JPH0827910B2 - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JPH0827910B2
JPH0827910B2 JP2003962A JP396290A JPH0827910B2 JP H0827910 B2 JPH0827910 B2 JP H0827910B2 JP 2003962 A JP2003962 A JP 2003962A JP 396290 A JP396290 A JP 396290A JP H0827910 B2 JPH0827910 B2 JP H0827910B2
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magnetic
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ferromagnetic
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裕之 奥田
孝雄 山野
一夫 伊野
宏三 石原
司 清水
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Description

【発明の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 本発明は磁気ヘッドに関し、特にビデオテープレコー
ダ(VTR)、ディジタルオーディオテープレコーダ(DA
T)等の磁気記録再生装置に使用される磁気ヘッドに関
するものである。
The present invention relates to a magnetic head, and more particularly to a video tape recorder (VTR) and a digital audio tape recorder (DA).
The present invention relates to a magnetic head used in a magnetic recording / reproducing apparatus such as T).

(ロ) 従来の技術 近年、VTR、DAT等の磁気記録再生装置においては、記
録信号の高密度化が進められている。この高密度記録に
対応して、磁性粉としてFe、Co、Ni等の強磁性金属粉末
を用いた抗磁力の高いメタルテープが使用されるように
なっている。たとえば、8ミリビデオと称する小型のVT
RではHc=1400〜1500エルステッド程度の高い抗磁力を
有するメタルテープが用いられる。その理由は、磁気記
録再生装置を小型化するために記録密度を高める必要性
から、信号の記録波長を短くすることの可能な記録媒体
が要求されてきたためである。
(B) Conventional Technology In recent years, in a magnetic recording / reproducing device such as a VTR or a DAT, the density of recording signals has been increased. Corresponding to this high density recording, a metal tape having a high coercive force using a ferromagnetic metal powder such as Fe, Co or Ni as a magnetic powder has been used. For example, a small VT called 8mm video
For R, a metal tape having a high coercive force of Hc = 1400 to 1500 Oersted is used. The reason is that there is a demand for a recording medium capable of shortening the signal recording wavelength because of the necessity of increasing the recording density in order to downsize the magnetic recording / reproducing apparatus.

一方、このメタルテープに記録するために従来のフェ
ライトのみからなる磁気ヘッドを用いると、フェライト
の飽和磁束密度を高々5500ガウス程度であることから磁
気飽和現象が発生するため、メタルテープの性能を十分
に活用することができない。そこで、この高い抗磁力を
有するメタルテープに対応する磁気ヘッドとしては、通
常、磁気ヘッドとして要求される磁気コアの高周波特性
の耐摩耗性の他に、磁気コアのギャップ近傍部の飽和磁
束密度が大きいことが要求される。この要求を満たすメ
タルテープ対応型の磁気ヘッドとしては、磁性飽和現象
の最も生じやすい作動ギャップ近傍部分を、磁気コアと
して使用されるフェライトよりも飽和磁化の大きな金属
磁性材料(たとえば、パーマロイ、センダスト、アモル
ファス磁性体)で構成した磁気ヘッド(複合型磁気ヘッ
ドと称する)が提案されている。この複合型磁気ヘッド
は信頼性、磁気特性、耐摩耗性等の点で優れた特性を有
する。
On the other hand, if a conventional magnetic head made of only ferrite is used for recording on this metal tape, the saturation magnetic flux density of ferrite is at most about 5500 gauss, and the magnetic saturation phenomenon occurs. Cannot be used for. Therefore, as a magnetic head corresponding to the metal tape having the high coercive force, in addition to the wear resistance of the high frequency characteristics of the magnetic core normally required as the magnetic head, the saturation magnetic flux density in the vicinity of the gap of the magnetic core is It is required to be large. As a magnetic head compatible with a metal tape satisfying this requirement, a magnetic magnetic material having a saturation magnetization larger than that of ferrite used as a magnetic core (for example, permalloy, sendust, A magnetic head composed of an amorphous magnetic material (referred to as a composite magnetic head) has been proposed. This composite type magnetic head has excellent characteristics such as reliability, magnetic characteristics, and wear resistance.

第16図は、従来の磁気ヘッドの外観を示す斜視図であ
る。第16図に示すように、Mn−Znフェライト等の強磁性
酸化物からなる1対の磁気コア半体(1a)(1b)が非磁
性材料を介して突き合わせられて構成する作動ギャップ
(2)の近傍部に、飽和磁束密度の大きいセンダスト等
の強磁性金属薄膜(3)が形成されている。なお、磁気
コア半体(1a)(1b)はガラス(4)によって接合さ
れ、巻線溝(5)が形成されている。
FIG. 16 is a perspective view showing the appearance of a conventional magnetic head. As shown in FIG. 16, a pair of magnetic core halves (1a) (1b) made of a ferromagnetic oxide such as Mn-Zn ferrite are butted against each other through a non-magnetic material to form an operating gap (2). A ferromagnetic metal thin film (3) such as sendust having a high saturation magnetic flux density is formed in the vicinity of the. The magnetic core halves (1a) (1b) are joined by glass (4) to form a winding groove (5).

上述のような複合型磁気ヘッドの場合、強磁性金属薄
膜(3)は、鏡面処理が施された強磁性酸化物からなる
基板の上面にスパッタリングによって付着形成される。
しかしながら、強磁性金属薄膜と強磁性酸化物からなる
基板との接合界面近傍は成分元素の相互拡散や化学反
応、あるいは結晶構造の非整合性等によって非磁性化
し、擬似ギャップとして作用するため、磁気ヘッドとし
ての性能に悪影響を及ぼす。
In the case of the composite magnetic head as described above, the ferromagnetic metal thin film (3) is deposited and formed on the upper surface of the substrate made of the ferromagnetic oxide subjected to the mirror surface treatment by sputtering.
However, the vicinity of the junction interface between the ferromagnetic metal thin film and the substrate made of ferromagnetic oxide is demagnetized due to mutual diffusion of component elements, chemical reaction, incompatibility of crystal structure, etc., and acts as a pseudo gap. It adversely affects the performance as a head.

