JPH0825163A - Stage device - Google Patents

Stage device

Info

Publication number
JPH0825163A
JPH0825163A JP16918794A JP16918794A JPH0825163A JP H0825163 A JPH0825163 A JP H0825163A JP 16918794 A JP16918794 A JP 16918794A JP 16918794 A JP16918794 A JP 16918794A JP H0825163 A JPH0825163 A JP H0825163A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
axis
drive
driven
moved
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP16918794A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3275544B2 (en
Inventor
Shigeru Suzuki
繁 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Original Assignee
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK, Ushio Inc filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP16918794A priority Critical patent/JP3275544B2/en
Priority to US08/388,051 priority patent/US5660381A/en
Priority to DE69500707T priority patent/DE69500707T2/en
Priority to EP95101645A priority patent/EP0668606B1/en
Publication of JPH0825163A publication Critical patent/JPH0825163A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3275544B2 publication Critical patent/JP3275544B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

Abstract

PURPOSE:To prevent decrease of control accuracy in the case of thermally extending/contracting a stage while a position and rotational amount of the stage can be easily controlled. CONSTITUTION:A stage 16 is supported movably and further rotatably onto a base 15. In the stage 16, roller holding members 41, 42, 43, provided with rollers 41c, 42c, 43c, are mounted, and the rollers 41c, 42c, 43c are brought into contact with drive guides 21d, 22d, 23d driven by driver elements 21, 22, 23 of each shaft. In the case of moving the stage 16 in an X-axis direction or in a Y-axis direction, the rollers 41c, 42c or the roller 43c are moved by the driver elements 21, 22 or the driver element 23. In the case of rotating the stage 16, the rollers 41c, 42c, 43c are moved by the driver elements 21, 22, 23 by an equal distance in a direction of rotating the stage 16.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はXYθの3軸を移動する
ステージ装置に関し、特に本発明は、光学機械、測定
器、工作機械、スクリーン印刷機など、各種の機械、器
具に適用することができるステージ装置に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stage device which moves in three axes of XYθ, and in particular, the present invention can be applied to various machines and instruments such as optical machines, measuring instruments, machine tools, screen printing machines and the like. The present invention relates to a stage device that can be used.

【0002】[0002]

【従来の技術】ワーク等を乗せたステージをX,Y方向
に移動させるとともに、所定角度回転させ(これを以
下、θ方向に移動させると言う)、ステージ上に固定さ
れたワークをXYθの3軸について位置決めする技術
が、光学機械、測定器、工作機械、印刷機など各種の機
械、器具等で必要とされる。
2. Description of the Related Art A stage on which a work or the like is placed is moved in X and Y directions and rotated by a predetermined angle (hereinafter referred to as "θ direction"), and a work fixed on the stage is moved in XYθ 3 directions. A technique for positioning about an axis is required for various machines and instruments such as an optical machine, a measuring instrument, a machine tool, and a printing machine.

【0003】例えば、半導体装置やマイクロマシン等の
製造装置においては、上記のようにステージをXYθ軸
について位置決めし、ワークにマスク・パターンを露光
する等の処理を行っている。上記したXYθの3軸につ
いての位置決めを行うステージ装置は、通常、ステージ
を積み重ねて構成しているものが多い。
For example, in a manufacturing apparatus such as a semiconductor device or a micromachine, the stage is positioned with respect to the XYθ axes and the work is exposed with a mask pattern as described above. Many of the above-mentioned stage devices that perform positioning about the three axes of XYθ are usually configured by stacking stages.

【0004】ステージを積み重ねて構成した、比較的移
動ストロークが少ないステージ装置としては、従来から
図7に示すものが知られている。図7において、同図
(a)はステージ装置の平面図、(b)は同図(a)の
A−A断面図を示しており、同図は、パターンが焼き付
けられたマスクを乗せたステージをXYθ方向に位置決
めする装置を示している。
As a stage device having a relatively small movement stroke, which is constructed by stacking stages, the one shown in FIG. 7 is conventionally known. 7, FIG. 7A is a plan view of the stage device, and FIG. 7B is a sectional view taken along the line AA of FIG. 7A, which shows a stage on which a mask having a pattern printed thereon is placed. 2 shows a device for positioning in the XYθ directions.

【0005】同図において、11はマスクを保持するマ
スク・ホルダ、12はマスク、13はマスク上のマスク
・パターン、14,14’はマスク上に記された位置合
わせ用のアライメント・マーク、15はステージを搭載
するベースである。17はXY方向〔同図(a)におい
て、右方向をX方向、上方向をY方向という〕に移動す
るXYステージであり、XYステージ17はベース15
上に、平面案内部28を介してX軸、Y軸方向に移動可
能に取り付けられ、引っ張りバネ27により同図(a)
の左下方向に付勢されている。
In the figure, 11 is a mask holder for holding a mask, 12 is a mask, 13 is a mask pattern on the mask, and 14 and 14 'are alignment marks for alignment described on the mask, and 15 Is the base on which the stage is mounted. Reference numeral 17 denotes an XY stage which moves in the XY directions (the right direction is referred to as the X direction and the upward direction is referred to as the Y direction in FIG.
It is movably attached to the top through a plane guide portion 28 in the X-axis and Y-axis directions, and is attached by a tension spring 27 to the same figure (a).
Is urged to the lower left.

【0006】18はθステージであり、θステージ18
はXYステージ17上に、θ軸受29を介して回転可能
に取り付けられており、XYステージ17に取り付けら
れた部材17aとθステージ18に取り付けられた部材
18aの間に設けられた圧縮バネ26により反時計方向
に回転するように付勢されている。また、21はXYス
テージ17をX方向に移動させるX軸駆動機素、21a
はX軸駆動用モータ、21bは駆動用モータ21aの回
転量を検出するエンコーダ、21cは回転/直動変換機
構、21fはXYステージ17に接触するローラであ
り、ローラ21fはX軸駆動機素21により同図(a)
の左右方向に駆動され、XYステージ17をX軸方向に
移動させる。
Reference numeral 18 denotes a θ stage, and the θ stage 18
Is rotatably mounted on the XY stage 17 via a θ bearing 29, and a compression spring 26 provided between a member 17a attached to the XY stage 17 and a member 18a attached to the θ stage 18 It is biased to rotate counterclockwise. Further, 21 is an X-axis drive element for moving the XY stage 17 in the X direction, 21a
Is an X-axis drive motor, 21b is an encoder that detects the amount of rotation of the drive motor 21a, 21c is a rotation / linear motion conversion mechanism, 21f is a roller that contacts the XY stage 17, and roller 21f is an X-axis drive element. 21 by the same figure (a)
Is driven in the left-right direction to move the XY stage 17 in the X-axis direction.

【0007】23はXYステージをY方向に移動させる
Y軸駆動機素、23aはY軸駆動用モータ、23bは駆
動用モータ23aの回転量を検出するエンコーダ、23
cは回転/直動変換機構、23fはXYステージに接触
するローラであり、ローラ23fはY軸駆動機素23に
より同図(a)の上下方向に駆動され、XYステージ1
7をY軸方向に移動させる。
Reference numeral 23 is a Y-axis drive element for moving the XY stage in the Y-direction, 23a is a Y-axis drive motor, 23b is an encoder for detecting the amount of rotation of the drive motor 23a, and 23.
c is a rotation / linear motion converting mechanism, 23f is a roller that comes into contact with the XY stage, and the roller 23f is driven by the Y-axis drive element 23 in the vertical direction of FIG.
7 is moved in the Y-axis direction.

【0008】25はθステージを回転させるθ軸駆動機
素、25aはθ軸駆動用モータ、25bは駆動用モータ
25aの回転量を検出するエンコーダ、25cは回転/
直動変換機構、25fはθステージに接触するローラで
あり、ローラ25fはθ軸駆動機素25により同図
(a)の上下方向に駆動され、θステージ18を回転さ
せる。
Reference numeral 25 is a θ-axis drive element for rotating the θ-stage, 25a is a θ-axis drive motor, 25b is an encoder for detecting the amount of rotation of the drive motor 25a, and 25c is a rotation / rotation / rotation unit.
The linear motion converting mechanism 25f is a roller that comes into contact with the θ stage, and the roller 25f is driven in the vertical direction of FIG.

【0009】また、X軸駆動機素21、Y軸駆動機素2
3、θ軸駆動機素25に設けられたエンコーダ21b,
23b,25bの出力は、図示しないコンピュータ等か
ら構成される制御装置に入力され、上記制御装置の出力
によりX軸駆動機素21、Y軸駆動機素23、θ軸駆動
機素25に設けられたモータ21a,23a,25aが
駆動される。
The X-axis drive element 21 and the Y-axis drive element 2 are also provided.
3, an encoder 21b provided on the θ-axis drive element 25,
The outputs of 23b and 25b are input to a control device composed of a computer (not shown), and are provided to the X-axis drive element 21, the Y-axis drive element 23, and the θ-axis drive element 25 by the output of the control device. The motors 21a, 23a, 25a are driven.

