JPH08239497A - Styrene polymer film having coating layer, production thereof, and silver halide photosensitive material - Google Patents

Styrene polymer film having coating layer, production thereof, and silver halide photosensitive material

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JPH08239497A
JPH08239497A JP7349224A JP34922495A JPH08239497A JP H08239497 A JPH08239497 A JP H08239497A JP 7349224 A JP7349224 A JP 7349224A JP 34922495 A JP34922495 A JP 34922495A JP H08239497 A JPH08239497 A JP H08239497A
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JP
Japan
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film
layer
styrene polymer
styrene
coating layer
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP7349224A
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Japanese (ja)
Inventor
Narikazu Hashimoto
斉和 橋本
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH08239497A publication Critical patent/JPH08239497A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To prevent a silver halide photosensitive material from giving a print having dimensional distortion or image blurring through contact printing by using a styrene polymer film having a substratum and regulated so as to have a corrugation height not larger than a specific value. CONSTITUTION: A film consisting mainly of a syndiotactic styrene polymer is coated with a layer. The coating layer is dried at 50-200 deg.C while the coated film is kept being transferred with rolls apart from each other at a distance of 0.1-10m at the most. The length of the zone where the film is contacted with the rolls is 3-200cm at the most, and the tension imposed on the film during the drying is 2-40kg/m. A silver halide photosensitive material comprises a base consisting mainly of a syndiotactic styrene polymer, a substratum and/or a back layer, and a silver halide emulsion layer, and the base has a corrugation height of 18mm or smaller.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、シンジオタクチッ
ク構造を有するスチレンポリマーを主成分とし、塗布層
が設けられているスチレンポリマーフイルム、その製造
方法およびそれを支持体として用いたハロゲン化銀写真
感光材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a styrene polymer film containing a styrene polymer having a syndiotactic structure as a main component and having a coating layer, a method for producing the styrene polymer film and a silver halide photograph using the same as a support. It relates to a photosensitive material.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にハロゲン化銀写真感光材料(以
下、感光材料あるいは感材と略することがある)は温湿
度、特に湿度が変化すると寸法が変化しやすいという欠
点を持っている。この寸法変化は、特に多色印刷のため
の網点画像や、精密な線画の再現が要求される印刷用感
材では、極めて重大な問題となる。このような寸法変化
は、ゼラチンのような保護コロイドを含む層(ハロゲン
化銀乳剤層を含む)および支持体の吸湿寸度変化によっ
て発生する。このため、寸法安定性の改良には、保護コ
ロイド層の改良と支持体の改良の両者が存在する。支持
体の寸法安定性を改良する方法として、従来一般に用い
られてきたポリエチレンテレフタレート(以下、PET
と略す)から、より吸湿寸度安定性に優れた支持体に変
更する方法がある。例えば、特開平3−131843号
公報に記載されているシンジオタクチック構造を有する
スチレンポリマーを主成分とするフイルムは、高い寸法
安定性を有している。具体的には、このスチレンポリマ
ーフイルムは、PETフイルムの約10倍(寸法変化は
1/10)の高い湿度寸法安定性を示す。しかし、この
スチレンポリマーフイルムに、最も寸法安定性を要求す
る印刷用感材の感光層、バック層を塗設し、実際の使用
形態に近い形、即ちテストチャートを露光して重ね焼き
を行ったところ、支持体単独あるいは感光層を付与した
フイルムのモデル評価(ピンゲージによる測長)の結果
とは逆に、PET支持体の感材よりも寸法ズレが大きく
なるという問題が発生した。さらに画像のボケが発生す
るという問題も発生した。
2. Description of the Related Art Generally, a silver halide photographic light-sensitive material (hereinafter sometimes abbreviated as a light-sensitive material or a light-sensitive material) has a drawback that its dimensions are easily changed when temperature and humidity are changed. This dimensional change poses a very serious problem especially in a halftone image for multicolor printing and a photosensitive material for printing which is required to reproduce a precise line drawing. Such a dimensional change is caused by a change in the hygroscopic dimension of a layer containing a protective colloid such as gelatin (including a silver halide emulsion layer) and a support. Therefore, improvement of dimensional stability includes both improvement of the protective colloid layer and improvement of the support. As a method for improving the dimensional stability of the support, polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET), which has been generally used conventionally, is used.
Abbreviated), there is a method of changing to a support having more excellent moisture absorption dimension stability. For example, the film containing a styrene polymer having a syndiotactic structure as a main component described in JP-A-3-131843 has high dimensional stability. Specifically, this styrene polymer film exhibits high humidity dimensional stability of about 10 times (the dimensional change is 1/10) that of the PET film. However, this styrene polymer film was coated with a photosensitive layer and a back layer of a photosensitive material for printing which requires the most dimensional stability, and a pattern close to the actual usage pattern, that is, a test chart was exposed to carry out overprinting. However, contrary to the result of the model evaluation (length measurement by a pin gauge) of the support alone or the film provided with the photosensitive layer, there was a problem that the dimensional deviation was larger than that of the sensitive material of the PET support. In addition, there is a problem that image blurring occurs.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明者が上記の問題
をさらに検討したところ、シンジオタクチック構造を有
するスチレンポリマーを主成分とするフイルムに塗布層
を設けると、その処理工程を原因として、フイルムの平
面性が低下することが判明した。フイルムの平面性が低
下すると、重ね焼きのような画像形成処理において寸法
のズレが発生する。その結果として、PETフイルムよ
りも寸法安定性の良いシンジオタクチック構造を有する
スチレンポリマーフイルムが、下塗り層を設けるとPE
Tフイルムよりも寸法安定性が劣ってしまうという現象
が生じていたのである。本発明の目的は、下塗り層が設
けられていても、寸法安定性が良好であるシンジオタク
チック構造を有するスチレンポリマーを主成分するフイ
ルムを提供することである。また、本発明の目的は、下
塗り層が設けられていても、寸法安定性が良好であるシ
ンジオタクチック構造を有するスチレンポリマーフイル
ムを製造する方法を提供することもである。さらに、本
発明の目的は、重ね焼きをしたときに寸法ズレや画像ボ
ケの起きにくいハロゲン化銀写真感光材料を提供するこ
とでもある。
The present inventor has further studied the above-mentioned problems, and as a result of providing a coating layer on a film containing a styrene polymer having a syndiotactic structure as a main component, the treatment step causes It was found that the flatness of the film was reduced. When the flatness of the film deteriorates, a dimensional deviation occurs in an image forming process such as overprinting. As a result, the styrene polymer film having a syndiotactic structure, which has better dimensional stability than the PET film, has a PE layer when the undercoat layer is provided.
The phenomenon that the dimensional stability was inferior to that of the T film had occurred. An object of the present invention is to provide a film containing a styrene polymer having a syndiotactic structure as a main component, which has good dimensional stability even when an undercoat layer is provided. It is also an object of the present invention to provide a method for producing a styrene polymer film having a syndiotactic structure which has good dimensional stability even if an undercoat layer is provided. A further object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material which is less likely to cause dimensional deviation and image blur when overprinted.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
(1)〜(10)のスチレンポリマーフイルム、その製
造方法およびハロゲン化銀写真感光材料により達成され
た。 (1)シンジオタクチック構造を有するスチレンポリマ
ーを主成分とし、塗布層が設けられているスチレンポリ
マーフイルムであって、フイルムの波打ちの高さが18
mm以下であることを特徴とする塗布層を有するスチレ
ンポリマーフイルム。 (2)110℃におけるヤング率が、長手方向と幅方向
のいずれも50乃至300kg/mm2 である(1)に
記載の塗布層を有するスチレンポリマーフイルム。 (3)110℃、10分間熱処理前後における長手方向
と幅方向の寸法変化が0.8%以下である(1)に記載
のスチレンポリマーフイルム。
The objects of the present invention have been achieved by the following styrene polymer films (1) to (10), a method for producing the same and a silver halide photographic light-sensitive material. (1) A styrene polymer film containing a styrene polymer having a syndiotactic structure as a main component and provided with a coating layer, the wavy height of the film being 18
A styrene polymer film having a coating layer having a thickness of not more than mm. (2) A styrene polymer film having a coating layer according to (1), which has a Young's modulus at 110 ° C. of 50 to 300 kg / mm 2 in both the longitudinal direction and the width direction. (3) The styrene polymer film according to (1), wherein the dimensional change in the longitudinal direction and the width direction before and after the heat treatment at 110 ° C. for 10 minutes is 0.8% or less.

【0005】(4)110℃におけるヤング率の面内偏
差が30%以下である(2)に記載の塗布層を有するス
チレンポリマーフイルム。 (5)110℃、10分間熱処理前後における寸法変化
の面内レンジが0.6%以下である(3)に記載の塗布
層を有するスチレンポリマーフイルム。 (6)90℃と115℃における熱流速の差が0.02
乃至0.07W/gである請求項1に記載の塗布層を有
するスチレンポリマーフイルム。
(4) A styrene polymer film having a coating layer according to (2), which has an in-plane Young's modulus deviation at 110 ° C. of 30% or less. (5) A styrene polymer film having a coating layer according to (3), wherein the in-plane range of dimensional change before and after heat treatment at 110 ° C. for 10 minutes is 0.6% or less. (6) Difference in heat flow rate between 90 ° C and 115 ° C is 0.02
A styrene polymer film having a coating layer according to claim 1, wherein the styrene polymer film has a coating layer of from 0.1 to 0.07 W / g.

