JPH08269162A - Production of ultraviolet curing resin - Google Patents
Production of ultraviolet curing resinInfo
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- JPH08269162A JPH08269162A JP9600295A JP9600295A JPH08269162A JP H08269162 A JPH08269162 A JP H08269162A JP 9600295 A JP9600295 A JP 9600295A JP 9600295 A JP9600295 A JP 9600295A JP H08269162 A JPH08269162 A JP H08269162A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線硬化性樹脂の製
造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、プリント
配線基板を製造する際の銅エッチング用フォトレジスト
及び永久保護皮膜としてのソルダーフォトレジストイン
キ用感光性樹脂として有用であり、貯蔵安定性が良好
で、希アルカリ現像性に優れ、耐熱性、密着性及び耐湿
性に優れた硬化物を与える紫外線硬化性樹脂の製造方法
に関する。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing an ultraviolet curable resin. More specifically, the present invention is useful as a photoresist for copper etching when manufacturing a printed wiring board and a photosensitive resin for a solder photoresist ink as a permanent protective film, which has good storage stability and can be developed with dilute alkali. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing an ultraviolet curable resin that gives a cured product having excellent heat resistance, adhesion, and moisture resistance.
【0002】[0002]
【従来の技術】現在、各種プリント配線基板のソルダー
レジストとしては、希アルカリ現像型の液状ソルダーフ
ォトレジストインキが広く使用されている。このような
ソルダーフォトレジストインキ用組成物としては、例え
ば、ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン酸
との反応生成物に、飽和又は不飽和多塩基酸無水物を反
応させて得られる紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤及び
希釈剤からなる第1液成分と、1分子中に2個以上のエ
ポキシ基を有するエポキシ樹脂である熱硬化性成分及び
希釈剤からなる第2液成分とを混合して用いる2液型の
組成物が知られている(特公平1−54390号公
報)。2液を混合することにより得られるソルダーフォ
トレジストインキ用組成物を、プリント配線基板に塗布
し、仮乾燥工程により塗布表面をタックフリーにしたの
ち、フォトマスクを用いて紫外線露光を行い、希アルカ
リ水溶液で現像処理して未露光部分を除去し、さらに加
熱により露光部分を完全に熱硬化させる。 このようなソルダーフォトレジストインキ用組成物の第
1液成分は、同一液中に反応性の高い不飽和結合、カル
ボキシル基及び光重合開始剤を含むため、貯蔵安定性が
悪く、シェルフライフが短いという問題がある。また、
エポキシ基を有する化合物を第2液成分として配合し、
2液型レジストインキとして使用した場合、ポットライ
フを向上させようとすると、得られる塗膜の密着性、耐
水溶性フラックス性、耐熱性などの特性が劣化するとい
う欠点を生ずる。このため、貯蔵安定性が良好でシェル
フライフが長く、ソルダーフォトレジストインキ用組成
物とした場合、希アルカリによる現像性が良好であり、
しかも、硬化物の機械的、化学的特性が優れる紫外線硬
化性樹脂が望まれている。2. Description of the Related Art At present, a dilute alkali developing type liquid solder photoresist ink is widely used as a solder resist for various printed wiring boards. Examples of such a composition for a solder photoresist ink include a UV curable product obtained by reacting a reaction product of a novolac type epoxy resin and an unsaturated monocarboxylic acid with a saturated or unsaturated polybasic acid anhydride. A first liquid component consisting of a resin, a photopolymerization initiator and a diluent is mixed with a second liquid component consisting of a thermosetting component which is an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule and a diluent. There is known a two-pack composition used for the above (Japanese Patent Publication No. 1-54390). The composition for a solder photoresist ink obtained by mixing the two liquids is applied to a printed wiring board, the coating surface is made tack-free by a temporary drying step, and then UV exposure is performed using a photomask to dilute the alkali. The unexposed portion is removed by developing with an aqueous solution, and the exposed portion is completely thermoset by heating. The first liquid component of such a solder photoresist ink composition contains a highly reactive unsaturated bond, a carboxyl group, and a photopolymerization initiator in the same liquid, and thus has poor storage stability and a short shelf life. There is a problem. Also,
A compound having an epoxy group is blended as a second liquid component,
When it is used as a two-component resist ink, when the pot life is attempted to be improved, there arises a drawback that properties such as adhesion, water-soluble flux resistance and heat resistance of the resulting coating film are deteriorated. Therefore, the storage stability is good and the shelf life is long, and when the composition for a solder photoresist ink is used, the developability with a dilute alkali is good,
Moreover, an ultraviolet curable resin having excellent mechanical and chemical properties of a cured product is desired.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のソル
ダーフォトレジストインキ用の紫外線硬化性樹脂の貯蔵
安定性を改良し、紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤及び
希釈剤を含有する組成物として長いシェルフライフを有
し、露光後の希アルカリ現像性が良好であり、硬化物の
基板への密着性、耐熱性、耐湿性に優れる、ソルダーフ
ォトレジストインキ用の紫外線硬化性樹脂の製造方法を
提供することを目的としてなされたものである。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention improves the storage stability of conventional UV curable resins for solder photoresist inks, and contains a UV curable resin, a photopolymerization initiator and a diluent. Has a long shelf life, has good dilute alkali developability after exposure, and has excellent adhesion, heat resistance, and moisture resistance of the cured product to the substrate, a method for producing an ultraviolet curable resin for a solder photoresist ink It is made for the purpose of providing.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ノボラック型エ
ポキシ樹脂に不飽和モノカルボン酸を反応したのち、分
子量の異なる2種類の二塩基酸を同時に反応して得られ
る紫外線硬化性樹脂が、貯蔵安定性と希アルカリ現像性
に優れるソルダーフォトレジストインキ用組成物を与
え、しかもその硬化物が良好な機械的、化学的特性を有
することを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成
するに至った。すなわち、本発明は、(1)ノボラック
型エポキシ樹脂に不飽和モノカルボン酸を反応したの
ち、分子量が120以下の二塩基酸無水物及び分子量が
140以上の二塩基酸無水物をモル比が3/7〜7/3
となる割合で、同時に反応することを特徴とする紫外線
硬化性樹脂の製造方法、を提供するものである。さら
に、本発明の好ましい態様として、(2)ノボラック型
エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン酸を、90〜200
℃で反応する第(1)項記載の紫外線硬化性樹脂の製造方
法、(3)ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和モノカル
ボン酸の反応生成物と反応させる二塩基酸無水物の量
が、ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン酸
の反応生成物が有する水酸基1モル当たり0.4モル以
上である第(1)〜(2)項記載の紫外線硬化性樹脂の製造
方法、及び、(4)ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和
モノカルボン酸の反応生成物と二塩基酸無水物を、60
〜120℃で反応する第(1)〜(3)項記載の紫外線硬化
性樹脂の製造方法、を挙げることができる。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention reacted two kinds of different molecular weights after reacting an unsaturated monocarboxylic acid with a novolac type epoxy resin. UV curable resin obtained by reacting dibasic acid at the same time provides a composition for solder photoresist ink having excellent storage stability and dilute alkali developability, and the cured product has good mechanical and chemical properties. The present invention has been completed, and the present invention has been completed based on this finding. That is, in the present invention, (1) after reacting a novolac type epoxy resin with an unsaturated monocarboxylic acid, a dibasic acid anhydride having a molecular weight of 120 or less and a dibasic acid anhydride having a molecular weight of 140 or more are mixed at a molar ratio of 3 / 7 to 7/3
The present invention provides a method for producing an ultraviolet-curable resin, which is characterized by reacting simultaneously at a ratio such that Furthermore, in a preferred embodiment of the present invention, (2) a novolac type epoxy resin and an unsaturated monocarboxylic acid are added in an amount of 90 to 200
The method for producing an ultraviolet-curable resin according to item (1), wherein the amount of dibasic acid anhydride reacted with the reaction product of a novolac type epoxy resin and an unsaturated monocarboxylic acid is novolac type. The method for producing an ultraviolet-curable resin according to any one of (1) to (2), wherein the amount of the hydroxyl group contained in the reaction product of the epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid is 0.4 mol or more, and (4) novolak. The reaction product of the epoxy resin with unsaturated monocarboxylic acid and the dibasic acid anhydride
The method for producing an ultraviolet-curable resin according to items (1) to (3), which reacts at ˜120 ° C., can be mentioned.
