JPH0824559A - Rotating disk discharge type waste gas treating device - Google Patents

Rotating disk discharge type waste gas treating device

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Publication number
JPH0824559A
JPH0824559A JP6165568A JP16556894A JPH0824559A JP H0824559 A JPH0824559 A JP H0824559A JP 6165568 A JP6165568 A JP 6165568A JP 16556894 A JP16556894 A JP 16556894A JP H0824559 A JPH0824559 A JP H0824559A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exhaust gas
discharge
rotary disk
gas treatment
discharge type
Prior art date
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Pending
Application number
JP6165568A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiji Mizouchi
清司 溝内
Kaneyuki Onishi
謙之 大西
Tomohisa Ota
智久 太田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takuma Research and Development Co Ltd
Original Assignee
Takuma Research and Development Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Takuma Research and Development Co Ltd filed Critical Takuma Research and Development Co Ltd
Priority to JP6165568A priority Critical patent/JPH0824559A/en
Publication of JPH0824559A publication Critical patent/JPH0824559A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide a compact waste gas treating device which works normally even at sliding state and does not take much time for maintenance. CONSTITUTION:This device is a waste gas treating device consisting of a cooling mechanism and a purifying mechanism. In the purifying mechanism, rotating disks 19 are attached at regular intervals on a rotary shaft 9 so that a lower part is immersed in a seawater basin 21, and a discharge electrodes 20 are disposed between the disks. A layer of seawater is formed on the surface of the rotating disks 19 by a rotation of the rotary shaft 9 and discharge is generated between the rotating disk 19 and the discharge electrode 20, and a waste gas component is decomposed and absorbed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ディーゼルエンジン排
ガスなどの排ガスを浄化するための回転円盤放電式排ガ
ス処理装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rotary disk discharge type exhaust gas treatment device for purifying exhaust gas such as diesel engine exhaust gas.

【0002】[0002]

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】ディ
ーゼルエンジン排ガス中にはSO2 ,NOx 等の有害ガ
スの他、ダストやすす等が含まれており、環境汚染防止
のために大気中に排出する前に水による溶解,パルス放
電による分解,静電吸着等を施すことによりそれら有毒
ガス,ダスト,すす等を除去することが知られており、
例えば、塔の下方から上方に向かって処理すべき排ガス
を送り、この排ガスにノズルから噴出された水を上方か
ら降りかけダストやすすを除去し、さらに上方に送られ
た排ガスに放電処理を施し有害ガスを分解する装置が開
発されている。しかしながら、このような装置はその機
構から縦方向のスペースを要する。また静置状態での使
用にはさしつかえないが、例えば船舶上で使用される場
合は船舶の揺動により上昇してくる排ガスに噴出水が均
一に降りかからないことがある。さらに、比較的頻繁に
生じるノズルの目詰まりの解消作業というメンテナンス
上の問題もある。
Another BACKGROUND OF THE INVENTION AND SUMMARY OF THE INVENTION harmful gases such as SO 2, NO x is in the diesel engine exhaust gas, includes a dust and soot and the like, into the atmosphere due to environmental It is known to remove these toxic gases, dust, soot, etc. by dissolving with water, decomposing with pulse discharge, electrostatic adsorption, etc. before discharging.
For example, the exhaust gas to be treated is sent from the lower part of the tower to the upper part, the water ejected from the nozzle is dropped on the exhaust gas from the upper part to remove dust and soot, and the exhaust gas sent to the upper part is subjected to discharge treatment. A device for decomposing harmful gas has been developed. However, such devices require vertical space from their mechanism. Although it may be used in a stationary state, when it is used on a ship, for example, the jetted water may not uniformly fall on the exhaust gas rising due to the rocking of the ship. Further, there is a problem in maintenance that the nozzle clogging that occurs relatively frequently is eliminated.

【0003】本発明は、このような問題点を解消するこ
とを目的とし、揺動状態においても正常に機能しメンテ
ナンスに手間のかからないコンパクトな排ガス処理装置
を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is intended to solve such a problem, and provides a compact exhaust gas treating apparatus which functions normally even in a rocking state and does not require maintenance.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、第1
に、(a)少なくとも下部の一部が浄化液に浸りその浄
化液面に略水平に配される支持軸を中心に回転する一ま
たは二以上の回転円盤、(b)この回転円盤の周囲に放
電状態を形成する一または二以上の放電電極、および
(c)前記浄化液が溜められるとともに、導入される排
ガスと接触するように前記回転円盤および前記放電電極
が収容されるチャンバーを備え、前記回転円盤の回転に
よりその回転円盤の表面に前記浄化液の被膜が形成され
ることを特徴とする回転円盤放電式排ガス処理装置に関
するものである。
That is, the present invention is based on the first aspect.
And (a) at least a part of the lower part thereof is soaked in the cleaning liquid and one or more rotating disks that rotate about a support shaft arranged substantially horizontally on the surface of the cleaning liquid, (b) around this rotating disk. One or more discharge electrodes forming a discharge state; and (c) a chamber in which the cleaning liquid is stored and a chamber in which the rotating disk and the discharge electrodes are housed so as to come into contact with exhaust gas to be introduced, The present invention relates to a rotary disk discharge type exhaust gas treatment device, wherein a film of the cleaning liquid is formed on the surface of the rotary disk by the rotation of the rotary disk.

