JPH08239575A - Polyamic acid composition, its production and color filter and its production - Google Patents

Polyamic acid composition, its production and color filter and its production

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JPH08239575A
JPH08239575A JP33867895A JP33867895A JPH08239575A JP H08239575 A JPH08239575 A JP H08239575A JP 33867895 A JP33867895 A JP 33867895A JP 33867895 A JP33867895 A JP 33867895A JP H08239575 A JPH08239575 A JP H08239575A
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JP
Japan
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polyamic acid
color filter
hydrogen
acid composition
film
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Application number
JP33867895A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideo Ido
英夫 井戸
Toshimoto Hirono
敏司 広野
Mitsuyuki Fukahori
光雪 深堀
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To obtain the subject composition without impairing polyimide resin characteristics, excellent in coatability on glass substrate, and useful for color filters, by reaction between a diamine and a tetracarboxylic dianhydride in a specific solvent. CONSTITUTION: In a solvent (A) consisting mainly of compound(s) of formula I and/or formula II ((n) is 1-3; R<1> is H or an alkyl; R<2> is H or an acyl; R<3> and R<4> are each H or an alkyl) (e.g. 2-butoxyethanol), (B) a diamine (e.g. a m- phenylenediamine) is reacted with (C) a tetracarboxylic dianhydride (e.g. pyromellitic dianhydride) e.g. at <=100 deg.C for 0.1-12h to obtain the objective composition. The compound in the component A is pref. of formula III (R is H or an alkyl).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ジアミンとテトラ
カルボン酸二無水物を反応させて得られるポリアミド酸
に関するものであり、特に半導体等の電子産業分野で、
層間絶縁膜、絶縁膜、遮光膜、着色膜、保護膜、接着層
などに好適に用いられるポリアミド酸組成物およびその
製造方法に関するものである。用途については特に液晶
ディスプレイ用のカラーフィルタ用塗膜形成を参照して
説明するが、それ以外にも広範の応用範囲があり、その
組成物は特にポリイミドワニスを被塗布材に薄く均一に
塗工したい場合に有利に使用できる。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a polyamic acid obtained by reacting a diamine and a tetracarboxylic acid dianhydride, and particularly in the field of electronics such as semiconductors,
The present invention relates to a polyamic acid composition suitable for use in an interlayer insulating film, an insulating film, a light shielding film, a colored film, a protective film, an adhesive layer, etc., and a method for producing the same. The application will be described with reference to forming a coating film for a color filter for a liquid crystal display, but there is a wide range of applications other than that, and the composition is particularly thin and evenly coated with a polyimide varnish on a coating material. It can be advantageously used when desired.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にポリイミド樹脂は、耐熱性、耐候
性に優れ、良好な安定性と電気特性を示すポリマーとし
て知られている。その優れた性質ゆえに集積回路など電
子産業分野で用いられている。ジアミンとテトラカルボ
ン酸二無水物とを重付加反応によってポリアミド酸型の
前駆体とし、ついで該前駆体を脱水閉環させることによ
ってポリイミド硬化物を得る方法は、最も一般的な方法
である。一部のポリアミド酸がジグライムなどに溶解す
るものの、ポリアミド酸の良溶媒は、N,N−ジメチル
アセトアミド(以下DMAcという)やN−メチル−2
−ピロリドン(以下NMPという)などのアミド系溶媒
であるために反応溶媒がこれらに限定される。これらの
溶媒は沸点、引火点が高く、溶解力が大きく、毒性が小
さいことから取り扱いが容易な優れた溶剤であり、これ
らの溶媒は非プロトン性極性溶媒であるために水素結合
形成を伴なわず、求核剤であるジアミンの活性を増し反
応を促進するために工業用途には好適である。
2. Description of the Related Art Generally, a polyimide resin is known as a polymer which is excellent in heat resistance and weather resistance and has good stability and electric characteristics. Due to its excellent properties, it is used in the electronic industry such as integrated circuits. The most general method is to obtain a polyimide cured product by subjecting a diamine and a tetracarboxylic acid dianhydride to a polyamic acid type precursor by a polyaddition reaction, and then subjecting the precursor to dehydration ring closure. Although some polyamic acid dissolves in diglyme and the like, good solvents for polyamic acid are N, N-dimethylacetamide (hereinafter referred to as DMAc) and N-methyl-2.
-The reaction solvent is limited to these because it is an amide-based solvent such as pyrrolidone (hereinafter referred to as NMP). Since these solvents have high boiling points, high flash points, high dissolving power, and low toxicity, they are excellent solvents that are easy to handle.Since these solvents are aprotic polar solvents, they are associated with hydrogen bond formation. However, it is suitable for industrial use because it increases the activity of diamine, which is a nucleophile, and accelerates the reaction.

【0003】しかしDMAcやNMPを反応溶媒に用い
た場合、高固形分濃度でかつ低粘度のポリアミド酸溶液
を得ることが困難であり、電子部品の保護膜などの塗膜
形成に用いる場合に、粘度が高いこと、ぬれ性が悪いこ
と、溶媒除去が容易でないなど均一な塗膜の形成が困難
であった。これら塗布性を改善するために、ジアミンに
N−シリル化ジアミンを用いることによって、クロロホ
ルムやテトラヒドロフラン溶媒で重合を行う方法や、特
公昭56−163123号公報にあるように重合溶媒と
してジオキサンとNMPあるいはジメチルホルムアミド
および低級アルコールを用いる方法、あるいは特公昭5
6−163124号公報にあるようにジメチルホルムア
ミドあるいはNMPと低級アルコールを用いる提案が開
示されている。
However, when DMAc or NMP is used as a reaction solvent, it is difficult to obtain a polyamic acid solution having a high solid content and a low viscosity, and when it is used for forming a coating film such as a protective film for electronic parts, It was difficult to form a uniform coating film because of high viscosity, poor wettability, and difficulty in removing solvent. In order to improve these coatability, a method of polymerizing with a solvent of chloroform or tetrahydrofuran by using N-silylated diamine as a diamine, or dioxane and NMP as a polymerization solvent as disclosed in JP-B-56-163123. Method using dimethylformamide and lower alcohol, or JP-B-5
As disclosed in JP-A-6-163124, a proposal using dimethylformamide or NMP and a lower alcohol is disclosed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしこれらの方法で
は、得られるポリイミド膜の耐熱性が十分でなかった
り、低沸点溶媒混合による引火、爆発の可能性があり取
り扱いが容易ではないといった不具合があった。
However, in these methods, there are problems that the heat resistance of the obtained polyimide film is not sufficient, and that ignition and explosion may occur due to mixing with a solvent having a low boiling point, and handling is not easy. It was

