JPH08259938A - Luminous display element and its production - Google Patents
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Classifications
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、発光表示素子及びその
製造方法に関し、更に詳しくは、電極を表示パターンに
加工する複雑さがなく、所定の表示パターンを接続する
電極部分が目立つこともなく、複雑なパターンの表示が
できる発光表示素子、及びその製造方法に関する。本発
明は、有機発光材料を発光層とする有機EL素子及び発
光ダイオード型の発光表示素子等に広く利用される。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light emitting display device and a method of manufacturing the same, more specifically, there is no complexity of processing electrodes into a display pattern, and an electrode portion connecting a predetermined display pattern is not conspicuous. The present invention relates to a light emitting display device capable of displaying a complicated pattern and a manufacturing method thereof. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is widely used for an organic EL device having an organic light emitting material as a light emitting layer, a light emitting diode type light emitting display device, and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】有機EL素子は、有機材料を発光材料と
して使用し、それを電気的に発光させるもので、大面積
化、薄型化可能な新しいタイプの発光表示素子として期
待が大きく、鋭意研究開発が進められている。このよう
な有機EL素子の代表的なものは、アプライド・フィジ
ックス・レターズ(Applied Physics
Letters)、第51巻、第12号、第913頁か
ら第915頁(1987年)に記載されている。即ち、
発光材料にアルミニウムキノリノレート錯体(以下、
「Alq3」という。)、ホール輸送補助電極材料にジ
アミン誘導体を用い、酸化インジウム・スズ合金(以
下、「ITO」ともいう。)を透明電極として塗布した
ガラス基板上に、ガラス基板/透明電極(ITO)/ジ
アミン誘導体/Alq3/マグネシウム・アルミニウム
合金電極(金属電極)の順に積層したもので、ITO電
極をマイナス、マグネシウム・アルミニウム合金電極を
プラスにして電圧を印加すると、Alq3の層が発光
し、ガラス基板側から発光が観測できるというものであ
る。2. Description of the Related Art An organic EL element uses an organic material as a light emitting material and electrically emits it, and is expected to be a new type of light emitting display element that can be made large in area and thinned, and earnestly studied. Development is in progress. A typical example of such an organic EL element is Applied Physics Letters (Applied Physics).
Letters), Vol. 51, No. 12, pp. 913 to 915 (1987). That is,
Aluminum quinolinoleate complex (hereinafter,
It is called "Alq3". ), A diamine derivative is used as the hole transport auxiliary electrode material, and a glass substrate / transparent electrode (ITO) / diamine derivative is formed on a glass substrate coated with an indium tin oxide alloy (hereinafter, also referred to as “ITO”) as a transparent electrode. / Alq3 / magnesium aluminum alloy electrode formed by laminating in this order (metal electrode), an ITO electrode negative, voltage application pressure to the to the magnesium aluminum alloy electrode to a positive result, a layer of Alq3 emits light, from the glass substrate side The luminescence can be observed.
【0003】また、応用物理、第61巻、第10号、第
1044頁から第1047頁(1992年)には他の例
として、発光材料のクマリン6を電子輸送補助材料のオ
キサジアゾール誘導体(Bu−PBD)とホール輸送補
助材料のポリ(N−ビニルカルバゾール)(PVK)と
ともに混合し発光層用の材料とし、酸化インジウム・ス
ズ合金(ITO)を透明電極として塗布したガラス基板
上に、ガラス基板/透明電極(ITO)/混合発光層材
料/マグネシウム・アルミニウム合金電極の順に積層し
たもので、ITO電極をマイナス、マグネシウム・アル
ミニウム合金電極をプラスにして電圧を印加すると、ク
マリン6が発光するとしている。上記に示すような有機
EL素子は、有機発光材料を電子やホールの輸送を補助
する材料とともにプラス極になるITO等の透明電極と
マイナス極になるアルミニウムやアルミニウム・マグネ
シウム合金の電極で挟み込んだもので、発光材料からの
発光を透明電極を塗布してあるガラス基板側から取り出
す構造になっている。As another example, Applied Physics, Vol. 61, No. 10, pp. 1044 to 1047 (1992), coumarin 6 as a light emitting material and oxadiazole derivative as an electron transport auxiliary material ( Bu-PBD) and a hole transport auxiliary material, poly (N-vinylcarbazole) (PVK), are mixed to form a material for the light emitting layer, and a glass substrate is coated with indium tin oxide alloy (ITO) as a transparent electrode. Coumarin 6 emits light when a voltage is applied with the ITO electrode minus and the magnesium aluminum alloy electrode plus, in the order of substrate / transparent electrode (ITO) / mixed light-emitting layer material / magnesium-aluminum alloy electrode. There is. The organic EL element as shown above is obtained by sandwiching an organic light emitting material together with a material for assisting the transport of electrons and holes between a transparent electrode such as ITO which is a positive electrode and an electrode of aluminum or an aluminum-magnesium alloy which is a negative electrode. Then, the structure is such that light emitted from the light emitting material is taken out from the glass substrate side to which the transparent electrode is applied.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記従来の有機EL素
子は、薄膜で大型の表示素子として期待されているが、
文字等の情報を表示伝達する表示素子を作製するには、
従来の無機発光ダイオードを用いた表示素子と同様に、
発光素子セグメントをX−Yマトリックスに並べて作製
し、且つ配線を行い、文字パターンの発光を実現する方
法や、あらかじめ発光セグメントの電極形状自体を文字
パターンに加工することにより、文字パターンの発光を
実現するという煩雑な方法に依るしかなかった。The above-mentioned conventional organic EL device is expected to be a large-sized thin film display device.
To make a display element that displays and transmits information such as characters,
Like a display element using a conventional inorganic light emitting diode,
Light emitting element segments are arranged in an XY matrix, and wiring is performed to realize the light emission of the character pattern, or the electrode shape of the light emitting segment is processed into the character pattern in advance to realize the light emission of the character pattern. I had to resort to the complicated method of doing.
【0005】本発明者らは、文字情報を伝達するための
発光表示素子を容易に作製するための方法について鋭意
研究を重ねた結果、かかる目的に合致する材料及び作製
方法を見出し本発明を完成した。本発明は、電極を表示
パターンに加工する複雑さがなく、所定の表示パターン
を接続する電極部分が目立つこともなく、複雑をパター
ンの表示ができる発光表示素子、及びその製造方法を提
供することを目的とする。The present inventors have conducted intensive studies on a method for easily manufacturing a light emitting display device for transmitting character information, and as a result, have found a material and a manufacturing method which meet such an object and completed the present invention. did. The present invention provides a light-emitting display element capable of displaying a complicated pattern without the complexity of processing electrodes into a display pattern, the electrode portion connecting a predetermined display pattern is not conspicuous, and a method for manufacturing the same. With the goal.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本第1発明の発光表示素
子は、透明電極付き透明基板と、該透明電極上に形成さ
れる発光層と、該発光層上に形成される金属電極とを備
え、上記発光層が、前記特許請求の範囲に示す、主鎖の
一部にアントリレン基を含有したポリシラン誘導体から
構成されていることを特徴とする。本第2発明の発光表
示素子は、上記第1発明の発光表示素子を構成する発光
層に対し、所定の照射パターンにおいて紫外線照射を行
い、該紫外線照射が行われた照射パターンであるととも
に電圧印加により発光しない所定の非発光パターンと、
該紫外線照射が行われない非照射パターンであるととも
に電圧印加により発光する所定の発光パターンとが上記
発光層内に直接形成されていることを特徴とする。A light emitting display device of the first invention comprises a transparent substrate with a transparent electrode, a light emitting layer formed on the transparent electrode, and a metal electrode formed on the light emitting layer. It is characterized in that the light emitting layer is composed of a polysilane derivative containing an anthrylene group in a part of the main chain as shown in the claims. The light emitting display device of the second invention is such that the light emitting layer constituting the light emitting display device of the first invention is irradiated with ultraviolet rays in a predetermined irradiation pattern, and the irradiation pattern is the ultraviolet irradiation and the voltage is applied. With a predetermined non-emission pattern that does not emit light,
It is characterized in that a non-irradiation pattern in which the ultraviolet ray irradiation is not performed and a predetermined light emission pattern which emits light when a voltage is applied are directly formed in the light emitting layer.
【0007】本第3発明の発光表示素子の製造方法は、
透明電極付き透明基板の該透明電極上に、請求項1に示
す、主鎖の一部にアントリレン基を含有したポリシラン
誘導体から構成される発光層を形成し、その後、この透
明電極・発光層付き透明基板の一方の面から、該発光層
に、所定の照射パターンとなるように紫外線照射を行
い、該紫外線照射が行われた照射パターンであるととも
に電圧印加により発光しない所定の非発光パターンと、
該紫外線照射が行われない非照射パターンであるととも
に電圧印加により発光する所定の発光パターンとが上記
発光層内に直接形成し、次いで、上記発光層上に金属電
極を形成することを特徴とする。A method of manufacturing a light emitting display device according to the third aspect of the present invention comprises:
On the transparent electrode of the transparent substrate with a transparent electrode, a light emitting layer composed of a polysilane derivative containing an anthrylene group in a part of the main chain is formed on the transparent electrode, and then the transparent electrode / light emitting layer is attached. From one surface of the transparent substrate, the light emitting layer is irradiated with ultraviolet rays so as to have a predetermined irradiation pattern, and a predetermined non-light emitting pattern which is an irradiation pattern subjected to the ultraviolet irradiation and does not emit light by voltage application,
It is characterized in that a non-irradiation pattern in which the ultraviolet irradiation is not performed and a predetermined light emission pattern which emits light by applying a voltage are directly formed in the light emitting layer, and then a metal electrode is formed on the light emitting layer. .