【0005】また、本発明は、第2に、(a)少なくと
も外周部分に接触面積増大材が充填されており少なくと
も下部のその接触面積増大材が冷却液に浸るようにその
冷却液面に略水平に配される支持軸を中心に回転する円
筒体と、前記冷却液が溜められるとともに、前記接触面
積増大材が導入される高温の排ガスと接触するように前
記円筒体が収容されるチャンバーとを備え、前記円筒体
の回転により前記接触面積増大材の表面に前記冷却液の
被膜が形成される冷却機構、および(b)少なくとも下
部の一部が浄化液に浸りその浄化液面に略水平に配され
る支持軸を中心に回転する一または二以上の回転円盤
と、この回転円盤の周囲に放電状態を形成する一または
二以上の放電電極と、前記浄化液が溜められるととも
に、前記冷却機構から排出されるガスと接触するように
前記回転円盤および前記放電電極が収容されるチャンバ
ーとを備え、前記回転円盤の回転によりその回転円盤の
表面に前記浄化液の被膜が形成される浄化機構を備える
ことを特徴とする回転円盤放電式排ガス処理装置に関す
るものである。
Secondly, according to the present invention, (a) at least the outer peripheral portion is filled with the contact area increasing material, and at least the contact area increasing material at the lower part is substantially immersed in the cooling liquid surface. A cylindrical body that rotates around a horizontally arranged support shaft; and a chamber that stores the cooling liquid and that houses the cylindrical body so as to come into contact with the high-temperature exhaust gas into which the contact area increasing material is introduced. A cooling mechanism in which a film of the cooling liquid is formed on the surface of the contact area increasing member by the rotation of the cylindrical body, and (b) at least a part of the lower portion is immersed in the cleaning liquid and is substantially horizontal to the cleaning liquid surface. One or two or more rotating discs that rotate around a support shaft arranged in, and one or two or more discharge electrodes that form a discharge state around this rotating disc, and the purification liquid is stored and the cooling is performed. From the mechanism A cleaning mechanism is provided, which is provided with a chamber in which the rotating disk and the discharge electrode are housed so as to come into contact with a gas to be discharged, and a cleaning mechanism which forms a film of the cleaning liquid on the surface of the rotating disk by the rotation of the rotating disk. The present invention relates to a rotary disk discharge type exhaust gas treatment device characterized by:

【0006】[0006]

【作用】前記第1の特徴を有する本発明の回転円盤放電
式排ガス処理装置によれば、ダストやすすを溶解または
吸収することのできる浄化液に浸されている回転円盤が
回転することによりその回転円盤の表面に浄化液の被膜
が形成される。したがって、この回転円盤放電式排ガス
処理装置が揺れても浄化液と回転円盤の接触が妨げられ
ることはなく常に浄化液の被膜がその回転円盤の表面に
形成され、ダストやすすの除去が常に良好に行われ、メ
ンテナンスの必要もない。また、浄化液に回転円盤が浸
されていることから浄化液と回転円盤とは狭い領域に収
容されており、この回転円盤放電式排ガス処理装置はコ
ンパククトであるといえる。この装置において放電電極
により放電状態が形成されることにより排ガスの有害成
分が反応して無害化または浄化液に溶解しやすい物質と
なる。
According to the rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus of the present invention having the above-mentioned first feature, the rotary disk immersed in the cleaning liquid capable of dissolving or absorbing dust or soot is rotated to rotate. A film of the cleaning liquid is formed on the surface of the rotating disk. Therefore, even if this rotary disk discharge type exhaust gas treatment device shakes, the contact between the cleaning liquid and the rotary disk is not hindered, and the film of the cleaning liquid is always formed on the surface of the rotary disk, and the removal of dust and soot is always good. No maintenance required. Further, since the rotary disc is immersed in the cleaning liquid, the cleaning liquid and the rotary disc are accommodated in a narrow area, and it can be said that the rotary disk discharge type exhaust gas treatment device is compact. When a discharge state is formed by the discharge electrode in this device, harmful components of the exhaust gas react to become harmless or become a substance that is easily dissolved in the purification liquid.

【0007】本発明の回転円盤放電式排ガス処理装置に
おいて、複数の回転円盤と複数の放電電極とを交互に配
することにより排ガスの有害成分の反応が効率的に行わ
れ、浄化液へのダストやすすの溶解能率も向上する。こ
の放電電極の少なくとも一部を沿面電極からなるように
すれば、放電状態がより広範囲に均一に広がり排ガスの
有害成分が反応しやすくなる。また、回転円盤は平板で
あってもよいが、この回転円盤を電極とする場合、パン
チ板または金網から作製すれば放電電極からの放電が生
じやすい。さらに、この装置を船舶において用いる場
合、浄化液を海水とすれば非常に都合が良い。
In the rotary disc discharge type exhaust gas treatment apparatus of the present invention, by alternately arranging a plurality of rotary discs and a plurality of discharge electrodes, the harmful components of the exhaust gas are efficiently reacted, and dust in the cleaning liquid is removed. The dissolution efficiency of soot is also improved. If at least a part of this discharge electrode is formed of a creeping electrode, the discharge state will spread evenly over a wider range, and the harmful components of the exhaust gas will easily react. Further, the rotating disk may be a flat plate, but when the rotating disk is used as an electrode, if it is made of a punch plate or a wire net, discharge from the discharge electrode is likely to occur. Furthermore, when using this device in a ship, it is very convenient to use seawater as the cleaning liquid.

