JPH08239648A - Ultraviolet absorber - Google Patents
Ultraviolet absorberInfo
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- JPH08239648A JPH08239648A JP4176295A JP4176295A JPH08239648A JP H08239648 A JPH08239648 A JP H08239648A JP 4176295 A JP4176295 A JP 4176295A JP 4176295 A JP4176295 A JP 4176295A JP H08239648 A JPH08239648 A JP H08239648A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線吸収剤に関す
る。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an ultraviolet absorber.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、紫外線吸収乃至遮断剤としては、
大きく分けて、紫外線を吸収する有機化合物系のもの
と、紫外線を反射する酸化亜鉛、酸化チタン等の金属酸
化物系のものが知られている。これらの紫外線吸収乃至
遮断剤は、皮膚の紅斑、日焼け、黒化、早期老化等の防
止を目的として化粧品、医薬部外品等に配合されてお
り、また、プラスチックス、ゴム等の有機高分子材料の
紫外線による劣化防止を目的として、各種の有機高分子
材料にも配合されている。2. Description of the Related Art Conventionally, as an ultraviolet absorbing or blocking agent,
It is roughly classified into an organic compound type that absorbs ultraviolet rays and a metal oxide type that reflects ultraviolet rays such as zinc oxide and titanium oxide. These ultraviolet absorbers or blockers are incorporated in cosmetics, quasi drugs, etc. for the purpose of preventing erythema, sunburn, blackening, premature aging of the skin, and organic polymers such as plastics and rubber. It is also compounded in various organic polymer materials for the purpose of preventing deterioration of the material by ultraviolet rays.
【0003】しかしながら、これらの従来の紫外線吸収
乃至遮断剤のうちで、有機化合物系のものは、紫外線に
より分解されやすいために効果の持続時間が短く、ま
た、化粧品、医薬部外品等に配合した場合には、皮膚か
ら吸収され易く、皮膚に対する刺激性があり、副作用と
して、例えば、アレルギー反応や炎症反応を生じさせる
などの問題点がある。また、金属酸化物系のものは、例
えば、化粧品、医薬部外品等に配合した場合には、透明
性及び使用感が悪く、持続性も劣り、刺激性、炎症反応
等の副作用もあり、常時の使用には問題が残る。However, among these conventional ultraviolet absorbers or blockers, organic compounds are short-lived because they are easily decomposed by ultraviolet rays, and are compounded in cosmetics and quasi drugs. In that case, it is easily absorbed from the skin and is irritating to the skin. As a side effect, there are problems such as an allergic reaction and an inflammatory reaction. Further, metal oxides, for example, when incorporated into cosmetics, quasi-drugs, etc., have poor transparency and feeling in use, poor sustainability, and have side effects such as irritation and inflammatory reaction. There are still problems with regular use.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明の主な目的は、
全域の紫外線を有効に吸収乃至遮断することができ、長
時間安定であり、他の材料と反応せず、皮膚からの吸収
性や皮膚への刺激性が少なく、例えば、炎症反応、刺激
反応等の副作用がなく、透明性、使用感等も良好な紫外
線吸収剤を提供することである。The main object of the present invention is to:
It can effectively absorb or block ultraviolet rays in the whole area, is stable for a long time, does not react with other materials, has little absorbability from the skin or irritation to the skin, for example, inflammatory reaction, irritative reaction, etc. It is an object of the present invention to provide an ultraviolet absorber which has no side effects and is excellent in transparency and feeling of use.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記した如
き従来技術の問題点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、合
成雲母の層間に芳香族系紫外線吸収剤をインターカレー
トした化合物、即ち、層状構造を有する合成雲母の結晶
の層間に芳香族系紫外線吸収剤を挿入した化合物によれ
ば、上記した目的を達成し得る紫外線吸収剤が得られる
ことを見出し、ここに本発明を完成するに至った。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies in view of the problems of the prior art as described above, the present inventor has found that a compound in which an aromatic ultraviolet absorber is intercalated between layers of synthetic mica, That is, it was found that a compound in which an aromatic UV absorber is inserted between the layers of the synthetic mica crystal having a layered structure can provide a UV absorber capable of achieving the above-mentioned object, and the present invention is completed here. Came to do.
【0006】即ち、本発明は、合成雲母の層間に芳香族
系紫外線吸収剤をインターカレートしてなる紫外線吸収
剤に係る。That is, the present invention relates to a UV absorber obtained by intercalating an aromatic UV absorber between layers of synthetic mica.
【0007】本発明の紫外線吸収剤では、合成雲母とし
ては、特に限定はなく、公知の各種合成雲母を使用でき
る。この様な合成雲母を例示すれば、Naテトラシリシ
ックマイカ〔NaMg2.5 (Si4 O10)F2 〕、Na
又はLiテニオライト〔(Na,Li)Mg2 Li(S
i4 O10)F2 〕、Na又はLiヘクトライト〔(N
a,Li)1/3 Mg8/3 Li1/3 (Si4 O10)F2 〕
等の組成を有する合成雲母の他、特開昭58−1937
9号に記載のニッケル、コバルト、マンガン、チタン、
バナジウム及びバリウムの少なくとも一種を酸化物に換
算して1〜20重量%含有する合成雲母、特開平3−8
712号に記載の一般式:Cex KY Mg3 Fez Al
1-z Si3 O10F2 (式中、X,Y,Zは、0.05≦
X≦0.25,0.25≦Y≦0.85,0.10≦Z
≦1.00の範囲から選択される)で表わされる合成雲
母、特開平3−33179号に記載のTe,Bi,P
b,Ce,Fe,Mo,Nb,W,Sb,Sn及びZn
からなる群から選ばれる元素を、酸化物換算で1〜30
重量%含有する合成雲母、Te,Bi,Pb,Ce,F
e,Mo,Nb,W,Sb,Sn,V,Mn,Ni,C
o,Zn及びTiからなる群から選ばれる2種以上の元
素を、酸化物換算で1〜30重量%含有する合成雲母等
を挙げることができ、特に、Naテトラシリシックマイ
カ〔NaMg2.5(Si4 O10)F2 〕等が好ましい。In the ultraviolet absorbent of the present invention, the synthetic mica is not particularly limited, and various known synthetic mica can be used. Examples of such synthetic mica include Na tetrasilicic mica [NaMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 ], Na
Or Li teniolite [(Na, Li) Mg 2 Li (S
i 4 O 10 ) F 2 ], Na or Li hectorite [(N
a, Li) 1/3 Mg 8/3 Li 1/3 (Si 4 O 10 ) F 2 ]
In addition to synthetic mica having a composition such as that of JP-A-58-1937
No. 9, nickel, cobalt, manganese, titanium,
Synthetic mica containing 1 to 20% by weight of vanadium and barium in terms of oxide, JP-A-3-8
General formula described in No. 712: Ce x KY Mg 3 Fe z Al
1-z Si 3 O 10 F 2 (where X, Y, and Z are 0.05 ≦
X ≦ 0.25, 0.25 ≦ Y ≦ 0.85, 0.10 ≦ Z
Selected from the range of ≦ 1.00), Te, Bi, P described in JP-A-3-33179.