【0008】本第4発明の発光表示素子の製造方法は、
透明電極付き透明基板の該透明電極上に、請求項1に示
す、主鎖の一部にアントリレン基を含有したポリシラン
誘導体から構成される発光層を形成し、その後、該発光
層上に金属電極を形成し、次いで、この透明電極・発光
層・金属電極付き透明基板の上記透明基板側から、上記
発光層に、所定の照射パターンとなるように紫外線照射
を行い、該紫外線照射が行われた照射パターンであると
ともに電圧印加により発光しない所定の非発光パターン
と、該紫外線照射が行われない非照射パターンであると
ともに電圧印加により発光する所定の発光パターンとが
上記発光層内に直接形成することを特徴とする。A method of manufacturing a light emitting display device according to the fourth invention is
A light emitting layer composed of a polysilane derivative containing an anthrylene group in a part of its main chain as shown in claim 1 is formed on the transparent electrode of a transparent substrate with a transparent electrode, and then a metal electrode is formed on the light emitting layer. Then, from the transparent substrate side of the transparent electrode / light emitting layer / metal electrode-attached transparent substrate, the light emitting layer was irradiated with ultraviolet rays so as to have a predetermined irradiation pattern, and the ultraviolet rays were irradiated. A predetermined non-light emitting pattern that is an irradiation pattern and does not emit light when a voltage is applied, and a predetermined light emitting pattern that is a non-irradiation pattern that is not irradiated by ultraviolet rays and that emits light when a voltage is applied are formed directly in the light emitting layer. Is characterized by.
【0009】本発明で用いられる上記ポリシラン誘導体
の一方の構造単位である構造単位Aにおいて、R1 及び
R2 は同一の若しくは異なる炭素数1〜6の直鎖状アル
キル基であり、且つR1 及びR2 の炭素数の合計が8以
内である。好ましいR1 若しくはR2 は、炭素数1〜4
の直鎖状アルキル基であり、また更に好ましくはR1及
びR2 のいずれか一方がメチル基である。R1 又はR2
が分岐状であるか、R 1 又はR2 の炭素数が6を越える
か、又はR1 及びR2 の炭素数の合計が8を越えると、
その立体障害により、原料である下記式〔1〕で表され
る化合物と下記式〔2〕で表される化合物との、アルカ
リ金属若しくはアルカリ土類金属共存下における反応性
が低下し、本発明のポリシラン誘導体の収率の低下につ
ながり、工業的に不利である。R1 及びR2 として具体
的にはメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチ
ル基、n−ペンチル基及びn−ヘキシル基が挙げられ
る。The above polysilane derivative used in the present invention
In the structural unit A, which is one of the structural units of1as well as
R2Are the same or different straight-chain alkanes having 1 to 6 carbon atoms.
Is a kill group and R1And R2The total number of carbons in
It is within. Preferred R1Or R2Has 1 to 4 carbon atoms
A linear alkyl group of1Over
And R2Either of these is a methyl group. R1Or R2
Is branched or R 1Or R2Carbon number of exceeds 6
Or R1And R2If the total number of carbons in
Due to the steric hindrance, the raw material is represented by the following formula [1].
And a compound represented by the following formula [2]:
Reactivity in the presence of liquid metals or alkaline earth metals
Lowers the yield of the polysilane derivative of the present invention.
It has a long industrial disadvantage. R1And R2As concrete
Specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group
Group, n-pentyl group and n-hexyl group.
It
【0010】[0010]
【化3】 Embedded image
【0011】[0011]
【化4】 [Chemical 4]
【0012】本発明で用いられるポリシラン誘導体の他
方の構造単位である構造単位Bにおいて、R3 及びR4
は同一であっても異なっていてもよく、炭素数1〜10
の直鎖状又は分岐状アルキル基、アリール基又はアラル
キル基である。該アルキル基は好ましくは炭素数1〜6
の直鎖状又は分岐状アルキル基であり、具体的にはメチ
ル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル
基、sec−ブチル基等が挙げられる。また、該アラル
キル基におけるアルキレン基としてはメチレン基、エチ
レン基等が挙げられる。また、上記アリール基及びアラ
ルキル基は、該ポリシラン誘導体を製造する後述の重合
に際し、式〔2〕で表されるシラン化合物及びアルカリ
金属若しくはアルカリ土類金属と反応しない置換基を、
芳香環上に有するものをも含めるものとし、かかる置換
基としては、例えば炭素数1〜6、好ましくは1〜4の
直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、エチル
基、n−プロピル基、i−プロピル基等)、炭素数1〜
6、好ましくは1〜4の直鎖状又は分岐状アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基等)等が挙げられる。
該アリール基として具体的にはフェニル基、トリル基、
キシリル基、メシチル基、クメニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、ナフチル基等が挙げられ
る。また、該アラルキル基として具体的にはベンジル
基、トリルメチル基、キシリルメチル基、クメニルメチ
ル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基、トリチル
基、トリトリルメチル基、トリ(ジメチルフェニル)メ
チル基、メトキシフェニルメチル基、ジエトキシフェニ
ルメチル基等が挙げられる。In the structural unit B which is the other structural unit of the polysilane derivative used in the present invention, R 3 and R 4
May be the same or different and have 1 to 10 carbon atoms.
Is a linear or branched alkyl group, aryl group or aralkyl group. The alkyl group preferably has 1 to 6 carbon atoms.
Is a linear or branched alkyl group, and specific examples thereof include a methyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, and a sec-butyl group. In addition, examples of the alkylene group in the aralkyl group include a methylene group and an ethylene group. The aryl group and the aralkyl group each have a substituent that does not react with a silane compound represented by the formula [2] and an alkali metal or an alkaline earth metal in the polymerization described below for producing the polysilane derivative,
Those having on the aromatic ring are also included, and examples of such a substituent include a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, n-propyl group). Group, i-propyl group, etc.), carbon number 1 to
6, preferably 1 to 4 linear or branched alkoxy groups (eg, methoxy group, ethoxy group, etc.) and the like.
Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group,
Examples thereof include a xylyl group, a mesityl group, a cumenyl group, a methoxyphenyl group, an ethoxyphenyl group and a naphthyl group. Further, as the aralkyl group, specifically, a benzyl group, a tolylmethyl group, a xylylmethyl group, a cumenylmethyl group, a phenethyl group, a diphenylmethyl group, a trityl group, a tritolylmethyl group, a tri (dimethylphenyl) methyl group, a methoxyphenylmethyl group, Examples thereof include a diethoxyphenylmethyl group.
【0013】R3 とR4 の組合せは特に限定されない
が、それらのいずれかが炭素数1〜6、より好ましくは
1〜4の直鎖状又は分岐状アルキリ基特にメチル基であ
り、他方が炭素数1〜6、特に1〜4の直鎖状又は分岐
状アルキル基、アリール基又はアラルキル基であること
が好ましい。特に好ましいR3 とR4 の組合せは、一方
がメチル基で他方が炭素数1〜4の直鎖状アルキル基又
はアリール基の組合せである。The combination of R 3 and R 4 is not particularly limited, but any one of them is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and particularly a methyl group, and the other is It is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, particularly 1 to 4 carbon atoms, an aryl group or an aralkyl group. A particularly preferred combination of R 3 and R 4 is a combination of one of which is a methyl group and the other of which is a linear alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group.
【0014】本発明で用いられるポリシラン誘導体を構
成する構造単位A/構造単位Bのモル比(%)は0.5
〜10%である。該モル比(%)が0.5%より小さい
とアントリレン基の割合が少なくなりすぎ、可視領域で
の発光が起こらないか微弱すぎ、また、発光効率が悪く
なる。また、10%より大きいと構造単位Bの繰り返し
数が十分でなく、ポリシランとしての機能、例えばエネ
ルギーバンドやホール(正孔)輸送性が得られない。ポ
リシラン部が充分なエネルギーバンド(σ−σバンド)
を形成し、且つホール輸送性を有し、更にアントリレン
部のπ電子と共役するには、該モル比(%)が5%以下
であることが好ましく、また充分な可視発光の機能を得
るには該モル比(%)が1%以上であることが好まし
い。尚、上記構造単位のモル比(%)は以下の方法によ
って求められるモル比(%)を意味する。The molar ratio (%) of structural unit A / structural unit B constituting the polysilane derivative used in the present invention is 0.5.
-10%. When the molar ratio (%) is less than 0.5%, the proportion of anthrylene group becomes too small, light emission in the visible region does not occur or is too weak, and the light emission efficiency becomes poor. If it is more than 10%, the number of repeating structural units B is not sufficient, and the function as polysilane, for example, the energy band and hole (hole) transportability cannot be obtained. Sufficient energy band for polysilane (σ-σ band)
To have a hole transporting property and to be conjugated with π electrons of the anthrylene moiety, the molar ratio (%) is preferably 5% or less, and sufficient visible light emission function is obtained. It is preferable that the molar ratio (%) is 1% or more. The molar ratio (%) of the structural units means the molar ratio (%) obtained by the following method.
【0015】これは、下記〜の手順により算出す
る。 アントラセンについての標準吸光度を次の通り求め
る。所定モル量のアントラセンをクロロホルム溶媒に溶
解した標準溶液を調製して、そのUV吸光のλmaxに
おけるモル吸光度を測定し、これを標準吸光度とする。 目的生成物中の構造単位Aのモル数を次の通り求め
る。標準溶液と同一溶媒で且つ同モル濃度(ポリマー全
体の数平均分子量から換算)の目的生成物(ポリマー)
溶液を調製し、UV吸光におけるアントラセンに帰属さ
れるλmaxのモル吸光度を測定し、先の標準吸光度で
除することにより、目的生成物中におけるアントリレン
基のモル数を求める。この値は構造単位Aのモル数に等
しい。This is calculated by the following procedures. The standard absorbance for anthracene is determined as follows. A standard solution in which a predetermined molar amount of anthracene is dissolved in a chloroform solvent is prepared, and the molar absorbance at λmax of UV absorption is measured, and this is used as the standard absorbance. The number of moles of structural unit A in the desired product is determined as follows. Target product (polymer) with the same solvent as the standard solution and the same molar concentration (converted from the number average molecular weight of the entire polymer)
A solution is prepared, and the molar absorptivity of λmax attributed to anthracene in UV absorption is measured and divided by the standard absorbance described above to obtain the number of moles of the anthrylene group in the target product. This value is equal to the number of moles of structural unit A.