【0010】なお、ローラ21f,23f,25fを直
線的に駆動する手段としの回転/直動変換機構21c,
23c,25cとしては、種々の手段を用いることがで
き、例えば、ネジやカムによりモータの回転運動を直線
運動に変換してローラ21f,23f,25fを駆動し
たり(必要に応じて減速ギヤを用いることもできる)、
リニアモータを用いてローラ21f,23f,25fを
駆動することができる。また、モータとしては、ステッ
ピング・モータやDCモータ等種々のモータを用いるこ
とが可能である。さらに、精度の高い駆動が必要な場合
には、ピエゾ素子等を用いることもできる。
The rotation / linear motion converting mechanism 21c, which is a means for linearly driving the rollers 21f, 23f, 25f,
Various means can be used as 23c and 25c. For example, a screw or a cam is used to convert the rotational movement of the motor into a linear movement to drive the rollers 21f, 23f, and 25f. Can also be used),
The rollers 21f, 23f, 25f can be driven using a linear motor. As the motor, various motors such as a stepping motor and a DC motor can be used. Furthermore, a piezo element or the like can be used when highly accurate driving is required.

【0011】図7において、マスク12を所定の位置に
位置決めする際、作業者は、図示しない光学装置等によ
り、マスク12上に記されたアライメメント・マーク1
4,14’の位置を確認し、上記アライメント・マーク
14,14’が予め定められた目標位置に一致するよう
に指令信号を上記制御装置に入力する。制御装置は作業
者から指令信号が入力されると、エンコーダ21b,2
3b,25bから入力されるフィードバック信号と上記
指令信号を比較してモータ21a,23a,25aを駆
動し、XYステージの位置およびθステージの回転角度
を、作業者が入力する指令信号に一致するように制御す
る。
In FIG. 7, when the mask 12 is positioned at a predetermined position, an operator uses an optical device (not shown) or the like to align the alignment mark 1 on the mask 12.
The positions of 4, 14 'are confirmed, and a command signal is input to the control device so that the alignment marks 14, 14' coincide with a predetermined target position. When the operator inputs a command signal, the control device receives the encoders 21b, 2b.
The feedback signals input from 3b and 25b are compared with the command signal to drive the motors 21a, 23a and 25a so that the position of the XY stage and the rotation angle of the θ stage match the command signal input by the operator. To control.

【0012】図7に示したステージ装置は、XYステー
ジとθステージを積み重ねて構成しているため、XYス
テージとθステージをそれぞれ独立して駆動することが
できる。このため、マスク12を容易に位置決めするこ
とができるが、両ステージを積み重ねているため、高さ
が高くなりステージの重さが重くなるといった問題点が
ある。
Since the stage device shown in FIG. 7 is constructed by stacking the XY stage and the θ stage, the XY stage and the θ stage can be driven independently. Therefore, the mask 12 can be easily positioned, but since both stages are stacked, there is a problem that the height becomes high and the stage becomes heavy.

【0013】そこで、一つのステージでXYθ方向の移
動を行い、高さを低く重量を軽減したステージ装置とし
て、図8に示す装置が知られている。図8において、同
図(a)はステージ装置の平面図、(b)は同図(a)
のA−A断面図を示しており、図7と同様、同図はパタ
ーンが焼き付けられたマスクを乗せたステージをXYθ
方向に位置決めする装置を示している。
Therefore, a device shown in FIG. 8 is known as a stage device in which the height is reduced and the weight is reduced by moving the XYθ directions in one stage. In FIG. 8, FIG. 8A is a plan view of the stage device, and FIG.
7 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 7, and the same figure as FIG. 7 shows a stage on which a mask having a pattern printed thereon is placed in XYθ.
Figure 9 shows a device for directional positioning.

【0014】同図において、図7に示したものと同一の
ものには同一の符号が付されており、11はマスク・ホ
ルダ、12はマスク、13はマスク・パターン、14,
14’はアライメント・マーク、15はステージを搭載
するベースである。また、16はステージであり、ステ
ージ16はベース15上に平面案内部28を介して取り
付けられ、平面案内部28によりXY軸方向に移動可能
に、かつ、θ方向に回転可能に支持されている。
In the figure, the same components as those shown in FIG. 7 are designated by the same reference numerals, 11 is a mask holder, 12 is a mask, 13 is a mask pattern, 14,
14 'is an alignment mark, and 15 is a base on which the stage is mounted. Reference numeral 16 denotes a stage, which is mounted on the base 15 via a plane guide portion 28, and is supported by the plane guide portion 28 so as to be movable in the XY axis directions and rotatable in the θ direction. .

【0015】21はステージ16をX軸方向に駆動する
X軸駆動機素、21aはモータ、21bはエンコーダ、
21cは回転/直動変換機構、21dはモータ21aに
より同図(a)の左右方向に駆動される駆動部であり、
駆動部21dはステージ16に対し首振り可能に、か
つ、スライド可能に取り付けられている。図9は上記駆
動部21dの構成を示す図であり、同図(a)は駆動部
21dの断面図、(b)は駆動部21dのA−A断面図
を示している。
Reference numeral 21 is an X-axis drive element for driving the stage 16 in the X-axis direction, 21a is a motor, 21b is an encoder,
Reference numeral 21c is a rotation / linear motion conversion mechanism, 21d is a drive unit driven by the motor 21a in the left-right direction in FIG.
The drive unit 21d is attached to the stage 16 so as to be swingable and slidable. 9A and 9B are views showing the configuration of the drive unit 21d. FIG. 9A is a sectional view of the drive unit 21d, and FIG. 9B is a sectional view of the drive unit 21d taken along the line AA.

【0016】同図において、16はステージ、30はネ
ジ等によりステージ16に取り付けられたスライド軸固
定部、31はスライド軸固定部30に固定されたスライ
ド軸、32はリニアベアリング、33はスライド軸受ケ
ースであり、スライド軸31はリニアベアリング32に
より、同図(a)の左右方向にスライドする。34はモ
ータ21bにより同図の上下方向に駆動される駆動部
材、35は回転軸であり、スライド軸受ケース33は駆
動部材34に設けられた回転軸35にベアリング36を
介して首振り可能に取り付けられている。このため、ス
テージ16は駆動部材34に対して、同図(a)の左右
方向に移動可能であるとともに、首振り可能である。
In the figure, 16 is a stage, 30 is a slide shaft fixing portion attached to the stage 16 with screws or the like, 31 is a slide shaft fixed to the slide shaft fixing portion 30, 32 is a linear bearing, and 33 is a slide bearing. The slide shaft 31 is a case and slides in the left-right direction in FIG. Reference numeral 34 is a drive member driven in the vertical direction by the motor 21b, reference numeral 35 is a rotary shaft, and the slide bearing case 33 is attached to a rotary shaft 35 provided in the drive member 34 so as to be swingable via a bearing 36. Has been. Therefore, the stage 16 is movable in the left-right direction in FIG.

【0017】図8に戻り、22はステージ16をX軸方
向に駆動するX’軸駆動機素、22aはモータ、22b
はエンコーダ、22cは回転/直動変換機構、22dは
駆動部であり、駆動部22dは、駆動部21dと同様、
ステージ16に対し首振り可能に、かつ、スライド可能
に取り付けられている。また、23はステージ16をY
軸方向に駆動するY軸駆動機素、23aはモータ、23
bはエンコーダ、23cは回転/直動変換機構、23d
は駆動部であり、上記と同様、駆動部23dは、ステー
ジ16に対し首振り可能に、かつ、スライド可能に取り
付けられている。
Returning to FIG. 8, 22 is an X'-axis driving element for driving the stage 16 in the X-axis direction, 22a is a motor, and 22b.
Is an encoder, 22c is a rotation / linear motion converting mechanism, 22d is a drive unit, and the drive unit 22d is the same as the drive unit 21d.
The stage 16 is attached so as to be swingable and slidable. In addition, 23 is the stage 16 Y
A Y-axis driving element driven in the axial direction, 23a is a motor, 23
b is an encoder, 23c is a rotation / linear motion conversion mechanism, and 23d
Is a drive unit, and similarly to the above, the drive unit 23d is attached to the stage 16 so as to be swingable and slidable.

【0018】また、X軸駆動機素21、X’軸駆動機素
22、Y軸駆動機素23に設けられたエンコーダ21
b,22b,23bの出力は、図7と同様、図示しない
制御装置に入力され、上記制御装置の出力によりこれら
駆動機素のモータ21a,23a,25aが駆動され
る。図8において、マスク12を所定の位置に位置決め
する場合、前記と同様、作業者は、アライメント・マー
ク14,14’が予め定められた目標位置に一致するよ
うに指令信号を上記制御装置に入力する。
Further, the encoder 21 provided on the X-axis driving element 21, the X'-axis driving element 22, and the Y-axis driving element 23.
The outputs of b, 22b and 23b are input to a control device (not shown) as in FIG. 7, and the motors 21a, 23a and 25a of these drive elements are driven by the output of the control device. In FIG. 8, when the mask 12 is positioned at a predetermined position, the operator inputs a command signal to the control device so that the alignment marks 14 and 14 'coincide with a predetermined target position, as described above. To do.

【0019】制御装置は作業者から指令信号が入力され
ると、モータ21a,22a,23aを駆動し、ステー
ジの位置およびθステージの回転角度を、作業者が入力
する指令信号に一致するように制御する。すなわち、制
御装置はX軸駆動機素21とX’軸駆動機素22を同時
に同方向に同量駆動してステージ16をX軸方向に移動
させ、X軸方向の位置決めを行う、また、Y軸駆動機素
23を駆動してステージ16をY軸方向に移動させY軸
方向に位置決めを行う。
When a command signal is input from the operator, the control device drives the motors 21a, 22a and 23a so that the position of the stage and the rotation angle of the θ stage match the command signal input by the operator. Control. That is, the control device simultaneously drives the X-axis driving element 21 and the X′-axis driving element 22 in the same direction and by the same amount to move the stage 16 in the X-axis direction and perform positioning in the X-axis direction. The axis drive element 23 is driven to move the stage 16 in the Y-axis direction and perform positioning in the Y-axis direction.