b, Ce, Fe, Mo, Nb, W, Sb, Sn and Zn
An element selected from the group consisting of 1 to 30 in terms of oxide
Synthetic mica containing by weight% Te, Bi, Pb, Ce, F
e, Mo, Nb, W, Sb, Sn, V, Mn, Ni, C
Examples thereof include synthetic mica containing 1 to 30% by weight in terms of oxide of two or more elements selected from the group consisting of o, Zn and Ti, and particularly Na tetrasilicic mica [NaMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 ] and the like are preferable.
【0008】本発明では、この様な合成雲母を用いるこ
とによって、以下に示す芳香族系紫外線吸収剤との層間
化合物が容易に形成される。In the present invention, the use of such synthetic mica facilitates the formation of the following intercalation compound with an aromatic ultraviolet absorber.
【0009】本発明では、芳香族系紫外線吸収剤として
は、従来公知のものを各種使用でき、例えば、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、ジヒ
ドロキシジメトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロ
キシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン
等のベンゾフェノン誘導体;パラアミノ安息香酸、パラ
アミノ安息香酸エチル、パラアミノ安息香酸グリセリ
ル、パラジメチルアミノ安息香酸アミル、パラジメチル
アミノ安息香酸オクチル等のパラアミノ安息香酸誘導
体;パラメトキシ桂皮酸エチル、パラメトキシ桂皮酸イ
ソプロピル、パラメトキシ桂皮酸オクチル、パラメトキ
シ桂皮酸2−エトキシエチル、ジパラメトキシ桂皮酸モ
ノ−2−エチルヘキサン酸グリセリル等のメトキシ桂皮
酸誘導体;サリチル酸オクチル、サリチル酸フェニル、
サリチル酸ホモメンチル、サリチル酸ジプロピレングリ
コール、サリチル酸エチレングリコール、サリチル酸ミ
リスチル、サリチル酸メチル等のサリチル酸誘導体;ウ
ロカニン酸、ウロカニン酸エチル等のウロカニン酸誘導
体;4−tert−ブチル−4´−メトキシジベンゾイルメ
タン;2−(2´−ヒドロキシ−5´−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール;アントラニル酸メチル等を例
示できる。本発明では、これらの芳香族系紫外線吸収剤
を一種単独で、または二種以上組み合わせて用いること
ができる。In the present invention, various aromatic UV absorbers known in the art can be used, for example, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, Benzophenone derivatives such as dihydroxydimethoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone and tetrahydroxybenzophenone; paraaminobenzoic acid such as paraaminobenzoic acid, ethyl paraaminobenzoate, glyceryl paraaminobenzoate, amyl paradimethylaminobenzoate and octyl paradimethylaminobenzoate. Acid derivative; ethyl paramethoxycinnamate, isopropyl paramethoxycinnamate, octyl paramethoxycinnamate, 2-ethoxyethyl paramethoxycinnamate, mono-2-ethylhexadiparamethoxycinnamate Methoxycinnamic acid derivatives such as glyceryl; octyl salicylate, phenyl salicylate,
Salicylic acid derivatives such as homomenthyl salicylate, dipropylene glycol salicylate, ethylene glycol salicylate, myristyl salicylate, and methyl salicylate; urocanic acid derivatives such as urocanic acid and ethyl urocanate; 4-tert-butyl-4′-methoxydibenzoylmethane; 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole; methyl anthranilate and the like can be exemplified. In the present invention, these aromatic ultraviolet absorbers can be used alone or in combination of two or more.
【0010】本発明では、上記した芳香族系紫外線吸収
剤のうちで、合成雲母へのインターカレートが容易であ
る点で、分子量が500程度以下のものが好ましい。In the present invention, among the above-mentioned aromatic ultraviolet absorbers, those having a molecular weight of about 500 or less are preferable from the viewpoint of easy intercalation into synthetic mica.
【0011】本発明において、好適に用いられる芳香族
系紫外線吸収剤は、ベンゾフェノン誘導体、パラアミノ
安息香酸誘導体、メトキシ桂皮酸誘導体等であり、2−
ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、パラアミノ
安息香酸エチル、パラメトキシ桂皮酸オクチル等が特に
好適である。In the present invention, the aromatic ultraviolet absorber preferably used is a benzophenone derivative, a paraaminobenzoic acid derivative, a methoxycinnamic acid derivative or the like.
Particularly preferred are hydroxy-4-methoxybenzophenone, ethyl paraaminobenzoate, octyl paramethoxycinnamate and the like.