【0016】目的生成物中の構造単位Aの重量を下式
により算出する。 構造単位Aの重量=(原料に用いたビスシリルアントラ
セン化合物〔1〕からハロゲン原子X1 及びX2 を差し
引いた構造単位Aの分子量)×(構造単位Aのモル数) 目的生成物中の構造単位Bのモル数を下式により算出
する。 構造単位Bのモル数=(モル吸光度の測定に用いた目的
生成物の重量−構造単位Aの重量)/(原料に用いたシ
ラン化合物〔2〕からハロゲン原子X3 及びX4 を差し
引いた構造単位Bの分子量) 目的生成物中の構造単位A/構造単位Bのモル比
(%)を下式により算出する。 構造単位A/構造単位B〔モル比(%)〕=(で求め
た構造単位Aのモル数)×100/(で求めた構造単
位Bのモル数)The weight of the structural unit A in the desired product is calculated by the following formula. Weight of structural unit A = (molecular weight of structural unit A obtained by subtracting halogen atoms X 1 and X 2 from bissilylanthracene compound [1] used as a raw material) × (number of moles of structural unit A) Structure in target product The number of moles of unit B is calculated by the following formula. Number of moles of structural unit B = (weight of target product used for measurement of molar absorbance−weight of structural unit A) / (structure obtained by subtracting halogen atoms X 3 and X 4 from silane compound [2] used as a raw material Molecular Weight of Unit B) The molar ratio (%) of structural unit A / structural unit B in the target product is calculated by the following formula. Structural unit A / structural unit B [molar ratio (%)] = (number of moles of structural unit A determined by) × 100 / (number of moles of structural unit B determined by)
【0017】上記ポリシラン誘導体の重量平均分子量は
1,000〜1,000,000、好ましくは2,00
0〜500,000である。重量平均分子量が1,00
0未満の場合にはポリマーの単離精製が困難となり、ま
た生成したポリマーは成形加工し難いポリマーであり、
また1,000,000を越える場合には溶媒に溶解し
た場合、粘度が高くなり過ぎ、スピンコートやキャステ
ィング法等による成膜性能が悪くなる。尚、上記重量平
均分子量はGPC法(ポリスチレン換算)によって求め
られる重量平均分子量を意味する。上記ポリシラン誘導
体は種々の有機溶媒、特に非プロトン性有機溶媒、例え
ばベンゼン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、n−
オクタン、テトラヒドロフラン等に溶解する。The polysilane derivative has a weight average molecular weight of 1,000 to 1,000,000, preferably 2,000.
It is 0 to 500,000. Weight average molecular weight is 100
When it is less than 0, it is difficult to isolate and purify the polymer, and the produced polymer is a polymer that is difficult to mold and process.
On the other hand, if it exceeds 1,000,000, when it is dissolved in a solvent, the viscosity becomes too high, and the film forming performance by spin coating, casting method or the like deteriorates. The weight average molecular weight means the weight average molecular weight determined by the GPC method (in terms of polystyrene). The polysilane derivative is used in various organic solvents, especially aprotic organic solvents such as benzene, toluene, xylene, n-hexane and n-hexane.
It dissolves in octane, tetrahydrofuran, etc.
【0018】上記ポリシラン誘導体は上記式〔1〕で表
される9,10−ビス(ジアルキルハロシリル)アント
ラセン(以下、ビスシリルアントラセン化合物〔1〕と
いう。)と、上記式〔2〕で表されるシラン化合物(以
下、シラン化合物〔2〕と称する)とを、アルカリ金属
若しくはアルカリ土類金属の共存下に、不活性溶媒中で
反応させることにより得ることができる。The polysilane derivative is represented by the above formula [1] and the 9,10-bis (dialkylhalosilyl) anthracene represented by the above formula [1] (hereinafter referred to as the bissilylanthracene compound [1]). Can be obtained by reacting a silane compound (hereinafter referred to as silane compound [2]) in the presence of an alkali metal or an alkaline earth metal in an inert solvent.
【0019】上記ビスシリルアントラセン化合物〔1〕
は新規化合物であり、その製法は後述する。このビスシ
リルアントラセン化合物〔1〕のR1 及びR2 は、上記
ポリシラン誘導体に関して説明した通りである。またX
1 又はX2 で示されるハロゲン原子としては、好ましく
は塩素原子又は臭素原子が挙げられ、特に好ましくは塩
素原子である。The above bissilylanthracene compound [1]
Is a novel compound, and its manufacturing method will be described later. R 1 and R 2 of this bissilylanthracene compound [1] are as described for the above polysilane derivative. Also X
The halogen atom represented by 1 or X 2 is preferably a chlorine atom or a bromine atom, and particularly preferably a chlorine atom.
【0020】上記ビスシリルアントラセン化合物〔1〕
の好ましい例としては9,10−ビス(ジメチルクロロ
シリル)アントラセン、9,10−ビス(ジエチルクロ
ロシリル)アントラセン、9,10−ビス(ジn−プロ
ピルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス(ジ
n−ブチルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビ
ス(メチルエチルクロロシリル)アントラセン、9,1
0−ビス(メチルn−プロピルクロロシリル)アントラ
セン、9,10−ビス(メチルn−ブチルクロロシリ
ル)アントラセン、9,10−ビス(メチルn−ペンチ
ルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス(メチ
ルn−ヘキシルクロロシリル)アントラセン、9,10
−ビス(エチルn−プロピルクロロシリル)アントラセ
ン、9,10−ビス(エチルn−ブチルクロロシリル)
アントラセン、9,10−ビス(エチルn−ペンチルク
ロロシリル)アントラセン、9,10−ビス(エチルn
−ヘキシルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビ
ス(n−プロピルn−ブチルクロロシリル)アントラセ
ン、9,10−ビス(n−プロピルn−ペンチルクロロ
シリル)アントラセンが挙げられ、特に好ましい例とし
ては9,10−ビス(ジメチルクロロシリル)アントラ
セン、9,10−ビス(メチルエチルクロロシリル)ア
ントラセン、9,10−ビス(メチルn−プロピルクロ
ロシリル)アントラセン、9,10−ビス(メチルn−
ブチルクロロシリル)アントラセン、9,10−ビス
(メチルn−ペンチルクロロシリル)アントラセン、
9,10−ビス(メチルn−ヘキシルクロロシリル)ア
ントラセンが挙げられる。The above bissilylanthracene compound [1]
As preferred examples of 9,10-bis (dimethylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (diethylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (di-n-propylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis ( Di-n-butylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (methylethylchlorosilyl) anthracene, 9,1
0-bis (methyl n-propylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (methyl n-butylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (methyl n-pentylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (methyl) n-hexylchlorosilyl) anthracene, 9,10
-Bis (ethyl n-propylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (ethyl n-butylchlorosilyl)
Anthracene, 9,10-bis (ethyl n-pentylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (ethyl n
-Hexylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (n-propyl n-butylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (n-propyl n-pentylchlorosilyl) anthracene, and particularly preferable examples are 9 , 10-bis (dimethylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (methylethylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (methyl n-propylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (methyl n-
Butylchlorosilyl) anthracene, 9,10-bis (methyl n-pentylchlorosilyl) anthracene,
Mention may be made of 9,10-bis (methyl n-hexylchlorosilyl) anthracene.
【0021】上記シラン化合物〔2〕のR3 及びR4 は
本発明のポリシラン誘導体に関して説明した通りであ
る。またX3 又はX4 で示されるハロゲン原子として
は、好ましくは塩素原子又は臭素原子が挙げられ、特に
好ましくは塩素原子である。このシラン化合物〔2〕の
好ましい例としてはジメチルジクロロシラン、ジエチル
ジクロロシラン、ジプロピルジクロロシラン、ジブチル
ジクロロシラン、ジペンチルジクロロシラン、ジヘキシ
ルジクロロシラン、メチルエチルジクロロシラン、メチ
ルプロピルジクロロシラン、メチルブチルジクロロシラ
ン、メチルペンチルジクロロシラン、メチルヘキシルジ
クロロシラン、エチルプロピルジクロロシラン、エチル
ブチルジクロロシラン、エチルペンチルジクロロシラ
ン、エチルヘキシルジクロロシラン、プロピルブチルジ
クロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、エチル
フェニルジクロロシラン、メチルトリルジクロロシラ
ン、エチルトリルジクロロシラン、メチルキシリルジク
ロロシラン、エチルキシリルジクロロシラン、メチルナ
フチルジクロロシラン、メチルベンジルジクロロシラ
ン、エチルベンジルジクロロシラン、メチルフェネチル
ジクロロシラン等が挙げられ、特に好ましい例としてジ
メチルジクロロシラン、メチルエチルジクロロシラン、
メチルn−プロピルジクロロシラン、メチルn−ブチル
ジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン等が挙
げられる。本発明で用いられるポリシラン誘導体は上記
ビスシリルアントラセン化合物〔1〕と上記シラン化合
物〔2〕とを、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金
属、特に好ましくはアルカリ金属の共存下に、不活性溶
媒中で反応させることにより得られるが、アルカリ金属
としてはリチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げら
れ、リチウム、ナトリウムが好ましく、ナトリウムが特
に好ましい。アルカリ土類金属としてはマグネシウム、
カルシウム等が挙げられる。R 3 and R 4 of the silane compound [2] are as described for the polysilane derivative of the present invention. The halogen atom represented by X 3 or X 4 is preferably a chlorine atom or a bromine atom, particularly preferably a chlorine atom. Preferred examples of the silane compound [2] include dimethyldichlorosilane, diethyldichlorosilane, dipropyldichlorosilane, dibutyldichlorosilane, dipentyldichlorosilane, dihexyldichlorosilane, methylethyldichlorosilane, methylpropyldichlorosilane, methylbutyldichlorosilane. , Methylpentyldichlorosilane, methylhexyldichlorosilane, ethylpropyldichlorosilane, ethylbutyldichlorosilane, ethylpentyldichlorosilane, ethylhexyldichlorosilane, propylbutyldichlorosilane, methylphenyldichlorosilane, ethylphenyldichlorosilane, methyltolyldichlorosilane, Ethyltolyldichlorosilane, methylxylyldichlorosilane, ethylxylyldichlorosilane, methyl Naphthyl dichlorosilane, methyl Baie emissions Jill dichlorosilane, ethyl benzyl dichlorosilane, include methyl phenethyl dichlorosilane, etc., dimethyldichlorosilane, methyl ethyl dichlorosilane Particularly preferred examples,
Examples thereof include methyl n-propyldichlorosilane, methyl n-butyldichlorosilane, and methylphenyldichlorosilane. The polysilane derivative used in the present invention is obtained by reacting the bissilylanthracene compound [1] with the silane compound [2] in the presence of an alkali metal or an alkaline earth metal, particularly preferably an alkali metal, in an inert solvent. The alkali metal includes lithium, sodium, potassium, and the like. Lithium and sodium are preferable, and sodium is particularly preferable. Magnesium as an alkaline earth metal,
Examples include calcium.
