JPH08255510A - Insulator composition and green tape, and partition wall forming method for plasma display device using them - Google Patents

Insulator composition and green tape, and partition wall forming method for plasma display device using them

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JPH08255510A
JPH08255510A JP31663195A JP31663195A JPH08255510A JP H08255510 A JPH08255510 A JP H08255510A JP 31663195 A JP31663195 A JP 31663195A JP 31663195 A JP31663195 A JP 31663195A JP H08255510 A JPH08255510 A JP H08255510A
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partition wall
green tape
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sandblasting
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博司 神田
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Abstract

PURPOSE: To facilitate the forming of a partition wall, having uniform height (thickness) and high reliability, and also sharply rationalize a partition wall forming process, by using a green tape, having a previously formed uniform thickness, for an insulator layer. CONSTITUTION: Inorganic solid powder is dispersed in a solution, wherein a given binder is dissolved in a volatile nonaquous organic solvent, to obtain a castable insulator composition for forming a green tape used to form the partition wall of a plasma display device (PDP device). In this case, following is used: inorganic solid fine powder, having a softening point lower by at least 50 deg.C than backing temperature and composed of an amorphous glass of 30-60 volume % and a fireproof oxide of 70-40 volume %; a binder composed of a polymer material of 40-60 volume % and a plasticizer of 60-40 volume %, and a volatility nonaqueous organic solvent. The uniformity of the partition wall in thickness (height) direction can be retained to improve the work efficiency and process management for sand blasting by using the green tape based on such a castable insulator composition.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
装置(以下「PDP装置」と記す。)の隔壁形成方法に
係り、さらに詳しくは、隔壁形成に好適なグリーンテー
プ形成用の絶縁体組成物、該絶縁体組成物をシート状に
加工したグリーンテープおよび該グリーンテープを用い
るPDP装置の隔壁形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of forming barrier ribs of a plasma display device (hereinafter referred to as "PDP device"), and more specifically, an insulating composition for forming a green tape suitable for barrier rib formation, The present invention relates to a green tape obtained by processing the insulating composition into a sheet and a method for forming partition walls of a PDP device using the green tape.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のCRTに代わる大型の壁掛けテレ
ビやハイビジョン用のディスプレイに用いるフラットデ
ィスプレイとして、PDP装置の開発が進められてい
る。PDP装置は、それぞれの内表面に必要に応じて絶
縁体層で被覆された複数本の陽極およびその対向位置に
陰極を有する一対のガラス構成基板を、所定のガス放電
間隔を隔てて対向配置し、その周辺を封止材によって気
密封止した後、前記ガラス放電間隔内に所定の放電ガス
を封入してガス放電部を構成してなるものである。そし
て上記ガス放電間隔は各部で一様に保持され、絶縁体隔
壁で区分された一定の空間セルで放電するような構成が
採用されている。第5図は、そのようなPDP装置の直
流型の場合の基本的構造を示したものである。
2. Description of the Related Art PDP devices are being developed as flat displays used for large-sized wall-mounted televisions and high-definition displays which replace conventional CRTs. In a PDP device, a plurality of anodes optionally covered with an insulating layer on their inner surfaces and a pair of glass constituent substrates each having a cathode at a position opposite to the anodes are arranged to face each other with a predetermined gas discharge interval. After hermetically sealing the periphery with a sealing material, a predetermined discharge gas is sealed in the glass discharge interval to form a gas discharge section. The gas discharge interval is uniformly maintained in each part, and the discharge is performed in a constant space cell divided by an insulating partition. FIG. 5 shows the basic structure of such a PDP device of the DC type.

【0003】PDP装置は大型化、高精細化、カラー化
することが要求され、それに伴い隔壁の高さ、すなわち
電極間隔の均一性の確保と同時に、量産性の向上を達成
することが要求されている。PDP装置の隔壁の形成方
法の主流は、スクリーン印刷法である。スクリーン印刷
法においては、特開昭58−150248号公報などに
記載されているように、ガラス等の絶縁体粉末を印刷可
能なペーストとした後、小型ディスプレイの場合スクリ
ーン印刷用のメッシュマスクを用いてラインまたはドッ
トとスペースとをペアとして、たとえば3ペア/mm程度
の解像性で所定の厚さに印刷積層する工程が採用されて
いる。このとき上記の解像性を維持しながら少なくとも
3〜4回、多い場合には10程度の印刷を繰り返して所
定の厚さ(高さ)まで積層する。このため印刷積層工程
は、各印刷工程時にその都度精密な見当合わせを要し、
またその都度ペーストの流れ出しに注意し、しかも最終
的に積層した高さが不揃いにならないように膜厚を精度
よくコントロールすることなどが要求され、極めて繁雑
で歩留まりの低い工程である。この工程上の欠陥を克服
するために、熟練した印刷技術者が丹念に時間をかけて
印刷する必要があり、多大なコスト高を誘起する背景と
なっている。
The PDP device is required to be large-sized, high-definition, and colored, and accordingly, it is required to secure the height of the partition wall, that is, the uniformity of the electrode interval, and at the same time, to improve the mass productivity. ing. The mainstream method of forming the partition walls of the PDP device is a screen printing method. In the screen printing method, as described in JP-A-58-150248, after forming an insulating powder such as glass into a printable paste, a mesh mask for screen printing is used for a small display. A process of printing and laminating lines or dots and spaces as a pair with a predetermined thickness with a resolution of, for example, about 3 pairs / mm is adopted. At this time, printing is repeated at least 3 to 4 times, and in the case of a large number, about 10 printing is repeated while maintaining the above-mentioned resolution, to stack up to a predetermined thickness (height). For this reason, the printing and laminating process requires precise registration for each printing process.
Further, it is required to pay attention to the flow-out of the paste each time, and to accurately control the film thickness so that the finally laminated heights are not uneven, which is a very complicated process with a low yield. In order to overcome this process defect, it is necessary for an experienced printing engineer to carefully print the image over time, which is a background for inducing a great increase in cost.

【0004】このような背景から、近年、サンドブラス
ト隔壁形成方法が開発され実用化されつつあり、該方法
を第4図に基づき説明する。第1工程としてガラス基板
上にアノードを形成する。次いで隔壁となる絶縁体層を
スクリーン印刷法により所望の厚さにベタ印刷する。乾
燥した絶縁体層上に、パターニングされた耐サンドブラ
スト性を有するレジストを接着し、サンドブラストマシ
ンにより研磨材を吹き付け隔壁となる部分−すなわちレ
ジストがパターニングされている領域−以外の絶縁体材
料を除去し、次いでレジストを剥離し最後に焼成するこ
とにより、細い均一な高さの隔壁を形成しようとするも
のである。
From such a background, a sandblast partition wall forming method has been developed and put into practical use in recent years, and the method will be described with reference to FIG. As a first step, an anode is formed on the glass substrate. Next, the insulator layer to be the partition wall is solid-printed to a desired thickness by a screen printing method. A patterned resist having sandblast resistance is adhered to the dried insulator layer, and an abrasive material is sprayed by a sandblasting machine to remove the insulator material other than the partition wall portion, that is, the region where the resist is patterned. Then, the resist is peeled off and finally baked to form thin and uniform partition walls.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】前述のガラス等の絶縁
体粉末を主成分とするペーストを用い、所望のパターン
の絶縁体層を所望の高さに印刷するスクリーン印刷法
は、操作が繁雑で時間がかかり、また絶縁体層の高さ
(厚さ)方向の均一性の維持が極めて困難である。
The screen printing method for printing an insulating layer having a desired pattern at a desired height using the above-mentioned paste containing an insulating powder such as glass as a main component is complicated in operation. It takes time and it is extremely difficult to maintain the uniformity of the insulating layer in the height (thickness) direction.

