JPH08272061A - Method for processing silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Method for processing silver halide photographic sensitive material

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JPH08272061A
JPH08272061A JP7610395A JP7610395A JPH08272061A JP H08272061 A JPH08272061 A JP H08272061A JP 7610395 A JP7610395 A JP 7610395A JP 7610395 A JP7610395 A JP 7610395A JP H08272061 A JPH08272061 A JP H08272061A
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JP
Japan
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group
fixing
stabilizing
formula
processing
Prior art date
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JP7610395A
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Japanese (ja)
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Satoru Kuze
哲 久世
Yutaka Ueda
豊 上田
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

PURPOSE: To provide a method for processing the silver halide photographic sensitive material restrained from the occurrence of stains on the reverse side of the photosensitive material in the case of reducing a replenishing amount of a stabilizing processing solution following a fixing solution by using the fixing solution containing a specified compound. CONSTITUTION: The silver halide photographic sensitive material is processed by this processing method comprising at least a process using the fixing solution containing the compound represented by formula I and the stabilizing process stabilizing it immediately after the end of the fixing process by using the stabilizing solution containing substantially no formaldehyde. In formulae I and II, Q1 is an atomic group necessary to form an N-containing hetero ring including that condensed with an unsaturated 5- or 6-membered ring; R1 is an H or alkali metal atom; and Q' is same as Q1 . The addition of the compound of formula I in the fixing solution permits the concentration of a thiosulfate necessary for completing the fixing reaction to be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法に関し、詳しくは写真処理廃液の量の低減
に有効なハロゲン化銀写真感光材料の処理方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of processing a silver halide photographic light-sensitive material, and more particularly to a method of processing a silver halide photographic light-sensitive material effective for reducing the amount of photographic processing waste liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の地球環境保護の動きと相俟って、
ロンドン条約が締結され、日本では1996年1月1日から
は写真処理廃液を海洋投棄することが難しくなる状況に
ある。このため、写真メーカー各社は、写真処理廃液を
極限にまで減らす努力を行ってきた。
2. Description of the Related Art In combination with the recent movement of environmental protection,
Since the Treaty of London was signed, it has become difficult for Japan to dump photographic wastewater into the ocean from January 1, 1996. For this reason, photo manufacturers have made efforts to reduce the amount of photographic processing waste liquid to the utmost.

【0003】ところで、現在ミニラボで最も広範に使用
されているカラーネガフィルム処理プロセスである、イ
ーストマン・コダック社のC-41RA処理は、4工程か
らなり、各工程の補充量は135サイズ24枚撮り1本当た
り、発色現像工程−23ml、漂白工程−5ml、定着工程−
33ml、安定処理工程−40mlとなっており、安定処理工程
からの廃液量が最も多い。従って、安定処理液の補充量
の低減化が望まれている。
By the way, the C-41RA processing by Eastman Kodak Co., which is the most widely used color negative film processing process in the minilab at present, consists of 4 steps, and the replenishment amount of each step is 135 size 24 sheets. Color development process-23 ml, bleaching process-5 ml, fixing process-per line
The amount of waste liquid from the stable treatment process is the largest, with 33 ml and the stable treatment process-40 ml. Therefore, it is desired to reduce the replenishment amount of the stabilizing solution.

【0004】ところが、安定処理液の補充量を単純に低
減化すると、前浴である定着液中のチオ硫酸塩等の定着
剤が処理される感光材料に付着して持ち込まれ、安定処
理液中に多量蓄積されることになるために、処理される
感光材料の裏面に汚れを生じ、プリント時に画像に現れ
てしまい、商品的価値を失してしまう故障が発生するこ
とがある。また、補充量の低減化によって安定処理液自
体の更新率が低下し、空気酸化を受ける時間が相対的に
長くなることによって、硫化の故障が生じやすくなって
しまう問題が生じる。更には、カラーネガフィルム用の
安定処理液中には通常感光材料中の未反応マゼンタカプ
ラーの活性点を封鎖し経時保存時の未露光部のステイン
と色素画像の退色性を改良するためにホルムアルデヒド
が添加されており、該ホルムアルデヒドは定着液からチ
オ硫酸塩と共に持ち込まれる亜硫酸塩と反応して付加物
を形成してしまい、本来の色素保存性改良の効果を奏さ
ないばかりか、硫化を促進してしまうという重大な問題
を生じる。
However, if the amount of replenishment of the stabilizing solution is simply reduced, the fixing agent such as thiosulfate in the fixing solution which is the pre-bath is attached to the photosensitive material to be treated and brought into the stabilizing solution. Since a large amount is accumulated on the back surface of the photosensitive material to be processed, stains may occur on the back surface of the processed photosensitive material, appear on an image at the time of printing, and lose a commercial value. In addition, the renewal rate of the stabilizing solution itself decreases due to the reduction of the replenishment amount, and the time during which the air is subjected to air oxidation becomes relatively long, which causes a problem that sulfurization failure easily occurs. Furthermore, in the stabilizing solution for a color negative film, formaldehyde is usually added in order to block the active sites of the unreacted magenta coupler in the light-sensitive material and improve the stain in the unexposed area during storage with time and the fading of the dye image. The formaldehyde, which has been added, reacts with the sulfite brought in together with the thiosulfate from the fixing solution to form an adduct, which not only has the original effect of improving the dye preservability but also accelerates the sulfidation. It causes a serious problem of being lost.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の状況に
鑑みてなされたものであり、その第1の目的は、定着液
に引き続く安定処理液の補充量を低減した際に、感光材
料裏面の汚れの発生が抑制されるハロゲン化銀写真感光
材料の処理方法を提供することにある。第2の目的は、
安定処理液の保存安定性が改良され、長期にわたり安定
した処理が可能なハロゲン化銀写真感光材料の処理方法
の提供にある。第3の目的は、写真処理廃液の低減を可
能とし、地球環境保護の観点から好適なハロゲン化銀写
真感光材料の処理方法の提供にある。その他の目的は、
以下の明細文の中で、自ずから明らかとなろう。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above situation, and a first object thereof is to reduce the replenishing amount of the stabilizing solution following the fixing solution when the back surface of the photosensitive material is reduced. Another object of the present invention is to provide a method for processing a silver halide photographic light-sensitive material in which the occurrence of stains is suppressed. The second purpose is
(EN) It is intended to provide a processing method of a silver halide photographic light-sensitive material, which has improved storage stability of a stable processing solution and can be stably processed for a long period of time. A third object is to provide a processing method of a silver halide photographic light-sensitive material, which enables reduction of waste liquid for photographic processing and is suitable from the viewpoint of global environment protection. For other purposes,
It will be self-evident in the following text.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、前
記一般式(1)で表される化合物を含有する定着液を用
いる定着処理工程、及び前記定着処理終了後直ちに安定
処理を行い、実質的にホルムアルデヒドを含有しない安
定処理液を用いる安定処理工程を少なくとも有するハロ
ゲン化銀写真感光材料の処理方法、前記定着液の補充液
がチオ硫酸塩を含有すること、前記安定処理液の補充液
が前記一般式(F−1)〜(F−13)で表される化合物
の少なくとも一つを含有すること、チオ硫酸アンモニウ
ムがチオ硫酸塩中の70モル%以下であること、一般式
(1)で表される化合物を含有する定着液を用いる工程
を有する定着処理、及び前記定着処理終了後直ちに行
い、安定処理液の実質的な補充量が感光材料1m2当た
り900ml以下である安定処理を少なくとも有すること、
及び、安定処理液の少なくとも一部が定着液に添加され
ること、によって達成される。
The above object of the present invention is to carry out a fixing treatment step using a fixing solution containing a compound represented by the general formula (1) and a stabilizing treatment immediately after the fixing treatment is completed. A method for processing a silver halide photographic light-sensitive material having at least a stabilizing step using a stabilizing solution containing substantially no formaldehyde, the replenishing solution of the fixing solution containing thiosulfate, and the replenishing solution of the stabilizing solution. Contains at least one of the compounds represented by the general formulas (F-1) to (F-13), ammonium thiosulfate is 70 mol% or less in the thiosulfate, and general formula (1) fixing process having the step of using a fixing solution containing a compound represented by, and the performs fixing processing is completed immediately after, stabilizing processing solution substantially stable processing replenishing amount is not more than the photosensitive material 1 m 2 per 900ml of Having at least,
And, at least a part of the stabilizing solution is added to the fixing solution.

【0007】即ち、本発明者らは、一般式(1)で表さ
れる化合物(以下、本発明の化合物とも言う。)を定着
液に含有させることにより、定着反応を完了させるため
に必要なチオ硫酸塩濃度を低減することが可能であると
の知見を得、更に、亜硫酸塩と反応するホルムアルデヒ
ドを安定処理液に実質的に用いないこととして、処理さ
れる感光材料の裏面汚れや硫化の発生を招かずに、安定
処理液の補充量を低減できることを見いだし、本発明に
至ったものである。
That is, the inventors of the present invention include the compound represented by the general formula (1) (hereinafter, also referred to as the compound of the present invention) in the fixing solution, so as to complete the fixing reaction. It was found that it is possible to reduce the thiosulfate concentration, and further, that formaldehyde, which reacts with sulfite, is not substantially used in the stabilizing solution, so that backside stains and sulfurization of the photosensitive material to be processed can be prevented. The present inventors have found that the replenishing amount of the stabilizing solution can be reduced without causing the occurrence, and have reached the present invention.

【0008】従来より、メルカプト基を有する複素環化
合物を処理液に添加して用いる方法が知られてきてお
り、例えば特開平1-261640号公報等に記載されるが如き
定着液に添加する方法、特開昭54-52534号公報等に記載
されるが如き漂白液の前浴に添加する方法、更には英国
特許第1,138,842号公報等に記載されるが如き漂白定着
液に添加する方法等が挙げられるが、これらには、引き
続き処理を行うホルムアルデヒドを含まない安定処理液
について何ら記載しておらず、本発明の技術思想を想起
させるものではない。
Conventionally, a method of adding a heterocyclic compound having a mercapto group to a processing solution has been known. For example, a method of adding it to a fixing solution as described in JP-A 1-261640. , A method of adding to a pre-bath of a bleaching solution as described in JP-A-54-52534, and a method of adding to a bleach-fixing solution as described in British Patent No. 1,138,842. However, these do not describe any formaldehyde-containing stabilizing treatment liquid to be subsequently treated, and do not recall the technical idea of the present invention.

【0009】以下、本発明について詳しく述べる。The present invention will be described in detail below.

【0010】本発明は、定着処理後直ちに安定化処理が
行われる系であって、定着液が一般式(1)で表される
化合物を含有することを第1の必須要件とする。
The present invention is a system in which the stabilization treatment is carried out immediately after the fixing treatment, and the first essential requirement is that the fixing solution contains the compound represented by the general formula (1).

【0011】以下に本発明における一般式(1)で表さ
れる化合物の具体例を挙げるが、これに限定されるもの
ではない。
Specific examples of the compound represented by the general formula (1) in the present invention are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0012】[0012]

【化11】 [Chemical 11]

【0013】[0013]

【化12】 [Chemical 12]

【0014】[0014]

【化13】 [Chemical 13]

【0015】[0015]

【化14】 Embedded image

【0016】上記化合物の中で本発明の目的から好まし
く用いられる化合物としては(1−9)、(1−10)、
(1−13)、(1−31)が挙げられ、特に好ましくは
(1−10)、(1−13)である。
Among the above compounds, the compounds preferably used for the purpose of the present invention are (1-9), (1-10),
(1-13) and (1-31) are mentioned, and (1-10) and (1-13) are particularly preferable.

【0017】本発明においては、定着液に含有される、
チオ硫酸塩の重量に対する一般式(1)の化合物の総重
量が0.02重量%以上、5重量%以下であることが好まし
く、更には、0.1重量%以上、2重量%以下であること
が好ましい。
In the present invention, it is contained in the fixer,
The total weight of the compound of the general formula (1) is preferably 0.02% by weight or more and 5% by weight or less, more preferably 0.1% by weight or more and 2% by weight or less, based on the weight of thiosulfate.

【0018】更に、安定処理液が実質的にホルムアルデ
ヒドを含有しないことを本発明の第2の必須要件とす
る。この2つの要件を組み合わせた処理により、処理さ
れる感光材料の裏面汚れや硫化の問題が大幅に改善され
る。未反応マゼンタカプラーの活性点を封鎖する目的で
は、安定処理液が前記一般式(F−1)〜(F−13)で
表される化合物から選ばれる少なくとも1つを含有する
のが好ましい。
Further, the second essential requirement of the present invention is that the stabilizing solution does not substantially contain formaldehyde. By the processing which combines these two requirements, the problems of backside smearing and sulfidation of the photosensitive material to be processed are greatly improved. For the purpose of blocking the active sites of the unreacted magenta coupler, the stabilizing solution preferably contains at least one selected from the compounds represented by the above formulas (F-1) to (F-13).

