alkenyl group and lower alkynyl group include those having 2 to 8 carbon atoms, especially 2 to 6 carbon atoms, and further lower alkenoyl groups. Examples of the lower alkinoyl group, cycloalkenyl group and cycloalkyl group include those having 3 to 8 carbon atoms, especially those having 3 to 6 carbon atoms.

【0045】[0045]

【実施例】【Example】

実施例1 (1)シュウ酸18gの塩化メチレン200ml懸濁液
に、氷冷下、トリエチルアミン41gを加える。冷却を
止め、室温で20分かくはん後、アセトキシメチルブロ
マイド23gの塩化メチレン溶液80mlを氷冷下加え
る。冷却を止め、室温で2時間かくはん後、水で抽出す
る。次いで水溶液を10%塩酸150mlで酸性とし、
食塩で塩析後、酢酸エチルで抽出する。抽出液を乾燥
後、溶媒を留去し、残査に塩化メチレン100mlを加
え、氷冷下15分かくはん後、析出したシュウ酸をろ別
する。ろ液を濃縮後、塩化メチレン20mlを加え、氷
冷下n−ヘキサン100mlで希釈する。析出晶をろ過
後、減圧乾燥してシュウ酸モノアセトキシメチル18.
1gを無色結晶として得る。
Example 1 (1) To a suspension of 18 g of oxalic acid in 200 ml of methylene chloride, 41 g of triethylamine was added under ice cooling. The cooling was stopped, and after stirring at room temperature for 20 minutes, 80 ml of a methylene chloride solution containing 23 g of acetoxymethyl bromide was added under ice cooling. Stop cooling, stir at room temperature for 2 hours, then extract with water. Then acidify the aqueous solution with 150 ml of 10% hydrochloric acid,
After salting out with sodium chloride, extraction with ethyl acetate is performed. After drying the extract, the solvent is distilled off, 100 ml of methylene chloride is added to the residue, and the mixture is stirred under ice cooling for 15 minutes, and the precipitated oxalic acid is filtered off. The filtrate is concentrated, 20 ml of methylene chloride is added, and the mixture is diluted with 100 ml of n-hexane under ice cooling. The precipitated crystals were filtered, dried under reduced pressure and monoacetoxymethyl oxalate 18.
1 g is obtained as colorless crystals.

【0046】m.p. 57〜61℃ NMR(CDCl3 −DMSO−d6 )δ:2.14
(3H,s)、5.88(2H,s)、10.55(1
H,s)。
M. p. 57-61 ° C NMR (CDCl 3 -DMSO-d 6 ) δ: 2.14
(3H, s), 5.88 (2H, s), 10.55 (1
H, s).

【0047】(2)本品10.54gの塩化メチレン1
00ml懸濁液に、氷冷下、オキサリルクロライド1
2.7gの塩化メチレン40ml溶液とN,N−ジメチ
ルホルムアミド2滴を加える。冷却を止め、室温で4時
間かくはん後、溶媒留去し、残査を減圧蒸留して、シュ
ウ酸モノアセトキシメチルクロライド8.26gを油状
物として得る。
(2) This product 10.54 g of methylene chloride 1
Oxalyl chloride 1 in a 00 ml suspension under ice cooling
A solution of 2.7 g of methylene chloride in 40 ml and 2 drops of N, N-dimethylformamide are added. The cooling was stopped, the mixture was stirred at room temperature for 4 hours, the solvent was distilled off, and the residue was distilled under reduced pressure to obtain 8.26 g of monoacetoxymethyl chloride oxalate as an oil.

【0048】b.p. 91〜92℃(3〜5mmH
g) NMR(CDCl3 )δ:2.18(3H,s)、5.
94(2H,s)。
B. p. 91-92 ° C (3-5mmH
g) NMR (CDCl 3 ) δ: 2.18 (3H, s), 5.
94 (2H, s).

