JPH08259962A - 合成ガス中の有機汚染物残渣の除去方法 - Google Patents
合成ガス中の有機汚染物残渣の除去方法Info
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- JPH08259962A JPH08259962A JP7061158A JP6115895A JPH08259962A JP H08259962 A JPH08259962 A JP H08259962A JP 7061158 A JP7061158 A JP 7061158A JP 6115895 A JP6115895 A JP 6115895A JP H08259962 A JPH08259962 A JP H08259962A
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Abstract
供すること。 【構成】 ゆるく堆積されたガス化床が形成された高温
反応炉中に少なくとも予備熱分解した、圧縮形の炭素含
有塵芥を供給し、同床の下で酸素添加によって燃焼させ
ることから成る、酸素の添加による塵芥ガス化中に発生
する合成ガス中の有機汚染物残渣の除去方法を述べる。
生成した合成ガスを、充分な滞留時間後に、高温反応炉
の頂部から取り出し、滞留帯中に補充酸素を、合成ガス
の生ずる可能な部分燃焼がガス化床上のその温度を約
１，０００℃に一定に維持するように、温度制御された
部分量で注入する。酸素注入が頂部において完全に均一
なガス混合が保証されるように行われる。この目的のた
めに、幾つかの酸素ジェットを高温反応炉の頂部に配置
し、頂部に軸方向及び／又は半径方向から傾斜させる。
Description
に得られる合成ガス中の、あらゆる種類の炭素含有残留
物質を含む有機汚染物残渣の除去方法に関する。
イツ語論文“廃棄物の脱ガス及びガス化のためのサーモ
セレクト方法”ＥＦ Ｖｅｒｌａｇ Ｅｎｅｒｇｉｅ
ｕｎｄＵｍｗｅｌｔｔｅｃｈｎｉｅｋ（１９９４）、ベ
ルリン、ＩＳＢＮ３−９２４５１１−４７−０には、
“サーモセレクト(thermoselect)"の名称で関連する工
業新聞(technical press)において知られるようになっ
た、新規な方法が述べられている。この方法によると、
炭素含有残留物質、すなわち、例えば通常の家庭内塵芥
のような、ランダムで不均質に形成された塵芥を最初は
圧縮を伴って、少なくとも部分的に熱分解し、その後
に、まだ圧縮された形で高温反応炉中に供給する。炉シ
ャフトにおいて、砕け易い形式で供給される予備熱分解
済み塵芥はゆるく堆積されたガス化床を形成する。ガス
化床のカラムに酸素又は酸素富化空気を加えることによ
って、存在する炭素フラクション(fraction)はガス化さ
れ、例えばガス化床の中心部で生ずるような、２，００
０℃を越える温度においてそれぞれガス化される。生成
するＣＯ2は堆積上の脱酸素室において、すなわち、少
なくとも１，０００℃の温度のガス化室上の、高温反応
炉の頂部において、殆どＣＯに還元される。これらの温
度において、反応の平衡（発生炉ガス平衡）はＣＯ方向
に変位する。発生炉ガス平衡反応に平行して高温反応炉
中に導入される塵芥水分の結果として、Ｈ2Ｏ＋Ｃ→Ｃ
Ｏ＋Ｈ2（水性ガス反応）が行われる。材料及び／又は
エネルギーの観点から非常に経済的に用いられることが
できる、得られる合成ガスは、このような温度制御の場
合には、主としてＣＯ、Ｈ2及び少量のＣＯ2から成る。
有機汚染物、特に高毒性のダイオキシン及びフランは問
題の温度範囲においてはもはや安定ではなく、確実に分
解される。塵芥の金属成分及び無機成分は長いバーナー
帯で溶融されて、高温反応炉から取り出される。発熱性
酸化反応がこのために必要なエネルギーを供給する。吸
熱性反応が有機化合物を分解し、それ故、特に汚染物化
合物をも分解する。合成ガスの化学エネルギー含量と汚
染物のないことが合成ガスの工業的利用の非常に有利な
根拠を与える。高温ガスの衝撃冷却によって、有機汚染
物の新たな形成が阻止される。遊離ガス帯、すなわち、
高温反応炉のガス化床上のいわゆる脱酸素室における汚
染物の分解は、そこで各室部分における正確に定義され
た温度条件並びに明確に定義された滞留時間を必要とす
る。
せる可能性がある、特に２条件が存在する。第一に、塵
芥組成が可能に広く異なる結果として、特に高い水分含
量の場合には、ガス化床上の滞留室における合成ガスの
温度が一時的に低下する可能性があり、第二には、ガス
化床上の滞留室において層流領域が形成され、部分的帯