【0005】本発明において使用するノボラック型エポ
キシ樹脂は、フェノール又はo−クレゾールとホルムア
ルデヒドの反応生成物であるフェノールノボラック又は
クレゾールノボラックに、エピクロルヒドリンを反応す
ることにより得られる多官能のエポキシ樹脂であり、フ
ェノール核の核数が平均5核以上7核以下であり、エポ
キシ当量が170〜230であるものを好適に使用する
ことができる。フェノール核の核数が5核未満である
と、ソルダーフォトレジストインキ用組成物の硬化物が
脆くなるおそれがある。フェノール核の核数が7核を超
えると、ソルダーフォトレジストインキ用組成物の希ア
ルカリ現像性とシェルフライフ(貯蔵安定性)が低下す
るおそれがある。本発明においては、ノボラック型エポ
キシ樹脂に不飽和モノカルボン酸を反応する。エポキシ
基とカルボキシル基の反応により、オキシラン環が開環
し、水酸基とエステル結合が生成する。使用する不飽和
モノカルボン酸には特に制限はなく、アクリル酸、メタ
クリル酸、クロトン酸、ビニル酢酸、ソルビン酸、桂皮
酸などを挙げることができるが、アクリル酸は生成物の
光重合性が良好であり、硬化物の特性に優れるので、特
に好適に使用することができる。ノボラック型エポキシ
樹脂と不飽和モノカルボン酸の反応方法には特に制限は
なく、例えば、ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和モノ
カルボン酸を、適当な希釈剤中で加熱することにより反
応することができる。希釈剤としては、例えば、メチル
エチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、トル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、メタノール、
イソプロパノール、シクロヘキサノールなどのアルコー
ル類、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂
環式炭化水素類、石油エーテル、石油ナフサなどの石油
系溶剤、セロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソル
ブ類、カルビトール、ブチルカルビトールなどのカルビ
トール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテ
ート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセ
テート、ブチルカルビトールアセテートなどの酢酸エス
テル類などを挙げることができる。The novolac type epoxy resin used in the present invention is a polyfunctional epoxy resin obtained by reacting phenol novolac or cresol novolac which is a reaction product of phenol or o-cresol and formaldehyde with epichlorohydrin. Those having an average number of phenol nuclei of not less than 5 and not more than 7 and an epoxy equivalent of 170 to 230 can be preferably used. When the number of nuclei of the phenol nucleus is less than 5, the cured product of the solder photoresist ink composition may become brittle. When the number of phenol nuclei exceeds 7, the dilute alkali developability and shelf life (storage stability) of the solder photoresist ink composition may decrease. In the present invention, a novolac type epoxy resin is reacted with an unsaturated monocarboxylic acid. The reaction between the epoxy group and the carboxyl group opens the oxirane ring to form a hydroxyl group and an ester bond. The unsaturated monocarboxylic acid used is not particularly limited, and examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, vinyl acetic acid, sorbic acid, cinnamic acid, etc. Acrylic acid has good photopolymerizability of the product. Since the cured product has excellent properties, it can be used particularly preferably. The reaction method of the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid is not particularly limited, and for example, the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid can be reacted by heating in a suitable diluent. As the diluent, for example, methyl ethyl ketone, ketones such as cyclohexanone, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, methanol,
Alcohols such as isopropanol and cyclohexanol, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and methylcyclohexane, petroleum-based solvents such as petroleum ether and petroleum naphtha, cellosolves such as cellosolve and butyl cellosolve, and carbitol such as carbitol and butyl carbitol. Examples thereof include acetic acid esters such as talls, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, and butyl carbitol acetate.
