JPH08245634A - Cephem compound and its production - Google Patents
Cephem compound and its productionInfo
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- JPH08245634A JPH08245634A JP7079492A JP7949295A JPH08245634A JP H08245634 A JPH08245634 A JP H08245634A JP 7079492 A JP7079492 A JP 7079492A JP 7949295 A JP7949295 A JP 7949295A JP H08245634 A JPH08245634 A JP H08245634A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は一般式(1)で示される
3環性β−ラクタム化合物及びその製造法に関する。本
発明の化合物は文献未載の新規化合物で抗菌活性を示し
医療分野で有用な化合物である。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a tricyclic β-lactam compound represented by the general formula (1) and a process for producing the same. The compound of the present invention is a novel compound which has not been published in the literature and exhibits antibacterial activity and is useful in the medical field.
【0002】[0002]
【従来の技術】数多くのセフェム化合物が知られている
が、一般式(1)で示される3環性β−ラクタム化合物
及びこれらの化合物の製造法は知られていない。また、
一般式(2)で示される合成中間体の製造法としては、
従来、式(A)に示すように種々の銅塩とアルケニルリ
チウム試薬から調製される有機銅化合物(アルケニルキ
ュープレート試薬)を用いる反応が知られている。例え
ばJ.Org.Chem.,58,2296(1993)、T
etrahedron Lett. 31,3389(1990)、Tet
rahedron Lett. 33,3565(1992)等。式
(A)BACKGROUND OF THE INVENTION Many cephem compounds are known, but the tricyclic β-lactam compound represented by the general formula (1) and the method for producing these compounds are not known. Also,
As a method for producing the synthetic intermediate represented by the general formula (2),
Conventionally, a reaction using an organic copper compound (alkenyl cuprate reagent) prepared from various copper salts and an alkenyllithium reagent as shown in formula (A) is known. For example, J. Org. Chem., 58, 2296 (1993), T
etrahedron Lett. 31, 3389 (1990), Tet
rahedron Lett. 33, 3565 (1992) and the like. Formula (A)
【0003】[0003]
【化5】 しかしながら、−78℃前後の極低温の反応を行なう必
要があり、しかも生成物が分離困難なΔ3オレフィンと
Δ2オレフィンの混合物として得られる等の問題点を抱
えているためとても実用に供せられる方法ではない。Embedded image However, since it is necessary to carry out a reaction at an extremely low temperature of about −78 ° C., and the product is obtained as a mixture of Δ3 olefin and Δ2 olefin which is difficult to separate, it has a problem that it is very practical. is not.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はより優
れた抗菌活性を有し、医薬として有効なセフェム化合物
及びその製造法を提供することにある。DISCLOSURE OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a cephem compound having more excellent antibacterial activity and effective as a medicine, and a method for producing the same.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は一般式(1)で
表されるセフェム化合物及びその製造法に係る。The present invention relates to a cephem compound represented by the general formula (1) and a method for producing the same.
【0006】[0006]
【化6】 〔式中R1はアミノ基、保護されたアミノ基又は水素原
子を示す。R2は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコ
キシ基、低級アシル基又は置換基として水酸基もしくは
保護された水酸基を有する低級アルキル基を示す。R3
は水素原子又はカルボン酸保護基を示す。Ra、Rb、R
cは水素原子又は置換基を有することのある低級アルキ
ル基もしくはアリール基を示す。X、Yはそれぞれ酸素
原子、置換基を有する炭素原子又は置換基を有する窒素
原子を示し、X及びYは1重結合又は2重結合により結
合している。〕[Chemical 6] [In the formula, R 1 represents an amino group, a protected amino group or a hydrogen atom. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkoxy group, a lower acyl group or a lower alkyl group having a hydroxyl group or a protected hydroxyl group as a substituent. R 3
Represents a hydrogen atom or a carboxylic acid protecting group. Ra, Rb, R
c represents a hydrogen atom or a lower alkyl group or aryl group which may have a substituent. X and Y each represent an oxygen atom, a carbon atom having a substituent or a nitrogen atom having a substituent, and X and Y are bonded by a single bond or a double bond. ]
【0007】本発明の一般式(1)で表されるセフェム
化合物は例えば一般式(2)で表されるセフェム化合物
に、一般式(3)で表されるジエノファイルを作用させ
ることにより製造することができる。The cephem compound represented by the general formula (1) of the present invention is produced, for example, by reacting the cephem compound represented by the general formula (2) with the dienophile represented by the general formula (3). can do.
【0008】[0008]
【化7】 〔式中R1はアミノ基、保護されたアミノ基又は水素原
子を示す。R2は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコ
キシ基、低級アシル基又は置換基として水酸基もしくは
保護された水酸基を有する低級アルキル基を示す。R3
は水素原子又はカルボン酸保護基を示す。Ra、Rb、R
cは水素原子又は置換基を有することのある低級アルキ
ル基もしくはアリール基を示す。〕[Chemical 7] [In the formula, R 1 represents an amino group, a protected amino group or a hydrogen atom. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkoxy group, a lower acyl group or a lower alkyl group having a hydroxyl group or a protected hydroxyl group as a substituent. R 3
Represents a hydrogen atom or a carboxylic acid protecting group. Ra, Rb, R
c represents a hydrogen atom or a lower alkyl group or aryl group which may have a substituent. ]
【0009】Xa … Ya (3) 〔式中Xa、Yaはそれぞれ酸素原子、置換基を有するこ
とのある炭素原子又は置換基を有することのある窒素原
子を示し、Xa及びYaは2重結合又は3重結合により結
合している。〕Xa ... Ya (3) [In the formula, Xa and Ya each represent an oxygen atom, a carbon atom which may have a substituent or a nitrogen atom which may have a substituent, and Xa and Ya are double bonds or They are linked by triple bonds. ]
【0010】また、本発明の出発原料である一般式
(2)で表されるセフェム化合物は例えば一般式(4)
で表される3−スルホニルオキシセフェム化合物を金属
銅又は銅化合物存在下、一般式(5)で表される有機錫
化合物と反応させることにより製造することができる。Further, the cephem compound represented by the general formula (2), which is the starting material of the present invention, is, for example, the general formula (4)
It can be produced by reacting a 3-sulfonyloxycephem compound represented by the formula (3) with an organotin compound represented by the general formula (5) in the presence of metallic copper or a copper compound.
【0011】[0011]
【化8】 〔式中R1、R2及びR3は上記に同じ。R4はハロゲン原
子又は置換基を有することのある脂肪族炭化水素基、脂
環式炭化水素基もしくは芳香族の炭化水素基を示す。〕Embedded image [Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as above. R 4 represents a halogen atom or an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group. ]
【0012】[0012]
【化9】 〔式中R5は置換基を有することのある脂肪族炭化水素
基、脂環式炭化水素基又は芳香族の炭化水素を示す。R
a、Rb及びRcは水素原子又は置換基を有することのあ
る低級アルキル基又はアリール基を示す。〕[Chemical 9] [In the formula, R 5 represents an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon. R
a, Rb and Rc represent a hydrogen atom or a lower alkyl group or aryl group which may have a substituent. ]
【0013】上記一般式(2)の化合物の製造法により
オレフィンの異性体を全く含まない一般式(2)の化合
物を得ることができる。本明細書において示される各基
は、より具体的にはそれぞれ次の通りである。R1で示
される保護されたアミノ基としては、プロテクティブグ
ループインオーガニックシンセシス(Protective Gro
ups in Organic Synthesis, Theodora W.Greene
著、1981年、以下単に「文献」という)の第7章
(第218〜287頁)に記載されている各種の基の
他、フェノキシアセトアミド、p−メチルフェノキシア
セトアミド、p−メトキシフェノキシアセトアミド、p
−クロロフェノキシアセトアミド、p−ブロモフェノキ
シアセトアミド、フェニルアセトアミド、p−メチルフ
ェニルアセトアミド、p−メトキシフェニルアセトアミ
ド、p−クロロフェニルアセトアミド、p−ブロモフェ
ニルアセトアミド、フェニルモノクロロアセトアミド、
フェニルジクロロアセトアミド、フェニルヒドロキシア
セトアミド、チエニルアセトアミド、フェニルアセトキ
シアセトアミド、α−オキソフェニルアセトアミド、ベ
ンズアミド、p−メチルベンズアミド、p−メトキシベ
ンズアミド、p−クロロベンズアミド、p−ブロモベン
ズアミド、フェニルグリシルアミドやアミノ基の保護さ
れたフェニルグリシルアミド、p−ヒドロキシフェニル
グリシルアミドやアミノ基及び水酸基の一方又は両方が
保護されたp−ヒドロキシフェニルグリシルアミド等の
アミド類、フタルイミド、ニトロフタルイミド等のイミ
ド類を例示できる。フェニルグリシルアミド及びp−ヒ
ドロキシフェニルグリシルアミドのアミノ基の保護基と
しては、上記文献の第7章(第218〜287頁)に記
載されている各種基を例示できる。また、p−ヒドロキ
シフェニルグリシルアミドの水酸基の保護基としては、
上記文献の第2章(第10〜72頁)に記載されている
各種基を例示できる。The compound of the general formula (2) containing no olefin isomer can be obtained by the method for producing the compound of the general formula (2). Each group shown in the present specification is more specifically as follows. Examples of the protected amino group represented by R 1 include Protective Group in Organic Synthesis (Protective Gro).
ups in Organic Synthesis, Theodora W. Greene
In addition to various groups described in Chapter 7 (pages 218 to 287) of 1981, hereinafter simply referred to as "references", phenoxyacetamide, p-methylphenoxyacetamide, p-methoxyphenoxyacetamide, p.