【0020】さらに、上記X軸駆動機素21、X’軸駆
動機素22、および、Y軸駆動機素23を同時にステー
ジを回転させる方向に駆動して、基準軸(例えば、アラ
イメント・マーク14または14’)を中心にして必要
角度だけ回転させ、θ方向の位置決めを行う。図10は
上記したステージの動作を示す図であり、同図(a)は
各駆動機素の作用点と回転中心となる基準軸R(この例
では、アライメント・マーク14’の位置を基準軸とし
ている)を示し、(b)はステージをX,Y,θ方向に
移動させた際の各駆動機素によるアライメント・マーク
の移動量を示している。
Further, the X-axis driving element 21, the X′-axis driving element 22 and the Y-axis driving element 23 are simultaneously driven in a direction to rotate the stage, and the reference axis (for example, the alignment mark 14). Or 14 ') is rotated by a required angle to perform positioning in the θ direction. FIG. 10 is a diagram showing the operation of the above-described stage, and FIG. 10A shows a reference axis R (in this example, the position of the alignment mark 14 'is the reference axis which is the action point of each drive element and the center of rotation). And (b) shows the amount of movement of the alignment mark by each drive element when the stage is moved in the X, Y, and θ directions.

【0021】同図に示すように、X軸駆動機素21、
X’軸駆動機素22を同方向に同量駆動し、それぞれの
作用点A,Bをaだけ移動させ、マスク12上のアライ
メント・マーク14,14’の位置をX軸方向にa移動
させる。これにより、アライメント・マーク14’のX
方向の位置はワーク上に記されたマークW14’のX方
向の位置と一致する。
As shown in the figure, the X-axis driving element 21,
The X′-axis driving element 22 is driven in the same direction by the same amount, the respective action points A and B are moved by a, and the positions of the alignment marks 14 and 14 ′ on the mask 12 are moved in the X-axis direction by a. . As a result, the X of the alignment mark 14 '
The position in the direction coincides with the position in the X direction of the mark W14 ′ marked on the work.

【0022】また、Y軸駆動機素23をY軸方向に駆動
して、作用点Cをbだけ移動させ、アライメント・マー
ク14’の位置をY軸方向にb移動させる。これによ
り、アライメント・マーク14’の位置はワーク上に記
されたマークW14’の位置と一致する。さらに、アラ
イメント・マーク14を基準軸R(アライメント・マー
ク14’)を中心としてθ回転させる。すなわち、基準
軸Rの位置が移動しないように、X軸駆動機素21を左
方向に駆動して作用点Aをcだけ移動させ、X’軸駆動
機素22を右方向に駆動して、作用点Bをdだけ移動さ
せ、また、Y軸駆動機素23を下方向に駆動して、作用
点Cをeだけ移動させる。
Further, the Y-axis driving element 23 is driven in the Y-axis direction to move the action point C by b, and the position of the alignment mark 14 'is moved in the Y-axis direction by b. As a result, the position of the alignment mark 14 'matches the position of the mark W14' marked on the work. Further, the alignment mark 14 is rotated by θ around the reference axis R (alignment mark 14 ′). That is, so that the position of the reference axis R does not move, the X-axis drive element 21 is driven leftward to move the action point A by c, and the X′-axis drive element 22 is driven rightward. The action point B is moved by d, and the Y-axis driving element 23 is driven downward to move the action point C by e.

【0023】以上のようにして、アライメント・マーク
14,14’をワーク上に印されたマークW14,W1
4’に一致させる。ここで、図10から明らかなよう
に、ステージを基準軸に対してθだけ回転させる際、制
御装置がX軸駆動機素21、X’軸駆動機素22、およ
び、Y軸駆動機素23を駆動する量c,d,eは必ずし
も一致しない。
As described above, the alignment marks 14 and 14 'are marks W14 and W1 on the work.
Match 4 '. Here, as apparent from FIG. 10, when the stage is rotated by θ with respect to the reference axis, the control device causes the X-axis driving element 21, the X′-axis driving element 22, and the Y-axis driving element 23 to rotate. The amounts c, d, and e for driving are not necessarily the same.

【0024】このため、ステージ16を回転させる場合
には、X軸駆動機素21、X’軸駆動機素22、およ
び、Y軸駆動機素23の駆動量c,d,eを演算する必
要がある。
Therefore, when the stage 16 is rotated, it is necessary to calculate the drive amounts c, d, and e of the X-axis driving element 21, the X′-axis driving element 22, and the Y-axis driving element 23. There is.

【0025】[0025]

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記したよ
うに、図7に示したステージ装置はXYステージとθス
テージを積み重ねた構成であるので、位置決めは容易で
あるが、構造が複雑であるとともに、高さが高くなり重
量が重くなるといった問題があった。このため、図7の
装置においては、構造が複雑化するのに加え、各駆動機
素の出力を大きくしなければ位置決め速度を早くするこ
とができず、駆動装置が大型になり、コストが高くなる
といった欠点があった。また、2段重ねのステージのた
め、高さも高くなり、移動精度・耐振性を低下させると
いう欠点あった。
By the way, as described above, since the stage device shown in FIG. 7 has a structure in which the XY stage and the θ stage are stacked, the positioning is easy, but the structure is complicated and the structure is complicated. However, there is a problem that the height becomes high and the weight becomes heavy. Therefore, in the device of FIG. 7, in addition to the complicated structure, the positioning speed cannot be increased unless the output of each drive element is increased, and the drive device becomes large and the cost is high. There was a drawback that Further, since the stages are two-tiered, the height is also high, and there is a drawback that the movement accuracy and vibration resistance are lowered.

【0026】一方、図8に示したステージ装置において
は、重量が比較的軽く、各駆動機素の出力を図7に示し
たもの程、大きくする必要はなく、高さも低いため、性
能上の問題点もあまりないが、ステージを回転させると
きの各駆動機素の駆動ストロークが異なるため、制御が
難しく、制御装置の負担が大きくなるといった問題点が
あった。
On the other hand, in the stage device shown in FIG. 8, the weight is relatively light, and it is not necessary to increase the output of each driving element as much as that shown in FIG. Although there are not many problems, there are problems that control is difficult because the driving stroke of each driving element when the stage is rotated is different, and the load on the control device increases.

【0027】また、図7、図8に示したステージ装置に
おいては、温度が上昇/下降する環境で使用される場
合、熱伸縮によって、基準点(アライメント・マーク)
の位置が推移し制御精度が低下するという問題点があっ
た。特に、上記ステージ装置を半導体装置等の露光装置
に適用した場合には、露光時、ステージに光が照射され
ることによりステージが熱膨張し、基準点(アライメン
ト・マーク)の位置が推移する。
Further, in the stage device shown in FIGS. 7 and 8, when used in an environment where the temperature rises / falls, a reference point (alignment mark) is generated by thermal expansion and contraction.
However, there was a problem that the position of changed and the control accuracy decreased. In particular, when the above stage device is applied to an exposure device such as a semiconductor device, the stage is thermally expanded by being irradiated with light during exposure, and the position of the reference point (alignment mark) changes.

【0028】例えば、図8、図10に示したステージ装
置においては、温度が上昇すると、ステージ16の位置
を拘束する作用点A,Bに対して基準軸Rが同図の右方
向に移動し、また、作用点Cに対して基準軸Rが上方に
移動することになり、基準軸Rの位置が推移する。本発
明は上記した従来技術の問題点を考慮してなされたもの
であって、本発明の第1の目的は、一つのステージを用
いて、容易にX,Y,θ方向の制御を行うことができる
ステージ装置を提供することである。
For example, in the stage device shown in FIGS. 8 and 10, when the temperature rises, the reference axis R moves to the right in the figures with respect to the action points A and B that restrain the position of the stage 16. Also, the reference axis R moves upward with respect to the point of action C, and the position of the reference axis R changes. The present invention has been made in consideration of the above-mentioned problems of the prior art, and a first object of the present invention is to easily perform control in the X, Y, and θ directions using one stage. It is to provide a stage device capable of

【0029】本発明の第2の目的は、XY方向の移動が
あっても回転中心が移動せず、また、ステージが回転し
てもXY軸座標系が回転しない制御性のよいステージ装
置を提供することである。本発明の第3の目的は、ステ
ージの熱伸縮による影響が小さく、ステージの温度変化
があっても制御精度を損なうことなくステージを制御す
ることができるステージ装置を提供することである。
A second object of the present invention is to provide a stage device with good controllability, in which the center of rotation does not move even when there is movement in the XY directions, and the XY axis coordinate system does not rotate even when the stage rotates. It is to be. A third object of the present invention is to provide a stage device that is less affected by thermal expansion and contraction of the stage and can control the stage without impairing the control accuracy even when the temperature of the stage changes.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の請求項1の発明は、少なくとも3つの駆動
機素を備え、該駆動機素により基準軸に対して垂直な平
面内でステージを2方向に直線移動させると共に、上記
基準軸を中心に回転させるステージ装置において、上記
基準軸を含む第1の平面上に、ステージの第1および第
2の被駆動機素を設け、基準軸を含み第1の平面に交わ
る第2の平面上に、ステージの第3の被駆動機素を設
け、また、上記第1および第2の平面と平行な方向に移
動可能に上記3つの被駆動機素と係合する駆動ガイドを
設け、上記駆動機素が上記駆動ガイドにより被駆動機素
を第1、第2の平面と直交する方向に移動させることに
より、ステージを回転/移動させるように構成したもの
である。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 of the present invention comprises at least three drive elements, and the drive elements are provided in a plane perpendicular to the reference axis. In a stage device that linearly moves a stage in two directions and rotates about the reference axis, a first plane and a second driven element of the stage are provided on a first plane including the reference axis, A third driven element of the stage is provided on a second plane including the axis and intersecting the first plane, and the three driven elements are movable in a direction parallel to the first and second planes. A drive guide that engages with a drive element is provided, and the drive element moves the driven element in a direction orthogonal to the first and second planes by the drive guide, thereby rotating / moving the stage. It is configured in.