【0012】本発明の紫外線吸収剤は、上記した合成雲
母に芳香族系紫外線吸収剤をインターカレートしたもの
である。この様に、合成雲母に芳香族系紫外線吸収剤を
インターカレートした構造とすることによって、合成雲
母の有する紫外線遮断機能と芳香族系紫外線吸収剤の有
する紫外線吸収機能が相俟って、波長400nm以下の
UV−A、UV−B及びUV−Cの紫外線全域につい
て、従来では得られなかった極めて優れた紫外線吸収乃
至遮断機能が得られる。また、芳香族系紫外線吸収剤が
合成雲母の層間にインターカレートされることにより、
皮膚からの芳香族系紫外線吸収剤の吸収や芳香族系紫外
線吸収剤による皮膚への直接の刺激が防止されて、例え
ば、炎症反応、アレルギー反応等の副作用が極めて少な
い安全性の高いものとなり、更に、紫外線による芳香族
系紫外線吸収剤の分解が防止されて長期間安定に紫外線
吸収機能を発揮することができる。また、芳香族系紫外
線吸収剤が合成雲母の層間に安定に存在することによっ
て、芳香族系紫外線吸収剤が溶出することがなく、化粧
料、塗料等の各種組成物に配合した場合にも他の基剤と
反応せず、紫外線吸収機能の劣化が生じない。更に、こ
の様な構成の紫外線吸収剤は、透明性が良好であり、化
粧料などに配合した場合にも、皮膚上で白さを残さず、
仕上がり状態に優れ、更に、肌上によく伸びて、使用感
にも優れたものとなる。The ultraviolet absorber of the present invention is the above synthetic mica in which an aromatic ultraviolet absorber is intercalated. In this way, by adopting a structure in which an aromatic UV absorber is intercalated in synthetic mica, the UV blocking function of the synthetic mica and the UV absorbing function of the aromatic UV absorber are combined, and the wavelength In the UV-A, UV-B, and UV-C UV region of 400 nm or less, an extremely excellent UV absorption or blocking function, which has not been obtained in the past, can be obtained. Also, by intercalating the aromatic UV absorber between the layers of synthetic mica,
Absorption of aromatic UV absorbers from the skin and direct irritation to the skin due to aromatic UV absorbers is prevented, and for example, inflammatory reactions, allergic reactions and other side effects become extremely safe and highly safe. Furthermore, the decomposition of the aromatic ultraviolet absorber due to ultraviolet rays is prevented, and the ultraviolet absorbing function can be stably exhibited for a long period of time. In addition, since the aromatic ultraviolet absorber is stably present between the layers of the synthetic mica, the aromatic ultraviolet absorber does not elute, and thus it may be mixed in various compositions such as cosmetics and paints. It does not react with the base, and the deterioration of the ultraviolet absorption function does not occur. Furthermore, the ultraviolet absorber having such a constitution has good transparency, and does not leave whiteness on the skin even when blended in cosmetics,
It has an excellent finished condition, and also spreads well on the skin, giving it an excellent feeling in use.
【0013】合成雲母に芳香族系紫外線吸収剤をインタ
ーカレートする方法については、特に限定はなく、従来
公知の各種のインターカレート方法が適用できる。例え
ば、クロロホルム、エタノール等の溶剤の存在下又は非
存在下に、合成雲母と芳香族系紫外線吸収剤を混合すれ
ばよいが、好ましくは、無溶剤下に、60〜300℃程
度、好ましくは100〜200℃程度、より好ましくは
150〜200℃程度の範囲の温度であって、使用する
芳香族系紫外線吸収剤の融点〜分解温度の間の温度で、
5〜60分程度、好ましくは5〜30分間程度攪拌下に
加熱すればよい。合成雲母は、通常、微細なフレーク状
であり、その大きさは特に限定はされず、適宜適当な大
きさのものを使用することができるが、インターカレー
トが容易である点から、粒子径が100μm程度以下の
ものから選択して用いればよく、粒子径5〜20μm程
度のものが好ましい。The method of intercalating the aromatic UV absorber with the synthetic mica is not particularly limited, and various conventionally known intercalating methods can be applied. For example, the synthetic mica and the aromatic UV absorber may be mixed in the presence or absence of a solvent such as chloroform or ethanol, but preferably in the absence of a solvent, at about 60 to 300 ° C., preferably 100. To about 200 ° C., more preferably about 150 to 200 ° C., at a temperature between the melting point and the decomposition temperature of the aromatic ultraviolet absorber used,
It may be heated for about 5 to 60 minutes, preferably about 5 to 30 minutes with stirring. The synthetic mica is usually in the form of fine flakes, and the size thereof is not particularly limited, and those having an appropriate size can be used as appropriate, but since the intercalation is easy, the particle size is Of about 100 μm or less may be selected and used, and a particle size of about 5 to 20 μm is preferable.
【0014】合成雲母と芳香族系紫外線吸収剤の割合
は、特に限定的ではなく、芳香族系紫外線吸収剤が合成
雲母の層間に安定にインターカレートされる量の範囲で
適宜調整すればよいが、通常は、合成雲母の重量に対し
て、芳香族系紫外線吸収剤を1〜50重量%程度とする
ことが適当であり、5〜40重量%程度とすることが好
ましい。The ratio between the synthetic mica and the aromatic UV absorber is not particularly limited, and may be appropriately adjusted within the range of the amount by which the aromatic UV absorber is stably intercalated between the layers of the synthetic mica. However, it is usually appropriate that the amount of the aromatic ultraviolet absorber is about 1 to 50% by weight, preferably about 5 to 40% by weight, based on the weight of the synthetic mica.
【0015】芳香族系紫外線吸収剤をインターカレート
した合成雲母、即ち本発明の紫外線吸収剤を各種の組成
物中に配合する際には、配合方法は、その使用目的に応
じて適宜選択できるが、例えば、粉末状、又はその圧縮
成形体等の各種の状態で配合できる。粉末状で配合する
際には、必要に応じて、適当な方法により粉砕してもよ
い。When a synthetic mica in which an aromatic UV absorber is intercalated, that is, the UV absorber of the present invention is blended into various compositions, the blending method can be appropriately selected according to the purpose of use. However, for example, they can be blended in various states such as powder or a compression molded product thereof. When blending in powder form, it may be pulverized by an appropriate method, if necessary.