【0006】(7)(1)に規定する塗布層を有するス
チレンポリマーフイルムを製造する方法であって、シン
ジオタクチック構造を有するスチレンポリマーを主成分
とするフイルムに層を塗布する工程;そしてフイルム
を、ロール間の最大長さが0.1乃至10mに設定され
ている複数のロールを用いて搬送しながら、塗布層を5
0乃至200にて乾燥する工程を有することを特徴とす
る塗布層を有するスチレンポリマーフイルムの製造方
法。 (8)乾燥工程において、フイルムとロールが接触する
領域の最大の長さが3乃至200cmである(7)に記
載の製造方法。 (9)乾燥工程において、フイルムにかかる張力が2乃
至40kg/mである(7)に記載の製造方法。 (10)シンジオタクチック構造を有するスチレンポリ
マーを主成分とする支持体、下塗り層および/またはバ
ック層、および少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層が
設けられているハロゲン化銀写真感光材料であって、支
持体の波打ちの高さが18mm以下であることを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料。
(7) A method for producing a styrene polymer film having a coating layer as defined in (1), which comprises coating the layer mainly on a styrene polymer having a syndiotactic structure; and While using a plurality of rolls whose maximum length between rolls is set to 0.1 to 10 m,
A method for producing a styrene polymer film having a coating layer, which comprises a step of drying at 0 to 200. (8) The manufacturing method according to (7), wherein in the drying step, the maximum length of the region where the film and the roll contact each other is 3 to 200 cm. (9) The production method according to (7), wherein the tension applied to the film in the drying step is 2 to 40 kg / m. (10) A silver halide photographic light-sensitive material comprising a support containing a styrene polymer having a syndiotactic structure as a main component, an undercoat layer and / or a back layer, and at least one silver halide emulsion layer. A silver halide photographic light-sensitive material characterized in that the support has a waviness height of 18 mm or less.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】ポリマーフイルムを写真用支持体
として使用するには、支持体と乳剤層の接着性確保のた
めに、これらの層の間に下塗り層を塗設する。本発明者
の研究によると、この塗設を行った後に、シンジオタク
チック構造を有するスチレンポリマーを主成分とするフ
イルム(以下SPSフイルムと略する)で、平面性が低
下しやすい。具体的には、長手方向に1〜5cm周期で
発生するトタン板状の波打ち(「筋張り故障」と称す
る)、幅方向に10〜50cm周期で発生する波状の変
形(「波打ち故障」と称する)、あるいはフイルム全面
に発生する直径1〜5mm程度の細かな凹凸(「ブツ故
障」と称する)が発生する。このように平面性が低下し
たフイルムを支持体として用いて、印刷用の重ね焼きを
行った場合、きっちりと重ね合わせることができず、上
述したようなテストパターンのズレや画像のボケが発生
することが明らかになった。即ち、印刷用感材では原稿
フイルムと重ね露光することが多いが、これらの平面性
故障が存在すると原稿フイルムときれいに重ね合わせる
ことができず、寸法ズレを発生する。このようなトラブ
ルはモデル寸法評価、即ちピンゲージによる測定では全
く予測できなかった。これはピンゲージ法ではフイルム
に一定張力を加えて測長するため、このような平面性の
低下は矯正されてしまい、見かけ上良好な寸法安定性が
得られるためである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In order to use a polymer film as a photographic support, an undercoat layer is coated between the support and the emulsion layer in order to secure the adhesion between the support and the emulsion layer. According to the research conducted by the present inventor, the planarity of a film containing a styrene polymer having a syndiotactic structure as a main component (hereinafter abbreviated as SPS film) is likely to deteriorate after the coating. Specifically, a corrugated sheet-like corrugation that occurs at a cycle of 1 to 5 cm in the longitudinal direction (referred to as “stretching failure”) and a corrugated deformation that occurs at a cycle of 10 to 50 cm in the width direction (referred to as “corrugation failure”). ), Or fine irregularities having a diameter of about 1 to 5 mm (referred to as "bugs failure") are generated on the entire surface of the film. When a film with reduced flatness is used as a support in this way, when it is overprinted for printing, it cannot be exactly overlaid, resulting in the deviation of the test pattern and image blurring as described above. It became clear. That is, in the case of the photosensitive material for printing, the exposure is often overlaid on the original film, but if there is such a planarity failure, it cannot be superposed on the original film neatly and a dimensional deviation occurs. Such trouble could not be predicted at all by the model dimension evaluation, that is, the measurement by the pin gauge. This is because in the pin gauge method, a constant tension is applied to the film to measure the length, so that such a decrease in flatness is corrected and apparently good dimensional stability is obtained.

【0008】このように平面性の低下に伴い発生した原
稿フイルムとの間の隙間は、画像のボケも引き起こす。
これも上記モデル評価からは全く予測できないものであ
った。本発明者は、以上のように重ね合わせ露光時の寸
法ずれや露光ボケの原因が、上記平面性の低下に起因す
ることを見いだした。このような故障の中で特に寸法ず
れや画像ボケに大きく影響するのが、波打ち故障であ
る。本発明に従い波打ちの高さを18mm以下、好まし
くは12mm以下、より好ましくは6mm以下、さらに
好ましくは5mm以下、最も好ましくは4mm以下にす
ることにより、寸法ズレや露光ボケを防止することがで
きる。
The gap between the original film and the original film caused by the reduction of the flatness causes blurring of the image.
This too could not be predicted from the above model evaluation. As described above, the present inventors have found that the cause of the dimensional deviation and the exposure blur at the time of overlay exposure is due to the deterioration of the flatness. Among such failures, the waving failure has a large effect on the dimensional deviation and the image blur. According to the present invention, the height of the corrugation is set to 18 mm or less, preferably 12 mm or less, more preferably 6 mm or less, further preferably 5 mm or less, and most preferably 4 mm or less, whereby dimensional deviation and exposure blur can be prevented.

【0009】波打ちの高さの測定方法については、図1
を参照しながら説明する。図1は、波打ち高さの測定方
法を示す断面模式図である。塗布層(3)が設けられて
いるフイルム(2)を、水平で平坦な台の上に張力をか
けないで静置する。台の表面に相当する基準線(1)と
フイルム(2)との隙間の高さ(h)の平均の値を波打
ち高さとする。なお、波打ちは、図1に示すように、長
手方向(MD)に対して10〜50cmの周期で発生す
る幅方向(TD)の波状の変形である。測定は、フイル
ムを1mサンプリングして実施する。
The method of measuring the height of the corrugation is shown in FIG.
Will be described with reference to. FIG. 1 is a schematic sectional view showing a method for measuring the corrugation height. The film (2) provided with the coating layer (3) is allowed to stand on a horizontal and flat table without applying tension. The average value of the height (h) of the gap between the reference line (1) corresponding to the surface of the table and the film (2) is defined as the corrugation height. Note that, as shown in FIG. 1, the waviness is a wavy deformation in the width direction (TD) that occurs at a period of 10 to 50 cm with respect to the longitudinal direction (MD). The measurement is performed by sampling the film for 1 m.

【0010】波打ち故障は、フイルムに塗布層を設ける
際に発生する。本発明者の研究の結果、SPS支持体が
PETに比べ熱に伴う寸法変化しやすく、このため、層
を塗布した後の乾燥工程において、波打ち故障を含む様
々な平面性の低下が起きることが判明した。例えば、筋
張り故障は、フイルムの乾燥工程中の長手方向ヤング率
の低下に伴う伸び、およびその不均一性に由来してい
る。フイルムを写真用支持体とするには、乳剤層と支持
体の接着を確保する上で下塗り層が必須である。下塗り
層は、ゼラチンを主成分とするものが多い。このような
ゼラチンを溶解するには良溶媒の水が必要であり、その
乾燥には水の沸点を上回る温度、即ち少なくとも110
℃以上の温度を必要とする。しかし、110℃はSPS
支持体のガラス転移温度(Tg=100℃)を上回る。
SPS支持体はPET支持体に比べTgを越えた温度で
のヤング率の低下が著しく大きいため、乾燥工程中の張
力で容易に延伸される。またSPSフイルムは、従来用
いられてきたPETフイルムに比べ、厚みむら、製膜む
らが発生しやすく、延伸工程では、この中の弱い部分か
ら進行(ネッキング現象)しやすい。その結果、より延
伸された部分は幅が狭くなり、延伸の少ないところでは
幅があまり狭くならない。
The waviness failure occurs when a coating layer is formed on the film. As a result of the research conducted by the present inventor, the SPS support is more likely to undergo dimensional change due to heat than PET, which may cause various reductions in flatness including a corrugation failure in a drying process after applying a layer. found. For example, the streak failure results from the elongation associated with a decrease in the Young's modulus in the longitudinal direction during the film drying process, and its non-uniformity. When the film is used as a photographic support, an undercoat layer is essential for ensuring the adhesion between the emulsion layer and the support. In many cases, the undercoat layer mainly contains gelatin. Water of good solvent is required to dissolve such gelatin, and its drying temperature is above the boiling point of water, ie, at least 110.
Requires a temperature above ℃. However, 110 ° C is SPS
Above the glass transition temperature (Tg = 100 ° C.) of the support.
Since the Young's modulus of the SPS support is significantly lower than that of the PET support at a temperature exceeding Tg, the SPS support is easily stretched by the tension during the drying process. Further, the SPS film is more likely to have uneven thickness and uneven film formation than the conventionally used PET film, and in the stretching process, it is easy to proceed (necking phenomenon) from a weak portion of the film. As a result, the width of the more stretched portion becomes narrow, and the width does not become so narrow in a portion where the stretching is small.

【0011】これらの部分の幅を合わせるには、幅の広
い部分で幅方向のたるみが発生する。これが長手方向に
連続すると、筋が発生したようにな「筋張り故障」が発
生する。したがって、ネッキングの発生しやすい、高温
(110℃)でのヤング率の小さい支持体はこの故障が
発生しやすい。さらに、長手方向にヤング率のむらが存
在すると、不均一に伸ばされ易くいっそう発生しやす
い。この故障は当然熱収縮性も関与しており、熱収縮が
大きく、かつ局所的なばらつきが大きいと発生しやす
い。
In order to match the widths of these portions, slack in the width direction occurs in the wide portion. If this continues in the longitudinal direction, a "stretch failure" occurs as if a streak had occurred. Therefore, a support having a small Young's modulus at a high temperature (110 ° C.) in which necking is likely to occur is likely to cause this failure. Furthermore, if there is Young's modulus unevenness in the longitudinal direction, it tends to be unevenly stretched and more likely to occur. Naturally, this failure is also involved in the heat shrinkability, and is likely to occur if the heat shrinkage is large and the local variations are large.