【0022】原料として用いるビスシリルアントラセン
化合物〔1〕とシラン化合物〔2〕の最適な割合は、両
原料の反応性によって異なるので、目的とするポリシラ
ン誘導体の構造単位A/構造単位Bのモル比(%)を設
定した上で、実験的に所要量を確認して使用することが
望ましい。またアルカリ金属又はアルカリ土類金属の使
用割合は、ビスシリルアントラセン化合物〔1〕及びシ
ラン化合物〔2〕の合計量1モルを基準として2〜5モ
ルが好ましい。2モル未満では反応生成物の収率の低下
につながり、5モルを越えても、それに見合う効果が期
待できず不経済であり、また過剰のアルカリ金属又はア
ルカリ土類金属の量が増加するため、その後処理が困難
となる。不活性溶媒としては非プロトン性溶媒が好適で
あり、具体的としてはベンゼン、トルエン、キシレン、
n−ヘキサン、n−オクタン、テトラヒドロフラン等が
挙げられる。不活性溶媒は、シラン化合物〔2〕の濃度
が100mmol/L〜1mol/Lとなる程度に用い
るのが好適である。Since the optimum ratio of the bissilylanthracene compound [1] and the silane compound [2] used as the raw materials differs depending on the reactivity of the two raw materials, the molar ratio of structural unit A / structural unit B of the target polysilane derivative. It is desirable to confirm the required amount experimentally after setting (%) before use. The proportion of alkali metal or alkaline earth metal used is preferably 2 to 5 mol based on 1 mol of the total amount of the bissilylanthracene compound [1] and the silane compound [2]. If it is less than 2 moles, the yield of the reaction product is reduced, and if it exceeds 5 moles, the corresponding effect cannot be expected and it is uneconomical, and the amount of excess alkali metal or alkaline earth metal increases. , Then the processing becomes difficult. An aprotic solvent is preferable as the inert solvent, and specifically, benzene, toluene, xylene,
Examples include n-hexane, n-octane, and tetrahydrofuran. The inert solvent is preferably used so that the concentration of the silane compound [2] is 100 mmol / L to 1 mol / L.
【0023】反応温度は好ましくは0℃以上で反応溶媒
の沸点以下である。反応は不活性ガス雰囲気下で行うの
が好ましい。反応時間は使用する反応溶媒や反応温度に
より変化するが、反応は通常24時間以内で終了する。
反応終了後、反応液を濾過して副生成物の金属塩を除
き、濾液をメタノール等の貧溶媒中に滴下して生成物を
沈澱させることにより、目的のポリシラン誘導体を得る
ことができる。上記ポリマーの製造原料の一つであるビ
スシリルアントラセン化合物〔1〕も新規化合物であっ
て、例えば、式〔3〕The reaction temperature is preferably 0 ° C. or higher and not higher than the boiling point of the reaction solvent. The reaction is preferably carried out under an inert gas atmosphere. The reaction time varies depending on the reaction solvent used and the reaction temperature, but the reaction is usually completed within 24 hours.
After completion of the reaction, the reaction solution is filtered to remove the by-product metal salt, and the filtrate is dropped into a poor solvent such as methanol to precipitate the product, whereby the target polysilane derivative can be obtained. The bissilylanthracene compound [1], which is one of the raw materials for producing the above-mentioned polymer, is also a novel compound, and is represented by the formula [3]
【0024】[0024]
【化5】 Embedded image
【0025】で表される9,10−ジリチオアントラセ
ン又は式〔4〕9,10-dilithioanthracene represented by the formula or the formula [4]
【0026】[0026]
【化6】 [Chemical 6]
【0027】(式中、X5 はハロゲン原子である。)で
表されるグリニャール試薬、即ち9,10−ジマグネシ
ウムハロゲノアントラセンと、式〔5〕A Grignard reagent represented by the formula (wherein X 5 is a halogen atom), that is, 9,10-dimagnesium halogenoanthracene, and a compound of the formula [5]
【0028】[0028]
【化7】 [Chemical 7]
【0029】(式中、R1 及びR2 は前記と同様であ
り、X6 は化合物〔1〕のX1 又はX2と同様であ
る。)で表されるジアルキルジハロシランとを、不活性
溶媒中不活性ガス雰囲気下において反応させることによ
り、容易にしかも高収率で得ることができる。X5 で示
されるハロゲン原子としては、好ましくは塩素原子又は
臭素原子が挙げられる。X6 で示されるハロゲン原子と
しては、好ましくは塩素原子又は臭素原子が挙げられ、
特に好ましくは塩素原子である。不活性溶媒としては非
プロトン性有機溶媒が好適であり、具体的としてはジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、n−ヘキサン、n
−オクタン、n−ペンタン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等が挙げられる。不活性溶媒は、9,10−ジリチ
オアントラセン〔3〕又は9,10−ジマグネシウムハ
ロゲノアントラセン〔4〕の濃度が100mmol/L
〜2mol/Lとなる程度に用いるのが好適である。不
活性ガスとしてはアルゴン、窒素等が挙げられる。ジア
ルキルジハロシラン〔5〕と9,10−ジリチオアント
ラセン〔3〕又は9,10−ジマグネシウムハロゲノア
ントラセン〔4〕との反応割合は、9,10−ジリチオ
アントラセン〔3〕又は9,10−ジマグネシウムハロ
ゲノアントラセン〔4〕に対し、ジアルキルバハロシラ
ン〔5〕が2〜10当量であるのが好ましく、更に好ま
しくは2〜6当量である。反応温度は−30〜70℃が
好ましく、更に好ましくは0〜50℃であり、最適には
10〜50℃である。尚、反応温度が低すぎる場合には
ビスシリルアントラセン化合物〔1〕の収率が低下する
恐れがある。反応時間は反応温度、反応溶媒等により変
化するが、反応は通常24時間以内で終了する。(In the formula, R 1 and R 2 are the same as above, and X 6 is the same as X 1 or X 2 of the compound [1].) By reacting in an active solvent in an inert gas atmosphere, it can be easily obtained in high yield. The halogen atom represented by X 5 is preferably a chlorine atom or a bromine atom. The halogen atom represented by X 6 is preferably a chlorine atom or a bromine atom,
Particularly preferred is a chlorine atom. An aprotic organic solvent is preferable as the inert solvent, and specific examples thereof include diethyl ether, tetrahydrofuran, n-hexane, and n.
-Octane, n-pentane, benzene, toluene, xylene and the like. The inert solvent has a concentration of 9,10-dilithioanthracene [3] or 9,10-dimagnesium halogenoanthracene [4] of 100 mmol / L.
It is preferable to use it in an amount of about 2 mol / L. Examples of the inert gas include argon and nitrogen. The reaction ratio of dialkyldihalosilane [5] and 9,10-dilithioanthracene [3] or 9,10-dimagnesium halogenoanthracene [4] is 9,10-dilithioanthracene [3] or 9,10 -The dialkyl bahalosilane [5] is preferably 2 to 10 equivalents, more preferably 2 to 6 equivalents, based on the dimagnesium halogenoanthracene [4]. The reaction temperature is preferably -30 to 70 ° C, more preferably 0 to 50 ° C, most preferably 10 to 50 ° C. If the reaction temperature is too low, the yield of the bissilylanthracene compound [1] may decrease. The reaction time varies depending on the reaction temperature, the reaction solvent and the like, but the reaction is usually completed within 24 hours.