【0016】本発明の紫外線吸収剤は、例えば、化粧
料、医薬部外品等に配合して用いることができる。かか
る化粧料の具体例としては、主として、サンスクリーン
剤が挙げられるが、それ以外の具体例として、例えば、
シャンプー、ボディーシャンプー等の洗浄用化粧料;ク
リーム、乳液、メイクアップクリーム、化粧用オイル、
パック等の基礎化粧料;ファンデーション、口紅、頬
紅、アイライナー、マスカラ、アイシャドー、マニキュ
ア、白粉等の仕上げ化粧料;整髪料、養毛料、染毛料等
の頭髪用化粧料;浴用剤、美白剤、リンス、ニキビ用
剤、除毛剤等を挙げることができる。The ultraviolet absorbent of the present invention can be used by being blended with, for example, cosmetics, quasi drugs and the like. As specific examples of such cosmetics, sunscreen agents are mainly mentioned, but as other specific examples, for example,
Cosmetics for washing shampoos, body shampoos, etc .; creams, emulsions, makeup creams, cosmetic oils,
Basic cosmetics such as packs; foundation cosmetics such as foundation, lipstick, blusher, eyeliner, mascara, eye shadow, nail polish, white powder; hair cosmetics such as hair styling, hair nourishing, hair dyeing; bath agents, whitening agents , Rinse, acne preparation, hair remover and the like.
【0017】これらの化粧料及び医薬部外品の形態とし
ては、例えば、液剤、油剤、ローション剤、リニメント
剤、油脂性軟膏基剤、O/W型親水軟膏剤及びW/O型
吸水軟膏剤等の乳剤性軟膏基剤、水溶性軟膏基剤、パス
タ剤、硬膏剤、貼付剤、クリーム、乳液等が挙げられる
が、これに限定されるものではない。これらの形態の化
粧料及び医薬部外品は、常法に従って調製でき、また、
その調製にはこの分野で従来公知のものを広く使用でき
る。Examples of the forms of these cosmetics and quasi drugs include liquids, oils, lotions, liniments, oily ointment bases, O / W hydrophilic ointments and W / O water absorbing ointments. Examples thereof include emulsion ointment bases, water-soluble ointment bases, pasta agents, plasters, patches, creams, emulsions, etc., but are not limited thereto. These forms of cosmetics and quasi-drugs can be prepared according to a conventional method,
A wide variety of materials known in the art can be widely used for the preparation.
【0018】例えば、化粧料又は医薬部外品とする場合
の基剤としては、油性基剤を1種単独で又は2種以上混
合して、また水溶性基剤を1種単独で又は2種以上混合
して使用できる。これらの基剤としては、具体的には、
ラッカセイ油、ゴマ油、ダイズ油、サフラワー油、アボ
ガド油、ヒマワリ油、トウモロコシ油、ナタネ油、メン
ジツ油、ひまし油、ツバキ油、ヤシ油、オリーブ油、ケ
シ油、カカオ油、牛脂、豚脂、羊毛脂等の油脂類;これ
らの油脂類に水素添加等の化学変化を行なって改質した
もの;ワセリン、パラフィン、シリコン油、スクワラン
等の鉱物油;イソプロピルミリステート、N−ブチルミ
リステート、イソプロピルリノレート、プロピルリシノ
レート、イソプロピルリシノレート、イソブチルリシノ
レート、ヘプチルリシノレート、ジエチルセバケート、
ジイソプロピルアジペート、セチルアルコール、ステア
リルアルコール、サラシミツロウ、ゲイロウ、木ロウ、
ラノリン、カルナウバロウ、セラックロウ等の高級脂肪
酸エステル、高級脂肪酸アルコール及びワックス類;ス
テアリン酸、オレイン酸、パルミチン酸等の高級脂肪
酸;炭素数12〜18の飽和又は不飽和脂肪酸のモノ、
ジ、トリグリセライドの混合物;エチレングリコール、
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、グリセリン、バチルアルコー
ル、ペンタエリトリトール、ソルビトール、マンニトー
ル等の多価アルコール;アラビアゴム、ベンゾインゴ
ム、グアヤク脂、トラガントゴム等のガム質;ゼラチ
ン、デンプン、カゼイン、デキストリン、ペクチン、ペ
クチンナトリウム、アルギン酸ナトリウム、メチルセル
ロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピル
セルロース、ニトロセルロース、結晶セルロース等の天
然水溶性高分子;ポリビニルアルコール、ポリビニルメ
チルエーテル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸
ナトリウム、カルボキシビニルポリマー、ポリエチレン
イミン等の合成水溶性高分子;非イオン、陰イオン、両
性イオン、陽イオン性等の界面活性剤;エタノール、イ
ソプロパノール、水等を例示できる。For example, as a base for cosmetics or quasi drugs, an oily base may be used alone or in combination of two or more, and a water-soluble base may be used alone or in combination. The above can be mixed and used. As these bases, specifically,
Peanut oil, sesame oil, soybean oil, safflower oil, avocado oil, sunflower oil, corn oil, rapeseed oil, menzi oil, castor oil, camellia oil, coconut oil, olive oil, poppy oil, cacao oil, beef tallow, lard, wool fat. Oils and fats such as; oils and fats modified by chemical changes such as hydrogenation; mineral oils such as petrolatum, paraffin, silicon oil, squalane; isopropyl myristate, N-butyl myristate, isopropyl linoleate , Propylricinolate, isopropylricinolate, isobutylricinolate, heptylricinolate, diethyl sebacate,
Diisopropyl adipate, cetyl alcohol, stearyl alcohol, white beeswax, gallow, tree wax,
Higher fatty acid esters such as lanolin, carnauba wax and shellac wax, higher fatty acid alcohols and waxes; higher fatty acids such as stearic acid, oleic acid and palmitic acid; monosaturated or unsaturated fatty acids having 12 to 18 carbon atoms,
A mixture of di and triglycerides; ethylene glycol,
Polyhydric alcohols such as polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, glycerin, batyl alcohol, pentaerythritol, sorbitol, mannitol; gums such as gum arabic, benzoin gum, guaiac butter, tragacanth gum; gelatin, starch, casein, dextrin, pectin , Natural water-soluble polymers such as pectin sodium, sodium alginate, methyl cellulose, ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, nitrocellulose, crystalline cellulose; polyvinyl alcohol, polyvinyl methyl ether, polyvinyl pyrrolidone, sodium polyacrylate, carboxy Synthetic water solubility of vinyl polymer, polyethyleneimine, etc. Child; nonionic, anionic, zwitterionic, surfactants cationic and the like; ethanol, can be exemplified isopropanol, and water.