【0005】また塗布性向上のために一般的なポリアミ
ド酸溶液を比較的沸点の低い溶媒や表面張力の小さな溶
媒で希釈することなどが考えられる。しかしながら一般
的なポリアミド酸溶液では、これら貧溶媒での希釈でゲ
ル化析出したり、低濃度ゆえに乾燥時に収縮を起し、不
均一な膜厚の塗膜しか得られなかった。
In order to improve the coating property, it is possible to dilute a general polyamic acid solution with a solvent having a relatively low boiling point or a solvent having a small surface tension. However, in a general polyamic acid solution, gelation and precipitation occur when diluted with these poor solvents, and shrinkage occurs during drying due to the low concentration, so that only a coating film having an uneven film thickness is obtained.

【0006】そこで本発明者らは、このような耐熱性、
電気特性、安定性に優れたポリイミド樹脂の特性を損な
うことなく、基板、特にガラス基板に対する塗布性を改
良したポリイミド前駆体たるポリアミド酸溶液組成物を
提供し、さらに塗布欠陥のないカラーフィルタを提供す
るために鋭意検討し、本発明を提供するに至ったもので
ある。
Therefore, the present inventors have proposed such heat resistance,
Provided is a polyimide precursor polyamic acid solution composition having improved coating properties on substrates, particularly glass substrates, without impairing the properties of the polyimide resin having excellent electrical properties and stability, and further providing a color filter having no coating defects. In order to achieve this, the present invention has been earnestly studied to provide the present invention.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
ポリアミド酸および下記一般式(1)および/または
(2) R1 −O−(CR3 4 CH2 O)n −R2 …… (1) R1 −O−(CR3 4 CH2 CH2 O)n −R2 …… (2) (式(1),(2) において、nは1〜3の整数、R1 は水素
またはアルキル基、R2は水素またはアシル基、R3
4 は水素またはアルキル基を示す。)で表される化合
物を必須成分として含有するポリアミド酸組成物、この
組成物を塗布する工程を含むことを特徴としたカラーフ
ィルタの製造方法、ならびに上記式(1)および/また
は(2)で表される化合物を主成分とする溶媒中で、ジ
アミンとテトラカルボン酸二無水物の反応を行うことを
特徴とするポリアミド酸組成物の製造方法、およびこの
ポリアミド酸組成物の硬化物を塗膜として有することを
特徴とするカラーフィルタによって達成される。
The object of the present invention is as follows.
Polyamic acid and the following general formulas (1) and / or (2) R 1 -O- (CR 3 R 4 CH 2 O) n -R 2 (1) R 1 -O- (CR 3 R 4 CH 2 CH 2 O) n —R 2 (2) (In the formulas (1) and (2), n is an integer of 1 to 3, R 1 is hydrogen or an alkyl group, R 2 is hydrogen or an acyl group, R 3 ,
R 4 represents hydrogen or an alkyl group. ) A polyamic acid composition containing a compound represented by the formula (1) as an essential component, a method for producing a color filter comprising the step of applying this composition, and the above formula (1) and / or (2) In a solvent containing a compound represented as a main component, a method for producing a polyamic acid composition, which comprises reacting a diamine and a tetracarboxylic dianhydride, and a cured product of the polyamic acid composition. Is achieved by a color filter characterized by having

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】上記式(1)および(2)におい
て、R1 は水素またはアルキル基であるが、好ましくは
Cが1〜10のアルキル基であり、より好ましくはCが
1〜6のアルキル基である。R2 は水素またはアシル基
であるが、好ましくは、水素、Cが1〜3のアシル基で
あり、より好ましくは水素またはアセチル基、さらに好
ましくは水素である。R3 、R4 は水素またはアルキル
基であるが、好ましくは、水素またはCが1〜3のアル
キル基であり、より好ましくは水素、メチル基またはエ
チル基である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the above formulas (1) and (2), R 1 is hydrogen or an alkyl group, preferably C is an alkyl group having 1 to 10, and more preferably C is 1 to 6. Is an alkyl group. R 2 is hydrogen or an acyl group, preferably hydrogen and an acyl group having C of 1 to 3, more preferably hydrogen or acetyl group, and further preferably hydrogen. R 3 and R 4 are hydrogen or an alkyl group, preferably hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably hydrogen, a methyl group or an ethyl group.