【0006】一方、サンドブラスト法においては、ベタ
印刷であるため位置合わせは容易であるが、依然として
印刷回数が多く膜厚の均一性の管理が困難である。さら
にPDP装置の隔壁に対しての信頼性の要求から、工程
上の欠点を回避するための細心の注意を払ったペースト
の準備および印刷作業が要求され、また作業環境の雰囲
気管理を必要とするため、作業効率および量産効率が向
上しないという問題があった。
On the other hand, in the sandblasting method, since solid printing is used, the alignment is easy, but the number of printings is still large and it is difficult to control the uniformity of the film thickness. Further, due to the reliability requirement for the partition wall of the PDP device, the paste preparation and the printing work need to be performed with great care in order to avoid the defects in the process, and the atmosphere control of the working environment is required. Therefore, there is a problem that work efficiency and mass production efficiency are not improved.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、PDP装
置の製造方法において、予め成形した均一な厚さのグリ
ーンテープを絶縁体層に用いることにより、均一な高さ
(厚さ)の信頼性の高い隔壁を容易に形成でき、かつ大
幅に隔壁形成工程を合理化できることを見出し本発明を
完成した。
The present inventors have used a method of manufacturing a PDP device in which a green tape having a uniform thickness formed in advance is used as an insulator layer so that a uniform height (thickness) can be obtained. The present invention has been completed by finding that a highly reliable partition wall can be easily formed and the partition wall formation process can be significantly streamlined.

【0008】本発明は、a) 軟化点が焼成温度より少な
くとも50℃低い非晶質ガラス30〜60容量%および耐
火性酸化物70〜40容量%からなる無機固体微細粉
末、 b) 重合体物質40〜60容量%および可塑剤60〜4
0容量%からなるバインダー、ならびに c) 揮発性非水有機溶媒からなり、c)の揮発性非水有
機溶媒にb)のバインダーを溶解した溶液にa)の無機固
体粉末を分散したことを特徴とするプラズマディスプレ
イ装置の隔壁形成に用いるグリーンテープ形成用のキャ
スト可能な絶縁体組成物に関する。
The invention comprises: a) an inorganic solid fine powder consisting of 30 to 60% by volume of amorphous glass whose softening point is at least 50 ° C. below the firing temperature and 70 to 40% by volume of refractory oxides; b) a polymeric substance. 40-60% by volume and plasticizer 60-4
A binder comprising 0% by volume and c) a volatile non-aqueous organic solvent, wherein the inorganic solid powder of a) is dispersed in a solution prepared by dissolving the binder of b) in the volatile non-aqueous organic solvent of c). And a castable insulator composition for forming a green tape used for forming partition walls of a plasma display device.

【0009】また、本発明は前記キャスト可能な絶縁体
組成物を可撓性基板上にキャストし、加熱により揮発性
非水有機溶媒を除去して得られるプラズマディスプレイ
装置の隔壁形成用グリーンテープに関する。
The present invention also relates to a partition forming green tape for a plasma display device, which is obtained by casting the castable insulating composition on a flexible substrate and removing the volatile non-aqueous organic solvent by heating. .

【0010】さらに本発明は、少なくとも一方の基板表
面に放電発光表示部を構成する複数の電極が設けられた
所定の空間を隔てて対向配置された一対の基板と、該放
電発光表示部を区画する隔壁とを具備し、周辺を封止材
により封着してなるプラズマディスプレイ装置の製造方
法において、 a) ガラス基板上に導体組成物の電極パターン層を形成
した集合体の面上に、前記可撓性を有するグリーンテー
プを積層し、300〜400℃に加熱して層中の有機物
の一部を除去した絶縁体層を形成し、 b) c)工程で得られた絶縁体層上にサンドブラスト用
レジスト層を形成し、サンドブラストによりエッチング
する領域以外に隔壁に対応するレジストパターンを形成
し、 c) b)工程で形成したレジストパターンの形成されて
いない領域の絶縁体層をサンドブラストすることにより
除去して隔壁部を形成し、 d) c)工程でパターン化された絶縁体層によって形成
された隔壁をサンドブラスト用レジストの剥離後に焼成
することを特徴とするプラズマディスプレイ装置の隔壁
形成方法に関する。
Further, according to the present invention, a pair of substrates, which are opposed to each other with a plurality of electrodes forming a discharge light emitting display portion provided on at least one substrate surface and are separated from each other by a predetermined space, partition the discharge light emitting display portion. In the method for manufacturing a plasma display device, which comprises a partition wall for sealing the periphery with a sealing material, the method comprises: a) forming an electrode pattern layer of a conductive composition on a glass substrate, A flexible green tape is laminated and heated to 300 to 400 ° C. to form an insulating layer from which a part of organic substances in the layer is removed, and b) on the insulating layer obtained in the step c). A resist layer for sandblasting is formed, and a resist pattern corresponding to the partition is formed in a region other than the region to be etched by sandblasting, and the insulator in the region where the resist pattern formed in step c) b) is not formed. Is removed by sandblasting to form barrier ribs, and the barrier ribs formed by the insulating layer patterned in step d) and c) are fired after the resist for sandblasting is peeled off. The present invention relates to a partition forming method.

【0011】さらに、本発明は上記プラズマディスプレ
イ装置の製造方法において、 a) ガラス基板上に厚膜導体組成物の電極パターン層を
形成した集合体の面上に、請求項2に記載のグリーンテ
ープを積層し、300〜400℃に加熱して層中の有機
物の一部を除去した絶縁体層を形成し、 b) a)工程で得られた絶縁体層上に光硬化性の絶縁体
ペーストまたはグリーンテープ層を形成し、サンドブラ
ストによりエッチングする領域以外に隔壁に対応するサ
ンドブラスト用マスクパターンを形成し、 c) b)工程で形成したサンドブラスト用マスクパター
ンの形成されていない領域の絶縁体層をサンドブラスト
することにより除去して隔壁部を形成し、 d) c)工程でパターン化された絶縁体層によって形成
された隔壁を焼成することを特徴とするプラズマディス
プレイ装置の隔壁形成方法に関する。
The present invention further provides, in the method of manufacturing a plasma display device, a) the green tape according to claim 2, wherein: a) the surface of the assembly having the electrode pattern layer of the thick film conductor composition formed on the glass substrate. And heating to 300 to 400 ° C. to form an insulating layer from which a part of organic substances in the layer is removed, and b) a photo-curable insulating paste on the insulating layer obtained in the step a). Alternatively, a green tape layer is formed, and a sandblasting mask pattern corresponding to the partition is formed in a region other than the region to be etched by sandblasting, and the insulating layer in the region where the sandblasting mask pattern formed in step c) b) is not formed is formed. The barrier ribs are removed by sandblasting to form barrier ribs, and the barrier ribs formed by the insulating layer patterned in step d) and c) are fired. That relates to the partition wall forming method of the plasma display apparatus.

【0012】本発明の絶縁体組成物は、前記したように
非晶質ガラスと耐火性酸化物からなる無機固体粉末を、
重合体物質および可塑剤からなるバインダーを揮発性非
水有機溶媒に溶解した溶液に分散したキャスト可能な組
成物である。
The insulator composition of the present invention comprises an inorganic solid powder composed of amorphous glass and refractory oxide as described above.
A castable composition in which a binder comprising a polymeric material and a plasticizer is dispersed in a solution in a volatile non-aqueous organic solvent.

【0013】以下に各組成成分を詳細に説明する。 a−1) 非晶質ガラス 本発明の組成物に使用されるガラスの組成はそれ自体重
要ではなく、使用条件下で非晶質であって、軟化点(Ts)
が焼成温度よりも50℃以上低く、かつ焼成温度での粘
度(η)が1×106ポイズ以下のガラスであることが重
要であり、焼結温度におけるガラス粘度が1×105
イズ以下のガラスが好ましい。上記した物理的性質を組
み合わせて有するガラスは450〜600℃で焼成する
場合、有機物の極めて良好な燃え切りを可能にし、焼結
して放電隔壁として要求される緻密さと構造物として要
求される強度を共に達成できる適切な流動性を備える。
これらの2つの変数の相関関係が、本発明で使用可能な
ガラスの粘度−温度特性の定義に必要である。本明細書
で使用する「軟化点(Ts)」という用語は、膨張計で測定
した軟化点を指すものである。
Each composition component will be described in detail below. a-1) Amorphous glass The composition of the glass used in the composition of the present invention is not important per se, it is amorphous under the conditions of use and has a softening point (Ts).
Is 50 ° C. or more lower than the firing temperature, and it is important that the viscosity (η) at the firing temperature is 1 × 10 6 poise or less, and the glass viscosity at the sintering temperature is 1 × 10 5 poise or less. Glass is preferred. A glass having a combination of the above-mentioned physical properties enables extremely good burn-out of organic substances when fired at 450 to 600 ° C., and is sintered to be dense enough for a discharge barrier and strength required for a structure. With appropriate liquidity that can achieve both.
The correlation of these two variables is necessary to define the viscosity-temperature characteristics of the glass that can be used in the present invention. The term "softening point (Ts)" as used herein refers to the softening point measured with an dilatometer.