【0019】上記化粧料及び医薬部外品の製造の際に
は、必要に応じて、公知の各種化粧料基剤又は医薬部外
品に用いる基剤、例えば賦形剤、結合剤、滑沢剤、崩壊
剤等を使用することができ、更に必要に応じて本発明の
効果を損なわない範囲内で、各種の油脂、ロウ、炭化水
素、脂肪酸、高級アルコール、エステル油、金属石鹸等
の油性原料、動物・植物抽出物、ビタミン剤、ホルモン
剤、アミノ酸等の薬効剤、界面活性剤、色素、染料、顔
料、香料、防腐剤、殺菌剤、保湿剤、増粘剤、酸化防止
剤、金属イオン封鎖剤、pH調整剤の他、既に公知の各
種成分や添加剤を適宜組合わせて使用することができ
る。尚、本発明の紫外線吸収剤以外に、他の紫外線吸収
剤、紫外線散乱剤などを加えることもできる。In the production of the above cosmetics and quasi drugs, if necessary, various known cosmetic bases or bases used for quasi drugs such as excipients, binders, lubricants, etc. Agents, disintegrants and the like can be used, and if necessary, various oils, fats, waxes, hydrocarbons, fatty acids, higher alcohols, ester oils, oils such as metal soaps, etc. within a range not impairing the effects of the present invention. Raw materials, animal and plant extracts, vitamins, hormones, pharmaceuticals such as amino acids, surfactants, pigments, dyes, pigments, fragrances, preservatives, bactericides, moisturizers, thickeners, antioxidants, metals In addition to the ion sequestering agent and the pH adjusting agent, various known components and additives can be appropriately combined and used. In addition to the ultraviolet absorbent of the present invention, other ultraviolet absorbents, ultraviolet scattering agents, etc. can be added.
【0020】本発明の紫外線吸収剤を化粧料又は医薬部
外品に配合して用いる場合には、その配合量は特に限定
されず、紫外線吸収剤として効果を発揮し得る量であれ
ばよく、具体的には化粧料又は医薬部外品の種類に応じ
て適宜調整すればよい。化粧料として用いる場合には、
通常、そのまま化粧料とするか、化粧料の全量中、0.
1重量%以上配合することが適当であり、0.1〜90
重量%程度配合することが好ましい。医薬部外品として
用いる場合には、通常、そのまま医薬部外品とするか、
医薬部外品の全量中0.1重量%以上配合することが適
当であり、5〜30重量%程度配合することが好まし
い。When the ultraviolet absorbent of the present invention is used by being blended with cosmetics or quasi drugs, the amount thereof is not particularly limited as long as it can exert the effect as an ultraviolet absorbent, Specifically, it may be appropriately adjusted depending on the type of cosmetics or quasi drugs. When used as cosmetics,
Usually, the cosmetics are used as they are, or 0.
It is suitable to add 1% by weight or more, and it is 0.1 to 90.
It is preferable to blend the composition in an amount of about wt%. When used as a quasi drug, it is usually used as a quasi drug, or
It is suitable to add 0.1% by weight or more to the total amount of quasi-drugs, preferably about 5 to 30% by weight.
【0021】また、本発明の紫外線吸収剤は、合成樹脂
成形品、ゴム製品、塗料等の有機高分子材料を含有する
組成物中に配合して、紫外線による有機高分子材料の劣
化を防止する目的で使用することもできる。これらの組
成物中に配合する場合には、紫外線吸収剤の配合量は特
に限定されず、紫外線吸収剤として効果を発揮し得る量
であればよく、組成物の種類に応じて適宜調整すればよ
いが、通常、有機高分子材料含有組成物の全量中、0.
1〜30重量%程度とすることが好ましい。Further, the ultraviolet absorbent of the present invention is incorporated into a composition containing an organic polymer material such as a synthetic resin molded product, a rubber product, and a paint to prevent the organic polymer material from being deteriorated by ultraviolet rays. It can also be used for the purpose. When blended in these compositions, the blending amount of the ultraviolet absorber is not particularly limited, as long as it is an amount capable of exerting an effect as the ultraviolet absorber, if appropriately adjusted depending on the type of composition. Although it is good, usually, in the total amount of the organic polymer material-containing composition, 0.
It is preferably about 1 to 30% by weight.