【0009】このような化合物としては例えば、1,2
−エタンジオール、2−メトキシエタノール、2−エト
キシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−(イソ
ペンチルオキシ)エタノール、2−(ヘキシルオキシ)
エタノール、1,3−プロパンジオール、2−メトキシ
プロパノール、2−エトキシプロパノール、3−メトキ
シプロパノール、3−エトキシプロパノール、2−メト
キシブタノール、3−メトキシブタノール、3−メチル
−3−メトキシブタノール、ジエチレングリコール、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチ
レングリコールモノメチルエーテル、およびこれらのア
セテートなどがあり、中でも好ましくは 2−ブトキシ
エタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、3−メ
トキシプロパノール、3−エトキシプロパノール、3−
メチル−3−メトキシブタノール、およびこれらのアセ
テートなどが挙げられる。これらの化合物は、単独で使
用しても2種類以上を組み合わせて用いても良い。ま
た、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドンなどのアミ
ド系溶媒やγ−ブチロラクトン、メチル3−メトキシプ
ロピオネートなどのエステル系溶媒、エチレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテルなどのエーテル系溶媒等と混合して用いてもよい
が、その場合、その溶媒組成物中に上記式(1)および
/または(2)で表される化合物を50重量%以上含む
こと、さらに好ましくはこれらの化合物を80重量%以
上含むことが望ましい。
Examples of such compounds include 1, 2
-Ethanediol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, 2- (isopentyloxy) ethanol, 2- (hexyloxy)
Ethanol, 1,3-propanediol, 2-methoxypropanol, 2-ethoxypropanol, 3-methoxypropanol, 3-ethoxypropanol, 2-methoxybutanol, 3-methoxybutanol, 3-methyl-3-methoxybutanol, diethylene glycol, There are diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol, triethylene glycol monomethyl ether, and acetates thereof. Among them, 2-butoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, 3- Methoxypropanol, 3-ethoxypropanol, 3-
Methyl-3-methoxybutanol, acetates thereof and the like can be mentioned. These compounds may be used alone or in combination of two or more. Further, amide solvents such as N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide and N-methyl-2-pyrrolidone, ester solvents such as γ-butyrolactone and methyl 3-methoxypropionate, ethylene glycol diethyl ether. , And may be used as a mixture with an ether solvent such as diethylene glycol dimethyl ether. In that case, the solvent composition contains 50% by weight or more of the compound represented by the above formula (1) and / or (2). It is desirable that the content of these compounds be 80% by weight or more.

【0010】さらには上記式(1)および/または
(2)で表される化合物を主成分とする溶媒組成物中
で、ジアミンとテトラカルボン酸二無水物の反応させて
得られたポリアミド酸組成物を用いるとさらに好適であ
る。ここで主成分とするとは、前記溶媒組成物中に上記
式(1)および/または(2)で表される化合物を50
重量%以上含むこと、さらに好ましくは80重量%以上
含むことをいう。
Further, a polyamic acid composition obtained by reacting a diamine and a tetracarboxylic dianhydride in a solvent composition containing a compound represented by the above formula (1) and / or (2) as a main component. It is more preferable to use a product. Here, the term “main component” means that the compound represented by the above formula (1) and / or (2) is contained in the solvent composition.
It means that it is contained in an amount of not less than 80% by weight, more preferably not less than 80% by weight.

【0011】これらの反応溶媒を用い、反応温度100
℃以下でかつ0.1〜12時間以内で重合を終了するこ
とにより、比較的重合度の低いポリアミド酸を得ること
が可能であり、結果として25重量%以上の高固形分濃
度で、かつ、回転粘度計で測定した粘度が1000mP
a・s(25℃)程度の低粘度のポリアミド酸溶液を調
製することができる。反応温度が100℃を越えると、
反応時間が12時間以上におよぶ場合には、この反応系
に従っても得られるポリアミド酸のイミド化が進行して
本発明の溶媒に溶解性が低下して、ゲル化、ポリマの沈
殿、粘度上昇などが起こる場合がある。
Using these reaction solvents, a reaction temperature of 100
It is possible to obtain a polyamic acid having a relatively low degree of polymerization by terminating the polymerization at 0 ° C or less and within 0.1 to 12 hours, and as a result, at a high solid content concentration of 25% by weight or more, and Viscosity measured with a rotational viscometer is 1000 mP
It is possible to prepare a polyamic acid solution having a low viscosity of about a · s (25 ° C.). If the reaction temperature exceeds 100 ° C,
When the reaction time is 12 hours or more, imidization of the polyamic acid obtained according to this reaction system proceeds and the solubility in the solvent of the present invention decreases, resulting in gelation, polymer precipitation, viscosity increase, etc. May occur.

【0012】本発明のポリアミド酸組成物により、粘度
が低く、濡れ性が良く、ゲル化を起こしにくく、固形分
濃度が高い、ポリアミド酸溶液組成物が得られ、塗布欠
陥のない塗膜を形成することができる。
With the polyamic acid composition of the present invention, a polyamic acid solution composition having low viscosity, good wettability, less likely to cause gelation, and high solid content concentration is obtained, and a coating film having no coating defects is formed. can do.

【0013】一般にこれらのポリアミド酸溶液組成物の
均一塗布にはスピナー、ロールコータ、ワイヤーバーコ
ータ、ダイコータなどが用いられるが、それぞれの塗布
法での塗工欠陥はポリアミド酸溶液組成物の溶剤組成を
変更することで解決できる場合がある。本発明のポリア
ミド酸溶液組成物は、従来のポリアミド酸溶液組成物で
は貧溶媒と混合した場合、ゲル状物質を析出する濃度で
貧溶媒と混合した場合でもゲル化析出しない。このよう
な物性のため塗布欠陥改善のために加える希釈溶剤や希
釈比率の選択の幅が拡がる。
Generally, a spinner, a roll coater, a wire bar coater, a die coater, etc. are used for uniform coating of these polyamic acid solution compositions. The coating defect in each coating method is caused by the solvent composition of the polyamic acid solution composition. Sometimes it can be solved by changing the. The polyamic acid solution composition of the present invention does not cause gelation and precipitation even when mixed with a poor solvent in the conventional polyamic acid solution composition and even when mixed with a poor solvent at a concentration at which a gel-like substance is precipitated. Due to these physical properties, the range of selection of the diluent solvent and the dilution ratio to be added for improving the coating defects is expanded.