【0012】次に、波打ち故障は、SPSフイルムの収
縮挙動の幅方向の不均一性に由来する場合が多い。ポリ
マーフイルム、特に2軸延伸したフイルムでは幅方向で
延伸ムラが存在し、これに伴い収縮量が幅方向で不均一
となる。この結果、収縮量の小さいところが、その大き
な所に比べてたるみ、波打ち状になる。このようにして
「波打ち故障」が発生する。このように、塗布工程中は
幅方向に張力はかからず、熱収縮およびその異方性が主
な発生要因となる。(これが上記「筋張り」故障との差
異点である)
Next, the waviness failure often results from the non-uniformity of the shrinkage behavior of the SPS film in the width direction. In a polymer film, especially a biaxially stretched film, there is stretching unevenness in the width direction, and accordingly, the shrinkage amount becomes uneven in the width direction. As a result, a portion with a small amount of contraction becomes slack and wavy as compared with a large portion. In this way, a "waviness failure" occurs. As described above, tension is not applied in the width direction during the coating process, and heat shrinkage and its anisotropy are the main causes. (This is the difference from the above "stretching" failure)

【0013】さらに、ブツ故障は、SPSフイルムが、
乾燥工程中の搬送ロールに接触したときの熱収縮むらに
より発生する場合が多い。SPSフイルムがロールに接
触する場合、フイルムとロールの間の一部に空気が巻き
込まれる。そのため、フイルムには、直接ロールに接し
ている(空気が存在しない)部分とそうでない(空気が
存在する)部分がある。ロールの熱容量は大きいため、
ロールに接している部分は急激に熱を受け収縮する。一
方接していない部分は熱の供給が少ない分だけ熱収縮が
少なく、接している部分と比べると見かけ上伸びたよう
になる。この部分が泡状となる。従って、この故障は、
SPS支持体の熱収縮性の大きさが原因となっている。
Further, as for the fault of the spot, the SPS film is
It often occurs due to uneven heat shrinkage when coming into contact with a transport roll during the drying process. When the SPS film comes into contact with the roll, air is trapped in a part between the film and the roll. Therefore, the film has a part that is in direct contact with the roll (there is no air) and a part that is not (there is air). Since the heat capacity of the roll is large,
The part in contact with the roll rapidly receives heat and contracts. On the other hand, the part that is not in contact has less heat shrinkage due to the less heat supply, and it seems that the part that is not in contact is elongated. This part becomes foamy. Therefore, this failure is
This is caused by the heat shrinkage of the SPS support.

【0014】このようなSPSフイルムの乾燥中の平面
性の低下を防止する方法として、下記2つの改良手段が
考えられる。 (A)フイルムの物性(高温下でのヤング率、熱収縮
性、およびこれらの面内の均一性)の改良 (B)乾燥工程の改良
The following two improving means are conceivable as a method for preventing the deterioration of the flatness of the SPS film during drying. (A) Improvement of physical properties of film (Young's modulus at high temperature, heat shrinkability, and uniformity in these planes) (B) Improvement of drying step

【0014】最初に、SPSフイルムの物性の改良につ
いて説明する。フイルムの物性として重要な点は、11
0℃でのヤング率が高いこと、熱収縮性が小さいこと、
これらの面内異方性(むら)が小さい事、の3点であ
る。110℃におけるヤング率は、長手方向、幅方向い
ずれも50乃至300kg/mm2 であることが好まし
く、70乃至250kg/mm2 であることがさらに好
ましく、90乃至220kg/mm2 であることが最も
好ましい。この範囲を下回ると、塗布層の乾燥工程中で
フイルムが延伸され、筋張り、波打ち故障が発生しやす
い。一方この範囲を上回るようにするには、フイルム内
の結晶化度を上げる必要がある。結晶化度が上がると、
それに伴いヘーズが上昇し、透明性が低下し写真用支持
体として好ましくない。また、上述の「筋張り」故障発
生機構からは、このヤング率は長手方向のみ高くすると
よいことになるが、このような縦/横で異方性が大きす
ぎる支持体は写真用支持体として使用しづらい。このた
め、幅方向の110℃ヤング率も長手方向同等〜30%
弱い程度のものが、写真支持体として適当である。熱収
縮性については、110℃、10分間熱処理前後の長手
方向、幅方向の寸法変化がいずれも0.8%以下が好ま
しく、0.6%以下がさらに好ましく、0.4%以下が
最も好ましい。この範囲を越えると、筋張り、波打ち、
ブツ故障を発生しやすく好ましくない。
First, the improvement of the physical properties of the SPS film will be described. The important point for the physical properties of the film is 11
High Young's modulus at 0 ° C, low heat shrinkability,
These three points are that the in-plane anisotropy (unevenness) is small. The Young's modulus at 110 ° C. is preferably 50 to 300 kg / mm 2 in both the longitudinal and width directions, more preferably 70 to 250 kg / mm 2 , and most preferably 90 to 220 kg / mm 2. preferable. If it is less than this range, the film is stretched during the step of drying the coating layer, and streaks and waviness are likely to occur. On the other hand, in order to exceed this range, it is necessary to increase the crystallinity in the film. When the crystallinity increases,
Along with that, haze increases and transparency decreases, which is not preferable as a photographic support. Further, from the mechanism of occurrence of the above-mentioned "stretching" failure, it is desirable to increase this Young's modulus only in the longitudinal direction. However, such a support having too large anisotropy in the length / width direction is used as a photographic support. It is hard to use. Therefore, the Young's modulus at 110 ° C in the width direction is also equal to 30% in the longitudinal direction.
Weaker ones are suitable as photographic supports. Regarding the heat shrinkability, the dimensional change in the longitudinal direction and the width direction before and after the heat treatment at 110 ° C. for 10 minutes is preferably 0.8% or less, more preferably 0.6% or less, and most preferably 0.4% or less. . Beyond this range, streaking, waving,
It is not preferable because it easily causes a fault.

【0014】以上のフイルムの物性値は、面内で均一で
あることが好ましい。110℃におけるヤング率の面内
偏差は、30%以下が好ましく、25%以下がさらに好
ましく、20%以下が最も好ましい。110℃、10分
間熱処理前後の面内レンジは、0.6%以下が好まし
く、0.4%以下がさらに好ましく、0.3%以下が最
も好ましい。これらの面内偏差および面内レンジは、フ
イルムの幅中央部を長手方向30cm毎に5点、さらに
フイルムの幅方向を5等分した5点の合計10点で、そ
れぞれ長手方向、幅方向のヤング率および熱収縮を測定
して得た値である。これらの測定点の最大値と最小値の
差の絶対値を最大値で割った値を、「面内偏差」とす
る。また、この最大値と最小値の差の絶対値を、「面内
レンジ」とする。
The physical properties of the above film are preferably uniform in the plane. The in-plane deviation of the Young's modulus at 110 ° C. is preferably 30% or less, more preferably 25% or less, most preferably 20% or less. The in-plane range before and after the heat treatment at 110 ° C. for 10 minutes is preferably 0.6% or less, more preferably 0.4% or less, most preferably 0.3% or less. These in-plane deviations and in-plane ranges were 5 points at every 30 cm in the longitudinal direction of the width of the film, and 5 points obtained by dividing the width direction of the film into 5 equal parts, for a total of 10 points. It is a value obtained by measuring Young's modulus and heat shrinkage. The value obtained by dividing the absolute value of the difference between the maximum value and the minimum value at these measurement points by the maximum value is the "in-plane deviation". The absolute value of the difference between the maximum value and the minimum value is referred to as "in-plane range".

【0015】さらに示差熱分析計を用いて測定した90
℃における熱流速と115℃における熱流速の差が0.
02乃至0.07W/gであることが好ましく、0.0
3乃至0.06W/gであることがさらに好ましく、
0.035乃至0.05W/gであることが最も好まし
い。この特性値はTgを越える温度でのヤング率の目安
となる。この値がこの範囲を越えると、高温(110
℃)でのヤング率が低くなり好ましくない。一方この範
囲を下回ると、ヘーズが上昇し好ましくない。フイルム
のヘーズは、2%以下であることが好ましく、1.5%
以下であることがさらに好ましく、1%以下であること
が最も好ましい。この熱流速の差は、SPSフイルムの
ガラス転移温度(100℃)前後の構造の差を示すもの
である。フイルム中には、結晶と非晶とその中間相が共
存している。ガラス転移温度で構造変化を示すのは非晶
部であり、この成分の構造変が、Tg前後の熱流速の差
となって現れる。従ってこれが多いと、Tgを越えると
非晶部が融け急激に柔らかくなることを示している。
Furthermore, 90 measured by using a differential thermal analyzer
The difference between the heat flow rate at 0 ° C and the heat flow rate at 115 ° C is 0.
It is preferably from 02 to 0.07 W / g, and 0.0
More preferably from 3 to 0.06 W / g,
Most preferably, it is 0.035 to 0.05 W / g. This characteristic value is a measure of Young's modulus at a temperature exceeding Tg. If this value exceeds this range, high temperature (110
The Young's modulus at (° C.) Is low, which is not preferable. On the other hand, if it is less than this range, the haze is increased, which is not preferable. The haze of the film is preferably 2% or less, 1.5%
It is more preferably at most, and most preferably at most 1%. This difference in heat flow rate indicates a difference in structure around the glass transition temperature (100 ° C.) of the SPS film. Crystal, amorphous and its intermediate phase coexist in the film. The amorphous part shows a structural change at the glass transition temperature, and the structural change of this component appears as a difference in heat flow rate around Tg. Therefore, if this amount is large, it means that the amorphous part is melted and becomes suddenly softer when Tg is exceeded.