【0008】また、前記第2の特徴を有する本発明の回
転円盤放電式排ガス処理装置は、前述した回転円盤放電
式排ガス処理装置と同様の浄化機構の上流に冷却機構が
接続されているものであり、排ガスが高温で浄化機構を
損なう場合に用いられるものである。この冷却機構によ
れば、回転されている円筒体に充填されている接触面積
増大材の表面に常に冷却液の被膜が形成されており、そ
の冷却液の被膜に高温の排ガスが接触することにより熱
交換が行われ熱い排ガスの温度が下がる。逆に加熱され
た冷却液の被膜は円筒体の回転によりチャンバー内の冷
却液溜に戻され、再び高温の排ガスと熱交換し得る冷却
液の被膜が接触面積増大材の表面に形成されて高温の排
ガスの冷却が連続的に行われる。この熱交換の際、ダス
トやすすのような排ガス成分が冷却液に溶けて排ガスか
ら除去されることがある。
Further, in the rotary disk discharge type exhaust gas treating apparatus of the present invention having the above-mentioned second characteristic, the cooling mechanism is connected upstream of the purifying mechanism similar to the rotary disk discharge type exhaust gas treating apparatus described above. It is used when exhaust gas impairs the purification mechanism at high temperature. According to this cooling mechanism, the cooling liquid film is always formed on the surface of the contact area increasing material filled in the rotating cylindrical body, and the high temperature exhaust gas comes into contact with the cooling liquid film. Heat exchange occurs and the temperature of the hot exhaust gas drops. On the contrary, the heated cooling liquid film is returned to the cooling liquid reservoir in the chamber by the rotation of the cylindrical body, and the cooling liquid film capable of exchanging heat with the hot exhaust gas is formed again on the surface of the contact area increasing material. The exhaust gas is continuously cooled. During this heat exchange, exhaust gas components such as dust and soot may be dissolved in the cooling liquid and removed from the exhaust gas.

【0009】この回転円盤放電式排ガス処理装置の浄化
機構の回転駆動と冷却機構の回転駆動は独立したもので
あってもよいが、同軸として同じ駆動系により回転させ
れば経済的であるとともに装置がコンパクトになる。ま
た、この回転円盤放電式排ガス処理装置が船舶で用いら
れる場合、浄化液のみならず冷却液も海水とすれば好都
合である。
The rotary drive of the purifying mechanism and the rotary drive of the cooling mechanism of this rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus may be independent, but it is economical and coaxial if they are rotated by the same drive system. Becomes compact. Further, when this rotary disk discharge type exhaust gas treatment device is used in a ship, it is convenient to use not only the purification liquid but also the cooling liquid as seawater.

【0010】[0010]

【実施例】次に、本発明による回転円盤放電式排ガス処
理装置の具体的実施例について図面を参照しつつ説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, specific embodiments of the rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0011】図1に本発明の一実施例による回転円盤放
電式排ガス処理装置1の斜視図が示されている。この回
転円盤放電式排ガス処理装置1は冷却機構2と浄化機構
3(本発明の回転円盤放電式排ガス処理装置)とからな
る。
FIG. 1 is a perspective view of a rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. This rotary disc discharge type exhaust gas treatment apparatus 1 comprises a cooling mechanism 2 and a purification mechanism 3 (the rotary disc discharge type exhaust gas treatment apparatus of the present invention).

【0012】この回転円盤放電式排ガス処理装置1にお
いて、例えばディーゼルエンジンの高温の排ガスがガス
導入部4から冷却機構2に導入されてその排ガスの冷却
および洗浄が行われる。冷却洗浄された排ガスはダクト
5を通って冷却機構2から浄化機構3に送られる。前記
冷却洗浄された排ガスは、この浄化機構3において絶縁
碍子6により絶縁されて供給されるパルス電流により放
電処理されてその有害成分が除去される。有害成分が除
去された排ガスはダクト7を通って排出される。
In the rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus 1, for example, high temperature exhaust gas of a diesel engine is introduced from the gas introduction section 4 into the cooling mechanism 2 to cool and wash the exhaust gas. The cooled and washed exhaust gas is sent from the cooling mechanism 2 to the purification mechanism 3 through the duct 5. The cooling-cleaned exhaust gas is subjected to discharge treatment by a pulse current supplied by being insulated by the insulator 6 in the purifying mechanism 3 to remove its harmful components. The exhaust gas from which the harmful components have been removed is discharged through the duct 7.