【0030】上記でX1 とX2 とが異なるビスシリルア
ントラセン化合物〔1〕を得る場合には、例えば、X6
がX1 であるジアルキルジハロシラン〔5〕とX6 がX
2 であるジアルキルジハロシラン〔5〕の混合物を用い
るとか、両化合物を時間をずらして9,10−ジリチオ
アントラセン〔3〕又は9,10−ジマグネシウムハロ
ゲノアントラセン〔4〕と順次反応させる等の手段を取
ることができる。上記反応による反応液から、生成した
ビスシリルアントラセン化合物〔1〕を取得するには、
副生したハロゲン化リチウム又はハロゲン化マグネシウ
ムの沈澱を濾過、デカンテーション等により反応液から
除去した後、反応溶媒を例えば減圧留去し、残渣をペン
タン等の不活性溶媒から再結晶する等の方法により精製
すればよい。取得されるビスシリルアントラセン化合物
〔1〕は黄色の固体である。尚、ビスシリルアントラセ
ン化合物〔1〕は次の重合のためには必ずしも精製しな
くてもよく、例えば上記で反応溶媒を減圧留去した後の
段階で重合に供してもよい。When a bissilylanthracene compound [1] in which X 1 and X 2 are different from each other is obtained, for example, X 6
A dialkyldihalosilane [5] wherein X is X 1 and X 6 is X
2 , using a mixture of dialkyldihalosilanes [5], or reacting both compounds with 9,10-dilithioanthracene [3] or 9,10-dimagnesium halogenoanthracene [4] sequentially at different times, etc. Can be taken. To obtain the produced bissilylanthracene compound [1] from the reaction solution obtained by the above reaction,
A method in which the precipitate of by-produced lithium halide or magnesium halide is removed from the reaction solution by filtration, decantation, etc., the reaction solvent is then distilled off under reduced pressure, and the residue is recrystallized from an inert solvent such as pentane. It may be purified by. The obtained bissilylanthracene compound [1] is a yellow solid. The bissilylanthracene compound [1] does not necessarily have to be purified for the next polymerization, and may be subjected to the polymerization at a stage after the reaction solvent is distilled off under reduced pressure, for example.
【0031】また、ビスシリルアントラセン化合物
〔1〕の製造に用いるジアルキルジハロシラン〔5〕
と、生成したビスシリルアントラセン化合物〔1〕と反
応させるシラン化合物〔2〕とが同一の化合物の場合に
は、ビスシリルアントラセン化合物〔1〕の製造時に、
アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属を共存させると
共に、ジアルキルジハロシラン〔5〕をビスシリルアン
トラセン化合物〔1〕の製造のみならず、次のポリマー
の製造にも十分な量用いることにより、一つの反応系に
おいて、本発明で用いられるポリシラン誘導体を得るこ
とができる。Further, dialkyldihalosilane [5] used for the production of bissilylanthracene compound [1]
And the silane compound [2] that reacts with the produced bissilylanthracene compound [1] are the same compound, when the bissilylanthracene compound [1] is produced,
One reaction can be achieved by coexisting an alkali metal or an alkaline earth metal and using the dialkyldihalosilane [5] in a sufficient amount not only for the production of the bissilylanthracene compound [1] but also for the production of the next polymer. In the system, the polysilane derivative used in the present invention can be obtained.
【0032】[0032]
【作用】本発明において使用する上記発光材料を用い
て、従来構造の有機EL素子(発光表示素子)を作製す
る。即ち、図1に示すように、酸化インジウム・スズ合
金(ITO)を透明電極2として表面に塗布してあるガ
ラス基板1上に、この発光材料をスピンコートして発光
層3を形成し、更に、この上に、アルミニウム(Al)
電極4を真空蒸着技術を用いて積層した。この発光層3
の厚みとしては、50〜100ナノメータが好ましい。
ITO透明電極2をプラス、Al電極4をマイナスにし
て、リード線5a、5bから電圧を印加すると、図2に
示すようにガラス基板1側から、電極形状に相当した発
光パターン32を観測できる。尚、文字パターン等を発
光表示する場合は、図1の発光素子を文字パターンに多
数並べ、電極をリード線等で結合させる方法とすること
ができる。The organic EL device (light-emitting display device) having a conventional structure is manufactured by using the above-mentioned light-emitting material used in the present invention. That is, as shown in FIG. 1, a light emitting layer 3 is formed by spin coating this light emitting material on a glass substrate 1 on the surface of which an indium tin oxide alloy (ITO) is applied as a transparent electrode 2. , On this, aluminum (Al)
The electrode 4 was laminated using a vacuum evaporation technique. This light emitting layer 3
The thickness is preferably 50 to 100 nanometers.
When the ITO transparent electrode 2 is made positive and the Al electrode 4 is made negative and a voltage is applied from the lead wires 5a, 5b, a light emitting pattern 32 corresponding to the electrode shape can be observed from the glass substrate 1 side as shown in FIG. In the case of displaying a character pattern or the like by light emission, a method of arranging a large number of light emitting elements of FIG. 1 in a character pattern and connecting electrodes with lead wires or the like can be used.
【0033】更に他の簡易型の方法として、電極の形状
をあらかじめ文字パターンと相似にしておく方法があ
る。即ち、図3に示すように、アルミニウムの電極を文
字パターン4aに形成する。この文字パターン電極部分
4aにリード線5bを接続し、先ほどと同様に電圧を印
加すると、図4に示すように、文字パターン32の発光
をガラス基板1側から観測することができる。尚、文字
パターンの電極をITO電極に形成しておいても同様の
結果が得られる。また、電極パターンの形成方法には、
フォトリソグラフィー技術で、電極を文字パターンにす
る方法と、あらかじめ文字パターンが抜け落ちた蒸着用
マスクを用いる方法等がある。前者は、複数の行程を追
加する必要がある。また、後者は複雑な文字パターンの
形成が困難な場合がある。Still another simple method is to make the shape of the electrode similar to the character pattern beforehand. That is, as shown in FIG. 3, aluminum electrodes are formed in the character pattern 4a. When the lead wire 5b is connected to the character pattern electrode portion 4a and a voltage is applied in the same manner as described above, the light emission of the character pattern 32 can be observed from the glass substrate 1 side as shown in FIG. Similar results can be obtained by forming the ITO electrode having the character pattern. In addition, in the method of forming the electrode pattern,
There are a method of forming the electrode into a character pattern by the photolithography technique, a method of using a vapor deposition mask in which the character pattern is already removed, and the like. The former requires the addition of multiple strokes. In the latter case, it may be difficult to form a complicated character pattern.
【0034】一方、ポリシラン類は、そのポリシランが
有する特性吸収波長以下の光照射(例えばポリ(メチル
フェニルシラン)の場合、350nm以下の紫外光の照
射)によりケイ素−ケイ素結合の開裂及び酸化ケイ素の
形成が起こり、ポリシラン類が一般に有しているホール
輸送機能が消滅することは知られるところである[参考
文献:(1)有機ケイ素ポリマーの合成と応用、櫻井英
樹監修、株式会社シーエムシー発行、第128頁から第
148頁(1989年)、(2)アプライド・フィジッ
クス・レターズ、第55巻、第2141頁(1990
年)]。膜厚50〜100ナノメータの発光層に紫外線
を照射する場合、照射時間としては1〜5分が適当であ
る。On the other hand, the polysilanes are cleaved at the silicon-silicon bond and the silicon oxide is cleaved by the irradiation of light having a characteristic absorption wavelength of the polysilane or less (for example, in the case of poly (methylphenylsilane), irradiation of ultraviolet light of 350 nm or less). It is known that the formation of polysilanes causes the hole transport function of polysilanes to disappear. [References: (1) Synthesis and application of organosilicon polymers, supervised by Hideki Sakurai, published by CMC Co., Ltd.] 128 to 148 (1989), (2) Applied Physics Letters, Volume 55, 2141 (1990)
Year)]. When the light emitting layer having a film thickness of 50 to 100 nanometers is irradiated with ultraviolet rays, an irradiation time of 1 to 5 minutes is appropriate.
【0035】本発明に用いた発光材料は、前述のポリシ
ラン誘導体であることから、同様に350nm以下の紫
外光を照射するとホールの輸送機能が消滅する。そこ
で、次のような実験を行った。先ず、図5に示すよう
に、先に述べた有機EL素子の作製手順に従って、酸化
インジウム・スズ合金(ITO)を透明電極2として表
面に塗布してあるガラス基板1上に、上記発光材料をス
ピンコートして発光層3を形成した。次に、発光層3の
一部をマスク6で覆い発光層3の表面側から350nm
以下の紫外光を照射した。その後、アルミニウム(A
l)電極4を真空蒸着技術を用いて積層した(図6)。
ITO透明電極2をプラス、Al電極4をマイナスにし
て、リード線(図示せず)から電圧を印加すると、紫外
線の照射時にマスクすることにより、ホール輸送機能が
消失しなかった非照射部分32のみ(照射部分は31)
から発光を観測することができた。Since the luminescent material used in the present invention is the above-mentioned polysilane derivative, the hole transport function disappears when the ultraviolet light of 350 nm or less is similarly irradiated. Therefore, the following experiment was conducted. First, as shown in FIG. 5, the above-mentioned light emitting material is applied onto a glass substrate 1 on the surface of which an indium tin oxide alloy (ITO) is applied as a transparent electrode 2 in accordance with the above-described procedure for manufacturing an organic EL element. The light emitting layer 3 was formed by spin coating. Next, a part of the light emitting layer 3 is covered with a mask 6 and 350 nm
The following ultraviolet light was applied. After that, aluminum (A
l) The electrode 4 was laminated using the vacuum evaporation technique (FIG. 6).
When the ITO transparent electrode 2 is made positive and the Al electrode 4 is made negative and a voltage is applied from a lead wire (not shown), only the non-irradiated portion 32 where the hole transport function has not disappeared by masking at the time of ultraviolet irradiation. (31 illuminated parts)
It was possible to observe luminescence from.
