JPH08274614A - Semiconductor integrated circuit and its test method - Google Patents
Semiconductor integrated circuit and its test methodInfo
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- JPH08274614A JPH08274614A JP7072931A JP7293195A JPH08274614A JP H08274614 A JPH08274614 A JP H08274614A JP 7072931 A JP7072931 A JP 7072931A JP 7293195 A JP7293195 A JP 7293195A JP H08274614 A JPH08274614 A JP H08274614A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路およびそ
の試験方法に係わり、特に高駆動能力の出力バッフアの
出力電流測定時の電流誤差を改善した半導体集積回路お
よびその試験方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit and a method for testing the same, and more particularly to a semiconductor integrated circuit and a method for testing the semiconductor integrated circuit in which a current error when measuring an output current of an output buffer having a high driving capability is improved.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、半導体集積回路の高集積化、多機
能化に伴って入出力端子の多端子化が進むとともに、こ
れらの端子に接続される入出力バッファも種々の機能を
備えたものが要求されてきた。そのため、例えば半導体
集積回路をテストする際にその内部をテストモードに移
行させた状態で内部回路機能を確認し、かつ半導体集積
回路の外部回路とインタフェースする入出力バッファの
電気的特性も確認する必要があり、これらの入出力バッ
ファの電気的特性測定もそれぞれの機能に則した方法が
工夫されている。2. Description of the Related Art In recent years, the number of input / output terminals has increased along with the high integration and multifunction of semiconductor integrated circuits, and the input / output buffers connected to these terminals also have various functions. Has been requested. Therefore, for example, when testing a semiconductor integrated circuit, it is necessary to confirm the internal circuit function in a state where the inside of the semiconductor integrated circuit is shifted to the test mode, and also to confirm the electrical characteristics of the input / output buffer that interfaces with the external circuit of the semiconductor integrated circuit. Therefore, the method for measuring the electrical characteristics of these input / output buffers is devised in accordance with their respective functions.
【0003】この種の入出力バッファのうち従来の低駆
動用の出力バッファの一例をブロック図で示した図4
(a)を参照すると、この出力バッファB10は入力端
21および出力端22を有し、入力端21に供給された
信号を同極性で出力端22から出力する。この出力バッ
ファB10の駆動能力は一般的には外部に接続される半
導体装置の入力バッファを駆動できる出力電流が取り出
せる程度に設計されている。FIG. 4 is a block diagram showing an example of a conventional low-driving output buffer of this type of input / output buffer.
Referring to (a), the output buffer B10 has an input end 21 and an output end 22, and outputs the signal supplied to the input end 21 from the output end 22 with the same polarity. The drive capability of the output buffer B10 is generally designed so that an output current capable of driving the input buffer of the semiconductor device connected to the outside can be taken out.
【0004】したがって、外部に接続される半導体装置
の入力回路が特に大電流を必要とする構成になっている
場合の要求として、この出力バッファから大きな出力電
流を引きだせるように出力を構成するトランジスタのサ
イズを大きく設計する。Therefore, as a demand when the input circuit of the semiconductor device connected to the outside is configured to require a particularly large current, a transistor forming an output so that a large output current can be drawn from this output buffer. Design a large size.
【0005】一方、ゲートアレイ構造を有する半導体集
積回路においては、あらかじめ基本となるゲート(例え
ばNAND,NOR等)をチップ上に列状に配置してお
き、すべての論理をある限られた種類の基本ゲートで表
現しながら設計をすすめるが、このとき、チップ周辺部
には入力、出力バッファもあらかじめ配置されている。On the other hand, in a semiconductor integrated circuit having a gate array structure, basic gates (for example, NAND, NOR, etc.) are arranged in a row on a chip in advance, and all logics are limited to a certain limited type. The design is advanced by expressing it with a basic gate, but at this time, the input and output buffers are also arranged in advance in the peripheral portion of the chip.
【0006】しかしながら、前述した出力電流の大きな
出力バッファを限られた周辺部の領域内に多数配置して
おくことは、レイアウトの効率から考えても無駄な面積
を要するので、特別な場合を除き、出力電流が比較的小
さな出力バッファをあらかじめ配置してある。However, arranging a large number of output buffers having a large output current in the limited peripheral region requires a wasteful area from the viewpoint of layout efficiency, and therefore, except for a special case. An output buffer with a relatively small output current is arranged in advance.