【0015】熱流速の差を小さくするには、結晶を多く
する方法と中間相を多くする方法とがある。結晶を多く
すると、透明性の低下やヘーズの上昇が起きやすい。結
晶の量は、示差熱分析計(DSC)を用い結晶融解ピ−
クの吸熱量を測定することで求められる。好ましい吸熱
量は10乃至30J/g以下であり、15乃至28J/
gがさらに好ましく、18乃至26J/gが最も好まし
い。吸熱量は5〜10mgのサンプルを20℃/分で昇
温しながら窒素気流下で測定する。中間相は、フイルム
中の非晶/非晶あるいは非晶/結晶構造間に橋渡し的に
存在する分子であり、結晶部ほどの堅固さは有していな
いが、Tg以上の温度でも急激に柔らかくなることは無
い。さらに中間相は、非晶部の運動を抑制する機能も有
する。
In order to reduce the difference in heat flow rate, there are a method of increasing the number of crystals and a method of increasing the number of intermediate phases. When the number of crystals is large, transparency is likely to decrease and haze is likely to increase. The amount of crystals was measured by using a differential thermal analyzer (DSC).
It can be obtained by measuring the endothermic amount of ku. A preferable heat absorption amount is 10 to 30 J / g or less, and 15 to 28 J / g.
g is more preferable, and 18 to 26 J / g is most preferable. The endothermic amount is measured in a nitrogen stream while heating a sample of 5 to 10 mg at 20 ° C./min. The intermediate phase is a molecule that exists as a bridge between amorphous / amorphous or amorphous / crystalline structures in the film, and does not have the rigidity as high as that of the crystalline part, but it rapidly becomes soft even at a temperature of Tg or higher. It never happens. Further, the intermediate phase also has a function of suppressing the movement of the amorphous part.

【0016】フイルムの表面粗さ(Ra)は、少なくと
も片面が0.001乃至0.02μmであることが好ま
しく、0.002乃至0.015μmであることがさら
に好ましく、0.003乃至0.010μmであること
が最も好ましい。この範囲を下回ると、塗布乾燥中に接
触したフイルムとロール間の空気の抜けが悪く、残留し
た気泡が、「ブツ故障」の原因となる。一方、この範囲
を上回るフイルムはヘーズが高くなりやすく、写真用支
持体として好ましくない。SPSフイルムの厚みは、9
0乃至300μmが好ましく、95乃至250μmがさ
らに好ましく、100乃至200μmが最も好ましい。
この範囲を下回ると、乾燥工程中の張力で伸ばされ易く
好ましくない。また、取扱い中に折れやクニックも発生
しやすい。この範囲を上回ると、スチフネス(腰の強
さ)が強くなりすぎ、自動現像機のような自動搬送機構
内でジャミングを発生しやすい。
The surface roughness (Ra) of the film is preferably 0.001 to 0.02 μm on at least one side, more preferably 0.002 to 0.015 μm, and 0.003 to 0.010 μm. Is most preferable. If it is less than this range, air is not easily released between the film and the roll which are in contact with each other during coating and drying, and the remaining air bubbles cause "bugs failure". On the other hand, a film exceeding this range tends to have a high haze, which is not preferable as a photographic support. The thickness of the SPS film is 9
The thickness is preferably 0 to 300 μm, more preferably 95 to 250 μm, most preferably 100 to 200 μm.
If it is less than this range, it is unfavorable because it is easily stretched by the tension during the drying step. Also, breakage and knicks are likely to occur during handling. If it exceeds this range, the stiffness (strength of the waist) becomes too strong, and jamming is likely to occur in an automatic transport mechanism such as an automatic processor.

【0017】以上述べたようなフイルムの物性値は、フ
イルムに塗布層を設ける前に必要とされる規定である。
しかし、フイルムに塗布層を設ける処理を実施しても、
以上の物性値は、ほとんど変化しない(変化しても10
%以内である)。従って、本発明では、塗布層を有する
(すなわち、塗布層を設けた後の)フイルムの物性値と
して、上記と同じ値を定義する。以上の物性値を有する
SPSフイルムは、下記の製膜工程によってえることが
できる。 (1)乾燥 ペレット化した原料を真空中あるいは空気中で加熱乾燥
し、吸着した水分を除去する。このとき乾燥温度をガラ
ス転移温度以上、融点以下の温度にすると効率が良い。
The physical property values of the film as described above are the regulations required before forming the coating layer on the film.
However, even if the coating layer is applied to the film,
The above physical properties hardly change (10
Within%). Therefore, in the present invention, the same values as above are defined as the physical property values of the film having the coating layer (that is, after the coating layer is provided). The SPS film having the above physical property values can be obtained by the following film forming process. (1) Drying The pelletized raw material is heated and dried in vacuum or in air to remove adsorbed water. At this time, the efficiency is good if the drying temperature is higher than the glass transition temperature and lower than the melting point.

【0018】(2)押し出し 乾燥後の原料ペレットを加熱溶融して押し出し、冷却、
固化させて製膜する。ここで用いられる押し出し成型機
は、一軸押し出し成形機、二軸押し出し成形機のいずれ
でもよく、またベント付き、ベントなしのいずれでもよ
い。なお、押し出し機には二次凝集粒子を粉砕、除去あ
るいはゴミ、異物除去のためにメッシュフィルターを使
用することが好ましい。また押し出し温度は、用いるポ
リマーの融点〜分解温度より50℃高い温度の範囲で選
定しT−ダイ等を用いて行うのが好ましい。
(2) Extrusion The dried raw material pellets are melted by heating, extruded, cooled,
A film is formed by solidifying. The extrusion molding machine used here may be either a uniaxial extrusion molding machine or a biaxial extrusion molding machine, and may have a vent or a vent. In addition, it is preferable to use a mesh filter in the extruder for pulverizing and removing secondary agglomerated particles or removing dust and foreign matters. The extrusion temperature is preferably selected in the range of 50 ° C. higher than the melting point of the polymer used to the decomposition temperature, and the extrusion is preferably performed using a T-die or the like.

【0019】(3)未延伸シートの作成 上記押し出し成型後、得られた予備成形体(未延伸シー
ト)を冷却固化する。この際の冷媒は気体、液体、金属
ロール等各種のものを使用することができる。金属ロー
ル等を用いる場合、エアナイフ、エアチャンバー、タッ
チロール、静電印加等の方法を用いても良い。これらの
なかで、平面性の観点から静電印加法を用いるのが好ま
しい。冷却固化の温度は、原反シートのガラス転移温度
(Tg)−70℃〜Tg、より好ましくはTg−50℃
〜Tg−20℃の範囲である。
(3) Preparation of unstretched sheet After the extrusion molding, the obtained preform (unstretched sheet) is cooled and solidified. At this time, various refrigerants such as gas, liquid and metal roll can be used. When using a metal roll or the like, a method such as an air knife, an air chamber, a touch roll, or electrostatic application may be used. Of these, the electrostatic application method is preferably used from the viewpoint of flatness. The temperature of the cooling and solidification is the glass transition temperature (Tg) of the original sheet-70 ° C to Tg, more preferably Tg-50 ° C.
To Tg-20 ° C.

【0020】(4)延伸 次に冷却、固化した未延伸シートを延伸する。縦、横の
均質性の要求される写真用支持体では、延伸は縦、横の
多軸延伸が好ましく、縦延伸−横延伸の逐次2軸延伸が
より好ましい。一方、これらの延伸の後再延伸を行う
と、縦、横の熱収縮、ヤング率等の異方性が大きくなり
易い上、ヘイズも高くなりやすく本発明では好ましくな
い。本発明ではこの延伸方法の改良により、110℃の
ヤング率が本発明の面内偏差、熱収縮性が本発明の面内
レンジの支持体を達成する。特にポイントになるのが、
縦延伸である。ここでの面内の不均一性が、この後の横
延伸で一層増幅されるためである。これはSPSフイル
ムが、従来写真用に用いられてきたPETに比べ、極め
てネッキングを発生しやすいためである。即ち、縦延伸
後のフイルムにわずかでも厚みの不均一が存在すると、
そこから選択的に延伸され、その結果一層薄くなり、大
きな面内の不均一性を引き起こす。さらに、非晶相の生
成を制御し、本発明の熱流速の差を有する支持体を製膜
するためにも、この縦延伸工程がポイントになる。
(4) Stretching Next, the cooled and solidified unstretched sheet is stretched. In the case of a photographic support that requires vertical and horizontal homogeneity, stretching is preferably longitudinal and lateral multiaxial stretching, and more preferably longitudinal and lateral stretching biaxial stretching. On the other hand, if re-stretching is performed after these stretching, longitudinal and lateral heat shrinkage, Young's modulus and other anisotropy are likely to increase, and haze is likely to increase, which is not preferred in the present invention. In the present invention, by improving this stretching method, the Young's modulus at 110 ° C. achieves the in-plane deviation of the present invention, and the heat shrinkability achieves the support of the in-plane range of the present invention. Especially the point is
It is longitudinal stretching. This is because the in-plane non-uniformity here is further amplified in the subsequent transverse stretching. This is because the SPS film is much more likely to cause necking as compared with PET which has been conventionally used for photography. That is, if there is a slight unevenness in the thickness of the film after longitudinal stretching,
It is selectively stretched from there, resulting in thinner layers, causing large in-plane non-uniformities. Further, this longitudinal stretching step is also important in order to control the production of the amorphous phase and form a film of the support having a difference in heat flow rate according to the present invention.