【0013】この回転円盤放電式排ガス処理装置1の冷
却機構2と浄化機構3との後述する動作は、一つのモー
タ8を駆動源として例えばチェーンおよびスプロケット
を介してそのモータ8に接続されている回転軸9の回転
により行われる。このように一つのモータを駆動源とし
ていることから、この回転円盤放電式排ガス処理装置1
はエネルギー的に経済的である。
In the operation of the cooling mechanism 2 and the purification mechanism 3 of the rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus 1 described later, one motor 8 is used as a drive source and is connected to the motor 8 via a chain and a sprocket, for example. The rotation is performed by rotating the rotating shaft 9. Since one motor is used as a drive source in this manner, this rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus 1
Is energetically economical.

【0014】前記冷却機構2の断面図が図2に示されて
いる。図2(a)は図1のA−Aラインが縦方向に切断
された断面図である。また図2(b)は図2(a)のB
−B線断面図である。
A sectional view of the cooling mechanism 2 is shown in FIG. FIG. 2A is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1 in the vertical direction. Further, FIG. 2 (b) is B of FIG. 2 (a).
It is a -B line sectional view.

【0015】図2(a),図2(b)に示されているよ
うに冷却機構2内において、前記回転軸9にその回転軸
9と同軸の円筒体10が取り付けられている。この円筒
体10の外周部分には接触面積増大材であるラシヒリン
グ(形状は限定されない)11が充填されており中心部
12は空洞になっている。また、ラシヒリング11を保
持している円筒体10の外周面13および内周面14は
気体が通過しうる材料からなっているが、側面15は気
体が通過できない隔壁となっている。
As shown in FIGS. 2A and 2B, in the cooling mechanism 2, a cylindrical body 10 coaxial with the rotating shaft 9 is attached to the rotating shaft 9. The outer peripheral portion of the cylindrical body 10 is filled with a Raschig ring (the shape is not limited) 11 that is a contact area increasing material, and the central portion 12 is hollow. The outer peripheral surface 13 and the inner peripheral surface 14 of the cylindrical body 10 holding the Raschig ring 11 are made of a material through which gas can pass, but the side surface 15 is a partition wall through which gas cannot pass.

【0016】この冷却機構2を構成するチャンバー16
の下部には冷却液が溜められている冷却液溜17があ
る。この冷却液は限定されないが船舶で使用する場合、
海水とすれば都合が良い。この冷却液溜17に前記円筒
体10に充填されているラシヒリング11の一部(下側
の部分)が常に浸っている。
Chamber 16 which constitutes this cooling mechanism 2
A cooling liquid reservoir 17 in which a cooling liquid is stored is provided in the lower part of the. This coolant is not limited, but when used on ships,
Seawater is convenient. A part (lower part) of the Raschig ring 11 with which the cylindrical body 10 is filled is always immersed in the cooling liquid reservoir 17.

【0017】この冷却機構2において、前述のようにガ
ス導入部4から高温の排ガスが導入される。導入された
高温の排ガスは図2に矢印で示されているように空洞で
ある円筒体10の中心部12を通り円筒体10に充填さ
れているラシヒリング11を内周面14から外周面13
に向かって通過する。より微細に見れば、この排ガスは
充填されているラシヒリング11に接触しつつ円筒体1
0内の上下・左右・前後の任意の方向に通過し得る。ま
た、円筒体10は回転軸9を中心に回転しているため、
接触面積の大きなラシヒリング11の表面には冷却液溜
17に浸ることにより冷却液の被膜が形成されていると
ともに、ラシヒリング11から冷却液が滴り落ちてい
る。したがって、前記高温の排ガスは充填されているラ
シヒリングを通過する際、冷却液の被膜に充分に接触す
るとともに滴り落ちてくる冷却液にさらされて冷却され
る(冷却液は加熱される)とともに排ガス中のすすやダ
ストおよびその他の溶解しやすいガス成分が冷却液に吸
収される。こうして加熱されすすやダスト等で汚れた冷
却液の被膜を有するラシヒリング11は円筒体10の回
転により再びチャンバー16下部の冷却液溜17に浸さ
れて洗浄され、このラシヒリング11の表面に再びきれ
いな加熱されていない冷却液の被膜が形成される。な
お、冷却液の被膜が形成される程度および冷却液が滴り
落ちる程度は回転軸9の回転速度の調整により制御する
ことができる。また、冷却されすすやダスト等の少なく
とも一部が除去された排ガスは前述したダクト5を通っ
て浄化機構3に送られる。
In this cooling mechanism 2, high-temperature exhaust gas is introduced from the gas introduction section 4 as described above. The introduced high-temperature exhaust gas passes through the center portion 12 of the hollow cylindrical body 10 as shown by the arrow in FIG. 2 and passes through the Raschig ring 11 filled in the cylindrical body 10 from the inner peripheral surface 14 to the outer peripheral surface 13.
Pass towards. From a finer point of view, this exhaust gas is in contact with the filled Raschig ring 11 while being in contact with the cylindrical body 1.
It can pass in any direction up / down, left / right, or front / back within 0. Further, since the cylindrical body 10 is rotating around the rotating shaft 9,
A cooling liquid film is formed on the surface of the Raschig ring 11 having a large contact area by being immersed in the cooling liquid reservoir 17, and the cooling liquid drips from the Raschig ring 11. Therefore, when the high-temperature exhaust gas passes through the filled Raschig ring, it is sufficiently contacted with the coating film of the cooling liquid and is exposed to the dripping cooling liquid to be cooled (the cooling liquid is heated) and the exhaust gas is discharged. Soot, dust and other easily dissolved gas components therein are absorbed by the coolant. In this way, the Raschig ring 11 having a cooling liquid coating film contaminated with soot, dust, etc. is immersed in the cooling liquid reservoir 17 below the chamber 16 again by the rotation of the cylindrical body 10 to be washed, and the surface of the Raschig ring 11 is again heated cleanly. A film of cooling liquid not formed is formed. The degree to which the cooling liquid film is formed and the degree to which the cooling liquid drips can be controlled by adjusting the rotation speed of the rotating shaft 9. In addition, the cooled exhaust gas from which at least a part of soot and dust has been removed is sent to the purification mechanism 3 through the duct 5 described above.