【0007】これらの出力バッファを必要に応じて大電
流出力を必要とする出力バッファに転用するのが一般的
である。その場合の従来の低駆動用の出力バッファを用
いた高駆動出力バッファの一例をブロック図で示した図
4(b)を参照すると、出力電流が比較的小さな出力バ
ッファB11〜B1nが、所望の出力電流に対応させて
複数個並列接続されている。Generally, these output buffers are diverted to output buffers requiring a large current output as needed. Referring to FIG. 4B, which is a block diagram showing an example of a high drive output buffer using a conventional low drive output buffer in that case, the output buffers B11 to B1n having a relatively small output current are desired. Multiple units are connected in parallel according to the output current.
【0008】すなわち、入力端子23に出力バッファB
11〜B1nの入力端が共通接続され、それぞれの出力
端は出力端子24に共通接続されて構成される。That is, the output buffer B is connected to the input terminal 23.
Input terminals 11 to B1n are commonly connected, and respective output terminals are commonly connected to the output terminal 24.
【0009】ここで、入力端子23に信号が供給される
と出力バッファB11〜B1nにそれぞれ入力され、そ
れぞれの出力の合計出力が出力端子24に出力されの
で、大きな出力電流を取り出しても、個々の出力バッフ
ァB11〜B1nにはその個数分に分割された電流しか
流れないので、比較的小さい駆動能力の出力バッファだ
けを配置しておけばよいことになる。Here, when a signal is supplied to the input terminal 23, it is input to the output buffers B11 to B1n, respectively, and the total output of the respective outputs is output to the output terminal 24. Therefore, even if a large output current is taken out, Since only the divided currents flow into the output buffers B11 to B1n, the output buffers having a relatively small drive capacity need to be arranged.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のゲート
アレイ方式における半導体集積回路に搭載される出力バ
ッファは、その半導体集積回路の電気的特性試験を実施
する場合において、試験装置、例えばICテスターと彼
試験用半導体集積回路とが電気的に接続される。The output buffer mounted on the semiconductor integrated circuit in the conventional gate array system described above is used as a test device, for example, an IC tester, when an electrical characteristic test of the semiconductor integrated circuit is carried out. He is electrically connected to the test semiconductor integrated circuit.
【0011】この電気的特性試験のまず最初に実行され
るのは、半導体集積回路が半導体ウェハ上に分割前のチ
ップが形成された状態で行なわれる。まだウェハ状であ
るため、ICテスターと半導体集積回路との接続は、当
然試験時のみの一時的な接続であるから、ICテスター
のテストヘッド部に装着されたプローバの金属探針を、
チップ周辺部に配置された出力バッファの出力端が接続
される外部端子電極に接触させた状態である。The first step of this electrical characteristic test is carried out in the state where the semiconductor integrated circuit has the chips before division formed on the semiconductor wafer. Since the connection between the IC tester and the semiconductor integrated circuit is a temporary connection only during the test because it is still in the form of a wafer, the metal probe of the prober attached to the test head of the IC tester is
This is a state in which the output terminal of the output buffer arranged in the peripheral portion of the chip is in contact with the external terminal electrode to be connected.
【0012】この金属探針を接触させる接続では1〜5
Ω程度の接触抵抗が生じる。この接触抵抗により、出力
バッファに大電流を流すと、この大電流は出力バッフア
から金属探針を通りICテスターおよびチップの共通接
地電位に流れることになる。The connection for contacting the metal probe is 1 to 5
Contact resistance of about Ω occurs. When a large current flows through the output buffer due to this contact resistance, this large current flows from the output buffer through the metal probe to the common ground potential of the IC tester and the chip.
【0013】そのため、金属探針の接触抵抗により大き
な電圧降下が生じ、この電圧降下分が測定誤差となる欠
点があった。Therefore, there is a drawback that a large voltage drop occurs due to the contact resistance of the metal probe, and this voltage drop amount causes a measurement error.