【0036】また、同様に図7に示すように、透明電極
2付きガラス基板1の上に、順次、発光層3及び金属電
極4を形成させて有機EL素子を作製した(図7)。そ
して、図8に示すように、このガラス基板1側の一部を
マスク6で覆い紫外線照射した場合においても、ガラス
基板1を透過した紫外線成分によって照射部分31のホ
ール輸送機能の消失がおこり、ホール輸送機能が消失し
なかった非照射部分32のみから発光を観測することが
できた。Similarly, as shown in FIG. 7, the light emitting layer 3 and the metal electrode 4 were sequentially formed on the glass substrate 1 with the transparent electrode 2 to produce an organic EL device (FIG. 7). Then, as shown in FIG. 8, even when a part of the glass substrate 1 side is covered with a mask 6 and is irradiated with ultraviolet rays, the hole transport function of the irradiated portion 31 disappears due to the ultraviolet ray components passing through the glass substrate 1, Light emission could be observed only from the non-irradiated portion 32 in which the hole transport function did not disappear.
【0037】この実験から、以下のような作製プロセス
によって、パターン表示用の有機EL素子が容易に作製
可能であることがわかった。即ち、本発明のように、紫
外線照射によりホール輸送機能が消失するとともに可視
領域で発光する発光材料から発光層3が形成されてい
る。従って、この発光層に、所定の照射パターンとなる
ように紫外線照射を行い、該紫外線照射が行われた照射
パターンであるとともに電圧印加により発光しない所定
の非発光パターン31と、該紫外線照射が行われない非
照射パターンであるとともに電圧印加により発光する所
定の発光パターン32とが上記発光層内に直接形成でき
る。これにより、複雑な電極パターンを形成することも
なく、電圧印加による発光パターン、特に複雑な発光パ
ターンを容易に得ることができる。From this experiment, it was found that an organic EL element for pattern display could be easily manufactured by the following manufacturing process. That is, as in the present invention, the light emitting layer 3 is formed from a light emitting material that loses its hole transport function by irradiation with ultraviolet rays and emits light in the visible region. Therefore, this light emitting layer is irradiated with ultraviolet rays so as to have a predetermined irradiation pattern, and a predetermined non-light emitting pattern 31 that does not emit light by voltage application and that is the irradiation pattern that has been subjected to the ultraviolet irradiation and the ultraviolet irradiation is performed. A non-irradiated pattern that is not exposed and a predetermined light emitting pattern 32 that emits light when a voltage is applied can be formed directly in the light emitting layer. This makes it possible to easily obtain a light emission pattern by applying a voltage, particularly a complicated light emission pattern, without forming a complicated electrode pattern.
【0038】[0038]
【実施例】以下、実施例及び参考例に基づいて本発明を
具体的に説明する。 発光材料の合成 本実施例で用いるポリシラン誘導体からなる発光材料
は、以下のようにして合成された。下記(a)に示すモ
ノマー1[9,10ビス(メチルプロピルクロロシリル
アントラセン)]と下記bに示すモノマー2[メチルフ
ェニルジクロロシラン]を、仕込み比を表1に示すよう
に変えて、表1のような特性を持つ、下記(c)に示す
ポリマー3(試料番号R1〜R4)を合成した。EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on Examples and Reference Examples. Synthesis of Light-Emitting Material The light-emitting material composed of the polysilane derivative used in this example was synthesized as follows. Monomer 1 [9,10 bis (methylpropylchlorosilylanthracene)] shown in the following (a) and monomer 2 [methylphenyldichlorosilane] shown in the following b were changed in the charging ratio as shown in Table 1, and Table 1 Polymer 3 (Sample Nos. R1 to R4) shown in the following (c) having the following characteristics was synthesized.
【0039】[0039]
【化8】 Embedded image
【0040】[0040]
【化9】 [Chemical 9]
【0041】[0041]
【化10】 [Chemical 10]
【0042】[0042]
【表1】 [Table 1]
【0043】この合成条件は以下の通りである。即ち、
アルゴン雰囲気中の容器にナトリウム及びトルエンを仕
込み、このトルエンの沸点まで加熱し、還流雰囲気でナ
トリウムを溶融させ、激しく撹拌してナトリウムを細か
く分散させた。この後、撹拌しながら内容物温度を溶媒
の沸点付近に保ち、所定量のモノマー(a)及び(b)
の混合物を徐々に滴下し、その後3時間反応させた。重
合反応終了後、室温まで冷却し、副生した塩化ナトリウ
ム及び過剰の金属ナトリウムを濾別した後、濾液をメタ
ノールに滴下してポリマーを沈殿させた。これを分取、
乾燥させて目的物を得た。いずれのポリマー3ともに有
機EL素子に使用可能であったが、モノマー仕込み比率
[モノマー2/モノマー1]が12ないし24程度の
時、好ましい発光特性が得られた。尚、これらのポリマ
ーは発光スペクトルによれば、いずれも480nmの発
光を示した。更に、それらのいずれのポリマーも、その
発光効率はAlq3の約1.5倍で約15%であった。
また、最も好ましいのは仕込み比が24の試料R3であ
った。尚、アントリレン基の含有比率は、モノマーの仕
込み比率とはほぼ等しいことを光学吸収特性から確認し
た。そのため、表1にはこの仕込み比が表記されてい
る。また、表1中の重量平均分子量及び数平均分子量は
GPC法(ポリスチレン換算)によって求めた。更に、
上記発光効率は、クロロホルム中、標準物質として式The synthesis conditions are as follows. That is,
Sodium and toluene were charged into a container in an argon atmosphere, heated to the boiling point of this toluene, and the sodium was melted in a reflux atmosphere and vigorously stirred to finely disperse the sodium. After that, the content temperature is kept near the boiling point of the solvent while stirring, and a predetermined amount of the monomers (a) and (b) is added.
The mixture was slowly added dropwise, and the mixture was reacted for 3 hours. After completion of the polymerization reaction, the mixture was cooled to room temperature, sodium chloride produced as a by-product and excess metal sodium were filtered off, and the filtrate was dropped into methanol to precipitate the polymer. Collect this,
The desired product was obtained by drying. Any of the polymers 3 could be used for an organic EL device, but when the charging ratio of the monomer [monomer 2 / monomer 1] was about 12 to 24, preferable light emission characteristics were obtained. According to the emission spectrum, each of these polymers showed emission of 480 nm. Further, the emission efficiency of each of these polymers was about 15%, which was about 1.5 times that of Alq3.
Further, the most preferable was sample R3 having a charging ratio of 24. It was confirmed from the optical absorption characteristics that the content ratio of the anthrylene group was almost equal to the charging ratio of the monomer. Therefore, this charging ratio is shown in Table 1. Moreover, the weight average molecular weight and the number average molecular weight in Table 1 were calculated | required by GPC method (polystyrene conversion). Furthermore,
The above luminous efficiency is calculated as a standard substance in chloroform.
【0044】[0044]
【化11】 で表されるAlq3 (発光効率10.1%)を用いて測
定した。[Chemical 11] Was measured using Alq 3 (emission efficiency 10.1%).
【0045】実施例1 まず、シート抵抗20〜30オーム/cm2 、透過率8
0〜90%の酸化インジウム・スズ合金(ITO)の透
明電極2を塗布してある厚さ1mmのガラス基板(図
9)1を準備する。そして、この透明電極2上に、前述
のアントリレン基を含有したポリシラン誘導体のトルエ
ン溶媒(ポリシラン誘導体3mg当たりトルエン300
マイクロリッターで溶解した。)をスピンコートして、
厚さ50ナノメータの発光層3を形成した(図10)。
その後、ポリエチレンのシート(市販のOHP用シー
ト)に、発光表示したい文字パターン「EL」の逆視パ
ターン(マスク部分)61を印刷したマスク6を用意す
る(図11)。そして、このマスク6を発光層3の上に
被せた後(図11)、150W高圧水銀キセノンランプ
から30cmの距離で60秒間紫外光成分を含んだラン
プの放射光に暴露した。その結果、発光層3のうち光の
照射部分(パターン)31は酸化されて、ホール輸送機
能が消失したことになる(図12)。尚、同図中、32
は非照射部分(パターン)を示す。次に、発光層3の表
面に、真空蒸着法によってアルミニウム電極(厚さ0.
2μm)4を形成し、有機EL素子(発光表示素子)を
作製した(図13)。この有機EL素子に、リード線
(図示せず。)を取り付け、ITO電極2をプラス、ア
ルミニウム電極4をマイナスにして、電圧を印加したと
ころ、10V位から文字パターン「EL」の発光32
が、ガラス基板1側から観測できた(図14)。尚、発
光層3を30ナノメータから150ナノメータの範囲で
厚さを変えて、同様の実験を行った結果、50〜100
ナノメータの厚さのとき、良好な有機EL素子が得られ
た。Example 1 First, the sheet resistance was 20 to 30 ohm / cm 2 , and the transmittance was 8
A glass substrate 1 (FIG. 9) 1 having a thickness of 1 mm coated with a transparent electrode 2 of 0 to 90% indium tin oxide alloy (ITO) is prepared. Then, on the transparent electrode 2, the toluene solvent of the above-mentioned polysilane derivative containing an anthrylene group (toluene 300 per 3 mg of polysilane derivative) was used.
It was dissolved with a microliter. ) Is spin coated,
A light emitting layer 3 having a thickness of 50 nanometers was formed (FIG. 10).
After that, a mask 6 is prepared by printing a reverse-looking pattern (mask portion) 61 of the character pattern “EL” desired to be displayed on a polyethylene sheet (commercial OHP sheet) (FIG. 11). Then, after covering the light emitting layer 3 with this mask 6 (FIG. 11), it was exposed to the radiant light of a lamp containing an ultraviolet light component for 60 seconds at a distance of 30 cm from a 150 W high pressure mercury xenon lamp. As a result, the light-irradiated portion (pattern) 31 of the light emitting layer 3 is oxidized and the hole transport function is lost (FIG. 12). In the figure, 32
Indicates a non-irradiated portion (pattern). Next, an aluminum electrode (having a thickness of 0.
2 μm) 4 was formed to produce an organic EL device (light emitting display device) (FIG. 13). A lead wire (not shown) was attached to this organic EL element, the ITO electrode 2 was set to be positive, the aluminum electrode 4 was set to be negative, and a voltage was applied.