すなわち、第16図に示すように、本来の作動ギャップ
(2)の他に磁気コア半体(1a)(1b)と強磁性金属薄
膜(3)との境界面(6)に擬似ギャップが形成され
る。たとえば、このような擬似ギャップが形成される境
界面(6)を有する磁気ヘッドを用いて磁気テープ上の
孤立反転磁化を再生すれば、第18図に示すように、本来
の信号(7)に対して時間τ=t/vだけ前後に擬似信号
(8a)(8b)が再生される。なお、tは強磁性金属薄膜
(3)のヘッド・テープ相対走行方向の厚み、vはヘッ
ド・テープ間の相対走行速度である。
That is, as shown in FIG. 16, in addition to the original working gap (2), a pseudo gap is formed at the boundary surface (6) between the magnetic core halves (1a) (1b) and the ferromagnetic metal thin film (3). To be done. For example, when the isolated reversal magnetization on the magnetic tape is reproduced by using the magnetic head having the boundary surface (6) where such a pseudo gap is formed, the original signal (7) is obtained as shown in FIG. On the other hand, the pseudo signals (8a) and (8b) are reproduced before and after the time τ = t / v. Note that t is the thickness of the ferromagnetic metal thin film (3) in the head-tape relative running direction, and v is the relative running speed between the head and tape.

また、記録波長λがtと同程度、あるいはそれより短
い連続反転磁化を再生する場合、第18図に示すような擬
似信号(8a)(8b)は直接観測され難い。しかしなが
ら、再生出力の周波数特性を測定すれば、本来の作動ギ
ャップ(2)による再生出力と擬似ギャップによる再生
出力との重ね合わせにより、第19図に示すように、f=
n・(v/t)を満たす周波数において山、f=(n−1/
2)・(v/t)を満たす周波数において谷となるようなう
ねりを有する周波数特性曲線が得られる。なお、nは自
然数、fは周波数(v/λ)を示す。したがって、このよ
うな擬似ギャップが形成される境界面(6)を有する磁
気ヘッドをVTRやDTA等に用いれば、擬似ギャップによる
擬似信号がノイズとなり、画質の劣化、あるいはエラー
レートの増大等の悪影響が磁気ヘッドとしての性能に及
ぼされる。特に、第16図に示すような擬似ギャップが発
生する境界面(6)と作動ギャップ(2)とが平行な磁
気ヘッドを用いると、再生出力の周波数特性に波打ち現
象が見られ、S/N比の劣化を招く。
Further, when reproducing the continuous reversal magnetization whose recording wavelength λ is equal to or shorter than t, it is difficult to directly observe the pseudo signals (8a) and (8b) as shown in FIG. However, if the frequency characteristic of the reproduction output is measured, as shown in FIG. 19, f == due to the superposition of the reproduction output due to the original working gap (2) and the reproduction output due to the pseudo gap.
At the frequency satisfying n · (v / t), f = (n−1 /
2) A frequency characteristic curve with undulations that forms a valley at frequencies that satisfy (v / t) is obtained. In addition, n is a natural number and f is a frequency (v / λ). Therefore, if a magnetic head having a boundary surface (6) in which such a pseudo gap is formed is used in a VTR, a DTA or the like, a pseudo signal due to the pseudo gap becomes noise, which adversely affects image quality deterioration or error rate increase. Affects the performance as a magnetic head. In particular, when a magnetic head in which the boundary surface (6) where a pseudo gap occurs and the working gap (2) are parallel to each other as shown in FIG. It causes deterioration of the ratio.

上述のような擬似ギャップの発生を抑えるために、フ
ェライト等の強磁性酸化物からなる基板の表面に、強磁
性金属薄膜を形成する直前において適切な投入電力の条
件による逆スパッタリングを施す方法が、たとえば、特
開昭62−57115号公報(G11B5/133)に開示されている。
しかしながら、この方法によっても擬似ギャップの原因
となる加工変質層を完全に除去することができず、必ず
しも十分に擬似ギャップの発生を抑えることができない
という問題点があった。
In order to suppress the occurrence of the pseudo gap as described above, a method of performing reverse sputtering on the surface of the substrate made of a ferromagnetic oxide such as ferrite under the condition of an appropriate input power immediately before forming the ferromagnetic metal thin film, For example, it is disclosed in JP-A-62-57115 (G11B5 / 133).
However, even with this method, there is a problem that the work-affected layer that causes the pseudo gap cannot be completely removed, and the generation of the pseudo gap cannot be suppressed sufficiently.

さらに、第17図に示すように、磁気コア半体(1a)
(1b)と強磁性金属薄膜(3)との境界面(6)を作動
ギャップ(2)の形成面に対して傾斜させ、非平行とす
ることによって、たとえ、擬似ギャップが発生してもヘ
ッドの性能には悪影響を及ぼさないようにした複合型磁
気ヘッドが提案されている。しかしながら、このような
構造を有する磁気ヘッドは、第16図に示された境界面
(6)と作動ギャップ(2)とが平行な磁気ヘッドに比
べて、その製造工程が複雑であり、コスト高になるた
め、量産性に適したものではない。
Furthermore, as shown in FIG. 17, the magnetic core half body (1a)
The interface (6) between the ferromagnetic metal thin film (1) and the ferromagnetic metal thin film (3) is made non-parallel by inclining it with respect to the surface where the working gap (2) is formed, so that even if a pseudo gap occurs, the head There has been proposed a composite magnetic head that does not adversely affect the performance of the above. However, the magnetic head having such a structure has a more complicated manufacturing process and a higher cost than the magnetic head in which the boundary surface (6) and the working gap (2) shown in FIG. 16 are parallel. Therefore, it is not suitable for mass production.

なお、本願発明者等は、第16図に示される平行型MIG
(Metal In Gap)構造の磁気ヘッドにおける擬似ギャッ
プ発生の要因として以下の3点に着目している。
In addition, the inventors of the present application, the parallel type MIG shown in FIG.
Attention is paid to the following three points as a cause of the generation of the pseudo gap in the magnetic head having the (Metal In Gap) structure.

(i) フェライト等の強磁性酸化物からなる基板の表
面の結晶性の劣化 (ii) センダスト等の強磁性金属材料からなる強磁性
薄膜の初期層の非晶質化 (iii) 強磁性金属薄膜と強磁性酸化物からなる基板
との接合界面における拡散あるいは化学反応 (ハ) 発明が解決しようとする課題 本発明は上記従来例の欠点に鑑み為されたものであ
り、磁気コア半体と強磁性金属薄膜との接合界面におけ
る擬似ギャップの発生を極力抑え、あるいは、その接合
界面が擬似ギャップとして動作することにより生ずる悪
影響を十分に抑えることができる磁気ヘッドを提供する
ことを目的とするものである。
(I) Deterioration of the crystallinity of the surface of the substrate made of a ferromagnetic oxide such as ferrite (ii) Amorphization of the initial layer of a ferromagnetic thin film made of a ferromagnetic metal material such as sendust (iii) A ferromagnetic metal thin film Or chemical reaction at the bonding interface between the substrate and a substrate made of a ferromagnetic oxide (c) Problems to be solved by the invention The present invention has been made in view of the drawbacks of the above-mentioned conventional example, and it has been proposed that a magnetic core half body and a strong magnetic core are used. An object of the present invention is to provide a magnetic head capable of suppressing occurrence of a pseudo gap at a bonding interface with a magnetic metal thin film as much as possible, or sufficiently suppressing an adverse effect caused by the bonding interface operating as a pseudo gap. is there.