【0018】このように冷却機構2は冷却とともにすす
やダスト等を洗浄する機能を有しているので、図1に示
されているように浄化機構3の上流側のみならず浄化機
構3の下流側にも増設されてよい。
Since the cooling mechanism 2 has a function of cleaning soot and dust as well as cooling as described above, not only the upstream side of the purification mechanism 3 but also the downstream side of the purification mechanism 3 as shown in FIG. It may be added to the side.

【0019】前述のように浄化機構3に送られる冷却さ
れた排ガスの浄化動作が図3の断面図に示されている。
図3(a)は図2(a)と同様に縦方向に切断した面の
断面図であり、図3(b)は図3(a)のC−C線断面
図である。
The purifying operation of the cooled exhaust gas sent to the purifying mechanism 3 as described above is shown in the sectional view of FIG.
3A is a cross-sectional view of a plane cut in the vertical direction similarly to FIG. 2A, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line CC of FIG. 3A.

【0020】図示されているように、この浄化機構3に
おいては回転軸9に複数の回転円盤19が一定間隔で取
り付けられており、これら回転円盤19の間に扇形の複
数の放電電極20が一定間隔で配されている。各放電電
極20には絶縁碍子6を介してチャンバー18の頂部に
設けられている主電極22から電流が流される。そし
て、通常、回転円盤19が負極とされる。この電流がパ
ルス電流であり放電電極20からパルス放電されること
が好ましい。放電時に放電部分はコールドプラズマ領域
となっており、この領域において排ガス成分は活性化さ
れ反応しやすくなっている。
As shown in the figure, in the purifying mechanism 3, a plurality of rotating disks 19 are attached to the rotating shaft 9 at regular intervals, and a plurality of fan-shaped discharge electrodes 20 are fixed between the rotating disks 19. It is arranged at intervals. A current is applied to each discharge electrode 20 from the main electrode 22 provided on the top of the chamber 18 via the insulator 6. Then, the rotating disk 19 is usually set to the negative electrode. This current is a pulse current, and it is preferable that pulse discharge is performed from the discharge electrode 20. During discharge, the discharge part is in the cold plasma region, and the exhaust gas components are activated and easily react in this region.

【0021】また、回転円盤19の下部は、チャンバー
18の下部の浄化液が溜められている浄化液溜21に常
に浸されており、回転軸9の回転によりその回転円盤1
9の表面全体に浄化液の被膜が形成される。なお、この
被膜が形成される程度は回転軸9の回転速度の調整によ
り制御することができる。また、この浄化液は、特に限
定されないが、船舶上の用途においては海水であること
が好都合である。
The lower part of the rotating disk 19 is always immersed in the cleaning liquid reservoir 21 in the lower part of the chamber 18 in which the cleaning liquid is stored, and the rotating disk 1 is rotated by the rotation of the rotating shaft 9.
A film of the cleaning liquid is formed on the entire surface of 9. The degree of formation of this coating can be controlled by adjusting the rotation speed of the rotating shaft 9. Further, this purifying solution is not particularly limited, but is conveniently seawater for use on a ship.

【0022】この浄化機構3において、ダクト5から送
られてくる冷却された排ガスが回転円盤19と放電電極
20との間ならびにそれら放電電極20,回転円盤19
の周囲を通過する。排ガス中のダストやすす等の浄化液
に溶けやすい成分は回転円盤19の表面の浄化液被膜に
吸収され、浄化液に溶けにくい窒素酸化物のような有害
成分は放電電極20からの放電により反応して無害化さ
れ、または浄化液に溶けやすい物質になって浄化液被膜
に吸収される。そして、有害成分,ダスト,すす等が除
去された排ガスはダクト7を通して排出される。
In this purifying mechanism 3, the cooled exhaust gas sent from the duct 5 is discharged between the rotating disk 19 and the discharge electrode 20, and between the discharge electrode 20 and the rotating disk 19.
Pass around. Components of the exhaust gas that are easily dissolved in the cleaning liquid, such as dust and soot, are absorbed by the cleaning liquid film on the surface of the rotating disk 19, and harmful components such as nitrogen oxides that are difficult to dissolve in the cleaning liquid are reacted by the discharge from the discharge electrode 20. Then, it is rendered harmless or becomes a substance that is easily dissolved in the cleaning liquid and is absorbed by the cleaning liquid film. Then, the exhaust gas from which harmful components, dust, soot, etc. have been removed is discharged through the duct 7.