【0031】本発明の請求項2の発明は、請求項1の発
明において、第1、第2、および、第3の被駆動機素と
基準軸間の距離を等しくしたものである。本発明の請求
項3の発明は、請求項1または請求項2の発明におい
て、被駆動機素をローラもしくはスライド部材で構成
し、駆動ガイドを平面としたものである。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the distances between the first, second and third driven elements and the reference axis are equal. According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the invention, the driven element is a roller or a slide member, and the drive guide is a flat surface.

【0032】本発明の請求項4の発明は、請求項1また
は請求項2の発明において、被駆動機素を回転及びスラ
イド部材で構成し、駆動ガイドを直動ガイドとしたもの
である。
According to a fourth aspect of the present invention, in the first or second aspect of the invention, the driven element is composed of a rotating and sliding member, and the drive guide is a linear guide.

【0033】[0033]

【作用】図3は本発明の原理を示す図である。同図にお
いて、16はステージ、Rはステージの回転中心となる
基準軸、21,22,23は第1、第2、第3の駆動機
素であり、第1、第2、第3駆動機素の21,22,2
3は駆動ガイド21d,22d,23dを同図の左右方
向および上下方向に駆動する。
FIG. 3 is a diagram showing the principle of the present invention. In the figure, 16 is a stage, R is a reference axis that is the center of rotation of the stage, 21, 22, and 23 are first, second, and third drive elements, and the first, second, and third drive elements are shown. Elementary 21,22,2
Reference numeral 3 drives the drive guides 21d, 22d, and 23d in the left-right direction and the up-down direction in FIG.

【0034】また、各駆動ガイド21d,22d,23
dは、その移動方向に対して直交する平面で形成され、
それぞれ、ステージ16に取り付けられたX軸被駆動機
素、X’軸被駆動機素、Y軸被駆動機素(同図では、そ
れぞれ、ローラ41c,42c,43cに対応する)と
A,B,C点で接している。なお、図3では、基準軸R
と各軸の被駆動機素との距離Lを等しくした場合につい
て示しているが、この距離が異なっていてもその距離に
応じてX軸,X’軸,Y軸駆動機素21,22,23の
駆動量をそれぞれ選定すれば、ステージを同様に制御す
ることができる。以下の説明では、基準軸Rと各軸の被
駆動機素との距離Lが等しい場合について説明する。
Further, each drive guide 21d, 22d, 23
d is formed by a plane orthogonal to the moving direction,
The X-axis driven element, the X'-axis driven element, and the Y-axis driven element (corresponding to rollers 41c, 42c, and 43c, respectively, in the figure) attached to the stage 16 and A and B, respectively. , C touches at point C. In FIG. 3, the reference axis R
Shows the case where the distance L between each axis and the driven element of each axis is made equal, but even if this distance is different, the X-axis, X′-axis, Y-axis driving element 21, 22, The stage can be controlled in the same manner by selecting the drive amounts of 23 respectively. In the following description, the case where the distance L between the reference axis R and the driven element of each axis is equal will be described.

【0035】同図に示すように、本発明の請求項1の発
明においては、基準軸Rを含む第1の平面上に、ステー
ジの第1および第2の被駆動機素を設け、基準軸を含み
第1の平面に交わる第2の平面上に、ステージの第3の
被駆動機素を設け、また、上記第1および第2の平面と
平行な方向に移動可能に上記3つの被駆動機素と係合す
る駆動ガイド21d,22d,23dを設け、駆動機素
21,22,23が上記駆動ガイドにより被駆動機素を
第1、第2の平面と直交する方向に移動させることによ
り、ステージを回転/移動させるように構成している。
As shown in the figure, in the invention of claim 1 of the present invention, the first and second driven elements of the stage are provided on the first plane including the reference axis R, and the reference axis is provided. A third driven element of the stage is provided on a second plane that intersects with the first plane, and the three driven elements are movable in a direction parallel to the first and second planes. By providing drive guides 21d, 22d, and 23d that engage with the element, the drive elements 21, 22, and 23 move the driven element in the direction orthogonal to the first and second planes by the drive guide. , The stage is configured to rotate / move.

【0036】このため、各軸の駆動機素21,22,2
3により駆動ガイド21d,22d,23dを等量だけ
駆動したとき、各軸の被駆動機素は、駆動ガイド21
d,22d,23dとの接触点A,B,Cを移動させな
がら移動し、同図の二点鎖線に示すようにステージ16
は基準軸Rを中心として回転する。また、ステージ上の
アライメント・マーク14,14’をX軸方向に移動さ
せるため、駆動機素21,22により駆動ガイド21
d,22dを等量だけ駆動したとき、Y軸被駆動機素は
駆動ガイド23dに沿って左右方向に移動し、Y軸被駆
動機素が駆動ガイド23dと接触する点Cと、基準軸R
との距離は等しく保たれる。このため、ステージをX軸
方向に移動させても、ステージ16の回転中心の位置は
変わらない。
Therefore, the drive elements 21, 22, 2 for each axis are
When the drive guides 21d, 22d, and 23d are driven by the same amount by means of 3, the driven element of each axis is driven by the drive guide 21.
While moving the contact points A, B, and C with d, 22d, and 23d, the stage 16 is moved as shown by the chain double-dashed line in FIG.
Rotates about the reference axis R. Further, in order to move the alignment marks 14 and 14 'on the stage in the X-axis direction, the drive guides 21 and 22 are driven by the drive elements 21 and 22.
When d and 22d are driven by the same amount, the Y-axis driven element moves left and right along the drive guide 23d, and the point C at which the Y-axis driven element contacts the drive guide 23d and the reference axis R
The distances to and are kept equal. Therefore, even if the stage is moved in the X-axis direction, the position of the rotation center of the stage 16 does not change.

【0037】さらに、同図の二点鎖線に示すようにステ
ージ16を回転させた状態で、アライメント・マークを
X軸方向もしくはY軸方向に移動させる際にも、X軸、
X’軸駆動機素の駆動量もしくはY軸駆動機素の駆動量
は、上記の場合と変わらない。すなわち、ステージ16
の回転量にかかわらず、ステージをX軸方向もしくはY
軸方向に所定量移動させるときのX軸、X’軸駆動機素
もしくはY軸駆動機素の駆動量は変わらない。すなわ
ち、ステージが回転しても、XY軸座標系は回転しな
い。
Further, when the alignment mark is moved in the X-axis direction or the Y-axis direction while the stage 16 is rotated as shown by the chain double-dashed line in FIG.
The drive amount of the X′-axis drive element or the drive amount of the Y-axis drive element is the same as in the above case. That is, the stage 16
The stage in the X-axis direction or Y regardless of the rotation amount of
The amount of drive of the X-axis, X'-axis drive element or Y-axis drive element does not change when it is moved by a predetermined amount in the axial direction. That is, even if the stage rotates, the XY axis coordinate system does not rotate.

【0038】また、ステージの温度変化があっても制御
精度を損なうことなくステージを制御することができ
る。すなわち、基準軸を含む2つの平面上にステージの
位置を定める3つの作用点A,B,Cがあるので、ステ
ージが同図の実線の位置にあるときには、ステージが熱
伸縮しても、熱伸縮は基準点Rを中心とした伸縮となり
基準軸は動かない。
Further, even if the temperature of the stage changes, the stage can be controlled without impairing the control accuracy. That is, since there are three action points A, B, and C that determine the position of the stage on the two planes including the reference axis, when the stage is in the position indicated by the solid line in FIG. The expansion and contraction is centered around the reference point R and the reference axis does not move.

【0039】なお、同図の二点鎖線に示す位置にあると
きにも上記と同様に基準軸は動かない。ただし、ステー
ジが熱伸縮すると、ステージは僅かに回転するが、ステ
ージの回転角度は僅かであり、実用上殆ど影響がない。
このため、ステージを熱的に安定させることができ、温
度が上昇/下降する環境下で使用しても制御精度を損な
うことがない。
The reference axis does not move even at the position shown by the chain double-dashed line in FIG. However, when the stage thermally expands and contracts, the stage slightly rotates, but the rotation angle of the stage is small, which has practically no effect.
Therefore, the stage can be thermally stabilized, and the control accuracy is not impaired even when used in an environment where the temperature rises / falls.