【0021】縦延伸工程のポイントは、加熱ヒーターと
延伸ロールの距離の制御である。通常の縦延伸は、ヒー
ターで加熱した支持体を周速の異なる2つのロールを通
して延伸する。縦延伸について、図2を引用しながら説
明する。図2は、好ましい縦延伸工程を示す断面模式図
である。搬送ロール(23)により縦延伸装置に搬送さ
れたフイルム(22)は、周速の小さいロール(24)
と周速の大きいロール(25)を通過することにより延
伸される。この延伸において、フイルムはヒーター(2
1a、21b、21c)により加熱される。重要な点
は、最後のヒーター(21c)と最後のロール(25)
の間の距離(L)である。この距離を10乃至50cm
とすることが好ましく、15乃至40cmとすることが
さらに好ましく、20乃至35cmとすることが最も好
ましい。なお、この距離(L)は、図2に示すように、
ヒーター(21c)の中心部とロール(25)の中心の
間の距離を測定する。ヒーターが2台以上設置されてい
る場合は、最後のロールに最も近いヒーターとロールと
の間の距離を測る。フイルムは、図2に示すように延伸
するが、図2の距離(L)が大きいと、より広い範囲で
延伸が行われる。すなわち、未延伸フイルム中に存在す
るわずかな厚みムラ等を反映した選択的な延伸が起きや
すい。一方この距離が狭いと、選択の余地がなく全体が
一気に延伸されるため、均一な延伸が進行しやすい。従
ってこの距離が上記範囲を上回ると面内不均一性の大き
なフイルムとなりやすい。一方この範囲を下回ると、延
伸倍率を上げることが困難となり、その結果ヤング率を
高くすることができない。さらに、ヒーターとロールの
との距離(L)が大きいと、非晶あるいは結晶相に絡ま
りを持っていた中間相まで伸ばされる。その結果、中間
相が非晶相に転化し、非晶相の多いフイルムとなり好ま
しくない。
The point of the longitudinal stretching process is to control the distance between the heater and the stretching roll. In the normal longitudinal stretching, a support heated by a heater is stretched through two rolls having different peripheral speeds. The longitudinal stretching will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic sectional view showing a preferred longitudinal stretching step. The film (22) transported to the longitudinal stretching device by the transport roll (23) has a low peripheral speed (24).
And is stretched by passing through a roll (25) having a high peripheral speed. In this stretching, the film is heated by a heater (2
1a, 21b, 21c). The important point is the last heater (21c) and the last roll (25)
Is the distance (L) between the two. This distance is 10 to 50 cm
It is preferable that the distance is 15 cm, more preferably 15 to 40 cm, and most preferably 20 to 35 cm. The distance (L) is, as shown in FIG.
Measure the distance between the center of the heater (21c) and the center of the roll (25). If more than one heater is installed, measure the distance between the heater and the roll closest to the last roll. The film is stretched as shown in FIG. 2, but if the distance (L) in FIG. 2 is large, the film is stretched in a wider range. That is, selective stretching that reflects slight unevenness in thickness and the like existing in the unstretched film is likely to occur. On the other hand, if this distance is narrow, there is no choice and the whole is stretched at once, so uniform stretching is likely to proceed. Therefore, if this distance exceeds the above range, a film with large in-plane non-uniformity is likely to be formed. On the other hand, if it is less than this range, it becomes difficult to increase the draw ratio, and as a result, the Young's modulus cannot be increased. Further, when the distance (L) between the heater and the roll is large, the amorphous or crystalline phase is extended to the intermediate phase which is entangled. As a result, the intermediate phase is converted to an amorphous phase, and the film has many amorphous phases, which is not preferable.

【0022】縦延伸に用いられるヒーターは、ハロゲン
ランプ、赤外線ランプ、バイコ−ルヒーター、セラミッ
クヒーター等の熱源を支持体の上や下に設置して加熱し
てもよく、また加熱ロールに接触させてもよく、また加
熱媒体(空気、窒素等の加熱気体等)を吹き付けて行っ
ても良い。また、ロールは、耐熱性を有し力学強度の高
い金属ロールやセラミックロールを用いることが好まし
い。ロールの直径は、50乃至500mmが好ましく、
100mm乃至350mmがさらに好ましい。縦延伸温
度は、未延伸フイルムのガラス転移温度(Tg)〜Tg
+50℃であることが好ましく、Tg+5℃〜Tg+3
0℃であることがさらに好ましく、Tg+10℃〜Tg
+25℃であることが最も好ましい。縦延伸速度は、1
000〜8000%/分であることが好ましく、200
0〜6000%/分であることがさらに好ましく、25
00〜4000%/分であることが最も好ましい。縦延
伸倍率は2.8乃至4.5倍が好ましく、3乃至4.2
倍がさらに好ましく、3.2乃至4倍が最も好ましい。
The heater used for the longitudinal stretching may be a halogen lamp, an infrared lamp, a bicole heater, a ceramic heater or the like placed on or under a support for heating, or may be heated by a heating roll. Alternatively, a heating medium (air, a heating gas such as nitrogen, etc.) may be sprayed. As the roll, it is preferable to use a metal roll or a ceramic roll having heat resistance and high mechanical strength. The diameter of the roll is preferably 50 to 500 mm,
More preferably, it is 100 mm to 350 mm. The longitudinal stretching temperature is the glass transition temperature (Tg) to Tg of the unstretched film.
It is preferably + 50 ° C., and Tg + 5 ° C. to Tg + 3
More preferably 0 ° C., Tg + 10 ° C. to Tg
Most preferably + 25 ° C. Longitudinal stretching speed is 1
000 to 8000% / min, and preferably 200
More preferably 0 to 6000% / min, 25
Most preferably, it is from 00 to 4000% / min. The longitudinal stretching ratio is preferably 2.8 to 4.5 times, and 3 to 4.2.
Double is more preferable, and 3.2 to 4 is most preferable.

【0023】得られた縦延伸シートは、さらに横延伸す
る。横延伸を行う前に支持体を予熱することが支持体の
均一性を確保する上で好ましい。予熱温度は横延伸温度
−30℃以上、横延伸温度+30℃以下が好ましく、横
延伸温度−20℃以上、横延伸温度+20℃以下がより
好ましく、横延伸温度−10℃以上、横延伸温度+10
℃以下がさらに好ましい。予熱時間は1秒乃至3分が好
ましく、5秒乃至2分がさらに好ましく、10秒乃至1
分が最も好ましい。横延伸はテンターにより行うのが好
ましく、延伸倍率は2.8倍以上、4.5倍以下が好ま
しく、3倍以上、4.2倍以下がより好ましく、3.2
倍以上、4倍以下がさらに好ましい。横延伸温度は、未
延伸シートのガラス転移温度(Tg)〜Tg+50℃、
より好ましくはTg+5℃〜Tg+30℃、さらに好ま
しくはTg+10℃〜Tg+25℃に設定すれば良い。
横延伸速度は、1000〜8000%/分、好ましくは
2000〜6000%/分、さらに好ましくは、250
0〜4000%/分である。
The longitudinally stretched sheet thus obtained is further laterally stretched. It is preferable to preheat the support before performing the transverse stretching in order to ensure the uniformity of the support. The preheating temperature is preferably a horizontal stretching temperature of −30 ° C. or higher and a horizontal stretching temperature of + 30 ° C. or lower, more preferably a horizontal stretching temperature of −20 ° C. or higher, a horizontal stretching temperature of + 20 ° C. or lower, a horizontal stretching temperature of −10 ° C. or higher, and a horizontal stretching temperature of +10.
C. or less is more preferable. The preheating time is preferably 1 second to 3 minutes, more preferably 5 seconds to 2 minutes, and 10 seconds to 1
Minutes are most preferred. The transverse stretching is preferably performed with a tenter, and the stretching ratio is preferably 2.8 times or more and 4.5 times or less, more preferably 3 times or more and 4.2 times or less, and 3.2.
It is more preferably double or more and four times or less. The transverse stretching temperature is the glass transition temperature (Tg) to Tg + 50 ° C. of the unstretched sheet,
It is more preferably set to Tg + 5 ° C. to Tg + 30 ° C., and further preferably set to Tg + 10 ° C. to Tg + 25 ° C.
The transverse stretching speed is 1000 to 8000% / min, preferably 2000 to 6000% / min, and more preferably 250.
0 to 4000% / min.

【0024】(5)熱固定 このようにして得た2軸延伸フイルムに対し熱固定を行
う。熱固定は緊張状態あるいは弛緩状態あるいは制限収
縮状態で180℃から250℃の間で1秒から180秒
実施するのが好ましく、190℃から240℃の間で5
秒から90秒行うのがより好ましく、200℃から23
0℃の間で10秒から60秒行うのがさらに好ましい。
この温度を上回ると、ヘーズが高くなりやすく好ましく
ない。一方この温度を下回ると熱収縮が大きくなりやす
く、好ましくない。この時1%〜10%緩和させながら
熱固定を行うと、熱収縮、ヘーズを下げる上でよりいっ
そう好ましい。
(5) Heat setting The biaxially stretched film thus obtained is heat set. The heat setting is preferably carried out at 180 ° C. to 250 ° C. for 1 to 180 seconds in a tensioned state, a relaxed state or a restricted contraction state, and at 190 ° C. to 240 ° C.
It is more preferable to carry out from 90 seconds to 90 seconds, from 200 ℃ to 23
More preferably, it is carried out at 0 ° C. for 10 to 60 seconds.
Above this temperature, haze tends to increase, which is not preferable. On the other hand, when the temperature is lower than this temperature, heat shrinkage tends to be large, which is not preferable. At this time, it is more preferable to perform heat setting while relaxing by 1% to 10% in order to reduce heat shrinkage and haze.