【0023】このような浄化機構3の浄化性能を向上さ
せるために、回転円盤19と放電電極20との数を増や
す、または浄化機構3のチャンバー18内に隔壁を設け
排ガスが通過する経路を長くして排ガスと回転円盤19
および放電電極20との接触時間および接触面積を増加
させることができる。また、処理する排ガス量およびそ
の排ガスの種類の応じて回転円盤19の数を増減させる
ことができる。
In order to improve the purification performance of the purification mechanism 3 as described above, the number of rotating disks 19 and the discharge electrodes 20 is increased, or partition walls are provided in the chamber 18 of the purification mechanism 3 to lengthen the path through which exhaust gas passes. Exhaust gas and rotating disk 19
Also, the contact time and contact area with the discharge electrode 20 can be increased. Further, the number of rotating disks 19 can be increased or decreased according to the amount of exhaust gas to be processed and the type of the exhaust gas.

【0024】以上のように回転円盤放電式排ガス処理装
置1においては、冷却液溜17,浄化液溜21にそれぞ
れラシヒリング11,回転円盤19が常に充分に浸って
いるので揺れによる影響を受けることなく、ラシヒリン
グ11,回転円盤19の表面に冷却液,浄化液の被膜が
常に形成されており常に良好で安全な排ガス処理が行わ
れる。また、処理効率が優れていることから浄化液とし
て特別の薬剤を用いる必要がなく海水を用いることがで
きるので経済的であるとともに安全である。
As described above, in the rotary disc discharge type exhaust gas treatment apparatus 1, since the Raschig ring 11 and the rotary disc 19 are always sufficiently immersed in the cooling liquid reservoir 17 and the purification liquid reservoir 21, respectively, there is no influence of shaking. Since the Raschig ring 11 and the rotary disk 19 are always coated with a cooling liquid and a cleaning liquid, good and safe exhaust gas treatment is always performed. Further, since the treatment efficiency is excellent, it is economical and safe because seawater can be used without using a special chemical as a cleaning liquid.

【0025】前記実施例において、冷却機構2は排ガス
が高温の場合、すすを多く含む場合に特に必要とされ、
そうでない場合は浄化機構3(回転円盤放電式排ガス処
理装置)のみで排ガスを処理することができる。また、
本発明において冷却機構2の駆動と浄化機構3の駆動を
別の駆動モータにより行ってもよい。
In the above embodiment, the cooling mechanism 2 is particularly required when the exhaust gas has a high temperature and contains a large amount of soot.
Otherwise, the exhaust gas can be treated only by the purifying mechanism 3 (rotary disk discharge type exhaust gas treatment device). Also,
In the present invention, the drive of the cooling mechanism 2 and the drive of the purification mechanism 3 may be performed by different drive motors.

【0026】また前記実施例において、放電電極20の
一部を誘電体を用いる沿面電極とする(すなわち重畳回
路を構成する)ことが好ましい。これは、放電面積が増
加し放電が放電電極20の周囲で均一に生じるためであ
る。沿面電極を用いる場合も、回転円盤19を負極とし
てよい。それにより沿面電極表面で放電が起こるととも
に沿面電極を含む放電電極20から回転円盤19への放
電が起こり排ガスの有害成分がより効果的に反応する。
Further, in the above embodiment, it is preferable that a part of the discharge electrode 20 is a creeping electrode using a dielectric (that is, a superposition circuit is formed). This is because the discharge area is increased and the discharge is uniformly generated around the discharge electrode 20. Also when the creeping electrode is used, the rotating disk 19 may serve as the negative electrode. As a result, a discharge is generated on the surface of the creeping electrode and a discharge from the discharge electrode 20 including the creeping electrode to the rotating disk 19 occurs, so that the harmful components of the exhaust gas react more effectively.

【0027】前記冷却機構2,浄化機構3において冷却
液,浄化液を供給するための供給ポンプ、汚れた冷却
液,浄化液を排出するための機構を設けることができ
る。排出機構としてはオーバーフローなどを用いること
ができる。オーバーフロー部は装置の傾斜の影響を受け
ない部分に設けられることが好ましく、例えば回転軸9
の近辺に設けられる。特に船舶上での使用においては、
汚れた冷却液,浄化液(海水)を海に直接排出すること
ができる。
In the cooling mechanism 2 and the purification mechanism 3, a supply pump for supplying the cooling liquid and the purification liquid, and a mechanism for discharging the dirty cooling liquid and the purification liquid can be provided. An overflow or the like can be used as the discharging mechanism. The overflow portion is preferably provided in a portion that is not affected by the inclination of the device, for example, the rotating shaft 9
Is provided near the Especially when used on ships,
Dirty cooling liquid and purification liquid (seawater) can be discharged directly into the sea.