【0014】このポリアミド酸の調製に用いられるジア
ミンとしては、m−フェニレンジアミン、p−フェニレ
ンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、
4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,7−ジアミ
ノジフェニルフルオレン、ベンジジン、3,3’−ジメ
チルベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジン、
4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−
(または4,4’−)ジアミノジフェニルスルホン、
9,9’−ビス(4−アミノフェニル)スルホン、4,
4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,5−ジアミノ
ナフタレン、2,4−ビス−(β−アミノ−t−ブチ
ル)トルエン、ビス(p−β−メチル−o−アミノベン
ジル)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−イソプロピル
ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベン
ゼン、2,5−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノパ
ラキシレン、1,2−ビス(3−アミノプロピポキシ)
エタン、1,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)
フェニル]プロパン、m−キシリレンジアミン、p−キ
シリレンジアミン、m−キシリレンジアミン、ビス(4
−アミノシクロヘキシル)メタン、p,p’−テトラメ
チルジアミノジフェニルメタン、p,p’−テトラエチ
ルジアミノジフェニルメタン、デカメチレンジアミン、
3−メチルヘプタメチレンジアミン、4,4’−ジメチ
ルヘプタメチレンジアミン、2,1,1−ドデカンジア
ミン、2,2−ジメチルプロピレンジアミン、オクタメ
チレンジアミン、3−メトキシヘキサメチレンジアミ
ン、2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン、2,5
−ジメチルヘプタメチレンジアミン、3−メチルヘプタ
メチレンジアミン、1,4−シクロヘキサンジアミン、
3,3’−ジアミノジプロピルアミン、1,6−ジアミ
ノヘキサン、ヘキサメチレンジアミンなどが用いられ、
これらのジアミンは、組み合わせて用いることもでき
る。ポリイミドの耐熱性からは、ポリマー主鎖のアミド
基との結合が芳香族環から直接行われている構造を持つ
もの、例えば、m−フェニレンジアミン、p−フェニレ
ンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、
4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,7−ジアミ
ノジフェニルフルオレン、ベンジジン、3,3’−ジメ
チルベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジン、
4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−
(または4,4’−)ジアミノジフェニルスルホン、
9,9’−ビス(4−アミノフェニル)スルホン、4,
4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,5−ジアミノ
ナフタレン、2,4−ビス−(β−アミノ−t−ブチ
ル)トルエン、ビス(p−β−メチル−o−アミノベン
ジル)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−イソプロピル
ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベン
ゼン、2,5−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノパ
ラキシレンなどが好ましく用いられる。テトラカルボン
酸二無水物としては、脂肪族、芳香族のテトラカルボン
酸二無水物が挙げられ、例えば、ピロメリット酸二無水
物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−
ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、4,
4’−オキシジフタル酸二無水物、2,3,5−トリカ
ルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、1,2,3,4
−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,
3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物など
が挙げらる。これらのテトラカルボン酸二無水物は、組
み合わせて用いることもできる。得られるポリイミドの
耐熱性からは、ポリマー主鎖のカルボニル基との結合が
芳香環あるいは芳香族複素環から直接行われている構造
を有するものが好ましい。例えばピロメリット酸二無水
物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−
ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、4,
4’−オキシジフタル酸二無水物などが挙げられる。こ
れらジアミンとテトラカルボン酸二無水物および一般式
(1)および/または(2)の化合物の好ましい組み合
わせとしては、ピロメリット酸二無水物と3,3’−
(または、4,4’−)ジアミノジフェニルスルホンと
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、3,3’,
4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と
3,3’−(または、4,4’−)ジアミノジフェニル
スルホンとジエチレングリコールモノブチルエーテル、
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物と3,3’−(または、4,4’−)ジアミノジフ
ェニルスルホンとジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ピロメリット酸二無水物および3,3’,4,
4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と3,
3’−(または、4,4’−)ジアミノジフェニルスル
ホンとトリエチレングリコール、3,3’,4,4’−
ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物と3,3’−
(または、4,4’−)ジアミノジフェニルスルホンお
よびビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキ
サンとジエチレングリコールモノエチルエーテルなどが
典型的な例として挙げられるがこれらには限定されな
い。さらに、これらポリアミド酸から得られるポリイミ
ドの接着性を向上させる目的で、耐熱性を低下させない
範囲でシロキサン構造を有する脂肪族ジアミンを共重合
したり、アミノシランを添加することも可能である。上
記シロキサン構造を有する脂肪族ジアミンの共重合量は
ジアミン成分の1〜10mol%が耐熱性の面から好ま
しい。またアミノシランの添加量はポリイミドに対し
0.5〜10wt%が耐熱性の面から好ましい。また重
合の程度を制御する目的でテトラカルボン酸二無水物の
一部をジカルボン酸一無水物に置き換えることも可能で
ある。
The diamine used for the preparation of this polyamic acid is m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylpropane,
4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,7-diaminodiphenylfluorene, benzidine, 3,3'-dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine,
4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-
(Or 4,4 ′-) diaminodiphenyl sulfone,
9,9'-bis (4-aminophenyl) sulfone, 4,
4'-diaminodiphenyl ether, 1,5-diaminonaphthalene, 2,4-bis- (β-amino-t-butyl) toluene, bis (p-β-methyl-o-aminobenzyl) benzene, 1,3-diamino -4-isopropylbenzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 2,5-diaminotoluene, 2,5-diaminoparaxylene, 1,2-bis (3-aminopropoxy)
Ethane, 1,2-bis [4- (4-aminophenoxy)
Phenyl] propane, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, m-xylylenediamine, bis (4
-Aminocyclohexyl) methane, p, p'-tetramethyldiaminodiphenylmethane, p, p'-tetraethyldiaminodiphenylmethane, decamethylenediamine,
3-methylheptamethylenediamine, 4,4'-dimethylheptamethylenediamine, 2,1,1-dodecanediamine, 2,2-dimethylpropylenediamine, octamethylenediamine, 3-methoxyhexamethylenediamine, 2,5-dimethyl Hexamethylenediamine, 2,5
-Dimethylheptamethylenediamine, 3-methylheptamethylenediamine, 1,4-cyclohexanediamine,
3,3′-diaminodipropylamine, 1,6-diaminohexane, hexamethylenediamine, etc. are used,
These diamines can be used in combination. From the heat resistance of the polyimide, those having a structure in which the amide group of the polymer main chain is directly bonded from the aromatic ring, for example, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl propane,
4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,7-diaminodiphenylfluorene, benzidine, 3,3'-dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine,
4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-
(Or 4,4 ′-) diaminodiphenyl sulfone,
9,9'-bis (4-aminophenyl) sulfone, 4,
4'-diaminodiphenyl ether, 1,5-diaminonaphthalene, 2,4-bis- (β-amino-t-butyl) toluene, bis (p-β-methyl-o-aminobenzyl) benzene, 1,3-diamino -4-Isopropylbenzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 2,5-diaminotoluene, 2,5-diaminoparaxylene and the like are preferably used. Examples of the tetracarboxylic acid dianhydride include aliphatic and aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides, and examples thereof include pyromellitic acid dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride. , 2,2 ', 3,3'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-
Diphenyl sulfone tetracarboxylic dianhydride, 4,
4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride, 1,2,3,4
-Cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,
3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride and the like can be mentioned. These tetracarboxylic dianhydrides can also be used in combination. From the heat resistance of the obtained polyimide, those having a structure in which the bond with the carbonyl group of the polymer main chain is directly formed from an aromatic ring or an aromatic heterocycle are preferable. For example, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4 , 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-
Diphenyl sulfone tetracarboxylic dianhydride, 4,
4'-oxydiphthalic acid dianhydride and the like can be mentioned. Preferred combinations of these diamines and tetracarboxylic dianhydrides and compounds of the general formulas (1) and / or (2) include pyromellitic dianhydride and 3,3′-
(Or 4,4 ′-) diaminodiphenyl sulfone and diethylene glycol monoethyl ether, 3,3 ′,
4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′-(or 4,4 ′-) diaminodiphenyl sulfone and diethylene glycol monobutyl ether,
3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3'-(or 4,4 '-) diaminodiphenyl sulfone and diethylene glycol monomethyl ether, pyromellitic dianhydride and 3,3 ', 4,
4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride and 3,
3 '-(or 4,4'-) diaminodiphenyl sulfone and triethylene glycol, 3,3 ', 4,4'-
Benzophenone tetracarboxylic anhydride and 3,3'-
(Or, 4,4 ′-) diaminodiphenyl sulfone and bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane and diethylene glycol monoethyl ether are mentioned as typical examples, but not limited thereto. Further, for the purpose of improving the adhesiveness of the polyimide obtained from these polyamic acids, it is possible to copolymerize an aliphatic diamine having a siloxane structure or add an aminosilane to the extent that the heat resistance is not lowered. The copolymerization amount of the aliphatic diamine having the siloxane structure is preferably 1 to 10 mol% of the diamine component from the viewpoint of heat resistance. Further, the amount of aminosilane added is preferably 0.5 to 10 wt% with respect to the polyimide from the viewpoint of heat resistance. Further, a part of the tetracarboxylic acid dianhydride can be replaced with a dicarboxylic acid monoanhydride for the purpose of controlling the degree of polymerization.