【0014】ガラスが使用条件下で非晶質であることは
必須の条件である。さらに、ガラスが組成物の耐火性酸
化物の溶解について重要な何らの影響を与えないか、あ
るいはもしそれが耐火性酸化物を非常に可溶化するもの
であれば、得られる溶液は初期の焼成段階およびすべて
の一連の焼成段階の両方の焼成温度において適切な高粘
度を有していなければならないことが分かった。しかし
ながら耐火性酸化物はガラス中に20重量%以上溶解して
はならず、好ましくは10重量%以上溶解しないのが好適
である。
It is essential that the glass be amorphous under the conditions of use. Furthermore, if the glass does not have any significant effect on the dissolution of the refractory oxide of the composition, or if it is one that highly solubilizes the refractory oxide, then the resulting solution will have an initial calcination. It has been found that it must have a suitable high viscosity at the firing temperature of both the stage and the entire firing stage. However, refractory oxides should not dissolve more than 20% by weight in the glass, preferably not more than 10% by weight.

【0015】同様に耐火性酸化物の量に対するガラスの
量が極めて重要である。2〜5g/cm2の密度を有する
ガラスを使用すると、ガラスの量は30〜60容量%、
好ましくは40〜50容量%であり残は耐火性酸化物で
ある。ガラスの厳密な量は焼成温度におけるガラスの粘
度が比較的高い場合より多量のガラスが必要になり、ガ
ラスの粘度が比較的に低い場合には、より少量のガラス
でよい。ガラスの量が過少な場合焼成時の層の高密度化
が不充分となり、一方過多な場合には層が焼成温度で軟
化し過ぎるので、隔壁の形状が変化し好ましい電極間隔
およびセル形状を維持できなくなると共に、ガラスが層
と隣接する導電体層に流れ出し、導電性回路に潜在的な
短絡およびオープンの問題が生じる。さらに、このよう
なガラスの流動は隣接する導体の接合を非常に難しくし
てしまう。ガラスが過多な場合有機物の捕捉を引き起こ
し、それが以降の焼成の間の絶縁体層のブリスターの原
因となる。他方、ガラスの量が30容量%より少ない場
合には焼成された構造体が多孔質になり過ぎ、充分に緻
密化しない。これらの変化を考慮すると、固体微粉末は
40〜50容量%の非晶質ガラスを含むのが好ましい。
Similarly, the amount of glass relative to the amount of refractory oxide is extremely important. When using a glass having a density of 2-5 g / cm 2 , the amount of glass is 30-60% by volume,
Preferably, it is 40 to 50% by volume, and the rest is a refractory oxide. The exact amount of glass requires more glass than if the viscosity of the glass at the firing temperature is relatively high, and less if the viscosity of the glass is relatively low. If the amount of glass is too small, the densification of the layer during firing will be insufficient, while if it is too large, the layer will soften too much at the firing temperature, so the shape of the partition walls will change and the preferred electrode spacing and cell shape will be maintained. As well as being unable to do so, the glass flows out into the conductor layer adjacent to the layer, creating potential short circuit and open problems in the conductive circuit. Moreover, such glass flow makes it very difficult to join adjacent conductors. Excessive glass causes organic material entrapment, which causes blistering of the insulator layer during subsequent firing. On the other hand, when the amount of glass is less than 30% by volume, the fired structure becomes too porous and is not sufficiently densified. Considering these changes, solid fine powder is
It preferably contains 40 to 50% by volume of amorphous glass.

【0016】a−2) 耐火性酸化物 本発明で使用する耐火性酸化物は、それと共にどのよう
なガラスが使用された場合にも、ガラスに対する溶解度
がないか、あるとしても最低限しか有していないもので
ある。集合体が多層に構成される場合、とりわけ基板の
反りに対して寸法的に安定であるように絶縁体層は基板
と同等の膨張特性を有することが多層系を形成する上で
重要である。この基準内において、耐火性酸化物はその
ガラスとの混合物の膨張係数TCEが、適用される基板
のTCEに近似するように選択される。すなわちガラス
がそれと共に用いる耐火性酸化物、たとえばAl23
りも低いTCEを有する場合、α−クォーツやCaZr
3のような高TCEの充填剤を耐火性酸化物と共に使
用する。一方、高TCEのガラスを使用する場合には、
溶融シリカ、菫青石またはムライトのような低TCEの
充填剤を耐火性酸化物と共に用いるのが好ましい。ガラ
ス−耐火性酸化物混合物のTCEは、それを適用する基
板のTCEと近似するように制御しなければならない。
A-2) Refractory Oxide The refractory oxide used in the present invention has no solubility in any glass used with it, or has a minimum solubility, if any. I have not done it. When the assembly is constructed in multiple layers, it is important in forming the multilayer system that the insulator layer has expansion properties comparable to those of the substrate, especially so that it is dimensionally stable against warpage of the substrate. Within this criterion, the refractory oxide is chosen so that its coefficient of expansion TCE of its mixture with glass approximates that of the substrate to which it is applied. That is, if the glass has a lower TCE than the refractory oxides with which it is used, eg Al 2 O 3 , α-quartz or CaZr
High TCE fillers such as O 3 are used with refractory oxides. On the other hand, when using high TCE glass,
It is preferred to use low TCE fillers such as fused silica, cordierite or mullite with refractory oxides. The TCE of the glass-refractory oxide mixture must be controlled to approximate that of the substrate to which it is applied.

【0017】焼成により絶縁体層のさらなる高密度化を
得るためには、ガラス−耐火性酸化物の混合物は極めて
小さい粒子径を有することが重要である。特に独立した
粒子のそれぞれが15μmを越えるべきではなく、好ま
しくは10μm以下である。実質的に全ての無機固体粒
子は、0.2〜5μmの範囲内にあることが好ましい。
In order to obtain a further densification of the insulation layer by firing, it is important that the glass-refractory oxide mixture has a very small particle size. In particular, each individual particle should not exceed 15 μm, preferably 10 μm or less. Substantially all of the inorganic solid particles are preferably in the range of 0.2-5 μm.