【0049】実施例2 (1)シュウ酸9gの塩化メチレン80ml懸濁液に、
氷冷下、トリエチルアミン20gを加える。冷却を止
め、室温で20分かくはん後、アセトキシメチルクロラ
イド8.14gを氷冷下加える。冷却を止め、室温で2
0時間かくはん後、水で抽出する。次いで水溶液を10
%塩酸100mlで酸性とし、食塩で塩析後、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を乾燥後、溶媒を留去し、残査に
塩化メチレン100mlを加え、氷冷下15分かくはん
後、析出したシュウ酸をろ別する。
Example 2 (1) To a suspension of 9 g of oxalic acid in 80 ml of methylene chloride,
Under ice cooling, 20 g of triethylamine is added. The cooling was stopped, and after stirring at room temperature for 20 minutes, 8.14 g of acetoxymethyl chloride was added under ice cooling. Stop cooling and let go at room temperature 2
After stirring for 0 hour, extract with water. Then add 10
Acidify with 100 ml of hydrochloric acid, salt out with sodium chloride, and extract with ethyl acetate. After drying the extract, the solvent is distilled off, 100 ml of methylene chloride is added to the residue, and the mixture is stirred under ice cooling for 15 minutes, and the precipitated oxalic acid is filtered off.

【0050】ろ液を濃縮後、塩化メチレン10mlを加
え、氷冷下n−ヘキサン50mlで希釈する。析出晶を
ろ過後、減圧乾燥して、シュウ酸モノアセトキシメチル
6gを無色結晶として得る。
After the filtrate is concentrated, 10 ml of methylene chloride is added and diluted with 50 ml of n-hexane under ice cooling. The precipitated crystals are filtered and dried under reduced pressure to obtain 6 g of monoacetoxymethyl oxalate as colorless crystals.

【0051】m.p. 57〜61℃ (2)本品810mgの塩化メチレン15mlの懸濁液
に、氷冷下、トリエチルアミン510mgを加える。冷
却を止め、室温で20分かくはん後、チオニルクロライ
ド830mgの塩化メチレン5ml溶液を氷冷下加え
る。冷却を止め、室温で2時間かくはん後、溶媒を留去
する。残査にトルエン30mlを加え、析出するトリエ
チルアンモニウム塩をろ別する。ろ液を濃縮後、減圧蒸
留して、シュウ酸モノアセトキシメチルクロライド44
0mgを油状物として得る。
M. p. 57-61 ° C (2) To a suspension of 810 mg of this product in 15 ml of methylene chloride, 510 mg of triethylamine is added under ice cooling. The cooling was stopped, and after stirring at room temperature for 20 minutes, a solution of 830 mg of thionyl chloride in 5 ml of methylene chloride was added under ice cooling. The cooling is stopped, the mixture is stirred at room temperature for 2 hours, and then the solvent is distilled off. 30 ml of toluene is added to the residue and the precipitated triethylammonium salt is filtered off. The filtrate was concentrated and then distilled under reduced pressure to give oxalic acid monoacetoxymethyl chloride 44.
0 mg is obtained as an oil.

【0052】b.p. 91〜92℃(3〜5mmH
g) 実施例3 シュウ酸18gの塩化メチレン200ml懸濁液に、氷
冷下、トリエチルアミン41gを加える。冷却を止め、
室温で30分かくはん後、アセトキシメチルブロマイド
23gの塩化メチレン150ml溶液を氷冷下加える。
冷却を止め、室温で2.5時間かくはん後、チオニルク
ロライド47.6gの塩化メチレン150ml溶液を氷
冷下加え、氷冷下2.5時間攪拌する。溶媒を留去し、
残査にトルエン400mlを加え析出するトリエチルア
ンモニウム塩をろ別する。ろ液を濃縮後、減圧蒸留し
て、シュウ酸モノアセトキシメチルクロライド14.7
gを油状物として得る。
B. p. 91-92 ° C (3-5mmH
g) Example 3 To a suspension of 18 g of oxalic acid in 200 ml of methylene chloride, 41 g of triethylamine was added under ice cooling. Stop cooling,
After stirring at room temperature for 30 minutes, a solution of 23 g of acetoxymethyl bromide in 150 ml of methylene chloride is added under ice cooling.
After cooling is stopped, the mixture is stirred at room temperature for 2.5 hours, a solution of thionyl chloride (47.6 g) in methylene chloride (150 ml) is added under ice cooling, and the mixture is stirred under ice cooling for 2.5 hours. Evaporate the solvent,
400 ml of toluene is added to the residue and the precipitated triethylammonium salt is filtered off. The filtrate was concentrated and then distilled under reduced pressure to give oxalic acid monoacetoxymethyl chloride 14.7.
g is obtained as an oil.