-Chlorophenoxyacetamide, p-bromophenoxyacetamide, phenylacetamide, p-methylphenylacetamide, p-methoxyphenylacetamide, p-chlorophenylacetamide, p-bromophenylacetamide, phenylmonochloroacetamide,
Phenyldichloroacetamide, phenylhydroxyacetamide, thienylacetamide, phenylacetoxyacetamide, α-oxophenylacetamide, benzamide, p-methylbenzamide, p-methoxybenzamide, p-chlorobenzamide, p-bromobenzamide, phenylglycylamide and amino groups Protected phenylglycylamide, p-hydroxyphenylglycylamide, amides such as p-hydroxyphenylglycylamide having one or both amino groups and hydroxyl groups protected, and imides such as phthalimide and nitrophthalimide. It can be illustrated. Examples of the protecting group for the amino group of phenylglycylamide and p-hydroxyphenylglycylamide include various groups described in Chapter 7 (pages 218 to 287) of the above-mentioned document. Further, as a protective group for the hydroxyl group of p-hydroxyphenylglycylamide,
The various groups described in Chapter 2 (pages 10 to 72) of the above literature can be exemplified.
【0014】R2で示されるハロゲン原子とは例えば、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などの原子を挙げることが
できる。R2で示される低級アルコキシ基としては、例
えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロ
ポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキ
シ、tert−ブトキシなどの直鎖又は分枝状のC1〜C4の
アルコキシ基を例示できる。R2で示される低級アシル
基としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリルなどの直鎖又は分枝状のC
1〜C4のアシル基を例示できる。The halogen atom represented by R 2 is, for example,
Atoms such as fluorine, chlorine, bromine and iodine can be mentioned. Examples of the lower alkoxy group represented by R 2 include linear or branched C 1 -C such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, sec-butoxy and tert-butoxy. The alkoxy group of 4 can be illustrated. Examples of the lower acyl group represented by R 2 include linear or branched C such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl and isobutyryl.
An acyl group having 1 -C 4 can be exemplified.
【0015】R2で示される水酸基又は保護された水酸
基を置換基として有する低級アルキル基の保護された水
酸基、およびR2で示される保護された水酸基の保護基
としては、上記文献の第2章(第10〜72頁)に記載
されている基を例示できる。R2で示される上記置換低
級アルキル基は、水酸基又は上記で示される保護された
水酸基の中から選ばれる同一又は異なる種類の置換基
で、同一又は異なる炭素上に1つ以上置換されていても
よい。低級アルキル基としては、例えば、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブ
チル、sec−ブチル、tert−ブチルなどの直鎖または分
枝状のC1〜C4のアルキル基を挙げることができる。The protected hydroxyl group of a lower alkyl group having a hydroxyl group represented by R 2 or a protected hydroxyl group as a substituent and the protected group of a protected hydroxyl group represented by R 2 are described in Chapter 2 of the above-mentioned document. Examples thereof include the groups described in (Pages 10 to 72). The substituted lower alkyl group represented by R 2 is the same or different kind of substituent selected from a hydroxyl group or a protected hydroxyl group shown above, and may be substituted on the same or different carbons by one or more. Good. Examples of the lower alkyl group include linear or branched C 1 -C 4 alkyl groups such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl and tert-butyl. be able to.
【0016】R3で示されるカルボン酸の保護基として
は、上記文献の第5章(第152〜192頁)に示され
ている各種基の他、アリル基、ベンジル基、p−メトキ
シベンジル基、p−ニトロベンジル基、ジフェニルメチ
ル基、トリクロロメチル基、tert−ブチル基等を例示で
きる。R4で示されるハロゲン原子の種類としては、フ
ッ素、塩素、臭素、ヨウ素が例示できるが、好ましくは
フッ素、塩素を用いるのがよい。Examples of the protecting group for carboxylic acid represented by R 3 include allyl group, benzyl group, p-methoxybenzyl group, in addition to various groups shown in Chapter 5 (pages 152 to 192) of the above-mentioned document. , P-nitrobenzyl group, diphenylmethyl group, trichloromethyl group, tert-butyl group and the like. Examples of the type of halogen atom represented by R 4 include fluorine, chlorine, bromine and iodine, but fluorine and chlorine are preferably used.
【0017】R4で示される置換基を有することのある
脂肪族、脂環式、または芳香族の炭化水素基としては、
C1〜C4の直鎖もしくは分枝鎖状アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基等)、アルケニル基(例えばアリル基
またはブテニル基等)等の脂肪族炭化水素基、C3〜C8
のシクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基等)等の脂環式炭化水素基、フェニル基、ナ
フチル基等の芳香族炭化水素基などが例示できる。これ
らの炭化水素基に置換していてもよい置換基の種類とし
ては、例えばハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等)、C1〜C4の直鎖もしく
は分枝鎖状アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基等)、C1〜C4の直鎖もしくは分枝鎖状アルキルチオ
基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基等)、C1〜C4
の直鎖もしくは分枝鎖状アルキル基(例えばメチル基、
エチル基等)、アミノ基、置換基としてC1〜C4の直鎖
もしくは分枝鎖状アルキル基を1個又は2個有するアミ
ノ基(例えばメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等)、
水酸基、R'COO−(R'はフェニル基、トリル基又は
C1〜C4の直鎖もしくは分枝鎖状アルキル基)で表され
るアシルオキシ基(例えばフェニルカルボニルオキシ
基、アセチルオキシ基等)、R'CO−(R'は上記に同
じ)で表されるアシル基(例えばフェニルカルボニル
基、アセチル基等)、ニトロ基、シアノ基、フェニル基
等を例示できる。これらの置換基はR4で示される炭化
水素基に1〜5個、特に1〜3個、同一又は異なる種類
で置換されていてもよい。R4として、好ましくはメチ
ル、エチル、トリフルオロメチル、トリル、フェニルを
用いるのが良い。As the aliphatic, alicyclic or aromatic hydrocarbon group which may have a substituent represented by R 4 ,
Aliphatic hydrocarbon groups such as C 1 to C 4 linear or branched alkyl groups (eg, methyl group, ethyl group, etc.), alkenyl groups (eg, allyl group, butenyl group, etc.), C 3 to C 8
Examples thereof include alicyclic hydrocarbon groups such as cycloalkyl groups (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group) and aromatic hydrocarbon groups such as phenyl group and naphthyl group. Examples of the kind of the substituent which may be substituted on these hydrocarbon groups include a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like), a C 1 to C 4 straight chain or a branched chain. -Like alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, etc.), C 1 -C 4 linear or branched alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, etc.), C 1 -C 4
A straight chain or branched chain alkyl group (for example, a methyl group,
An ethyl group), an amino group, an amino group having one or two C 1 to C 4 linear or branched alkyl groups as a substituent (for example, a methylamino group, a diethylamino group, etc.),
An acyloxy group represented by a hydroxyl group, R'COO- (R 'is a phenyl group, a tolyl group or a C 1 to C 4 linear or branched alkyl group) (for example, a phenylcarbonyloxy group, an acetyloxy group, etc.) , R'CO- (R 'is the same as above), such as an acyl group (eg, phenylcarbonyl group, acetyl group, etc.), nitro group, cyano group, phenyl group and the like. These substituents may be substituted on the hydrocarbon group represented by R 4 by 1 to 5, especially 1 to 3, the same or different types. As R 4 , methyl, ethyl, trifluoromethyl, tolyl or phenyl is preferably used.
【0018】R5で示される置換基を有することのある
脂肪族、脂環式、または芳香族の炭化水素基としては、
C1〜C4の直鎖もしくは分枝鎖状アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、n−プロピル、n−ブチル等)、ア
ルケニル基(例えばアリル基またはブテニル基等)等の
脂肪族炭化水素基、C3〜C8のシクロアルキル基(例え
ばシクロペンチル基、シクロアキシル基等)等の脂環式
炭化水素基、フェニル基、ナフチル基等の芳香族炭化水
素基などが例示できる。これらの炭化水素基に置換して
いてもよい置換基の種類としては上記R4に置換しても
よい置換基がそのまま用いられる。これらの置換基はR
5で示される炭化水素基に1〜5個、特に1〜3個、同
一又は異なる種類で置換されていてもよい。R5とし
て、好ましくはメチル、エチル、n−プロピル、n−ブ
チル、トリル、フェニルを用いるのが良い。The aliphatic, alicyclic or aromatic hydrocarbon group which may have a substituent represented by R 5 is:
Aliphatic hydrocarbons such as C 1 to C 4 linear or branched alkyl groups (eg, methyl group, ethyl group, n-propyl, n-butyl, etc.), alkenyl groups (eg, allyl group, butenyl group, etc.) Groups, alicyclic hydrocarbon groups such as C 3 to C 8 cycloalkyl groups (eg, cyclopentyl group, cycloaxyl group, etc.), aromatic hydrocarbon groups such as phenyl group, naphthyl group, etc. As the kind of the substituent which may be substituted on these hydrocarbon groups, the substituent which may be substituted on the above R 4 is used as it is. These substituents are R
The hydrocarbon group represented by 5 may be substituted with 1 to 5, especially 1 to 3, the same or different types. As R 5 , methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl, tolyl or phenyl is preferably used.