(ニ) 課題を解決するための手段 本発明による磁気ヘッドは、1対の磁気コア半体が非
磁性材料を介して突き合わせられて作動ギャップを構成
する磁気ヘッドであって、強磁性酸化物からなり、前記
作動ギャップを形成するために突き合わせられるべきギ
ャップ形成面を有する1対の磁気コア半体と、前記ギャ
ップ形成面の上に形成され、非磁性酸化物からなる介在
薄膜と、前記介在薄膜の上に形成され、強磁性を有する
金属材料からなる強磁性薄膜とを備え、前記強磁性薄膜
が前記介在薄膜の表面のすぐ上から成長した結晶粒を有
する薄膜であり、前記強磁性薄膜の結晶粒に、前記ギャ
ップ形成面に平行な(110)面を有する結晶粒と、前記
ギャップ形成面に平行な(200)面を有する結晶粒と、
前記ギャップ形成面に平行な(211)面を有する結晶粒
とが含まれることを特徴とするものである。
(D) Means for Solving the Problems A magnetic head according to the present invention is a magnetic head in which a pair of magnetic core halves are butted against each other through a non-magnetic material to form an operating gap. A pair of magnetic core halves having gap forming surfaces to be butted to form the working gap, an intervening thin film formed on the gap forming surface and made of a non-magnetic oxide, and the intervening thin film. And a ferromagnetic thin film made of a metallic material having ferromagnetism, wherein the ferromagnetic thin film is a thin film having crystal grains grown from just above the surface of the intervening thin film. A crystal grain having a (110) plane parallel to the gap forming surface, and a crystal grain having a (200) plane parallel to the gap forming surface,
A crystal grain having a (211) plane parallel to the gap forming plane is included.

(ホ) 作 用 強磁性酸化物からなるギャップ形成面の上に強磁性薄
膜が形成されると、その成膜初期層は、下地面との結晶
構造の非整合性等のために原子配列が乱れた磁性劣化層
となる可能性が存在する。この発明の磁気ヘッドによれ
ば、強磁性酸化物からなる磁気コア半体と強磁性薄膜と
の間には、非磁性酸化物からなる薄膜が介在している。
この非磁性酸化物薄膜は、強磁性酸化物からなる磁気コ
ア半体表面の原子配列が強磁性金属薄膜の初期層の形成
過程に及ぼす影響を遮断するという効果を有する。その
ため、この非磁性酸化物薄膜上に形成される強磁性金属
薄膜は、その形成初期層から、ギャップ形成面に平行な
(110)面を有する結晶粒と、ギャップ形成面に平行な
(200)面を有する結晶粒と、ギャップ形成面に平行な
(211)面を有する結晶粒とを含む膜として成長する。
したがって、強磁性薄膜の初期層に原子配列が乱れた磁
性劣化層が形成されないので、擬似ギャップ発生の要因
が除去され得る。その結果、擬似ギャップによる磁気ヘ
ッドの再生出力の劣化を抑えることが可能になる。
(E) Operation When a ferromagnetic thin film is formed on the gap forming surface made of ferromagnetic oxide, the initial layer of the film has an atomic arrangement due to the inconsistency of the crystal structure with the underlying surface. There is a possibility of becoming a disordered magnetic deterioration layer. According to the magnetic head of the present invention, a thin film made of a nonmagnetic oxide is interposed between the magnetic core half body made of a ferromagnetic oxide and the ferromagnetic thin film.
This non-magnetic oxide thin film has an effect of blocking the influence of the atomic arrangement on the surface of the magnetic core half body made of a ferromagnetic oxide on the formation process of the initial layer of the ferromagnetic metal thin film. Therefore, the ferromagnetic metal thin film formed on this non-magnetic oxide thin film has crystal grains having (110) planes parallel to the gap formation surface and (200) parallel to the gap formation surface from the initial formation layer. The film is grown as a film including crystal grains having a plane and crystal grains having a (211) plane parallel to the gap formation surface.
Therefore, since the magnetic deterioration layer in which the atomic arrangement is disturbed is not formed in the initial layer of the ferromagnetic thin film, the factor causing the pseudo gap can be eliminated. As a result, it is possible to suppress the deterioration of the reproduction output of the magnetic head due to the pseudo gap.

すなわち、この発明によれば、強磁性酸化物からなる
ギャップ形成面に非磁性酸化物薄膜を形成することによ
って、擬似ギャップ発生の要因となる強磁性金属薄膜初
期層の非晶質化が防止され得る。
That is, according to the present invention, by forming the non-magnetic oxide thin film on the gap forming surface made of the ferromagnetic oxide, it is possible to prevent the amorphization of the ferromagnetic metal thin film initial layer which causes the pseudo gap. obtain.

(ヘ) 実施例 以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明
する。
(F) Example Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図に示すようにMn−Zn系単結晶あるいは多結晶フ
ェライト、Ni−Zn系単結晶あるいは多結晶フェライト、
フェロックスプレーナ等の強磁性酸化物の磁気コア半体
(9a)(9b)のギャップ形成面の上には、非磁性酸化物
薄膜(10)が形成されている。この非磁性酸化物薄膜
(10)は、Si、Ge等の半金属元素を含有する非磁性の酸
化物、あるいはMg、Al、Zn、Ti、Cr、Zr、Mo、Ta、W等
の金属元素を含有する非磁性の酸化物からなり、スパッ
タリング法等の気相急冷法によって厚み数nm〜数10nmの
薄膜として形成される。
As shown in Fig. 1, Mn-Zn single crystal or polycrystalline ferrite, Ni-Zn single crystal or polycrystalline ferrite,
A non-magnetic oxide thin film (10) is formed on the gap forming surface of a magnetic core half body (9a) (9b) of a ferromagnetic oxide such as a ferro sprayer. This non-magnetic oxide thin film (10) is a non-magnetic oxide containing a semi-metal element such as Si or Ge, or a metal element such as Mg, Al, Zn, Ti, Cr, Zr, Mo, Ta or W. It is made of a non-magnetic oxide containing a and is formed as a thin film having a thickness of several nm to several tens nm by a vapor-phase quenching method such as a sputtering method.