【0040】図4は本発明においてステージを回転/移
動させたときの、ステージの動きとアライメント・マー
クの動きを示す図であり、同図(a)はセット時を示
し、(b)はステージをθだけ回転させた場合を示し、
(c)はステージをXY方向に移動させた場合を示して
いる。ステージ16上のマスクのアライメント・マーク
14,14’とワークのアライメント・マークW14,
W14’の位置を一致させるため、まず、同図(a)の
状態から、X軸駆動機素21、X’軸駆動機素22、Y
軸駆動機素23によりガイド21d,22d,23dを
距離a移動させて、同図(b)に示すようにステージ1
6をsin -1(a/l) 度回転させ、アライメント・マーク1
4,14’とワークのアライメント・マークW14,W
14’の傾きを一致させる。
4A and 4B are diagrams showing the movement of the stage and the movement of the alignment mark when the stage is rotated / moved in the present invention. FIG. 4A shows the set time and FIG. 4B shows the stage. Shows the case where is rotated by θ,
(C) shows the case where the stage is moved in the XY directions. Alignment marks 14 and 14 'of the mask on the stage 16 and alignment marks W14 of the work,
In order to match the positions of W14 ′, first, from the state of FIG. 11A, the X-axis drive element 21, the X′-axis drive element 22, and the Y ′
The guides 21d, 22d, 23d are moved by the distance a by the axial drive element 23, and the stage 1 is moved as shown in FIG.
Rotate 6 by sin -1 (a / l) degrees to get alignment mark 1
4,14 'and workpiece alignment marks W14, W
Match the slopes of 14 '.

【0041】ついで、X軸駆動機素21、X’軸駆動機
素22によりガイド21d,22dを距離b移動させて
ステージ16をX軸方向にb移動させ、また、Y軸駆動
機素23によりガイド23dを距離−c移動させてステ
ージ16をY軸方向に−c移動させ、同図(c)に示す
ようにマスクのアライメント・マーク14,14’とワ
ークのアライメント・マークW14,W14’を一致さ
せる。
Next, the guides 21d and 22d are moved a distance b by the X-axis drive element 21 and the X'-axis drive element 22 to move the stage 16 b in the X-axis direction, and by the Y-axis drive element 23. The guide 23d is moved by a distance -c to move the stage 16 by -c in the Y-axis direction, and the mask alignment marks 14 and 14 'and the work alignment marks W14 and W14' are moved as shown in FIG. Match.

【0042】本発明においては、上記のように各ガイド
21d,22d,23dを等しい距離a移動させること
により、基準軸Rの位置が移動することなく、ステージ
16をsin -1(a/l) 度回転させることができる。また、
ステージ16の回転角度にかかわらず、アライメント・
マーク14,14’をX方向、Y方向に移動させる際の
X軸駆動機素21、X’軸駆動機素22、Y軸駆動機素
23の駆動量とアライメント・マーク14,14’の移
動量との関係は一定に保たれる。すなわち、ステージが
回転してもXY軸座標系が回転しない。このため、ステ
ージ16の回転/移動の制御を簡単に行うことができ、
マスクのアライメント・マーク14,14’とワークW
14,W14’の位置を容易に合わせることができる。
In the present invention, by moving the guides 21d, 22d, and 23d by the same distance a as described above, the position of the reference axis R does not move, and the stage 16 is moved to sin -1 (a / l). Can be rotated once. Also,
Alignment is possible regardless of the rotation angle of the stage 16.
Driving amount of the X-axis driving element 21, X′-axis driving element 22 and Y-axis driving element 23 and movement of the alignment marks 14, 14 ′ when moving the marks 14 and 14 ′ in the X and Y directions. The relationship with quantity is kept constant. That is, the XY coordinate system does not rotate even if the stage rotates. Therefore, the rotation / movement of the stage 16 can be easily controlled,
Mask alignment marks 14, 14 'and work W
The positions of 14, W14 'can be easily adjusted.

【0043】本発明の請求項2の発明においては、請求
項1の発明において、第1、第2、および、第3の被駆
動機素と基準軸間の距離を等しくしたものであり、図
3、図4で説明したように、基準軸Rと各軸の被駆動機
素との距離Lを等しくすれば、ステージ回転時の各軸駆
動機素の移動量を等しくすることができ、制御を最も簡
単にすることができる。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the distances between the first, second and third driven elements and the reference axis are made equal to each other. As described with reference to FIG. 3 and FIG. 4, if the distance L between the reference axis R and the driven element of each axis is equalized, the movement amount of each axis driven element during stage rotation can be equalized, and control can be performed. Can be the easiest.

【0044】また、請求項3の発明のように、被駆動機
素をスライド部材で構成し駆動ガイドを平面としたり、
あるいは、請求項4の発明のように、被駆動機素を回転
及びスライド部材で構成し駆動ガイドを直動ガイド(図
9の構造参照)とすることもでき、このような構成とし
ても、上記と同様な効果を得ることができる。
Further, as in the invention of claim 3, the driven element is composed of a slide member and the drive guide is a flat surface,
Alternatively, as in the invention of claim 4, the driven element may be constituted by a rotating and sliding member and the drive guide may be a linear guide (see the structure of FIG. 9). The same effect as can be obtained.

【0045】[0045]

【実施例】図1は本発明の実施例のステージ装置を示す
図であり、図1において、同図(a)はステージ装置の
平面図、(b)は同図(a)のA−A断面図を示してお
り、図7、図8と同様、同図はパターンが焼き付けられ
たマスクを乗せたステージをXYθ方向に位置決めする
装置を示している。
1 is a view showing a stage device according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, FIG. 1A is a plan view of the stage device, and FIG. 7 is a cross-sectional view, and like FIG. 7 and FIG. 8, this figure shows an apparatus for positioning a stage on which a mask having a pattern printed thereon is placed in the XYθ directions.

【0046】同図において、図8に示したものと同一の
ものには同一の符号が付されており、11はマスク・ホ
ルダ、12はマスク、13はマスク・パターン、14,
14’はアライメント・マーク、15はステージを搭載
するベースである。また、16はステージであり、ステ
ージ16は、図8と同様、ベース15上に平面案内部2
8を介して取り付けられ、平面案内部28によりXY軸
方向に移動可能に、かつ、θ方向に回転可能に支持され
ている。
In the figure, the same parts as those shown in FIG. 8 are designated by the same reference numerals, 11 is a mask holder, 12 is a mask, 13 is a mask pattern, 14,
14 'is an alignment mark, and 15 is a base on which the stage is mounted. Further, 16 is a stage, and the stage 16 is, as in FIG.
It is attached via 8 and is supported by the plane guide portion 28 so as to be movable in the XY axis directions and rotatable in the θ direction.

【0047】21はステージ16をX軸方向に駆動する
X軸駆動機素、21aはモータ、21bはエンコーダ、
21cは回転/直動変換機構、21dはモータ21aに
より同図(a)の左右方向に駆動される駆動ガイドであ
り、駆動ガイド21dの先端は、移動方向に直交した平
面に形成されており、後述するステージ16のX軸ロー
ラ保持部材41に取り付けられたローラと接している。
Reference numeral 21 is an X-axis driving element for driving the stage 16 in the X-axis direction, 21a is a motor, 21b is an encoder,
Reference numeral 21c is a rotation / linear motion converting mechanism, 21d is a drive guide that is driven by the motor 21a in the left-right direction in FIG. 7A, and the tip of the drive guide 21d is formed in a plane orthogonal to the moving direction. It is in contact with a roller attached to the X-axis roller holding member 41 of the stage 16 described later.

【0048】21eは駆動機素取り付け部材であり、X
軸駆動機素21は駆動機素取り付け部材21eによりベ
ース15上にネジ等で固定されている。22はステージ
16をX軸方向に駆動するX’軸駆動機素、22aはモ
ータ、22bはエンコーダ、22cは回転/直動変換機
構、22dはモータ22aにより同図(a)の左右方向
に駆動されるガイド、22eは駆動機素取り付け部材で
あり、X’軸駆動機素22は、上記と同様、駆動機素取
り付け部材22eによりベース15上にネジ等で固定さ
れている。
Reference numeral 21e is a drive element mounting member, which is X
The shaft driving element 21 is fixed to the base 15 by screws or the like by a driving element mounting member 21e. 22 is an X'-axis driving element that drives the stage 16 in the X-axis direction, 22a is a motor, 22b is an encoder, 22c is a rotation / linear motion conversion mechanism, and 22d is a motor 22a that is driven in the left-right direction in FIG. The guide 22e is a drive element mounting member, and the X'-axis drive element 22 is fixed on the base 15 by screws or the like by the drive element mounting member 22e, as described above.

【0049】また、23はステージ16をY軸方向に駆
動するY軸駆動機素、23aはモータ、23bはエンコ
ーダ、23cは回転/直動変換機構、23dは同図
(a)の上下方向に駆動されるガイド、23eは駆動機
素取り付け部材であり、Y軸駆動機素23は、上記と同
様、駆動機素取り付け部材23eによりベース15上に
ネジ等で固定されている。
Further, 23 is a Y-axis driving element for driving the stage 16 in the Y-axis direction, 23a is a motor, 23b is an encoder, 23c is a rotation / linear motion converting mechanism, and 23d is a vertical direction in FIG. The driven guide 23e is a drive element mounting member, and the Y-axis drive element 23 is fixed to the base 15 by screws or the like by the drive element mounting member 23e, as in the above.