【0014】本発明の目的は、上述の欠点に鑑みなされ
たものであり、ICテスターによる電気的特性測定時
に、半導体集積回路の電極に接触される金属探針の接触
抵抗によって生しる、高能力出力バッファの測定誤差を
低減した半導体集積回路およびその試験方法を提供する
ことにある。The object of the present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks, and is high due to the contact resistance of a metal probe contacting an electrode of a semiconductor integrated circuit at the time of measuring an electrical characteristic by an IC tester. An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit in which the measurement error of the capacity output buffer is reduced and a test method thereof.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
の特徴は、内部回路から出力される信号を出力端子を介
して外部へ供給する出力バッファ群を有し、これらのバ
ッファ群が駆動能力の小さい低駆動バッファ群とこの低
駆動バッファを複数個組み合せて駆動能力を大きくした
高駆動バッファ群とからなる半導体集積回路において、
前記低駆動出力バッファ群の少なくとも一部はテスト制
御端子を備え、この端子に供給される所定のテスト信号
の能動状態に応答してハイインピーダンス出力状態にな
る3値出力バッファからなり、この3値出力バッファ複
数個の入力端が互に共通接続されかつそれぞれの出力端
も互に共通接続されて前記高駆動出力バッファが構成さ
れることにある。The semiconductor integrated circuit of the present invention is characterized in that it has an output buffer group for supplying a signal output from an internal circuit to the outside through an output terminal, and these buffer groups have drivability. In a semiconductor integrated circuit consisting of a low drive buffer group having a small number and a high drive buffer group in which a plurality of the low drive buffers are combined to increase the drive capability,
At least a part of the low drive output buffer group is provided with a test control terminal, and comprises a ternary output buffer which is in a high impedance output state in response to an active state of a predetermined test signal supplied to the terminal. A plurality of input terminals of the output buffer are commonly connected to each other and their output terminals are commonly connected to each other to form the high drive output buffer.
【0016】本発明の半導体集積回路の試験方法の特徴
は、内部回路から出力される信号を出力端子を介して外
部へ供給する出力バッファ群が駆動能力の小さい低駆動
バッファ群とこの低駆動バッファを複数個組み合せて駆
動能力を大きくした高駆動バッファ群とからなり、この
高駆動出力バッファの出力電流を、前記出力端子および
接地電位間に挿入された試験装置で測定する半導体集積
回路の試験方法において、前記低駆動出力バッファ群の
少なくとも一部はテスト制御端子を備え、この端子に供
給されるテスト信号の能動状態に応答してハイインピー
ダンス出力状態になる3値出力バッファからなり、前記
高駆動出力バッファはこの3値出力バッファ複数個の入
力端が互に共通接続されかつそれぞれの出力端も互に共
通接続されてたテスト制御機能付の高駆動出力バッファ
からなり、この高駆動出力バッファの出力電流測定は、
この高駆動出力バッファを構成する前記3値出力バッフ
ァ群のうちの1つに前記テスト信号を能動状態にして供
給し、残りの前記3値出力バッファ群には前記テスト信
号を非能動状態にして供給して前記出力端子から流れる
出る前記1つの3値出力バッファの出力電流を測定し、
この測定動作を残りの前記3値出力バッファのそれぞれ
に順次実行して、それぞれの前記出力電流を測定するこ
とにある。The semiconductor integrated circuit testing method of the present invention is characterized in that the output buffer group for supplying the signal output from the internal circuit to the outside through the output terminal has a low drive capacity and a low drive buffer group. A method for testing a semiconductor integrated circuit, which comprises a high-driving buffer group having a combination of a plurality of high-driving buffers, and the output current of the high-driving output buffer is measured by a test device inserted between the output terminal and the ground potential. In at least a part of the low drive output buffer group, a test control terminal is provided, which comprises a ternary output buffer that is in a high impedance output state in response to an active state of a test signal supplied to the terminal. The output buffer is a ternary output buffer having a plurality of input terminals commonly connected to each other and each output terminal commonly connected to each other. Made of a high drive output buffer Mounting control functions, output current measurement of the high drive output buffer,
The test signal is made active and supplied to one of the three-value output buffer groups forming the high drive output buffer, and the test signal is made inactive in the remaining three-value output buffer groups. Measuring the output current of the one ternary output buffer that is supplied and flows out of the output terminal;
This measurement operation is sequentially performed on each of the remaining three-value output buffers to measure each output current.
【0017】[0017]
【実施例】まず、本発明の一実施例について図面を参照
しながら説明する。First, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
【0018】図1(a)は一実施例の出力バッファおよ
びその測定回路の要部を示すブロック図であり、図1
(b)は出力バッファの構成回路の一例を示す回路図で
ある。FIG. 1A is a block diagram showing the main part of an output buffer and its measuring circuit according to one embodiment.
(B) is a circuit diagram showing an example of a configuration circuit of an output buffer.