【0019】一般式(F−1)においてR11〜R16は、
各々、水素原子又は1価の有機基を表すが、1価の有機
基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、
アラルキル基、アミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ
基、アシル基、スルホニル基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環残基、カルバモイル基、スルファモ
イル基又はアルキルアミノ基等を挙げることができる。
In the general formula (F-1), R 11 to R 16 are
Each represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and examples of the monovalent organic group include an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group,
Examples thereof include aralkyl group, amino group, alkoxy group, hydroxy group, acyl group, sulfonyl group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic residue, carbamoyl group, sulfamoyl group and alkylamino group.

【0020】これらの1価の有機基は置換基(例えば、
ヒドロキシ基、アシル基、スルホニル基、ハロゲン原
子、アミノ基、カルボキシ基等を挙げることができ、好
ましくはヒドロキシ基、ハロゲン原子である。)を有す
ることができる。又、R11〜R16で示される置換基の総
炭素数は10以下が好ましい。
These monovalent organic groups are substituents (for example,
Examples thereof include a hydroxy group, an acyl group, a sulfonyl group, a halogen atom, an amino group and a carboxy group, and a hydroxy group and a halogen atom are preferable. ) Can be included. The total carbon number of the substituents represented by R 11 to R 16 is preferably 10 or less.

【0021】R11、R13、R15の群と、R12、R14、R
16の群は同一でも異なってもよいが、どちらかの群の一
方が水素原子である場合が好ましい。
A group of R 11 , R 13 and R 15 and R 12 , R 14 and R
The 16 groups may be the same or different, but it is preferred that one of either group is a hydrogen atom.

【0022】以下に一般式(F−1)で表される化合物
の具体例を挙げるが、これに限定されない。
Specific examples of the compound represented by formula (F-1) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0023】[0023]

【化15】 [Chemical 15]

【0024】[0024]

【化16】 Embedded image

【0025】[0025]

【化17】 [Chemical 17]

【0026】これら一般式(F−1)で表されるトリア
ジン系化合物は、処理液1l当たり0.05〜50gの範囲で
用いられることが好ましく、より好ましくは0.1〜20g
の範囲である。
The triazine compound represented by the general formula (F-1) is preferably used in an amount of 0.05 to 50 g, more preferably 0.1 to 20 g, per liter of the treatment liquid.
Range.

【0027】一般式(F−2)、(F−3)又は(F−
4)で表されるメチロール系化合物の具体例としては、
以下の化合物が挙げられる。
General formula (F-2), (F-3) or (F-
Specific examples of the methylol compound represented by 4) include:
The following compounds may be mentioned.

【0028】(F−2−1)ジメチロール尿素 (F−2−2)トリメチロール尿素 (F−3−1)トリメチロールメラミン (F−3−2)テトラメチロールメラミン (F−3−3)ペンタメチロールメラミン (F−3−4)ヘキサメチロールメラミン (F−4−1)ジメチロールグアニジン (F−4−2)メチロールグアニジン (F−4−3)トリメチロールグアニジン これらの化合物は、処理液1l当たり0.05〜20gの範囲
で用いられることが好ましく、より好ましくは0.1〜10
gの範囲である。
(F-2-1) dimethylol urea (F-2-2) trimethylol urea (F-3-1) trimethylol melamine (F-3-2) tetramethylol melamine (F-3-3) penta Methylol melamine (F-3-4) Hexamethylol melamine (F-4-1) Dimethylol guanidine (F-4-2) Methylol guanidine (F-4-3) Trimethylol guanidine These compounds are added per 1 l of the treatment liquid. It is preferably used in the range of 0.05 to 20 g, more preferably 0.1 to 10
It is in the range of g.

【0029】一般式(F−5)及び(F−6)におい
て、V1及びW1で表される電子吸引性の基としては、ハ
メットのσp値(Lange´a Handbook of Chemistry 12th
ed. Vol.3,C.Hansch & A.Leo,Substituent Constants
for Correlation Analysis inChemistry and Biology
(Jone Wiley & Sons,New York 1979))が正である基
から選ばれるもので、具体的には、アシル基(例えば、
アセチル、ベンゾイル、モノクロロアセチル等の各
基)、アルコキシカルボニル基(例えば、エトキシカル
ボニル、メトキシエトキシカルボニル等の基)、アリー
ルオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニ
ル、p-クロロフェノキシカルボニル等の基)、カルバモ
イル基(例えば、N-メチルカルバモイル、N,N-テトラメ
チレンカルバモイル、N-フェニルカルバモイル等の
基)、シアノ基、アルキルスルホニル基(例えば、メタ
ンスルホニル、エタンスルホニル等の基)、アリールス
ルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、p-トルエン
スルホニル等の基)、スルファモイル基(例えば、スル
ファモイル、N-メチルスルファモイル、N,N-ペンタメチ
レンスルファモイル等の基)等が挙げられる。
In the general formulas (F-5) and (F-6), the electron-withdrawing groups represented by V 1 and W 1 are Hammett's σ p value (Lange'a Handbook of Chemistry 12th
ed. Vol.3, C. Hansch & A. Leo, Substituent Constants
for Correlation Analysis in Chemistry and Biology
(Jone Wiley & Sons, New York 1979)) is a positive group, specifically, an acyl group (for example,
Acetyl, benzoyl, monochloroacetyl, etc.), alkoxycarbonyl groups (eg, ethoxycarbonyl, methoxyethoxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl groups (eg, phenoxycarbonyl, p-chlorophenoxycarbonyl, etc.), carbamoyl Group (eg, N-methylcarbamoyl, N, N-tetramethylenecarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, etc.), cyano group, alkylsulfonyl group (eg, methanesulfonyl, ethanesulfonyl, etc.), arylsulfonyl group (eg, , Benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl, etc.), sulfamoyl groups (eg, sulfamoyl, N-methylsulfamoyl, N, N-pentamethylenesulfamoyl, etc.) and the like.

【0030】Y1で表される加水分解によって離脱する
基としては、例えばトリアルキル置換シリル基(例え
ば、トリメチルシリル基等)、アシル基(例えば、アセ
チル、ベンゾイル、モノクロロアセチル、トリクロロア
セチル等の基)、スルフェート基、アミノカルボニル基
(例えば、N,N-ジメチルカルボニル、N-メチルカルボニ
ル、N-フェニルカルボニル等の基)、スルホナート基
(例えば、メタンスルホナート、ベンゼンスルホナー
ト、p-トルエンスルホナート等の基)等が挙げられる。
Examples of the group represented by Y 1 which can be removed by hydrolysis include a trialkyl-substituted silyl group (eg, trimethylsilyl group) and an acyl group (eg, acetyl, benzoyl, monochloroacetyl, trichloroacetyl group). , Sulfate groups, aminocarbonyl groups (eg, groups such as N, N-dimethylcarbonyl, N-methylcarbonyl, N-phenylcarbonyl, etc.), sulfonate groups (eg, methanesulfonate, benzenesulfonate, p-toluenesulfonate, etc.) Group) and the like.

【0031】Zで表される窒素原子と共に形成される5
員又は6員の含窒素ヘテロ環としては、[C14]、
[C23]、[C32]、[C4N]、[C24]、
[C33]、[C42]、[C5N]、[C22O]、
[C3NO]、[C32O]、[C4NO]、[C2
2S]、[C3NS]、[C32S]、[C22Se]、
[C3NSe]、[C4NSe]、[C3NTe]等の元
素構成からなる単環類や、[C32−C6]、[C4N−
6]、[C4N−C32]、[C32−C32]、[C
3NS−C6]、[C5N−C5N]、[C5N−C6]、
[C42−C6]等の元素構成からなる縮合環類が挙げ
られ、これらの環は、例えばアルキル基(例えば、メチ
ル、エチル、メトキシエチル、ベンジル、カルボキシメ
チル、スルホプロピル等の基)、アリール基(例えば、
フェニル、p-メトキシフェニル等の基)、ヒドロキシ
基、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、メト
キシエトキシ等の基)、アリールオキシ基(例えば、フ
ェノキシ、p-カルボキシフェニル等の基)、カルボキシ
基、スルホ基、アルコキシカルボニル基(例えば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル等の基)、アリー
ルオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル
基等)、アミノ基(例えば、N,N-ジメチルアミノ、N-エ
チルアミノ、N-フェニルアミノ等の基)、アシルアミド
(例えば、アセトアミド、ベンズアミド等の基)、カル
バモイル基(例えば、カルバモイル、N-メチルカルバモ
イル、N,N-テトラメチレンカルバモイル等の基)、スル
ホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼ
ンスルホンアミド等の基)、スルファモイル基(例え
ば、N-エチルスルファモイル、N,N-ジメチルスルファモ
イル等の基)、アルキルスルホニル基(例えば、メタン
スルホニル、エタンスルホニル等の基)、アリールスル
ホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、p-トルエンス
ルホニル等の基)、アシル基(例えば、アセチル、ベン
ゾイル等の基)等を置換基で有してもよい。
5 formed with a nitrogen atom represented by Z
A 6-membered or 6-membered nitrogen-containing heterocycle is [C 1 N 4 ],
[C 2 N 3 ], [C 3 N 2 ], [C 4 N], [C 2 N 4 ],
[C 3 N 3 ], [C 4 N 2 ], [C 5 N], [C 2 N 2 O],
[C 3 NO], [C 3 N 2 O], [C 4 NO], [C 2 N
2 S], [C 3 NS], [C 3 N 2 S], [C 2 N 2 Se],
[C 3 NSe], [C 4 NSe], [C 3 NTe] and other monocycles having an elemental structure, [C 3 N 2 -C 6 ] and [C 4 N-
C 6], [C 4 N -C 3 N 2], [C 3 N 2 -C 3 N 2], [C
3 NS-C 6], [ C 5 N-C 5 N], [C 5 N-C 6],
Examples thereof include condensed rings having an elemental constitution such as [C 4 N 2 -C 6 ], and these rings include, for example, alkyl groups (for example, groups such as methyl, ethyl, methoxyethyl, benzyl, carboxymethyl, and sulfopropyl). ), An aryl group (eg,
Phenyl, groups such as p-methoxyphenyl), hydroxy groups, alkoxy groups (eg, groups such as methoxy, ethoxy, methoxyethoxy), aryloxy groups (eg, groups such as phenoxy, p-carboxyphenyl, etc.), carboxy groups, Sulfo group, alkoxycarbonyl group (eg, groups such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenoxycarbonyl group, etc.), amino group (eg, N, N-dimethylamino, N-ethylamino, N) -Groups such as phenylamino), acylamide (eg, groups such as acetamide, benzamide), carbamoyl groups (eg, groups such as carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-tetramethylenecarbamoyl), sulfonamide groups (eg, Groups such as methanesulfonamide, benzenesulfonamide) Sulfamoyl group (for example, a group such as N-ethylsulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl), an alkylsulfonyl group (for example, a group such as methanesulfonyl and ethanesulfonyl), an arylsulfonyl group (for example, benzenesulfonyl, A group such as p-toluenesulfonyl) or an acyl group (for example, a group such as acetyl or benzoyl) may be included as a substituent.

【0032】一般式(F−5)において、各々2価の電
子吸引性基であるV1とW1を介して形成することができ
る5員又は6員の含窒素ヘテロ環としては、下記一般式
(F−5−a)で表されるものが挙げられる。
In the general formula (F-5), the 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle which can be formed via V 1 and W 1 , which are divalent electron-withdrawing groups, is as follows. The thing represented by Formula (F-5-a) is mentioned.

【0033】[0033]

【化18】 Embedded image

【0034】上式において、V1及びW1は各々-CO-、-C
O-O-、-SO-、-SO2又は-CS-基を表し、Z5はV1及びW1
と結合して5員又は6員の単環或いは縮合環を形成する
に必要な非金属原子群を表す。
In the above formula, V 1 and W 1 are -CO- and -C, respectively.
OO -, - SO -, - it represents SO 2 or -CS- group, Z 5 is V 1 and W 1
Represents a non-metal atom group necessary for forming a 5-membered or 6-membered monocyclic ring or a condensed ring by combining with.