【0050】なお、上記ローラを駆動する手段として
は、図7の説明で記した種々の手段を用いることがで
き、必要に応じて、ピエゾ素子等を用いることもでき
る。41,42,43は、それぞれ、ステージ16に取
り付けられたX軸ローラ保持部材、X’軸ローラ保持部
材、Y軸ローラ保持部材であり、X軸ローラ保持部材4
1、X’軸ローラ保持部材42、Y軸ローラ保持部材4
3にはそれぞれローラ41c,42c,43cが回転可
能に取り付けられている。
As the means for driving the roller, various means described in the explanation of FIG. 7 can be used, and a piezo element or the like can be used if necessary. Reference numerals 41, 42, and 43 denote an X-axis roller holding member, an X′-axis roller holding member, and a Y-axis roller holding member attached to the stage 16, respectively.
1, X ′ axis roller holding member 42, Y axis roller holding member 4
Rollers 41c, 42c, and 43c are rotatably attached to 3, respectively.

【0051】なお、ローラ41c,42c,43cは前
記した駆動ガイド21d,22d,23dと接し、ステ
ージ16は各駆動ガイド21d,22d,23dの移動
方向と直交する方向に移動可能であり、ステージ16を
移動、回転させる際、各軸のローラを駆動ガイド21
d,22d,23dの平面部に沿って滑らかに移動させ
ることができる。
The rollers 41c, 42c, 43c are in contact with the above-mentioned drive guides 21d, 22d, 23d, and the stage 16 is movable in a direction orthogonal to the moving direction of the drive guides 21d, 22d, 23d. When moving and rotating the shaft, drive the rollers of each axis into the drive guide 21.
It can be moved smoothly along the plane portions of d, 22d, and 23d.

【0052】各軸の駆動機素に沿って滑らかに移動させ
る手段としては、ローラ以外に種々の手段を用いること
ができ、例えば、後述するように図9に示した機構を用
いたり、ローラ保持部材のガイドとの接触部分を、摩擦
の少ない部材で球状、もしくは、球に類似した形状にす
ることもできる。また、41a,42a,43aは圧縮
バネ、41b,42b,43bはベース15にネジ等で
固定されたバネ支えであり、圧縮バネ41a,42a,
43aは、それぞれ、X軸ローラ保持部材41、X’軸
ローラ保持部材42、Y軸ローラ保持部材43とバネ支
え41b,42b,43b間に設けられ、X軸ローラ保
持部材41、X’軸ローラ保持部材42を同図(a)の
左方向に付勢し、Y軸ローラ保持部材43を同図(a)
の下方向に付勢している。
Various means other than rollers can be used as means for smoothly moving along the drive element of each axis. For example, the mechanism shown in FIG. The contact portion of the member with the guide can be formed into a spherical shape or a shape similar to a spherical shape with a member having less friction. Further, 41a, 42a, 43a are compression springs, 41b, 42b, 43b are spring supports fixed to the base 15 with screws or the like, and the compression springs 41a, 42a,
43a are respectively provided between the X-axis roller holding member 41, the X'-axis roller holding member 42, the Y-axis roller holding member 43 and the spring supports 41b, 42b, 43b, and the X-axis roller holding member 41 and the X'-axis roller, respectively. The holding member 42 is biased to the left in the same figure (a), and the Y-axis roller holding member 43 is moved in the same figure (a).
It is biased downward.

【0053】また、本実施例のX軸ローラ保持部材4
1、X’軸ローラ保持部材42のローラ41c、42c
の回転中心は同図に示すように、アライメント・マーク
14,14’を結んだ直線上に配置され、ローラ43c
の回転中心を通り上記直線と直交する線が交わる点(こ
の点が回転させる際の基準軸となる)からローラ41
c,42c,43cまでの距離は等しく設定されてい
る。
Further, the X-axis roller holding member 4 of the present embodiment.
1, rollers 41c, 42c of the X'axis roller holding member 42
The rotation center of the roller 43c is arranged on the straight line connecting the alignment marks 14 and 14 'as shown in FIG.
Roller 41 from the point where a line that passes through the center of rotation and intersects with the above-mentioned straight line intersects (this point becomes the reference axis when rotating)
The distances to c, 42c and 43c are set to be equal.

【0054】図2は本実施例の制御システムの構成を示
す図であり、同図において、10は図1に示したステー
ジ装置、22はX’軸駆動機素の一部を拡大して示した
図であり、22aはモータ、22bはエンコーダを示し
ている。51はアライメント・マーク14,14’の位
置を光学的に検出するアライメント・マーク検出装置、
52は入出力装置であり、入出力装置52は、例えば、
マウス、キーボード等の入力装置52aとCRTあるい
は液晶ディスプレイ等の表示装置52bから構成され
る。また、53,57はインタフェース装置、54はス
テージ装置の位置決め等を制御するプロセッサ、55は
プログラム、データ等を格納した記憶装置、56はプロ
セッサ54の出力に基づきX軸、X’軸、Y軸の駆動機
素21,22,23のモータ21a,22a,23aを
駆動するドライバである。
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the control system of this embodiment. In FIG. 2, 10 is the stage device shown in FIG. 1, and 22 is an enlarged view of a part of the X'-axis drive element. 22a is a motor and 22b is an encoder. Reference numeral 51 is an alignment mark detecting device for optically detecting the positions of the alignment marks 14 and 14 ',
52 is an input / output device, and the input / output device 52 is, for example,
It is composed of an input device 52a such as a mouse and a keyboard and a display device 52b such as a CRT or a liquid crystal display. Further, 53 and 57 are interface devices, 54 is a processor that controls the positioning of the stage device, 55 is a storage device that stores programs, data, etc., and 56 is an X-axis, X′-axis, and Y-axis based on the output of the processor 54. Is a driver for driving the motors 21a, 22a, and 23a of the drive elements 21, 22, and 23.

【0055】上記アライメント・マーク検出装置51の
出力は、インタフェース装置53を介してプロセッサ5
4に入力され、プロセッサ54はアライメント・マーク
検出装置51により検出されたアライメント・マーク1
4の位置と、例えば、ワーク上に記されたアライメント
・マークの目標位置とを表示装置52b上に表示する。
The output of the alignment mark detecting device 51 is sent to the processor 5 via the interface device 53.
4 and the processor 54 detects the alignment mark 1 detected by the alignment mark detecting device 51.
The position 4 and the target position of the alignment mark written on the work are displayed on the display device 52b.

【0056】また、各駆動機素21,22,23のエン
コーダ21b,22b,23bの出力および入力装置5
2aの出力は、インタフェース装置53を介してプロセ
ッサ54に入力され、プロセッサ54は上記入力情報に
基づき、ドライバ56を介してモータ21a,22a,
23aを駆動して、ステージ16の位置を制御する。次
に図1、図2の示した本実施例の動作を説明する。
The output and input device 5 of the encoders 21b, 22b and 23b of the drive elements 21, 22 and 23, respectively.
The output of 2a is input to the processor 54 via the interface device 53, and the processor 54 outputs the motors 21a, 22a,
23a is driven to control the position of the stage 16. Next, the operation of this embodiment shown in FIGS. 1 and 2 will be described.

【0057】図1、図2において、マスク12を所定の
位置に位置決めする際、作業者は、表示装置52b上で
アライメント・マーク14,14’の位置とその目標位
置を確認し、入力装置52aを操作し、上記アライメン
ト・マーク14,14’が予め定められた目標位置に一
致するように、入力装置52aから、指令信号をインタ
フェース装置53を介してプロセッサ54に入力する。
1 and 2, when positioning the mask 12 at a predetermined position, the operator confirms the positions of the alignment marks 14 and 14 'and their target positions on the display device 52b, and the input device 52a. Is operated to input a command signal from the input device 52a to the processor 54 via the interface device 53 so that the alignment marks 14 and 14 'coincide with a predetermined target position.

【0058】プロセッサ54は作業者から指令信号が入
力されると、エンコーダ21b,22b,23bから入
力されるフィードバック信号に基づき、モータ21a,
22a,23aを駆動し、XYステージの位置およびθ
ステージの回転角度が作業者の指令信号に一致するよう
に制御する。ここで、上記のように、基準軸Rからロー
ラ41c,42c,43cの回転中心までの距離は等し
くLに設定されているので、図3、図4で説明したよう
に、X軸駆動機素21、X’軸駆動機素22、Y軸駆動
機素23の駆動ガイド21d,22d,23dをaだけ
等量移動させることにより、基準軸Rを移動させること
なくステージを回転させることができ、駆動ガイド21
d,22dをX軸方向に等量移動させることにより、ス
テージをX軸方向に移動させることができる。さらに、
駆動ガイド23dをY軸方向に移動させることにより、
ステージをY軸方向に移動させることができる。
When a command signal is input from the worker, the processor 54 receives the command signals from the motors 21a, 21b, 22b and 23b based on the feedback signals.
22a and 23a to drive the XY stage position and θ
The rotation angle of the stage is controlled so as to match the operator's command signal. Here, as described above, since the distances from the reference axis R to the rotation centers of the rollers 41c, 42c, 43c are set to be equal to L, as described with reference to FIG. 3 and FIG. By moving the drive guides 21d, 22d, and 23d of the 21, X′-axis driving element 22 and the Y-axis driving element 23 by an equal amount, the stage can be rotated without moving the reference axis R, Drive guide 21
The stage can be moved in the X-axis direction by moving d and 22d by the same amount in the X-axis direction. further,
By moving the drive guide 23d in the Y-axis direction,
The stage can be moved in the Y-axis direction.