【0025】次に、本発明で用いるシンジオタクチック
構造を有するスチレンポリマーについて説明を加える。
シンジオタクチック構造とは、炭素−炭素結合から形成
される主鎖に対して側鎖であるフェニル基やその誘導体
が交互に反対方向に位置する立体構造を意味する。その
立体規則性(タクティシティー)は、同位炭素による核
磁気共鳴法(13C−NMR法)により定量されるのが一
般的でかつ精度に優れる。この13C−NMR法により測
定される立体規則性は、連続する複数個の構成単位の存
在割合、例えば2個の場合はダイアッド、3個の場合は
トライアッド、5個の場合はペンダッドによって示すこ
とができる。本発明に言うシンジオタクチック構造を有
するスチレンポリマーとは、通常はラセミダイアッドで
75%以上、100%以下、好ましくは85%以上、1
00%以下、若しくははラセミペンタヘッドで30%以
上、100%以下、好ましくは50%以上、100%以
下の立体規則性を有するものである。スチレンポリマー
とは、ポリスチレンおよびその誘導体、その共重合体お
よびそれを含む混合ポリマーを意味する。ポリスチレン
の誘導体には、ポリ(アルキルスチレン)、ポリ(ハロ
ゲン化スチレン)、ポリ(ハロゲン化アルキルスチレ
ン)、ポリ(アルコキシスチレン)およびポリ(ビニル
安息香酸エステル)が含まれる。ここでポリ(アルキル
スチレン)としては、ポリ(メチルスチレン)、ポリ
(エチルスチレン)、ポリ(プロピルスチレン)、ポリ
(ブチルスチレン)、ポリ(フェニルスチレン)、ポリ
(ビニルナフタレン)、ポリ(ビニルスチレン)、ポリ
(アセナフチン)などがある。ポリ(ハロゲン化スチレ
ン)としては、ポリ(クロロスチレン)、ポリ(ブロモ
スチレン)、ポリ(フルオロスチレン)などがある。ま
た、ポリ(アルコキシスチレン)としては、ポリ(メト
キシスチレン)、ポリ(エトキシスチレン)などがあ
る。これらのなかで、より好ましいものは、ポリ(スチ
レン)、ポリ(メチルスチレン)であり、さらに好まし
いのが、ポリ(スチレン)である。
Next, the styrene polymer having a syndiotactic structure used in the present invention will be described.
The syndiotactic structure means a three-dimensional structure in which a phenyl group which is a side chain and its derivative are alternately located in opposite directions with respect to a main chain formed from carbon-carbon bonds. Its stereoregularity (tacticity) is generally quantified by a nuclear magnetic resonance method ( 13 C-NMR method) using isotope carbon and is excellent in accuracy. The stereoregularity measured by the 13 C-NMR method should be indicated by the existence ratio of a plurality of continuous constitutional units, for example, diad in the case of 2 units, triad in the case of 3 units, and pendad in the case of 5 units. You can The styrene polymer having a syndiotactic structure referred to in the present invention is usually 75% or more and 100% or less, preferably 85% or more, as a racemic diad.
00% or less, or 30% or more and 100% or less, preferably 50% or more and 100% or less stereoregularity with a racemic penta head. By styrene polymer is meant polystyrene and its derivatives, its copolymers and mixed polymers containing it. Derivatives of polystyrene include poly (alkylstyrene), poly (halogenated styrene), poly (halogenated alkylstyrene), poly (alkoxystyrene) and poly (vinyl benzoate). Here, as poly (alkylstyrene), poly (methylstyrene), poly (ethylstyrene), poly (propylstyrene), poly (butylstyrene), poly (phenylstyrene), poly (vinylnaphthalene), poly (vinylstyrene) ), Poly (acenaphthine) and so on. Examples of poly (halogenated styrene) include poly (chlorostyrene), poly (bromostyrene), and poly (fluorostyrene). Examples of poly (alkoxystyrene) include poly (methoxystyrene) and poly (ethoxystyrene). Among these, poly (styrene) and poly (methylstyrene) are more preferable, and poly (styrene) is more preferable.

【0026】シンジオタクチック構造を有するスチレン
ポリマーは、上述のようなホモポリマー以外にも、共重
合体であってもよい。共重合体のコモノマー成分として
は、上述のスチレンポリマーを構成するモノマーのほ
か、オレフィンモノマー(例、エチレン、プロピレン、
ブテン、ヘキセン、オクテン)、ジエンモノマー(例、
ブタジエン、イソプレン)、環状オレフィンモノマー、
環状ジエンモノマーや極性ビニルモノマー(例、メタク
リル酸メチル、無水マレイン酸、アクリロニトリル)を
挙げることができる。これらの内、スチレンを主成分と
して、これにアルキルスチレン、水素化ポリスチレン、
ハロゲン化ポリスチレンを共重合したものが好ましい。
これらのなかでも、p−メチルスチレン、m−メチルス
チレン、p−タ−シャリ−ブチルスチレン、p−クロロ
スチレン、m−クロロスチレン、p−フルオロスチレ
ン、水素化ポリスチレンであり、特に好ましいのがp−
メチルスチレンである。共重合体中のスチレン以外のモ
ノマーの割合は、30wt%以下であることが好まし
く、1乃至20wt%であることがさらに好ましく、2
乃至10wt%であることが最も好ましい。
The styrene polymer having a syndiotactic structure may be a copolymer other than the above homopolymer. As the comonomer component of the copolymer, in addition to the monomers constituting the above-mentioned styrene polymer, olefin monomers (eg, ethylene, propylene,
Butene, hexene, octene), diene monomers (eg,
Butadiene, isoprene), cyclic olefin monomer,
Examples thereof include cyclic diene monomers and polar vinyl monomers (eg, methyl methacrylate, maleic anhydride, acrylonitrile). Of these, styrene as the main component, alkyl styrene, hydrogenated polystyrene,
A copolymer of halogenated polystyrene is preferred.
Among these, p-methylstyrene, m-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, p-chlorostyrene, m-chlorostyrene, p-fluorostyrene and hydrogenated polystyrene are preferable, and p is particularly preferable. −
It is methylstyrene. The proportion of monomers other than styrene in the copolymer is preferably 30 wt% or less, more preferably 1 to 20 wt%, and 2
Most preferably, it is from 10 to 10 wt%.

【0027】シンジオタクチック構造を有するスチレン
ポリマーと他のポリマーを混合して使用してもよい。好
ましいポリマーブレンド成分としては、上述のようなシ
ンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体や、ア
タクチック構造を有するスチレン系重合体が相溶性の観
点から好ましい。これらの中でとくに好ましいのが、シ
ンジオタクチック構造を有するポリスチレンを主成分と
し、これに、p−メチルスチレン、m−メチルスチレ
ン、p−タ−シャリ−ブチルスチレン、p−クロロスチ
レン、m−クロロスチレン、p−フルオロスチレン、水
素化ポリスチレンからなるシンジオタクチック構造ある
いはアタクチック構造のホモポリマ−、あるいは/およ
び、これらのモノマ−の少なくとも一種とスチレンから
なるシンジオタクチック構造あるいはアタクチック構造
を有するコポリマ−をブレンドするのが好ましい。とく
に、シンジオタクチック構造を有するp−メチルスチレ
ンやシンジオタクチック構造を有するp−メチルスチレ
ンとスチレンの共重合体をシンジオタクチック構造を有
するポリスチレンとブレンドしたものが好ましい。この
ような成分を添加したフイルムは、SPSホモポリマー
からなるフイルムよりも、ヘーズ、熱収縮性を下げやす
く、いっそう好ましい。ポリマー混合物中のSPS以外
の成分の割合は、30wt%以下であることが好まし
く、1乃至20wt%であることがさらに好ましく、2
乃至10wt%であることが最も好ましい。
A styrene polymer having a syndiotactic structure and another polymer may be mixed and used. As a preferable polymer blend component, a styrene polymer having a syndiotactic structure as described above and a styrene polymer having an atactic structure are preferable from the viewpoint of compatibility. Among these, particularly preferred is polystyrene having a syndiotactic structure as a main component, and p-methylstyrene, m-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, p-chlorostyrene, m- A homopolymer of chlorostyrene, p-fluorostyrene, hydrogenated polystyrene having a syndiotactic structure or atactic structure, and / or a copolymer having a syndiotactic structure or atactic structure composed of styrene and at least one of these monomers. Is preferably blended. Particularly preferred is a blend of p-methylstyrene having a syndiotactic structure or a copolymer of p-methylstyrene having a syndiotactic structure and styrene with polystyrene having a syndiotactic structure. The film to which such components are added is more preferable than the film made of the SPS homopolymer because it easily lowers the haze and heat shrinkability. The ratio of the components other than SPS in the polymer mixture is preferably 30 wt% or less, more preferably 1 to 20 wt%, and 2
Most preferably, it is from 10 to 10 wt%.

【0028】好ましいポリマー組成を下記に示す。ここ
で、syn-はシンジオタクチック、atc-はアタクチックを
示す。 (1)ホモポリマー P−1:syn−ポリ(スチレン) P−2:syn−ポリ(p−メチルスチレン) P−3:syn−ポリ(p−クロロスチレン) P−4:syn−ポリ(水素化スチレン) (2)コポリマー 組成比(重量%) P−5:syn−ポリ(スチレン/p−メチルスチレン) (95/5) P−6:syn−ポリ(スチレン/p−メチルスチレン) (85/15) P−7:syn−ポリ(スチレン/p−クロロスチレン) (95/5) P−8:syn−ポリ(スチレン/p−クロロスチレン) (85/15) P−9:syn−ポリ(スチレン/水素化スチレン) (95/5) P−10:syn−ポリ(スチレン/水素化スチレン) (85/15) P−11:syn−ポリ(スチレン/水素化スチレン/p−メチルスチレン) (95/5/5)
The preferred polymer composition is shown below. Here, syn- is syndiotactic and atc- is atactic. (1) Homopolymer P-1: syn-poly (styrene) P-2: syn-poly (p-methylstyrene) P-3: syn-poly (p-chlorostyrene) P-4: syn-poly (hydrogen) Styrene) (2) Copolymer composition ratio (% by weight) P-5: syn-poly (styrene / p-methylstyrene) (95/5) P-6: syn-poly (styrene / p-methylstyrene) (85 / 15) P-7: syn-poly (styrene / p-chlorostyrene) (95/5) P-8: syn-poly (styrene / p-chlorostyrene) (85/15) P-9: syn-poly (Styrene / hydrogenated styrene) (95/5) P-10: syn-poly (styrene / hydrogenated styrene) (85/15) P-11: syn-poly (styrene / hydrogenated styrene / p-methylstyrene) (95/5/5)