【0018】b−1) 重合体物質 前記ガラス−耐火性酸化物の無機固体粉末は、重合体物
質、可塑剤および所望により添加される溶解物質、たと
えば離型剤、分散剤、剥離剤、防汚剤、湿潤剤等からな
るバインダーを揮発性非水有機溶媒に溶解した媒体に分
散される。バインダーの主成分として、バインダーが空
気中でより容易に燃え尽きるような高温で焼成する従来
のグリーンテープの製造方法において使用されてきた広
範囲の重合体物質を使用することが可能である。このよ
うな重合体物質として、ポリ(ビニルブチラール)、ポ
リ(ビニルアセテート)、ポリ(ビニルアルコール)、
メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース、メチルヒドロキシエチルセルロースのよ
うなセルロース系重合体、アタクチックポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリ(メチルシロキサン)、ポリ
(メチルフェニルシロキサン)のようなケイ素系重合
体、ポリスチレン、ブタジエン/スチレン共重合体、ポ
リ(ビニルピロリドン)、ポリアミド、高分子量ポリエ
ーテル、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドと
の共重合体、ポリアクリルアミド、ナトリウムポリアク
リレート、ポリ(低級アルキルアクリレート)、低級ア
ルキルアクリレートおよびメタクリレートの種々の組み
合わせの共重合体およびマルチ重合体のような種々のア
クリル系重合体を例示できる。エチルメタクリレートと
メチルアクリレートとの共重合体およびエチルアクリレ
ート、メチルメタクリレートおよびメタクリル酸のター
ポリマーが、スリップ成型用物質のためのバインダーと
して以前から使用されている。
B-1) Polymeric substance The inorganic solid powder of glass-refractory oxide is a polymer substance, a plasticizer and optionally a dissolving substance such as a release agent, a dispersant, a release agent, an anti-reflective agent. It is dispersed in a medium in which a binder composed of a stain agent, a wetting agent, etc. is dissolved in a volatile non-aqueous organic solvent. As the main component of the binder, it is possible to use a wide range of polymeric materials that have been used in conventional methods of making green tapes which are fired at high temperatures such that the binder will burn out more easily in air. Such polymer substances include poly (vinyl butyral), poly (vinyl acetate), poly (vinyl alcohol),
Cellulosic polymers such as methyl cellulose, ethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, methyl hydroxyethyl cellulose, atactic polypropylene, polyethylene, poly (methylsiloxane), silicon polymers such as poly (methylphenylsiloxane), polystyrene, butadiene / styrene copolymer Various combinations of polymers, poly (vinylpyrrolidone), polyamides, high molecular weight polyethers, copolymers of ethylene oxide and propylene oxide, polyacrylamides, sodium polyacrylates, poly (lower alkyl acrylates), lower alkyl acrylates and methacrylates. Various acrylic polymers such as the copolymers and multi-polymers can be exemplified. Copolymers of ethyl methacrylate and methyl acrylate and terpolymers of ethyl acrylate, methyl methacrylate and methacrylic acid have long been used as binders for slip molding materials.

【0019】最近、Usalaによる米国特許出願第5
01,978号明細書に開示された、0〜100重量%
のC1〜C8アルキルメタクリレート、100〜0重量%
のC 1〜C8アルキルアクリレートおよび0〜5重量%の
エチレン系不飽和カルボン酸またはアミンの相溶性のマ
ルチ重合体の混合物からなるグリーンテープ用の有機バ
インダーも使用することができる。
Recently US Patent Application No. 5 by Usala
No. 01,978, 0-100% by weight
C1~ C8Alkyl methacrylate, 100-0% by weight
C 1~ C8Alkyl acrylate and 0-5% by weight
Compatible with ethylenically unsaturated carboxylic acids or amines
Organic tape for green tape consisting of a mixture of ruti polymers
Inders can also be used.

【0020】好ましくは、酸化性雰囲気下で400〜6
50℃の低い焼成温度でも、極めてきれいに完全に燃焼
し炭素状残渣を絶縁体層中に残さないポリ(α−メチル
スチレン)または下記化1の構造式で表される単官能性
メタクリレートの重合体を用いる。
Preferably, it is 400 to 6 under an oxidizing atmosphere.
A polymer of poly (α-methylstyrene) or a monofunctional methacrylate represented by the structural formula 1 below, which burns extremely cleanly and completely without leaving carbonaceous residue in the insulating layer even at a low firing temperature of 50 ° C. To use.

【0021】[0021]

【化1】 Embedded image

【0022】上記メタクリル系単量体において、α−炭
素は、β−炭素の有無によって2個または3個の水素原
子置換基を有していなければならない。β−炭素がない
場合は、メチルメタクリレートのようにそれは水素原子
で置き換えられる。一方、β−炭素を有する場合、
1、R2およびR3は独立してアルキル、アリールまた
はアラルキル基より選択されるか、3つのR基のうち1
つが水素原子であれば、他の2つはアルキル、アリール
またはアラルキル基より選択するのが好ましい。これら
の2種類の重合体はホモ重合体であるか、またはメタク
リレート重合体の場合には上記の基準に適合した単量体
のみを有する重合体であることが望ましい。
In the above methacrylic monomer, the α-carbon must have two or three hydrogen atom substituents depending on the presence or absence of β-carbon. If there is no β-carbon, it is replaced by a hydrogen atom, such as methylmethacrylate. On the other hand, when it has β-carbon,
R 1 , R 2 and R 3 are independently selected from alkyl, aryl or aralkyl groups or one of three R groups
If one is a hydrogen atom, the other two are preferably selected from alkyl, aryl or aralkyl groups. These two types of polymers are preferably homopolymers or, in the case of methacrylate polymers, polymers having only monomers meeting the above criteria.

【0023】上記2種類の重合体物質は約15重量%ま
で、好ましくは5重量%以下のその他の種類のコモノマ
ーを含むことができ、さらに良好な非酸化的焼尽特性を
与える。このようなその他の単量体としてエチレン性不
飽和カルボン酸およびアミン、アクリレート、スチレ
ン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、アクリルアミドな
どが挙げられる。同様に、その他のコモノマーに代えて
約15重量%までのその他の単量体のホモ重合体および
共重合体のような、前記基準外のその他の重合体を使用
することができる。その他の単量体は、別の重合体を構
成しようと、主成分の重合体鎖に含まれるものであろう
と、系に存在する全単量体重量の約15重量%、好まし
くは5重量%を越えない限り、全重合体物質中に許容さ
れる。
The above two types of polymeric materials may contain up to about 15% by weight, preferably up to 5% by weight, of other types of comonomers and still provide good non-oxidative burnout properties. Examples of such other monomer include ethylenically unsaturated carboxylic acid and amine, acrylate, styrene, acrylonitrile, vinyl acetate, acrylamide and the like. Similarly, other copolymers outside of the above criteria may be used in place of the other comonomers, such as homopolymers and copolymers of up to about 15% by weight of the other monomers. The other monomers, whether they constitute another polymer or those contained in the main polymer chain, account for about 15% by weight of the total monomer present in the system, preferably 5% by weight. It is acceptable in all polymeric materials as long as it does not exceed

【0024】どのような重合体物質が使用されても、充
分な結合強度を有するために塩化メチレン中20℃で測
定した固有粘度が少なくとも0.1ポイズ以上であるこ
とが好ましい。分子量の上限には特に制限はないが、溶
解性の問題を回避する上で、1.0以下の固有粘度を有す
る重合体を用いるのが好ましく、特に0.3〜0.6の固
有粘度を有する重合体の使用が、本発明に好結果をもた
らす。
Whatever the polymeric material used, it is preferred that it have an intrinsic viscosity of at least 0.1 poise or higher as measured in methylene chloride at 20 ° C. in order to have sufficient bond strength. The upper limit of the molecular weight is not particularly limited, but in order to avoid the problem of solubility, it is preferable to use a polymer having an intrinsic viscosity of 1.0 or less, and particularly a polymer having an intrinsic viscosity of 0.3 to 0.6. The use of coalescence has been successful in the present invention.

【0025】b−2) 可塑剤 重合体物質のガラス転移点(Tg)の低下に寄与する1種
またはそれ以上の可塑剤を使用する。このような可塑剤
は基体への組成物の積層を確実にするのにも役立つ。可
塑剤の選択は、主に変性させるべき重合体により決定さ
れる。種々のバインダー系で使用される可塑剤として、
ジエチルフタート、ジブチルフタレート、ブチルベンジ
ルフタレート、ジベンジルフタレート、アルキルホスフ
ェート、ポリアルキレングリコール、ポリ(エチレンオ
キサイド)、ヒドロキシエチル化されたアルキルフェノ
ール、トリクレジルホスフェート、トリエチレングリコ
ールジアセテートおよびポリエステル系可塑剤を挙げる
ことができる。ジブチルフタレートは比較的低濃度で使
用可能なことから、メテクリル重合体系で頻繁に使用さ
れる。
B-2) Plasticizer One or more plasticizers that contribute to the reduction of the glass transition point (Tg) of the polymeric material are used. Such plasticizers also help ensure lamination of the composition to the substrate. The choice of plasticizer is largely determined by the polymer to be modified. As a plasticizer used in various binder systems,
Diethyl phthalate, dibutyl phthalate, butyl benzyl phthalate, dibenzyl phthalate, alkyl phosphates, polyalkylene glycols, poly (ethylene oxide), hydroxyethylated alkylphenols, tricresyl phosphate, triethylene glycol diacetate and polyester plasticizers Can be mentioned. Dibutyl phthalate is frequently used in the metechryl polymer system because it can be used in relatively low concentrations.