【0059】なお、上記のように、作業者が表示装置5
2bに表示されるアライメント・マーク14,14’の
位置とその目標位置を見ながら入力装置52aを操作
し、XY方向の位置およびθ方向の回転角度を制御する
代わりに、プロセッサ54がアライメント・マーク1
4,14’の位置とその目標位置との差を求め、XY方
向の位置およびθ方向の回転角度を自動的に制御するこ
ともできる。この場合は、入力装置52aより制御指令
をプロセッサ54に入力し、表示装置52bにより位置
決めの結果を確認するだけでよい。
As described above, the operator is required to display the display device 5.
Instead of operating the input device 52a while controlling the position in the XY direction and the rotation angle in the θ direction while observing the positions of the alignment marks 14 and 14 'displayed on 2b and the target positions thereof, the processor 54 causes the alignment marks to move. 1
It is also possible to automatically control the position in the XY direction and the rotation angle in the θ direction by obtaining the difference between the position of 4, 14 ′ and its target position. In this case, it suffices to input a control command from the input device 52a to the processor 54 and confirm the positioning result on the display device 52b.

【0060】また、上記実施例においては、プロセッサ
によりステージを制御する例を示したが、本発明は、上
記実施例に限定されるものではなく、例えば、作業者が
アライメント・マークの拡大像を見ながら各軸の駆動機
素を操作してステージを位置決めしてもよい。図5は本
発明の第2の実施例を示す図であり、本実施例は、ステ
ージ16の縦横比を2:1とした実施例を示しており、
その他の構成は図1に示したものと同様であり、図1に
示したものと同一のものには同一の符号が付されてい
る。
Further, in the above embodiment, an example in which the processor controls the stage is shown, but the present invention is not limited to the above embodiment, and for example, an operator can display an enlarged image of the alignment mark. The stage may be positioned by operating the drive elements of the respective axes while looking. FIG. 5 is a diagram showing a second embodiment of the present invention. This embodiment shows an embodiment in which the aspect ratio of the stage 16 is 2: 1.
Other configurations are similar to those shown in FIG. 1, and the same components as those shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals.

【0061】本実施例のX軸ローラ保持部材41、X’
軸ローラ保持部材42のローラ41c、42cの回転中
心は同図に示すように、アライメント・マーク14,1
4’を結んだ直線上に配置され、基準軸Rからローラ4
3cの回転中心までの距離は、基準軸Rからローラ41
c,42cまでの距離の半分に設定されている。本実施
例において、ステージ16を回転させる場合には、駆動
ガイド21d,22dの移動量に対して、駆動ガイド2
3dの移動量を半分とする。これにより、第1の実施例
と同様、基準軸Rを移動させることなくステージを回転
させることができる。また、ステージのX軸方向、Y軸
方向の移動は、第1の実施例と同様である。
X-axis roller holding members 41, X'of this embodiment.
The center of rotation of the rollers 41c, 42c of the shaft roller holding member 42 is, as shown in FIG.
4'is arranged on a straight line connecting the reference axis R to the roller 4
The distance from the reference axis R to the roller 41
It is set to half of the distance to c and 42c. In this embodiment, when the stage 16 is rotated, the drive guide 2 is moved with respect to the movement amount of the drive guides 21d and 22d.
The amount of movement of 3d is halved. Thereby, as in the first embodiment, the stage can be rotated without moving the reference axis R. The movement of the stage in the X-axis direction and the Y-axis direction is the same as in the first embodiment.

【0062】なお、上記ステージの該縦横比は2:1に
限定されるものではなく任意の値とすることができる
が、ステージを回転させる際の駆動ガイド21d,22
d,23dの駆動量の演算を簡単にするため上記縦横比
を整数値とすることが望ましい。図6は本発明の第3の
実施例を示す図であり、本実施例は、図1に示した駆動
ガイドとローラに換え、直動ガイドと回転及びスライド
部材を用いたものである。
The aspect ratio of the stage is not limited to 2: 1 and can be set to an arbitrary value, but the drive guides 21d and 22 for rotating the stage are used.
In order to simplify the calculation of the drive amounts of d and 23d, it is desirable that the aspect ratio be an integer value. FIG. 6 is a view showing a third embodiment of the present invention. In this embodiment, a linear guide, a rotation and a slide member are used instead of the drive guide and the roller shown in FIG.

【0063】同図において、図1に示したものと同一の
ものには同一の符号が付されており、本実施例において
は、X軸、X’軸、Y軸駆動機素21,22,23に図
9に示したスライド軸21g,22g,23g(図9に
おけるスライド軸固定部30、スライド軸31に相当)
を取り付け、また、ステージ16に取り付けられたアー
ム61,62,63に図9に示した回転部材61a,6
2a,63a(図9におけるスライド軸受ケース33に
相当)を取り付けたものである。
In the figure, the same components as those shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and in the present embodiment, the X-axis, X'-axis, and Y-axis drive elements 21, 22, 22. Slide shafts 21g, 22g, 23g shown in FIG. 9 at 23 (corresponding to slide shaft fixing portion 30 and slide shaft 31 in FIG. 9)
And the rotating members 61a, 6 shown in FIG. 9 on the arms 61, 62, 63 attached to the stage 16.
2a and 63a (corresponding to the slide bearing case 33 in FIG. 9) are attached.

【0064】本実施例の動作は図1の示した第1の実施
例と同様であり、ステージ16を回転させる場合には、
X軸、X’軸、Y軸駆動機素21,22,23により、
基準軸Rを中心に回転させる方向にスライド軸21g,
22g,23gを等量移動させる。これにより、前記図
3に示したように、回転部材61a,62a,63aは
スライド軸21g,22g,23gに沿ってスライドし
ながら移動し、ステージ16が回転する。
The operation of this embodiment is similar to that of the first embodiment shown in FIG. 1. When the stage 16 is rotated,
With the X-axis, X'-axis, and Y-axis drive elements 21, 22, and 23,
Slide shaft 21g in the direction of rotation around the reference axis R,
Move 22g and 23g by the same amount. As a result, as shown in FIG. 3, the rotating members 61a, 62a, 63a move while sliding along the slide shafts 21g, 22g, 23g, and the stage 16 rotates.

【0065】また、ステージ16をX軸方向に移動させ
る場合には、X軸、X’軸駆動機素21,22により、
スライド軸21g,22gを等量移動させる。これによ
り、アーム61,62はX軸方向に移動するとともに、
アーム63の回転部材63aはスライド軸23gに沿っ
て移動し、ステージ16はX軸方向に移動する。また、
ステージ16をY軸方向に移動させる場合には、Y軸駆
動機素23により、スライド軸23gを移動させ、回転
及びスライド部材63a、アーム63をY軸方向に移動
させる。
When the stage 16 is moved in the X-axis direction, the X-axis and X'-axis drive elements 21 and 22 are used.
The slide shafts 21g and 22g are moved by the same amount. As a result, the arms 61 and 62 move in the X-axis direction,
The rotating member 63a of the arm 63 moves along the slide shaft 23g, and the stage 16 moves in the X-axis direction. Also,
When moving the stage 16 in the Y-axis direction, the slide shaft 23g is moved by the Y-axis drive element 23, and the rotation and slide member 63a and the arm 63 are moved in the Y-axis direction.

【0066】なお、上記実施例においては、本発明をマ
スクパターンの位置決めに適用した例を示したが、逆
に、ワークパターンの位置決めに適用することもでき
る。さらに、本発明の適用対象は上記実施例に限定され
るものではなく、例えば、顕微鏡等のその他の光学装
置、ステージ上のワークを加工する工作機械、スクリー
ン印刷機等の印刷装置、各種測定装置等、種々の装置に
適用することができる。
In the above embodiment, an example in which the present invention is applied to the positioning of the mask pattern has been shown, but conversely, it can be applied to the positioning of the work pattern. Further, the application target of the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and for example, other optical devices such as a microscope, machine tools for processing a work on a stage, printing devices such as screen printing machines, and various measuring devices. Etc. can be applied to various devices.

【0067】[0067]

【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、基準軸Rを含む第1の平面上に、ステージの第1お
よび第2の被駆動機素を設け、基準軸を含み第1の平面
に交わる第2の平面上に、ステージの第3の被駆動機素
を設け、また、上記第1および第2の平面と平行な方向
に移動可能に上記3つの被駆動機素と係合する駆動ガイ
ド21d,22d,23dを設け、上記駆動機素21,
22,23が上記駆動ガイドにより被駆動機素を第1、
第2の平面と直交する方向に移動させることにより、ス
テージを回転/移動させるように構成したので、次の効
果を得ることができる。 ステージをX,Y方向に移動させても、ステージの
回転中心は移動せず、また、ステージを回転させても、
XY軸の座標系は回転しないので、ステージの回転/移
動の制御を容易に行うことができる。 ステージを熱的に安定させることができ、温度が上
昇/下降する環境下で使用しても制御精度を損なうこと
がない。 第1、第2、第3の被駆動機素と基準軸間の距離を
等しくすれば、ステージ回転時の各軸駆動機素の移動量
を等しくすることができ、制御を簡単にすることができ
る。
As described above, in the present invention, the first and second driven elements of the stage are provided on the first plane including the reference axis R, and the first driven element including the reference axis is provided. A third driven element of the stage is provided on a second plane intersecting the plane, and the stage is engaged with the three driven elements movably in a direction parallel to the first and second planes. Drive guides 21d, 22d, 23d for
22 and 23 use the above-mentioned drive guide to set the driven element first,
Since the stage is configured to rotate / move by moving in a direction orthogonal to the second plane, the following effects can be obtained. Even if the stage is moved in the X and Y directions, the rotation center of the stage does not move, and even if the stage is rotated,
Since the coordinate system of the XY axes does not rotate, the rotation / movement of the stage can be easily controlled. The stage can be thermally stabilized, and control accuracy is not impaired even when used in an environment where the temperature rises / falls. If the distances between the first, second, and third driven elements and the reference axis are made equal, the amount of movement of each axis driving element when the stage rotates can be made equal, and control can be simplified. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例の制御システムの構成を示す図
である。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a control system according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の原理構成図である。FIG. 3 is a principle configuration diagram of the present invention.