【0029】 (3)ポリマーブレンド 混合比(重量%) P−12:syn-ポリ(スチレン)+syn-ポリ(p−メチルスチレン) (95+5) P−13:syn-ポリ(スチレン)+syn-ポリ(p−メチルスチレン) (85+15) P−14:syn-ポリ(スチレン)+syn-ポリ(p−クロロスチレン)(95+5) P−15:syn-ポリ(スチレン)+syn-ポリ(p−クロロスチレン) (85+15) P−16:syn-ポリ(スチレン)+syn-ポリ(水素化スチレン) (95+5) P−17:syn-ポリ(スチレン)+syn-ポリ(水素化スチレン) (85+15) P−18:syn-ポリ(スチレン)+atc-ポリ(スチレン) (95+5) P−19:syn-ポリ(スチレン)+atc-ポリ(スチレン) (85+15) P−20:syn-ポリ(スチレン)+atc-ポリ(p−メチルスチレン)(95+5) P−21:syn-ポリ(スチレン)+atc-ポリ(p−メチルスチレン) (85+15) P−22:syn-ポリ(スチレン)+atc-ポリ(水素化スチレン) (95+5) P−23:syn-ポリ(スチレン)+atc-ポリ(水素化スチレン) (85+15) P−24:syn-ポリ(スチレン)+atc-ポリ(スチレン)+syn-ポリ(p−メチ ルスチレン) (95+5+5) P−25:syn-ポリ(スチレン)+syn-ポリ(p−メチルスチレン+スチレン共 重合体(モル 比=10:90) ) (70+30) P−26:syn-ポリ(スチレン)+syn-ポリ(p−メチルスチレン+スチレン共 重合体(モル 比=10:90) ) (50+50) P−27:syn-ポリ(スチレン)+syn-ポリ(p−メチルスチレン+スチレン共 重合体(モル 比=5:95)) (70+30) P−28:syn-ポリ(スチレン)+syn-ポリ(p−メチルスチレン+スチレン共 重合体(モル 比=30:70) ) (90+10) (3) Polymer Blend Mixing Ratio (wt%) P-12: syn-poly (styrene) + syn-poly (p-methylstyrene) (95 + 5) P-13: syn-poly (styrene) + syn- Poly (p-methylstyrene) (85 + 15) P-14: syn-poly (styrene) + syn-poly (p-chlorostyrene) (95 + 5) P-15: syn-poly (styrene) + syn-poly ( p-chlorostyrene) (85 + 15) P-16: syn-poly (styrene) + syn-poly (hydrogenated styrene) (95 + 5) P-17: syn-poly (styrene) + syn-poly (hydrogenated styrene) ) (85 + 15) P-18: syn-poly (styrene) + atc-poly (styrene) (95 + 5) P-19: syn-poly (styrene) + atc-poly (styrene) (85 + 15) P- 20: syn-poly (styrene) + atc-poly (p-methylstyrene) (95 + 5) P-21: syn-poly (styrene) + atc-poly (p-methylstyrene) (85 + 15) P-22: syn-poly Styrene) + atc-poly (hydrogenated styrene) (95 + 5) P-23: syn-poly (styrene) + atc-poly (hydrogenated styrene) (85 + 15) P-24: syn-poly (styrene) + atc- Poly (styrene) + syn-poly (p-methylstyrene) (95 + 5 + 5) P-25: syn-poly (styrene) + syn-poly (p-methylstyrene + styrene copolymer (molar ratio = 10:90 )) (70 + 30) P-26: syn-poly (styrene) + syn-poly (p-methylstyrene + styrene copolymer (molar ratio = 10: 90)) (50 + 50) P-27: syn- Poly (styrene) + syn-poly (p-methylstyrene + styrene copolymer (molar ratio = 5: 95)) (70 + 30) P-28: syn-poly (styrene) + syn-poly (p-methylstyrene +) Styrene copolymer (molar ratio = 30: 70)) (90 + 10)

【0030】これらのスチレンポリマーの分子量は、重
量平均分子量が10万以上80万以下のものが好まし
く、特に好ましくは、20万以上60万以下のものであ
る。さらに分子量分布は、重量平均分子(Mw)/数平均
分子量(Mn)が1.5以上、5以下、さらに好ましくは
2以上4以下が好ましい。このようなシンジオタクチッ
ク構造を有するスチレン系重合体は、例えば不活性炭化
水素溶媒中または、溶媒の不存在下に、チタン化合物及
び水とトリアルキルアルミニウムの縮合生成物を触媒と
して、スチレン系単量体(上記スチレン系重合体に対応
する単量体)を重合することにより製造することができ
る。(特開昭62−187708号公報)。あるいは、
チタン化合物及びカチオンと複数の基が元素に結合した
アニオンとからなる化合物を触媒として重合することに
より製造することができる。(特開平4−24950
4)。
The weight average molecular weight of these styrene polymers is preferably 100,000 to 800,000, particularly preferably 200,000 to 600,000. Further, the molecular weight distribution is such that the weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) is 1.5 or more and 5 or less, more preferably 2 or more and 4 or less. The styrene-based polymer having such a syndiotactic structure is obtained, for example, in an inert hydrocarbon solvent or in the absence of a solvent, using a titanium compound and a condensation product of water and a trialkylaluminum as a catalyst. It can be produced by polymerizing a monomer (a monomer corresponding to the styrene polymer). (JP-A-62-187708). Alternatively,
It can be produced by polymerizing with a compound comprising a titanium compound and a cation and an anion in which a plurality of groups are bound to an element as a catalyst. (JP-A-4-24950
4).

【0031】前述したRa値を有するフイルムを達成す
る上でのポイントは、フイルムに添加する微粒子を調製
する必要がある。フイルムに添加する微粒子には、シリ
カ、タルク、チタニア、アルミナ、炭酸カルシウム、酸
化カルシウム、塩化カルシウムおよびこれらの混合物の
ような無機微粒子、架橋ポリスチレン、架橋ポリメチル
メタクリレートのような有機微粒子が挙げられる。微粒
子の添加量は20乃至300ppmが好ましく、30乃
至200ppmがより好ましく、40乃至100ppm
以下がさらに好ましい。また、微粒子の粒径は、0.0
1乃至5μmが好ましく、0.05乃至3μmがより好
ましく、0.1乃至1μmがさらに好ましい。微粒子の
形状は、球形、不定型(破砕型)、針状あるいは板状で
ある。球形または不定型(破砕型)の微粒子が特に好ま
しい。フイルムには、微粒子以外にも、酸化防止剤、帯
電防止剤や色素を配合することができる。製膜中のモノ
マー析出防止のためには、スチレンポリマー中の残量ス
チレン単量体の量を7000ppm以下に調製すること
が好ましい。
The key to achieving a film having the Ra value described above is to prepare fine particles to be added to the film. Examples of the fine particles to be added to the film include inorganic fine particles such as silica, talc, titania, alumina, calcium carbonate, calcium oxide, calcium chloride and mixtures thereof, and organic fine particles such as crosslinked polystyrene and crosslinked polymethylmethacrylate. The addition amount of fine particles is preferably 20 to 300 ppm, more preferably 30 to 200 ppm, and 40 to 100 ppm
The following is more preferable. The particle size of the fine particles is 0.0
The thickness is preferably 1 to 5 μm, more preferably 0.05 to 3 μm, still more preferably 0.1 to 1 μm. The shape of the fine particles is spherical, irregular (crushed), needle-like or plate-like. Spherical or amorphous (crushed) fine particles are particularly preferable. In addition to the fine particles, the film may contain an antioxidant, an antistatic agent, and a dye. In order to prevent monomer deposition during film formation, it is preferable to adjust the amount of residual styrene monomer in the styrene polymer to 7,000 ppm or less.

【0032】次に塗布層の乾燥工程の改良について述べ
る。フイルムの平面性については、塗布層の乾燥工程に
おけるパスロール間の長さと乾燥温度が最も重要であ
る。パスロール間が長いと支持体はその間保持されず、
幅方向にいっそう熱収縮しやすい。一方長手方向は、こ
の距離が長いと張力による延伸をいっそう受け易い。こ
の結果「 筋張り故障」 が発生しやすい。一方パスロール
の間隔が短いと幅方向の収縮はパスロール上では抑制さ
れる上、張力による伸びも小さくなるため、この故障は
発生しにくい。さらに、熱収縮の幅方向不均一性に起因
する「 波打ち故障」 も、パスロールの間隔が長いと自由
に収縮できるため収縮量が大きくなり易く発生しやす
い。短いとパスロール上でこの波打ちが平坦に矯正され
る頻度が高くなり、発生しにくい。このように「 筋張り
故障」 、「 波打ち故障」 はパスロールの間隔を短くする
ことが効果的である。しかしパスロールの間隔が短すぎ
ると、経路が複雑となり、メインテナンス上好ましくな
い。好ましいパスロールの間隔は0.1乃至10m以
下、より好ましくは0.5乃至5m、さらに好ましくは
1乃至3mである。
Next, the improvement of the drying process of the coating layer will be described. Regarding the flatness of the film, the length between the pass rolls and the drying temperature in the coating layer drying step are the most important. If the path roll interval is long, the support will not be held during that time,
Heat shrinks more easily in the width direction. On the other hand, in the longitudinal direction, if this distance is long, it is more susceptible to stretching due to tension. As a result, "stretch failure" is likely to occur. On the other hand, when the distance between the pass rolls is short, the contraction in the width direction is suppressed on the pass rolls, and the elongation due to the tension is also small, so that this failure is unlikely to occur. Furthermore, “waviness failure” caused by non-uniformity of heat shrinkage in the width direction is likely to occur because the amount of shrinkage tends to be large because it can freely shrink if the interval between the pass rolls is long. If the length is short, the undulations on the pass roll are corrected to be flattened more frequently and are less likely to occur. In this way, it is effective to shorten the interval between the pass rolls for "stretch failure" and "wavy failure". However, if the interval between the pass rolls is too short, the route becomes complicated, which is not preferable in terms of maintenance. The interval between the pass rolls is preferably 0.1 to 10 m or less, more preferably 0.5 to 5 m, still more preferably 1 to 3 m.