【0026】高分子量の重合体物質と共にきれいに揮発
し実質的に残渣を残さない可塑剤を使用するのが特に好
ましい。このような可塑剤としてベンジルブチルフタレ
ートが挙げられる。これを用いることによりバインダー
の可塑性を調整することができ、グリーンテープは基体
に積層された導体線の回りによく適合し、かつグリーン
テープの取り扱いを困難にするほどの粘着性を有するこ
ともなくまた弱すぎもしない。
It is particularly preferred to use a plasticizer which cleanly volatilizes with the high molecular weight polymeric material and leaves virtually no residue. Benzyl butyl phthalate is mentioned as such a plasticizer. By using this, the plasticity of the binder can be adjusted, the green tape fits well around the conductor wire laminated on the substrate, and is not tacky enough to make the handling of the green tape difficult. Nor is it too weak.

【0027】バインダーの総量は、含有する可塑剤を含
めて、良好な積層および高いグリーンテープ強度を得る
のに充分な量であることが要求されるが、無機固体粉末
の充填量を低減させるほど多量であってはならない。グ
リーンテープに含まれる有機物質が多すぎるほど、焼成
時の焼結および高密度化が不充分となりがちである。こ
の理由からバインダーは溶媒を含まないグリーンテープ
の容量の30〜50容量%が好ましく、さらに好ましく
は40〜50容量%である。
The total amount of the binder, including the plasticizer contained therein, is required to be an amount sufficient to obtain good lamination and high green tape strength, but the amount of the inorganic solid powder to be reduced is reduced. Should not be large. If the amount of the organic substance contained in the green tape is too large, the sintering and densification during firing tend to be insufficient. For this reason, the binder content is preferably 30 to 50% by volume, more preferably 40 to 50% by volume of the volume of the solvent-free green tape.

【0028】c) 有機溶媒 有機溶媒として、重合体物質、可塑剤および所望により
添加される添加剤を完全に溶解し、かつ大気圧下で比較
的低水準の加熱により容易に蒸発させることが可能な充
分な高揮発性を有するものが選択される。さらに組成物
中に含まれるその他の任意の添加剤のいずれよりも低温
の沸点を有していなければならない。したがって、15
0℃以下の沸点を有する有機溶媒が使用される。このよ
うな溶媒として、アセトン、キシレン、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール、メチルエチルケトン、
1,1,1−トリクロロエタン、テトラクロロエチレン、
アミルアセテート、2,2,4−トリエチルペンタンジオ
ール−1,3−モノイソブチレート、トルエン、塩化メ
チレンおよびフルオロカーボンが挙げられる。溶媒の個
々の成分は重合性物質の完全な溶媒でなくてもよく、こ
れらは他の溶媒成分との混合により溶媒としての機能を
有するようになる。
C) Organic solvent As the organic solvent, the polymer substance, the plasticizer and optionally added additives can be completely dissolved and easily evaporated by heating at a relatively low level under atmospheric pressure. Those having sufficiently high volatility are selected. In addition, it must have a lower boiling point than any of the other optional additives included in the composition. Therefore, 15
An organic solvent having a boiling point of 0 ° C. or lower is used. As such a solvent, acetone, xylene, methanol, ethanol, isopropanol, methyl ethyl ketone,
1,1,1-trichloroethane, tetrachloroethylene,
Amyl acetate, 2,2,4-triethylpentanediol-1,3-monoisobutyrate, toluene, methylene chloride and fluorocarbons. The individual components of the solvent need not be complete solvents of the polymerizable material, and they will function as a solvent upon mixing with other solvent components.

【0029】本発明のグリーンテープは、前記絶縁体組
成物を、たとえば銅ベルト、重合体フィルムなどの可撓
性基板上にキャストして均一な膜厚を有する層状に成型
し、該層中の揮発性非水有機溶媒を加熱により揮発させ
除去した絶縁体組成物のテープである。加熱温度は、有
機溶媒の沸点以上、バインダー成分の沸点または分解点
以下の温度である。加熱温度が高すぎるとブリスターの
原因となるので好ましくない。 本発明の隔壁形成方法は、サンドブラスト法に基づくも
のであり、隔壁の形成に前記本発明のグリーンテープを
使用することを特徴とする。
The green tape of the present invention is obtained by casting the above-mentioned insulator composition on a flexible substrate such as a copper belt or a polymer film and molding it into a layer having a uniform film thickness. It is a tape of an insulator composition in which a volatile non-aqueous organic solvent is volatilized and removed by heating. The heating temperature is above the boiling point of the organic solvent and below the boiling point or decomposition point of the binder component. If the heating temperature is too high, it causes blisters, which is not preferable. The partition wall forming method of the present invention is based on a sandblast method, and is characterized in that the green tape of the present invention is used for forming partition walls.

【0030】PDP装置を構成する一対のガラス基板、
すなわち表面板および裏面板のいずれかにカソードまた
はアノード電極を形成し、そのアノードが形成されたガ
ラス基板(以下、本明細書においては「裏面板」とい
う)に、隔壁を形成する場合について、添付図1〜3に
基づき、本発明を詳細に説明する。
A pair of glass substrates constituting the PDP device,
That is, a case where a cathode or an anode electrode is formed on either the front plate or the back plate and a partition is formed on a glass substrate on which the anode is formed (hereinafter referred to as “rear plate”) is attached. The present invention will be described in detail with reference to FIGS.

【0031】工程1) ガラス基板上に外部入力のための
端子電極を形成する。 工程2) 同基板上にアノード母線を形成する。 工程3) 同基板上に前工程で形成したアノード母線と電
気的に接続される電流制御用抵抗群を形成する(抵抗な
しの基板を用いる場合には、本工程は省略される)。 工程4) 工程2)で形成したアノードに母線を電気的に
放電空間と絶縁する層(絶縁層)を形成する。
Step 1) A terminal electrode for external input is formed on a glass substrate. Step 2) An anode bus is formed on the same substrate. Step 3) A current control resistor group electrically connected to the anode bus formed in the previous step is formed on the same substrate (this step is omitted when a substrate without a resistor is used). Step 4) A layer (insulating layer) that electrically insulates the bus bar from the discharge space is formed on the anode formed in Step 2).

【0032】工程5) 前記工程までに形成されたアノー
ドおよび抵抗体の配置に対応した絶縁体組成物を用いて
放電区間(画像セル)を区画する隔壁を形成する。この
隔壁形成工程は、以下の工程により構成される(図1参
照)。
Step 5) A partition wall for partitioning a discharge section (image cell) is formed by using an insulating composition corresponding to the arrangement of the anode and the resistor formed up to the above step. This partition forming step is constituted by the following steps (see FIG. 1).

【0033】工程5−1) 前記工程までにガラス基板上
に形成された下部構造体上に、本発明のグリーンテープ
を1〜3層の範囲から選択される層数積層し、100〜
300μmの範囲の所望の膜厚の絶縁体層を形成する。 工程5−2) 絶縁体層を形成した構造体を、300〜4
00℃に加熱する。 工程5−3) 絶縁体層の最上部にサンドブラスト用レ
ジストを適用し、サンドブラストによるエッチングによ
り絶縁体層を残すべき領域に対応してレジストパターン
を形成する。 工程5−4) サンドブラスト用レジスト層の上部から、
サンドブラスト・マシーンのノズルから研磨材と空気と
を同時に吹き付け、前工程で形成したパターンに応じて
レジスト層の形成されていない領域の絶縁体層に研磨材
が衝突して切削され、切削後に残った絶縁体層の領域が
PDP装置の画像セルを区画する隔壁部を形成する。 工程5−5) サンドブラスト用レジスト層を剥離する。 工程5−6) 絶縁体層で隔壁部を形成した構造体を焼成
する。
Step 5-1) The green tape of the present invention is laminated on the lower structure formed on the glass substrate up to the above step by the number of layers selected from the range of 1 to 3 layers, and 100 to
An insulator layer having a desired film thickness in the range of 300 μm is formed. Step 5-2) The structure having the insulator layer formed thereon is set to 300 to 4
Heat to 00 ° C. Step 5-3) A sandblasting resist is applied to the uppermost part of the insulating layer, and a resist pattern is formed corresponding to the region where the insulating layer should be left by etching by sandblasting. Step 5-4) From the top of the sandblast resist layer,
The abrasive and air were blown simultaneously from the nozzle of the sandblasting machine, and the abrasive collided with the insulator layer in the area where the resist layer was not formed according to the pattern formed in the previous step, and was left after cutting. The region of the insulator layer forms a partition that partitions the image cell of the PDP device. Step 5-5) The sandblast resist layer is peeled off. Step 5-6) The structure in which the partition wall is formed of the insulating layer is fired.