However, it could be observed from the glass substrate 1 side (FIG. 14). The same experiment was conducted by changing the thickness of the light emitting layer 3 in the range of 30 nanometers to 150 nanometers.
When the thickness was nanometer, a good organic EL device was obtained.
【0046】実施例2 実施例1と同様にしてITO透明電極2付きのガラス基
板1(図15)上に、アントリレン基含有の上記ポリシ
ラン誘導体を、そのトルエン溶液を用いてスピンコート
して、発光層3を透明電極2上に形成した(図16)。
その後、その上に、アルミニウム電極4を真空蒸着によ
って形成した(図17)。それぞれの膜厚等は実施例1
と同一にした。この段階で通常の有機EL素子が完成し
たが、本実施例では、更に、図18に示すように、ガラ
ス基板1の発光取り出し側(電極・発光層等を形成した
のと反対側)から、ポリエチレン製のマスク6(尚、マ
スク部分61のパターンは「EL」を示す。)を通し
て、90秒、暴露した。尚、この暴露時間以外は、上記
実施例1と同一の装置・条件で、紫外光成分を含んだラ
ンプの放射光にて照射した。この有機EL素子に、リー
ド線(図示せず。)を取り付け、ITO電極2をプラ
ス、アルミニウム電極4をマイナスにして電圧を印加し
たところ、10V位から文字パターン「EL」32の発
光が、ガラス基板1側から観測できた(図19)。Example 2 In the same manner as in Example 1, a glass substrate 1 having an ITO transparent electrode 2 (FIG. 15) was spin-coated with the toluene solution containing the above polysilane derivative containing an anthrylene group to emit light. Layer 3 was formed on the transparent electrode 2 (Fig. 16).
Then, the aluminum electrode 4 was formed thereon by vacuum evaporation (FIG. 17). The respective film thicknesses, etc. are shown in Example 1.
Same as. At this stage, a normal organic EL element was completed, but in this example, as shown in FIG. 18, further, from the light emission extraction side of the glass substrate 1 (the side opposite to the side on which the electrodes and the light emitting layer were formed), It was exposed for 90 seconds through a polyethylene mask 6 (the pattern of the mask portion 61 indicates “EL”). In addition, except for this exposure time, irradiation was performed with the radiant light of a lamp containing an ultraviolet light component under the same apparatus and conditions as in Example 1 above. A lead wire (not shown) was attached to this organic EL element, and when a voltage was applied with the ITO electrode 2 being positive and the aluminum electrode 4 being negative, the light emission of the character pattern "EL" 32 was observed from about 10V. It was observed from the substrate 1 side (Fig. 19).
【0047】参考例1 本参考例は、発光材料が本発明に用いたアントリレン基
含有のポリシラン誘導体の様に、紫外線光の照射によっ
て酸化し、容易に発光パターンを形成できるような機能
をもたない発光材料を用いた場合に文字パターンの表示
を行うための作製方法の例である。しかし、発光材料の
取り扱いは、同じなので、便宜上、発光材料には実施例
と同一のものを用いた。上記実施例と同様に、ITO透
明電極2付きのガラス基板1(図20)上に、同様のト
ルエン溶液を用いてスピンコートして、発光層3を形成
した(図21)。その後、表示したい文字パターン「E
L」と逆パターン61に抜かれたステンレス製の蒸着マ
スク6(図22)で発光層3の上を覆い、真空蒸着によ
って文字パターンのアルミニウム電極4bを、発光層3
の上に形成した(図23)。尚、この場合には引出しリ
ード41bが形成されている。次いで、文字パターンの
アルミニウム電極4bをマイナス、ITO透明電極2を
プラスにして電圧を印加すると、文字パターン「EL」
32の発光が、ガラス基板1側から観測できた(図2
4)。この場合には、引出しリード相当部321も同時
に発光する。Reference Example 1 In this reference example, the light emitting material has a function such that the light emitting material can be easily oxidized to form a light emitting pattern by irradiation with ultraviolet light like the anthrylene group-containing polysilane derivative used in the present invention. It is an example of a manufacturing method for displaying a character pattern when a non-luminescent material is used. However, since the handling of the light emitting material is the same, the same light emitting material as that in the example was used for convenience. Similar to the above example, a glass substrate 1 with an ITO transparent electrode 2 (FIG. 20) was spin-coated with the same toluene solution to form a light emitting layer 3 (FIG. 21). Then, the character pattern "E
The light emitting layer 3 is covered with a vapor deposition mask 6 (FIG. 22) made of stainless steel and having a pattern reverse to that of “L”, and the aluminum electrode 4b having a character pattern is attached to the light emitting layer 3 by vacuum vapor deposition.
It was formed on top of (FIG. 23). In this case, the lead lead 41b is formed. Next, when a voltage is applied with the aluminum electrode 4b of the character pattern being negative and the ITO transparent electrode 2 being positive, the character pattern "EL" is obtained.
32 emitted light could be observed from the glass substrate 1 side (FIG. 2).
4). In this case, the lead lead equivalent portion 321 also emits light at the same time.
【0048】尚、本発明においては、前記具体的実施例
に示すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の範
囲内で種々変更した実施例とすることができる。即ち、
透明電極としては、上記ITOのみならず、酸化インジ
ウム若しくは酸化スズ等の他の透明導電材料とすること
ができる。透明基板及び発光パターンの形状、大きさ等
は種々のものとすることができる。この透明基板の材料
としては、上記実施例に示すガラスに限らず、樹脂(例
えばポリアクリル酸エステル等のアクリル樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、ポリカーボネート等)を用いることもで
きる。また、発光材料も、上記実施例で用いたもののみ
ならず、本発明の範囲内に示される、発光波長が可視領
域である他のポリシラン誘導体を用いることもできる。
更に、発光層の形成方法も公知の種々の方法を用いるこ
とができる。The present invention is not limited to the specific examples described above, and various modifications may be made within the scope of the present invention depending on the purpose and application. That is,
As the transparent electrode, not only the above ITO but also other transparent conductive material such as indium oxide or tin oxide can be used. The transparent substrate and the light emitting pattern may have various shapes and sizes. The material of the transparent substrate is not limited to the glass shown in the above embodiment, but a resin (for example, acrylic resin such as polyacrylic acid ester, polyester resin, polycarbonate or the like) can be used. Further, the light emitting material is not limited to the one used in the above-mentioned examples, and other polysilane derivatives having an emission wavelength in the visible region, which are shown in the scope of the present invention, can also be used.
Further, various known methods can be used for forming the light emitting layer.
【0049】[0049]
【発明の効果】以上のように、本発明の発光表示素子
は、紫外線照射によりホール輸送機能を消失させること
ができるという特徴をもったポリシラン誘導体からなる
発光材料を用いることによって、従来の発光材料を用い
た発光表示素子で文字パターンを発光表示させる際に必
要になった蒸着用ステンレスマスク等の加工プロセスが
省けると共に、文字パターンを接続する電極部分が目立
つことがなくなり、また、複雑な文字パターンの表示も
可能になった。また、本発明に使用されるポリシラン化
合物は、その発光波長が可視領域に存在し、且つ発光効
率が大きいので、人間の視認が可能で且つ発光表示素子
としての効率に優れる。更に、これは有機溶剤、好まし
くは非プロトン性有機溶剤、特にベンゼン、トルエン、
キシレン等の無極性芳香族系溶媒に可溶のため、フィル
ムに成形し易く、そのため、発光層としての被膜の形成
に優れ、また、ポリマー自体の物性を測定するのに大変
好都合である。更に、本発明の製造方法によれば、文字
パターン(特に複雑な文字パターン)を発光する発光表
示素子、特に上記に示す有用な発光表示素子を極めて容
易に製造できる。As described above, in the light emitting display device of the present invention, the conventional light emitting material can be obtained by using the light emitting material composed of the polysilane derivative, which is characterized in that the hole transporting function can be eliminated by the irradiation of ultraviolet rays. It is possible to omit the processing process such as the stainless steel mask for vapor deposition that is required when displaying a character pattern in a light emitting display element using, and the electrode part connecting the character pattern is not conspicuous, and the complicated character pattern Can also be displayed. Further, since the polysilane compound used in the present invention has an emission wavelength in the visible region and has a high emission efficiency, it is visible to humans and is excellent in efficiency as a light emitting display element. Furthermore, it is an organic solvent, preferably an aprotic organic solvent, especially benzene, toluene,
Since it is soluble in a non-polar aromatic solvent such as xylene, it can be easily formed into a film, which is excellent in forming a coating as a light emitting layer, and is very convenient for measuring the physical properties of the polymer itself. Further, according to the manufacturing method of the present invention, it is possible to extremely easily manufacture a light emitting display device which emits a character pattern (especially a complicated character pattern), particularly the useful light emitting display device described above.
【図1】発光層全面を発光させる態様の発光表示素子の
斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a light emitting display device in a mode in which the entire surface of a light emitting layer is made to emit light.
【図2】図1に示す発光表示素子を発光させた状態を示
す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a state in which the light emitting display element shown in FIG. 1 emits light.
【図3】文字パターンの金属電極が発光層上に形成され
た状態を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a state in which a metal electrode having a character pattern is formed on a light emitting layer.
【図4】図4に示す発光表示素子を発光させた状態を示
す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a state in which the light emitting display element shown in FIG. 4 emits light.
【図5】発光層上にマスクを用いて紫外線を照射した状
態を示す説明断面図である。FIG. 5 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which ultraviolet rays are radiated on the light emitting layer using a mask.
【図6】図5に示す紫外線照射後に金属電極を形成した
状態を示す説明断面図である。6 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a metal electrode has been formed after the ultraviolet irradiation shown in FIG.