【0035】Z5で形成される5員又は6員の単環或い
は縮合環は置換基を有してもよく、例えば、アルキル基
(例えば、メチル、エチル、メトキシエチル、ベンジ
ル、カルボキシメチル、スルホプロピル等の基)、アリ
ール基(例えば、フェニル、p-メトキシフェニル等の
基)、ヒドロキシ基、アルコキシ基(例えば、メトキ
シ、エトキシ、メトキシエトキシ等の基)、アリールオ
キシ基(例えば、フェノキシ、p-カルボキシフェニル等
の基)、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシカルボニ
ル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル等の基)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フ
ェノキシカルボニル基等)、アミノ基(例えば、N,N-ジ
メチルアミノ、N-エチルアミノ、N-フェニルアミノ等の
基)、アシルアミド基(例えば、アセトアミド、ベンズ
アミド等の基)、カルバモイル基(例えば、カルバモイ
ル、N-メチルカルバモイル、N,N-テトラメチレンカルバ
モイル等の基)、スルホンアミド基(例えば、メタンス
ルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等の基)、スル
ファモイル基(例えば、N-エチルスルファモイル、N,N-
ジメチルスルファモイル等の基)、アルキルスルホニル
基(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル等の
基)、アリールスルホニル基(例えば、ベンゼンスルホ
ニル、p-トルエンスルホニル等の基)、アシル基(例え
ば、アセチル、ベンゾイル等の基)等が挙げられる。
The 5- or 6-membered monocyclic or condensed ring formed by Z 5 may have a substituent, for example, an alkyl group (eg, methyl, ethyl, methoxyethyl, benzyl, carboxymethyl, sulfo). Groups such as propyl), aryl groups (eg, groups such as phenyl and p-methoxyphenyl), hydroxy groups, alkoxy groups (eg, groups such as methoxy, ethoxy, methoxyethoxy), aryloxy groups (eg, phenoxy, p) -Groups such as carboxyphenyl), carboxy groups, sulfo groups, alkoxycarbonyl groups (eg, groups such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), aryloxycarbonyl groups (eg, phenoxycarbonyl group), amino groups (eg, N, N-dimethylamino, N-ethylamino, N-phenylamino, etc. groups), acylamide groups (eg. , Acetamido, benzamide, etc.), carbamoyl group (eg, carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-tetramethylenecarbamoyl, etc.), sulfonamide group (eg, methanesulfonamide, benzenesulfonamide, etc.) , A sulfamoyl group (eg, N-ethylsulfamoyl, N, N-
A group such as dimethylsulfamoyl), an alkylsulfonyl group (for example, a group such as methanesulfonyl and ethanesulfonyl), an arylsulfonyl group (for example, a group such as benzenesulfonyl and p-toluenesulfonyl), an acyl group (for example, acetyl, Groups such as benzoyl).

【0036】以下に一般式(F−5)、(F−6)で表
される化合物の具体例を示すが、これに限定されない。
Specific examples of the compounds represented by formulas (F-5) and (F-6) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0037】[0037]

【化19】 [Chemical 19]

【0038】[0038]

【化20】 Embedded image

【0039】[0039]

【化21】 [Chemical 21]

【0040】一般式(F−5)、(F−6)で表される
化合物の添加量は、処理液1l当たり0.01〜20g程度、
好ましくは0.03〜15g、より好ましくは0.05〜10gであ
る。
The addition amount of the compounds represented by the general formulas (F-5) and (F-6) is about 0.01 to 20 g per liter of the treatment liquid,
It is preferably 0.03 to 15 g, more preferably 0.05 to 10 g.

【0041】一般式(F−7)において、R31、R32
びR33で表される脂肪族基としては、飽和のアルキル基
(例えば、メチル、エチル、ブチル等の非置換のアルキ
ル基及びベンジル、カルボキシメチル、ヒドロキシメチ
ル、メトキシエチル等の置換されたアルキル基)、不飽
和のアルキル基(例えば、アリル、2-ブテニル等の
基)、環状のアルキル基(例えば、シクロペンチル、シ
クロヘキシル等の基)等が挙げられる。
In the general formula (F-7), the aliphatic groups represented by R 31 , R 32 and R 33 include saturated alkyl groups (eg, unsubstituted alkyl groups such as methyl, ethyl and butyl, and Substituted alkyl groups such as benzyl, carboxymethyl, hydroxymethyl, methoxyethyl, etc., unsaturated alkyl groups (eg, allyl, 2-butenyl, etc.), cyclic alkyl groups (eg, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.) ) And the like.

【0042】R31、R32及びR33で表されるアリール基
は、置換及び非置換のものを含み、置換基としては、例
えばアルキル基(例えば、メチル、エチル、メトキシエ
チル、ベンジル、カルボキシメチル、スルホプロピル等
の基)、アリール基(例えば、フェニル、p-メトキシフ
ェニル等の基)、ヒドロキシ基、アルコキシ基(例え
ば、メトキシ、エトキシ、メトキシエトキシ等の基)、
アリールオキシ基(例えば、フェノキシ、p-カルボキシ
フェニル等の基)、カルボキシ基、スルホ基、アルコキ
シカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル等の基)、アリールオキシカルボニル基
(例えば、フェノキシカルボニル基等)、アミノ基(例
えば、N,N-ジメチルアミノ、N-エチルアミノ、N-フェニ
ルアミノ等の基)、アシルアミド基(例えば、アセトア
ミド、ベンズアミド等の基)、カルバモイル基(例え
ば、カルバモイル、N-メチルカルバモイル、N,N-テトラ
メチレンカルバモイル等の基)、スルホンアミド基(例
えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド
等の基)、スルファモイル基(例えば、N-エチルスルフ
ァモイル、N,N-ジメチルスルファモイル等の基)、アル
キルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル、エタン
スルホニル等の基)、アリールスルホニル基(例えば、
ベンゼンスルホニル、p-トルエンスルホニル等の基)、
アシル基(例えば、アセチル、ベンゾイル等の基)等が
挙げられる。
The aryl group represented by R 31 , R 32 and R 33 includes substituted and unsubstituted aryl groups, and examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl, ethyl, methoxyethyl, benzyl, carboxymethyl). , Groups such as sulfopropyl), aryl groups (eg, groups such as phenyl and p-methoxyphenyl), hydroxy groups, alkoxy groups (eg, groups such as methoxy, ethoxy, methoxyethoxy),
Aryloxy group (eg, phenoxy, p-carboxyphenyl, etc. group), carboxy group, sulfo group, alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenoxycarbonyl group, etc.) ), An amino group (for example, a group such as N, N-dimethylamino, N-ethylamino, N-phenylamino, etc.), an acylamide group (for example, a group such as acetamide, benzamide, etc.), a carbamoyl group (for example, carbamoyl, N- Groups such as methylcarbamoyl, N, N-tetramethylenecarbamoyl), sulfonamide groups (eg, groups such as methanesulfonamide, benzenesulfonamide), sulfamoyl groups (eg, N-ethylsulfamoyl, N, N-dimethyl) Groups such as sulfamoyl), alkylsulfonyl groups (eg, Groups such as tansulfonyl and ethanesulfonyl), arylsulfonyl groups (eg,
Groups such as benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl),
Examples thereof include an acyl group (for example, a group such as acetyl and benzoyl).

【0043】R32とR33が結合して形成する環は5〜8
員のヘテロ環があり、結合炭素の一部が複素原子で置換
されているものも含む。
The ring formed by combining R 32 and R 33 is 5 to 8
Membered heterocycles, some of which have carbon atoms replaced by heteroatoms.

【0044】R31としては水素原子が好ましい。R 31 is preferably a hydrogen atom.

【0045】以下に一般式(F−7)で表される化合物
の例を挙げるが、これに限定されない。
Examples of the compound represented by formula (F-7) are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0046】[0046]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0047】一般式(F−7)で表される化合物の添加
量は処理液1l当たり0.01〜20g程度、好ましくは0.03
〜15g、特には0.05〜10gである。
The addition amount of the compound represented by the general formula (F-7) is about 0.01 to 20 g, preferably 0.03, per liter of the treatment liquid.
~ 15 g, especially 0.05-10 g.

【0048】一般式(F−8)〜(F−10)において、
35、R36及びZ3で表される脂肪族炭化水素基として
は、飽和のアルキル基(例えば、メチル、エチル、ブチ
ル等の非置換アルキル基及びカルボキシメチル、メトキ
シメチル、メトキシエチル、ヒドロキシエチル、ベンジ
ル等の置換アルキル基)、不飽和のアルキル基(例え
ば、アリル、2-ブテニル等の基)、環状のアルキル基
(例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル等の基)等
が挙げられる。R36及びZ3で表されるアリール基は置
換されていてもよく、例えばアルキル基(メチル、エチ
ル、メトキシエチル、ベンジル、カルボキシメチル、ス
ルホプロピル等の基)、アリール基(例えば、フェニ
ル、p-メトキシフェニル等の基)、ヒドロキシ基、アル
コキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、メトキシエト
キシ等の基)、アリールオキシ基(例えば、フェノキ
シ、p-カルボキシフェニル等の基)、カルボキシ基、ス
ルホ基、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル等の基)、アリールオキ
シカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル基
等)、アミノ基(例えば、N,N-ジメチルアミノ、N-エチ
ルアミノ、N-フェニルアミノ等の基)、アシルアミド基
(例えば、アセトアミド、ベンズアミド等の基)、カル
バモイル基(例えば、カルバモイル、N-メチルカルバモ
イル、N,N-テトラメチレンカルバモイル等)、スルホン
アミド基(例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンス
ルホンアミド等の基)、スルファモイル基(例えば、N-
エチルスルファモイル、N,N-ジエチルスルファモイル等
の基)、アルキルスルホニル基(例えば、メタンスルホ
ニル、エタンスルホニル等の基)、アリールスルホニル
基(例えば、ベンゼンスルホニル、p-トルエンスルホニ
ル等の基)、アシル基(例えば、アセチル、ベンゾイル
等の基)等の置換基が挙げられる。
In the general formulas (F-8) to (F-10),
The aliphatic hydrocarbon group represented by R 35 , R 36 and Z 3 is a saturated alkyl group (for example, an unsubstituted alkyl group such as methyl, ethyl and butyl and carboxymethyl, methoxymethyl, methoxyethyl and hydroxyethyl). , A substituted alkyl group such as benzyl), an unsaturated alkyl group (for example, a group such as allyl and 2-butenyl), and a cyclic alkyl group (for example, a group such as cyclopentyl and cyclohexyl). The aryl group represented by R 36 and Z 3 may be substituted, and examples thereof include an alkyl group (a group such as methyl, ethyl, methoxyethyl, benzyl, carboxymethyl and sulfopropyl) and an aryl group (eg, phenyl, p -Groups such as methoxyphenyl), hydroxy groups, alkoxy groups (eg, groups such as methoxy, ethoxy, methoxyethoxy), aryloxy groups (eg, groups such as phenoxy, p-carboxyphenyl, etc.), carboxy groups, sulfo groups, Alkoxycarbonyl groups (eg, groups such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl groups (eg, phenoxycarbonyl group, etc.), amino groups (eg, N, N-dimethylamino, N-ethylamino, N-phenylamino) Groups, etc.), acylamido groups (eg, groups such as acetamide, benzamide, etc. , A carbamoyl group (e.g., carbamoyl, N- methylcarbamoyl, N, N- tetramethylene carbamoyl, etc.), a sulfonamido group (e.g., methanesulfonamido, groups such as benzene sulfonamido), sulfamoyl group (e.g., N-
Groups such as ethylsulfamoyl, N, N-diethylsulfamoyl, etc.), alkylsulfonyl groups (eg, groups such as methanesulfonyl, ethanesulfonyl, etc.), arylsulfonyl groups (eg, groups such as benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl, etc.) ) And acyl groups (for example, groups such as acetyl and benzoyl).

【0049】V2、W2、Y2及びZ3で表される加水分解
によって脱離する基としては、例えば、アシル基(例え
ば、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル、モ
ノクロロアセチル等の基)、トリアルキルシリル基(例
えば、トリメチルシリル基等)等が挙げられる。
Examples of the group represented by V 2 , W 2 , Y 2 and Z 3 which is eliminated by hydrolysis are, for example, an acyl group (for example, a group such as acetyl, benzoyl, trifluoroacetyl and monochloroacetyl), Examples thereof include a trialkylsilyl group (eg, trimethylsilyl group and the like).

【0050】R36がZ3と結合して形成する環は、5〜
8員の飽和環又は縮合環であり、結合炭素鎖の一部が他
の複素原子に置換されているものも包含する。具体的に
は、1,2-ジオキサンシクロペンタン、m-ジオキサン、ト
リオキサン、テトラオキサン、ベンズジオキソラン等の
環が挙げられる。
The ring formed by combining R 36 with Z 3 is 5 to
It also includes an 8-membered saturated ring or a condensed ring in which a part of the bonding carbon chain is substituted with another heteroatom. Specific examples thereof include rings such as 1,2-dioxanecyclopentane, m-dioxane, trioxane, tetraoxane and benzdioxolane.

【0051】Mで表されるカチオンとしては、例えば水
素イオン、アルカリ金属イオン(例えば、リチウム、ナ
トリウム、カリウム等のイオン)、アルカリ土類金属イ
オン(例えば、マグネシウム、カルシウム等のイオ
ン)、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオン
(例えば、トリエチルアンモニウム、トリプロピルアン
モニウム、テトラメチルアンモニウム等のアンモニウム
イオン)、ピリジニウムイオン等が挙げられる。
As the cation represented by M, for example, hydrogen ion, alkali metal ion (for example, ions of lithium, sodium, potassium, etc.), alkaline earth metal ion (for example, ion of magnesium, calcium, etc.), ammonium ion. , Organic ammonium ions (for example, ammonium ions such as triethylammonium, tripropylammonium, tetramethylammonium, etc.), pyridinium ions and the like.

【0052】R35で表される脂肪族炭化水素基は炭素原
子数が1又は2の低級アルキル基が好ましく、更にはR
35が水素原子であることが好ましい。
The aliphatic hydrocarbon group represented by R 35 is preferably a lower alkyl group having 1 or 2 carbon atoms, and further R is
It is preferable that 35 is a hydrogen atom.

【0053】以下に、一般式(F−8)〜(F−10)で
表される化合物の具体例を示すが、これに限定されるも
のではない。
Specific examples of the compounds represented by formulas (F-8) to (F-10) are shown below, but the compounds are not limited thereto.