【0034】なお、上記工程5−2)では、本発明の絶
縁体組成物からなるグリーンテープを積層し、絶縁体層
を形成した構造体を300℃〜400℃に加熱すること
によって、グリーンテープに含まれる有機物の少なくと
も1部を除去する代わりに、工程5−6)での焼成温度
以下で、グリーンテープを形成する絶縁体組成物に含ま
れる非晶質ガラスの軟化点、例えば後述の実施例に使用
されているガラスの軟化点である453℃より約50℃
低い温度以上の温度で前記絶縁層を形成した構造体を加
熱し、前記非晶質ガラスの少なくとも1部を軟化させる
工程〔以後、工程5−2′)と言う〕を選択的に採用す
ることもできる。いずれの工程を選択しても、次の工程
でのサンドブラストを使用したエッチングによるレジス
トパターンの形成において隔壁の厚み方向の均一性が保
持されるだけでなく、サンドブラスト処理の効率を改善
でき、結果的に本発明の絶縁体組成物から形成される構
造体の大きさにかかわらず隔壁を効率良く、高精度に形
成することができる。
In the step 5-2), the green tape made of the insulating composition of the present invention is laminated, and the structure having the insulating layer is heated to 300 ° C. to 400 ° C. Instead of removing at least a part of the organic substances contained in, the softening point of the amorphous glass contained in the insulator composition forming the green tape at a temperature equal to or lower than the firing temperature in step 5-6), for example, as described below. About 50 ° C from 453 ° C which is the softening point of the glass used in the example
Selectively adopting a step of heating at least a part of the amorphous glass [hereinafter referred to as step 5-2 ')] by heating the structure having the insulating layer formed at a temperature higher than a low temperature. You can also Whichever process is selected, not only the uniformity in the thickness direction of the partition walls is maintained in the formation of the resist pattern by etching using sandblast in the next process, but also the efficiency of the sandblast process can be improved, resulting in In addition, the partition walls can be formed efficiently and highly accurately regardless of the size of the structure formed from the insulating composition of the present invention.

【0035】焼成には、通常厚膜ハイブリッドICの分
野で使用されている一般的な焼成炉を使用することがで
きる。典型的な焼成条件は、適切な給排気条件下で40
0〜650℃程度の温度に約5〜20分間保持するのが
一般的である。グリーンテープの形成に用いた絶縁体組
成物中の非晶質ガラスと耐火性酸化物の熱的諸特性と焼
成温度条件が密接に関連しあって、良好な隔壁の性能が
得られるため使用する材料に応じて焼成条件を決定する
のが望ましい。したがって、焼成条件によっては、絶縁
体組成物中の非晶質ガラスの一部が結晶化する場合もあ
る。またピーク温度に達するまでの昇温速度は、毎分1
0〜50℃程度とすることが好ましいが、グリーンテー
プ中に存在する有機成分の熱分解温度付近では、昇温速
度を著しく低下させて急激な焼成を回避し、その後再び
生産性、焼結性などを考慮した速度で昇温するのがさら
に好ましい。これによりグリーンテープ中の有機物の焼
却を円滑にかつより完全に行うことができる。
For firing, a general firing furnace which is usually used in the field of thick film hybrid ICs can be used. Typical firing conditions are 40
Generally, the temperature is kept at about 0 to 650 ° C. for about 5 to 20 minutes. Used because the thermal characteristics of the amorphous glass and the refractory oxide in the insulator composition used to form the green tape are closely related to the firing temperature conditions, and good partition wall performance is obtained. It is desirable to determine firing conditions depending on the material. Therefore, depending on the firing conditions, part of the amorphous glass in the insulator composition may crystallize. The rate of temperature increase until reaching the peak temperature is 1 / min.
The temperature is preferably 0 to 50 ° C., but in the vicinity of the thermal decomposition temperature of the organic components present in the green tape, the rate of temperature rise is remarkably reduced to avoid rapid firing, and thereafter productivity and sinterability are re-established. It is more preferable to raise the temperature at a rate considering the above. This makes it possible to incinerate the organic substances in the green tape smoothly and more completely.

【0036】工程6) 前記までの工程により構成された
裏面板を、一方のカソードの形成された表面板の所定の
位置に重ね合わせ一対のガラス基板として組み立てる。 工程7) 一対のガラス基板が対向配置された組立体の周
辺を、低融点のガラス組成物などを用いて封止し、低温
焼成する。 工程8) 前工程7)で気密封止したセル内に放電ガスを
封入し、ガス放電部を構成する。
Step 6) The back plate constructed by the above steps is superposed on a predetermined position of the front plate on which one cathode is formed and assembled as a pair of glass substrates. Step 7) The periphery of the assembly in which the pair of glass substrates are arranged opposite to each other is sealed with a glass composition having a low melting point or the like, and is baked at a low temperature. Step 8) A discharge gas is filled in the cell hermetically sealed in the previous step 7) to form a gas discharge section.

【0037】以上の工程1)〜8)を通して、PDP装置
を製造することができる。PDP装置の前記第1の隔壁
形成方法(図1参照)においては、グリーンテープの積
層体の最上部にサンドブラスト用レジストを適用してい
るが、このレジストの代わりに光重合体モノマーおよび
光重合開始剤を含有し、樹脂成分を比較的多量に含有す
るパターニング用絶縁体層(絶縁体ペーストまたはグリ
ーンテープ)を用いてサンドブラスト用マスクパターン
を形成してもよい(図2参照)。その他の工程は前記第
1の隔壁形成方法と同様である。この第2の隔壁形成方
法においては、サンドブラスト用マスクパターンを剥離
する必要がなく、第1の方法に比較してさらに工程が簡
素化され、作業効率および量産効率が向上する。
A PDP device can be manufactured through the above steps 1) to 8). In the first partition wall forming method of the PDP device (see FIG. 1), a sandblasting resist is applied to the uppermost part of the green tape laminate, but instead of this resist, a photopolymer monomer and a photopolymerization start are used. The sandblasting mask pattern may be formed by using a patterning insulator layer (insulator paste or green tape) containing an agent and containing a relatively large amount of a resin component (see FIG. 2). The other steps are the same as those of the first partition wall forming method. In the second partition wall forming method, it is not necessary to peel off the sandblasting mask pattern, the process is further simplified as compared with the first method, and the work efficiency and mass production efficiency are improved.

【0038】[0038]

【実施例】本発明を実施例により、さらに詳細に説明す
る。ただし、本発明の範囲は、以下の実施例により何等
の制限を受けるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail by way of examples. However, the scope of the present invention is not limited by the following examples.