【0019】Ra,Rb,Rcで示される置換基を有する
ことのある低級アルキル基、アリール基としては、C1
〜C4の直鎖もしくは分枝鎖状アルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基等)、アルケニル基(例えばアリル基ま
たはブテニル基等)等の脂肪族炭化水素基、C3〜C8の
シクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シクロヘ
キシル基等)等の脂環式炭化水素基、フェニル基、ナフ
チル基等の芳香族炭化水素基などが例示できる。これら
の炭化水素基に置換していてもよい置換基の種類として
は、上記R4に置換してもよい置換基がそのまま用いら
れる。The lower alkyl group and aryl group which may have a substituent represented by Ra, Rb and Rc include C 1
To C 4 linear or branched alkyl groups (eg, methyl group, ethyl group, etc.), alkenyl groups (eg, allyl group, butenyl group, etc.), and other aliphatic hydrocarbon groups, C 3 -C 8 cycloalkyl Examples thereof include alicyclic hydrocarbon groups such as groups (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), aromatic hydrocarbon groups such as phenyl group, naphthyl group, etc. As the kind of the substituent which may be substituted on these hydrocarbon groups, the substituent which may be substituted on the above R 4 is used as it is.
【0020】一般式(3)の化合物において、Xa、Ya
はそれぞれ酸素原子、置換基を有する炭素原子又は置換
基を有する窒素原子を示し、Xa及びYaは2重結合又は
3重結合により結合している。(Xa,Ya)の組み合わ
せとして、Xa及びYa(Xa,Ya)が2重結合で結合し
ている場合は、(C=C),(N=O),(O=N),
(N=N)の組み合わせを示すことができる。またXa
及びYa(Xa,Ya)が3重結合で結合している場合
は、(C≡C),(C≡N),(N≡C)の組み合わせ
を示すことができる。In the compound of the general formula (3), Xa, Ya
Each represents an oxygen atom, a carbon atom having a substituent or a nitrogen atom having a substituent, and Xa and Ya are bonded by a double bond or a triple bond. As a combination of (Xa, Ya), when Xa and Ya (Xa, Ya) are linked by a double bond, (C = C), (N = O), (O = N),
A combination of (N = N) can be shown. Also Xa
And Ya (Xa, Ya) are bound by a triple bond, a combination of (C≡C), (C≡N) and (N≡C) can be shown.
【0021】Xa,Yaに置換していてもよい置換基の種
類としては、上記R4に置換してもよい置換基のほか、
ホルミル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基
R'OCO−(例えばメトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基等)、COCl,COAr,Ar,CH2O
H,CH2Cl,CH2NH2,CH2CN,CH2COOH
(Arはアリール基)等が例示できる。これらの置換基
は1個ないし2個、同一のXa,Ya上に置換していても
よい。一般式(3)の具体的な化合物としては例えばア
クロレイン、メチルアクロレイン、3−ビニル−3−セ
フェム、3−ビニル−2−セフェム、ジエチルアゾジカ
ルボキシレート、ニトロソベンゼン、アセチレンジカル
ボン酸ジメチルエステル等を挙げることができる。The types of substituents which may be substituted on Xa and Ya include, in addition to the substituents which may be substituted on R 4 described above,
Formyl group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group R'OCO- (e.g. methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), COCl, COAr, Ar, CH 2 O
H, CH 2 Cl, CH 2 NH 2 , CH 2 CN, CH 2 COOH
(Ar is an aryl group) and the like. One or two of these substituents may be substituted on the same Xa and Ya. Specific compounds of the general formula (3) include, for example, acrolein, methylacrolein, 3-vinyl-3-cephem, 3-vinyl-2-cephem, diethylazodicarboxylate, nitrosobenzene, acetylenedicarboxylic acid dimethyl ester and the like. Can be mentioned.
【0022】本発明で使用される一般式(4)で表され
る3−スルホニルオキシセフェム化合物は、公知の化合
物であり、例えばJ.Org.Chem.,54,4962
(1989)やRecent Advances in the Chemistry
of β−Lactam Antibiotics(1988)に記載され
た方法に従って容易に製造される。すなわち、一般式
(6)で表されるβ−ラクタム化合物を不活性溶媒中、
塩基存在下スルホニルハライドもしくはスルホン酸無水
物と作用させることにより一般式(4)の化合物を得る
ことができる。The 3-sulfonyloxycephem compound represented by the general formula (4) used in the present invention is a known compound. Org. Chem., 54, 4962
(1989) and Recent Advances in the Chemistry
It is easily produced according to the method described in of β-Lactam Antibiotics (1988). That is, the β-lactam compound represented by the general formula (6) in an inert solvent,
The compound of the general formula (4) can be obtained by reacting with a sulfonyl halide or a sulfonic anhydride in the presence of a base.
【0023】[0023]
【化10】 〔式中R1、R2及びR3は前記と同じ。〕[Chemical 10] [In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined above. ]
【0024】具体的には、この反応は適当な溶媒中で行
なわれる。使用できる溶媒としては、例えばメタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノール、tert−ブタノール等のアルコール類、蟻酸メ
チル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピ
オン酸メチル、プロピオン酸エチル等の低級カルボン酸
の低級アルキルエステル類、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、ジエチルケトン等のケトン類、
ジエチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルブ
チルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、ジブチルエーテル、メチルセロソルブ、ジメト
キシエタン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジオキソラン等の環状エーテル類、アセトニト
リル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロ
ニトリル、バレロニトリル等のニトリル類、ベンゼン、
トルエン、キシレン、クロロベンゼン、アニソール等の
置換もしくは非置換の芳香族炭化水素類、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタ
ン、ジブロモエタン、プロピレンジクロライド、四塩化
炭素、フロン類等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、
シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シ
クロオクタン等のシクロアルカン類、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルス
ルホキシド等を挙げることができる。これらは1種単独
で又は2種以上混合して使用される。またこれらの有機
溶媒には、必要に応じて水が含有されていてもよい。こ
れらの溶媒は、一般式(6)の化合物1kg当たり、通常
10〜200リットル程度、好ましくは20〜100リ
ットル程度使用されるのがよい。上記反応の反応温度
は、通常−78〜60℃程度、好ましくは−40〜30
℃程度である。用いる塩基の種類としては、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素リチウム、炭酸リチウム等の無機塩
基、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、エチル
ジイソプロピルアミン、トリブチルアミン、1,5−ジ
アザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)、1,
8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DB
U)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン
(Dabco)、N−メチルピペリジン、2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン、N−メチルモルホリン、N,N
−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルアミノピリジン
等の有機塩基が例示できる。これらのアミンは単独また
は2種以上の混合物として用いられる。上記反応におけ
る塩基の使用量としては、通常一般式(6)で表される
β−ラクタム化合物に対して1〜10当量でよいが、必
要ならば更に一般式(6)で表されるβ−ラクタム化合
物がなくなるまで塩基を追加するのがよい。一般式
(4)で表される3−スルホニルセフェム化合物は通常
の精製方法によって単離できるがそのまま次の反応に用
いることもできる。Specifically, this reaction is carried out in a suitable solvent. Examples of the solvent that can be used include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, and tert-butanol, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, propione. Methyl acid, lower alkyl esters of lower carboxylic acids such as ethyl propionate, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, etc.,
Diethyl ether, ethyl propyl ether, ethyl butyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, methyl cellosolve, ethers such as dimethoxyethane, cyclic ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, dioxolane, acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, iso Nitriles such as butyronitrile, valeronitrile, benzene,
Toluene, xylene, chlorobenzene, substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbons such as anisole, dichloromethane, chloroform, dichloroethane, trichloroethane, dibromoethane, propylene dichloride, carbon tetrachloride, halogenated hydrocarbons such as freons, pentane,
Aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane;
Examples thereof include cycloalkanes such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and cyclooctane, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, and dimethyl sulfoxide. These may be used alone or in combination of two or more. Further, these organic solvents may contain water as needed. These solvents are generally used in an amount of about 10 to 200 liters, preferably about 20 to 100 liters, per 1 kg of the compound of the general formula (6). The reaction temperature of the above reaction is usually about −78 to 60 ° C., preferably −40 to 30.