【0006】本発明において、ノボラック型エポキシ樹
脂のエポキシ基の量と、不飽和モノカルボン酸の量は、
ほぼ当量であることが好ましい。エポキシ基が過剰であ
っても、不飽和モノカルボン酸が過剰であっても、貯蔵
安定性が低下し、硬化物の特性が低下するおそれがあ
る。ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン酸
の反応温度は、90〜200℃であることが好ましく、
100〜130℃であることがより好ましい。ノボラッ
ク型エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン酸の反応に際し
ては、ノボラック型エポキシ樹脂、不飽和モノカルボン
酸及び希釈剤よりなる反応混合物中の、ノボラック型エ
ポキシ樹脂及び不飽和モノカルボン酸の合計量が20〜
80重量%であることが好ましい。ノボラック型エポキ
シ樹脂と不飽和モノカルボン酸の反応生成物は、単離す
ることなく、希釈剤溶液のまま次の二塩基酸無水物との
反応に供することができる。本発明においては、ノボラ
ック型エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン酸の反応生成
物に、分子量が120以下の二塩基酸無水物及び分子量
が140以上の二塩基酸無水物を、2種の二塩基酸無水
物のモル比が3/7〜7/3となる割合で同時に反応す
る。二塩基酸無水物としては、飽和二塩基酸無水物及び
不飽和二塩基酸無水物を使用することができる。分子量
が120以下の二塩基酸無水物としては、例えば、無水
コハク酸、メチル無水コハク酸、無水グルタル酸、無水
マレイン酸、無水イタコン酸、無水グルタコン酸、無水
シトラコン酸、無水ジグリコール酸などを挙げることが
でき、これらの中で無水コハク酸を特に好適に使用する
ことができる。分子量が140以上の二塩基酸無水物と
しては、アリル無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒ
ドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル
テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フ
タル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メ
チルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチル
ブテニルテトラヒドロ無水フタル酸、無水ジフェン酸、
ニトロ無水フタル酸、無水フタロン酸などを挙げること
ができ、これらの中でテトラヒドロ無水フタル酸、メチ
ルテトラヒドロ無水フタル酸及びヘキサヒドロ無水フタ
ル酸を特に好適に使用することができる。In the present invention, the amount of epoxy groups in the novolac type epoxy resin and the amount of unsaturated monocarboxylic acid are
It is preferable that the amounts are almost equivalent. If the epoxy group is excessive or the unsaturated monocarboxylic acid is excessive, the storage stability may be deteriorated and the properties of the cured product may be deteriorated. The reaction temperature of the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid is preferably 90 to 200 ° C.,
It is more preferably 100 to 130 ° C. When the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid are reacted, the total amount of the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid in the reaction mixture composed of the novolac type epoxy resin, the unsaturated monocarboxylic acid and the diluent is 20. ~
It is preferably 80% by weight. The reaction product of the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid can be directly subjected to the reaction with the following dibasic acid anhydride as a diluent solution without isolation. In the present invention, a dibasic acid anhydride having a molecular weight of 120 or less and a dibasic acid anhydride having a molecular weight of 140 or more are added to the reaction product of a novolac type epoxy resin and an unsaturated monocarboxylic acid as two dibasic acid. Simultaneous reaction is carried out at a ratio such that the molar ratio of the anhydride is 3/7 to 7/3. As the dibasic acid anhydride, saturated dibasic acid anhydride and unsaturated dibasic acid anhydride can be used. Examples of the dibasic acid anhydride having a molecular weight of 120 or less include succinic anhydride, methylsuccinic anhydride, glutaric anhydride, maleic anhydride, itaconic anhydride, glutaconic anhydride, citraconic anhydride, and diglycolic anhydride. Among these, succinic anhydride can be particularly preferably used. Examples of the dibasic acid anhydride having a molecular weight of 140 or more include allyl succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride. Acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylbutenyltetrahydrophthalic anhydride, diphenic anhydride,
Examples thereof include nitrophthalic anhydride and phthalonic anhydride. Among these, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride and hexahydrophthalic anhydride can be particularly preferably used.
【0007】本発明において、二塩基酸無水物は、ノボ
ラック型エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン酸との反応
生成物が有する水酸基と反応し、エステル結合と遊離の
カルボキシル基を生成する。ここで生成する遊離のカル
ボキシル基及びカルボキシル基の主鎖骨格との結合の状
態が、希アルカリ現像性、貯蔵安定性及び硬化塗膜の特
性に強い影響を有していて、分子量が120以下の二塩
基酸無水物及び分子量が140以上の二塩基酸無水物
を、モル比が3/7〜7/3となる割合で同時に反応す
ることにより、好ましくはモル比が4/6〜6/4とな
る割合で同時に反応することにより、良好な性能を有す
る紫外線硬化性樹脂を得ることができる。分子量が12
0以下の二塩基酸無水物と分子量が140以上の二塩基
酸無水物のモル比が3/7未満であり、分子量が120
以下の二塩基酸無水物の割合が少ないと、希アルカリ現
像性が低下するおそれがある。分子量が120以下の二
塩基酸無水物と分子量が140以上の二塩基酸無水物の
モル比が7/3を超え、分子量が140以上の二塩基酸
無水物の割合が少ないとシェルフライフ、ポットライフ
が低下すると共に、塗膜の良好な物性が十分発現しない
おそれがある。本発明において、分子量の異なる2種の
二塩基酸無水物を、同時にノボラック型エポキシ樹脂と
不飽和モノカルボン酸の反応生成物に添加して反応する
ことが重要であり、ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和
モノカルボン酸の反応生成物に、2種の二塩基酸無水物
を別々に反応する場合には本発明の効果は得られない。
その機構は明らかではないが、2種の二塩基酸無水物を
同時に反応させることによって、紫外線硬化性樹脂中の
同一分子に2種以上の化学的に環境の異なるカルボキシ
ル基が生成し、このことによって、単一の二塩基酸無水
物を反応させた紫外線硬化性樹脂では不可能であった上
記の性能が、始めて発現したと考えられる。In the present invention, the dibasic acid anhydride reacts with the hydroxyl group contained in the reaction product of the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid to form an ester bond and a free carboxyl group. The state of the free carboxyl group formed here and the bond of the carboxyl group with the main chain skeleton has a strong influence on the dilute alkali developability, storage stability and properties of the cured coating film, and the molecular weight is 120 or less. By simultaneously reacting the dibasic acid anhydride and the dibasic acid anhydride having a molecular weight of 140 or more at a molar ratio of 3/7 to 7/3, the molar ratio is preferably 4/6 to 6/4. It is possible to obtain an ultraviolet curable resin having good performance by simultaneously reacting at a ratio such that Molecular weight is 12
The molar ratio of the dibasic acid anhydride having a molecular weight of 0 or less to the dibasic acid anhydride having a molecular weight of 140 or more is less than 3/7, and the molecular weight is 120.
When the proportion of the following dibasic acid anhydride is small, the dilute alkali developability may be deteriorated. If the molar ratio of the dibasic acid anhydride having a molecular weight of 120 or less to the dibasic acid anhydride having a molecular weight of 140 or more exceeds 7/3 and the proportion of the dibasic acid anhydride having a molecular weight of 140 or more is small, shelf life and pot The life may be shortened and good physical properties of the coating film may not be sufficiently exhibited. In the present invention, it is important that two kinds of dibasic acid anhydrides having different molecular weights are simultaneously added to the reaction product of the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid to react with each other. The effect of the present invention cannot be obtained when two types of dibasic acid anhydrides are separately reacted with a reaction product of a saturated monocarboxylic acid.
The mechanism is not clear, but by reacting two kinds of dibasic acid anhydrides simultaneously, two or more kinds of chemically different carboxyl groups are generated in the same molecule in the UV curable resin, It is considered that, for the first time, the above performance, which was not possible with the ultraviolet curable resin obtained by reacting a single dibasic acid anhydride, was exhibited.