【0054】[0054]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0055】[0055]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0056】一般式(F−8)〜(F−10)で表される
化合物の添加量は処理液1l当たり0.01〜20g程度、好
ましくは0.03〜15g、更には0.05〜10gである。
The amount of the compounds represented by the general formulas (F-8) to (F-10) added is about 0.01 to 20 g, preferably 0.03 to 15 g, and more preferably 0.05 to 10 g per liter of the treatment liquid.

【0057】一般式(F−11)で表される化合物の塩と
しては、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩の如き無機酸塩、フェ
ノール塩の如き有機酸塩、金属塩との複塩又は錯塩、含
水塩、分子内塩等が挙げられる。
The salt of the compound represented by the general formula (F-11) includes inorganic acid salts such as hydrochlorides, sulfates and nitrates, organic acid salts such as phenol salts, double salts or complex salts with metal salts, Examples thereof include hydrous salts and inner salts.

【0058】一般式(F−11)で表される化合物は、具
体的には、バイルシュタインズ:ハンドブッヒ・デア・
オルガニッシェン・ヘミー(Beilsteins Handbuch der
Organishen Chemie)の第II増補編の26巻、200〜212頁
に記載の化合物を挙げることができる。それらのうち本
発明では水に可溶なものが好ましい。以下に、その代表
例を挙げる。
The compound represented by formula (F-11) is specifically, Beilsteins: Handbuch der.
Organischen Chemie (Beilsteins Handbuch der
Organishen Chemie), Vol. 26, Vol. 26, pp. 200-212. Of these, those soluble in water are preferred in the present invention. Typical examples will be given below.

【0059】[0059]

【化25】 [Chemical 25]

【0060】[0060]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0061】[0061]

【化27】 [Chemical 27]

【0062】[0062]

【化28】 [Chemical 28]

【0063】[0063]

【化29】 [Chemical 29]

【0064】[0064]

【化30】 Embedded image

【0065】[0065]

【化31】 [Chemical 31]

【0066】一般式(F−11)で表される化合物の添加
量は処理液1l当たり0.1〜20gが好ましい。
The addition amount of the compound represented by formula (F-11) is preferably 0.1 to 20 g per liter of the treatment liquid.

【0067】一般式(F−12)において、Z4は置換も
しくは未置換の炭素環又は置換もしくは未置換のヘテロ
環を形成するに必要な原子群を表し、上記炭素環及びヘ
テロ環は単環であっても縮合環であってもよく、好まし
くはZ4が置換基を有する芳香族炭素環又はヘテロ環で
あることである。前記Z4の置換基が、アルデヒド基、
水酸基、アルキル基(例えば、メチル、エチル、メトキ
シエチル、ベンジル、カルボキシメチル、スルホプロピ
ル等)、アラルキル基、アルコキシ基(例えば、メトキ
シ、エトキシ、メトキシエトキシ等)、ハロゲン原子、
ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基、アミノ基(例え
ば、N,N-ジメチルアミノ、N-エチルアミノ、N-フェニル
アミノ等)、ヒドロキシアルキル基、アリール基(例え
ば、フェニル、p-メトキシフェニル等)、シアノ基、ア
リールオキシ基(例えば、フェノキシ、p-カルボキシフ
ェニル等)、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基(例えば、N-エチルスル
ファモイル、N,N-ジメチルスルファモイル等)、カルバ
モイル基(例えば、カルバモイル、N-メチルカルバモイ
ル、N,N-テトラメチレンカルバモイル等)又はスルホニ
ル基(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル、
ベンゼンスルホニル、p-トルエンスルホニル等)である
ことが好ましい。
In formula (F-12), Z 4 represents an atom group necessary for forming a substituted or unsubstituted carbocycle or a substituted or unsubstituted heterocycle, and the carbocycle and the heterocycle are monocyclic rings. Or a condensed ring, and Z 4 is preferably a substituted aromatic carbocycle or heterocycle. The substituent of Z 4 is an aldehyde group,
Hydroxyl group, alkyl group (eg, methyl, ethyl, methoxyethyl, benzyl, carboxymethyl, sulfopropyl, etc.), aralkyl group, alkoxy group (eg, methoxy, ethoxy, methoxyethoxy, etc.), halogen atom,
Nitro group, sulfo group, carboxy group, amino group (eg N, N-dimethylamino, N-ethylamino, N-phenylamino etc.), hydroxyalkyl group, aryl group (eg phenyl, p-methoxyphenyl etc.) , Cyano group, aryloxy group (eg, phenoxy, p-carboxyphenyl, etc.), acyloxy group, acylamino group, sulfonamide group, sulfamoyl group (eg, N-ethylsulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, etc.) ), A carbamoyl group (eg, carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-tetramethylenecarbamoyl, etc.) or a sulfonyl group (eg, methanesulfonyl, ethanesulfonyl,
Benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl, etc.) are preferred.

【0068】Z4が表す炭素環としては好ましくはベン
ゼン環であり、またZ4が表すヘテロ環としては好まし
くは5員もしくは6員のヘテロ環であり、例えば5員環
としてはチオフェン、ピロール、フラン、チアゾール、
イミダゾール、ピラゾール、スクシンイミド、トリアゾ
ール、テトラゾール等であり、また6員環としては、ピ
リジン、ピリミジン、トリアジン、チアジアジン等がそ
れぞれ挙げられる。
The carbocycle represented by Z 4 is preferably a benzene ring, and the heterocycle represented by Z 4 is preferably a 5- or 6-membered heterocycle. For example, the 5-membered ring is thiophene, pyrrole, Furan, thiazole,
Examples thereof include imidazole, pyrazole, succinimide, triazole and tetrazole, and examples of the 6-membered ring include pyridine, pyrimidine, triazine and thiadiazine.

【0069】縮合環としてはナフタレン、ベンゾフラ
ン、インドール、チオナフタレン、ベンズイミダゾー
ル、ベンゾトリアゾール、キノリン等が挙げられる。
Examples of the condensed ring include naphthalene, benzofuran, indole, thionaphthalene, benzimidazole, benzotriazole and quinoline.

【0070】以下に一般式(F−12)で示される化合物
の好ましい例示化合物を挙げる。
Preferred examples of the compound represented by formula (F-12) are shown below.

【0071】[0071]

【化32】 Embedded image

【0072】例示化合物(F−12−1)〜(F−12−5
2)は以下の表のように上式における1〜6に各種置換
基を挿入して得られる。
Exemplified compounds (F-12-1) to (F-12-5)
2) is obtained by inserting various substituents into 1 to 6 in the above formula as shown in the table below.

【0073】[0073]

【化33】 [Chemical 33]

【0074】[0074]

【化34】 Embedded image

【0075】[0075]

【化35】 Embedded image

【0076】[0076]

【化36】 Embedded image

【0077】[0077]

【化37】 Embedded image

【0078】これら一般式(F−12)で示される化合物
の具体例のうち、より好ましい化合物としては(F−12
−2)、(F−12−3)、(F−12−4)、(F−12−6)、
(F−12−23)、(F−12−24)、(F−12−52)が挙げられ
るが、最も好ましくは(F−12−3)である。
Among the specific examples of the compounds represented by the general formula (F-12), more preferable compounds include (F-12
-2), (F-12-3), (F-12-4), (F-12-6),
(F-12-23), (F-12-24) and (F-12-52) are mentioned, but (F-12-3) is most preferable.

【0079】一般式(F−12)で示される化合物は市販
品としても容易に入手できる。
The compound represented by formula (F-12) can be easily obtained as a commercial product.

【0080】一般式(F−12)で示される化合物の添加
量は安定液1l当たり0.05〜20gが好ましく、より好ま
しくは0.1〜15gの範囲であり、特に好ましくは0.5〜10
gの範囲である。
The amount of the compound represented by formula (F-12) added is preferably 0.05 to 20 g, more preferably 0.1 to 15 g, and particularly preferably 0.5 to 10 g per liter of the stabilizing solution.
It is in the range of g.

【0081】一般式(F−13)において、R51、R52
びR53はそれぞれ、水素原子、置換されてもよいアルキ
ル基(例えばメチル、エチル、メトキシエチル、ベンジ
ル、カルボキシメチル、スルホプロピル、ヒドロキシエ
チル、n-プロピル、iso-プロピル、クロロメチル、カル
ボキシエチル等)又はアリール基(例えば、フェニル、
p-メトキシフェニル、p-ヒドロキシフェニル、m-スルホ
フェニル、m-カルボキシフェニル等)を表し、Xは置換
されてもよい含窒素ヘテロ環(例えばピロール、イミダ
ゾール、ピペリジン、ピラゾール、スクシンイミド、ト
リアゾール、テトラゾール、チアジアジン、チアジアゾ
リン、モルホリン、ピペラジン、チアモルホリン、イン
ドール、インダゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾト
リアゾール、ピロリジン、ピラゾリジン、ヒダントイ
ン、ウラゾール等)を表す。
In formula (F-13), R 51 , R 52 and R 53 are each a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group (eg, methyl, ethyl, methoxyethyl, benzyl, carboxymethyl, sulfopropyl, Hydroxyethyl, n-propyl, iso-propyl, chloromethyl, carboxyethyl etc.) or an aryl group (eg phenyl,
p-methoxyphenyl, p-hydroxyphenyl, m-sulfophenyl, m-carboxyphenyl, etc., and X is an optionally substituted nitrogen-containing heterocycle (eg, pyrrole, imidazole, piperidine, pyrazole, succinimide, triazole, tetrazole) , Thiadiazine, thiadiazoline, morpholine, piperazine, thiamorpholine, indole, indazole, benzimidazole, benzotriazole, pyrrolidine, pyrazolidine, hydantoin, urazole and the like).

【0082】以下一般式(F−13)で表される化合物の
例示化合物を挙げる。
Examples of the compound represented by formula (F-13) will be given below.

【0083】[0083]

【化38】 [Chemical 38]

【0084】[0084]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0085】[0085]

【化40】 [Chemical 40]

【0086】[0086]

【化41】 Embedded image

【0087】[0087]

【化42】 Embedded image

【0088】[0088]

【化43】 [Chemical 43]

【0089】これら一般式(F−13)で表される化合物
の具体例のうちより好ましい化合物としては(F−13−
1)、(F−13−2)、(F−13−3)、(F−13−
8)、(F−13−10)、(F−13−14)(F−13−3
5)、(F−13−36)、(F−13−39)、(F−13−4
5)、(F−13−55)、(F−13−60)、(F−13−6
5)、(F−13−67)、(F−13−68)、(F−13−6
9)、(F−13−72)、(F−13−74)が挙げられる。
Among the specific examples of the compounds represented by the general formula (F-13), more preferable compounds include (F-13-
1), (F-13-2), (F-13-3), (F-13-
8), (F-13-10), (F-13-14) (F-13-3
5), (F-13-36), (F-13-39), (F-13-4
5), (F-13-55), (F-13-60), (F-13-6)
5), (F-13-67), (F-13-68), (F-13-6
9), (F-13-72) and (F-13-74).

【0090】一般式(F−13)で表される化合物は市販
品としても容易に入手できる。
The compound represented by formula (F-13) can be easily obtained as a commercial product.

【0091】一般式(F−13)で表される化合物の添加
量は安定処理液1リットル当たり0.05〜20gが好まし
く、より好ましくは0.1〜15gの範囲であり、特に好ま
しくは0.5〜10gの範囲である。
The addition amount of the compound represented by formula (F-13) is preferably 0.05 to 20 g, more preferably 0.1 to 15 g, and particularly preferably 0.5 to 10 g per liter of the stabilizing solution. Is.

【0092】本発明の好ましい態様は、安定処理液中
に、下記一般式(2)又は(3)で表される化合物を含
有することである。
A preferred embodiment of the present invention is that the stabilizing solution contains a compound represented by the following general formula (2) or (3).

【0093】一般式(2) R54−O−(R55−O)m−X2 式中、R54は1価の有機基を表し、R55はエチレン基、
トリメチレン基またはプロピレン基を表し、mは4〜50
の整数を表す。X2は水素原子、−SO3M1又は−PO3M2
表す。ここでM1及びM2はそれぞれ水素原子、アルカリ
金属原子又はアンモニウム基を表す。
General formula (2) R 54 —O— (R 55 —O) m —X 2 In the formula, R 54 represents a monovalent organic group, R 55 represents an ethylene group,
Represents a trimethylene group or a propylene group, m is 4 to 50
Represents the integer. X 2 represents a hydrogen atom, -SO 3 M 1 or -PO 3 M 2. Here, M 1 and M 2 each represent a hydrogen atom, an alkali metal atom or an ammonium group.