It is about ℃. Examples of the type of base used include inorganic bases such as sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, potassium carbonate, lithium hydrogen carbonate and lithium carbonate, triethylamine, diisopropylamine, ethyldiisopropylamine, tributylamine, 1,5-diazabicyclo [ 4.3.0] Nonene-5 (DBN), 1,
8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DB
U) 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (Dabco), N-methylpiperidine, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, N-methylmorpholine, N, N
Examples thereof include organic bases such as -dimethylaniline and N, N-dimethylaminopyridine. These amines are used alone or as a mixture of two or more kinds. The amount of the base used in the above reaction is usually 1 to 10 equivalents with respect to the β-lactam compound represented by the general formula (6), but if necessary, β-lactam compound represented by the general formula (6) is further used. It is advisable to add more base until the lactam compound is gone. The 3-sulfonylcephem compound represented by the general formula (4) can be isolated by an ordinary purification method, but can be used as it is in the next reaction.
【0025】用いるスルホニルハライドの種類としては
フルオロスルホニルクロリド等のハロゲン化スルホニル
ハライド、塩化メタンスルホニル、臭化メタンスルホニ
ル、塩化トリフルオロメタンスルホニル、塩化エタンス
ルホニル等のハロゲン化低級アルキルスルホニル、塩化
ベンゼンスルホニル、塩化トルエンスルホニル等のハロ
ゲン化アリールスルホニル等を例示できるが、好ましく
は塩化メタンスルホニル、臭化メタンスルホニル、塩化
トリフルオロメタンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニ
ル、塩化トルエンスルホニルトルエンスルホン酸ブロマ
イドを用いるのがよい。用いるスルホン酸無水物として
は、メタンスルホン酸無水物、エタンスルホン酸無水
物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物等の低級アル
キルスルホン酸無水物、ベンゼンスルホン酸無水物、ト
ルエンスルホン酸無水物等のアリールスルホン酸無水物
が例示できるが好ましくは、メタンスルホン酸無水物、
トリフルオロメタンスルホン酸無水物、ベンゼンスルホ
ン酸無水物、トルエンスルホン酸無水物を用いるのがよ
い。上記反応におけるスルホニルハライドまたはスルホ
ン酸無水物の使用量としては、通常一般式(6)で表さ
れるβ−ラクタム化合物に対して1〜10当量でよい
が、必要ならば更に一般式(6)で表されるβ−ラクタ
ム化合物がなくなるまで塩基を追加するのがよい。The type of sulfonyl halide used includes halogenated sulfonyl halides such as fluorosulfonyl chloride, lower alkylsulfonyl halides such as methanesulfonyl chloride, methanesulfonyl bromide, trifluoromethanesulfonyl chloride, and ethanesulfonyl chloride, benzenesulfonyl chloride, and chloride. Examples thereof include arylsulfonyl halides such as toluenesulfonyl, and preferably methanesulfonyl chloride, methanesulfonyl bromide, trifluoromethanesulfonyl chloride, benzenesulfonyl chloride, and toluenesulfonyltoluenesulfonic acid bromide are preferably used. Examples of the sulfonic acid anhydride used include lower alkyl sulfonic acid anhydrides such as methanesulfonic acid anhydride, ethanesulfonic acid anhydride, and trifluoromethanesulfonic acid anhydride, benzenesulfonic acid anhydride, and arylsulfone such as toluenesulfonic acid anhydride. An acid anhydride can be exemplified, but preferably, methanesulfonic acid anhydride,
It is preferable to use trifluoromethanesulfonic anhydride, benzenesulfonic anhydride, or toluenesulfonic anhydride. The amount of the sulfonyl halide or sulfonic anhydride used in the above reaction may be usually 1 to 10 equivalents relative to the β-lactam compound represented by the general formula (6), but if necessary, the general formula (6) It is preferable to add a base until the β-lactam compound represented by
【0026】本発明では、一般式(4)で表される3−
スルホニルセフェム化合物に金属銅又は銅化合物存在
下、一般式(5)で表される有機錫化合物を反応させる
ことにより一般式(2)で表される3−アルケニルセフ
ェム化合物を製造することが出来る。In the present invention, 3- represented by the general formula (4) is used.
A 3-alkenylcephem compound represented by the general formula (2) can be produced by reacting a sulfonylcephem compound with an organotin compound represented by the general formula (5) in the presence of metallic copper or a copper compound.
【0027】銅化合物としては、塩化銅(I)、臭化銅
(I)、ヨウ化銅(I)等のハロゲン化銅(I)化合
物、酸化銅(I)等の銅(I)無機塩類、シアン化銅等
の銅(I)有機塩類、塩化銅(II)、臭化銅(II)、ヨ
ウ化銅(II)等のハロゲン化銅(II)化合物、硝酸銅
(II)、硫酸銅等の無機銅(II)化合物、酢酸銅、シュ
ウ酸銅、ステアリン酸銅等の有機酸銅(II)塩等が例示
出来る。これらの銅化合物は1種単独でまたは2種以上
混合して使用されるが、好ましくは金属銅、ハロゲン化
銅(I)塩、ハロゲン化銅(II)化合物が使用される。
金属銅もしくは銅化合物の使用量としては通常、一般式
(4)の化合物に対して1〜10当量で反応は終結する
が、必要に応じて一般式(4)の化合物がなくなるまで
加えるのがよい。本反応は、添加物の存在により反応収
率が向上する場合もある。添加物の種類としては、ピリ
ジン、ジピリジル、ターピリジル等のピリジン化合物が
挙げられる。As the copper compound, copper (I) halide, such as copper (I) chloride, copper (I) bromide, copper (I) iodide, etc., and copper (I) inorganic salts, such as copper (I) oxide, etc. , Copper (I) organic salts such as copper cyanide, copper (II) chloride, copper (II) bromide, copper (II) halides such as copper (II) iodide, copper (II) nitrate, copper sulfate Examples thereof include inorganic copper (II) compounds, and organic acid copper (II) salts such as copper acetate, copper oxalate, and copper stearate. These copper compounds may be used alone or in combination of two or more, and metallic copper, copper (I) halide salts, and copper (II) halide compounds are preferably used.
The amount of the metal copper or copper compound used is usually 1 to 10 equivalents with respect to the compound of the general formula (4) to complete the reaction, but if necessary, it may be added until the compound of the general formula (4) is exhausted. Good. In this reaction, the reaction yield may be improved by the presence of the additive. Examples of the type of additive include pyridine compounds such as pyridine, dipyridyl, and terpyridyl.
【0028】本発明の反応は適当な溶媒中で行なわれ
る。本反応で用いられる溶媒としては、一般式(4)の
製造の際使用できる上記溶媒が全て使用できるが、好ま
しくはテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラ
ン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N
−メチルピロリジノン及びジメチルスルホキシドを用い
るのが良い。これらは単独で又は2種以上混合して使用
される。またこれらの溶媒は、含水溶媒としても使用可
能である。これらの溶媒は、一般式(4)の化合物1kg
当たり、通常10〜200リットル程度、好ましくは2
0〜100リットル程度使用されるのがよい。上記反応
の反応温度は、通常−10〜80℃、好ましくは0〜5
0℃の範囲で行なわれる。室温付近の反応温度でも本発
明の反応は良好に進行する。また必要により密封容器
中、または不活性ガス例えば窒素ガス中で行なうことも
できる。得られる一般式(2)で表される3−アルケニ
ルセフェム誘導体は通常の精製操作により単離すること
ができる。The reaction of the present invention is carried out in a suitable solvent. As the solvent used in this reaction, all of the above-mentioned solvents that can be used in the production of the general formula (4) can be used, but preferably tetrahydrofuran, dioxane, dioxolane, dimethylformamide, dimethylacetamide, N
Preference is given to using methylpyrrolidinone and dimethylsulfoxide. These may be used alone or in admixture of two or more. Further, these solvents can also be used as a water-containing solvent. These solvents are compounds of the general formula (4) 1 kg
Per 10 to 200 liters, preferably 2
It is preferable to use about 0 to 100 liters. The reaction temperature of the above reaction is usually -10 to 80 ° C, preferably 0 to 5
It is performed in the range of 0 ° C. The reaction of the present invention proceeds well even at a reaction temperature near room temperature. If necessary, it can be carried out in a sealed container or in an inert gas such as nitrogen gas. The resulting 3-alkenylcephem derivative represented by the general formula (2) can be isolated by an ordinary purification operation.
【0029】この様にして得られる一般式(2)で表さ
れる3−アルケニルセフェム化合物をジエンとし、一般
式(3)で表されるジエノファイルとディールスアルダ
ー反応を行うことにより一般式(1)で表される3環性
セフェム化合物を製造することが出来る。本反応は適当
な溶媒中で行なわれる。本反応で用いられる溶媒として
は、一般式(4)の製造の際使用できる上記溶媒が全て
使用できるが、好ましくは塩化メチレン、クロロホル
ム、ジクロロエタン、二臭化メタンを用いるのが良い。
これらは単独で又は2種以上混合して使用される。また
これらの溶媒は、含水溶媒としても使用可能である。こ
れらの溶媒は、一般式(2)の化合物1kg当たり、通常
10〜200リットル程度、好ましくは20〜100リ
ットル程度使用されるのがよい。The 3-alkenylcephem compound represented by the general formula (2) thus obtained is used as a diene, and the Dienofile represented by the general formula (3) is reacted with the Diels-Alder reaction to form the general formula ( The tricyclic cephem compound represented by 1) can be produced. This reaction is carried out in a suitable solvent. As the solvent used in this reaction, all of the above-mentioned solvents that can be used in the production of the general formula (4) can be used, but it is preferable to use methylene chloride, chloroform, dichloroethane, or methane dibromide.