【0053】b.p. 91〜92℃(3〜5mmH
g) 実施例4 アセトキシメチルブロマイドの代わりにアセトキシメチ
ルクロライドを用い、実施例3と同様に処理して、シュ
ウ酸モノアセトキシメチルクロライドを油状物として得
る。
B. p. 91-92 ° C (3-5mmH
g) Example 4 Using acetoxymethyl chloride instead of acetoxymethyl bromide and treating in the same manner as in Example 3, oxalic acid monoacetoxymethyl chloride is obtained as an oil.

【0054】b.p. 91〜92℃(3〜5mmH
g) 実施例5 対応原料化合物を実施例2−(1)と同様に処理して、
シュウ酸モノイソブチリルオキシメチルを油状物として
得る。
B. p. 91-92 ° C (3-5mmH
g) Example 5 The corresponding starting compound was treated in the same manner as in Example 2- (1),
Monoisobutyryloxymethyl oxalate is obtained as an oil.

【0055】NMR(CDCl3 )δ:1.21(6
H,d)、2.65(1H,sep)、7.40(1
H,brs) 実施例6 対応原料化合物を実施例2−(1)と同様に処理して、
シュウ酸モノピバロイルオキシメチルを油状物として得
る。
NMR (CDCl 3 ) δ: 1.21 (6
H, d), 2.65 (1H, sep), 7.40 (1
H, brs) Example 6 The corresponding starting compound was treated in the same manner as in Example 2- (1),
Monopivaloyloxymethyl oxalate is obtained as an oil.

【0056】NMR(CDCl3 )δ:1.24(9
H,s)、5.94(2H,s)、8.98(1H,
s) 実施例7〜12 対応原料化合物を実施例2−(1)と同様に処理して、
下記第1表記載化合物を得る。
NMR (CDCl 3 ) δ: 1.24 (9
H, s), 5.94 (2H, s), 8.98 (1H,
s) Examples 7 to 12 The corresponding starting material compounds were treated in the same manner as in Example 2- (1),
The compounds listed in Table 1 below are obtained.

【0057】[0057]

【表1】 [Table 1]

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明によれば、シュウ酸と化合物〔I
I〕とを反応させることにより、緩和な条件で効率よく
かつ簡便にシュウ酸モノエステル化合物〔I〕を製造す
ることができる。さらに化合物〔I〕を単離後もしくは
単離することなくそのままハロゲン化剤と反応させるこ
とにより、シュウ酸モノエステルハライド化合物〔II
I〕も製造することができる。
According to the present invention, oxalic acid and a compound [I
By reacting with [I], the oxalic acid monoester compound [I] can be produced efficiently and easily under mild conditions. Furthermore, by reacting the compound [I] with a halogenating agent after isolation or without isolation, an oxalic acid monoester halide compound [II
I] can also be produced.