【0019】図1を参照すると、本実施例による半導体
集積回路の高駆動出力バッファは、複数個の低駆動出力
バッファB1〜Bnを備え、これらの低駆動出力バッフ
ァB1〜Bnはそれぞれテスト制御端子T1〜Tnを有
し、この端子に供給される所定のテスト信号の能動状態
または非能動状態に応答してハイインピーダンス出力状
態または論理レベルのハイレベルおよびロウレベルの一
方状態になる低駆動能力バッファ(以下、3状態出力バ
ッファと称す)B1〜Bnからなり、この3状態出力バ
ッファ複数個の入力端が互に共通接続されかつそれぞれ
の出力端も互に共通接続されて高駆動出力バッファ1が
構成されている。Referring to FIG. 1, the high drive output buffer of the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment comprises a plurality of low drive output buffers B1 to Bn, and these low drive output buffers B1 to Bn are test control terminals. A low drivability buffer which has T1 to Tn and becomes a high impedance output state or one of a logic level high level and low level in response to an active state or a non-active state of a predetermined test signal supplied to this terminal ( Hereinafter, referred to as tri-state output buffers) B1 to Bn, and a plurality of tri-state output buffers have their input terminals commonly connected to each other and their output terminals commonly connected to each other to form a high drive output buffer 1. Has been done.
【0020】3状態出力バッファB1〜Bnは、公知の
回路構成であり、例えば、電源電位および接地電位間に
Pチャネル型MOSトランジスタQ1およびNチャネル
型MOSトランジスタQ2が直列接続され、Pチャネル
型MOSトランジスタQ1のゲート電極には2入力NA
NDゲート素子11が、Nチャネル型MOSトランジス
タQ1のゲート電極には2入力NANDゲート素子12
がそれぞれ接続され、これら2つのゲート素子11,1
2の各一方の入力端は入力端子2に共通接続され、NA
NDゲート素子11の他方の入力端はテスト信号線がイ
ンバータ13を介して接続され、NORゲート素子12
の他方の入力端はテスト信号線が直接接続されて構成さ
れている。The three-state output buffers B1 to Bn have a known circuit configuration. For example, a P-channel type MOS transistor Q1 and an N-channel type MOS transistor Q2 are connected in series between a power supply potential and a ground potential to form a P-channel type MOS transistor. The gate electrode of the transistor Q1 has a 2-input NA
The ND gate element 11 has a 2-input NAND gate element 12 at the gate electrode of the N-channel MOS transistor Q1.
Are connected to each other, and these two gate elements 11 and 1 are connected.
Each one input terminal of 2 is commonly connected to the input terminal 2, and NA
A test signal line is connected to the other input terminal of the ND gate element 11 via an inverter 13, and the NOR gate element 12
The other input end of is connected to the test signal line directly.
【0021】上述した構成による高駆動出力バッファ1
の通常の高駆動動作状態では、テスト制御端子T1〜T
nをロウレベルにして3値状態出力バッファB1〜Bn
がそれぞれ同時に入力信号を出力端子3に出力する。こ
のときの出力電流はそれぞれのバッファの出力電流の合
計値が取り出される。High drive output buffer 1 having the above configuration
In the normal high drive operation state of the test control terminals T1 to T
n is set to the low level, and three-valued state output buffers B1 to Bn
Simultaneously output the input signals to the output terminal 3. As the output current at this time, the total value of the output currents of the respective buffers is taken out.
【0022】それぞれのテスト制御端子T1〜Tnはそ
れぞれ独立に制御されるから、1つの高駆動出力バッフ
ァ1を構成する複数個の3状態出力ハッファB1〜Bn
のうち、任意の3状態出力バッファのテスト制御端子を
ハイレベルにすると、その3状態出力バッファのみをハ
イインピーダンス状態にし、残りの3状態出力バッファ
だけから出力信号を出力させることが出来る。Since each of the test control terminals T1 to Tn is independently controlled, a plurality of three-state output buffers B1 to Bn forming one high drive output buffer 1 are provided.
Among them, when the test control terminal of any three-state output buffer is set to the high level, only the three-state output buffer can be set to the high impedance state, and the output signal can be output only from the remaining three-state output buffer.