に関して合成ガス滞留時間を減じる可能性がある。これ
らのいわゆるガスストランド又はガス路は脱酸素室にお
いて常に回避されなければならない。したがって、合成
ガス中に微量の汚染物が残留し、合成ガスの利用中に放
出されることをいずれの場合にも除外することは不可能
である。それ故、廃棄物処理の場合に、特に塵芥の熱処
理において可能な危険性を避けるという本発明の目的を
考慮すると、高温反応炉のガス化床上のガス帯の温度を
高度の確実さで少なくとも１，０００℃に安定化し、空
間の如何なる点においてもガスストランド又はガス路の
形状の層流領域を除外するいう問題が生ずる。
１の特徴付け部分に記載した特徴によって、この問題が
解決される。従属項はその有利な、さらなる展開を述べ
る。
中に補充酸素が温度制御された部分量で注入されるとい
う事実のために、合成ガスの部分的燃焼によって温度が
完全に定常に維持されることができる。補充酸素の注入
(jetting in)は、汚染物の通過("passages"）の表示を
形成しうる層流領域がもはや形成されないように、高温
帯の頂部においてガス流中に乱流を生じる可能性をも提
供する。簡単には、部分酸素量を注入するために幾つか
の酸素ジェット又はノズルを利用し、これらを高温反応
炉の頂部に軸方向及び半径方向から傾斜させて配置する
ことによって、高温反応炉の頂部において付加的な乱流
を得ることができる。
随する液状又はガス状燃料のための注入ノズルを有する
場合には、あらうる場合に、すなわち他のパラメータか
ら独立的に、汚染物除去のために必要な温度を維持する
ことが可能である。
Claims (3)
- 【請求項１】 ゆるく堆積されたガス化床が形成された
高温反応炉中に少なくとも予備熱分解した、圧縮形の炭
素含有塵芥を供給し、同床の下で酸素添加によってガス
化を受けさせ、充分な滞留時間後に、生成した合成ガス
を高温反応炉の頂部から取り出すことから成る、酸素の
添加による塵芥ガス化中に発生する合成ガス中の有機汚
染物残渣の除去方法であって、反応炉の頂部に滞留帯を
構成する高温反応炉の遊離ガス帯中に補充酸素を、合成
ガスの生ずる可能な部分燃焼がガス化床上のその温度を
約１，０００℃に一定に維持するように、それ自体公知
の方法で注入すること、及び頂部において完全に均一な
ガス混合が保証されるように酸素注入が行われることを
特徴とする方法。 - 【請求項２】 高温反応炉の頂部において幾つかの酸素
ジェットを用い、これらのジェットが軸方向及び／又は
半径方向から頂部中に傾斜して入ることを特徴とする請
求項１記載の方法。 - 【請求項３】 酸素ジェットに関して少なくとも１個の
注入ノズルを液状又はガス状燃料のために用いることを
特徴とする請求項１記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7061158A JP2978734B2 (ja) | 1995-03-20 | 1995-03-20 | 合成ガス中の有機汚染物残渣の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7061158A JP2978734B2 (ja) | 1995-03-20 | 1995-03-20 | 合成ガス中の有機汚染物残渣の除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08259962A true JPH08259962A (ja) | 1996-10-08 |
| JP2978734B2 JP2978734B2 (ja) | 1999-11-15 |
Family
ID=13163062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7061158A Expired - Fee Related JP2978734B2 (ja) | 1995-03-20 | 1995-03-20 | 合成ガス中の有機汚染物残渣の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2978734B2 (ja) |
-
1995
- 1995-03-20 JP JP7061158A patent/JP2978734B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2978734B2 (ja) | 1999-11-15 |
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