【図7】紫外線照射前の発光表示素子の説明断面図であ
る。FIG. 7 is an explanatory cross-sectional view of a light emitting display device before irradiation with ultraviolet rays.
【図8】図7に示す発光表示素子にマスクを用いて紫外
線を照射した状態を示す説明断面図である。8 is an explanatory cross-sectional view showing a state where the light emitting display element shown in FIG. 7 is irradiated with ultraviolet rays using a mask.
【図9】実施例1に係る透明電極付きガラス基板の斜視
図である。9 is a perspective view of a glass substrate with a transparent electrode according to Example 1. FIG.
【図10】図9に示す透明電極付きガラス基板上に発光
層を形成した状態を示す斜視図である。10 is a perspective view showing a state in which a light emitting layer is formed on the glass substrate with a transparent electrode shown in FIG.
【図11】図10に示す発光層上にマスクを配置しよう
とする説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram for attempting to dispose a mask on the light emitting layer shown in FIG.
【図12】図11にて配置されたマスクの上から紫外線
を照射した状態を示す説明図である。12 is an explanatory diagram showing a state where ultraviolet rays are radiated from above the mask arranged in FIG. 11. FIG.
【図13】図12にて紫外線が照射された発光層上に金
属電極を形成した発光表示素子の説明図である。13 is an explanatory diagram of a light emitting display device in which a metal electrode is formed on a light emitting layer irradiated with ultraviolet rays in FIG.
【図14】図12に示す発光表示素子を発光させた状態
を示す説明図である。14 is an explanatory diagram showing a state in which the light emitting display element shown in FIG. 12 emits light.
【図15】実施例2に係る透明電極付きガラス基板の斜
視図である。FIG. 15 is a perspective view of a glass substrate with a transparent electrode according to a second embodiment.
【図16】図15に示す透明電極付きガラス基板上に発
光層を形成した状態を示す斜視図である。16 is a perspective view showing a state in which a light emitting layer is formed on the glass substrate with a transparent electrode shown in FIG.
【図17】図15に示す発光層上に金属電極を形成した
状態を示す説明図である。17 is an explanatory diagram showing a state in which a metal electrode is formed on the light emitting layer shown in FIG.
【図18】図17にて示す透明電極・発光層・金属電極
付きガラス基板のガラス基板側にマスクを配置しようと
する説明図である。FIG. 18 is an explanatory diagram in which a mask is arranged on the glass substrate side of the glass substrate with the transparent electrode / light emitting layer / metal electrode shown in FIG. 17;
【図19】実施例2において製造された発光表示素子を
発光させた状態を示す説明図である。FIG. 19 is an explanatory diagram showing a state in which the light emitting display element manufactured in Example 2 is caused to emit light.
【図20】参考例1に係る透明電極付きガラス基板の斜
視図である。20 is a perspective view of a glass substrate with a transparent electrode according to Reference Example 1. FIG.
【図21】図20に示す透明電極付きガラス基板上に発
光層を形成した状態を示す斜視図である。21 is a perspective view showing a state in which a light emitting layer is formed on the glass substrate with a transparent electrode shown in FIG.
【図22】図21に示す発光層上に所定パターンを有す
る金属電極を形成するためにマスクを配置しようとする
状態を示す説明図である。22 is an explanatory diagram showing a state in which a mask is to be arranged to form a metal electrode having a predetermined pattern on the light emitting layer shown in FIG. 21.
【図23】図22に示すマスクを用いて所定パターンの
金属電極を発光層上に形成した発光表示素子の説明図で
ある。23 is an explanatory diagram of a light emitting display device in which a metal electrode having a predetermined pattern is formed on a light emitting layer using the mask shown in FIG.
【図24】図23に示す発光表示素子を発光させた状態
を示す説明図である。FIG. 24 is an explanatory diagram showing a state in which the light emitting display element shown in FIG. 23 emits light.
1;ガラス基板、2;ITO透明電極、3;発光層、3
1;照射部分、32;発光部分、4;アルミニウム電極
(金属電極)、5a、5b;リード線、6;マスク、6
1;マスク部分。1; glass substrate, 2; ITO transparent electrode, 3; light emitting layer, 3
1; irradiation part, 32; light emitting part, 4; aluminum electrode (metal electrode), 5a, 5b; lead wire, 6; mask, 6
1; mask part.
Claims (4)
に形成される発光層と、該発光層上に形成される金属電
極とを備え、 上記発光層が、下記に示す、主鎖の一部にアントリレン
基を含有したポリシラン誘導体から構成されていること
を特徴とする発光表示素子。 〔上記ポリシラン誘導体〕;式A 【化1】 (式中、R1 及びR2 は同一の若しくは異なる炭素数1
〜6の直鎖状アルキル基であり、且つR1 及びR2 の炭
素数の合計が8以内である。)で表される構造単位A
と、式B 【化2】 (式中、R3 及びR4 は同一であっても異なっていても
よく、炭素数1〜10のアルキル基、アリール基又はア
ラルキル基である。)で表される構造単位Bとからな
り、上記構造単位A/上記構造単位Bのモル比(%)が
0.5〜10%であって重量平均分子量が1,000〜
1,000,000であるポリシラン誘導体。1. A transparent substrate with a transparent electrode, a light-emitting layer formed on the transparent electrode, and a metal electrode formed on the light-emitting layer, wherein the light-emitting layer has a main chain shown below. A light-emitting display device comprising a polysilane derivative partially containing an anthrylene group. [The above polysilane derivative]; Formula A: (In the formula, R 1 and R 2 have the same or different carbon number 1
To 6 linear alkyl groups, and the total number of carbon atoms of R 1 and R 2 is 8 or less. ) Structural unit A represented by
And the formula B (In the formula, R 3 and R 4 may be the same or different and each is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group or an aralkyl group.) The molar ratio (%) of the structural unit A / the structural unit B is 0.5 to 10%, and the weight average molecular weight is 1,000 to
A polysilane derivative that is 1,000,000.
に形成される発光層と、該発光層上に形成される金属電
極とを備え、 上記発光層は、請求項1に記載のポリシラン誘導体から
構成され、該発光層に対し、所定の照射パターンにおい
て紫外線照射を行い、該紫外線照射が行われた照射パタ
ーンであるとともに電圧印加により発光しない所定の非
発光パターンと、該紫外線照射が行われない非照射パタ
ーンであるとともに電圧印加により発光する所定の発光
パターンとが上記発光層内に直接形成されていることを
特徴とする発光表示素子。2. A transparent substrate with a transparent electrode, a light emitting layer formed on the transparent electrode, and a metal electrode formed on the light emitting layer, wherein the light emitting layer comprises the polysilane according to claim 1. The light-emitting layer is irradiated with ultraviolet rays in a predetermined irradiation pattern, and the ultraviolet-ray irradiation is performed with a predetermined non-light-emission pattern that does not emit light when a voltage is applied. A light-emitting display element, which has an unirradiated non-irradiated pattern and a predetermined light-emitting pattern which emits light when a voltage is applied, is directly formed in the light-emitting layer.
に、請求項1に示す、主鎖の一部にアントリレン基を含
有したポリシラン誘導体から構成される発光層を形成
し、 その後、この透明電極・発光層付き透明基板の一方の面
から、該発光層に対し、所定の照射パターンにおいて紫
外線照射を行い、該紫外線照射が行われた照射パターン
であるとともに電圧印加により発光しない所定の非発光
パターンと、該紫外線照射が行われない非照射パターン
であるとともに電圧印加により発光する所定の発光パタ
ーンとを上記発光層内に直接形成し、 次いで、上記発光層上に金属電極を形成することを特徴
とする発光表示素子の製造方法。3. A light emitting layer composed of a polysilane derivative containing an anthrylene group in a part of its main chain as shown in claim 1, is formed on the transparent electrode of a transparent substrate with a transparent electrode, and then this transparent layer is formed. The light emitting layer is irradiated with ultraviolet rays from one surface of the transparent substrate with an electrode / light emitting layer in a predetermined irradiation pattern, and the ultraviolet irradiation is performed, and the predetermined non-emission does not emit light by voltage application. A pattern and a predetermined light emitting pattern which is a non-irradiated pattern in which the ultraviolet ray irradiation is not performed and which emits light when a voltage is applied are directly formed in the light emitting layer, and then a metal electrode is formed on the light emitting layer. A method for manufacturing a light-emitting display device characterized by the above.
に、請求項1に示す、主鎖の一部にアントリレン基を含
有したポリシラン誘導体から構成される発光層を形成
し、その後、該発光層上に金属電極を形成し、 次いで、この透明電極・発光層・金属電極付き透明基板
の上記透明基板側から、上記発光層に対し、所定の照射
パターンにおいて紫外線照射を行い、該紫外線照射が行
われた照射パターンであるとともに電圧印加により発光
しない所定の非発光パターンと、該紫外線照射が行われ
ない非照射パターンであるとともに電圧印加により発光
する所定の発光パターンとを上記発光層内に直接形成す
ることを特徴とする発光表示素子の製造方法。4. A light emitting layer composed of a polysilane derivative containing an anthrylene group in a part of its main chain, which is shown in claim 1, is formed on the transparent electrode of a transparent substrate with a transparent electrode, and then the light emission is performed. A metal electrode is formed on the layer, and then, from the transparent substrate side of the transparent electrode / light emitting layer / transparent substrate with metal electrode, ultraviolet irradiation is performed on the light emitting layer in a predetermined irradiation pattern, and the ultraviolet irradiation is performed. A predetermined non-light-emission pattern that is an irradiation pattern that is performed and does not emit light when a voltage is applied, and a predetermined light-emission pattern that is a non-irradiation pattern that is not irradiated by ultraviolet light and that emits light when a voltage is applied are directly provided in the light-emitting layer A method for manufacturing a light-emitting display element, which is characterized by being formed.
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