【0023】またその逆に、1つの3状態出力バッファ
のテスト制御端子のみをロウレベルにして、その3状態
出力バッファのみを入力信号出力状態にし、残りの3状
態出力バッファは全てハイインピーダンス状態にするこ
とが出来る。On the contrary, only the test control terminal of one 3-state output buffer is set to the low level, only the 3-state output buffer is set to the input signal output state, and the remaining 3-state output buffers are set to the high impedance state. You can
【0024】後述する、電気的特性測定時の回路接続図
を示した図3を参照すると、これらのテスト制御端子T
1〜Tnの選択は、テスト信号を複数ビットにしたデコ
ーダ4の複数出力端を、それぞれ複数個の3状態出力ハ
ッファB1〜Bnのテスト制御端子T1〜Tnに1本ず
つ接続し、複数ビットのテスト信号のハイレベルおよび
ロウレベルの状態の組み合せにより、いずれか1つの3
状態出力バッフアを選択的に能動状態にするこことがで
きる。Referring to FIG. 3, which is a circuit connection diagram for measuring electrical characteristics, which will be described later, these test control terminals T are shown.
1 to Tn are selected by connecting a plurality of output terminals of the decoder 4 in which a test signal has a plurality of bits to the test control terminals T1 to Tn of the plurality of three-state output huffers B1 to Bn, respectively. Depending on the combination of the high-level and low-level states of the test signal, any one of 3
The status output buffer can be selectively activated.
【0025】なお、デコーダ4はこの半導体集積回路内
部に用意されるが外部端子に余裕があればデコーダ4は
不要で、直接外部端子にテスト制御端子T1〜Tnが接
続されてもよい。Although the decoder 4 is prepared inside this semiconductor integrated circuit, if the external terminal has a margin, the decoder 4 is not necessary and the test control terminals T1 to Tn may be directly connected to the external terminal.
【0026】上述した選択動作説明用のタイミングチャ
ートを示した図2を参照すると、この図では理解を容易
にするため、3状態出力バッファB1〜Bnの出力端子
に出力される状態をそれぞれ別々に示してあるが、実際
はこれらの端子は互に共通接続されているので1つの出
力になる。Referring to FIG. 2 which shows the timing chart for explaining the selection operation described above, in order to facilitate understanding in this figure, the states output to the output terminals of the three-state output buffers B1 to Bn are different from each other. Although shown, in reality, these terminals are commonly connected to each other, so that they become one output.
【0027】期間t1ではテスト制御端子T1の電位が
ロウレベル、テスト制御端子T2〜Tnはハイレベルで
あるから対応する3状態出力バッファB1は入力信号を
低駆動で出力し、3状態出力バッファB2〜Bnはハイ
インピーダンス状態である。Since the potential of the test control terminal T1 is low level and the test control terminals T2 to Tn are high level in the period t1, the corresponding three-state output buffer B1 outputs the input signal with low driving and the three-state output buffers B2 to B2. Bn is in a high impedance state.
【0028】次に、期間t2ではテスト制御端子T2の
電位がロウレベル、テスト制御端子T1,T3〜Tnは
ハイレベルであるから対応する3状態出力バッファB2
は入力信号を低駆動で出力し、3状態出力バッファB
1,B3〜Bnはハイインピーダンス状態である。Next, during the period t2, the potential of the test control terminal T2 is low level, and the test control terminals T1, T3 to Tn are high level, so that the corresponding tri-state output buffer B2.
Outputs the input signal at low drive, and the 3-state output buffer B
1, B3 to Bn are in a high impedance state.
【0029】次に、期間tnではテスト制御端子T2が
ロウレベル、テスト制御端子T1〜T(n−1)はハイ
レベルであるから、対応する3状態出力バッファB1〜
B(n−1)は入力信号を低駆動で出力し、3状態出力
バッファnのみはハイインピーダンス状態である。Next, during the period tn, the test control terminal T2 is at low level and the test control terminals T1 to T (n-1) are at high level.
B (n-1) outputs the input signal with low driving, and only the 3-state output buffer n is in the high impedance state.
【0030】それ以後の期間tn+1以後は、テスト制
御端子T1〜Tnの電位が全てロウレベルであるからテ
スト状態は終り、3状態出力バッファB1〜Bnは高駆
動出力バッファとして入力信号を低駆動で出力する。After the subsequent period tn + 1, the test state ends because the potentials of the test control terminals T1 to Tn are all at the low level, and the three-state output buffers B1 to Bn serve as high drive output buffers and output the input signals with low drive. To do.