【0022】[0022]
【発明の効果】本発明の紫外線吸収剤は、合成雲母の有
する紫外線遮断機能と芳香族系紫外線吸収剤の有する紫
外線吸収機能が相俟って、400nm程度以下の紫外線
全域について、従来では得られなかった極めて優れた紫
外線吸収乃至遮断機能を発揮し、しかも皮膚からの芳香
族系紫外線吸収剤の吸収や芳香族系紫外線吸収剤による
皮膚への直接の刺激が防止され、炎症反応やアレルギー
反応等の副作用の極めて少ない安全性の高いものであ
る。また、紫外線による芳香族系紫外線吸収剤の分解が
防止され、芳香族系紫外線吸収剤が溶出することがない
ために他の基剤と反応せず、長期間安定に紫外線吸収機
能を発揮することができる。更に、透明性が良好であ
り、化粧料などに配合した場合にも、仕上がり状態に優
れ、使用感も良好である。EFFECT OF THE INVENTION The ultraviolet absorber of the present invention has been hitherto obtained in the entire ultraviolet region of about 400 nm or less by combining the ultraviolet shielding function of the synthetic mica and the ultraviolet absorbing function of the aromatic ultraviolet absorber. It has an extremely excellent UV absorption or blocking function that never existed, and prevents absorption of aromatic UV absorbers from the skin and direct irritation to the skin due to aromatic UV absorbers, resulting in inflammatory reactions and allergic reactions. It is highly safe with very few side effects. In addition, decomposition of aromatic UV absorbers by UV rays is prevented, and since aromatic UV absorbers do not elute, they do not react with other bases and exhibit stable UV absorbing function for a long period of time. You can Furthermore, it has good transparency, and when blended in a cosmetic or the like, it has an excellent finished state and a good feeling in use.
【0023】[0023]
【実施例】以下、製造例及び実施例を挙げて本発明を更
に詳細に説明する。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to production examples and examples.
【0024】実施例1 合成雲母として、ナトリウム型フッ素四ケイ素雲母:N
a〔Mg2.5 Si4 O10F2 〕・2H2 O(Na−TS
ーS10 % ゾル、トピー工業社製)を用い、芳香族
系紫外線吸収剤として、パラアミノ安息香酸エチル(E
BA、和光純薬社製)又は2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン(OB、シグマ社製)を用いて、以下
の方法で本発明の紫外線吸収剤を作製した。Example 1 As a synthetic mica, sodium type tetrafluorosilicon mica: N
a [Mg 2.5 Si 4 O 10 F 2 ] ・ 2H 2 O (Na-TS
-S10% sol, manufactured by Topy Industries, Ltd., and ethyl paraaminobenzoate (E
BA, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. or 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone (OB, manufactured by Sigma) was used to prepare the ultraviolet absorbent of the present invention by the following method.
【0025】(1)合成雲母の粉末化 ゾル形態の合成雲母を下記の方法で粉末化した。(1) Powdering of Synthetic Mica The sol type synthetic mica was powdered by the following method.
【0026】まず、500mlのビーカーに合成雲母の
ゾルを約50ml加え、超純水を約450ml加えてガ
ラス棒で撹拌し、その後、2000rpmで10分間遠
心分離を行ない、上澄み液を捨てた。この操作を6回繰
り返した後、沈澱した合成雲母に約200mlの超純水
を加えて再び懸濁させ、ひだ折りろ過を行なった。First, about 50 ml of synthetic mica sol and about 450 ml of ultrapure water were added to a 500 ml beaker and stirred with a glass rod, followed by centrifugation at 2000 rpm for 10 minutes, and the supernatant was discarded. After repeating this operation 6 times, about 200 ml of ultrapure water was added to the precipitated synthetic mica to resuspend it, and pleated filtration was performed.
【0027】得られた残渣を電子レンジで乾燥させた
後、ろ紙上から採取して乳鉢で粉砕し、80メッシュ篩
の通過物を更に150℃乾燥機で乾燥した。この合成雲
母の水分をカールフイッシャー法(測定装置:MK−A
II、京都電子工業社製)で測定し、水分が5%以下のも
のを使用した。The residue thus obtained was dried in a microwave oven, collected from a filter paper, pulverized in a mortar, and the material passed through an 80-mesh sieve was further dried in a dryer at 150 ° C. The water content of this synthetic mica is measured by the Karl Fischer method (measuring device: MK-A
II, manufactured by Kyoto Electronics Manufacturing Co., Ltd.), and the water content was 5% or less.
【0028】(2)芳香族系紫外線吸収剤のインターカ
レーション 80メッシュ篩を通過したパラアミノ安息香酸エチル
(EBA)又は2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフ
ェノン(OB)と、上記方法で粉末化した合成雲母とを
各種の配合割合でよく混合し、混合物約200mgをガ
ラス試験管に充填し、窒素気流下で、ドライブロックバ
ス(dry block bath,AL−500型, サイニックス
コーポレーション社製)を用いて加熱した。その後、直
ちに、氷中で冷却し、これを乳鉢で粉砕後、80メッシ
ュ篩を通過させて、合成雲母にEBA又はOBをインタ
ーカレートした試料を得た。(2) Intercalation of aromatic UV absorbers Ethyl paraaminobenzoate (EBA) or 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone (OB) passed through an 80-mesh screen and powdered synthesis by the above method. Mix well with mica in various mixing ratios, fill a glass test tube with about 200 mg of the mixture, and under a nitrogen stream, drive lock bath (dry block bath, AL-500 type, Sonics)
(Manufactured by Corporation). Immediately thereafter, the mixture was cooled in ice, crushed in a mortar and then passed through an 80 mesh sieve to obtain a sample in which EBA or OB was intercalated in synthetic mica.
【0029】この様な方法で得られた試料について、以
下の方法でX線回折を行なった。The sample obtained by such a method was subjected to X-ray diffraction by the following method.
【0030】(3)X線回折方法 ガラス試料板の試料充填部分に試料を少しずつ加えて
は、ガラス板で押さえ、これを繰り返し行ない、約20
0mgの試料を試料面がガラス板と同一面になるように
充填した。これを粉末X線回折装置(M03X−HF,
マックサイエンス社製)に水平にセットし、下記の条件
でX線回折を行なった。(3) X-ray Diffraction Method A sample is added little by little to the sample-filled portion of the glass sample plate, and the sample is pressed by the glass plate.
A 0 mg sample was filled so that the sample surface was flush with the glass plate. The powder X-ray diffractometer (M03X-HF,
(Made by Mac Science Co., Ltd.) was horizontally set, and X-ray diffraction was performed under the following conditions.