【0059】さらに、本発明によれば、エステル残基
(R)が例えば、低級アルコキシ低級アルキル基、低級
アルカノイルオキシ低級アルキル基又は低級アルコキシ
カルボニルオキシ低級アルキル基等の不安定なアルコー
ルから水酸基を除いた基であっても、シュウ酸を原料と
して緩和な条件で効率よくかつ簡便に対応するシュウ酸
モノエステル化合物〔I〕及びそのハライド化合物〔I
II〕を製造することができる。従って、本発明は、シ
ュウ酸モノエステル化合物〔I〕及びシュウ酸モノエス
テルハライド化合物〔III〕の工業的に有利な製造方
法である。
Further, according to the present invention, the ester residue (R) has a hydroxyl group removed from an unstable alcohol such as a lower alkoxy lower alkyl group, a lower alkanoyloxy lower alkyl group or a lower alkoxycarbonyloxy lower alkyl group. Group of oxalic acid [I] and its halide compound [I] which can be efficiently and simply prepared under mild conditions using oxalic acid as a starting material.
II] can be produced. Therefore, the present invention is an industrially advantageous method for producing an oxalic acid monoester compound [I] and an oxalic acid monoester halide compound [III].

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シュウ酸と一般式〔II〕 【化1】 (式中、Rは対応するアルコール(ROH)から水酸基
を除いた残基を表し、Xは反応性残基を表す。)で示さ
れる化合物とを反応させることを特徴とする一般式
〔I〕 【化2】 (式中、記号は前記と同一意味を有する。)で示される
シュウ酸モノエステル化合物の製法。
1. Oxalic acid and a compound represented by the general formula [II]: (In the formula, R represents a residue obtained by removing a hydroxyl group from the corresponding alcohol (ROH), and X represents a reactive residue.) The compound represented by the general formula [I] is reacted. [Chemical 2] (In the formula, symbols have the same meanings as described above.) A method for producing an oxalic acid monoester compound.
【請求項2】 Rが、不安定なアルコール(ROH)か
ら水酸基を除いた残基である請求項1記載の製法。
2. The method according to claim 1, wherein R is a residue obtained by removing a hydroxyl group from an unstable alcohol (ROH).
【請求項3】 Rが式:−Q−OR1 (式中、R1 は置換基を有していてもよい低級アルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有
していてもよい複素環式基、置換基を有していてもよい
低級アルケニル基、置換基を有していてもよい低級アル
キニル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル
基、置換基を有していてもよい低級アルカノイル基、置
換基を有していてもよいアリールカルボニル基、置換基
を有していてもよい複素環式基置換カルボニル基、置換
基を有していてもよい低級アルケニルカルボニル基、置
換基を有していてもよい低級アルキニルカルボニル基、
置換基を有していてもよいシクロアルキルカルボニル
基、置換基を有していてもよい低級アルコキシカルボニ
ル基、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボ
ニル基、置換基を有していてもよい複素環式基置換オキ
シカルボニル基、置換基を有していてもよい低級アルケ
ニルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよい低
級アルキニルオキシカルボニル基又は置換基を有してい
てもよいシクロアルキルオキシカルボニル基を表し、Q
は直鎖又は分岐鎖低級アルキレン基を表す。)で示され
る基である請求項1記載の製法。
3. R is of the formula: -Q-OR 1 (wherein R 1 is a lower alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and a substituent which has a substituent). Optionally substituted heterocyclic group, optionally substituted lower alkenyl group, optionally substituted lower alkynyl group, optionally substituted cycloalkyl group, substituted A lower alkanoyl group which may have a group, an arylcarbonyl group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent, a substituted carbonyl group, which may have a substituent A good lower alkenylcarbonyl group, a lower alkynylcarbonyl group which may have a substituent,
A cycloalkylcarbonyl group which may have a substituent, a lower alkoxycarbonyl group which may have a substituent, an aryloxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent which may have a substituent Good heterocyclic group substituted oxycarbonyl group, optionally substituted lower alkenyloxycarbonyl group, optionally substituted lower alkynyloxycarbonyl group or optionally substituted cyclo group Represents an alkyloxycarbonyl group, Q