この場合、非磁性酸化物薄膜(10)が形成されるギャ
ップ形成面は少なくともエッチング処理が施されること
により、あるいはエッチング処理が施された後、逆スパ
ッタリングにより清浄化されることによって、磁気コア
半体(9a)(9b)を構成する強磁性酸化物の結晶が成長
したままの状態の面を露出していればよい。この非磁性
酸化物薄膜(10)の上には、センダスト系合金、パーマ
ロイ系合金、Fe−Al系合金、Fe−Co系合金、Fe−Si系合
金、Fe−C系合金等の多結晶体からなる強磁性金属薄膜
(11)がスパッタリングにより形成されている。強磁性
金属薄膜(11)間に位置する作動ギャップ(12)は、Si
O2、TiO2、Al2O3、Ta2O5、Ti、Cr等の非磁性薄膜から構
成される。磁気コア半体(9a)(9b)はガラス(13)に
よって接合されている。ガラス(13)によって接合され
た磁気コア半体(9a)(9b)には巻線溝(14)が形成さ
れている。
In this case, the gap forming surface on which the non-magnetic oxide thin film (10) is formed is subjected to at least an etching treatment, or after the etching treatment is performed, the magnetic core is cleaned by reverse sputtering. It suffices if the planes of the as-grown ferromagnetic oxide crystals forming the halves (9a) and (9b) are exposed. On the non-magnetic oxide thin film (10), polycrystalline substances such as sendust alloy, permalloy alloy, Fe-Al alloy, Fe-Co alloy, Fe-Si alloy, Fe-C alloy, etc. A ferromagnetic metal thin film (11) made of is formed by sputtering. The working gap (12) located between the ferromagnetic metal thin films (11) is made of Si.
It is composed of a non-magnetic thin film such as O 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , Ti and Cr. The magnetic core halves (9a) (9b) are joined by glass (13). A winding groove (14) is formed in the magnetic core halves (9a) (9b) joined by the glass (13).

なお、第2図を参照して、強磁性金属薄膜(11)の厚
みは1〜10μm、作動ギャップ(12)の厚みGは0.1〜
1μm、好ましくは0.2〜0.4μmであり、非磁性酸化物
薄膜(10)の厚みδは1nm以上、作動ギャップ長Gの1/1
0以下である。
In addition, referring to FIG. 2, the ferromagnetic metal thin film (11) has a thickness of 1 to 10 μm, and the working gap (12) has a thickness G of 0.1 to 10 μm.
1 μm, preferably 0.2 to 0.4 μm, the thickness δ of the non-magnetic oxide thin film (10) is 1 nm or more, 1/1 of the working gap length G.
It is 0 or less.

次に、この発明に従った磁気ヘッドの製造方法の一実
施例について説明する。
Next, an embodiment of a method of manufacturing a magnetic head according to the present invention will be described.

まず、Mn−Zn系単結晶フェライトよりなる基板のギャ
ップ形成面となる上面にダイヤモンド砥粒等を用いて鏡
面研摩が施される。その後、研摩処理によって形成され
た基板上面の加工変質層がリン酸水溶液等によるエッチ
ング処理によって除去される。エッチング処理されたギ
ャップ形成面を有するフェライト基板(17)は第15図に
示される高真空に保たれたスパッタリング装置内に装着
される。グロー放電によって生じたAr+等の不活性ガス
イオンによりギャップ形成面が逆スパッタリングされる
ことにより、フェライト基板(17)の上面に付着した不
純物が除去される。第15図において、フェライト基板
(17)は負電位に設定された第2プレート(42)に取付
けられ、第1プレート(41)は正電位に設定される。容
器(40)内にはAr、He等の不活性ガスが導入され、第1
プレート(41)と第2プレート(42)には外部交流電源
(43)によって高周波電力が印加される。このようにし
て、スパッタリング装置内に取付けられたフェライト基
板(17)のギャップ形成面(23)に逆スパッタリング処
理が施される。
First, mirror-polishing is performed using diamond abrasive grains or the like on the upper surface that is the gap forming surface of the substrate made of Mn-Zn single crystal ferrite. After that, the work-affected layer on the upper surface of the substrate formed by the polishing treatment is removed by the etching treatment with a phosphoric acid aqueous solution or the like. The ferrite substrate (17) having the etched gap forming surface is mounted in the sputtering apparatus shown in FIG. 15, which is kept in a high vacuum. Impurities adhering to the upper surface of the ferrite substrate (17) are removed by reverse-sputtering the gap forming surface with inert gas ions such as Ar + generated by the glow discharge. In FIG. 15, the ferrite substrate (17) is attached to the second plate (42) set to the negative potential, and the first plate (41) is set to the positive potential. An inert gas such as Ar or He is introduced into the container (40),
High frequency power is applied to the plate (41) and the second plate (42) by the external AC power supply (43). In this way, reverse sputtering is applied to the gap forming surface (23) of the ferrite substrate (17) mounted in the sputtering device.

次に、フェライト基板のギャップ形成面にSiO2よりな
る非磁性酸化物薄膜がスパッタリングによって形成さ
れ、この非磁性酸化物薄膜の上にセンダストよりなる強
磁性金属薄膜がスパッタリングにより形成される。
Next, a nonmagnetic oxide thin film made of SiO 2 is formed on the gap forming surface of the ferrite substrate by sputtering, and a ferromagnetic metal thin film made of sendust is formed on this nonmagnetic oxide thin film by sputtering.

この非磁性酸化物薄膜を形成する工程および強磁性金
属薄膜を形成する工程は、第15図に示されるスパッタリ
ング装置を用いて行なわれる。フェライト基板(17)が
取付けられる第2プレート(42)には正電位が設定さ
れ、フェライト基板(17)に対向する第1プレート(4
1)には、非磁性酸化物薄膜を構成する材料の一例とし
てSiO2、または強磁性金属材料の一例としてセンダスト
からなるターゲットが取付けられ、負電位に設定され
る。フェライト基板(17)の上面にはSiO2からなる非磁
性酸化物薄膜がスパッタリングによって約5nm程度の膜
厚を有するように形成される。
The step of forming the nonmagnetic oxide thin film and the step of forming the ferromagnetic metal thin film are performed using the sputtering apparatus shown in FIG. A positive potential is set on the second plate (42) to which the ferrite substrate (17) is attached, and the first plate (4) facing the ferrite substrate (17).
In 1), a target made of SiO 2 as an example of a material forming the non-magnetic oxide thin film or Sendust as an example of a ferromagnetic metal material is attached and set to a negative potential. A nonmagnetic oxide thin film made of SiO 2 is formed on the upper surface of the ferrite substrate (17) by sputtering so as to have a film thickness of about 5 nm.