【0094】[0094]

【化44】 [Chemical 44]

【0095】式中、R56は水素原子、ヒドロキシル基、
低級アルキル基、アルコキシ基、
In the formula, R 56 is a hydrogen atom, a hydroxyl group,
Lower alkyl group, alkoxy group,

【0096】[0096]

【化45】 Embedded image

【0097】R57、R58及びR59はそれぞれ水素原子又
は低級アルキル基(好ましくは炭素原子数が1〜4のア
ルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基等で
ある。)を表し、前記R57、R58及びR59はそれぞれ同
一でも異なっていてもよい。l1〜l3はそれぞれ0又は
1〜30の整数を表し、p、q1及びq2はそれぞれ0又は1
〜30の整数を表す。X3及びX4はエチレン基、トリメチ
レン基、
R 57 , R 58 and R 59 each represent a hydrogen atom or a lower alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group or a propyl group). , R 57 , R 58 and R 59 may be the same or different. l 1 to l 3 each represent 0 or an integer of 1 to 30, and p, q 1 and q 2 each represent 0 or 1.
Represents an integer of ~ 30. X 3 and X 4 are ethylene group, trimethylene group,

【0098】[0098]

【化46】 Embedded image

【0099】を表す。Represents

【0100】前記一般式(2)の化合物についてさらに
説明すると、式中のR54は一価の有機基、例えば炭素原
子数が4〜30、好ましくは6〜20のアルキル基(例えば
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウン
デシル又はドデシル等)、又は炭素原子数が3〜20のア
ルキル基で置換されたアリール基であり、該アリール基
の置換基は好ましくは炭素原子数3〜12のアルキル基で
あり、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル又はドデシ
ル等である。上記アリール基としてはフェニル、トリ
ル、キシニル、ジフェニル又はナフチル等が挙げられ、
好ましくはフェニル又はトリルである。アリール基にア
ルキル基が結合する位置としては、オルト、メタ、パラ
位いずれでもよい。R55は置換されてもよいエチレン基
又は置換されてもよいトリメチレン基を表し、mは4〜
50の整数を表す。X2は水素原子、−SO3M1又は−PO3M2
を示し、M1及びM2はそれぞれ水素原子、アルカリ金属
原子(Na、K又はLi等)又はNH4を表す。
The compound of the general formula (2) will be further described. In the formula, R 54 is a monovalent organic group, for example, an alkyl group having 4 to 30 carbon atoms, preferably 6 to 20 carbon atoms (eg, hexyl, heptyl). , Octyl, nonyl, decyl, undecyl or dodecyl), or an aryl group substituted with an alkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and the substituent of the aryl group is preferably an alkyl group having 3 to 12 carbon atoms. The group is propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl or dodecyl and the like. Examples of the aryl group include phenyl, tolyl, xynyl, diphenyl or naphthyl,
Preferred is phenyl or tolyl. The position at which the alkyl group is bonded to the aryl group may be any of the ortho, meta and para positions. R 55 represents an optionally substituted ethylene group or an optionally substituted trimethylene group, and m is 4 to
Represents an integer of 50. X 2 is a hydrogen atom, —SO 3 M 1 or —PO 3 M 2
And M 1 and M 2 each represent a hydrogen atom, an alkali metal atom (Na, K or Li, etc.) or NH 4 .

【0101】以下に、一般式(2)で示される具体的例
示化合物を示す。
Specific examples of compounds represented by the general formula (2) are shown below.

【0102】[0102]

【化47】 [Chemical 47]

【0103】[0103]

【化48】 Embedded image

【0104】これら、一般式(2)で示される化合物
は、安定処理液中に1リットル当たり0.1〜40gの範囲で
使用することができ、好ましくは0.3〜20gの範囲であ
る。
The compound represented by the general formula (2) can be used in the stabilizing solution in an amount of 0.1 to 40 g, preferably 0.3 to 20 g, per liter.

【0105】次に、前記一般式(3)で示される化合物
の具体例を示す。
Next, specific examples of the compound represented by the general formula (3) will be shown.

【0106】[0106]

【化49】 [Chemical 49]

【0107】[0107]

【化50】 Embedded image

【0108】[0108]

【化51】 [Chemical 51]

【0109】[0109]

【化52】 Embedded image

【0110】これらポリオキシアルキレン基を有する水
溶性有機シロキサン系化合物の添加量は、安定処理液1
リットル当たり0.01〜20gの範囲で使用する際に良好な
効果を奏し、特に沈殿発生防止及びキズの発生防止に効
果を奏する。
The amount of the water-soluble organic siloxane compound having a polyoxyalkylene group added is such that the stabilizing solution 1
When used in a range of 0.01 to 20 g per liter, it exerts a good effect, and particularly exerts an effect of preventing precipitation and scratches.

【0111】これらの水溶性有機シロキサン系化合物
は、例えば、特開昭47-18333号、特公昭55-51172号、特
公昭51-37538号、特開昭49-62128号明細書及び米国特開
第3,545,970号明細書等に記載されてあるが如き一般的
な水溶性の有機シロキサン系化合物である。
These water-soluble organic siloxane compounds are disclosed, for example, in JP-A-47-18333, JP-B-55-51172, JP-B-51-37538, JP-A-49-62128 and US Pat. It is a general water-soluble organosiloxane compound as described in the specification of No. 3,545,970.

【0112】これら水溶性有機シロキサン系化合物はU
CC(ユニオンカーバイド社)や信越化学工業(株)等か
ら一般に入手することができる。
These water-soluble organic siloxane compounds are U
It can be generally obtained from CC (Union Carbide Co.), Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., etc.

【0113】処理される感光材料のハロゲン化銀は塩化
銀、塩臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀等が挙げられ
るが、本発明の効果を発揮させるためには撮影用感光材
料などの沃化銀含有率がハロゲン化銀の5モル%以上の
沃化銀含有率が比較的高い沃化銀写真感光材料であるこ
とが好ましい。
Examples of the silver halide of the light-sensitive material to be processed include silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, silver iodide and the like. In order to exert the effect of the present invention, it is photographed. The silver iodide photographic light-sensitive material is preferably a silver iodide photographic light-sensitive material having a silver iodide content of 5 mol% or more of silver halide and a relatively high silver iodide content.

【0114】本発明に係る定着液には所謂定着剤が含有
される。
The fixing solution according to the present invention contains a so-called fixing agent.

【0115】定着剤としては、ハロゲン化銀と反応して
水溶性の錯塩を形成する化合物例えばチオ硫酸カリウ
ム、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムの如き
チオ硫酸塩、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸ナト
リウム、チオシアン酸アンモニウムの如きチオシアン酸
塩、或いはチオ尿素チオエーテル等が挙げられるが、本
発明の効果を遺憾なく発揮し得ると言う点でチオ硫酸塩
であることが好ましく、更に好ましくは、チオ硫酸塩の
うちチオ硫酸アンモニウムが70モル%以下である。この
チオ硫酸塩のうちのチオ硫酸アンモニウムの率は、更に
50モル%以下が好ましく、とりわけ好ましいのは20モル
%以下である。
As the fixing agent, a compound which reacts with silver halide to form a water-soluble complex salt, for example, potassium thiosulfate, sodium thiosulfate, thiosulfate such as ammonium thiosulfate, potassium thiocyanate, sodium thiocyanate, thiocyanic acid. Examples thereof include thiocyanates such as ammonium, thiourea thioethers and the like, but thiosulfates are preferable from the viewpoint that the effects of the present invention can be fully exhibited, and more preferably thiosulfates among thiosulfates. Ammonium sulfate is 70 mol% or less. The ratio of ammonium thiosulfate in this thiosulfate is
It is preferably 50 mol% or less, and particularly preferably 20 mol% or less.

【0116】これらの定着剤の他に更に定着液には、硼
酸、硼砂、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カ
リウム、酢酸、酢酸ナトリウム、水酸化アンモニウム等
の各種の塩から成るpH緩衝剤、アルキルアミン類、ポ
リエチレンエキサイド類等の通常定着液に添加すること
が知られているものを適宜添加することができる。
In addition to these fixing agents, further fixing solutions include boric acid, borax, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, acetic acid, sodium acetate, ammonium hydroxide. A pH buffer consisting of various salts such as, alkylamines, polyethylene oxides and the like which are known to be added to a fixing solution can be appropriately added.

【0117】前記定着剤は処理液1l当たり0.1モル以
上で用いられ、好ましくは0.6〜4モルの範囲、特に好
ましくは0.9〜3.0モルの範囲、とりわけ特に好ましくは
1.1〜2.0モルの範囲で用いられる。
The fixing agent is used in an amount of 0.1 mol or more per liter of the processing liquid, preferably in the range of 0.6 to 4 mol, particularly preferably in the range of 0.9 to 3.0 mol, and particularly preferably.
It is used in the range of 1.1 to 2.0 mol.

【0118】本発明においては処理液の活性度を高める
為に処理浴中及び処理補充液貯蔵タンク内で所望により
空気の吹き込み又は酸素の吹き込みを行ってよく、或い
は適当な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素酸塩、過硫酸
塩等を適宜添加してもよい。
In the present invention, air or oxygen may be blown in the treatment bath and the treatment replenisher storage tank to increase the activity of the treatment liquid, if desired, or a suitable oxidizing agent such as peroxide may be used. Hydrogen, bromate, persulfate and the like may be added appropriately.

【0119】本発明の定着液のpHは好ましくは4〜8
の範囲で用いられる。
The pH of the fixing solution of the present invention is preferably 4-8.
Used in the range of.

【0120】本発明の定着液は亜硫酸塩及び亜硫酸放出
化合物を含むことができ、該化合物としては、亜硫酸カ
リウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、亜硫
酸水素アンモニウム、亜硫酸水素カリウム、亜硫酸水素
ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナト
リウム、メタ重亜硫酸アンモニウム等が挙げられる。更
に、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウム、アセトアル
デヒド重亜硫酸ナトリウム、プロピオンアルデヒド重亜
硫酸ナトリウム、ブチルアルデヒド重亜硫酸ナトリウ
ム、コハク酸アルデヒド重亜硫酸ナトリウム、グルタル
アルデヒドビス重亜硫酸ナトリウム、β-メチルグルタ
ルアルデヒドビス重亜硫酸ナトリウム、マレイン酸ジア
ルデヒドビス重亜硫酸ナトリウム等を用いることもでき
る。
The fixing solution of the present invention can contain a sulfite and a sulfite-releasing compound, and the compounds include potassium sulfite, sodium sulfite, ammonium sulfite, ammonium hydrogen sulfite, potassium hydrogen sulfite, sodium hydrogen sulfite, and metabisulfite. Examples thereof include potassium, sodium metabisulfite, and ammonium metabisulfite. Further, sodium formaldehyde bisulfite, sodium acetaldehyde bisulfite, sodium propionaldehyde bisulfite, sodium butyraldehyde bisulfite, sodium succinate aldehyde bisulfite, glutaraldehyde sodium bisulfite, β-methylglutaraldehyde bis sodium bisulfite, maleic acid. Dialdehyde bis sodium bisulfite and the like can also be used.

【0121】これらの亜硫酸塩及び亜硫酸放出化合物
は、定着液1l当たり亜硫酸として0.1モル以上、好ま
しくは0.12〜0.55モル/l、更には0.15〜0.50モル/
l、とりわけ0.20〜0.40モル/lの範囲で用いる。
These sulfites and sulfite-releasing compounds are used as sulfurous acid in an amount of 0.1 mol or more, preferably 0.12 to 0.55 mol / l, more preferably 0.15 to 0.50 mol / l, per liter of the fixing solution.
1, especially in the range 0.20 to 0.40 mol / l.

【0122】本発明における定着処理用の槽は1槽であ
っても、また複数の処理槽であってもよい。
The tank for fixing processing in the present invention may be one tank or a plurality of processing tanks.

【0123】定着処理後、直ちに行う安定化処理の安定
処理液に感光材料が接触するまでの時間は7秒以下が好
ましく、より好ましくは5秒以下であり、更には1〜3
秒であることが好ましい。
The time until the photosensitive material comes into contact with the stabilizing solution in the stabilizing process immediately after the fixing process is preferably 7 seconds or less, more preferably 5 seconds or less, and further 1 to 3
Seconds are preferred.

【0124】安定槽は、1槽でもよいが、2〜10槽程度
までは槽の数を増やすことができ、槽の数の増加により
安定化液の補充量を減少させることができるが、自動現
像機のコンパクト化を考えると2〜6槽程度が好まし
い。補充液は何カ所かに分けて補充してもよいが、好ま
しくはなるべく感光材料の処理の流れからみて後の槽へ
補充し、そのオーバーフロー(槽間を液面下に位置する
管で連通させた場合、該管を溶液が通る場合も含む)を
該槽の前槽に流入する形式即ちカウンターカレント方式
(多段向流方式)にするのが好ましくカスケード方式も
その1つに含まれる。さらに好ましくは2槽以上の安定
化槽で最後の該安定化槽へ補充液を補充して、オーバー
フロー液を順次、前の槽へ移入し流し込むことである。
The number of stabilizing tanks may be one, but the number of tanks can be increased up to about 2 to 10, and the replenishment amount of the stabilizing solution can be reduced by increasing the number of tanks. Considering downsizing of the developing machine, about 2 to 6 tanks are preferable. The replenisher may be replenished in several places, but preferably it is replenished to a subsequent tank in view of the processing flow of the light-sensitive material and its overflow (the tanks are communicated with each other by a pipe located below the liquid surface). In such a case, it is preferable to adopt a system in which the solution flows through the pipe) into the previous tank of the tank, that is, a countercurrent system (multistage countercurrent system), and a cascade system is included in one of them. More preferably, in the stabilizing tank of two or more tanks, the last stabilizing tank is supplemented with the replenishing solution, and the overflow solution is sequentially transferred and poured into the preceding tank.