【0008】本発明においては、分子量が120以下の
二塩基酸無水物を1種使用することができ、2種以上を
併用することができる。同様に、分子量が140以上の
二塩基酸無水物を1種使用することができ、2種以上を
併用することができる。使用する二塩基酸無水物の種類
が増加しても、分子量が120以下の二塩基酸無水物
と、分子量が140以上の二塩基酸無水物のモル比が3
/7〜7/3の範囲にあれば、本発明の効果を得ること
ができる。本発明において、ノボラック型エポキシ樹脂
と不飽和モノカルボン酸の反応生成物と反応させる二塩
基酸無水物の量は、ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和
モノカルボン酸の反応生成物が有する水酸基1モル当た
り0.4モル以上であることが好ましい。反応させる二
塩基酸無水物の量が、ノボラック型エポキシ樹脂と不飽
和モノカルボン酸の反応生成物が有する水酸基1モル当
たり0.4モル未満であると、希アルカリ現像性及び塗
膜の特性が低下するおそれがある。本発明において、分
子量が120以下の二塩基酸無水物及び分子量140以
上の二塩基酸無水物は、ノボラック型エポキシ樹脂と不
飽和モノカルボン酸の反応生成物に同時に添加して反応
する。ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン
酸の反応生成物が希釈剤の溶液として存在するときは、
この溶液に二塩基酸無水物の混合物を添加し、加熱溶解
して反応することにより、好適に反応を進めることがで
きる。ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン
酸の反応生成物と二塩基酸無水物を反応する温度は、6
0〜120℃であることが好ましく、70〜90℃であ
ることがより好ましい。In the present invention, one type of dibasic acid anhydride having a molecular weight of 120 or less can be used, and two or more types can be used in combination. Similarly, one type of dibasic acid anhydride having a molecular weight of 140 or more can be used, and two or more types can be used in combination. Even if the number of dibasic acid anhydrides used increases, the molar ratio of the dibasic acid anhydride having a molecular weight of 120 or less to the dibasic acid anhydride having a molecular weight of 140 or more is 3
Within the range of / 7 to 7/3, the effect of the present invention can be obtained. In the present invention, the amount of the dibasic acid anhydride reacted with the reaction product of the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid is 1 mol of the hydroxyl group contained in the reaction product of the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid. It is preferably 0.4 mol or more. When the amount of the dibasic acid anhydride to be reacted is less than 0.4 mol per 1 mol of the hydroxyl group contained in the reaction product of the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid, the dilute alkali developability and the coating film properties are improved. It may decrease. In the present invention, the dibasic acid anhydride having a molecular weight of 120 or less and the dibasic acid anhydride having a molecular weight of 140 or more are simultaneously added to and reacted with the reaction product of the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid. When the reaction product of the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid is present as a solution of a diluent,
By adding a mixture of dibasic acid anhydrides to this solution, heating and dissolving it to react, the reaction can be favorably promoted. The reaction temperature of the reaction product of the novolac type epoxy resin and the unsaturated monocarboxylic acid with the dibasic acid anhydride is 6
The temperature is preferably 0 to 120 ° C, more preferably 70 to 90 ° C.
【0009】本発明方法により得られる紫外線硬化性樹
脂は、酸価が45〜90mgKOH/gであることが好まし
い。得られる紫外線硬化性樹脂の酸価は、反応する二塩
基酸無水物の量を適当に選択することにより、容易に調
整することができる。紫外線硬化性樹脂の酸価が45mg
KOH/g未満であると、レジスト組成物の希アルカリ現
像性及び硬化した塗膜の密着性と耐熱性が劣るおそれが
ある。紫外線硬化性樹脂の酸価が90mgKOH/gを超え
ると、硬化物の塗膜の電気絶縁性、耐熱性、耐湿性が劣
るおそれがある。本発明方法により得られる紫外線硬化
性樹脂は、光重合開始剤及び希釈剤と混合して、ソルダ
ーフォトレジストインキ用組成物の第1液成分として好
適に使用することができる。第2液成分としての熱硬化
性樹脂としては、例えば、分子内に2個以上のエポキシ
基を有するエポキシ樹脂を挙げることができる。さら
に、これらのソルダーフォトレジストインキ用組成物
に、硫酸バリウム、酸化ケイ素などの公知の充填剤、フ
タロシアニングリーン、フタロシアニンブルー、二酸化
チタン、カーボンブラックなどの公知の着色用顔料、消
泡剤、レベリング剤などの各種添加物、あるいはハイド
ロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガ
ロール、t−ブチルカテコールなどの公知の重合禁止剤
などを配合することができる。The UV-curable resin obtained by the method of the present invention preferably has an acid value of 45 to 90 mgKOH / g. The acid value of the obtained ultraviolet curable resin can be easily adjusted by appropriately selecting the amount of the dibasic acid anhydride that reacts. Acid value of UV curable resin is 45mg
If it is less than KOH / g, the diluted alkali developability of the resist composition and the adhesiveness and heat resistance of the cured coating film may be deteriorated. When the acid value of the ultraviolet curable resin exceeds 90 mgKOH / g, the electric insulation, heat resistance and moisture resistance of the cured coating film may deteriorate. The ultraviolet curable resin obtained by the method of the present invention can be mixed with a photopolymerization initiator and a diluent and can be suitably used as the first liquid component of the composition for a solder photoresist ink. Examples of the thermosetting resin as the second liquid component include an epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule. Further, in these solder photoresist ink compositions, known fillers such as barium sulfate and silicon oxide, known coloring pigments such as phthalocyanine green, phthalocyanine blue, titanium dioxide and carbon black, defoaming agents and leveling agents. And various known additives such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, and t-butyl catechol.