さらに、この非磁性酸化物薄膜の上にはセンダストか
らなる強磁性金属薄膜がスパッタリングによって約3μ
m程度の膜厚を有するように形成される。この強磁性金
属薄膜の上には、作動ギャップを構成するSiO2からなる
非磁性薄膜が約0.1μm程度の膜厚を有するように形成
される。
Furthermore, a ferromagnetic metal thin film made of sendust is deposited on the non-magnetic oxide thin film by about 3 μm by sputtering.
It is formed to have a film thickness of about m. On this ferromagnetic metal thin film, a non-magnetic thin film made of SiO 2 that forms the working gap is formed to have a film thickness of about 0.1 μm.

この場合、強磁性金属薄膜の形成条件は、たとえば、
以下のような条件である。高周波マグネトロンスパッタ
リング装置を用いる場合、センダスト合金からなるター
ゲットに対向してフェライトウェハが配置され、5×10
-6Torr以下の高真空に容器(40)が排気された後、Arガ
ス圧5×10-3Torrの雰囲気中において投入電力500WでRF
(Radio Frequency)放電が起こされることにより、ス
パッタリングによる膜形成が行なわれる。一般に、スパ
ッタリング法によって形成されたセンダスト膜は、良好
な軟磁気特性を得るために熱処理を施す必要があると考
えられている。この熱処理は、本発明の対象となる磁気
ヘッドの製造工程においては磁気コア半体が接合される
ためのガラス溶着工程で行なわれる。
In this case, the conditions for forming the ferromagnetic metal thin film are, for example,
The conditions are as follows. When using a high-frequency magnetron sputtering device, the ferrite wafer is placed facing the target made of sendust alloy, and 5 × 10
After the container (40) is evacuated to a high vacuum of -6 Torr or less, RF is applied with an input power of 500 W in an atmosphere of Ar gas pressure of 5 × 10 -3 Torr.
(Radio Frequency) Discharge causes film formation by sputtering. It is generally considered that the sendust film formed by the sputtering method needs to be heat-treated in order to obtain good soft magnetic characteristics. This heat treatment is performed in the glass welding process for joining the magnetic core halves in the process of manufacturing the magnetic head to which the present invention is applied.

第3図(a)および第3図(b)には、上述の工程に
より、フェライト基板(17)の上面に非磁性酸化物薄膜
(10)、強磁性金属薄膜(11)、および作動ギャップを
構成する非磁性薄膜(12)が順に形成された磁気コア半
体部材(9a)(9b)が示されている。
3 (a) and 3 (b), the non-magnetic oxide thin film (10), the ferromagnetic metal thin film (11), and the working gap are formed on the upper surface of the ferrite substrate (17) by the above steps. The magnetic core half members (9a) and (9b) in which the constituent non-magnetic thin films (12) are sequentially formed are shown.

次に、第4図(a)および第4図(b)を参照して、
磁気コア半体部材(9a)(9b)の上面にギャップ突き合
わせ部のトラック幅相当分(15a)(15b)だけ残るよう
にして、トラック幅規制溝(16a)(16b)(16c)(16
d)がイオンビームエッチング等によって形成される。
Next, referring to FIG. 4 (a) and FIG. 4 (b),
The track width regulating grooves (16a) (16b) (16c) (16) are left on the upper surfaces of the magnetic core half members (9a) (9b) by leaving only the track widths (15a) (15b) corresponding to the gap butting portions.
d) is formed by ion beam etching or the like.

さらに、第5図(a)および第5図(b)に示すよう
に、フェライト基板(17)の上面に、磁気コア半体部材
接合用のガラスが充填される溝(13a)(13b)巻線溝
(14)およびガラス棒挿入溝(13c)が回転砥石等を用
いて形成される。その後、それぞれの磁気コア半体部材
(9a)(9b)のギャップ相当部分を突き合わせた状態で
ガラス棒挿入溝(13c)にガラス棒を挿入して押圧加熱
することによって、磁気コア半体部材(9a)(9b)がガ
ラス接合されたブロックが形成される。
Further, as shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b), the upper surface of the ferrite substrate (17) is wound with grooves (13a) (13b) filled with glass for joining magnetic core half members. The line groove (14) and the glass rod insertion groove (13c) are formed using a rotary grindstone or the like. Then, by inserting the glass rod into the glass rod insertion groove (13c) and pressing and heating the magnetic core half members (9a) and (9b) in a state where the gap equivalent portions of the magnetic core half members (9a) and (9b) are abutted, 9a) and (9b) are glass-bonded to form a block.

このようにして、第6図に示されるブロック(18)が
完成する。このブロック(18)をA−A′線に沿ってコ
アブロックに切断し、それぞれのテープ摺接面をR付研
摩する。さらに、各々の切断されたコアブロックをB−
B′線に沿ってスライスすることにより、第1図に示さ
れた本発明の磁気ヘッドチップが完成する。
In this way, the block (18) shown in FIG. 6 is completed. This block (18) is cut into core blocks along the line AA ', and each tape sliding contact surface is R-polished. In addition, B-
By slicing along the line B ', the magnetic head chip of the present invention shown in FIG. 1 is completed.

上記実施例の製造方法に従って、第9図に示すよう
に、Mn−Zn系単結晶フェライトよりなる基板(17)のギ
ャップ形成面(23)の上にSiO2よりなる非磁性酸化物薄
膜(10)を介在させて、センダストよりなる強磁性金属
薄膜(11)を形成する。このときの強磁性金属薄膜(1
1)の各膜厚における、CuKα線を用いたX線回折パター
ンは第7図に示される。ギャップ形成面(23)は、Mn−
Zn系単結晶フェライトの(100)面である。
According to the manufacturing method of the above-mentioned embodiment, as shown in FIG. 9, a non-magnetic oxide thin film (10) made of SiO 2 was formed on the gap forming surface (23) of the substrate (17) made of Mn-Zn single crystal ferrite. ) Is interposed to form a ferromagnetic metal thin film (11) made of sendust. At this time, the ferromagnetic metal thin film (1
The X-ray diffraction pattern using CuKα ray for each film thickness of 1) is shown in FIG. 7. The gap forming surface (23) is Mn−
This is the (100) plane of Zn-based single crystal ferrite.