【0125】本発明の一般式(1)で表される化合物を
定着液に含有せしめるのみで、安定処理液の補充量は処
理される感光材料1m2当たり900ml以下程度までと大幅
に低減することができるが、更に前記構成の処理とする
ことで、処理される感光材料1m2当たり安定処理液の
補充量50〜800mlで本発明の効果を得ることができ、本
発明の効果を遺憾なく発揮すると言う観点から好ましい
補充液量は、100〜650mlであり、更には150〜500mlであ
る。
By only incorporating the compound represented by the general formula (1) of the present invention into the fixing solution, the replenishing amount of the stabilizing solution is greatly reduced to about 900 ml or less per 1 m 2 of the light-sensitive material to be processed. However, by further processing with the above-mentioned constitution, the effect of the present invention can be obtained with a replenishing amount of the stabilizing solution of 50 to 800 ml per 1 m 2 of the light-sensitive material to be processed, and the effect of the present invention is fully exhibited. From this point of view, the preferable amount of the replenisher is 100 to 650 ml, and further 150 to 500 ml.

【0126】本発明においては安定化槽から汲み出した
処理液を定着処理工程の定着液に導入することによっ
て、更なる補充液量の低下ができる。
In the present invention, the amount of replenisher liquid can be further reduced by introducing the processing liquid pumped out from the stabilizing tank into the fixing liquid in the fixing processing step.

【0127】本発明に係わる処理方法の具体的処理工程
としては、(1)発色現像→漂白→定着→安定、(2)
発色現像→漂白→定着→第1安定→第2安定、(3)発
色現像→漂白→漂白定着→定着→第1安定→第2安定が
挙げられる。
Specific processing steps of the processing method according to the present invention include (1) color development → bleaching → fixing → stable, (2)
Color development → bleaching → fixing → 1st stability → 2nd stability, (3) color development → bleaching → bleach-fixing → fixing → 1st stability → 2nd stability.

【0128】[0128]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the embodiments of the present invention are not limited thereto.

【0129】実施例1 コニカカラーネガティブフィルム スーパーDD100(コ
ニカ(株)製)を用いて、カメラにて実写露光を行った
もので20日間、安定タンク槽の容量の2倍の量の安定補
充液が補充されるまでランニング処理を行った。ランニ
ング処理の工程及び条件を以下に示す。
Example 1 A Konica Color Negative Film Super DD100 (manufactured by Konica Corp.) was used for actual exposure exposure with a camera for 20 days, and a stable replenisher having a volume twice that of the stable tank tank. The running process was carried out until was replenished. The steps and conditions of the running treatment are shown below.

【0130】 処理工程 処理時間 処理温度(℃) 補充量(ml/感光材料1m2) 発色現像 3分15秒 38 625 漂 白 45秒 37 250 定 着 1分30秒 37 900 安 定 60秒 37 600 乾 燥 60秒 70 − 但し、定着槽は2槽でカウンターカレント(45秒、2
槽)、安定槽は4槽でカウンターカレント(15秒、4
槽)で行った。又、各工程のクロスオーバータイムは3
秒とした。
Processing step Processing time Processing temperature (° C) Replenishment amount (ml / light-sensitive material 1 m 2 ) Color development 3 minutes 15 seconds 38 625 Bleaching 45 seconds 37 250 Fixed 1 minute 30 seconds 37 900 Stability 60 seconds 37 600 Dry 60 seconds 70-However, there are 2 fixing tanks and counter current (45 seconds, 2
Counter current (15 seconds, 4 seconds)
Tank). The crossover time of each process is 3
Seconds

【0131】使用した処理液の組成を以下に示す。The composition of the treatment liquid used is shown below.

【0132】 《発色現像液》 炭酸カリウム 30g 炭酸水素ナトリウム 2.5g 亜硫酸カリウム 4g 臭化ナトリウム 1.3g 沃化カリウム 1.2mg ヒドロキシルアミン硫酸塩 2.5g 塩化ナトリウム 0.6g 4-アミノ-3-メチル-N-エチル-N-(β-ヒドロキシエチル)アニリン硫酸塩 4.8g 水酸化カリウム 1.2g 水を加えて1lとし、水酸化カリウム又は50%硫酸を用いてpH 10.06に調整 する。<< Color Developer >> Potassium carbonate 30 g Sodium hydrogen carbonate 2.5 g Potassium sulfite 4 g Sodium bromide 1.3 g Potassium iodide 1.2 mg Hydroxylamine sulfate 2.5 g Sodium chloride 0.6 g 4-Amino-3-methyl-N-ethyl -N- (β-hydroxyethyl) aniline sulfate 4.8 g Potassium hydroxide 1.2 g Add water to make 1 liter, and adjust to pH 10.06 with potassium hydroxide or 50% sulfuric acid.

【0133】 《発色現像補充液》 炭酸カリウム 40g 炭酸水素ナトリウム 3g 亜硫酸カリウム 7g 臭化ナトリウム 0.5g ヒドロキシルアミン硫酸塩 3.1g 4-アミノ-3-メチル-N-エチル-N-(β-ヒドロキシエチル)アニリン硫酸塩 6.0g 水酸化カリウム 2g 水を加えて1lとし、水酸化カリウム又は20%硫酸を用いてpH 10.06に調整 する。<< Color Development Replenisher >> Potassium carbonate 40 g Sodium hydrogen carbonate 3 g Potassium sulfite 7 g Sodium bromide 0.5 g Hydroxylamine sulfate 3.1 g 4-Amino-3-methyl-N-ethyl-N- (β-hydroxyethyl) Aniline sulfate 6.0 g Potassium hydroxide 2 g Add water to make 1 liter, and adjust to pH 10.06 with potassium hydroxide or 20% sulfuric acid.

【0134】 《漂白液及び漂白補充液》 1,3-プロパンジアミン4酢酸第2鉄アンモニウム塩 150g 臭化アンモニウム 100g 水を加えて1lとし、アンモニア水又は氷酢酸を用いてpH 5.2に調整する。<< Bleaching Solution and Bleaching Replenishing Solution >> 1,3-Propanediaminetetraacetic acid ferric ammonium salt 150 g Ammonium bromide 100 g Water is added to make 1 l, and the pH is adjusted to 5.2 with aqueous ammonia or glacial acetic acid.

【0135】 《定着液及び定着補充液》 チオ硫酸アンモニウム 表1に記載 添加物(表1に記載) 表1に記載 亜硫酸アンモニウム 10g エチレンジアミン4酢酸2ナトリウム 5g 水を加えて1lとし、酢酸とアンモニア水を用いてpH 8.0に調整する。<< Fixing Solution and Fixing Replenisher >> Ammonium thiosulfate Described in Table 1 Additives (described in Table 1) Described in Table 1 Ammonium sulfite 10 g Ethylenediaminetetraacetic acid disodium 5 g Water was added to make 1 l, and acetic acid and ammonia water were added. Adjust to pH 8.0 using.

【0136】 《安定液及び安定補充液》 例示化合物2−5 1ml 例示化合物3−3 0.2g 5-クロロ-2-メチル-4-イソチアゾリン-3-オン 0.02g 添加物(表1に記載) 表1に記載 水を加えて1lとし、アンモニア水及び50%硫酸にてpH7.0に調整した。<< Stabilizer and Stable Replenisher >> Exemplified Compound 2-5 1 ml Exemplified Compound 3-3 0.2 g 5-Chloro-2-methyl-4-isothiazolin-3-one 0.02 g Additives (listed in Table 1) Table The water described in 1 was added to make 1 liter, and the pH was adjusted to 7.0 with aqueous ammonia and 50% sulfuric acid.

【0137】定着液及び定着補充液中のチオ硫酸アンモ
ニウム添加量及び添加物を表1に記載の如くに変化さ
せ、同時に安定液及び安定補充液中の添加物を同様に表
1に記載の如くに変化させてランニング処理を行った。
The amount of ammonium thiosulfate added and the additives in the fixer and fixer replenisher were changed as shown in Table 1, and at the same time, the additives in the stabilizer and the fixer replenisher were also changed as shown in Table 1. The running process was performed by changing.

【0138】ランニング処理終了後のフィルム裏面の汚
れの状況及び安定槽2槽目の状況を観察した。又、処理
済みフィルムの未露光部の残留銀量を蛍光X線法にて測
定した。結果を表1に示す。
After the running process was completed, the state of dirt on the back surface of the film and the state of the second tank in the stabilizing tank were observed. The amount of residual silver in the unexposed area of the processed film was measured by the fluorescent X-ray method. The results are shown in Table 1.

【0139】[0139]

【表1】 [Table 1]

【0140】ここに、ホルマリンはホルムアルデヒドの
約37%水溶液であり評価基準は以下の如くである。
Here, formalin is an approximately 37% aqueous solution of formaldehyde, and the evaluation criteria are as follows.

【0141】《フィルムの裏面汚れの評価》 ○:裏面に汚れは全く見られない △:裏面に若干の汚れが見られる ×:裏面に明らかに汚れが見られ、実用上問題のレベル
である。
<Evaluation of Backside Stain of Film> ◯: No backside stain is observed Δ: Some backside stain is observed ×: Backside is clearly seen, which is a practical problem level.

【0142】《安定槽2槽目の状況の評価》 ○:2槽目には全く異常は認められない △:2槽目に若干の汚れが見られる ×:2槽目に明らかに硫化が見られ、実用上問題のレベ
ルである。
<< Evaluation of the condition of the second stable tank >>: No abnormality is observed in the second tank. △: Some stains are observed in the second tank. ×: Sulfur is clearly observed in the second tank. This is a practical problem level.

【0143】又、未露光部の残留銀量が、3mg/dm2
下の場合は商品上の実害は無い。
Further, when the amount of residual silver in the unexposed area is 3 mg / dm 2 or less, there is no actual damage on the product.

【0144】実施例2 以下において、ハロゲン化銀写真感光材料中の添加量は
特に記載の無い限り1m2当たりのg数で示す。又、ハロ
ゲン化銀とコロイド銀は銀に換算して示す。
Example 2 In the following, the addition amount in the silver halide photographic light-sensitive material is shown in g per 1 m 2 unless otherwise specified. Also, silver halide and colloidal silver are shown in terms of silver.

【0145】トリアセチルセルロースフィルム支持体上
に、下記に示す組成の各層を順次支持体側から形成し
て、多層カラー写真感光材料試料を作製した。
On the triacetyl cellulose film support, each layer having the composition shown below was sequentially formed from the support side to prepare a multilayer color photographic light-sensitive material sample.