【0010】[0010]
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。なお、現像性及び塗膜性能は下
記の方法により評価した。 (1)希アルカリ現像性 テスト用プリント配線基板製作過程において、ソルダー
フォトレジストインキを塗布し、75℃で30分仮乾燥
直後のものと、仮乾燥後3日後のものについて、光照射
による硬化後に1重量%炭酸ナトリウム水溶液を現像液
として用い、20℃で5分間スターラー撹拌により現像
した際の現像性を次に示す基準により評価した。 ◎:1分以内で現像可能。 ○:1分を超え3分以内で現像可能。 △:3分を超え5分以内で現像可能。 ×:5分以内で現像不可能。 (2)密着性 JIS K 5400 8.5.2に準じて、それぞれのテ
スト用プリント配線基板に碁盤目状に縦横10本のクロ
スカットを入れ、次いでセロハンテープによる剥離試験
後の塗膜の剥離状態を目視によって判定した。 ◎:100/100で全く剥離が認められないもの。 ○:100/100で線の際がわずかにはがれたもの。 △:90/100〜99/100。 ×:0/100〜89/100。 (3)鉛筆硬度 JIS K 5400 8.4.2に準じて、「三菱ユニ」
鉛筆を用い、塗膜に傷が付かない最も高い硬度をもって
評価した。 (4)はんだ耐熱性 それぞれのテスト用プリント配線基板に、ロジン系フラ
ックス[(株)アサヒ化学研究所、商品名 GX−7]を
塗布し、260℃に保ったはんだ浴に塗膜面をはんだに
接触するようにして15秒間浮かべ、その後塗膜の膨れ
と剥離を観察した。これを1サイクルとして膨れ又は剥
離が生ずるまで繰り返し、膨れ又は剥離が生ずるまでの
延べ時間により評価した。 (5)耐水溶性フラックス性 それぞれのテスト用プリント配線基板に、水溶性フラッ
クス[LONCO社、商品名 CF−350]を塗布
し、260℃のはんだ浴に塗膜面をはんだに接触するよ
うにして5秒間浮かべ、60℃の温水に15分間つけた
のち、セロハンテープにより剥離試験を行った。同時に
塗膜表面の光沢の変化、特に白化状態を観察した。評価
基準を以下に示す。 剥離試験 ◎:全くはがれないもの。 ○:ほんのわずかにはがれたもの。 △:全体の10〜30%がはがれたもの。 ×:全体の31%以上がはがれたもの。 白化状態 ◎:全く白化していないもの。 ○:ほんのわずかに白化しているもの。 △:全体の10〜30%が白化しているもの。 ×:全体の31%以上が白化しているもの。 (6)紫外線硬化性樹脂のシェルフライフ促進試験 紫外線硬化性樹脂をふた付きのプラスチック製のビンに
入れ、60℃の恒温槽に浸漬し、25℃における粘度が
初期粘度の2.5倍に達するか、あるいは1,000ポイ
ズを超えるまでの日数で評価した。The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The developability and coating film performance were evaluated by the following methods. (1) Dilute Alkali Developability In the process of manufacturing a printed wiring board for testing, solder photoresist ink was applied and immediately dried at 75 ° C for 30 minutes, and 3 days after temporary drying, after curing by light irradiation. Using a 1 wt% sodium carbonate aqueous solution as a developing solution, the developability when developed by stirring with a stirrer at 20 ° C. for 5 minutes was evaluated according to the following criteria. ◎: Development is possible within 1 minute. ◯: Development is possible in over 1 minute and within 3 minutes. Δ: Development is possible in more than 3 minutes and within 5 minutes. X: Development is impossible within 5 minutes. (2) Adhesion In accordance with JIS K 5400 8.5.2, put 10 crosscuts in a grid pattern on each test printed wiring board, and then peel off the coating film after the peeling test with cellophane tape. The state was visually determined. A: 100/100 with no peeling observed. ◯: 100/100 with a slight line edge. Δ: 90/100 to 99/100. X: 0/100 to 89/100. (3) Pencil hardness According to JIS K 5400 84.2, "Mitsubishi Uni"
The pencil was used for evaluation with the highest hardness without scratching the coating film. (4) Soldering heat resistance Each test printed wiring board was coated with rosin flux [Asahi Chemical Laboratory Co., Ltd., trade name GX-7], and the coating surface was soldered in a solder bath kept at 260 ° C. The film was floated for 15 seconds so that the coating film was swollen and peeled off. This was repeated as one cycle until swelling or peeling occurred, and evaluation was made by the total time until swelling or peeling occurred. (5) Water-soluble flux resistance Water-soluble flux [LONCO, trade name CF-350] was applied to each test printed wiring board, and the coating film surface was brought into contact with the solder in a solder bath at 260 ° C. After floating for 5 seconds and soaking in warm water at 60 ° C. for 15 minutes, a peeling test was performed using cellophane tape. At the same time, the change in gloss on the surface of the coating film, especially the whitening state, was observed. The evaluation criteria are shown below. Peeling test ◎: It does not peel at all. ○: Slightly peeled off. Δ: 10 to 30% of the whole is peeled off. X: 31% or more of the total peeled off. Whitening state ◎: No whitening at all. ○: Only slightly whitened. Δ: 10 to 30% of the whole is whitened. ×: 31% or more of the whole is whitened. (6) Shelf life promotion test of UV curable resin Put the UV curable resin in a plastic bottle with a lid and immerse it in a constant temperature bath at 60 ° C, and the viscosity at 25 ° C reaches 2.5 times the initial viscosity. Alternatively, it was evaluated by the number of days until it exceeded 1,000 poise.
【0011】実施例1 撹拌機、還流冷却管、滴下ロート及び温度計を備えた1
リットル容のセパラブルフラスコに、エチルカルビトー
ルアセテート188g及びエポキシ当量が215で1分
子中に平均して6個のフェノール核を有するクレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂215gを仕込んだ。撹拌し
つつ120℃まで加熱し、120℃を保ったまま滴下ロ
ートよりアクリル酸72g(1.0モル)を1時間かけ
て滴下し、さらに10時間120℃で反応を続けた。い
ったん反応混合物を室温まで冷却し、無水コハク酸25
g(0.25モル)及びテトラヒドロ無水フタル酸38
g(0.25モル)を加え、ふたたび80℃に加熱して
3時間反応した。反応終了後、室温まで冷却したとこ
ろ、粘稠な溶液が得られた。この溶液の加熱残分は65
重量%であり、溶液として53mgKOH/gの酸価を示し
た。この溶液を、樹脂A−1とする。樹脂A−1を55
g、光重合開始剤[チバ・ガイギー社、イルガキュア9
07]4g、熱硬化促進剤[四国化成(株)、キュアゾー
ル 2MA−OK]0.5g、希釈剤としてのトリメチ
ロールプロパントリアクリレート5g、フタロシアニン
グリーン顔料3g、硫酸バリウム12g、酸化ケイ素1
0g及び消泡剤[日華化学(株)、フォームレックスSO
L−30]0.5gを、ロールミル(3本ロール)によ
り混練してソルダーフォトレジストインキ用組成物の第
1液を調製した。また、エポキシ樹脂[東都化成(株)、
YDCN−702S]8g及びグリセリンジグリシジル
エーテル7gを混合して、ソルダーフォトレジストイン
キ用組成物の第2液を調製した。第1液及び第2液を混
合し、あらかじめエッチングしてパターンを形成してお
いた銅プリント配線基板にスクリーン印刷法にて15〜
20μmの膜厚で全面に塗布し、熱風循環型乾燥炉で7
5℃で30分仮乾燥した。仮乾燥直後に、基板にフォト
マスクを当て、3kWメタルハライドランプにより紫外
線500mJ/cm2を照射し、光硬化を行った。次いで
1重量%炭酸ナトリウム水溶液を現像液として用い、塗
膜の未硬化部分を除去した。現像した基板は、さらに1
50℃で30分間熱硬化を行い、テスト用プリント配線
基板を完成した。このテスト用プリント配線基板につい
て、塗膜の性能評価を行った。結果を第1表に示す。樹
脂A−1についてシェルフライフ促進試験を行った。結
果を第1表に示す。 実施例2 実施例1のエチルカルビトールアセテート188gの代
わりに、ブチルセロソルブ188gを用い、無水コハク
酸25g及びテトラヒドロ無水フタル酸38gの代わり
に、無水コハク酸30g(0.3モル)及びメチルテト
ラヒドロ無水フタル酸33g(0.2モル)を用いた以