【0039】1) 絶縁体組成物の調製 下表に示す組成の無機固体微粉末、バインダーおよび揮
発性非水有機溶媒を、ボールミル処理して絶縁体組成物
を調製した。
1) Preparation of Insulator Composition An inorganic solid fine powder having the composition shown in the table below, a binder and a volatile non-aqueous organic solvent were ball milled to prepare an insulator composition.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】上表中、ガラスフリットは、下記の重量組
成を有する。 ZnO 8.0% SiO 15.0% PbO 65.0% B23 12.0%
In the above table, the glass frit has the following weight composition. ZnO 8.0% SiO 2 15.0% PbO 2 65.0% B 2 O 3 12.0%

【0042】無機固体微粉末として、下記の比表面積を
有する微細粉末を使用した。 ガラスフリット 3.5m2/g アルミナ 1.2m2/g
As the inorganic solid fine powder, a fine powder having the following specific surface area was used. Glass frit 3.5 m 2 / g Alumina 1.2 m 2 / g

【0043】2) グリーンテープの調製 シリコーン処理された厚さ3ミルのポリエステルフィル
ム(商品名:Mylar, E.I. du Pont de Nemours & Co.
製)上に、前記1)項で調製した絶縁体組成物を湿潤時
の厚さで約15ミルになるように流延し、次いで室温で
乾燥し有機溶媒の80〜90重量%を蒸発させ厚さ120
μmのグリーンテープを得た。
2) Preparation of green tape Silicone-treated polyester film with a thickness of 3 mil (trade name: Mylar, EI du Pont de Nemours & Co.
Cast) so that the thickness of the insulating composition prepared in 1) above is about 15 mils when wet, and then dried at room temperature to evaporate 80 to 90% by weight of the organic solvent. Thickness 120
A green tape of μm was obtained.

【0044】3) 隔壁の形成 前記調製したグリーンテープを使用し、前記詳述したP
DP装置の第1および第2の隔壁形成法に準じてガラス
基板上に隔壁を形成した。グリーンテープを積層して得
られた絶縁体層(塗膜)のJIS塗料一般試験方法:JI
S K5400-1979による鉛筆引っかき試験結果およびサンド
ブラスト処理により得られた焼成前後の隔壁形状を下記
に示す。
3) Formation of partition wall Using the green tape prepared above, P described above is used.
The partitions were formed on the glass substrate according to the first and second partition forming methods of the DP device. General test method for JIS coating of insulating layer (coating film) obtained by stacking green tapes: JI
The results of the pencil scratch test according to S K5400 -1979 and the partition wall shapes before and after firing obtained by sandblasting are shown below.

【0045】[0045]

【表2】 [Table 2]

【0046】表中、隔壁形状の値は、第1法および第2
法で形成した隔壁中からそれぞれランダムに20点を選
択して計測した値の平均値である。
In the table, the values of the partition wall shapes are the first method and the second method.
It is an average value of the values measured by randomly selecting 20 points from the partition walls formed by the method.

【0047】実施例2に従って調製された絶縁体組成物
から形成されるグリーンテープを用いて前述と全く同様
の隔壁形成方法によりグリーンテープを積層した絶縁体
層からなる構造体を工程5−2)に代わって工程5−
2′)に従って処理して得られた結果を表3に示す。
A green tape formed from the insulating composition prepared according to Example 2 was used to form a structure consisting of an insulating layer in which green tapes were laminated by the partition wall forming method exactly the same as the above-mentioned step 5-2). Step 5 instead of
The results obtained by processing according to 2 ') are shown in Table 3.

【0048】[0048]

【表3】 [Table 3]

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明のPDP装置の隔壁形成方法にお
いては、本発明の絶縁体組成物に基づく本発明のグリー
ンテープを使用することにより、隔壁の厚み(高さ)方
向の均一性が保持されるだけでなく、各工程の作業は極
めて簡単でありかつ作業時間が短縮され、特にサンドブ
ラストの作業効率および工程管理が改善される。したが
って、本発明の絶縁体組成物またはグリーンテープを使
用するか、もしくは隔壁形成方法を採用することによ
り、PDP装置の大型化、高精細化を達成しながら量産
性をも向上させることが可能となる。
In the partition wall forming method of the PDP device of the present invention, by using the green tape of the present invention based on the insulating composition of the present invention, the uniformity of the partition wall in the thickness (height) direction is maintained. In addition, the work of each process is extremely simple and the work time is shortened, and the work efficiency and process control of sandblasting are improved. Therefore, by using the insulator composition or the green tape of the present invention or adopting the partition wall forming method, it is possible to improve the mass productivity while achieving the size increase and the definition increase of the PDP device. Become.

【0050】本発明のプラズマディスプレイ装置の隔壁
形成についてもっぱら説明してきたが、絶縁体組成物の
組成を変更してプラズマディスプレイ装置の絶縁体層の
オーバーコートの形成にも使用することができる。
Although the formation of the barrier ribs of the plasma display device of the present invention has been mainly described, the composition of the insulating composition can be changed and used for forming an overcoat of the insulating layer of the plasma display device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のPDP装置の製造方法における第1の
隔壁形成方法の工程を説明する図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a step of a first partition wall forming method in a method for manufacturing a PDP device according to the present invention.

【図2】本発明のPDP装置の製造方法における第2の
隔壁形成方法の工程を説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a step of a second partition wall forming method in the manufacturing method of the PDP device of the present invention.

【図3】本発明のPDP装置の製造方法における隔壁形
成方法のフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart of a partition wall forming method in the method for manufacturing a PDP device of the present invention.

【図4】一般的なサンドブラスト技術を説明する図であ
る。
FIG. 4 is a diagram illustrating a general sandblast technique.

【図5】PDP装置の内部構造の主要部を示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing a main part of an internal structure of a PDP device.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01J 17/04 H01J 17/04 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location H01J 17/04 H01J 17/04