【0146】《感光材料試料》 第1層:ハレーション防止層(HC−1) 黒色コロイド銀 0.22 紫外線吸収剤(UV−1) 0.20 カラードカプラー(CM−1) 0.05 カラードカプラー(CM−2)
0.05 高沸点溶媒(Oil−1)
0.20 ゼラチン 1.3 第2層:中間層(IL−1) 紫外線吸収剤(UV−1) 0.01 高沸点溶媒(Oil−1) 0.01 ゼラチン 1.3 第3層:低感度赤感性乳剤層(RL) 沃臭化銀乳剤(Em−1) 1.0 沃臭化銀乳剤(Em−2) 0.5 増感色素(S−1) 2.5×10-4モル/銀1モル 増感色素(S−2) 2.5×10-4モル/銀1モル 増感色素(S−3) 0.5×10-4モル/銀1モル シアンカプラー(C−4〃) 1.2 シアンカプラー(C−2〃) 0.06 カラードシアンカプラー(CC−1) 0.05 DIR化合物(D−1) 0.002 高沸点溶媒(Oil−1) 0.5 ゼラチン 1.3 第4層:高感度赤感性乳剤層(RH) 沃臭化銀乳剤(Em−3) 2.0 増感色素(S−1) 2.0×10-4モル/銀1モル 増感色素(S−2) 2.0×10-4モル/銀1モル 増感色素(S−3) 0.1×10-4モル/銀1モル シアンカプラー(C−1〃) 0.15 シアンカプラー(C−2〃) 0.018 シアンカプラー(C−3〃) 1.15 カラードシアンカプラー(CC−1) 0.015 DIR化合物(D−2) 0.05 高沸点溶媒(Oil−1) 0.5 セ゛ラチン 1.2 第5層:中間層(IL−2) ゼラチン 0.4 第6層:低感度緑感性乳剤層(GL) 沃臭化銀乳剤(Em−1) 0.9 増感色素(S−4) 5.0×10-4モル/銀1モル 増感色素(S−5) 1.0×10-4モル/銀1モル マゼンタカプラー(M−1〃) 0.3 マゼンタカプラー(M−2〃) 0.2 カラードマゼンタカプラー(CM−1) 0.05 DIR化合物(D−3) 0.015 DIR化合物(D−4) 0.020 高沸点溶媒(Oil−2) 0.5 ゼラチン 1.0 第7層:中間層(IL−3) ゼラチン 0.8 高沸点溶媒(Oil−1) 0.2 第8層:高感度緑感性乳剤層(GH) 沃臭化銀乳剤(Em−3) 1.2 増感色素(S−6) 1.5×10-4モル/銀1モル 増感色素(S−7) 2.5×10-4モル/銀1モル 増感色素(S−8) 0.5×10-4モル/銀1モル マゼンタカプラー(M−2〃) 0.06 マゼンタカプラー(M−3〃) 0.18 カラードマゼンタカプラー(CM−2) 0.05 DIR化合物(D−3) 0.01 高沸点溶媒(Oil−3) 0.5 ゼラチン 1.0 第9層:イエローフィルター層(YC) 黄色コロイド銀 0.1 色汚染防止剤(SC−1) 0.1 高沸点溶媒(Oil−3) 0.1 ゼラチン 0.8 第10層:低感度青感性乳剤層(BL) 沃臭化銀乳剤(Em−1) 0.25 沃臭化銀乳剤(Em−2) 0.25 増感色素(S−10) 7.0×10-4モル/銀1モル イエローカプラー(Y−1〃) 0.6 イエローカプラー(Y−2〃) 0.12 DIR化合物(D−2) 0.01 高沸点溶媒(Oil−3) 0.15 ゼラチン 1.0 第11層:高感度青感性乳剤層(BH) 沃臭化銀乳剤(Em−4) 0.45 沃臭化銀乳剤(Em−1) 0.20 増感色素(S−9) 1.0×10-4モル/銀1モル 増感色素(S−10) 3.0×10-4モル/銀1モル イエローカプラー(Y−1〃) 0.36 イエローカプラー(Y−2〃) 0.06 高沸点溶媒(Oil−3) 0.07 ゼラチン 1.1 第12層:第1保護層(Pro−1) 微粒子沃臭化銀乳剤(平均粒径0.08μ、AgI2モル%) 0.4 紫外線吸収剤(UV−1) 0.10 紫外線吸収剤(UV−2) 0.05 高沸点溶媒(Oil−1) 0.1 高沸点溶媒(Oil−4) 0.1 ホルマリンスカベンジャー(HS−1) 0.5 ホルマリンスカヘ゛ンシ゛ャー(HS-2) 0.2 ゼラチン 1.0 第13層:第2保護層(Pro−2) 界面活性剤(Su−1) 0.005 アルカリで可溶性のマット剤(平均粒径2μ) 0.10 シアン染料(AIC−1) 0.005 マゼンタ染料(AIM−1) 0.01 滑り剤(WAX−1) 0.04 ゼラチン 0.8 尚、各層にはこれ以外に、塗布助剤Su−2、分散助剤
Su−3、硬膜剤H−1及びH−2、防黴剤DI−1、
安定剤Stab−1、カブリ防止剤AF−1及びAF−
2を添加した。又、使用した乳剤は以下のものである。
<< Photosensitive Material Sample >> First Layer: Antihalation Layer (HC-1) Black Colloidal Silver 0.22 Ultraviolet Absorber (UV-1) 0.20 Colored Coupler (CM-1) 0.05 Colored Coupler (CM-2)
0.05 High boiling point solvent (Oil-1)
0.20 Gelatin 1.3 Second layer: Intermediate layer (IL-1) Ultraviolet absorber (UV-1) 0.01 High boiling point solvent (Oil-1) 0.01 Gelatin 1.3 Third layer: Low sensitivity red-sensitive emulsion layer (RL) Iodine Silver bromide emulsion (Em-1) 1.0 Silver iodobromide emulsion (Em-2) 0.5 Sensitizing dye (S-1) 2.5 × 10 −4 mol / silver 1 mol Sensitizing dye (S-2) 2.5 × 10 -4 mol / silver 1 mol Sensitizing dye (S-3) 0.5 × 10 -4 mol / silver 1 mol Cyan coupler (C-4〃) 1.2 Cyan coupler (C-2〃) 0.06 Colored cyan coupler (CC-1) ) 0.05 DIR compound (D-1) 0.002 High boiling point solvent (Oil-1) 0.5 Gelatin 1.3 Fourth layer: high-sensitivity red-sensitive emulsion layer (RH) Silver iodobromide emulsion (Em-3) 2.0 Sensitizing dye (S -1) 2.0 × 10 -4 mol / 1 mol of silver sensitizing dye (S-2) 2.0 × 10 -4 mol / 1 mol of silver sensitizing dye (S-3) 0.1 × 10 -4 mol / silver model Cyan coupler (C-1〃) 0.15 Cyan coupler (C-2〃) 0.018 Cyan coupler (C-3〃) 1.15 Colored cyan coupler (CC-1) 0.015 DIR compound (D-2) 0.05 High boiling point solvent (Oil- 1) 0.5 gelatin 1.2 Fifth layer: intermediate layer (IL-2) gelatin 0.4 Sixth layer: low sensitivity green sensitive emulsion layer (GL) Silver iodobromide emulsion (Em-1) 0.9 Sensitizing dye (S-4) 5.0 × 10 -4 mol / silver 1 mol Sensitizing dye (S-5) 1.0 × 10 -4 mol / silver 1 mol Magenta coupler (M-1〃) 0.3 Magenta coupler (M-2〃) 0.2 Colored magenta coupler ( CM-1) 0.05 DIR compound (D-3) 0.015 DIR compound (D-4) 0.020 High boiling point solvent (Oil-2) 0.5 Gelatin 1.0 7th layer: Intermediate layer (IL-3) Gelatin 0.8 High boiling point solvent (Oil) -1) 0.2 8th layer: high-sensitivity green-sensitive emulsion layer ( H) Silver iodobromide emulsion (Em-3) 1.2 Sensitizing dye (S-6) 1.5 × 10 -4 mol / 1 mol of silver Sensitizing dye (S-7) 2.5 × 10 -4 mol / 1 mol of silver up Sensitizing dye (S-8) 0.5 × 10 -4 mol / silver 1 mol Magenta coupler (M-2〃) 0.06 Magenta coupler (M-3〃) 0.18 Colored magenta coupler (CM-2) 0.05 DIR compound (D-3) ) 0.01 High boiling point solvent (Oil-3) 0.5 Gelatin 1.0 9th layer: Yellow filter layer (YC) Yellow colloidal silver 0.1 Color stain inhibitor (SC-1) 0.1 High boiling point solvent (Oil-3) 0.1 Gelatin 0.8 10th Layer: Low-sensitivity blue-sensitive emulsion layer (BL) Silver iodobromide emulsion (Em-1) 0.25 Silver iodobromide emulsion (Em-2) 0.25 Sensitizing dye (S-10) 7.0 × 10 -4 mol / silver 1 Mole Yellow coupler (Y-1〃) 0.6 Yellow coupler (Y-2〃) 0.12 DIR compound (D-2) 0.01 High boiling point Medium (Oil-3) 0.15 Gelatin 1.0 11th layer: High-sensitivity blue-sensitive emulsion layer (BH) Silver iodobromide emulsion (Em-4) 0.45 Silver iodobromide emulsion (Em-1) 0.20 Sensitizing dye (S- 9) 1.0 × 10 -4 mol / silver 1 mol Sensitizing dye (S-10) 3.0 × 10 -4 mol / silver 1 mol Yellow coupler (Y-1〃) 0.36 Yellow coupler (Y-2〃) 0.06 High boiling point Solvent (Oil-3) 0.07 Gelatin 1.1 12th layer: 1st protective layer (Pro-1) Fine grain silver iodobromide emulsion (average particle size 0.08μ, AgI 2 mol%) 0.4 UV absorber (UV-1) 0.10 UV Absorbent (UV-2) 0.05 High boiling point solvent (Oil-1) 0.1 High boiling point solvent (Oil-4) 0.1 Formalin scavenger (HS-1) 0.5 Formalin scavenger (HS-2) 0.2 Gelatin 1.0 13th layer: 2nd Protective layer (Pro-2) Surfactant (Su-1) 0.005 Alkali-soluble mat (Average particle size 2μ) 0.10 Cyan dye (AIC-1) 0.005 Magenta dye (AIM-1) 0.01 Sliding agent (WAX-1) 0.04 Gelatin 0.8 In addition to this, coating aid Su-2 and dispersion are added to each layer. Auxiliary agent Su-3, hardeners H-1 and H-2, antifungal agent DI-1,
Stabilizer Stab-1, antifoggants AF-1 and AF-
2 was added. The emulsions used are as follows.

【0147】 Em−1:平均粒径0.46μ、平均沃化銀含有率7.5% 単分散性の表面低沃化銀含有型乳剤 Em−2:平均粒径0.32μ、平均沃化銀含有率2.0% 単分散性で均一組成の乳剤 Em−3:平均粒径0.78μ、平均沃化銀含有率6.0% 単分散性の表面低沃化銀含有型乳剤 Em−4:平均粒径0.95μ、平均沃化銀含有率8.0% 単分散性の表面低沃化銀含有型乳剤 Em−1、Em−3及びEm−4は特開昭60-138538
号、同61-245151号を参照して調製した多層構造を有
し、主として8面体からなる沃化銀乳剤である。又、E
m−1〜Em−4はいずれも、(粒径)/(粒子の厚
さ)の平均値は1.0であり、粒子の分布の広さはそれぞ
れ14、10、12及び12%(変動係数)であった。
Em-1: Average grain size 0.46μ, average silver iodide content 7.5% Monodisperse surface low silver iodide-containing emulsion Em-2: Average grain size 0.32μ, average silver iodide content 2.0 % Monodisperse emulsion of uniform composition Em-3: average grain size 0.78μ, average silver iodide content 6.0% Monodisperse surface low silver iodide-containing emulsion Em-4: average grain size 0.95μ, average Silver iodide content 8.0% Monodisperse surface low silver iodide content type emulsions Em-1, Em-3 and Em-4 are disclosed in JP-A-60-138538.
No. 61-245151, and it is a silver iodide emulsion mainly having an octahedron having a multilayer structure. Also, E
In all of m-1 to Em-4, the average value of (particle size) / (particle thickness) is 1.0, and the width of particle distribution is 14, 10, 12 and 12% (variation coefficient), respectively. Met.

【0148】[0148]

【化53】 Embedded image

【0149】[0149]

【化54】 [Chemical 54]

【0150】[0150]

【化55】 [Chemical 55]

【0151】[0151]

【化56】 [Chemical 56]

【0152】[0152]

【化57】 [Chemical 57]

【0153】[0153]

【化58】 Embedded image

【0154】[0154]

【化59】 Embedded image

【0155】[0155]

【化60】 Embedded image

【0156】[0156]

【化61】 [Chemical formula 61]

【0157】[0157]

【化62】 Embedded image

【0158】[0158]

【化63】 [Chemical formula 63]

【0159】得られたフィルム試料を用いて以下の実験
を行った。
The following experiment was conducted using the obtained film sample.

【0160】実施例1の実験No.1−5で用いた安定液
及び安定補充液中のホルマリン(5ml/l)を表2に記
載の如く変化させ、他は同様にして実験を行った。
Formalin (5 ml / l) in the stabilizing solution and the stabilizing replenishing solution used in Experiment No. 1-5 of Example 1 was changed as shown in Table 2, and the other experiments were conducted in the same manner.

【0161】同時に処理済みフィルムを75℃、10%RHの
条件で10日間暗所に保存し、保存前後の未露光部のイエ
ロー透過濃度の差(イエローステイン濃度)を測定し
た。
At the same time, the treated film was stored in the dark at 75 ° C. and 10% RH for 10 days, and the difference in yellow transmission density (yellow stain density) between the unexposed areas before and after storage was measured.

【0162】結果を表2に示す。The results are shown in Table 2.

【0163】[0163]

【表2】 [Table 2]

【0164】これにより、前記一般式(F−1)〜(F
−13)で表される化合物を安定液中に組み合わせて用い
ることで、経時保存時の未露光部のイエローステインの
発生が改良されることが判る。
Accordingly, the above general formulas (F-1) to (F
It is understood that the use of the compound represented by -13) in combination in the stabilizing solution improves the generation of yellow stain in the unexposed area during storage over time.

【0165】実施例3 実施例1の実験No.1−4で用いた定着液及び定着補充
液中のチオ硫酸アンモニウムの合計添加モル数を一定に
保ちつつ、チオ硫酸ナトリウムを適宜混合し、表3に示
す様なチオ硫酸塩中のアンモニウム含有率(モル%)に
し、他は同様にして実験を行った。又、ランニング終了
時の定着タンク液の臭気の状態を調べた。これらを表3
に示す。
Example 3 Sodium thiosulfate was appropriately mixed while keeping the total number of moles of ammonium thiosulfate added in the fixer and fixer replenisher used in Experiment Nos. 1-4 of Example 1 as appropriate, and Table 3 The experiment was carried out in the same manner except that the ammonium content (mol%) in the thiosulfate was changed to that shown in. Further, the state of odor of the fixing tank liquid at the end of running was examined. Table 3
Shown in

【0166】[0166]

【表3】 [Table 3]

【0167】ここに、 《臭気の評価》 ○:ほとんど臭いが無い △:若干アンモニア臭がする ×:明らかにアンモニア臭があり、周辺で臭う ×の数が多いほど臭気がきついことを意味する。<Evaluation of odor> ◯: Almost no odor Δ: Slight ammonia odor X: Clearly ammonia odor, and odor in the vicinity The larger the number X, the stronger the odor.