外は、実施例1と同じ操作を繰り返した。得られた粘稠
な溶液の加熱残分は65重量%であり、溶液として54
mgKOH/gの酸価を示した。この溶液を、樹脂A−2と
する。樹脂A−1を55g用いる代わりに、樹脂A−2
を55g用いた以外は、実施例1と全く同様にしてテス
ト用プリント配線基板を作成し、塗膜の性能評価を行っ
た。結果を第1表に示す。樹脂A−2についてシェルフ
ライフ促進試験を行った。結果を第1表に示す。 実施例3 撹拌機、還流冷却管、滴下ロート及び温度計を備えた1
リットル容のセパラブルフラスコに、エチルカルビトー
ルアセテート196g及びエポキシ当量が215で1分
子中に平均して6個のフェノール核を有するクレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂215gを仕込んだ。撹拌し
つつ120℃まで加熱し、120℃を保ったまま滴下ロ
ートよりメタクリル酸86g(1.0モル)を1時間か
けて滴下し、さらに10時間120℃で反応を続けた。
いったん反応混合物を室温まで冷却し、無水コハク酸1
0g(0.1モル)、無水グルタル酸23g(0.2モ
ル)及びテトラヒドロ無水フタル酸30g(0.2モ
ル)を加え、ふたたび80℃に加熱して3時間反応し
た。反応終了後、室温まで冷却したところ、粘稠な溶液
が得られた。この溶液の加熱残分は65重量%であり、
溶液として52mgKOH/gの酸価を示した。この溶液
を、樹脂A−3とする。樹脂A−3を55g、光重合開
始剤[チバ・ガイギー社、イルガキュア907]3g、
光重合開始剤[日本化薬(株)、CAYACURE DE
TX−S]1g、熱硬化促進剤[四国化成(株)、キュア
ゾール 2MA−OK]0.5g、希釈剤としてのトリ
メチロールプロパントリアクリレート5g、フタロシア
ニングリーン顔料3g、硫酸バリウム12g、酸化ケイ
素10g及び消泡剤[日華化学(株)、フォームレックス
SOL−30]0.5gを、ロールミル(3本ロール)
により混練してソルダーフォトレジストインキ用組成物
の第1液を調製した。また、エポキシ樹脂[油化シェル
エポキシ(株)、エピコート828]10g、トリメチロ
ールプロパントリグリシジルエーテル3g及びセロソル
ブアセテート5gを混合して、ソルダーフォトレジスト
インキ用組成物の第2液を調製した。第1液及び第2液
を混合し、あらかじめエッチングしてパターンを形成し
ておいた銅プリント配線基板にスクリーン印刷法にて1
5〜20μmの膜厚で全面に塗布し、熱風循環型乾燥炉
で75℃で30分仮乾燥した。仮乾燥直後に、基板にフ
ォトマスクを当て、3kWメタルハライドランプにより
紫外線500mJ/cm2を照射し、光硬化を行った。次
いで1重量%炭酸ナトリウム水溶液を現像液として用
い、塗膜の未硬化部分を除去した。現像した基板は、さ
らに150℃で30分間熱硬化を行い、テスト用プリン
ト配線基板を完成した。このテスト用プリント配線基板
について、塗膜の性能評価を行った。結果を第1表に示
す。樹脂A−3についてシェルフライフ促進試験を行っ
た。結果を第1表に示す。Example 1 1 equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer
A liter separable flask was charged with 188 g of ethyl carbitol acetate and 215 g of a cresol novolac type epoxy resin having an epoxy equivalent of 215 and having an average of 6 phenol nuclei in one molecule. The mixture was heated to 120 ° C. with stirring, and 72 g (1.0 mol) of acrylic acid was added dropwise from the dropping funnel over 1 hour while maintaining 120 ° C., and the reaction was continued at 120 ° C. for 10 hours. Once the reaction mixture has cooled to room temperature, 25% succinic anhydride
g (0.25 mol) and tetrahydrophthalic anhydride 38
g (0.25 mol) was added, and the mixture was again heated to 80 ° C. and reacted for 3 hours. After the reaction was completed, the mixture was cooled to room temperature to obtain a viscous solution. The heating residue of this solution is 65
% By weight and showed an acid value of 53 mg KOH / g as a solution. This solution is named resin A-1. Resin A-1 55
g, photopolymerization initiator [Ciba Geigy, Irgacure 9
07] 4 g, thermosetting accelerator [Shikoku Kasei Co., Ltd., Cureazole 2MA-OK] 0.5 g, trimethylolpropane triacrylate 5 g as a diluent, phthalocyanine green pigment 3 g, barium sulfate 12 g, silicon oxide 1
0 g and defoaming agent [Nippon Kagaku Co., Ltd., Folexlex SO
L-30] 0.5 g was kneaded by a roll mill (three rolls) to prepare a first liquid of a composition for a solder photoresist ink. In addition, epoxy resin [Toto Kasei Co., Ltd.,
YDCN-702S] 8 g and glycerin diglycidyl ether 7 g were mixed to prepare a second liquid of the composition for solder photoresist ink. The first liquid and the second liquid are mixed, and a copper printed wiring board on which a pattern is formed by etching in advance is screen-printed with 15 to 15
It is coated on the entire surface with a film thickness of 20 μm, and is dried in a hot air circulation type drying oven
It was temporarily dried at 5 ° C for 30 minutes. Immediately after the temporary drying, a photomask was applied to the substrate and irradiated with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 by a 3 kW metal halide lamp to perform photo-curing. Then, a 1 wt% sodium carbonate aqueous solution was used as a developing solution to remove the uncured portion of the coating film. The developed substrate is 1 more
Thermal curing was performed at 50 ° C. for 30 minutes to complete a test printed wiring board. With respect to this test printed wiring board, the performance of the coating film was evaluated. The results are shown in Table 1. A shelf life promotion test was conducted on resin A-1. The results are shown in Table 1. Example 2 188 g of butyl cellosolve was used instead of 188 g of ethyl carbitol acetate of Example 1, and 30 g (0.3 mol) of succinic anhydride and methyl tetrahydrophthalic anhydride were used instead of 25 g of succinic anhydride and 38 g of tetrahydrophthalic anhydride. The same operation as in Example 1 was repeated except that 33 g (0.2 mol) of acid was used. The heating residue of the obtained viscous solution was 65% by weight, and
An acid value of mgKOH / g was shown. This solution is named resin A-2. Instead of using 55 g of resin A-1, resin A-2
A test printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1 except that 55 g was used and the performance of the coating film was evaluated. The results are shown in Table 1. A shelf life promotion test was conducted on the resin A-2. The results are shown in Table 1. Example 3 1 equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer
A liter separable flask was charged with 196 g of ethyl carbitol acetate and 215 g of cresol novolac type epoxy resin having an epoxy equivalent of 215 and having an average of 6 phenol nuclei in one molecule. The mixture was heated to 120 ° C. with stirring, 86 g (1.0 mol) of methacrylic acid was added dropwise from the dropping funnel over 1 hour while maintaining 120 ° C., and the reaction was continued at 120 ° C. for 10 hours.