【0031】〔測定条件〕CrKα,λ=2.29オン
グストローム 管電圧:40.0kV 管電流:30.0mA サンプリング幅:0.02 deg 走査速度:4.00 deg/分 走査範囲:2θ=2〜35度 (4)X線回折結果 芳香族系紫外線吸収剤としてEBAを用いて得られた試
料(以下、「EBA−合成雲母」という)のうちで、1
80℃で15分間加熱処理して得られた試料の加熱処理
前後のX線回折図を図1に示し、芳香族系紫外線吸収剤
としてOBを用いて得られた試料(以下、「OB−合成
雲母」という)のうちで、同様の条件で加熱処理して得
られた試料の加熱処理前後のX線回折図を図2に示す。
また、図1には、EBAのみを加熱処理した場合の加熱
処理前後のX線回折図も示し、図2には、OBのみを加
熱処理した場合の加熱処理前後のX線回折図も示す。[Measurement conditions] CrKα, λ = 2.29 angstrom Tube voltage: 40.0 kV Tube current: 30.0 mA Sampling width: 0.02 deg Scanning speed: 4.00 deg / min Scanning range: 2θ = 2 35 degree (4) X-ray diffraction result Among samples obtained by using EBA as an aromatic ultraviolet absorber (hereinafter referred to as "EBA-synthetic mica"), 1
An X-ray diffraction diagram before and after the heat treatment of the sample obtained by performing the heat treatment at 80 ° C. for 15 minutes is shown in FIG. 1, and the sample obtained by using OB as the aromatic ultraviolet absorber (hereinafter, referred to as “OB-synthesis”). 2) shows X-ray diffraction patterns before and after heat treatment of a sample obtained by heat treatment under the same conditions.
Further, FIG. 1 also shows an X-ray diffraction diagram before and after the heat treatment when only EBA was heat-treated, and FIG. 2 also shows an X-ray diffraction diagram before and after the heat treatment when only OB was heat-treated.
【0032】以上の結果から明らかなように、EBA又
はOBのみを加熱処理した場合には、加熱処理前と同じ
位置にピークが現れたので、EBA及びOBは、それぞ
れ再結晶されていることが確認できた。また、EBA−
合成雲母及びOB−合成雲母については、それぞれ、加
熱処理後のものはd=1.9nm付近に新しいピークが
現れており、d値が1.2nmから1.9nmに増加し
たことから、合成雲母の層間距離の延長が認められ、そ
れぞれEBAと合成雲母の層間化合物及びOBと合成雲
母の層間化合物の形成が示唆された。As is clear from the above results, when only EBA or OB was heat-treated, a peak appeared at the same position as before the heat treatment, so that EBA and OB were each recrystallized. It could be confirmed. Also, EBA-
Regarding the synthetic mica and the OB-synthetic mica, a new peak appeared around d = 1.9 nm after the heat treatment, and the d value increased from 1.2 nm to 1.9 nm. It was confirmed that the intercalation distance between EBA and synthetic mica and the intercalation compound between OB and synthetic mica were formed, respectively.
【0033】また、EBAの融点である88〜90℃よ
り低い温度である60℃、また、融点以上の温度である
130℃及び180℃の各温度でそれぞれ15分間熱処
理した場合のEBA−合成雲母のX線回折図を図3に示
す。60℃で熱処理した試料では、層間化合物に基づく
ピークはほとんど現れなかったが、130℃及び180
℃で熱処理した試料では、層間化合物に基づくピークが
認められた。EBA-synthetic mica obtained by heat treatment at 60 ° C., which is lower than the melting point of EBA of 88 to 90 ° C., and at 130 ° C. and 180 ° C., which are temperatures above the melting point, for 15 minutes each. The X-ray diffraction pattern of is shown in FIG. In the sample heat-treated at 60 ° C, almost no peak due to the intercalation compound appeared, but the peaks at 130 ° C and 180 ° C
A peak due to the intercalation compound was observed in the sample heat-treated at ℃.
【0034】また、合成雲母に対するEBAの配合割合
を5〜40重量%の間で変化させて得られたEBA−合
成雲母のX線回折図を図4に示す。EBA配合濃度が5
重量%の場合には、層間化合物に基づく明確なピークは
認められなかったが、配合濃度を増加すると層間化合物
に基づくピークの強度が増加した。FIG. 4 shows an X-ray diffraction pattern of EBA-synthetic mica obtained by changing the compounding ratio of EBA to synthetic mica in the range of 5 to 40% by weight. EBA blending concentration is 5
In the case of wt%, no clear peak due to the intercalation compound was observed, but the intensity of the peak due to the intercalation compound increased as the compounding concentration was increased.
【0035】また、以上のX線回折結果に基づいて、各
熱処理温度で得られたEBA−合成雲母のX線ピーク強
度I2 と合成雲母のX線ピーク強度I1 の強度比I2 /
I1と、EBA配合濃度との関係を求めた結果を図5に
示す。この結果から、加熱温度が高くなると、層間化合
物の形成の割合が大きくなることが示唆される。On the basis of the above X-ray diffraction results, the intensity ratio I 2 / E 2 of the EBA-synthetic mica and the X-ray peak intensity I 1 of the synthetic mica obtained at each heat treatment temperature, I 2 /
The results of the relationship between I 1 and the concentration of EBA compounded are shown in FIG. This result suggests that as the heating temperature increases, the rate of formation of the intercalation compound increases.
【0036】実施例2 実施例1において、合成雲母に対するEBAの混合割合
を20重量%とし、180℃で15分間熱処理して得た
EBA−合成雲母について、以下の方法で紫外線透過量
を測定した。比較試料として、合成雲母単独のものと、
熱処理前のEBA−合成雲母混合物についても同様の測
定を行なった。Example 2 In Example 1, the EBA-synthetic mica obtained by heat treatment at 180 ° C. for 15 minutes with the mixing ratio of EBA to synthetic mica being 20% by weight was used to measure the amount of ultraviolet ray transmission by the following method. . As a comparative sample, a synthetic mica alone,
The same measurement was performed on the EBA-synthetic mica mixture before heat treatment.