【0168】表3から、定着液及び定着補充液中のチオ
硫酸塩のアンモニウム塩含有量が70モル%以下の場合
(特に50モル%以下、とりわけ20モル%以下)に、本発
明の効果を良好に奏するばかりか臭気についても改良が
見られ、作業環境の改善が図られることが判る。
From Table 3, the effect of the present invention can be obtained when the ammonium salt content of thiosulfate in the fixer and fixer replenisher is 70 mol% or less (particularly 50 mol% or less, especially 20 mol% or less). It can be seen that not only the performance is good, but also the odor is improved and the working environment is improved.

【0169】実施例4 実施例1の実験No.1−7において、安定処理槽4槽の
うちの定着槽に最も近い安定処理槽からフィルム1m2
たり450mlを直前の定着処理槽にベローズポンプで供給
する様にし、定着補充液を2倍に濃厚化し、該濃厚化さ
れた定着補充液をフィルム1m2当たり450ml定着処理槽
の2槽目に補充する様にして、ランニングテストを行っ
たところ、ランニング終了時の残留銀量は0となり、定
着性能の改良が認められた。他の性能は実施例1での条
件と同じであり、更にこの処理の際に発生する写真総廃
液量は約21%減少したことが確認された。
Example 4 In Experiment No. 1-7 of Example 1, 450 ml per 1 m 2 of film was transferred from the stabilizing tank closest to the fixing tank among the four stabilizing tanks to the immediately preceding fixing tank with a bellows pump. When the running test was conducted, the fixing replenisher was concentrated twice as much, and the concentrated fixing replenisher was replenished in the second 450 ml fixing treatment tank per 1 m 2 of film. The residual silver amount at the end of the running was 0, and improvement in fixing performance was confirmed. Other properties were the same as the conditions in Example 1, and it was further confirmed that the total amount of photographic waste liquid generated during this treatment was reduced by about 21%.

【0170】これらのことより、本発明の安定処理槽の
一部又は全部を定着槽に用いることにより、本発明の効
果をより良好に奏するばかりか、写真総廃液量の減少を
も可能とすることが判る。
From the above, by using a part or all of the stabilizing bath of the present invention as the fixing bath, not only the effects of the present invention can be exhibited more favorably, but also the total amount of photographic waste liquid can be reduced. I understand.

【0171】実施例5 実施例2の実験No.2−3で用いた定着液中の化合物
(1−10)及び安定液中の化合物(F−1−16)の代わ
りに、表4に記載の化合物を添加し、他は実施例1と同
様にして実験を行った。結果を表4に示す。
Example 5 Instead of the compound (1-10) in the fixing solution and the compound (F-1-16) in the stabilizing solution used in Experiment No. 2-3 of Example 2, the results are shown in Table 4. The experiment was conducted in the same manner as in Example 1 except that the compound of Example 1 was added. The results are shown in Table 4.

【0172】[0172]

【表4】 [Table 4]

【0173】これによっても、本発明の化合物を定着液
に用い、安定液には実質的にホルムアルデヒドを用いる
ことなく処理を行うことの優位性が判る。
This also shows the superiority of using the compound of the present invention in the fixing solution and performing the processing substantially without using formaldehyde in the stabilizing solution.

【0174】実施例6 実施例1の実験No.1−6において、定着液及び定着補
充液の処方を下記の如くに変更し、表5に示す様に安定
液の補充量を変化させた以外は同様の実験を行ってフィ
ルム裏面の汚れを評価した。
Example 6 In Experiment No. 1-6 of Example 1, except that the formulations of the fixing solution and the fixing replenishing solution were changed as follows, and the replenishing amount of the stabilizing solution was changed as shown in Table 5. Performed the same experiment to evaluate the stain on the back surface of the film.

【0175】 《定着液及び定着補充液》 チオ硫酸アンモニウム 380g 亜硫酸アンモニウム 15g ジエチレンアミン5酢酸ナトリウム 2g 水を加えて1lとし、酢酸とアンモニア水を用いてpH7.5に調整する。<< Fixing Solution and Fixing Replenishing Solution >> Ammonium thiosulfate 380 g Ammonium sulfite 15 g Diethyleneamine pentasodium acetate 2 g Water is added to make 1 l, and pH is adjusted to 7.5 with acetic acid and aqueous ammonia.

【0176】結果を表5に示す。The results are shown in Table 5.

【0177】[0177]

【表5】 [Table 5]

【0178】次に、実施例1の実験No.1−6におい
て、定着液及び定着補充液の処方は変更せずに、表6に
示す様に安定液の補充量を変化させた以外は同様の実験
を行った結果を表6に示す。
Next, in Experiment No. 1-6 of Example 1, the same as in Example 6 except that the replenishing amount of the stabilizing solution was changed as shown in Table 6 without changing the prescriptions of the fixing solution and the fixing replenishing solution. Table 6 shows the result of the experiment.

【0179】[0179]

【表6】 [Table 6]

【0180】表5及び表6の結果を比べると、本発明に
おいては安定液の補充量が900ml/m2以下で本発明の効
果を顕著に奏し、50〜800ml/m2、更には100〜650ml/m
2の範囲でより有利であることが判る。
Comparing the results in Tables 5 and 6, the effect of the present invention is remarkably exhibited when the replenishing amount of the stabilizing solution is 900 ml / m 2 or less in the present invention, 50 to 800 ml / m 2 , and further 100 to 100 ml / m 2 . 650 ml / m
It turns out that the range of 2 is more advantageous.

【0181】[0181]

【発明の効果】本発明により、処理される感光材料の裏
面汚れの発生及び安定処理液での硫化の発生を伴わず
に、安定処理液の補充量の低減ができ、写真処理廃液が
低減され、かつ長期にわたって安定した処理が可能とな
り、地球環境保護の観点から好適なハロゲン化銀写真感
光材料の処理方法を提供できる。
According to the present invention, the replenishing amount of the stabilizing solution can be reduced and the photographic processing waste solution can be reduced without causing the back surface of the photosensitive material to be processed and the sulfurization of the stabilizing solution. In addition, it is possible to provide stable processing over a long period of time, and it is possible to provide a processing method of a silver halide photographic light-sensitive material that is suitable from the viewpoint of global environment protection.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で表される化合物を含
有する定着液を用いる定着処理工程、及び前記定着処理
終了後直ちに安定処理を行い、実質的にホルムアルデヒ
ドを含有しない安定処理液を用いる安定処理工程を少な
くとも有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法。 【化1】
1. A fixing treatment step using a fixing solution containing a compound represented by the following general formula (1), and a stabilizing treatment immediately after completion of the fixing treatment to obtain a stabilizing treatment solution containing substantially no formaldehyde. A method of processing a silver halide photographic light-sensitive material, which comprises at least a stabilizing process to be used. Embedded image
【請求項2】 前記定着液の補充液がチオ硫酸塩を含有
することを特徴とする請求項1に記載のハロゲン化銀写
真感光材料の処理方法。
2. The method for processing a silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein the replenisher for the fixing solution contains thiosulfate.
【請求項3】 前記安定処理液の補充液が下記一般式
(F−1)〜(F−13)で表される化合物の少なくとも
一つを含有することを特徴とする請求項1又は2に記載
のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 【化2】 〔式中、R11〜R16は、各々、水素原子又は1価の有機
基を表す。〕 【化3】 〔式中、R21〜R23は、各々、水素原子又はメチロール
基を表す。〕 【化4】 〔式中、V1及びW1は電子吸引性の基を表し、又、V1
とW1で結合して5員又は6員の含窒素ヘテロ環を形成
してもよい。Y1は水素原子又は加水分解によって脱離
する基を表す。Zは窒素原子と共に単環又は縮合した含
窒素ヘテロ環を形成するのに必要な非金属原子群を表
す。〕 【化5】 〔式中、R31は水素原子又は脂肪族基を表し、R32及び
33は各々脂肪族基又はアリール基を表し、R32とR33
は互いに結合して環を形成してもよい。Z1及びZ2は各
々酸素原子、硫黄原子又は−N(R34)−を表す。但
し、Z1とZ2は同時に酸素原子又は−N(R34)−であ
ることはない。R34は水素原子、ヒドロキシ基、脂肪族
基又はアリール基を表す。〕 【化6】 〔式中、R35は水素原子又は脂肪族炭化水素基を表し、
2は加水分解によって脱離する基を表し、Mはカチオ
ンを表し、W2及びY2は各々水素原子又は加水分解によ
って脱離する基を表し、nは1〜10の整数を表し、Z3
は水素原子、脂肪族炭化水素基、アリール基又は加水分
解によって脱離する基を表し、R36は脂肪族炭化水素基
又はアリール基を表す。Z3はR36と結合して環を形成
してもよい。〕 【化7】 〔式中、A1〜A4は水素原子、アルキル基、アルケニル
基、ピリジル基を表す。lは0又は1を表す。〕 【化8】 〔式中、Z4は炭化水素環又はヘテロ環を形成するのに
必要な原子群を表し、Xはアルデヒド基、 【化9】 (式中R41及びR42は各々低級アルキル基を表す。)を
表し、nは1〜4の整数を表す。〕 【化10】 〔式中、R51〜R53は各々水素原子、アルキル基又はア
リール基を表し、Xは含窒素ヘテロ環基を表す。〕
3. The replenisher for the stabilizing solution contains at least one of the compounds represented by the following general formulas (F-1) to (F-13). A method for processing a silver halide photographic light-sensitive material as described above. Embedded image [In the formula, R 11 to R 16 each represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. ] [Chemical 3] [In the formula, R 21 to R 23 each represent a hydrogen atom or a methylol group. ] [Chemical 4] [In the formula, V 1 and W 1 represent an electron-withdrawing group, and V 1 and W 1
And W 1 may combine with each other to form a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle. Y 1 represents a hydrogen atom or a group capable of leaving by hydrolysis. Z represents a nonmetallic atom group necessary for forming a monocyclic ring or a condensed nitrogen-containing heterocycle with a nitrogen atom. ] [Chemical 5] [In the formula, R 31 represents a hydrogen atom or an aliphatic group, R 32 and R 33 each represent an aliphatic group or an aryl group, and R 32 and R 33
May combine with each other to form a ring. Z 1 and Z 2 are each an oxygen atom, a sulfur atom or -N (R 34) - represents a. However, Z 1 and Z 2 are not oxygen atoms or —N (R 34 ) — at the same time. R 34 represents a hydrogen atom, a hydroxy group, an aliphatic group or an aryl group. ] [Chemical 6] [In the formula, R 35 represents a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group,
V 2 represents a group capable of leaving by hydrolysis, M represents a cation, W 2 and Y 2 each represent a hydrogen atom or a group capable of leaving by hydrolysis, n represents an integer of 1 to 10, and Z represents Z. 3
Represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group or a group capable of leaving by hydrolysis, and R 36 represents an aliphatic hydrocarbon group or an aryl group. Z 3 may combine with R 36 to form a ring. ] [Chemical 7] Wherein, A 1 to A 4 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, pyridyl group. l represents 0 or 1. ] [Chemical 8] [In the formula, Z 4 represents an atomic group necessary for forming a hydrocarbon ring or a hetero ring, X represents an aldehyde group, and (Wherein R 41 and R 42 each represent a lower alkyl group), and n represents an integer of 1 to 4. ] [Chemical 10] [In the formula, R 51 to R 53 each represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and X represents a nitrogen-containing heterocyclic group. ]
【請求項4】 チオ硫酸アンモニウムがチオ硫酸塩中の
70モル%以下であることを特徴とする請求項2又は3に
記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
4. Ammonium thiosulfate in thiosulfate
The method for processing a silver halide photographic light-sensitive material according to claim 2 or 3, wherein the content is 70 mol% or less.
【請求項5】 安定処理液の少なくとも一部が定着液に
添加されることを特徴とする請求項1、2、3又は4に
記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
5. The method of processing a silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein at least a part of the stabilizing solution is added to the fixing solution.
【請求項6】 前記一般式(1)で表される化合物を含
有する定着液を用いる工程を有する定着処理、及び前記
定着処理終了後直ちに行い、安定処理液の実質的な補充
量が感光材料1m2当たり900ml以下である安定処理を少
なくとも有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光
材料の処理方法。
6. A fixing process comprising a step of using a fixing solution containing the compound represented by the general formula (1), and immediately after the completion of the fixing process, the stabilizing solution is substantially replenished in a photosensitive material. A method of processing a silver halide photographic light-sensitive material, which comprises at least a stabilizing treatment of 900 ml or less per 1 m 2 .
【請求項7】 安定処理液の少なくとも一部が定着液に
添加されることを特徴とする請求項6に記載のハロゲン
化銀写真感光材料の処理方法。
7. The method of processing a silver halide photographic light-sensitive material according to claim 6, wherein at least a part of the stabilizing solution is added to the fixing solution.
JP7610395A 1994-11-11 1995-03-31 Method for processing silver halide photographic sensitive material Pending JPH08272061A (en)

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