These may be used alone or in admixture of two or more. Further, these solvents can also be used as a water-containing solvent. These solvents are generally used in an amount of about 10 to 200 liters, preferably about 20 to 100 liters, per 1 kg of the compound of the general formula (2).
【0030】上記反応の反応温度は、通常−10〜15
0℃、好ましくは10〜90℃の範囲で行なわれる。室
温付近の反応温度でも本発明の反応は良好に進行する。
また必要により密封容器中、または不活性ガス例えば窒
素ガス中で行なうこともできる。得られる一般式(1)
で表されるセフェム誘導体は通常の精製操作により単離
することができる。本発明では一般式(4)で表される
3−スルホニルセフェム化合物に金属銅又は銅化合物存
在下、一般式(5)で表される有機錫化合物を反応させ
ることにより容易に得られる一般式(2)で表される3
−アルケニルセフェム化合物をジエン出発物質として用
い、一般式(3)で表されるジエノファイルとディール
スアルダー反応を行うことにより、抗菌活性を有する一
般式(1)で表される3環性セフェム化合物が容易にし
かも高収率、高純度で製造され得る。The reaction temperature for the above reaction is usually from -10 to 15
It is carried out at 0 ° C., preferably 10 to 90 ° C. The reaction of the present invention proceeds well even at a reaction temperature near room temperature.
If necessary, it can be carried out in a sealed container or in an inert gas such as nitrogen gas. General formula (1) obtained
The cephem derivative represented by can be isolated by a conventional purification operation. In the present invention, the 3-sulfonyl cephem compound represented by the general formula (4) is easily reacted with the organotin compound represented by the general formula (5) in the presence of metallic copper or a copper compound to obtain the general formula ( 3 represented by 2)
-A tricyclic cephem compound represented by the general formula (1) having antibacterial activity by using an alkenyl cephem compound as a diene starting material and performing a Diels-Alder reaction with a dienophile represented by the general formula (3) Can be easily produced with high yield and high purity.
【0031】本発明化合物の有用性を示すために寒天平
板希釈法による抗菌試験を行い細菌に対する菌発育最小
阻止濃度(MIC)を以下に示す。 MIC値(μg/ml) 接種菌量 106 cells/ml 菌種 試験化合物 E.coli NIHJ JC−2 1D 1F 3.13 1.56In order to show the usefulness of the compound of the present invention, an antibacterial test was carried out by an agar plate dilution method, and the minimum inhibitory concentration (MIC) for bacterial growth is shown below. MIC value (μg / ml) Inoculum size 10 6 cells / ml Bacterial species Test compound E. coli NIHJ JC-2 1D 1F 3.13 1.56
【0032】[0032]
【実施例】以下に参考例及び実施例を挙げて本発明を具
体的に説明する。尚、PhはC6H5−を示す。EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Reference Examples and Examples. Incidentally, Ph is C 6 H 5 - shows a.
【0033】実施例1 化合物(4a)(R1=PhCH2CONH,R2=H,R
3=CH2C6H4OCH3-p,R4=CF3)100mg、ト
リブチルビニル錫80ml、塩化銅(I)25mgを10ml
のナス型フラスコに秤り取り、N−メチルピロリドン
(NMP)1mlを加え室温下6時間攪拌する。反応液を
2規定塩酸中にそそぎ、酢酸エチルにて抽出を行ない、
水洗2回、飽和食塩水洗1回を行なった後、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥を行なった。得られた抽出液は、減圧
下にて溶媒を留去した後、残査をシリカゲルカラムクロ
マトにより精製分離すると化合物(2a)(R1=PhC
H2CONH,R2=H,R3=CH2C6H4OCH3-p,
Ra=H,Rb=H,Rc=H)(70mg,88%)が得
られた。1 H NMR(CDCl3)δ 3.62(s,2H),3.
81(s,3H),4.94(d,J=11.2Hz,1
H),5.14(d,J=11.2Hz,1H),5.0
8(s,1H),5.14(d,J=11.2Hz,1
H),5.16(d,J=17.9Hz,1H),5.22
(d,J=4.0Hz,1H),5.55(dd,J=4.
0,8.6Hz,1H),6.17(dd,J=11.2,
17.9Hz,1H),6.22(s,1H),6.42
(d,J=8.6Hz,1H),6.87(d,J=10.
4Hz,1H),7.25(d,J=10.4Hz,2
H),7.17〜7.39(m,5H)Example 1 Compound (4a) (R 1 = PhCH 2 CONH, R 2 = H, R
3 = CH 2 C 6 H 4 OCH 3 -p, R 4 = CF 3 ) 100 mg, tributylvinyltin 80 ml, copper (I) chloride 25 mg 10 ml
Weigh in an eggplant-shaped flask, and add 1 ml of N-methylpyrrolidone (NMP), and stir at room temperature for 6 hours. Pour the reaction mixture into 2N hydrochloric acid and extract with ethyl acetate.
It was washed twice with water and once with saturated saline, and then dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off from the obtained extract under reduced pressure, and the residue was purified and separated by silica gel column chromatography to obtain compound (2a) (R 1 = PhC
H 2 CONH, R 2 = H, R 3 = CH 2 C 6 H 4 OCH 3 -p,
Ra = H, Rb = H, Rc = H) (70 mg, 88%) was obtained. 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 3.62 (s, 2H), 3.
81 (s, 3H), 4.94 (d, J = 11.2Hz, 1
H), 5.14 (d, J = 11.2Hz, 1H), 5.0
8 (s, 1H), 5.14 (d, J = 11.2Hz, 1
H), 5.16 (d, J = 17.9 Hz, 1 H), 5.22
(D, J = 4.0 Hz, 1 H), 5.55 (dd, J = 4.
0, 8.6Hz, 1H), 6.17 (dd, J = 11.2,
17.9 Hz, 1H), 6.22 (s, 1H), 6.42
(D, J = 8.6 Hz, 1 H), 6.87 (d, J = 10.
4Hz, 1H), 7.25 (d, J = 10.4Hz, 2
H), 7.17 to 7.39 (m, 5H)
【0034】実施例2 錫化合物をトリブチルシスプロペニル錫に変えて、実施
例1と同様の反応を行なったところ化合物(2b)(R
1=PhCH2CONH,R2=H,R3=CH2C6H4OC
H3-p,Ra=H,Rb=CH3,Rc=H cis)(72m
g,89%)が得られた。1 H NMR(CDCl3)δ 1.63(d,J=6.0
Hz,3H),3.64(s,2H),3.81(s,3
H),4.81(d,J=1.7Hz,1H),5.03
(d,J=13.8Hz,1H),5.11(d,J=1
3.8Hz,1H),5.26(d,J=4.9Hz,1
H),5.62(d,J=9.0Hz,1H),5.62
(dd,J=4.9,8.4Hz,1H),5.63(d
t,J=6.0,9.0Hz,1H),6.02(d,J=
1.7Hz,1H),6.16(d,J=8.4Hz,1
H),6.87(d,J=9.0Hz,2H),7.23
(d,J=9.0Hz,2H),7.18〜7.40(m,
5H)Example 2 When the tin compound was changed to tributyl cispropenyl tin and the same reaction as in Example 1 was carried out, compound (2b) (R
1 = PhCH 2 CONH, R 2 = H, R 3 = CH 2 C 6 H 4 OC
H 3 -p, Ra = H, Rb = CH 3 , Rc = H cis) (72 m
g, 89%) was obtained. 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 1.63 (d, J = 6.0
Hz, 3H), 3.64 (s, 2H), 3.81 (s, 3)
H), 4.81 (d, J = 1.7Hz, 1H), 5.03
(D, J = 13.8 Hz, 1 H), 5.11 (d, J = 1
3.8 Hz, 1 Hz), 5.26 (d, J = 4.9 Hz, 1
H), 5.62 (d, J = 9.0Hz, 1H), 5.62
(Dd, J = 4.9, 8.4 Hz, 1 H), 5.63 (d
t, J = 6.0, 9.0 Hz, 1 H), 6.02 (d, J =
1.7 Hz, 1 H), 6.16 (d, J = 8.4 Hz, 1
H), 6.87 (d, J = 9.0Hz, 2H), 7.23
(D, J = 9.0 Hz, 2 H), 7.18 to 7.40 (m,
5H)
【0035】実施例3 錫化合物をトリブチル2−メチル−1−プロペニル錫に
変えて、実施例1と同様の反応を行なったところ化合物
(2c)(R1=PhCH2CONH,R2=H,R3=C
H2C6H4OCH3-p,Ra=H,Rb=CH3,Rc=C
H3)(75mg,91%)が得られた。1 H NMR(CDCl3)δ 1.59(S,3H),
1.67(d,J=1.3Hz,3H),3.64(S,2
H),3.81(s,3H),4.74(s,1H),
4.98(d,J=11.8Hz,1H),5.12(d,
J=11.8Hz,1H),5.25(d,J=4.1H
z,1H),5.40(d,J=1.3Hz,1H),5.