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 a) 軟化点が焼成温度より少なくとも5
0℃低い非晶質ガラス30〜60容量%および耐火性酸
化物70〜40容量%からなる無機固体微細粉末、 b) 重合体物質40〜60容量%および可塑剤60〜4
0容量%からなるバインダー、ならびに c) 揮発性非水有機溶媒からなり、c)の揮発性非水有
機溶媒にb)のバインダーを溶解した溶液にa)の無機固
体粉末を分散したことを特徴とするプラズマディスプレ
イ装置の隔壁形成に用いるグリーンテープ形成用のキャ
スト可能な絶縁体組成物。
1. A) The softening point is at least 5 above the firing temperature.
Inorganic solid fine powder consisting of 30 to 60% by volume of 0 ° C low amorphous glass and 70 to 40% by volume of refractory oxide, b) 40 to 60% by volume of polymeric substance and 60 to 4 of plasticizer.
A binder comprising 0% by volume and c) a volatile non-aqueous organic solvent, wherein the inorganic solid powder of a) is dispersed in a solution prepared by dissolving the binder of b) in the volatile non-aqueous organic solvent of c). A castable insulator composition for forming a green tape used for forming partition walls of a plasma display device.
【請求項2】 可撓性基板上に、請求項1記載の絶縁体
組成物をキャストし、加熱により揮発性非水有機溶媒を
除去してなることを特徴とするプラズマディスプレイ装
置の隔壁形成用グリーンテープ。
2. A partition for forming a plasma display device, characterized in that the insulating composition according to claim 1 is cast on a flexible substrate and the volatile non-aqueous organic solvent is removed by heating. Green tape.
【請求項3】 少なくとも一方の基板表面に放電発光表
示部を構成する複数の電極が設けられた所定の空間を隔
てて対向配置された一対の基板と、該放電発光表示部を
区画する隔壁とを具備し、周辺を封止材により封着して
なるプラズマディスプレイ装置の製造方法において、 a) ガラス基板上に導体組成物の電極パターン層を形成
した集合体の面上に、請求項2に記載のグリーンテープ
を積層し、300〜400℃に加熱して層中の有機物の
一部を除去した絶縁体層を形成し、 b) a)工程で得られた絶縁体層上にサンドブラスト用
レジスト層を形成し、サンドブラストによりエッチング
する領域以外に隔壁に対応するレジストパターンを形成
し、 c) b)工程で形成したレジストパターンの形成されて
いない領域の絶縁体層をサンドブラストすることにより
除去して隔壁部を形成し、 d) c)工程でパターン化された絶縁体層によって形成
された隔壁をサンドブラスト用レジスト層の剥離後に焼
成することを特徴とするプラズマディスプレイ装置の隔
壁形成方法。
3. A pair of substrates, which are provided on a surface of at least one of the substrates and which are provided with a plurality of electrodes constituting a discharge light emitting display unit and are opposed to each other with a predetermined space therebetween, and partition walls which partition the discharge light emitting display unit. A method of manufacturing a plasma display device, comprising: a glass substrate and an electrode pattern layer of a conductor composition formed on a glass substrate; The green tape described in the above is laminated and heated to 300 to 400 ° C. to form an insulating layer from which a part of organic substances in the layer is removed, and b) a sandblasting resist on the insulating layer obtained in the step a). A layer is formed, and a resist pattern corresponding to the partition is formed in a region other than the region to be etched by sandblasting, and the insulator layer in the region where the resist pattern formed in step c) and b) is not formed is sandblasted. And removing the barrier ribs to form barrier ribs, and the barrier ribs formed by the insulating layer patterned in step d) and c) are baked after the sandblast resist layer is peeled off. Forming method.
【請求項4】 少なくとも一方の基板表面に放電発光表
示部を構成する複数の電極が設けられた所定の空間を隔
てて対向配置された一対の基板と、該放電発光表示部を
区画する隔壁とを具備し、周辺を封止材により封着して
なるプラズマディスプレイ装置の製造方法において、 a) ガラス基板上に導体組成物の電極パターン層を形成
した集合体の面上に、請求項2に記載のグリーンテープ
を積層し、300〜400℃に加熱して層中の有機物の
一部を除去した絶縁体層を形成し、 b) a)工程で得られた絶縁体層上に光硬化性の絶縁体
ペーストまたはグリーンテープ層を形成し、サンドブラ
ストによりエッチングする領域以外に隔壁に対応するサ
ンドブラスト用マスクパターンを形成し、 c) b)工程で形成したサンドブラスト用マスクパター
ンの形成されていない領域の絶縁体層をサンドブラスト
することにより除去して隔壁部を形成し、 d) c)工程でパターン化された絶縁体層によって形成
された隔壁を焼成することを特徴とするプラズマディス
プレイ装置の隔壁形成方法。
4. A pair of substrates provided with a plurality of electrodes forming a discharge light emitting display section on at least one surface of the substrate and facing each other with a predetermined space therebetween, and a partition wall partitioning the discharge light emitting display section. A method of manufacturing a plasma display device, comprising: a glass substrate and an electrode pattern layer of a conductor composition formed on a glass substrate; The green tape described in the above is laminated and heated to 300 to 400 ° C. to form an insulating layer in which a part of organic substances in the layer is removed, and b) photocurable on the insulating layer obtained in the step The insulating paste or green tape layer of 1) is formed, and the sandblasting mask pattern corresponding to the partition wall is formed in a region other than the region to be etched by sandblasting. C) The sandblasting mask pattern formed in step b). Plasma which is characterized in that the insulating layer in the region not formed is removed by sandblasting to form a partition wall portion, and the partition wall formed by the insulating layer patterned in step d) and c) is fired. A method for forming partition walls of a display device.
【請求項5】 グリーンテープの積層数が2〜3層であ
る請求項3または4に記載の方法。
5. The method according to claim 3, wherein the number of laminated green tapes is 2 to 3.
【請求項6】 少なくとも一方の基板表面に放電発光表
示部を構成する複数の電極が設けられた所定の空間を隔
てて対向配置された一対の基板と、該放電発光表示部を
区画する隔壁とを具備し、周辺を封止材により封着して
なるプラズマディスプレイ装置の製造方法において、 a) ガラス基板上に導体組成物の電極パターン層を形成
した集合体の面上に、請求項2に記載のグリーンテープ
を積層し、請求項3に記載のd)工程の焼成温度以下で
あり且つ前記グリーンテープに含まれる非晶質のガラス
軟化点より約50℃低い温度以上の温度で加熱して、前
記グリーンテープに含まれる非晶質ガラスを少なくとも
1部軟化させた絶縁体層を形成し、 b) a)工程で得られた絶縁体層上にサンドブラスト用
レジスト層を形成し、サンドブラストによりエッチング
する領域以外に隔壁に対応するレジストパターンを形成
し、 c) b)工程で形成したレジストパターンの形成されて
いない領域の絶縁体層をサンドブラストすることにより
除去して隔壁部を形成し、 d) c)工程でパターン化された絶縁体層によって形成
された隔壁をサンドブラスト用レジスト層の剥離後に焼
成することを特徴とするプラズマディスプレイ装置の隔
壁形成方法。
6. A pair of substrates, which are provided with a plurality of electrodes constituting a discharge light emitting display section on at least one substrate surface and are opposed to each other with a predetermined space therebetween, and partition walls which partition the discharge light emitting display section. A method of manufacturing a plasma display device, comprising: a glass substrate and an electrode pattern layer of a conductor composition formed on a glass substrate; Laminating the green tape described in claim 3 and heating it at a temperature not higher than the firing temperature of step d) of claim 3 and not lower than about 50 ° C. lower than the amorphous glass softening point contained in the green tape. Forming an insulator layer obtained by softening at least a part of the amorphous glass contained in the green tape, and b) forming a resist layer for sandblasting on the insulator layer obtained in step a) and performing sandblasting. A resist pattern corresponding to the partition is formed in a region other than the etching region, and the insulating layer in the region where the resist pattern formed in step c) and b) is not formed is removed by sandblasting to form the partition portion. ) A method of forming a partition wall of a plasma display device, which comprises firing the partition wall formed of the patterned insulating layer in step c) after peeling off the sandblast resist layer.
【請求項7】 少なくとも一方の基板表面に放電発光表
示部を構成する複数の電極が設けられた所定の空間を隔
てて対向配置された一対の基板と、該放電発光表示部を
区画する隔壁とを具備し、周辺を封止材により封着して
なるプラズマディスプレイ装置の製造方法において、 a) ガラス基板上に導体組成物の電極パターン層を形成
した集合体の面上に、請求項2に記載のグリーンテープ
を積層し、請求項4に記載のd)工程の焼成温度以下で
あり且つ前記グリーンテープに含まれる非晶質のガラス
軟化点より約50℃低い温度以上の温度で加熱して、前
記グリーンテープに含まれる非晶質ガラスを少なくとも
1部軟化させた絶縁体層を形成し、 b) a)工程で得られた絶縁体層上に光硬化性の絶縁体
ペーストまたはグリーンテープ層を形成し、サンドブラ
ストによりエッチングする領域以外に隔壁に対応するサ
ンドブラスト用マスクパターンを形成し、 c) b)工程で形成したサンドブラスト用マスクパター
ンの形成されていない領域の絶縁体層をサンドブラスト
することにより除去して隔壁部を形成し、 d) c)工程でパターン化された絶縁体層によって形成
された隔壁を焼成することを特徴とするプラズマディス
プレイ装置の隔壁形成方法。
7. A pair of substrates, which are provided on a surface of at least one of the plurality of electrodes forming a discharge light emitting display portion and are opposed to each other with a predetermined space therebetween, and a partition for partitioning the discharge light emitting display portion. A method of manufacturing a plasma display device, comprising: a glass substrate and an electrode pattern layer of a conductor composition formed on a glass substrate; Laminating the green tape described in claim 4, and heating at a temperature not higher than the firing temperature of step d) of claim 4 and not less than about 50 ° C. lower than the amorphous glass softening point contained in the green tape. Forming an insulator layer by softening at least part of the amorphous glass contained in the green tape, and b) a photocurable insulator paste or a green tape layer on the insulator layer obtained in step a). To form A mask pattern for sandblasting corresponding to the partition wall is formed in a region other than the region to be etched by sandblasting, and the insulating layer in the region in which the sandblasting mask pattern formed in step c) and b) is not formed is removed by sandblasting. A method of forming a partition wall of a plasma display device, comprising forming a partition wall portion, and baking the partition wall formed by the insulating layer patterned in the steps d) and c).
【請求項8】 グリーンテープの積層数が2〜3層であ
る請求項6または7に記載の方法。
8. The method according to claim 6, wherein the number of laminated green tapes is 2 to 3.
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