【0031】この高駆動出力バッファ1を有する半導体
集積回路の出力電流の試験方法は、図1(a)、図1
(b)および図2に併せて図3を参照すると、高駆動出
力バッファ1のテスト制御端子T1〜Tnにテスト信号
を選択するデコーダ4が接続され、出力端子3には出力
電流測定のためのICテスター5が接続されている。The method of testing the output current of the semiconductor integrated circuit having the high drive output buffer 1 is shown in FIGS.
Referring to FIG. 3 in addition to (b) and FIG. 2, a decoder 4 for selecting a test signal is connected to the test control terminals T1 to Tn of the high drive output buffer 1, and an output terminal 3 for measuring an output current. The IC tester 5 is connected.
【0032】上述した接続状態で、出力端子3(外部端
子電極)に接触されたICテスター5の金属探針6によ
る接触抵抗7が、出力端子3およびICテスター5間に
生じる。In the above-mentioned connected state, the contact resistance 7 caused by the metal probe 6 of the IC tester 5 contacting the output terminal 3 (external terminal electrode) is generated between the output terminal 3 and the IC tester 5.
【0033】デコーダ4に供給されるテスト信号を所定
の組み合せに設定して、高駆動出力バッファ1のテスト
制御端子T1にロウレベルを、他のテスト制御端子T2
〜Tnにハイレベルをそれぞれ選択して供給する。The test signals supplied to the decoder 4 are set to a predetermined combination, the test control terminal T1 of the high drive output buffer 1 is set to low level, and the other test control terminal T2 is set.
The high level is selected and supplied to Tn.
【0034】この状態では前述したように、3値状態出
力バッファB1は能動状態になり入力信号を低駆動で出
力する。他の3値状態出力バッファB2〜Bnはハイイ
ンピーダンス状態になり、3値状態出力バッファB1の
出力電流のみが金属探針6の接触抵抗7を介してICテ
スター5に流れるのでその電流値が測定される。In this state, as described above, the ternary state output buffer B1 becomes active and outputs the input signal with low driving. The other ternary state output buffers B2 to Bn are in a high impedance state, and only the output current of the ternary state output buffer B1 flows to the IC tester 5 via the contact resistance 7 of the metal probe 6, so that the current value is measured. To be done.
【0035】次に、テスト信号を所定の組み合せに変え
て、高駆動出力バッファ1のテスト制御端子T2にロウ
レベルを、他のテスト制御端子T1,T3〜Tnにハイ
レベルをそれぞれ選択して供給する。3値状態出力バッ
ファB1は能動状態になり入力信号を低駆動で出力し、
その出力電流のみが金属探針6の接触抵抗7を介してI
Cテスター5に流れてその電流値が測定される。Next, the test signals are changed to a predetermined combination, and a low level is selected and supplied to the test control terminal T2 of the high drive output buffer 1 and high levels are supplied to the other test control terminals T1 and T3 to Tn. . The ternary state output buffer B1 becomes active and outputs the input signal with low driving,
Only the output current is I through the contact resistance 7 of the metal probe 6.
It flows into the C tester 5 and its current value is measured.
【0036】同様の動作を3値状態出力バッファBnか
ら出力される出力電流を測定するまで繰り返し実行す
る。The same operation is repeatedly executed until the output current output from the ternary state output buffer Bn is measured.
【0037】上述のように測定した3値状態出力バッフ
ァB1〜Bnまでの出力電流値の総和が通常の動作状態
における高駆動出力バッファ1の出力電流値として得ら
れる。The sum of the output current values of the three-state output buffers B1 to Bn measured as described above is obtained as the output current value of the high drive output buffer 1 in the normal operation state.
【0038】上述したように、出力電流の測定をn回に
分割して測定することにより、1回ごとの電流値は1/
nとなり、接触抵抗7による電圧降下も1/nとなる。
したがって、電気的特性試験における金属探針6によっ
て生じる電圧降下に起因した測定誤差が小さくなる。As described above, by measuring the output current by dividing it into n times, the current value for each time is 1 /
n, and the voltage drop due to the contact resistance 7 is also 1 / n.
Therefore, the measurement error due to the voltage drop caused by the metal probe 6 in the electrical characteristic test is reduced.