Once the reaction mixture has cooled to room temperature, succinic anhydride 1
0 g (0.1 mol), 23 g (0.2 mol) of glutaric anhydride and 30 g (0.2 mol) of tetrahydrophthalic anhydride were added, and the mixture was again heated to 80 ° C. and reacted for 3 hours. After the reaction was completed, the mixture was cooled to room temperature to obtain a viscous solution. The heating residue of this solution was 65% by weight,
The solution had an acid value of 52 mg KOH / g. This solution is named resin A-3. 55 g of resin A-3, 3 g of a photopolymerization initiator [Ciba Geigy, Irgacure 907],
Photopolymerization initiator [Nippon Kayaku Co., CAYACURE DE
TX-S] 1 g, thermal curing accelerator [Shikoku Kasei Co., Ltd., Cureazole 2MA-OK] 0.5 g, trimethylolpropane triacrylate 5 g as a diluent, phthalocyanine green pigment 3 g, barium sulfate 12 g, silicon oxide 10 g and 0.5 g of defoaming agent [Nippon Kagaku Co., Ltd., Folexlex SOL-30] was roll milled (3 rolls).
Was kneaded to prepare a first liquid of the composition for solder photoresist ink. Also, a second liquid of a composition for a solder photoresist ink was prepared by mixing 10 g of an epoxy resin [Okaka Shell Epoxy Co., Ltd., Epicoat 828], 3 g of trimethylolpropane triglycidyl ether and 5 g of cellosolve acetate. The first liquid and the second liquid are mixed, and the copper printed wiring board on which a pattern is formed by etching in advance is screen-printed
It was applied to the entire surface in a film thickness of 5 to 20 μm, and temporarily dried at 75 ° C. for 30 minutes in a hot air circulation type drying furnace. Immediately after the temporary drying, a photomask was applied to the substrate and irradiated with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 by a 3 kW metal halide lamp to perform photo-curing. Then, a 1 wt% sodium carbonate aqueous solution was used as a developing solution to remove the uncured portion of the coating film. The developed substrate was further thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to complete a test printed wiring board. With respect to this test printed wiring board, the performance of the coating film was evaluated. The results are shown in Table 1. A shelf life promotion test was conducted on Resin A-3. The results are shown in Table 1.
【0012】比較例1 実施例1のエチルカルビトールアセテートの量を181
gとし、無水コハク酸25g及びテトラヒドロ無水フタ
ル酸38gの代わりに、無水コハク酸50g(0.5モ
ル)を用いた以外は、実施例1と同じ操作を繰り返し
た。得られた粘稠な溶液の加熱残分は65重量%であ
り、溶液として55mgKOH/gの酸価を示した。この溶
液を、樹脂B−1とする。樹脂A−1を55g用いる代
わりに、樹脂B−1を55g用いた以外は、実施例1と
全く同様にしてテスト用プリント配線基板を作成し、塗
膜の性能評価を行った。結果を第1表に示す。樹脂B−
1についてシェルフライフ促進試験を行った。結果を第
1表に示す。 比較例2 実施例1のエチルカルビトールアセテートの量を204
gとし、無水コハク酸25g及びテトラヒドロ無水フタ
ル酸38gの代わりに、テトラヒドロ無水フタル酸91
g(0.6モル)を用いた以外は、実施例1と同じ操作
を繰り返した。得られた粘稠な溶液の加熱残分は65重
量%であり、溶液として59mgKOH/gの酸価を示し
た。この溶液を、樹脂B−2とする。樹脂A−1を55
g用いる代わりに、樹脂B−2を55g用いた以外は、
実施例1と全く同様にしてテスト用プリント配線基板を
作成し、塗膜の性能評価を行った。結果を第1表に示
す。樹脂B−2についてシェルフライフ促進試験を行っ
た。結果を第1表に示す。 比較例3 樹脂B−1と樹脂B−2を重量比1:1で混合した。得
られた粘稠な溶液の加熱残分は65重量%であり、溶液
として57mgKOH/gの酸価を示した。この溶液を、樹
脂B−3とする。樹脂A−1を55g用いる代わりに、
樹脂B−3を55g用いた以外は、実施例1と全く同様
にしてテスト用プリント配線基板を作成し、塗膜の性能
評価を行った。結果を第1表に示す。樹脂B−3につい
てシェルフライフ促進試験を行った。結果を第1表に示
す。 比較例4 実施例1のエチルカルビトールアセテートの量を191
gとし、無水コハク酸25g及びテトラヒドロ無水フタ
ル酸38gの代わりに、無水コハク酸45g(0.45
モル)及びテトラヒドロ無水フタル酸23g(0.15
モル)を用いた以外は、実施例1と同じ操作を繰り返し
た。得られた粘稠な溶液の加熱残分は65重量%であ
り、溶液として62mgKOH/gの酸価を示した。この溶
液を樹脂B−4とする。樹脂A−1を55g用いる代わ
りに、樹脂B−4を55g用いた以外は、実施例1と全
く同様にしてテスト用プリント配線基板を作成し、塗膜
の性能評価を行った。結果を第1表に示す。樹脂B−4
についてシェルフライフ促進試験を行った。結果を第1
表に示す。Comparative Example 1 The amount of ethyl carbitol acetate of Example 1 was 181
g, and the same operation as in Example 1 was repeated except that 50 g (0.5 mol) of succinic anhydride was used instead of 25 g of succinic anhydride and 38 g of tetrahydrophthalic anhydride. The heating residue of the obtained viscous solution was 65% by weight, and the solution had an acid value of 55 mgKOH / g. This solution is named resin B-1. A test printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1 except that 55 g of Resin B-1 was used instead of 55 g of Resin A-1, and the performance of the coating film was evaluated. The results are shown in Table 1. Resin B-
A shelf life promotion test was conducted on No. 1. The results are shown in Table 1. Comparative Example 2 The amount of ethyl carbitol acetate of Example 1 was changed to 204
g of tetrahydrophthalic anhydride instead of 25 g of succinic anhydride and 38 g of tetrahydrophthalic anhydride.