【0037】測定用試料は、粉砕した後、テープに一定
量を均一に散布した状態とし、これに、光源として、太
陽シュミレーター600型(ソーラーライト カンパニ
ィーインコーポレーティッド社製)(キセノン源)を用
いて、紫外線を照射し、検出器として、スペクトロラジ
オメーター(USR−20B、ウシオ電機社製)を用い
て、290nm〜420nmの範囲の波長の紫外線につ
いて、透過光の強度を測定した。結果を図6に示す。The sample for measurement was pulverized and then uniformly spread on a tape in a fixed amount, and a solar simulator 600 type (manufactured by Solarlight Company, Inc.) (xenon source) was used as a light source. The sample was irradiated with ultraviolet rays, and the intensity of transmitted light was measured for ultraviolet rays having a wavelength in the range of 290 nm to 420 nm using a spectroradiometer (USR-20B, manufactured by Ushio Inc.) as a detector. FIG. 6 shows the results.
【0038】この結果から、180℃で15分間熱処理
して得られたEBA−合成雲母を用いた場合に、紫外線
透過量が非常に少なくなることが判る。From these results, it can be seen that the amount of ultraviolet ray transmission is extremely small when EBA-synthetic mica obtained by heat treatment at 180 ° C. for 15 minutes is used.
【0039】製造例1 下記の組成を有する日焼け止めクリームを調製した。Production Example 1 A sunscreen cream having the following composition was prepared.
【0040】 グリセリンモノステアレート 10g 本発明紫外線吸収剤 1) 5g ステアリン酸 5g ステアリルアルコール 1g ゴマ油 2g トリエタノールアミン 1g グリセリン 5g 精製水 適量 計 100g 注 1)実施例1において、合成雲母に対するEBAの混合
割合を20重量%とし、180℃で15分間熱処理して
得たEBA−合成雲母 製造例2 下記の組成を有する日焼け止め軟膏を調製した。Glycerin monostearate 10 g UV absorber of the present invention 1) 5 g Stearic acid 5 g Stearyl alcohol 1 g Sesame oil 2 g Triethanolamine 1 g Glycerin 5 g Purified water Appropriate amount 100 g Note 1) In Example 1, mixing ratio of EBA to synthetic mica Of 20% by weight and EBA-synthetic mica obtained by heat treatment at 180 ° C. for 15 minutes Production Example 2 A sunscreen ointment having the following composition was prepared.
【0041】 本発明紫外線吸収剤 2) 10g ステアリン酸 6.3g トリエタノールアミン 0.8g ステアリルアルコール 4.5g マクロゴール1540 3.0g メチルパラベン 0.2g グリセリン 10g 精製水 適量 計 100g 注 2)実施例1において、合成雲母に対するOBの混合割合を20重量%とし、 180℃で15分間熱処理して得たOB−合成雲母UV absorber of the present invention 2) 10 g stearic acid 6.3 g triethanolamine 0.8 g stearyl alcohol 4.5 g macrogol 1540 3.0 g methylparaben 0.2 g glycerin 10 g purified water suitable amount total 100 g Note 2) Example 1 OB-synthetic mica obtained by heat treatment at 180 ° C. for 15 minutes with OB mixed with synthetic mica at 20 wt%.
【図1】EBA−合成雲母についての熱処理前後のX線
回折図。FIG. 1 is an X-ray diffraction diagram of EBA-synthetic mica before and after heat treatment.
【図2】OB−合成雲母についての熱処理前後のX線回
折図。FIG. 2 is an X-ray diffraction diagram of OB-synthetic mica before and after heat treatment.
【図3】EBA−合成雲母についての熱処理温度を変化
させた場合のX線回折図。FIG. 3 is an X-ray diffraction diagram of EBA-synthetic mica when the heat treatment temperature is changed.
【図4】EBA−合成雲母についてのEBA配合濃度を
変化させた場合のX線回折図。FIG. 4 is an X-ray diffraction diagram of EBA-synthetic mica when the EBA blending concentration was changed.
【図5】EBA−合成雲母についてのEBA配合濃度と
X線回折のピーク強度比との関係を示すグラフ。FIG. 5 is a graph showing the relationship between the EBA blending concentration and the peak intensity ratio of X-ray diffraction for EBA-synthetic mica.
【図6】EBA−合成雲母についての紫外線透過強度を
示すグラフ。FIG. 6 is a graph showing UV transmission intensity for EBA-synthetic mica.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08K 5/00 KAJ C08K 5/00 KAJ 7/00 KCJ 7/00 KCJ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display area C08K 5/00 KAJ C08K 5/00 KAJ 7/00 KCJ 7/00 KCJ
Claims (1)
インターカレートしてなる紫外線吸収剤。1. An ultraviolet absorber obtained by intercalating an aromatic ultraviolet absorber between layers of synthetic mica.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4176295A JPH08239648A (en) | 1995-03-01 | 1995-03-01 | Ultraviolet absorber |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4176295A JPH08239648A (en) | 1995-03-01 | 1995-03-01 | Ultraviolet absorber |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08239648A true JPH08239648A (en) | 1996-09-17 |
Family
ID=12617423
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4176295A Pending JPH08239648A (en) | 1995-03-01 | 1995-03-01 | Ultraviolet absorber |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08239648A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0911235A3 (en) * | 1997-10-24 | 1999-08-18 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Device for presuming accumulator pressure operative with pressure switches |
US20110008440A1 (en) * | 2007-11-23 | 2011-01-13 | Nanobiomatters, S.L. | Novel nanocompound materials with infrared, ultraviolet and visible electromagnetic radiation blocking properties and method for obtaining them |
CN107236237A (en) * | 2017-06-30 | 2017-10-10 | 常州思宇环保材料科技有限公司 | A kind of preparation method of ultraviolet shielded material |
-
1995
- 1995-03-01 JP JP4176295A patent/JPH08239648A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6092878A (en) * | 1997-10-24 | 2000-07-25 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Device for presuming accumulator pressure operative with pressure switches |
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