【0015】本発明になるポリアミド酸組成物の典型的
な応用例としては、液晶表示素子および固体撮像素子な
どに用いられるカラーフィルタの保護膜が挙げられる。
また、本発明のポリアミド酸組成物に染料、顔料等の着
色材やカーボンブラック等の遮光材を分散させることに
より、カラーフィルタの着色膜や遮光膜として用いるこ
とができる。これら、保護膜、着色膜、遮光膜等の塗膜
はカラーフィルタ表面の平坦化、および保護のために重
要であり、かつ基板に対する優れた塗布性が要求される
からである。
Typical applications of the polyamic acid composition according to the present invention include protective films for color filters used in liquid crystal display devices and solid-state image pickup devices.
Further, by dispersing a coloring material such as a dye or a pigment or a light shielding material such as carbon black in the polyamic acid composition of the present invention, it can be used as a colored film or a light shielding film of a color filter. This is because these coating films such as a protective film, a colored film, and a light-shielding film are important for flattening and protecting the surface of the color filter and are required to have excellent coatability on the substrate.

【0016】[0016]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following examples.

【0017】実施例1 (ポリアミド酸溶液組成物の調製)三ツ口3lフラスコ
にジエチレングリコールモノエチルエーテル 162
1.15gを入れ、N2 通気下、撹拌しながら3,3’
−ジアミノジフェニルスルホン 232.33g、ビス
アミノプロピルテトラメチルジシロキサン 7.194
gを添加する。30分撹拌の後、3,3’,4,4’−
ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物 310.32
gを30gのジエチレングリコールモノエチルエーテル
とともに加えて完全に溶解したところで50℃に昇温す
る。50℃に調温しながら3時間撹拌した。一昼夜室温
で放置し、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸溶液を
得た。この処方で得られるポリアミド酸濃度は25wt
%であり、回転粘度は1011mPa・s(25℃)で
あった。
Example 1 (Preparation of Polyamic Acid Solution Composition) Diethylene glycol monoethyl ether 162 was placed in a three-necked 3 l flask.
Add 1.15 g and stir under N 2 aeration for 3,3 ′
-Diaminodiphenyl sulfone 232.33 g, bisaminopropyl tetramethyldisiloxane 7.194
g is added. After stirring for 30 minutes, 3,3 ', 4,4'-
Benzophenone tetracarboxylic acid anhydride 310.32
g was added together with 30 g of diethylene glycol monoethyl ether, and when completely dissolved, the temperature was raised to 50 ° C. The mixture was stirred for 3 hours while controlling the temperature at 50 ° C. The mixture was allowed to stand overnight at room temperature to obtain a polyamic acid solution as a polyimide precursor. Polyamic acid concentration obtained with this formulation is 25 wt
%, And the rotational viscosity was 1011 mPa · s (25 ° C.).