【0028】前記回転円盤放電式排ガス処理装置1にお
いて、浄化機構3に送られる排ガスの温度は250℃以
下であることが好ましいので、冷却機構2は高温の排ガ
スを250℃以下に冷却する機能を備えることが要求さ
れる。
In the rotary disk discharge type exhaust gas treating apparatus 1, since the temperature of the exhaust gas sent to the purifying mechanism 3 is preferably 250 ° C. or lower, the cooling mechanism 2 has a function of cooling the high temperature exhaust gas to 250 ° C. or lower. It is required to prepare.

【0029】前記実施例において浄化液としてアルカリ
性液が用いられる場合、排ガス中の一酸化窒素が放電に
より酸化し二酸化窒素となりそのアルカリ性液と反応す
ることにより硝酸となりそのアルカリ性液に吸収され
る。本発明の装置によれば、ディーゼルエンジン排ガス
の他、ボイラおよび廃棄物焼却炉燃焼排ガスならびに悪
臭を有する残業排ガス等が浄化される。
When an alkaline liquid is used as the purifying liquid in the above-mentioned embodiment, nitric oxide in the exhaust gas is oxidized by discharge to form nitrogen dioxide, which reacts with the alkaline liquid to form nitric acid and is absorbed by the alkaline liquid. According to the apparatus of the present invention, in addition to diesel engine exhaust gas, boiler and waste incinerator combustion exhaust gas, overtime exhaust gas having a bad odor, and the like are purified.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明の回転円盤放電式排ガス処理装置
によれば、揺動状態にあってもダストやすすの除去が常
に良好に行われ、メンテナンスの必要もなくコンパクト
である。この本発明の装置において、複数の回転円盤と
複数の放電電極とを交互に配すれば排ガスの有害成分の
反応が効率的に行われ、浄化液へのダストやすすの溶解
能率も向上する。放電電極に沿面電極を用いれば、放電
状態がより広範囲に均一に広がり排ガスの有害成分が反
応しやすくなる。また、回転円盤をパンチ板または金網
から作製して放電効率を向上させることができる。ま
た、冷却機構を備える本発明の回転円盤放電式排ガス処
理装置によれば、高温の排ガスも問題なく処理すること
ができる。また、浄化液および冷却液を海水とすれば船
舶における用途に都合が良い。
According to the rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus of the present invention, dust and soot are always removed well even in the rocking state, and maintenance is not required, and the apparatus is compact. In this apparatus of the present invention, if a plurality of rotating disks and a plurality of discharge electrodes are alternately arranged, the reaction of harmful components of exhaust gas is efficiently performed, and the efficiency of dissolving dust or soot in the cleaning liquid is also improved. If a creeping electrode is used as the discharge electrode, the discharge state will spread evenly over a wider area and the harmful components of the exhaust gas will easily react. Further, the rotating disk can be made of a punch plate or a wire net to improve the discharge efficiency. Further, according to the rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus of the present invention including the cooling mechanism, high temperature exhaust gas can be treated without any problem. Further, if the purifying liquid and the cooling liquid are seawater, it is convenient for use in ships.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明の一実施例に係る回転円盤放電
式排ガス処理装置の斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】図2は、冷却機構を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a cooling mechanism.

【図3】図3は、浄化機構(回転円盤放電式排ガス処理
装置)を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a purification mechanism (rotary disk discharge type exhaust gas treatment device).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 回転円盤放電式排ガス処理装置 2 冷却機構 3 浄化機構 10 円筒体 11 ラシヒリング(接触面積増大材) 16,18 チャンバー 17 冷却液 19 回転円盤 20 放電電極 21 浄化液 1 Rotary Disc Discharge Type Exhaust Gas Treatment Device 2 Cooling Mechanism 3 Purification Mechanism 10 Cylindrical Body 11 Raschig Ring (Contact Area Increasing Material) 16, 18 Chamber 17 Cooling Liquid 19 Rotating Disc 20 Discharge Electrode 21 Purification Liquid

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01D 53/77 ZAB 53/50 53/56 53/74 B01D 53/34 129 C ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location B01D 53/77 ZAB 53/50 53/56 53/74 B01D 53/34 129 C