【図4】本発明においてステージの移動/回転時の動作
を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an operation when the stage is moved / rotated in the present invention.

【図5】本発明の第2の実施例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3の実施例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a third embodiment of the present invention.

【図7】第1の従来例を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a first conventional example.

【図8】第2の従来例を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a second conventional example.

【図9】第2の従来例の駆動部の構成を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a drive unit of a second conventional example.

【図10】第2の従来例においてステージの移動/回転
時の動作を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing an operation during movement / rotation of a stage in the second conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ステージ装置 11 マスク・ホルダ 12 マスク 13 マスク・パターン 14,14’ アライメント・マー
ク 15 ベース 16 ステージ 21 X軸駆動機素 21a,22a,23a モータ 21b,22b,23b エンコーダ 21c,22c,23c 回転/直動変換機構 21d,22d,23d ガイド 21e,22e,23e 駆動機素取り付け部
材 21g,22g,23g スライド軸 22 X’軸駆動機素 23 Y軸駆動機素 24 平面案内部 41 X軸ローラ保持部材 42 X’軸ローラ保持部
材 43 Y軸ローラ保持部材 41c,42c,43c ローラ 41a,42a,43a 圧縮バネ 41b,42b,43b バネ支え 44,45 予備タップ 51 アライメント・マー
ク検出装置 52 入出力装置 52a 入力装置 52b 表示装置 53,57 インタフェース装置 54 プロセッサ 55 記憶装置 56 ドライバ 61 X軸アーム 62 X’軸アーム 63 Y軸アーム 61a,61b,61c 回転及びスライド部
10 Stage Device 11 Mask Holder 12 Mask 13 Mask Pattern 14, 14 'Alignment Mark 15 Base 16 Stage 21 X Axis Drive Element 21a, 22a, 23a Motor 21b, 22b, 23b Encoder 21c, 22c, 23c Rotation / Direction Motion conversion mechanism 21d, 22d, 23d Guide 21e, 22e, 23e Drive element attachment member 21g, 22g, 23g Slide shaft 22 X'-axis drive element 23 Y-axis drive element 24 Plane guide portion 41 X-axis roller holding member 42 X'-axis roller holding member 43 Y-axis roller holding member 41c, 42c, 43c Roller 41a, 42a, 43a Compression spring 41b, 42b, 43b Spring support 44, 45 Pre-tap 51 Alignment mark detection device 52 Input / output device 52a Input device 52b display device 53, 57 interface device 54 processor 55 storage device 56 driver 61 X-axis arm 62 X'-axis arm 63 Y-axis arm 61a, 61b, 61c rotation and slide member

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G12B 5/00 T 6947−2F Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI technical display location G12B 5/00 T 6947-2F

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも3つの駆動機素を備え、該駆
動機素により基準軸に対して垂直な平面内でステージを
2方向に直線移動させると共に、上記基準軸を中心に回
転させるステージ装置において、 上記基準軸を含む第1の平面上に、ステージの第1およ
び第2の被駆動機素を設け、 基準軸を含み第1の平面に交わる第2の平面上に、ステ
ージの第3の被駆動機素を設け、 また、上記第1および第2の平面と平行な方向に移動可
能に上記3つの被駆動機素と係合する駆動ガイドを設
け、 上記駆動機素が上記駆動ガイドにより被駆動機素を第
1、第2の平面と直交する方向に移動させることによ
り、ステージを回転/移動させることを特徴とするステ
ージ装置。
1. A stage device comprising at least three drive elements, wherein the drive elements linearly move the stage in two directions in a plane perpendicular to the reference axis and rotate the stage about the reference axis. The first and second driven elements of the stage are provided on the first plane including the reference axis, and the third and third stages of the stage are provided on the second plane including the reference axis and intersecting the first plane. A driven element is provided, and a drive guide that engages with the three driven elements is provided so as to be movable in a direction parallel to the first and second planes. A stage device characterized in that a stage is rotated / moved by moving a driven element in a direction orthogonal to the first and second planes.
【請求項2】 第1、第2、および第3の被駆動機素と
基準軸間の距離を等しくしたことを特徴とする請求項1
のステージ装置。
2. The first, second, and third driven elements and the reference axis are made equal in distance.
Stage equipment.
【請求項3】 被駆動機素をローラもしくはスライド部
材で構成し、駆動ガイドを平面としたことを特徴とする
請求項1または請求項2のステージ装置。
3. The stage device according to claim 1, wherein the driven element is constituted by a roller or a slide member, and the drive guide is a flat surface.
【請求項4】 被駆動機素を回転およびスライド部材で
構成し、駆動ガイドを直動ガイドとしたことを特徴とす
る請求項1または請求項2のステージ装置。
4. The stage apparatus according to claim 1, wherein the driven element is composed of a rotating member and a slide member, and the drive guide is a linear guide.
JP16918794A 1994-02-07 1994-07-21 Stage equipment Expired - Fee Related JP3275544B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16918794A JP3275544B2 (en) 1994-07-21 1994-07-21 Stage equipment
US08/388,051 US5660381A (en) 1994-02-07 1995-02-07 Carrier device
DE69500707T DE69500707T2 (en) 1994-02-07 1995-02-07 Holding device
EP95101645A EP0668606B1 (en) 1994-02-07 1995-02-07 Carrier device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16918794A JP3275544B2 (en) 1994-07-21 1994-07-21 Stage equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0825163A true JPH0825163A (en) 1996-01-30
JP3275544B2 JP3275544B2 (en) 2002-04-15

Family

ID=15881849

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16918794A Expired - Fee Related JP3275544B2 (en) 1994-02-07 1994-07-21 Stage equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3275544B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1223471A1 (en) * 2000-12-27 2002-07-17 Sanei Giken Co., Ltd. Substrate positioning apparatus and exposure apparatus
US6525804B1 (en) 1999-06-08 2003-02-25 Ushiodenki Kabushiki Kaisha Exposure device capable of aligning while moving mask
JP2006094185A (en) * 2004-09-24 2006-04-06 Pentax Corp Stage driving mechanism
WO2021161872A1 (en) * 2020-02-13 2021-08-19 Thk株式会社 Alignment device and actuator

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6525804B1 (en) 1999-06-08 2003-02-25 Ushiodenki Kabushiki Kaisha Exposure device capable of aligning while moving mask
EP1223471A1 (en) * 2000-12-27 2002-07-17 Sanei Giken Co., Ltd. Substrate positioning apparatus and exposure apparatus
KR100469987B1 (en) * 2000-12-27 2005-02-04 산에이 기껜 가부시키가이샤 Substrate positioning apparatus and exposure apparatus
JP2006094185A (en) * 2004-09-24 2006-04-06 Pentax Corp Stage driving mechanism
JP4647273B2 (en) * 2004-09-24 2011-03-09 Hoya株式会社 Stage drive mechanism
WO2021161872A1 (en) * 2020-02-13 2021-08-19 Thk株式会社 Alignment device and actuator

Also Published As

Publication number Publication date
JP3275544B2 (en) 2002-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8104752B2 (en) Integrated large XY rotary positioning table with virtual center of rotation
JP4803959B2 (en) Test probe alignment device
JP4656334B2 (en) Alignment device
JP3814453B2 (en) Positioning apparatus, semiconductor exposure apparatus, and device manufacturing method
JPH07254555A (en) Aligner
KR100971586B1 (en) Alignment device, method for resetting origin of alignment device, and turn table, translation table, machine and machine control system equipped with alignment device
JPS62276612A (en) Positioning apparatus
JP3963410B2 (en) Positioning apparatus and exposure apparatus using the same
JP4826584B2 (en) Translational and two-degree-of-freedom stage device and three-degree-of-freedom stage device using the same
JP3481540B2 (en) Stage equipment
EP0668606B1 (en) Carrier device
JP3275544B2 (en) Stage equipment
JP2004069703A (en) Table for measuring coordinates
JPH07219636A (en) Stage device
JPH0434166B2 (en)
US6166812A (en) Stage apparatus
JP5292668B2 (en) Shape measuring apparatus and method
JPH06222837A (en) Stage positioning control method and stage positioning device
JP6709994B2 (en) Stage equipment
JP7422524B2 (en) Stage device, exposure device, and article manufacturing method
JPH08241849A (en) Aligner
JPH1123751A (en) Xytheta stage and controller of the xytheta stage
JP2003149362A (en) Moving device
JPH0353195Y2 (en)
JPH1074687A (en) Stage device

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080208

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090208

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090208

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100208

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100208

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110208

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120208

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130208

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130208

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140208

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees