JPH08243511A - Substrate washer - Google Patents

Substrate washer

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Publication number
JPH08243511A
JPH08243511A JP7051367A JP5136795A JPH08243511A JP H08243511 A JPH08243511 A JP H08243511A JP 7051367 A JP7051367 A JP 7051367A JP 5136795 A JP5136795 A JP 5136795A JP H08243511 A JPH08243511 A JP H08243511A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
roll brush
substrate
brush
roll
cleaning apparatus
Prior art date
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Pending
Application number
JP7051367A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Taniguchi
訓 谷口
Yasumasa Shima
泰正 志摩
Katsumi Shimaji
克己 嶋治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP7051367A priority Critical patent/JPH08243511A/en
Publication of JPH08243511A publication Critical patent/JPH08243511A/en
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Abstract

PURPOSE: To obtain a substrate washer in which the thrusting quantity of a roll brush is finely controlled by a simple structure. CONSTITUTION: A conveying roller 2 supports a substrate W from below and conveys it horizontally. A roll brush 4 is arranged above the conveying roller 2 and has roll shafts 4a, 4b extending horizontally. A motor 41 rotates the roll brush 4 around the roll shafts 4a, 4b. A brush supporting means is constituted of links 91a, 91b, rotating plates 92a, 92b, and transmission arms 94. 95. The rotating plates 92a, 92b are driven to a desired rotational angle by a drive source. With the rotation of the rotating plate 92a, the rotational plate 92a is also rotated to the same angle through the transmission arms 94, 95. With it, links 91a, 91b connected to the rotating plates 92a, 92b are vertically moved. As a result, the roll brush 4 is vertically moved, always kept accurately parallel to the substrate W.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、液晶用ガラス角型基
板、カラーフィルタ用基板、フォトマスク用基板、半導
体ウエハなどの基板の表面を洗浄する基板洗浄装置に関
し、さらに詳しくはロールブラシを用いて上記基板の表
面を洗浄する基板洗浄装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate cleaning apparatus for cleaning the surface of a glass substrate for liquid crystals, a substrate for color filters, a substrate for photomasks, a semiconductor wafer or the like, and more particularly to a roll brush. And a substrate cleaning apparatus for cleaning the surface of the substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は、ロールブラシを用いて基板の表
面を洗浄する従来の基板洗浄装置の正面構造を示す図で
ある。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a diagram showing a front structure of a conventional substrate cleaning apparatus for cleaning the surface of a substrate using a roll brush.

【0003】この装置において、搬送ローラ2上で水平
方向に搬送される基板Wの表面は、これにモータ41か
らの駆動力によって回転するロールブラシ4を摺接させ
ることによって洗浄される。
In this apparatus, the surface of the substrate W conveyed in the horizontal direction on the conveying roller 2 is cleaned by bringing the roll brush 4 which is rotated by the driving force from the motor 41 into sliding contact therewith.

【0004】ここで、搬送ローラ2上で搬送される基板
Wの表面に対するロールブラシ4の押込量を調整する場
合には、点線矢印で示すように、目盛付ノブ71を適宜
回転させる。これにより、目盛付ノブ71に接続された
ウォームシャフトに一体化されたウォーム72a、72
bの水平軸回りの回転がそれぞれホイール73a、73
bの垂直軸回りの回転に変換されて伝達される。ホイー
ル73a、73bの回転に伴って、これらにそれぞれ接
続されたギアを介して昇降軸74a、74bがそれぞれ
回転し、ロールブラシ4のロール軸4a、4bを回転可
能に支持するベアリングホルダ75a、75bがそれぞ
れガイド軸76a、76bに沿って垂直方向に昇降す
る。これにより、ロールブラシ4がその姿勢を保ったま
まで微小量だけ昇降することとなり、基板Wの表面に対
するロールブラシ4の押込量が微調整される。
Here, in the case of adjusting the pushing amount of the roll brush 4 with respect to the surface of the substrate W transported on the transport roller 2, the scale knob 71 is appropriately rotated as indicated by a dotted arrow. As a result, the worms 72a, 72 integrated with the worm shaft connected to the scale knob 71 are formed.
The rotations of b around the horizontal axis are wheels 73a and 73, respectively.
It is converted into rotation about the vertical axis of b and transmitted. With the rotation of the wheels 73a and 73b, the lifting shafts 74a and 74b rotate via the gears respectively connected thereto, and the bearing holders 75a and 75b that rotatably support the roll shafts 4a and 4b of the roll brush 4. Vertically move up and down along the guide shafts 76a and 76b, respectively. As a result, the roll brush 4 is moved up and down by a very small amount while maintaining its posture, and the pushing amount of the roll brush 4 with respect to the surface of the substrate W is finely adjusted.

【0005】なお、基板Wによってはロールブラシ4を
使用しない場合もある。このような場合、実線矢印に示
すように、シリンダ61がOFF状態となって、一方の
第1リンク62aが支点Fを中心に時計方向に回転し、
この第1リンク62aに伝達リンク63を介して連結さ
れた他方の第1リンク62bも支点Fを中心に時計方向
に回転する。この結果、第1リンク62a、62bにそ
れぞれ昇降可能に支持された第2リンク64a、64b
が上方に移動する。そして、これら第2リンク64a、
64bとそれぞれ一体化された軸ホルダ65a、65b
を介して、ベアリングホルダ75a、75bがそれぞれ
ガイド軸76a、76bに沿って垂直方向に上昇する。
これにより、ロールブラシ4が基板Wからかなり離間す
ることとなり、ロールブラシによる洗浄が行われなくな
る。
The roll brush 4 may not be used depending on the substrate W. In such a case, as shown by the solid line arrow, the cylinder 61 is in the OFF state, and the one first link 62a rotates clockwise about the fulcrum F,
The other first link 62b connected to the first link 62a via the transmission link 63 also rotates clockwise around the fulcrum F. As a result, the second links 64a and 64b supported by the first links 62a and 62b so as to be able to move up and down, respectively.
Moves upwards. Then, these second links 64a,
64b and shaft holders 65a and 65b respectively integrated with
The bearing holders 75a and 75b ascend vertically along the guide shafts 76a and 76b, respectively.
As a result, the roll brush 4 is considerably separated from the substrate W, and cleaning by the roll brush is not performed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の装置で
は、単一の駆動源であるシリンダ61の直線運動を第1
リンク62a、62b及び第2リンク64a、64bに
よって一対のベアリングホルダ75a、75bの直線運
動となるように分岐して伝達しているので、連結点が多
くなり、ロールブラシ4両端における昇降位置を微妙に
制御することが比較的困難である。
However, in the above device, the linear motion of the cylinder 61, which is a single drive source, is first
Since the links 62a and 62b and the second links 64a and 64b branch and transmit so as to make a linear motion of the pair of bearing holders 75a and 75b, the number of connecting points increases, and the ascending / descending positions at both ends of the roll brush 4 are delicate. It is relatively difficult to control.

【0007】また、上記の装置では、目盛付ノブ71の
回転運動をウォーム72a、72b、ホイール73a、
73b及び昇降軸74a、74bによって一対のベアリ
ングホルダ75a、75bの直線運動となるように変換
して伝達しているので、ウォーム72a、72b、ホイ
ール73a、73b等の非対称性によって生じるバック
ラッシュ量等の差に起因して、ロールブラシ4両端にお
ける昇降位置の誤差をさらに加算させる結果となる。
Further, in the above apparatus, the rotary movement of the knob 71 with scale is adjusted by the worms 72a, 72b, the wheel 73a,
Since 73b and the lifting shafts 74a and 74b convert and transmit the pair of bearing holders 75a and 75b so as to make a linear motion, the amount of backlash caused by the asymmetry of the worms 72a and 72b, the wheels 73a and 73b, etc. As a result, the error of the ascending / descending position at both ends of the roll brush 4 is further added due to the difference of the above.

【0008】さらに、上記の装置では、ロールブラシ4
の押込量を調節する機構とロールブラシ4のON・OF
Fを選択する機構とがそれぞれ別々の駆動源を有してロ
ールブラシ4に作用するように構成されているので、そ
の構造が複雑である。
Further, in the above apparatus, the roll brush 4
ON / OF of roll brush 4
Since the mechanism for selecting F has a separate drive source and acts on the roll brush 4, its structure is complicated.

【0009】そこで、この発明は、簡単な構成でロール
ブラシの押込量を微妙に制御することが可能な基板洗浄
装置を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus capable of delicately controlling the pushing amount of a roll brush with a simple structure.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1の基板洗浄装置は、水平方向に搬送される
基板の表面をロールブラシを用いて洗浄する基板洗浄装
置において、基板を下方から支持して水平方向に搬送す
る搬送手段と、搬送手段の上方に配置され、水平方向に
伸びるロール軸を有するロールブラシと、ロールブラシ
をロール軸の回りに回転させるブラシ回転手段と、単一
の駆動源を有し、この単一の駆動源によって駆動され
て、搬送される基板の表面に対してロールブラシを昇降
させてロールブラシを所望の位置に支持することによ
り、搬送される基板の表面に対してロールブラシの使用
及び不使用のいずれかの状態を選択するとともに、ロー
ルブラシの使用状態を選択した場合に搬送される基板の
表面に対するロールブラシの押込量を調節するブラシ駆
動手段とを備えることを特徴とする。
In order to solve the above problems, a substrate cleaning apparatus according to a first aspect of the present invention is a substrate cleaning apparatus for cleaning a surface of a substrate conveyed in a horizontal direction by using a roll brush. Transporting means for supporting and transporting in a horizontal direction, a roll brush arranged above the transporting means and having a roll shaft extending in the horizontal direction, a brush rotating means for rotating the roll brush around the roll shaft, Driven by this single drive source, the roll brush is moved up and down with respect to the surface of the substrate to be transported and the roll brush is supported at a desired position. In addition to selecting whether the roll brush is used or not for the surface, the roll brush for the surface of the substrate to be transported when the use state of the roll brush is selected. Characterized in that it comprises a brush drive means for adjusting the amount of pushing.

【0011】また、請求項2の基板洗浄装置は、ブラシ
駆動手段が、ロールブラシのロール軸の両端を互いに連
動させて変位させることを特徴とする。
Further, in the substrate cleaning apparatus of the second aspect, the brush driving means displaces both ends of the roll shaft of the roll brush in association with each other.

【0012】また、請求項3の基板洗浄装置は、ブラシ
駆動手段が、単一の回転駆動源とその回転運動をロール
ブラシの昇降方向の直線運動に変換してロールブラシに
伝達する伝達機構とを有することを特徴とする。
Further, in the substrate cleaning apparatus according to a third aspect of the present invention, the brush driving means includes a single rotary drive source and a transmission mechanism for converting the rotational movement thereof into a linear movement in the vertical direction of the roll brush and transmitting it to the roll brush. It is characterized by having.

【0013】[0013]

【作用】請求項1の基板洗浄装置では、単一の駆動源に
よって駆動されて、搬送される基板の表面に対してロー
ルブラシを昇降させてロールブラシを所望の位置に支持
することにより、搬送される基板の表面に対してロール
ブラシの使用及び不使用のいずれかの状態を選択すると
ともに、ロールブラシの使用状態を選択した場合に搬送
される基板の表面に対するロールブラシの押込量を調節
するブラシ駆動手段を備えるので、ロールブラシの使用
状態又は不使用状態の選択とロールブラシの押込量の調
節とを個別の駆動源で行う必要がなくなり、装置の構造
を簡単なものとすることができるとともに、ブラシ駆動
手段に内在する誤差要因を少なくしてロールブラシの基
板表面に対する位置をより正確に制御することができ
る。
According to the substrate cleaning apparatus of the present invention, the substrate is driven by a single driving source to move the roll brush up and down with respect to the surface of the substrate to be transported, thereby supporting the roll brush at a desired position. Select the use or non-use state of the roll brush for the surface of the substrate, and adjust the pushing amount of the roll brush to the surface of the substrate to be transported when the use state of the roll brush is selected. Since the brush driving means is provided, it is not necessary to select the use state or the non-use state of the roll brush and the adjustment of the pushing amount of the roll brush by separate drive sources, and the structure of the device can be simplified. At the same time, it is possible to more accurately control the position of the roll brush with respect to the substrate surface by reducing the error factor that is inherent in the brush driving means.

【0014】また、請求項2の基板洗浄装置では、ブラ
シ駆動手段がロールブラシのロール軸の両端を互いに連
動させて変位させるので、単一の駆動源からの駆動によ
ってロールブラシの姿勢を保ってその両端を確実に所望
の位置に支持することができる。
Further, in the substrate cleaning apparatus of the second aspect, since the brush driving means displaces both ends of the roll shaft of the roll brush in association with each other, the posture of the roll brush is maintained by the drive from the single drive source. Both ends can be reliably supported at desired positions.

【0015】また、請求項3の基板洗浄装置では、ブラ
シ駆動手段が単一の回転駆動源とその回転運動をロール
ブラシの昇降方向の直線運動に変換してロールブラシに
伝達する伝達機構とを有するので、ロールブラシの昇降
方向の位置を回転駆動源の回転角によって比較的正確に
調節することができる。
According to another aspect of the substrate cleaning apparatus of the present invention, the brush drive means includes a single rotary drive source and a transmission mechanism for converting the rotary motion into a linear motion in the vertical direction of the roll brush and transmitting the linear motion to the roll brush. Since it has, the position of the roll brush in the vertical direction can be adjusted relatively accurately by the rotation angle of the rotary drive source.

【0016】[0016]

【実施例】以下、図面を参照しつつ、この発明の一実施
例である基板洗浄装置について詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0017】図1は、実施例の基板洗浄装置の正面構造
を説明する図である。基板Wを紙面に垂直な水平方向に
搬送する搬送ローラ2は、一対の側板21a、21bに
回転可能に支持されている。これら一対の側板21a、
21bの下端部間に接続されている底部板21cは、基
板Wの洗浄後に下方に流下する洗浄液を回収する部分で
ある。なお、一対の側板21a、21bによって支持さ
れている搬送ローラ2の左右の回転軸22a、22bの
いずれか一方は、図示を省略するプーリー及びベルトを
介して回転駆動源に直接または間接的に接続されている
ので、搬送ローラ2上の基板Wは水平方向に定速で搬送
される。
FIG. 1 is a diagram for explaining the front structure of the substrate cleaning apparatus of the embodiment. The transport roller 2 that transports the substrate W in the horizontal direction perpendicular to the paper surface is rotatably supported by the pair of side plates 21a and 21b. These pair of side plates 21a,
The bottom plate 21c connected between the lower ends of 21b is a part for collecting the cleaning liquid flowing down after cleaning the substrate W. One of the left and right rotary shafts 22a and 22b of the transport roller 2 supported by the pair of side plates 21a and 21b is directly or indirectly connected to a rotary drive source via a pulley and a belt (not shown). Therefore, the substrate W on the transport roller 2 is transported in the horizontal direction at a constant speed.

【0018】基板Wの表面を洗浄するためのロールブラ
シ4は、その両端に設けた一対のロール軸4a、4bに
よって、ベアリング81a、81bを介して一対のベア
リングホルダ85a、85bに回転可能に支持されてい
る。そして、一方のベアリングホルダ85a(図面左
側)には、ブラケット42を介してモータ41が固設さ
れている。このモータ41の回転は、カップリング43
を介してロール軸4aに伝達されるので、ロールブラシ
4は、一対のロール軸4a、4bの中心軸を通って水平
方向ABに平行に延びる回転軸の回りで定速回転するこ
ととなる。
The roll brush 4 for cleaning the surface of the substrate W is rotatably supported by a pair of bearing holders 85a and 85b via bearings 81a and 81b by a pair of roll shafts 4a and 4b provided at both ends thereof. Has been done. The motor 41 is fixed to one bearing holder 85a (on the left side in the drawing) via the bracket 42. The rotation of the motor 41 is caused by the coupling 43
Since it is transmitted to the roll shaft 4a via the roll shaft 4a, the roll brush 4 rotates at a constant speed around a rotation shaft that extends in parallel to the horizontal direction AB through the central axes of the pair of roll shafts 4a and 4b.

【0019】ロールブラシ4を支持する一対のベアリン
グホルダ85a、85bは、リニアボール86a、86
bを介して一対のガイド軸76a、76bにそれぞれ支
持されており、これらガイド軸76a、76bに沿って
垂直方向に滑らかに昇降可能となっている。ベアリング
ホルダ85a、85bの昇降位置は、それぞれにピン1
0を介して連結されたリンク91a、91bによって調
節可能となっている。これらのリンク91a、91b
は、第1及び第2伝達アーム94、95の協働によって
同期して同時に同一量だけ回転する一対の回転板92
a、92bにピン10を介して連結されており、一対の
回転板92a、92bの回転に伴って同時に同一量だけ
昇降運動する。したがって、一対のリンク91a、91
bに支持された一対のベアリングホルダ85a、85b
の昇降位置を常に左右一致した状態とすることができ、
これらに支持されたロールブラシ4は、水平方向ABを
軸芯とする状態を保ったままで垂直方向CDに関して往
復動可能となる。
The pair of bearing holders 85a and 85b for supporting the roll brush 4 include linear balls 86a and 86b.
It is supported by a pair of guide shafts 76a and 76b via b, respectively, and can be smoothly moved vertically along these guide shafts 76a and 76b. The ascending / descending positions of the bearing holders 85a and 85b are set to the pin
It is adjustable by links 91a and 91b connected via 0. These links 91a, 91b
Is a pair of rotating plates 92 that are simultaneously rotated by the same amount in synchronization with the cooperation of the first and second transmission arms 94 and 95.
It is connected to a and 92b via a pin 10 and simultaneously moves up and down by the same amount as the pair of rotary plates 92a and 92b rotate. Therefore, the pair of links 91a, 91
a pair of bearing holders 85a, 85b supported by b
It is possible to always make the up and down position of the left and right match,
The roll brush 4 supported by these can reciprocate with respect to the vertical direction CD while maintaining the state in which the horizontal direction AB is the axis center.

【0020】図2は、一方の回転板92aの構造を説明
する図で、図2(a)はその正面拡大図であり、図2
(b)はその右側面図である。この回転板92aは、回
転軸97aを介して接続されているリバーシブルモータ
やステッピングモータからなる駆動モータ98からの駆
動力を受けて、回転軸97aの回りに適宜正逆回転す
る。この際、駆動モータ98の回転角は、ロータリーエ
ンコーダ99a及びセンサ99bによって検出されてお
り、さらに図示を省略する制御装置で常にモニタされて
いる。したがって、回転板92aの回転角は、制御装置
からの制御信号に基づいて正確に制御される。
FIG. 2 is a view for explaining the structure of one of the rotary plates 92a, and FIG. 2 (a) is an enlarged front view thereof.
(B) is a right side view. The rotary plate 92a receives a driving force from a drive motor 98 composed of a reversible motor and a stepping motor connected via a rotary shaft 97a, and appropriately rotates in the normal and reverse directions around the rotary shaft 97a. At this time, the rotation angle of the drive motor 98 is detected by the rotary encoder 99a and the sensor 99b, and is constantly monitored by a control device (not shown). Therefore, the rotation angle of the rotary plate 92a is accurately controlled based on the control signal from the control device.

【0021】この回転板92aの同一半径r上の対向位
置には、第1及び第2伝達アーム94、95がそれぞれ
ピン10を介して連結されている。さらに、第2伝達ア
ーム95の連結位置にはリンク91aも連結されてい
る。したがって、駆動モータ98に連結された回転板9
2aの回転に伴って、これに連結されたリンク91aが
上下動する。この際、駆動モータ98によって回転板9
2aの回転角が制御されているので、リンク91aひい
てはこの延長端に連結されたベアリングホルダ85a
(図1参照)の上下位置を正確に調節することができ
る。
First and second transmission arms 94 and 95 are connected to the opposite positions of the rotary plate 92a on the same radius r via pins 10, respectively. Further, a link 91a is also connected to the connection position of the second transmission arm 95. Therefore, the rotary plate 9 connected to the drive motor 98
Along with the rotation of 2a, the link 91a connected thereto moves up and down. At this time, the rotary plate 9 is driven by the drive motor 98.
Since the rotation angle of 2a is controlled, the link 91a and the bearing holder 85a connected to this extension end are connected.
The vertical position of (see FIG. 1) can be accurately adjusted.

【0022】図3は、他方の回転板92bの構造を説明
する図で、図3(a)はその正面拡大図であり、図3
(b)はその下面図である。この回転板92bは、水平
方向に延びる回転軸97bの回りに回転可能となてい
る。
FIG. 3 is a view for explaining the structure of the other rotating plate 92b, and FIG. 3 (a) is an enlarged front view thereof.
(B) is the bottom view. The rotary plate 92b is rotatable about a rotary shaft 97b extending in the horizontal direction.

【0023】この回転板92bの同一半径r上の対向位
置には、一端側で回転板92aに連結された第1及び第
2伝達アーム94、95の他端側が、回転板92aの場
合と同様に、それぞれピン10を介して連結されてい
る。したがって、回転板92bは、駆動モータ98によ
って回転角が制御されている回転板92aに同期してこ
れと等角だけ回転することとなる。このことは、図2
(a)で示す回転板92aの近傍における第1及び第2
伝達アーム94、95の間隔δaと、図3(a)で示す
回転板92bの近傍における第1及び第2伝達アーム9
4、95の間隔δbとが等しいことを意味する。
At the opposite positions on the same radius r of the rotary plate 92b, the other ends of the first and second transmission arms 94 and 95 connected to the rotary plate 92a at one end are the same as in the case of the rotary plate 92a. Are connected to each other via pins 10. Therefore, the rotary plate 92b rotates in the same angle as the rotary plate 92a whose rotation angle is controlled by the drive motor 98 in synchronization with the rotary plate 92a. This is illustrated in FIG.
The first and second parts in the vicinity of the rotary plate 92a shown in (a)
The distance δa between the transmission arms 94 and 95 and the first and second transmission arms 9 near the rotary plate 92b shown in FIG. 3A.
This means that the interval δb of 4,95 is equal.

【0024】さらに、第2伝達アーム95の連結位置に
はリンク91bも連結されている。したがって、駆動モ
ータ98に連結された回転板92aの回転に伴って回転
板92bも回転するとともに、これに連結されたリンク
91bが上下動することとなる。この際、駆動モータ9
8によって回転板92aの回転角が制御され、これに伴
って回転板92bの回転角も制御されることとなるの
で、リンク91bひいてはこの延長端上に連結されたベ
アリングホルダ85b(図1参照)の上下位置を正確に
調節することができる。この結果、図1で示すような、
ベアリングホルダ85a側の基板・ブラシ間隔γaと、
ベアリングホルダ85b側の基板・ブラシ間隔γbとを
精密に一致させることができ、さらにロールブラシ4を
基板Wに対して精密に平行に保ったままで昇降させるこ
とができる。すなわち、回転角が制御された駆動モータ
98と、リンク91a、91b、回転板92a、92b
及び伝達アーム94、95からなる支持機構とを備える
簡単な構造のブラシ駆動手段によって、ロールブラシ4
を正確に昇降運動させることができる。よって、基板W
にロールブラシ4を当接させる使用状態と基板Wをロー
ルブラシ4から離す不使用状態とのいずれかを選択する
ことができ、さらにロールブラシ4を使用状態とした場
合には、基板Wの表面に対するロールブラシ4の押込量
を正確に調節することができる。
Further, a link 91b is also connected to the connecting position of the second transmission arm 95. Therefore, as the rotary plate 92a connected to the drive motor 98 rotates, the rotary plate 92b also rotates, and the link 91b connected thereto also moves up and down. At this time, the drive motor 9
The rotation angle of the rotary plate 92a is controlled by 8 and the rotation angle of the rotary plate 92b is also controlled accordingly, so that the link 91b and thus the bearing holder 85b connected to this extended end (see FIG. 1). The vertical position of can be adjusted accurately. As a result, as shown in FIG.
The substrate / brush distance γa on the bearing holder 85a side,
It is possible to precisely match the substrate / brush distance γb on the bearing holder 85b side, and further it is possible to move up and down while keeping the roll brush 4 precisely parallel to the substrate W. That is, the drive motor 98 whose rotation angle is controlled, the links 91a and 91b, and the rotary plates 92a and 92b.
And a support mechanism composed of the transmission arms 94 and 95.
Can be accurately moved up and down. Therefore, the substrate W
It is possible to select either a use state in which the roll brush 4 is brought into contact with the roll brush 4 or a non-use state in which the substrate W is separated from the roll brush 4, and when the roll brush 4 is set in the use state, the surface of the substrate W The pushing amount of the roll brush 4 with respect to can be accurately adjusted.

【0025】なお、実施例におけるロールブラシ4用の
支持機構(リンク91a、91b、回転板92a、92
b及び伝達アーム94、95)は、これを構成する駆動
要素が少ないので、組立時の誤差のみならず、動作時の
誤差が少ないものとなっている。さらに、一対の回転板
92a、92bを連結する一対のリンク91a、91b
は、互いに助け合う方向に力が働く構造となっているの
で、ロールブラシ4の昇降動作における両リンク91
a、91bの上下方向の移動量の差を極めて小さくする
ことができ、ロールブラシ4を基板Wに対して極めて精
密に平行に保ったままで滑らかに昇降させることができ
る。
The support mechanism for the roll brush 4 in the embodiment (links 91a, 91b, rotary plates 92a, 92) is used.
b and the transmission arms 94, 95) have a small number of drive elements, so that not only errors during assembly but also errors during operation are small. Furthermore, a pair of links 91a and 91b connecting the pair of rotating plates 92a and 92b.
Has a structure in which forces act in the mutually assisting direction, so that both links 91 during the lifting operation of the roll brush 4 are
The difference in the amount of vertical movement of a and 91b can be made extremely small, and the roll brush 4 can be smoothly moved up and down while being kept in parallel with the substrate W with extremely high precision.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の基板洗
浄装置によれば、単一の駆動源によって駆動されて、搬
送される基板の表面に対してロールブラシを昇降させて
ロールブラシを所望の位置に支持することにより、搬送
される基板の表面に対してロールブラシの使用及び不使
用のいずれかの状態を選択するとともに、ロールブラシ
の使用状態を選択した場合に搬送される基板の表面に対
するロールブラシの押込量を調節するブラシ駆動手段を
備えるので、ロールブラシの使用状態又は不使用状態の
選択とロールブラシの押込量の調節とを個別の駆動源で
行う必要がなくなり、装置の構造を簡単なものとするこ
とができるとともに、ブラシ駆動手段に内在する誤差要
因を少なくしてロールブラシの基板表面に対する位置を
より正確に制御することができる。
As described above, according to the substrate cleaning apparatus of the first aspect, the roll brush is driven by the single drive source to move up and down with respect to the surface of the substrate to be conveyed. By supporting at a desired position, it is possible to select either the use state or non-use state of the roll brush with respect to the surface of the substrate to be transported, and the substrate to be transported when the usage state of the roll brush is selected. Since the brush drive means for adjusting the pushing amount of the roll brush with respect to the surface is provided, it is not necessary to perform selection of the used state or the unused state of the roll brush and the adjustment of the pushed amount of the roll brush by separate drive sources, and the device The structure can be simplified, and the error factors inherent in the brush driving means are reduced to more accurately control the position of the roll brush with respect to the substrate surface. It is possible.

【0027】また、請求項2の基板洗浄装置によれば、
ブラシ駆動手段がロールブラシのロール軸の両端を互い
に連動させて変位させるので、単一の駆動源からの駆動
によってロールブラシの姿勢を保ってその両端を確実に
所望の位置に支持することができる。
According to the substrate cleaning apparatus of the second aspect,
Since the brush drive means displaces both ends of the roll shaft of the roll brush in association with each other, the posture of the roll brush can be maintained by the drive from the single drive source and both ends can be reliably supported at desired positions. .

【0028】また、請求項3の基板洗浄装置によれば、
ブラシ駆動手段が単一の回転駆動源とその回転運動をロ
ールブラシの昇降方向の直線運動に変換してロールブラ
シに伝達する伝達機構とを有するので、ロールブラシの
昇降方向の位置を回転駆動源の回転角によって比較的正
確に調節することができる。
According to the substrate cleaning apparatus of the third aspect,
Since the brush driving means has a single rotary drive source and a transmission mechanism for converting the rotational motion thereof into a linear motion in the vertical direction of the roll brush and transmitting the linear motion to the roll brush, the position of the roll brush in the vertical direction is controlled by the rotary drive source. It can be adjusted relatively accurately by the angle of rotation of the.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例の基板洗浄装置の正面構造を説明する図
である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a front structure of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment.

【図2】図1の装置の一部を拡大して示した図である。FIG. 2 is an enlarged view of a part of the apparatus shown in FIG.

【図3】図1の装置の一部を拡大して示した図である。FIG. 3 is an enlarged view of a part of the apparatus shown in FIG.

【図4】従来の基板洗浄装置の正面構造を説明する図で
ある。
FIG. 4 is a diagram illustrating a front structure of a conventional substrate cleaning apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

W 基板 2 搬送ローラ 4 ロールブラシ 85a、85b ベアリングホルダ 91a、91b リンク 92a、92b 回転板 94、95 第1及び第2伝達アーム 98 駆動モータ W substrate 2 transport roller 4 roll brush 85a, 85b bearing holder 91a, 91b link 92a, 92b rotating plate 94, 95 first and second transmission arm 98 drive motor

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 水平方向に搬送される基板の表面をロー
ルブラシを用いて洗浄する基板洗浄装置において、 基板を下方から支持して水平方向に搬送する搬送手段
と、 搬送手段の上方に配置され、水平方向に伸びるロール軸
を有するロールブラシと、 ロールブラシをロール軸の回りに回転させるブラシ回転
手段と、 単一の駆動源を有し、この駆動源によって駆動されて、
搬送される基板の表面に対してロールブラシを昇降させ
てロールブラシを所望の位置に支持することにより、搬
送される基板の表面に対してロールブラシの使用及び不
使用のいずれかの状態を選択するとともに、ロールブラ
シの使用状態を選択した場合に搬送される基板の表面に
対するロールブラシの押込量を調節するブラシ駆動手段
と、を備えることを特徴とする基板洗浄装置。
1. A substrate cleaning apparatus for cleaning the surface of a substrate transported in the horizontal direction by using a roll brush, a transport means for supporting the substrate from below and transporting the substrate in the horizontal direction, and a transport means disposed above the transport means. , A roll brush having a roll shaft extending in the horizontal direction, a brush rotating means for rotating the roll brush around the roll shaft, and a single drive source, driven by this drive source,
Select whether the roll brush is used or not for the surface of the substrate to be transported by raising and lowering the roll brush to the desired position to support the roll brush at the desired position. And a brush driving unit that adjusts the pressing amount of the roll brush with respect to the surface of the substrate that is conveyed when the usage state of the roll brush is selected.
【請求項2】 ブラシ駆動手段は、ロールブラシのロー
ル軸の両端を互いに連動させて変位させることを特徴と
する請求項1記載の基板洗浄装置。
2. The substrate cleaning apparatus according to claim 1, wherein the brush driving means displaces both ends of the roll shaft of the roll brush in association with each other.
【請求項3】 ブラシ駆動手段は、単一の回転駆動源と
その回転運動をロールブラシの昇降方向の直線運動に変
換してロールブラシに伝達する伝達機構とを有すること
を特徴とする請求項1記載の基板洗浄装置。
3. The brush drive means has a single rotary drive source and a transmission mechanism for converting the rotary motion thereof into a linear motion in the vertical direction of the roll brush and transmitting the linear motion to the roll brush. 1. The substrate cleaning apparatus according to 1.
JP7051367A 1995-03-10 1995-03-10 Substrate washer Pending JPH08243511A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10680496B2 (en) 2017-01-30 2020-06-09 Ebara Corporation Motor attachment bracket, motor attachment structure, and substrate processing apparatus

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