64(dd,J=4.1,9.0Hz,1H),5.87
(s,1H),6.14(d,J=9.0Hz,1H),
6.87(d,J=9.0Hz,2H),7.22(d,J
=9.0Hz,2H),7.18〜7.40(m,5H)Example 3 The tin compound was changed to tributyl 2-methyl-1-propenyl tin and the same reaction as in Example 1 was carried out. As a result, the compound (2c) (R 1 = PhCH 2 CONH, R 2 = H, R 3 = C
H 2 C 6 H 4 OCH 3 -p, Ra = H, Rb = CH 3 , Rc = C
H 3) (75mg, 91% ) was obtained. 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 1.59 (S, 3H),
1.67 (d, J = 1.3 Hz, 3 H), 3.64 (S, 2
H), 3.81 (s, 3H), 4.74 (s, 1H),
4.98 (d, J = 11.8 Hz, 1 H), 5.12 (d,
J = 11.8Hz, 1H), 5.25 (d, J = 4.1H
z, 1H), 5.40 (d, J = 1.3Hz, 1H), 5.
64 (dd, J = 4.1, 9.0 Hz, 1H), 5.87
(S, 1H), 6.14 (d, J = 9.0Hz, 1H),
6.87 (d, J = 9.0Hz, 2H), 7.22 (d, J
= 9.0 Hz, 2H), 7.18 to 7.40 (m, 5H)
【0036】実施例4 錫化合物をトリブチルトランス−1−オクテニル錫に変
えて、実施例1と同様の反応を行なったところ化合物
(2d)(R1=PhCH2CONH,R2=H,R3=C
H2C6H4OCH3-p,Ra=H,Rb=H,Rc=〔(C
H2)5−CH3 trans〕(74mg,79%)が得られ
た。1 H NMR(CDCl3)δ 0.88(t,J=5.9
Hz,3H),1.18〜1.36(m,8H),1.93
(dt,J=5.9,6.7Hz,2H),3.61(s,
2H),3.80(s,3H),5.02(d,J=1
1.8Hz,1H),5.12(s,1H),5.15
(d,J=11.8Hz,1H),5.21(d,J=4.
0Hz,1H),5.55(dd,J=4.0,8.8H
z,1H),5.59(dt,J=6.7,15.8Hz,
1H),5.84(d,J=15.8Hz,1H),6.0
3(s,1H),6.48(d,J=8.8Hz,1
H),6.87(d,J=7.1Hz,2H),7.24
(d,J=7.1Hz,2H),7.18〜7.39(m,
5H)Example 4 When the tin compound was changed to tributyl trans-1-octenyl tin and the same reaction as in Example 1 was carried out, the compound (2d) (R 1 = PhCH 2 CONH, R 2 = H, R 3 = C
H 2 C 6 H 4 OCH 3 -p, Ra = H, Rb = H, Rc = [(C
H 2) 5 -CH 3 trans] (74mg, 79%) was obtained. 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.88 (t, J = 5.9
Hz, 3H), 1.18 to 1.36 (m, 8H), 1.93
(Dt, J = 5.9, 6.7 Hz, 2 H), 3.61 (s,
2H), 3.80 (s, 3H), 5.02 (d, J = 1
1.8Hz, 1H), 5.12 (s, 1H), 5.15
(D, J = 11.8 Hz, 1 H), 5.21 (d, J = 4.
0Hz, 1H), 5.55 (dd, J = 4.0, 8.8H
z, 1H), 5.59 (dt, J = 6.7, 15.8Hz,
1H), 5.84 (d, J = 15.8Hz, 1H), 6.0
3 (s, 1H), 6.48 (d, J = 8.8Hz, 1
H), 6.87 (d, J = 7.1Hz, 2H), 7.24
(D, J = 7.1 Hz, 2 H), 7.18 to 7.39 (m,
5H)
【0037】実施例5 化合物(2a)(R1=PhCH2CONH,R2=H,R
3=CH2C6H4OCH3-p,Ra=H,Rb=H,Rc=
H)76mg及びアクロレイン48mlを10mlのナス型フ
ラスコに計り取り、ジクロロエタン2mlを加え室温下2
1時間攪拌する。反応液は1規定塩酸中にそそぎ、酢酸
エチルにて抽出を行ない、水洗2回、飽和食塩水洗1回
を行なった後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥を行なっ
た。得られた抽出液は、減圧下にて溶媒を留去した後、
残査をシリカゲルカラムクロマトにより精製分離すると
化合物(1A)(R1=PhCH2CONH,R2=H,R
3=CH2C6H4OCH3-p,X=CH2,Y=CHCH
O、XとYは1重結合)(80mg,93%)が得られ
た。1 H NMR(CDCl3)δ 1.38〜2.44,2.6
7〜2.79(m,5H),3.58(s,2H),3.
80(s,3H),4.11(d,J=5.1Hz,1
H),5.02(s,1H),5.08(d,J=12.
1Hz,1H),5.15(d,J=12.1Hz,1
H),5.50(d,J=4.3Hz,1H),5.65
(dd,J=4.3,9.3Hz,1H),5.94(d,
J=3.3Hz,1H),6.14(d,J=9.3Hz,
1H),6.83〜6.95,7.14〜7.40(m,9
H),9.66(s,1H)Example 5 Compound (2a) (R 1 = PhCH 2 CONH, R 2 = H, R
3 = CH 2 C 6 H 4 OCH 3 -p, Ra = H, Rb = H, Rc =
H) 76 mg and acrolein 48 ml were weighed in a 10 ml eggplant-shaped flask, 2 ml of dichloroethane was added and the mixture was allowed to stand at room temperature 2
Stir for 1 hour. The reaction mixture was poured into 1N hydrochloric acid, extracted with ethyl acetate, washed twice with water and once with saturated brine, and then dried over anhydrous sodium sulfate. The obtained extract is distilled off the solvent under reduced pressure,
When the residue was purified and separated by silica gel column chromatography, the compound (1A) (R 1 = PhCH 2 CONH, R 2 = H, R
3 = CH 2 C 6 H 4 OCH 3 -p, X = CH 2 , Y = CHCH
O, X and Y were single bonds) (80 mg, 93%). 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 1.38 to 2.44, 2.6
7-2.79 (m, 5H), 3.58 (s, 2H), 3.
80 (s, 3H), 4.11 (d, J = 5.1Hz, 1
H), 5.02 (s, 1H), 5.08 (d, J = 12.
1Hz, 1H), 5.15 (d, J = 12.1Hz, 1
H), 5.50 (d, J = 4.3 Hz, 1 H), 5.65
(Dd, J = 4.3, 9.3 Hz, 1 H), 5.94 (d,
J = 3.3Hz, 1H), 6.14 (d, J = 9.3Hz,
1H), 6.83 to 6.95, 7.14 to 7.40 (m, 9
H), 9.66 (s, 1H)
【0038】実施例6 アクロレインをメチルアクロレインに変えて、実施例1
と同様の反応を行なったところ化合物(1B)(R1=
PhCH2CONH,R2=H,R3=CH2C6H4OCH3
-p,X=CH2,Y=C(CH3)CHO、XとYは1
重結合)(71mg,86%)が得られた。1 H NMR(CDCl3)δ 0.88(s,3H),
1.48(m,1H),1.68(m,1H),2.13
(m,2H),3.45(d,J=16.6Hz,1
H),3.58(d,J=16.6Hz,1H),3.54
(s,1H),3.78(s,3H),5.04(s,1
H),5.04(d,J=11.7Hz,1H),5.17
(d,J=11.7Hz,1H),5.44(d,J=4.
3Hz,1H),5.62(dd,J=4.3,9.2H
z,1H),5.89(bs,1H),6.55(d,J
=9.2Hz,1H),6.83〜6.92,7.15〜7.
36(m,9H),9.45(s,1H)Example 6 Example 1 was repeated except that methyl acrolein was used instead of acrolein.
When a reaction similar to that of Compound (1B) (R 1 =
PhCH 2 CONH, R 2 = H, R 3 = CH 2 C 6 H 4 OCH 3
-p, X = CH 2 , Y = C (CH 3 ) CHO, X and Y are 1
(Heavy bond) (71 mg, 86%) was obtained. 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.88 (s, 3H),
1.48 (m, 1H), 1.68 (m, 1H), 2.13
(M, 2H), 3.45 (d, J = 16.6Hz, 1
H), 3.58 (d, J = 16.6Hz, 1H), 3.54
(S, 1H), 3.78 (s, 3H), 5.04 (s, 1
H), 5.04 (d, J = 11.7Hz, 1H), 5.17
(D, J = 11.7 Hz, 1 H), 5.44 (d, J = 4.