【0018】実施例2 (ポリアミド酸溶液組成物の調製)ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテルを等量のジエチレングリコールモ
ノエチルエーテルに、3,3’−ジアミノジフェニルス
ルホンを等モル当量のジアミノジフェニルメタンにベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を等モル当量のビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物に替えて用いる以外
は、実施例1と同様にしてポリアミド酸溶液を得た。こ
の処方で得られるポリアミド酸溶液の固形分濃度は25
%であり、回転粘度は987mPa・s(25℃)であ
った。
Example 2 (Preparation of Polyamic Acid Solution Composition) Diethylene glycol monomethyl ether was added to an equal amount of diethylene glycol monoethyl ether, and 3,3'-diaminodiphenyl sulfone was added to an equivalent molar equivalent of diaminodiphenylmethane. Benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride. A polyamic acid solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that the substance was used instead of the equimolar equivalent of biphenyltetracarboxylic dianhydride. The solid content concentration of the polyamic acid solution obtained by this formulation is 25
%, And the rotational viscosity was 987 mPa · s (25 ° C.).

【0019】実施例3 (ポリアミド酸溶液組成物の調製)三ツ口2lフラスコ
にNMP 670gと2−ブトキシエタノール 700
gを入れ、N2 通気下、撹拌しながら3,3’−ジアミ
ノジフェニルスルホン 105.4g、ジアミノジフェ
ニルメタン 83.87g、ビスアミノプロピルテトラ
メチルジシロキサン 13.42gを添加する。30分
撹拌の後、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 26
0.43gを30gのNMPとともに加えて完全に溶解
したところで60℃に昇温する。60℃に調温しながら
2時間撹拌した。ポリイミド前駆体であるポリアミド酸
溶液を得た。この処方で得られるポリアミド酸溶液の固
形分濃度は25%であり、回転粘度は3010mPa・
s(25℃)であった。
Example 3 (Preparation of Polyamic Acid Solution Composition) NMP (670 g) and 2-butoxyethanol (700) were placed in a three-necked 2 l flask.
Put g, N 2 under aeration, stirring 3,3'-diaminodiphenyl sulfone 105.4 g, diaminodiphenylmethane 83.87G, adding bisaminopropyl tetramethyldisiloxane 13.42 g. After stirring for 30 minutes, biphenyltetracarboxylic dianhydride 26
When 0.43 g was added together with 30 g of NMP and completely dissolved, the temperature was raised to 60 ° C. The mixture was stirred for 2 hours while controlling the temperature at 60 ° C. A polyamic acid solution as a polyimide precursor was obtained. The polyamic acid solution obtained with this formulation had a solid content concentration of 25% and a rotational viscosity of 3010 mPa · s.
It was s (25 degreeC).

【0020】比較例1 三ツ口3lフラスコにNMP 1621.15gを入
れ、N2 通気下、撹拌しながら3,3’−ジアミノジフ
ェニルスルホン 232.33g、ビスアミノプロピル
テトラメチルジシロキサン 7.194gを添加する。
30分撹拌の後、3,3’,4,4’−ベンゾフェノン
テトラカルボン酸無水物 310.32gを30gのN
MPとともに徐々に加えて完全に溶解したところで50
℃に昇温する。50℃に調温しながら3時間撹拌した。
一昼夜室温で放置し、ポリイミド前駆体であるポリアミ
ド酸溶液を得た。この処方で得られるポリアミド酸溶液
の固形分濃度は25%であり、回転粘度は、11211
mPa・s(25℃)であった。
Comparative Example 1 NMP 1621.15 g was placed in a three-necked 3 l flask, and 32.3'-diaminodiphenylsulfone 232.33 g and bisaminopropyltetramethyldisiloxane 7.194 g were added under N 2 aeration with stirring. .
After stirring for 30 minutes, 310.32 g of 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid anhydride was added to 30 g of N 2.
When gradually dissolved with MP and completely dissolved, 50
Raise the temperature to ℃. The mixture was stirred for 3 hours while controlling the temperature at 50 ° C.
The mixture was allowed to stand overnight at room temperature to obtain a polyamic acid solution as a polyimide precursor. The polyamic acid solution obtained with this formulation had a solid content concentration of 25% and a rotational viscosity of 11211.
It was mPa · s (25 ° C.).

【0021】実施例4 (評価)実施例1〜3で調製したポリアミド酸溶液組成
物を2−ブトキシエタノールで表1にある固形分濃度に
希釈してコーティング液を調製し、このコーティング液
をガラス基板にスピナー塗布し塗布性評価用サンプルを
得た。このサンプルについて、塗布性を評価した結果を
表1に示す。また、ポリアミド酸溶液組成物の電圧保持
率を測定した結果を表1に示す。さらに、ポリアミド酸
溶液組成物の保存安定性および耐熱性について測定した
結果を表2に示す。
Example 4 (Evaluation) The polyamic acid solution compositions prepared in Examples 1 to 3 were diluted with 2-butoxyethanol to a solid content concentration shown in Table 1 to prepare a coating solution. A spinner was applied to the substrate to obtain a sample for applicability evaluation. Table 1 shows the results of evaluation of coating properties of this sample. Table 1 shows the results of measuring the voltage holding ratio of the polyamic acid solution composition. Further, the results of measuring the storage stability and heat resistance of the polyamic acid solution composition are shown in Table 2.