第7図に示されるX線回折パターンによれば、成膜下
地面であるフェライト基板(17)のギャップ形成面(2
3)と平行な面が、強磁性金属薄膜(11)を構成するセ
ンダストにおいて体心立方晶の(110)面、(200)面、
(211)面であることを示す角度44.6゜(約45゜)、65.
0゜(約65゜)、82.4゜(約82゜)でそれぞれピークが
検出される。この場合、厚み200Å(20nm)のセンダス
トよりなる強磁性金属薄膜を形成したときにおいても、
体心立方晶の各結晶面に対応するX線回折ピークが検出
される。このことは、5nm程度の膜厚を有するSiO2より
なる非磁性酸化物薄膜(10)を介在させると、その非磁
性酸化物薄膜(10)の表面のすぐ上から、結晶性を有す
る強磁性金属薄膜(11)が形成されることを意味する。
第9図に示されるように、この強磁性金属薄膜(11)
は、成膜下地面としてのギャップ形成面(23)にほぼ平
行な面として、(110)面を有する結晶粒(19)と、(2
00)面を有する結晶粒(20)と、(211)面を有する結
晶粒(21)とを含む結晶配向を有する体心立方晶系の多
結晶体から構成される。
According to the X-ray diffraction pattern shown in FIG. 7, the gap forming surface (2
The planes parallel to 3) are (110) planes and (200) planes of body-centered cubic in Sendust that constitutes the ferromagnetic metal thin film (11).
An angle of 44.6 ° (approx. 45 °) indicating that it is the (211) plane, 65.
Peaks are detected at 0 ° (about 65 °) and 82.4 ° (about 82 °). In this case, even when a ferromagnetic metal thin film made of sendust with a thickness of 200 Å (20 nm) is formed,
X-ray diffraction peaks corresponding to each crystal face of the body-centered cubic crystal are detected. This means that when a non-magnetic oxide thin film (10) made of SiO 2 having a film thickness of about 5 nm is interposed, a ferromagnetic ferromagnetic material having crystallinity is formed immediately above the surface of the non-magnetic oxide thin film (10). This means that a metal thin film (11) is formed.
As shown in FIG. 9, this ferromagnetic metal thin film (11)
Is a crystal grain (19) having a (110) plane as a plane substantially parallel to the gap forming plane (23) as a film-forming base plane, and (2
It is composed of a body-centered cubic polycrystal having a crystal orientation including a crystal grain (20) having a (00) plane and a crystal grain (21) having a (211) plane.

比較例として、上記実施例の製造方法を用いて、第10
図に示すように、Mn−Zn系単結晶フェライトよりなる基
板(17)のギャップ形成面(23)として(100)面の上
に、非磁性酸化物薄膜を介在させずに直接、センダスト
よりなる強磁性金属薄膜(22)が形成される。このとき
の強磁性金属薄膜の各膜厚におけるCuKα線を用いたX
線回折パターンは第8図に示される。
As a comparative example, using the manufacturing method of the above example, the tenth
As shown in the figure, the substrate (17) made of Mn-Zn single crystal ferrite is composed of sendust directly on the (100) plane as the gap forming surface (23) without interposing a non-magnetic oxide thin film. A ferromagnetic metal thin film (22) is formed. X using CuKα ray at each thickness of the ferromagnetic metal thin film at this time
The line diffraction pattern is shown in FIG.

この第8図に示されるX線回折パターンによれば、成
膜下地面であるフェライト基板(17)のギャップ形成面
(23)とほぼ平行な面が、強磁性金属薄膜(22)を構成
するセンダストにおいて体心立方晶の(110)面である
ことを示す角度44.6゜(約45゜)でのみ、ピークが検出
されている。また、フェライト基板(17)の上に直接形
成されるセンダストよりなる強磁性金属薄膜(22)の初
期層(22a)は、第10図に示されるように下地面との結
晶構造の非整合性等のために原子配列が乱れた磁性劣化
層、すなわち、非晶質層として形成される。そのため、
上記の初期層(22a)に相当する厚み500Å(50nm)以下
のセンダスト膜が形成される場合、第8図に示されるよ
うに特定の結晶面に対応するピークは検出されない。こ
のセンダスト/フェライト界面部における非晶質層の存
在が擬似ギャップ発生の要因となる。すなわち、フェラ
イト基板(17)の上に直接形成された強磁性金属薄膜
(22)は、第10図に示されるように、非晶質層からなる
初期層(22a)と、成膜下地面としてのギャップ形成面
(23)にほぼ平行な(110)面を有する結晶粒(19)の
みよりなる結晶配向を持つ体心立方晶系の多結晶体とか
ら構成される。
According to the X-ray diffraction pattern shown in FIG. 8, the plane substantially parallel to the gap forming surface (23) of the ferrite substrate (17) which is the film-forming underlayer constitutes the ferromagnetic metal thin film (22). In Sendust, a peak is detected only at an angle of 44.6 ° (about 45 °), which indicates a body-centered cubic (110) plane. Further, as shown in FIG. 10, the initial layer (22a) of the ferromagnetic metal thin film (22) made of sendust formed directly on the ferrite substrate (17) has an inconsistent crystal structure with the underlying surface. For example, it is formed as a magnetic deterioration layer in which the atomic arrangement is disturbed, that is, an amorphous layer. for that reason,
When a sendust film having a thickness of 500 Å (50 nm) or less corresponding to the initial layer (22a) is formed, a peak corresponding to a specific crystal plane is not detected as shown in FIG. The presence of the amorphous layer at the sendust / ferrite interface causes the generation of the pseudo gap. That is, as shown in FIG. 10, the ferromagnetic metal thin film (22) directly formed on the ferrite substrate (17) is used as an initial layer (22a) composed of an amorphous layer and a film-forming base surface. A body-centered cubic polycrystal having a crystal orientation consisting only of crystal grains (19) having a (110) plane substantially parallel to the gap forming surface (23).

なお第9図および第10図において、強磁性金属薄膜
(11)および(22)の膜厚をさらに1μm以上に増加さ
せても、第7図および第8図に示されるピークの位置は
変わらなかった。
In FIGS. 9 and 10, even if the film thickness of the ferromagnetic metal thin films (11) and (22) is further increased to 1 μm or more, the positions of the peaks shown in FIGS. 7 and 8 do not change. It was