Represents a linear or branched lower alkylene group. The manufacturing method of Claim 1 which is a group shown by these.
【請求項4】 R1 における置換基が低級アルキル基、
複素環式基、シクロアルキル基、低級アルコキシ基、ア
リール基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級
アルカノイルオキシ基、低級アルコキシカルボニルオキ
シ基、アリールカルボニルオキシ基、低級アルキルチオ
基、低級アルケニルチオ基又はジ低級アルキルアミノ基
である請求項3記載の製法。
4. A substituent for R 1 is a lower alkyl group,
Heterocyclic group, cycloalkyl group, lower alkoxy group, aryl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, lower alkanoyloxy group, lower alkoxycarbonyloxy group, arylcarbonyloxy group, lower alkylthio group, lower alkenylthio group or dialkyl group. The process according to claim 3, wherein the process is a lower alkylamino group.
【請求項5】 R1 が低級アルキル基、低級アルカノイ
ルオキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル
基、低級アルコキシカルボニルオキシ低級アルキル基、
アリールカルボニルオキシ低級アルキル基、アリール
基、シクロアルキル基、低級アルカノイル基、低級アル
コキシ低級アルカノイル基、アラルキルカルボニル基、
シクロアルキル低級アルカノイル基、アリールカルボニ
ル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカ
ルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、低級アルコ
キシカルボニル基、低級アルコキシ低級アルコキシカル
ボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、シクロアル
キル低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキ
シカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基又
はシクロアルキルオキシカルボニル基である請求項3記
載の製法。
5. R 1 is a lower alkyl group, a lower alkanoyloxy lower alkyl group, a lower alkoxy lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyloxy lower alkyl group,
Arylcarbonyloxy lower alkyl group, aryl group, cycloalkyl group, lower alkanoyl group, lower alkoxy lower alkanoyl group, aralkylcarbonyl group,
Cycloalkyl lower alkanoyl group, arylcarbonyl group, lower alkenylcarbonyl group, lower alkynylcarbonyl group, cycloalkylcarbonyl group, lower alkoxycarbonyl group, lower alkoxy lower alkoxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, cycloalkyl lower alkoxycarbonyl group, lower The method according to claim 3, wherein the alkenyloxycarbonyl group, lower alkynyloxycarbonyl group or cycloalkyloxycarbonyl group.
【請求項6】 R1 が低級アルキル基、低級アルカノイ
ルオキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル
基、低級アルカノイル基、低級アルコキシ低級アルカノ
イル基、シクロアルキルカルボニル基、低級アルケニル
カルボニル基、低級アルコキシカルボニル基又は低級ア
ルコキシ低級アルコキシカルボニル基である請求項3記
載の製法。
6. R 1 is a lower alkyl group, a lower alkanoyloxy lower alkyl group, a lower alkoxy lower alkyl group, a lower alkanoyl group, a lower alkoxy lower alkanoyl group, a cycloalkylcarbonyl group, a lower alkenylcarbonyl group, a lower alkoxycarbonyl group or The method according to claim 3, wherein the alkoxy group is a lower alkoxy lower alkoxycarbonyl group.
【請求項7】 R1 が低級アルカノイル基又は低級アル
コキシカルボニル基であり、Qがメチレン基である請求
項3記載の製法。
7. The method according to claim 3, wherein R 1 is a lower alkanoyl group or a lower alkoxycarbonyl group, and Q is a methylene group.
【請求項8】 R1 がアセチル基、ピバロイル基又はイ
ソブチリル基である請求項3記載の製法。
8. The method according to claim 3, wherein R 1 is an acetyl group, a pivaloyl group or an isobutyryl group.
【請求項9】 Xがハロゲン原子、低級アルキルスルホ
ニルオキシ基又はアリールスルホニルオキシ基である請
求項1〜8記載の製法。