【0039】[0039]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路およびその試験方法は、複数個の低駆動能力バッ
ファを備え、これらの低駆動能力バッファはそれぞれテ
スト制御端子を有し、この端子に供給される所定のテス
ト信号の能動状態または非能動状態に応答してハイイン
ピーダンス出力状態または論理レベルのハイレベルおよ
びロウレベルの一方状態になる低駆動能力の3状態出力
バッファからなり、この3状態出力バッファ複数個の入
力端が互に共通接続されかつそれぞれの出力端も互に共
通接続されて構成された高駆動出力バッファを用いて、
3値出力バッファ群のうちの1つにテスト信号を能動状
態にして供給し、残りの3値出力バッファ群にはテスト
信号を非能動状態にして供給して出力端子から流れる出
る1つの3値出力バッファの出力電流を測定し、この測
定動作を残りの3値出力バッファのそれぞれに順次実行
して、それぞれの出力電流を測定するようにしたので、
これら個々の出力電流値の総和が全体としての出力電流
となる。したがって、1回当りの出力電流の測定では、
その電流値を十分に小さくすることが出来るので、出力
バッファと試験装置間の金属探針によって生じる電圧降
下に起因した測定誤差を小さく出来るという効果を有す
る。As described above, the semiconductor integrated circuit and the test method thereof according to the present invention include a plurality of low drive capacity buffers, each of which has a test control terminal. A three-state output buffer having a low driving capability that becomes a high-impedance output state or one of a logic level high level and a low level in response to an active state or a non-active state of a predetermined test signal supplied to the three-state output buffer. Output buffer Using a high drive output buffer composed of a plurality of input terminals commonly connected to each other and each output terminal commonly connected to each other,
One of the three-value output buffer groups is supplied with the test signal in the active state, and the remaining three-value output buffer groups are supplied with the test signal in the inactive state and flowing out from the output terminal. Since the output current of the output buffer is measured and this measurement operation is sequentially executed for each of the remaining three-value output buffers, the output current of each is measured.
The sum of these individual output current values becomes the output current as a whole. Therefore, in the measurement of the output current per time,
Since the current value can be made sufficiently small, there is an effect that the measurement error due to the voltage drop caused by the metal probe between the output buffer and the test apparatus can be made small.
【図1】(a)本発明の一実施例の出力バッファおよび
その測定回路の要部を示すブロック図である。 (b)出力バッファの構成回路の一例を示す回路図であ
る。FIG. 1A is a block diagram showing a main part of an output buffer and its measurement circuit according to an embodiment of the present invention. (B) It is a circuit diagram which shows an example of the structural circuit of an output buffer.
【図2】テスト制御端子の選択動作説明用のタイミング
チャートである。FIG. 2 is a timing chart for explaining a test control terminal selection operation.
【図3】実施例の電気的特性測定時の回路接続図であ
る。FIG. 3 is a circuit connection diagram when measuring the electrical characteristics of the embodiment.
【図4】(a)従来の低駆動用の出力バッファのブロッ
ク図である。 (b)従来の低駆動用の出力バッファを用いた高駆動出
力バッファのブロック図である。FIG. 4A is a block diagram of a conventional low drive output buffer. (B) A block diagram of a high drive output buffer using a conventional low drive output buffer.
1 高駆動出力バッファ 2,21,23 入力端子 3,22,24 出力端子 4 デコーダ 5 ICテスター 6 金属探針 7 接触抵抗 11 NANDゲート素子 12 NORゲート素子 13 インバータ B1〜Bn,B10〜B1n 低駆動出力バッファ T1〜Tn テスト制御端子 1 High drive output buffer 2,21,23 Input terminal 3,22,24 Output terminal 4 Decoder 5 IC tester 6 Metal probe 7 Contact resistance 11 NAND gate element 12 NOR gate element 13 Inverter B1-Bn, B10-B1n Low drive Output buffer T1 to Tn test control terminal
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H03K 19/0175 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication H03K 19/0175
Claims (2)
を介して外部へ供給する出力バッファ群を有し、これら
のバッファ群が駆動能力の小さい低駆動バッファ群とこ
の低駆動バッファを複数個組み合せて駆動能力を大きく
した高駆動バッファ群とからなる半導体集積回路におい
て、前記低駆動出力バッファ群の少なくとも一部はテス
ト制御端子を備え、この端子に供給される所定のテスト
信号の能動状態に応答してハイインピーダンス出力状態
になる3値出力バッファからなり、この3値出力バッフ
ァ複数個の入力端が互に共通接続されかつそれぞれの出
力端も互に共通接続されて前記高駆動出力バッファが構
成されることを特徴とする半導体集積回路。1. An output buffer group for supplying a signal output from an internal circuit to the outside through an output terminal, and these buffer groups have a low drive capacity and a plurality of low drive buffers. In a semiconductor integrated circuit including a high drive buffer group having a combination of increased drive capability, at least a part of the low drive output buffer group is provided with a test control terminal, and a predetermined test signal supplied to this terminal is activated. In response, the ternary output buffer is brought into a high impedance output state. The ternary output buffer has a plurality of input terminals commonly connected to each other and each output terminal commonly connected to each other to form the high drive output buffer. A semiconductor integrated circuit characterized by being configured.