第11図は、本発明に従った磁気ヘッドとして、フェラ
イトのギャップ形成面上にSiO2膜を介在させてセンダス
ト膜を形成した磁気ヘッドを用いて測定された再生出力
の周波数特性曲線を示す図である。また、第12図は、比
較例として、フェライトのギャップ形成面上に直接、セ
ンダスト膜を形成した磁気ヘッドを用いて測定された再
生出力の周波数特性曲線を示す図である。両者の磁気ヘ
ッドにおいて、ギャップ長Gは、0.25μm、センダスト
膜の厚みは3μmであり、フェライトとセンダスト膜と
の間に介在させられるSiO2膜の厚みは50Å(5nm)であ
った。周波数特性曲線の測定は、保持力Hcが1400エルス
テッド(Oe)程度のメタルテープを用い、ヘッド−テー
プ間相対走行速度v=3.1m/sの条件で0.1〜10MHzの周波
数スイープ信号を記録し、再生出力がスペクトラムアナ
ライザを用いて検出されることにより行なわれた。
FIG. 11 is a diagram showing a frequency characteristic curve of reproduction output measured using a magnetic head according to the present invention in which a sendust film is formed by interposing an SiO 2 film on a ferrite gap forming surface. Is. As a comparative example, FIG. 12 is a diagram showing a frequency characteristic curve of reproduction output measured by using a magnetic head having a sendust film formed directly on the gap forming surface of ferrite. In both magnetic heads, the gap length G was 0.25 μm, the thickness of the sendust film was 3 μm, and the thickness of the SiO 2 film interposed between the ferrite and the sendust film was 50Å (5 nm). The measurement of the frequency characteristic curve uses a metal tape having a holding force Hc of about 1400 Oersted (Oe), and records a frequency sweep signal of 0.1 to 10 MHz under the condition of the relative traveling speed v between head and tape v = 3.1 m / s, The reproduction output was detected by using a spectrum analyzer.

第12図から明らかなように、センダスト膜をフェライ
トのギャップ形成面上に直接形成した磁気ヘッドを用い
れば、再生出力の周波数特性に大きなうねりが生じてい
る。これに対し、第11図に示されるように、この発明の
磁気ヘッドを用いれば、再生出力の周波数特性にほとん
どうねりが生じない。このことは、フェライトのギャッ
プ形成面上にSiO2膜を介在させてセンダスト膜を形成す
ることによって、磁性劣化層として擬似ギャップ発生の
要因となるセンダスト膜初期層の非晶質化が防止され得
るものと考えられる。
As is clear from FIG. 12, when a magnetic head in which the sendust film is formed directly on the ferrite gap forming surface is used, a large undulation occurs in the frequency characteristic of the reproduction output. On the other hand, as shown in FIG. 11, when the magnetic head of the present invention is used, the frequency characteristics of the reproduction output hardly undulate. This means that by forming the sendust film with the SiO 2 film interposed on the ferrite gap forming surface, it is possible to prevent the initial layer of the sendust film, which causes a pseudo gap as a magnetic deterioration layer, from being amorphized. It is considered to be a thing.

また、この発明の一実施例に従った磁気ヘッドは、第
9図に示されるように、センダストよりなる強磁性金属
薄膜(11)が互いに異なる結晶方位を持つ3種類の結晶
粒(19)(20)(21)を含んでいる。そのため、上述の
製造方法において第4図(a)および第4図(b)に示
されるイオンビームエッチング処理が施されるとき、強
磁性金属薄膜(11)の結晶粒(19)(20)(21)のエッ
チング速度の差に起因して、エッチング終了時に露出さ
せられるフェライト基板(17)の表面に凹凸が発生す
る。製造工程中において、この凹凸を検知することによ
り、フェライト基板(17)上に形成された強磁性金属薄
膜(11)が3種類の結晶粒(19)(20)(21)を含むか
どうかについて検査することが可能になる。
In the magnetic head according to the embodiment of the present invention, as shown in FIG. 9, the ferromagnetic metal thin film (11) made of sendust has three kinds of crystal grains (19) (having different crystal orientations). 20) and (21) are included. Therefore, when the ion beam etching treatment shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b) is performed in the above-mentioned manufacturing method, the crystal grains (19) (20) (of the ferromagnetic metal thin film (11) ( Due to the difference in the etching rate of 21), unevenness occurs on the surface of the ferrite substrate (17) exposed at the end of etching. Whether or not the ferromagnetic metal thin film (11) formed on the ferrite substrate (17) contains three kinds of crystal grains (19) (20) (21) by detecting this unevenness during the manufacturing process. It becomes possible to inspect.

第13図は、上記実施例に従ってSiO2よりなる非磁性酸
化物薄膜(10)を介在させてセンダストよりなる強磁性
金属薄膜(11)を1μmの膜厚で形成した後、強磁性金
属薄膜(11)をイオンビームエッチング処理を用いて除
去したときのフェライト基板(17)の表面粗さの測定結
果を示す図である。また、第14図は、比較例として、フ
ェライト基板(17)の上に直接、センダストよりなる強
磁性金属薄膜(22)を1μmの膜厚で形成した後、その
強磁性金属薄膜(22)をイオンビームエッチング処理を
用いて除去したときのフェライト基板(17)の表面粗さ
の測定結果を示す図である。これらの図を参照して、上
記実施例に従って強磁性金属薄膜(11)を形成した後、
イオンビームエッチング処理を施した方(第13図)が、
比較例(第14図)に比べて、フェライト基板(17)の表
面粗さが大きいことが理解される。なお、実際に磁気ヘ
ッドを製造する場合、一般に強磁性金属薄膜の膜厚は1
μm以上であり、上述の表面粗さの違いは目視により明
確に区別され得る。
FIG. 13 shows that a ferromagnetic metal thin film (11) made of sendust having a thickness of 1 μm is formed by interposing a non-magnetic oxide thin film (10) made of SiO 2 according to the above embodiment, and then a ferromagnetic metal thin film ( It is a figure which shows the measurement result of the surface roughness of a ferrite substrate (17) when removing 11) using an ion beam etching process. In addition, FIG. 14 shows, as a comparative example, a ferromagnetic metal thin film (22) made of sendust having a thickness of 1 μm is formed directly on a ferrite substrate (17), and then the ferromagnetic metal thin film (22) is formed. It is a figure which shows the measurement result of the surface roughness of a ferrite substrate (17) when it removes using an ion beam etching process. Referring to these figures, after forming the ferromagnetic metal thin film (11) according to the above-mentioned embodiment,
Those who have undergone ion beam etching (Fig. 13)
It is understood that the surface roughness of the ferrite substrate (17) is larger than that of the comparative example (Fig. 14). When actually manufacturing a magnetic head, the thickness of the ferromagnetic metal thin film is generally 1
It is at least μm, and the above-mentioned difference in surface roughness can be clearly distinguished by visual observation.