The same operation as in Example 1 was repeated except that g (0.6 mol) was used. The viscous solution thus obtained had a heating residue of 65% by weight and showed an acid value of 59 mgKOH / g as a solution. This solution is named resin B-2. Resin A-1 55
g, instead of using 55 g of resin B-2,
A test printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1, and the performance of the coating film was evaluated. The results are shown in Table 1. A shelf life promotion test was conducted on Resin B-2. The results are shown in Table 1. Comparative Example 3 Resin B-1 and Resin B-2 were mixed at a weight ratio of 1: 1. The heating residue of the resulting viscous solution was 65% by weight and showed an acid value of 57 mg KOH / g as a solution. This solution is named resin B-3. Instead of using 55 g of Resin A-1,
A test printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1 except that 55 g of the resin B-3 was used, and the performance of the coating film was evaluated. The results are shown in Table 1. A shelf life promotion test was conducted on Resin B-3. The results are shown in Table 1. Comparative Example 4 The amount of ethyl carbitol acetate of Example 1 was 191.
g, and instead of 25 g of succinic anhydride and 38 g of tetrahydrophthalic anhydride, 45 g of succinic anhydride (0.45
Mole) and 23 g of tetrahydrophthalic anhydride (0.15
The same operation as in Example 1 was repeated, except that the same amount was used. The viscous solution thus obtained had a heating residue of 65% by weight and showed an acid value of 62 mgKOH / g as a solution. This solution is named resin B-4. A test printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1 except that 55 g of the resin B-4 was used instead of 55 g of the resin A-1, and the performance of the coating film was evaluated. The results are shown in Table 1. Resin B-4
The shelf life promotion test was carried out. First result
Shown in the table.
【0013】[0013]
【表1】 [Table 1]
【0014】本発明方法により製造した紫外線硬化性樹
脂を用いたソルダーフォトレジストインキ用組成物は、
希アルカリ現像性が良好であり、塗膜の性能も、密着
性、鉛筆硬度、はんだ耐熱性に優れ、耐水溶性フラック
ス性もおおむね良好である。これに対して、二塩基酸無
水物として分子量100の無水コハク酸のみを使用した
比較例1においては、密着性がやや劣り、はんだ耐熱性
が劣っている。二塩基酸無水物として分子量152のテ
トラヒドロ無水フタル酸のみを使用した比較例2におい
ては、現像性をはじめとして、ほぼすべての性能が劣っ
ている。比較例3は、二塩基酸として無水コハク酸を反
応した樹脂と、テトラヒドロ無水フタル酸を反応した樹
脂を混合した紫外線硬化性樹脂を使用した例であり、樹
脂中に無水コハク酸成分とテトラヒドロ無水フタル酸成
分は、モル比48/52で存在するにもかかわらず、2
種の二塩基酸無水物を同時に反応したものでないため
に、全般に性能が劣っている。比較例4は、使用した無
水コハク酸とテトラヒドロ無水フタル酸のモル比が75
/25であり、やはり全般に性能が劣っている。またシ
ェルフライフ促進試験において、本発明方法による紫外
線硬化性樹脂A−1〜3はいずれも優れた貯蔵安定性を
示したのに対して、比較例1、3及び4で得た樹脂B−
1、3及び4は、いずれも短時間で増粘し、貯蔵安定性
に劣っている。A composition for a solder photoresist ink using the ultraviolet curable resin produced by the method of the present invention is
The dilute alkali developability is good, the performance of the coating film is excellent in adhesion, pencil hardness, solder heat resistance, and the water-soluble flux resistance is also generally good. On the other hand, in Comparative Example 1 in which only succinic anhydride having a molecular weight of 100 was used as the dibasic acid anhydride, the adhesion was slightly inferior and the solder heat resistance was inferior. In Comparative Example 2 in which only tetrahydrophthalic anhydride having a molecular weight of 152 was used as the dibasic acid anhydride, almost all the performances including the developability were inferior. Comparative Example 3 is an example of using an ultraviolet curable resin in which a resin obtained by reacting succinic anhydride as a dibasic acid and a resin obtained by reacting tetrahydrophthalic anhydride are used, and a succinic anhydride component and tetrahydroanhydride are contained in the resin. Although the phthalic acid component is present in a molar ratio of 48/52, it is 2
Performance is generally inferior because the dibasic acid anhydrides of the species are not simultaneously reacted. In Comparative Example 4, the molar ratio of succinic anhydride and tetrahydrophthalic anhydride used was 75.
/ 25, which is also inferior in overall performance. Further, in the shelf life acceleration test, all of the ultraviolet curable resins A-1 to A-3 according to the method of the present invention showed excellent storage stability, while the resin B-obtained in Comparative Examples 1, 3 and 4
Each of Nos. 1, 3 and 4 thickened in a short time and was inferior in storage stability.
【0015】[0015]
【発明の効果】本発明方法による紫外線硬化樹脂は、貯
蔵安定性に優れ、ソルダーフォトレジストインキ用組成
物に使用するとき、希アルカリ現像性が良好で、その硬
化物の塗膜は、密着性、耐熱性、耐湿性に優れる。The UV curable resin according to the method of the present invention is excellent in storage stability and has good dilute alkali developability when used in a composition for a solder photoresist ink. Excellent heat resistance and moisture resistance.
Claims (1)
ルボン酸を反応したのち、分子量が120以下の二塩基
酸無水物及び分子量が140以上の二塩基酸無水物をモ
ル比が3/7〜7/3となる割合で、同時に反応するこ
とを特徴とする紫外線硬化性樹脂の製造方法。1. A novolac type epoxy resin is reacted with an unsaturated monocarboxylic acid, and then a dibasic acid anhydride having a molecular weight of 120 or less and a dibasic acid anhydride having a molecular weight of 140 or more are mixed at a molar ratio of 3/7 to 7. A method for producing an ultraviolet curable resin, which comprises reacting simultaneously at a ratio of / 3.
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