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)少なくとも下部の一部が浄化液に
浸りその浄化液面に略水平に配される支持軸を中心に回
転する一または二以上の回転円盤、 (b)この回転円盤の周囲に放電状態を形成する一また
は二以上の放電電極、および (c)前記浄化液が溜められるとともに、導入される排
ガスと接触するように前記回転円盤および前記放電電極
が収容されるチャンバーを備え、前記回転円盤の回転に
よりその回転円盤の表面に前記浄化液の被膜が形成され
ることを特徴とする回転円盤放電式排ガス処理装置。
1. (a) One or more rotating discs, at least a part of the lower part of which is submerged in the cleaning liquid and which rotates about a support shaft arranged substantially horizontally on the surface of the cleaning liquid, (b) this rotating disc. One or more discharge electrodes that form a discharge state around, and (c) a chamber for accommodating the cleaning liquid and for accommodating the rotating disk and the discharge electrode so as to come into contact with the introduced exhaust gas. A rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus, comprising a film of the cleaning liquid formed on a surface of the rotary disk by rotation of the rotary disk.
【請求項2】 複数の前記回転円盤と複数の前記放電電
極とが交互に配されることを特徴とする請求項1に記載
の回転円盤放電式排ガス処理装置。
2. The rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus according to claim 1, wherein a plurality of the rotary disks and a plurality of the discharge electrodes are alternately arranged.
【請求項3】 前記放電電極の少なくとも一部が沿面放
電電極から構成されることを特徴とする請求項1または
2に記載の回転円盤放電式排ガス処理装置。
3. The rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus according to claim 1, wherein at least a part of the discharge electrode is composed of a creeping discharge electrode.
【請求項4】 前記回転円盤が、平板,パンチ板または
金網から構成されることを特徴とする請求項1乃至3の
うちのいずれかに記載の回転円盤放電式排ガス処理装
置。
4. The rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus according to claim 1, wherein the rotary disk is composed of a flat plate, a punch plate, or a wire mesh.
【請求項5】 前記浄化液が海水であることを特徴とす
る請求項1乃至4のうちのいずれかに記載の回転円盤放
電式排ガス処理装置。
5. The rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus according to claim 1, wherein the purification liquid is seawater.
【請求項6】 (a)少なくとも外周部分に接触面積増
大材が充填されており少なくとも下部のその接触面積増
大材が冷却液に浸るようにその冷却液面に略水平に配さ
れる支持軸を中心に回転する円筒体と、前記冷却液が溜
められるとともに、前記接触面積増大材が導入される高
温の排ガスと接触するように前記円筒体が収容されるチ
ャンバーとを備え、前記円筒体の回転により前記接触面
積増大材の表面に前記冷却液の被膜が形成される冷却機
構、および(b)少なくとも下部の一部が浄化液に浸り
その浄化液面に略水平に配される支持軸を中心に回転す
る一または二以上の回転円盤と、この回転円盤の周囲に
放電状態を形成する一または二以上の放電電極と、前記
浄化液が溜められるとともに、前記冷却機構から排出さ
れるガスと接触するように前記回転円盤および前記放電
電極が収容されるチャンバーとを備え、前記回転円盤の
回転によりその回転円盤の表面に前記浄化液の被膜が形
成される浄化機構を備えることを特徴とする回転円盤放
電式排ガス処理装置。
6. (a) A support shaft, which is filled at least in the outer peripheral portion with a contact area increasing material, and which is arranged substantially horizontally on the cooling liquid surface so that the contact area increasing material at least in the lower part is immersed in the cooling liquid. A rotation of the cylindrical body is provided, which includes a cylindrical body that rotates in the center and a chamber that stores the cooling liquid and that accommodates the cylindrical body so as to come into contact with high-temperature exhaust gas into which the contact area increasing material is introduced. A cooling mechanism in which a film of the cooling liquid is formed on the surface of the contact area increasing material by (4), and (b) at least a part of the lower part is immersed in the cleaning liquid and the support shaft is arranged substantially horizontally on the surface of the cleaning liquid. One or more rotating discs that rotate around, and one or more discharge electrodes that form a discharge state around the rotating discs, and the cleaning liquid is stored and contacts the gas discharged from the cooling mechanism. Do And a chamber for accommodating the discharge electrode, wherein the rotating disc is provided with a purifying mechanism for forming a coating film of the cleaning liquid on the surface of the rotating disc. Electric discharge type exhaust gas treatment equipment.
【請求項7】 前記円筒体と前記回転円盤とが一つの駆
動系により同軸回転駆動される請求項6に記載の回転円
盤放電式排ガス処理装置。
7. The rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus according to claim 6, wherein the cylindrical body and the rotary disk are coaxially driven by one drive system.
【請求項8】 複数の前記回転円盤と複数の前記放電電
極とが交互に配されることを特徴とする請求項6または
7に記載の回転円盤放電式排ガス処理装置。
8. The rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus according to claim 6, wherein a plurality of the rotary disks and a plurality of the discharge electrodes are alternately arranged.
【請求項9】 前記放電電極の少なくとも一部が沿面放
電電極から構成されることを特徴とする請求項6乃至8
のうちのいずれかに記載の回転円盤放電式排ガス処理装
置。
9. The discharge electrode according to claim 6, wherein at least a part of the discharge electrode comprises a creeping discharge electrode.
The rotary disk discharge type exhaust gas treatment device according to any one of 1.
【請求項10】 前記回転円盤が、平板,パンチ板また
は金網から構成されることを特徴とする請求項6乃至9
のうちのいずれかに記載の回転円盤放電式排ガス処理装
置。
10. The rotating disk is formed of a flat plate, a punch plate, or a wire mesh.
The rotary disk discharge type exhaust gas treatment device according to any one of 1.
【請求項11】 前記冷却液および前記浄化液がいずれ
も海水であることを特徴とする請求項6乃至10のうち
のいずれかに記載の回転円盤放電式排ガス処理装置。
11. The rotary disk discharge type exhaust gas treatment apparatus according to claim 6, wherein the cooling liquid and the cleaning liquid are both seawater.
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