3Hz, 1H), 5.62 (dd, J = 4.3, 9.2H)
z, 1H), 5.89 (bs, 1H), 6.55 (d, J
= 9.2 Hz, 1 H), 6.83 to 6.92, 7.15 to 7.
36 (m, 9H), 9.45 (s, 1H)
【0039】実施例7 アクロレインを3−ビニル−3−セフェムに変えて、実
施例1と同様の反応を行なったところ化合物(1C)
〔R1=PhCH2CONH,R2=H,R3=CH2C6H4
OCH3-p,X=CH2,Y=CH−(Δ3−セフェ
ム)、XとYは1重結合〕(79mg、79%)が得られ
た。1 H NMR(CDCl3)δ 1.49(m,1H),
1.67(m,1H),2.05(m,1H),2.23
(m,1H),3.15(d,J=18.5Hz,1
H),3.36(d,J=18.5Hz,1H),3.38
(m,1H),3.60(d,J=15.5Hz,1
H),3.63(d,J=11.5Hz,1H),3.66
(d,J=11.5Hz,1H),3.68(d,J=1
5.5Hz,1H),3.78(s,3H),3.79
(m,3H),4.44(d,J=5.0Hz,1H),
4.90(d,J=4.7Hz,1H),4.97(s,1
H),5.09(d,J=11.8Hz,1H),5.11
(d,J=12.8Hz,1H),5.15(d,J=1
2.8Hz,1H),5.17(d,J=11.8Hz,1
H),5.31(d,J=4.7Hz,1H),5.64
(dd,J=4.7,9.7Hz,1H),5.82(d
d,J=4.7,8.7Hz,1H),5.87(d,J=
4.0Hz,1H),6.10(d,J=9.7Hz,1
H),6.29(d,J=8.7Hz,1H),6.84〜
6.94,7.18〜7.44(m,18H)Example 7 When acrolein was changed to 3-vinyl-3-cephem and the same reaction as in Example 1 was carried out, compound (1C) was obtained.
[R 1 = PhCH 2 CONH, R 2 = H, R 3 = CH 2 C 6 H 4
OCH 3 -p, X = CH 2 , Y = CH- (Δ3-cephem), and X and Y are single bonds] (79 mg, 79%) were obtained. 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 1.49 (m, 1H),
1.67 (m, 1H), 2.05 (m, 1H), 2.23
(M, 1H), 3.15 (d, J = 18.5Hz, 1
H), 3.36 (d, J = 18.5Hz, 1H), 3.38
(M, 1H), 3.60 (d, J = 15.5Hz, 1
H), 3.63 (d, J = 11.5Hz, 1H), 3.66
(D, J = 11.5 Hz, 1 H), 3.68 (d, J = 1
5.5Hz, 1H), 3.78 (s, 3H), 3.79
(M, 3H), 4.44 (d, J = 5.0Hz, 1H),
4.90 (d, J = 4.7 Hz, 1 H), 4.97 (s, 1
H), 5.09 (d, J = 11.8Hz, 1H), 5.11
(D, J = 12.8 Hz, 1 H), 5.15 (d, J = 1
2.8Hz, 1H), 5.17 (d, J = 11.8Hz, 1
H), 5.31 (d, J = 4.7Hz, 1H), 5.64
(Dd, J = 4.7, 9.7 Hz, 1 H), 5.82 (d
d, J = 4.7, 8.7 Hz, 1 H), 5.87 (d, J =
4.0 Hz, 1 Hz), 6.10 (d, J = 9.7 Hz, 1
H), 6.29 (d, J = 8.7 Hz, 1 H), 6.84-
6.94, 7.18 to 7.44 (m, 18H)
【0040】実施例8 アクロレインをジエチルアゾジカルボキシレートに変え
て、実施例1と同様の反応を行なったところ化合物(1
D)(R1=PhCH2CONH,R2=H,R3=CH2C
6H4OCH3-p,X=N−COOEt,Y=N−COO
Et、XとYは1重結合)(103mg,98%)が得ら
れた。1 H NMR(CDCl3)δ 1.25(m,6H),
3.57(s,2H),3.72(d,J=18.3Hz,
1H),3.81(s,3H),4.24(m,4H),
4.64(dd,J=5.0,18.3Hz,1H),5.
07(d,J=11.7Hz,1H),5.15(d,J
=11.7Hz,1H),5.13(s,1H),5.49
(d,J=4.4Hz,1H),5.72(dd,J=4.
4,9.4Hz,1H),5.99(d,J=5.0Hz,
1H),6.14(s,1H),6.17(d,J=9.
4Hz,1H),6.85〜6.96,7.17〜7.42
(m,9H)Example 8 When acrolein was changed to diethyl azodicarboxylate and the same reaction as in Example 1 was carried out, the compound (1
D) (R 1 = PhCH 2 CONH, R 2 = H, R 3 = CH 2 C
6 H 4 OCH 3 -p, X = N-COOEt, Y = N-COO
Et, X and Y were single bonds) (103 mg, 98%). 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 1.25 (m, 6H),
3.57 (s, 2H), 3.72 (d, J = 18.3Hz,
1H), 3.81 (s, 3H), 4.24 (m, 4H),
4.64 (dd, J = 5.0, 18.3 Hz, 1H), 5.
07 (d, J = 11.7 Hz, 1 H), 5.15 (d, J
= 11.7 Hz, 1H), 5.13 (s, 1H), 5.49
(D, J = 4.4 Hz, 1 H), 5.72 (dd, J = 4.
4,9.4 Hz, 1 Hz), 5.99 (d, J = 5.0 Hz,
1H), 6.14 (s, 1H), 6.17 (d, J = 9.
4Hz, 1H), 6.85-6.96, 7.17-7.42
(M, 9H)
【0041】実施例9 アクロレインをニトロソベンゼンに変えて、実施例1と
同様の反応を行なったところ化合物(1E)(R1=Ph
CH2CONH,R2=H,R3=CH2C6H4OCH3-
p,X=O,Y=N−Ph、XとYは1重結合)(88m
g,94%)が得られた。1 H NMR(CDCl3)δ 3.51(d,J=15.
8Hz,1H),3.55(d,J=15.8Hz,1
H),3.75(d,J=16.5Hz,1H),3.78
(s,3H),3.94(dd,J=5.0,16.5H
z,1H),5.08(d,J=12.0Hz,1H),
5.14(d,J=12.0Hz,1H),5.27(s,
1H),5.51(d,J=4.0Hz,1H),5.74
(dd,J=4.0,9.3Hz,1H),6.00(s,
1H),6.12(d,J=5.0Hz,1H),6.45
(d,J=9.3Hz,1H),6.84〜6.90,7.
02〜7.40(m,14H)Example 9 When acrolein was changed to nitrosobenzene and the same reaction as in Example 1 was carried out, compound (1E) (R 1 = Ph
CH 2 CONH, R 2 = H, R 3 = CH 2 C 6 H 4 OCH 3-
p, X = O, Y = N-Ph, X and Y are single bonds) (88 m
g, 94%) was obtained. 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 3.51 (d, J = 15.
8Hz, 1H), 3.55 (d, J = 15.8Hz, 1
H), 3.75 (d, J = 16.5 Hz, 1 H), 3.78
(S, 3H), 3.94 (dd, J = 5.0, 16.5H
z, 1H), 5.08 (d, J = 12.0Hz, 1H),
5.14 (d, J = 12.0Hz, 1H), 5.27 (s,
1H), 5.51 (d, J = 4.0Hz, 1H), 5.74
(Dd, J = 4.0, 9.3 Hz, 1 H), 6.00 (s,
1H), 6.12 (d, J = 5.0Hz, 1H), 6.45
(D, J = 9.3 Hz, 1 H), 6.84 to 6.90, 7.
02 ~ 7.40 (m, 14H)
【0042】実施例10 アクロレインをアセチレンジカルボン酸ジメチルエステ
ルに変えて、実施例1と同様の反応を行なったところ化
合物(1F)(R1=PhCH2CONH,R2=H,R3
=CH2C6H4OCH3-p,X=C−COOMe,Y=C
−COOMe、XとYは2重結合)(95mg,94%)
が得られた。1 H NMR(CDCl3)δ 2.98(ddd,3.
5,6.0,24.4Hz,1H),3.25(ddd,
3.5,6.0,24.4Hz,1H),3.58(s,2
H),3.80(s,3H),3.81(s,3H),
3.82(s,3H),4.80(t,J=6.0Hz,2
H),5.04(d,J=11.8Hz,1H),5.06
(s,1H),5.16(d,J=11.8Hz,1
H),5.51(d,J=4.4Hz,1H),5.68
(dd,J=4.4,9.3Hz,1H),5.92(t,
J=3.5Hz,1H),6.02(d,J=9.3Hz,
1H),6.85〜6.93,7.12〜7.43(m,9
H)Example 10 When acrolein was changed to acetylenedicarboxylic acid dimethyl ester and the same reaction as in Example 1 was carried out, compound (1F) (R 1 = PhCH 2 CONH, R 2 = H, R 3
= CH 2 C 6 H 4 OCH 3 -p, X = C-COOMe, Y = C
-COOMe, X and Y are double bonds) (95 mg, 94%)
was gotten. 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 2.98 (ddd, 3.