9. The method according to claim 1, wherein X is a halogen atom, a lower alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group.
【請求項10】 塩基の存在下、溶媒中で実施すること
を特徴とする請求項1〜9記載の製法。
10. The method according to claim 1, which is carried out in a solvent in the presence of a base.
【請求項11】 溶媒が非プロトン性極性溶媒である請
求項10記載の製法。
11. The method according to claim 10, wherein the solvent is an aprotic polar solvent.
【請求項12】 塩基がトリエチルアミンであり、溶媒
が非プロトン性極性溶媒である請求項10記載の製法。
12. The method according to claim 10, wherein the base is triethylamine and the solvent is an aprotic polar solvent.
【請求項13】 シュウ酸と一般式〔II〕 【化3】 (式中、Rは対応するアルコール(ROH)から水酸基
を除いた残基を表し、Xは反応性残基を表す。)で示さ
れる化合物とを反応させて一般式〔I〕 【化4】 (式中、記号は前記と同一意味を有する。)で示される
シュウ酸モノエステル化合物を得、次いでハロゲン化剤
と反応させることを特徴とする一般式〔III〕 【化5】 (式中、Yはハロゲン原子を表し、他の記号は前記と同
一意味を有する。)で示されるシュウ酸モノエステルハ
ライド化合物の製法。
13. Oxalic acid and a compound of the general formula [II]: (In the formula, R represents a residue obtained by removing a hydroxyl group from the corresponding alcohol (ROH), and X represents a reactive residue.), And reacted with a compound represented by the general formula [I] (Wherein the symbols have the same meanings as described above), an oxalic acid monoester compound is obtained, and then the oxalic acid monoester compound is reacted with a halogenating agent. (In the formula, Y represents a halogen atom, and other symbols have the same meanings as described above.) A method for producing an oxalic acid monoester halide compound.
【請求項14】 ハロゲン化剤がチオニルクロライド、
オキサリルクロライド、三塩化リン、五塩化リン又はオ
キシ塩化リンである請求項13記載の製法。
14. The halogenating agent is thionyl chloride,
The method according to claim 13, which is oxalyl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride or phosphorus oxychloride.
【請求項15】 請求項13の製法で得られた一般式
〔III〕 【化6】 (式中、Rは対応するアルコール(ROH)から水酸基
を除いた残基を表し、Yはハロゲン原子を表す。)で示
されるシュウ酸モノエステルハライド化合物を常法によ
り一般式〔IV〕 【化7】 (式中、R2 は保護されていてもよいヒドロキシ置換低
級アルキル基、R3 は有機基、Zは式:−CH2 −CH
2 −、−S−CH2 −、−O−CH2 −、−CH2 −、
−CH (R4 )−、−S−又は−O−で示される基を表
し、R4 は低級アルキル基を表す。)で示されるペネム
系又はセフェム系化合物に導くことを特徴とするペネム
系又はセフェム系化合物の製法。
15. A compound represented by the general formula [III] obtained by the process according to claim 13: (In the formula, R represents a residue obtained by removing a hydroxyl group from the corresponding alcohol (ROH) and Y represents a halogen atom.) An oxalic acid monoester halide compound represented by the general formula [IV] 7] (In the formula, R 2 is an optionally protected hydroxy-substituted lower alkyl group, R 3 is an organic group, and Z is a formula: —CH 2 —CH
2 -, - S-CH 2 -, - O-CH 2 -, - CH 2 -,
-CH (R 4) -, - represents a group represented by S- or -O-, R 4 represents a lower alkyl group. The method for producing a penem-based or cephem-based compound is characterized by leading to a penem-based or cephem-based compound represented by (4).
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6599937B1 (en) 1997-03-11 2003-07-29 Beacon Laboratories, Inc. Unsaturated oxyalkylene esters and uses thereof
US8269038B2 (en) 2006-09-12 2012-09-18 Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Process for production of sulfonic acid ester
JP2021533088A (en) * 2019-10-11 2021-12-02 エイエステック カンパニー,リミテッド Method for Producing Diethylaminohydroxybenzoyl Hexil Benzoate

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