(ト) 発明の効果 以上のように本発明によれば、強磁性酸化物からなる
磁気コア半体のギャップ形成面上に非磁性酸化物薄膜を
介在させて強磁性金属薄膜を形成することによって、擬
似ギャップの発生要因となる強磁性薄膜初期層の非晶質
化が防止され得る。その結果、擬似ギャップによる磁気
ヘッドの再生出力の劣化を極力小さくすることが可能に
なる。
(G) Effect of the Invention As described above, according to the present invention, a ferromagnetic metal thin film is formed by interposing a nonmagnetic oxide thin film on the gap forming surface of a magnetic core half body made of a ferromagnetic oxide. Amorphization of the ferromagnetic thin film initial layer, which causes a pseudo gap, can be prevented. As a result, it is possible to minimize the deterioration of the reproduction output of the magnetic head due to the pseudo gap.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図乃至第6図は本発明に係り、第1図は磁気ヘッド
の外観を示す斜視図、第2図は磁気ヘッドのテープ摺接
面の要部を示す図、第3図、第4図、第5図及び第6図
は夫々磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図である。第7
図及び第8図は夫々強磁性金属薄膜のX線回折パターン
を示す図、第9図及び第10図は強磁性金属薄膜の結晶構
造を示す図、第11図及び第12図は夫々再生出力の周波数
特性を示す図、第13図及び第14図は夫々表面粗さの測定
結果を示す図、第15図はスパッタリング装置の概略を示
す図である。第16図及び第17図は夫々従来の磁気ヘッド
の外観を示す斜視図、第18図は再生信号を示す図、第19
図は再生出力の周波数特性を示す図である。 (9a)(9b)……磁気コア半体、(10)……非磁性酸化
物薄膜(介在薄膜)、(11)……強磁性金属薄膜、(1
2)……作動ギャップ、(19)(20)(21)……結晶
粒、(23)……成膜下地面
1 to 6 relate to the present invention, FIG. 1 is a perspective view showing the appearance of a magnetic head, and FIG. 2 is a view showing the main part of a tape sliding contact surface of the magnetic head, FIG. 3, FIG. FIGS. 5, 5 and 6 are perspective views showing a method of manufacturing a magnetic head, respectively. Seventh
Figures 8 and 9 show the X-ray diffraction pattern of the ferromagnetic metal thin film, Figures 9 and 10 show the crystal structure of the ferromagnetic metal thin film, and Figures 11 and 12 show the reproduction output. FIG. 13 is a diagram showing the frequency characteristics of FIG. 13, FIG. 13 and FIG. 14 are diagrams showing the surface roughness measurement results, and FIG. 16 and 17 are perspective views showing the external appearance of a conventional magnetic head, FIG. 18 is a view showing a reproduced signal, and FIG.
The figure shows the frequency characteristics of the reproduction output. (9a) (9b) ... magnetic core half, (10) ... non-magnetic oxide thin film (intervening thin film), (11) ... ferromagnetic metal thin film, (1
2) …… Actuation gap, (19) (20) (21) …… Crystal grains, (23) …… Deposited substrate surface

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山野 孝雄 大阪府守口市京阪本通2丁目18番地 三洋 電機株式会社内 (72)発明者 伊野 一夫 大阪府守口市京阪本通2丁目18番地 三洋 電機株式会社内 (72)発明者 石原 宏三 大阪府守口市京阪本通2丁目18番地 三洋 電機株式会社内 (72)発明者 清水 司 大阪府守口市京阪本通2丁目18番地 三洋 電機株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−192006(JP,A) 特開 平1−220208(JP,A) 特開 昭64−7308(JP,A) 特開 昭61−74110(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Takao Yamano 2-18 Keihanhondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Kazuo Ino 2-18-2 Keihanhondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric (72) Inventor Kozo Ishihara 2-18 Keihan Hondori, Moriguchi City, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Tsukasa Shimizu 2-18 Keihan Hondori, Moriguchi City, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (56) References JP-A-2-192006 (JP, A) JP-A 1-220208 (JP, A) JP-A 64-7308 (JP, A) JP-A 61-74110 (JP, A)

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】1対の磁気コア半体が非磁性材料を介して
突き合わせられて作動ギャップを構成する磁気ヘッドで
あって、 強磁性酸化物からなり、前記作動ギャップを形成するた
めに突き合わせられるべきギャップ形成面を有する1対
の磁気コア半体と、 前記ギャップ形成面の上に形成され、非磁性酸化物から
なる介在薄膜と、 前記介在薄膜の上に形成され、強磁性を有する金属材料
からなる強磁性薄膜とを備え、 前記強磁性薄膜が前記介在薄膜の表面のすぐ上から成長
した結晶粒を有する薄膜であり、 前記強磁性薄膜の結晶粒に、前記ギャップ形成面に平行
な(110)面を有する結晶粒と、前記ギャップ形成面に
平行な(200)面を有する結晶粒と、前記ギャップ形成
面に平行な(211)面を有する結晶粒とが含まれること
を特徴とする磁気ヘッド。
1. A magnetic head in which a pair of magnetic core halves are butted through a non-magnetic material to form an operating gap, the magnetic head being made of a ferromagnetic oxide and being butted to form the operating gap. Pair of magnetic core halves having a gap forming surface, an intervening thin film formed on the gap forming surface and made of a non-magnetic oxide, and a metallic material having ferromagnetism formed on the intervening thin film. And a ferromagnetic thin film comprising a ferromagnetic thin film having crystal grains grown from immediately above the surface of the intervening thin film, wherein the ferromagnetic thin film is parallel to the gap forming surface. A grain having a (110) face, a grain having a (200) face parallel to the gap forming face, and a grain having a (211) face parallel to the gap forming face. Magnetic De.
【請求項2】前記介在薄膜の厚みが1nm以上で、かつ前
記作動ギャップの厚みの10分の1以下であることを特徴
とする請求項(1)記載の磁気ヘッド。
2. The magnetic head according to claim 1, wherein the thickness of the intervening thin film is 1 nm or more and 1/10 or less of the thickness of the working gap.
【請求項3】前記介在薄膜がSiを含有する酸化物からな
ることを特徴とする請求項(1)記載の磁気ヘッド。
3. The magnetic head according to claim 1, wherein the intervening thin film is made of an oxide containing Si.
【請求項4】前記強磁性薄膜の結晶粒が体心立方晶系の
結晶構造を有することを特徴とする請求項(1)記載の
磁気ヘッド。
4. The magnetic head according to claim 1, wherein the crystal grains of the ferromagnetic thin film have a body-centered cubic crystal structure.
【請求項5】前記強磁性酸化物が単結晶フェライトであ
ることを特徴とする請求項(1)記載の磁気ヘッド。
5. The magnetic head according to claim 1, wherein the ferromagnetic oxide is single crystal ferrite.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6174110A (en) * 1984-09-19 1986-04-16 Hitachi Maxell Ltd Magnetic head
JPS647308A (en) * 1987-02-23 1989-01-11 Sankyo Seiki Seisakusho Kk Magnetic head
JPH01220208A (en) * 1988-02-29 1989-09-01 Sony Corp Production of magnetic head
JPH02192006A (en) * 1988-11-30 1990-07-27 Mitsumi Electric Co Ltd Magnetic head and production thereof

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