5, 6.0, 24.4 Hz, 1 H), 3.25 (ddd,
3.5, 6.0, 24.4 Hz, 1 H), 3.58 (s, 2
H), 3.80 (s, 3H), 3.81 (s, 3H),
3.82 (s, 3H), 4.80 (t, J = 6.0Hz, 2
H), 5.04 (d, J = 11.8Hz, 1H), 5.06
(S, 1H), 5.16 (d, J = 11.8Hz, 1
H), 5.51 (d, J = 4.4Hz, 1H), 5.68
(Dd, J = 4.4, 9.3 Hz, 1 H), 5.92 (t,
J = 3.5Hz, 1H), 6.02 (d, J = 9.3Hz,
1H), 6.85 to 6.93, 7.12 to 7.43 (m, 9
H)
【0043】実施例11 ジエノファイルとして3−ビニルー2−セフェムを用
い、実施例1と同様の反応を行なったところ化合物(1
G)〔R1=PhCH2CONH,R2=H,R3=CH2C
6H4OCH3-p,X=CH2,Y=CH−(Δ2−セフ
ェム)、XとYは1重結合〕(90mg,90%)が得ら
れた。1 H NMR(CDCl3)δ 1.39(m,2H),
1.82(m,1H),2.11(m,1H),2.53
(m,1H),3.55(d,J=15.8Hz,1
H),3.60(d,J=15.8Hz,1H),3.60
(d,J=16.8Hz,1H),3.65(d,J=1
6.8Hz,1H),3.78(s,6H),3.95
(d,J=4.8Hz,1H),4.75(s,1H),
4.95(s,1H),4.97(d,J=11.8Hz,
1H),5.02(d,J=11.8Hz,1H),5.1
5(d,J=11.8Hz,1H),5.19(d,J=
11.8Hz,1H),5.20(d,J=4.1Hz,1
H),5.35(d,J=4.4Hz,1H),5.54
(dd,J=4.4,9.2Hz,1H),5.59(d
d,J=4.1,8.3Hz,1H),5.82(s,1
H),5.85(d,J=5.3Hz,1H),6.13
(d,J=9.2Hz,1H),6.57(d,J=8.3
Hz,1H),6.81〜6.91,7.16〜7.34
(m,18H)Example 11 When 3-vinyl-2-cephem was used as the dienophile and the same reaction as in Example 1 was carried out, the compound (1
G) [R 1 = PhCH 2 CONH, R 2 = H, R 3 = CH 2 C
6 H 4 OCH 3 -p, X = CH 2 , Y = CH- (Δ2-cephem), and X and Y are single bonds] (90 mg, 90%) were obtained. 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 1.39 (m, 2H),
1.82 (m, 1H), 2.11 (m, 1H), 2.53
(M, 1H), 3.55 (d, J = 15.8Hz, 1
H), 3.60 (d, J = 15.8Hz, 1H), 3.60
(D, J = 16.8 Hz, 1 H), 3.65 (d, J = 1
6.8Hz, 1H), 3.78 (s, 6H), 3.95
(D, J = 4.8Hz, 1H), 4.75 (s, 1H),
4.95 (s, 1H), 4.97 (d, J = 11.8Hz,
1H), 5.02 (d, J = 11.8Hz, 1H), 5.1
5 (d, J = 11.8 Hz, 1 H), 5.19 (d, J =
11.8Hz, 1H), 5.20 (d, J = 4.1Hz, 1
H), 5.35 (d, J = 4.4Hz, 1H), 5.54
(Dd, J = 4.4, 9.2 Hz, 1 H), 5.59 (d
d, J = 4.1, 8.3 Hz, 1 H), 5.82 (s, 1
H), 5.85 (d, J = 5.3Hz, 1H), 6.13
(D, J = 9.2 Hz, 1 H), 6.57 (d, J = 8.3
Hz, 1H), 6.81 to 6.91, 7.16 to 7.34
(M, 18H)
【0044】[0044]
【発明の効果】本発明では一般式(4)で表される3−
スルホニルセフェム化合物に金属銅又は銅化合物存在
下、一般式(5)で表される有機錫化合物を反応させる
ことにより容易に得られる一般式(2)で表される3−
アルケニルセフェム化合物をジエン出発物質として用
い、一般式(3)で表されるジエノファイルとディール
スアルダー反応を行うことにより、抗菌活性を有する一
般式(1)で表される3環性セフェム化合物が容易にし
かも高収率、高純度で製造され得る。INDUSTRIAL APPLICABILITY In the present invention, 3- represented by the general formula (4)
3-the sulfonylcephem compound represented by the general formula (2), which is easily obtained by reacting an organotin compound represented by the general formula (5) in the presence of metallic copper or a copper compound.
By using the alkenylcephem compound as a diene starting material and carrying out a Diels-Alder reaction with a dienofile represented by the general formula (3), a tricyclic cephem compound represented by the general formula (1) having antibacterial activity is obtained. It can be easily produced in high yield and high purity.
Claims (3)
物。 【化1】 〔式中R1はアミノ基、保護されたアミノ基又は水素原
子を示す。R2は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコ
キシ基、低級アシル基又は置換基として水酸基もしくは
保護された水酸基を有する低級アルキル基を示す。R3
は水素原子又はカルボン酸保護基を示す。Ra、Rb、R
cは水素原子又は置換基を有することのある低級アルキ
ル基もしくはアリール基を示す。X、Yはそれぞれ酸素
原子、置換基を有する炭素原子又は置換基を有する窒素
原子を示し、X及びYは1重結合又は2重結合により結
合している。〕1. A cephem compound represented by the general formula (1). Embedded image [In the formula, R 1 represents an amino group, a protected amino group or a hydrogen atom. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkoxy group, a lower acyl group or a lower alkyl group having a hydroxyl group or a protected hydroxyl group as a substituent. R 3
Represents a hydrogen atom or a carboxylic acid protecting group. Ra, Rb, R
c represents a hydrogen atom or a lower alkyl group or aryl group which may have a substituent. X and Y each represent an oxygen atom, a carbon atom having a substituent or a nitrogen atom having a substituent, and X and Y are bonded by a single bond or a double bond. ]
に、一般式(3)で表されるジエノファイルを作用させ
ることを特徴とする、一般式(1)で表されるセフェム
化合物の製造法。 【化2】 〔式中R1はアミノ基、保護されたアミノ基又は水素原
子を示す。R2は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコ
キシ基、低級アシル基又は置換基として水酸基もしくは
保護された水酸基を有する低級アルキル基を示す。R3
は水素原子又はカルボン酸保護基を示す。Ra、Rb、R
cは水素原子又は置換基を有することのある低級アルキ
ル基もしくはアリール基を示す。〕 Xa … Ya (3) 〔式中Xa、Yaはそれぞれ酸素原子、置換基を有するこ
とのある炭素原子又は置換基を有することのある窒素原
子を示し、Xa及びYaは2重結合又は3重結合により結
合している。〕2. A cephem compound represented by the general formula (1), characterized in that a dienophile represented by the general formula (3) is allowed to act on a cephem compound represented by the general formula (2). Manufacturing method. Embedded image [In the formula, R 1 represents an amino group, a protected amino group or a hydrogen atom. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkoxy group, a lower acyl group or a lower alkyl group having a hydroxyl group or a protected hydroxyl group as a substituent. R 3
Represents a hydrogen atom or a carboxylic acid protecting group. Ra, Rb, R
c represents a hydrogen atom or a lower alkyl group or aryl group which may have a substituent. Xa ... Ya (3) [wherein Xa and Ya each represent an oxygen atom, a carbon atom which may have a substituent or a nitrogen atom which may have a substituent, and Xa and Ya are a double bond or a triple bond] Are bound by binding. ]
オキシセフェム化合物を金属銅又は銅化合物存在下、一
般式(5)で表される有機錫化合物と反応させることを
特徴とする、一般式(2)で表されるセフェム化合物の
製造法。 【化3】 〔式中R1、R2及びR3は上記に同じ。R4はハロゲン原
子又は置換基を有することのある脂肪族炭化水素基、脂
環式炭化水素基もしくは芳香族の炭化水素基を示す。〕 【化4】 〔式中R5は置換基を有することのある脂肪族炭化水素
基、脂環式炭化水素基又は芳香族の炭化水素を示す。R
a、Rb及びRcは水素原子又は置換基を有することのあ
る低級アルキル基又はアリール基を示す。〕3. A 3-sulfonyloxycephem compound represented by the general formula (4) is reacted with an organotin compound represented by the general formula (5) in the presence of metallic copper or a copper compound, The manufacturing method of the cephem compound represented by General formula (2). Embedded image [Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as above. R 4 represents a halogen atom or an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group. ] [Chemical 4] [In the formula, R 5 represents an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon. R
a, Rb and Rc represent a hydrogen atom or a lower alkyl group or aryl group which may have a substituent. ]
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP7079492A JPH08245634A (en) | 1995-03-10 | 1995-03-10 | Cephem compound and its production |
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