を介して外部へ供給する出力バッファ群が駆動能力の小
さい低駆動バッファ群とこの低駆動バッファを複数個組
み合せて駆動能力を大きくした高駆動バッファ群とから
なり、この高駆動出力バッファの出力電流を、前記出力
端子および接地電位間に挿入された試験装置で測定する
半導体集積回路の試験方法において、前記低駆動出力バ
ッファ群の少なくとも一部はテスト制御端子を備え、こ
の端子に供給されるテスト信号の能動状態に応答してハ
イインピーダンス出力状態になる3値出力バッファから
なり、前記高駆動出力バッファはこの3値出力バッファ
複数個の入力端が互に共通接続されかつそれぞれの出力
端も互に共通接続されてたテスト制御機能付の高駆動出
力バッファからなり、この高駆動出力バッファの出力電
流測定は、この高駆動出力バッファを構成する前記3値
出力バッファ群のうちの1つに前記テスト信号を能動状
態にして供給し、残りの前記3値出力バッファ群には前
記テスト信号を非能動状態にして供給して前記出力端子
から流れる出る前記1つの3値出力バッファの出力電流
を測定し、この測定動作を残りの前記3値出力バッファ
のそれぞれに順次実行して、それぞれの前記出力電流を
測定することを特徴とする半導体集積回路の試験方法。2. A low drive buffer group in which an output buffer group for supplying a signal output from an internal circuit to the outside through an output terminal has a small drive capacity, and a plurality of low drive buffers are combined to enhance a high drive capacity. In a method of testing a semiconductor integrated circuit, the output current of the high drive output buffer is measured by a test device inserted between the output terminal and a ground potential, and at least one of the low drive output buffer group is provided. The unit is provided with a test control terminal, and comprises a ternary output buffer that is in a high impedance output state in response to an active state of a test signal supplied to the terminal. The high drive output buffer is a plurality of ternary output buffers. It consists of a high drive output buffer with test control function whose input terminals are commonly connected to each other and each output terminal is commonly connected to each other. The measurement of the output current of the high drive output buffer is performed by supplying the test signal to one of the ternary output buffers constituting the high drive output buffer in an active state, and the remaining ternary output buffers. The test signal is supplied to the group in an inactive state, and the output current of the one ternary output buffer flowing from the output terminal is measured, and this measurement operation is sequentially performed on each of the remaining ternary output buffers. A method for testing a semiconductor integrated circuit, which is executed to measure each of the output currents.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7072931A JP2765508B2 (en) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | Semiconductor integrated circuit and test method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
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JP7072931A JP2765508B2 (en) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | Semiconductor integrated circuit and test method thereof |
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---|---|
JPH08274614A true JPH08274614A (en) | 1996-10-18 |
JP2765508B2 JP2765508B2 (en) | 1998-06-18 |
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ID=13503611
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP7072931A Expired - Lifetime JP2765508B2 (en) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | Semiconductor integrated circuit and test method thereof |
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JP (1) | JP2765508B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009164933A (en) * | 2008-01-08 | 2009-07-23 | Fujitsu Microelectronics Ltd | Semiconductor integrated circuit |
WO2012153458A1 (en) * | 2011-05-11 | 2012-11-15 | 富士電機株式会社 | Control device |
-
1995
- 1995-03-30 JP JP7072931A patent/JP2765508B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009164933A (en) * | 2008-01-08 | 2009-07-23 | Fujitsu Microelectronics Ltd | Semiconductor integrated circuit |
WO2012153458A1 (en) * | 2011-05-11 | 2012-11-15 | 富士電機株式会社 | Control device |
US20130106470A1 (en) * | 2011-05-11 | 2013-05-02 | Fuji Electric Co., Ltd. | Control device |
US9473133B2 (en) | 2011-05-11 | 2016-10-18 | Fuji Electric Co., Ltd. | Control device |
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JP2765508B2 (en) | 1998-06-18 |
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