【0022】測定方法は次のとおり行なった。The measurement method was as follows.

【0023】塗布性(放射ムラ):評価用サンプルの塗
布性放射ムラを蛍光灯およびNaランプ直下で目視によ
り評価した。
Coating property (irradiation unevenness): The coating property irradiation unevenness of the sample for evaluation was visually evaluated directly under a fluorescent lamp and a Na lamp.

【0024】塗布性(膜厚均一性):評価用サンプルに
回転中心を含む対角線上を10mm刻みでその膜厚を東
京精密(株)製段差膜厚計サーフコム1500Aを用い
て計測した。回転中心と基板角の中点の膜厚を標準膜厚
とし、膜厚変動の幅をこの標準膜厚に対する百分率で評
価した。
Coating property (uniformity of film thickness): The film thickness was measured on a diagonal line including the rotation center of the evaluation sample in steps of 10 mm using a step thickness film thickness meter Surfcom 1500A manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. The film thickness at the midpoint of the rotation center and the substrate angle was defined as the standard film thickness, and the width of film thickness fluctuation was evaluated as a percentage of the standard film thickness.

【0025】電圧保持率:電極基板上にポリアミド酸溶
液組成物を塗布し加熱キュアしてポリイミド膜を得、こ
の基板と新たな電極基板を対向させ基板間を誘電体で満
たしコンデンサーを作製した。このコンデンサーに交流
電圧を印加しその電圧の保持率を測定した。印加電圧は
5V、保持時間は16.7ms。
Voltage holding ratio: A polyamic acid solution composition was applied on an electrode substrate and cured by heating to obtain a polyimide film, and this substrate was opposed to a new electrode substrate, and the space between the substrates was filled with a dielectric to prepare a capacitor. An AC voltage was applied to this capacitor and the holding rate of the voltage was measured. Applied voltage is 5V, holding time is 16.7ms.

【0026】保存安定性:得られたポリアミド酸溶液
を、−15℃で90日保管しその前後の粘度変化を測定
した。データは粘度の保持率で示した。
Storage stability: The obtained polyamic acid solution was stored at -15 ° C for 90 days and the change in viscosity before and after the storage was measured. The data are shown by the retention rate of viscosity.

【0027】耐熱性:得られたポリアミド酸溶液をスピ
ナー塗布し、300℃で30分の硬化を行い、その硬化
膜のガラス転移温度を測定した。ガラス転移温度は、実
質的な耐熱性の指標となる。
Heat resistance: The obtained polyamic acid solution was applied to a spinner and cured at 300 ° C. for 30 minutes, and the glass transition temperature of the cured film was measured. The glass transition temperature is an index of substantial heat resistance.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】[0029]

【表2】 [Table 2]

【0030】表1および2から明らかなように、本発明
の実施例1〜3では放射ムラのない塗膜を形成できた。
一方比較例では放射ムラのない塗膜を得るのが難しかっ
た。また、本発明の実施例1〜3では、塗膜全体にわた
って膜厚変動の少ない塗膜を形成できた。一方比較例で
は均一な塗膜を得るのが難しかった。さらに、本発明に
よって、得られる比較的低分子量のポリアミド酸も、電
圧保持率、保存安定性やキュア膜の耐熱性の点では従来
のポリアミド酸と同等に扱うことが可能であった。
As is clear from Tables 1 and 2, in Examples 1 to 3 of the present invention, a coating film without radiation unevenness could be formed.
On the other hand, in the comparative example, it was difficult to obtain a coating film without radiation unevenness. In addition, in Examples 1 to 3 of the present invention, it was possible to form a coating film having a small film thickness variation over the entire coating film. On the other hand, in the comparative example, it was difficult to obtain a uniform coating film. Further, according to the present invention, the obtained polyamic acid having a relatively low molecular weight could be treated in the same manner as the conventional polyamic acid in terms of voltage holding ratio, storage stability and heat resistance of the cure film.

【0031】実施例5 パターン加工されたクロム遮光層を設けられたガラス基
板上に、耐熱性顔料を含む着色樹脂層をフォトリソグラ
フィによりパターン形成した。該着色層を設けたガラス
基板上に、実施例1の処方で調製したポリアミド酸溶液
組成物を塗布し、280℃でキュアして約1.0μmの
ポリイミド保護膜層としカラーフィルタを得た。塗布欠
陥のない優れたカラーフィルタを得た。
Example 5 A colored resin layer containing a heat resistant pigment was patterned by photolithography on a glass substrate provided with a patterned chrome light shielding layer. The polyamic acid solution composition prepared according to the formulation of Example 1 was applied onto the glass substrate provided with the colored layer, and cured at 280 ° C. to form a polyimide protective film layer of about 1.0 μm to obtain a color filter. An excellent color filter without coating defects was obtained.

【0032】実施例6 着色層として、実施例3の処方で調製したポリアミド酸
溶液組成物に顔料を分散させたものから得たポリイミド
層を用いる以外は実施例5と全く同様にしてカラーフィ
ルタを得た。塗布欠陥のない優れたカラーフィルタを得
た。
Example 6 A color filter was prepared in the same manner as in Example 5 except that a polyimide layer obtained by dispersing a pigment in a polyamic acid solution composition prepared according to the formulation of Example 3 was used as the coloring layer. Obtained. An excellent color filter without coating defects was obtained.

【0033】実施例7 遮光層として、クロム遮光層に代えて実施例3の処方で
調製したポリアミド酸溶液組成物にカーボンブラックを
分散させたものから得たポリイミド層を用いる以外は実
施例5と全く同様にしてカラーフィルタを得た。塗布欠
陥のない優れたカラーフィルタを得た。
Example 7 As Example 5 except that as the light-shielding layer, a polyimide layer obtained by dispersing carbon black in the polyamic acid solution composition prepared according to the formulation of Example 3 was used in place of the chromium light-shielding layer. A color filter was obtained in exactly the same manner. An excellent color filter without coating defects was obtained.

【0034】比較例2 保護膜として、比較例1の処方で調製したポリアミド酸
溶液組成物から得たポリイミド層を用いる以外は実施例
5と全く同様にしてカラーフィルタを得た。得られたカ
ラーフィルタを蛍光灯およびNaランプ直下で目視によ
り評価したところ放射ムラが見られカラーフィルタとし
て実用に耐えないものであった。
Comparative Example 2 A color filter was obtained in the same manner as in Example 5 except that a polyimide layer obtained from the polyamic acid solution composition prepared according to the formulation of Comparative Example 1 was used as the protective film. When the obtained color filter was visually evaluated directly under a fluorescent lamp and a Na lamp, radiation unevenness was observed and it was not practical for a color filter.

【0035】[0035]

【発明の効果】 本発明によれば、耐熱性、安定性、電
気特性に優れたポリイミド樹脂の特性を損なうことな
く、基板特にガラス基板に対して優れた塗布性を有した
ポリイミド前駆体たるポリアミド酸溶液組成物を得るこ
とができる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, polyamide, which is a polyimide precursor having excellent coating properties on a substrate, particularly a glass substrate, without impairing the properties of the polyimide resin having excellent heat resistance, stability, and electrical properties An acid solution composition can be obtained.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリアミド酸および下記一般式(1)お
よび/または(2) R1 −O−(CR3 4 CH2 O)n −R2 …… (1) R1 −O−(CR3 4 CH2 CH2 O)n −R2 …… (2) (式(1),(2) において、nは1〜3の整数、R1 は水素
またはアルキル基、R2は水素またはアシル基、R3
4 は水素またはアルキル基を示す。)で表される化合
物を必須成分として含有するポリアミド酸組成物。
1. A polyamic acid and the following general formulas (1) and / or (2) R 1 —O— (CR 3 R 4 CH 2 O) n —R 2 (1) R 1 —O— (CR 3 R 4 CH 2 CH 2 O) n —R 2 (2) (In the formulas (1) and (2), n is an integer of 1 to 3, R 1 is hydrogen or an alkyl group, R 2 is hydrogen or An acyl group, R 3 ,
R 4 represents hydrogen or an alkyl group. ) The polyamic-acid composition containing the compound represented by these as an essential component.
【請求項2】 ポリアミド酸および下記一般式(3) R1 −O−(CH2 CH2 O)n −H …… (3) (式(3) において、nは1〜3の整数、Rは水素または
アルキル基を示す。)で表される化合物を必須成分とし
て含有する請求項1記載のポリアミド酸組成物。
2. Polyamic acid and the following general formula (3) R 1 —O— (CH 2 CH 2 O) n —H (3) (In the formula (3), n is an integer of 1 to 3, R Is a hydrogen atom or an alkyl group.) The polyamic acid composition according to claim 1, containing a compound represented by the formula) as an essential component.
【請求項3】 請求項1記載のポリアミド酸組成物を塗
布する工程を含むことを特徴とするカラーフィルタの製
造方法。
3. A method for producing a color filter, comprising a step of applying the polyamic acid composition according to claim 1.
【請求項4】 請求項1記載のポリアミド酸組成物の硬
化物を塗膜として有することを特徴とするカラーフィル
タ。
4. A color filter comprising a cured product of the polyamic acid composition according to claim 1 as a coating film.
【請求項5】 塗膜がポリイミド膜である請求項4記載
のカラーフィルタ。
5. The color filter according to claim 4, wherein the coating film is a polyimide film.
【請求項6】 塗膜が保護膜、着色膜、遮光膜の少なく
とも一つである請求項4記載のカラーフィルタ。
6. The color filter according to claim 4, wherein the coating film is at least one of a protective film, a colored film and a light shielding film.
【請求項7】 下記一般式(1)および/または(2) R1 −O−(CR3 4 CH2 O)n −R2 …… (1) R1 −O−(CR3 4 CH2 CH2 O)n −R2 …… (2) (式(1),(2) において、nは1〜3の整数、R1 は水素
またはアルキル基、R2は水素またはアシル基、R3
4 は水素またはアルキル基を示す。)で表される化合
物を主成分とする溶媒中で、ジアミンとテトラカルボン
酸二無水物の反応を行うことを特徴とするポリアミド酸
組成物の製造方法。
7. The following general formula (1) and / or (2) R 1 -O- (CR 3 R 4 CH 2 O) n -R 2 (1) R 1 -O- (CR 3 R 4 CH 2 CH 2 O) n —R 2 (2) (In the formulas (1) and (2), n is an integer of 1 to 3, R 1 is hydrogen or an alkyl group, R 2 is hydrogen or an acyl group, R 3 ,
R 4 represents hydrogen or an alkyl group. ) The method for producing a polyamic acid composition, which comprises reacting a diamine and a tetracarboxylic dianhydride in a solvent containing a compound represented by the formula (4) as a main component.
【請求項8】 下記一般式(3) R1 −O−(CH2 CH2 O)n −H …… (3) (式(3) において、nは1〜3の整数、Rは水素または
アルキル基を示す。)で表される化合物を主成分とする
溶媒中で、ジアミンとテトラカルボン酸二無水物の反応
を行うことを特徴とする請求項7記載のポリアミド酸組
成物の製造方法。
8. The following general formula (3) R 1 —O— (CH 2 CH 2 O) n —H (3) (In the formula (3), n is an integer of 1 to 3, R is hydrogen or The method for producing a polyamic acid composition according to claim 7, wherein the reaction of the diamine and the tetracarboxylic dianhydride is carried out in a solvent containing a compound represented by an alkyl group) as a main component.
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