【0033】パスロール長に加えて、乾燥温度も平面性
の故障を左右する大きな因子である。前述したように、
平面性の故障は乾燥中の熱収縮、熱伸張により引き起こ
されている。従って、なるべく低温で乾燥工程を実施す
るのが好ましい。SPS支持体の熱収縮挙動を解析した
ところ、200℃を越えると熱収縮が劇的に大きくな
り、この結果「 波打ち故障」 や「 筋張り故障」 の発生頻
度が急激に増加することを見いだした。好ましい温度範
囲は50℃以上200℃以下、より好ましくは60℃以
上170℃以下、さらに好ましくは70℃以上140℃
以下である。この温度範囲内では一定温度で乾燥させて
も、温度変化(昇温および/または降温)させながら乾
燥しても同様の効果が得られる。しかし、この温度以下
ではバック層あるいは/および下塗層の密着が低下し好
ましくない。一方この温度以上では平面性が低下しやす
い。このような乾燥温度の制御は常法によって実施する
ことができる。例えば、ニクロムヒーター、赤外線ラン
プ、ハロゲンランプ、水銀ランプのようなヒーターの出
力を制御して実施してもよい。また、乾燥ゾーン中に熱
風を吹き込みその温度あるいは風量で制御してもよい。
In addition to the pass roll length, the drying temperature is also a major factor in the failure of flatness. As previously mentioned,
The flatness failure is caused by thermal contraction and stretching during drying. Therefore, it is preferable to carry out the drying step at a temperature as low as possible. An analysis of the heat shrinkage behavior of the SPS support revealed that the heat shrinkage dramatically increased above 200 ° C, resulting in a sharp increase in the frequency of "waviness failure" and "stretch failure". . A preferred temperature range is 50 ° C or higher and 200 ° C or lower, more preferably 60 ° C or higher and 170 ° C or lower, and further preferably 70 ° C or higher and 140 ° C.
It is the following. Within this temperature range, the same effect can be obtained by drying at a constant temperature or by drying while changing the temperature (heating and / or cooling). However, below this temperature, the adhesion of the back layer and / or the undercoat layer deteriorates, which is not preferable. On the other hand, above this temperature, the flatness tends to decrease. Such control of the drying temperature can be carried out by a conventional method. For example, the output of a heater such as a nichrome heater, an infrared lamp, a halogen lamp, or a mercury lamp may be controlled and implemented. Alternatively, hot air may be blown into the drying zone to control the temperature or air volume.

【0034】さらに、乾燥中の張力も重要な因子であ
る。これが大きすぎると、搬送方向に支持体は伸張し、
長手方向との伸張/収縮量の差が大きくなり「 筋張り故
障」 を発生しやすい。また、幅方向の伸張ムラも大きく
なり「 波打ち故障」 も発生しやすい。好ましい張力は2
乃至40kg/m、より好ましい張力は3乃至30kg
/m、さらに好ましい張力は4乃至20kg/mであ
る。この張力以下では支持体を安定して搬送することが
困難である。
Furthermore, the tension during drying is also an important factor. If this is too large, the support will stretch in the transport direction,
The difference in the amount of expansion / contraction with the longitudinal direction becomes large, and "stretch failure" is likely to occur. In addition, stretch unevenness in the width direction becomes large, and “waviness failure” is likely to occur. Preferred tension is 2
To 40 kg / m, more preferable tension is 3 to 30 kg
/ M, and a more preferable tension is 4 to 20 kg / m. Below this tension, it is difficult to stably convey the support.

【0035】前述した「ブツ故障」に対しては、パスロ
ールと支持体の接触する長さを調製することが特に有効
である。ブツ故障は高温のロール表面と支持体の空気等
を巻き込んだ不均一な接触によって発生する。このた
め、パスロールとの接触長はなるべく短いほうが故障発
生を抑制する上で好ましい。一方短すぎると、搬送にト
ラブルを発生しやすい。好ましい接触長さは3乃至20
0cm、より好ましくは5乃至150cm、さらに好ま
しくは10乃至100cmである。このような接触長は
パスロールの直径とラップ角で決まるが、これらは「 ブ
ツ故障」 に対してあまり影響なく、専ら接触長さにより
影響される。また用いるパスロールは上述のような理由
からなるべく平滑なものが好ましい。材質はステンレ
ス、鉄、アルミ等の金属材料、熱硬化性樹脂等用いるこ
とができるが、高温下において安定して使用可能なステ
ンレスが好ましい。以上のように乾燥ゾ−ンを改良する
ことでSPS支持体の平面性故障を克服することができ
る。
In regard to the above-mentioned "bump failure", it is particularly effective to adjust the contact length between the pass roll and the support. The spot failure is caused by non-uniform contact of the hot roll surface with the air of the support. Therefore, it is preferable that the contact length with the pass roll is as short as possible in order to suppress the occurrence of failure. On the other hand, if it is too short, problems may occur during transportation. Preferred contact length is 3 to 20
It is 0 cm, more preferably 5 to 150 cm, further preferably 10 to 100 cm. Such a contact length is determined by the diameter of the pass roll and the wrap angle, but they have little effect on the “bugs failure”, and are mainly affected by the contact length. The pass roll used is preferably as smooth as possible for the reasons described above. As the material, a metal material such as stainless steel, iron, aluminum, or a thermosetting resin can be used, but stainless steel that can be stably used at high temperature is preferable. By improving the dry zone as described above, the planarity failure of the SPS support can be overcome.

【0036】上記のように、塗布層の乾燥温度はなるべ
く低いほうが好ましい。しかし乾燥温度を低くすると、
塗布層とフイルムとの密着不良が起きやすい。このため
に、表面処理を行ってからこれらの塗設を実施するのが
好ましい。好ましい表面処理はグロー放電処理、コロナ
処理、紫外線照射処理、火炎処理が挙げられる。この中
で最も好ましいのがグロー放電処理である。以下、これ
らの表面処理について説明を加える。グロー放電処理似
ついては、特公昭35−7578号、同36−1033
6号、同45−22004号、同45−22005号、
同45−24040号、同46−43480号、特開昭
53−129262号の各公報、米国特許305779
2号、同3057795号、同3179482号、同3
288638号、同3309299号、同342473
5号、同3462335号、同3475307号、同3
761299号、同4072,769号、英国特許89
1469号、同997093号の各明細書に記載されて
いる。グロー放電処理では、雰囲気に水蒸気を導入した
場合において最も優れた接着効果を得ることができる。
また、この手法は支持体の黄色化抑制、ブロッキング防
止にも非常に有効である。水蒸気の存在下でグロー放電
処理を実施する際の水蒸気分圧は、10乃至100%が
好ましく、さらに好ましくは40乃至90%である。1
0%未満では充分な接着性を得ることが困難となる。水
蒸気以外のガスは酸素、窒素等からなる空気である。
As described above, the drying temperature of the coating layer is preferably as low as possible. However, if the drying temperature is lowered,
Poor adhesion between the coating layer and the film is likely to occur. For this reason, it is preferable to perform surface treatment and then apply these coatings. Preferred surface treatments include glow discharge treatment, corona treatment, ultraviolet irradiation treatment, and flame treatment. The most preferred of these is glow discharge treatment. The surface treatments will be described below. Regarding the glow discharge treatment, Japanese Patent Publication Nos. 35-7578 and 36-1033.
No. 6, No. 45-22004, No. 45-22005,
45-24040, 46-43480, JP-A-53-129262, U.S. Pat.
No. 2, No. 3057795, No. 3179482, No. 3
No. 288638, No. 3309299, No. 342473
No. 5, No. 3462335, No. 3475307, No. 3
7612299, 4072,769, British Patent 89
It is described in the respective specifications of 1469 and 997093. In the glow discharge treatment, the best adhesive effect can be obtained when water vapor is introduced into the atmosphere.
Further, this method is also very effective for suppressing yellowing of the support and preventing blocking. The partial pressure of water vapor when the glow discharge treatment is carried out in the presence of water vapor is preferably 10 to 100%, more preferably 40 to 90%. 1
If it is less than 0%, it becomes difficult to obtain sufficient adhesiveness. The gas other than water vapor is air composed of oxygen, nitrogen and the like.

【0037】さらに、表面処理すべき支持体を加熱した
状態で真空グロー放電処理を行うと、常温で処理するの
に比べ短時間の処理で接着性が向上し、有効である。予
熱温度は50℃以上Tg以下が好ましく、60℃以上T
g以下がより好ましく、70℃以上Tg以下がさらに好
ましい。Tg以上の温度で予熱すると接着が悪化する。
グロー放電処理時の真空度は0.005〜20Torr
とするのが好ましい。より好ましくは0.02〜2To
rrである。また、電圧は、500〜5000Vの間が
好ましい。より好ましくは500〜3000Vである。
使用する放電周波数は従来技術に見られるように、直流
から数1000MHz、好ましくは50Hz〜20MH
z、さらに好ましくは1KHz〜1MHzである。放電
処理強度は、0.01KV・A・分/m2〜5KV・A・
分/m2が好ましく、更に好ましくは0.15KV・A・
分/m2〜1KV・A・分/m2で所望の接着性能が得られ
る。
Further, when the vacuum glow discharge treatment is carried out in a state where the support to be surface-treated is heated, the adhesion is improved in a shorter time than the treatment at room temperature, which is effective. The preheating temperature is preferably 50 ° C. or higher and Tg or lower, and 60 ° C. or higher T
g or less is more preferable, and 70 ° C. or more and Tg or less is further preferable. Preheating at a temperature of Tg or higher deteriorates adhesion.
Vacuum degree during glow discharge treatment is 0.005 to 20 Torr
Is preferred. More preferably 0.02 to 2To
rr. Further, the voltage is preferably between 500 and 5000V. More preferably, it is 500-3000V.
The discharge frequency used is, as seen in the prior art, from direct current to several 1000 MHz, preferably 50 Hz to 20 MH.
z, and more preferably 1 KHz to 1 MHz. Discharge intensity is 0.01KV · A · min / m2-5KV · A ·
Min / m 2 is preferable, more preferably 0.15 KV · A ·
The desired adhesive performance can be obtained at min / m 2 to 1 KV · A · min / m 2 .

【0038】このようにして得られた支持体表面の光電
子分光法(XPS)で調べるた酸素存在量(酸素の1sの
525〜545eVに現れるシグナルのピ−ク面積をイ
オン化断面積=2.85で割った値)と炭素の存在量
(炭素の1sの300〜270eVに現れるシグナルのピ
−ク面積をイオン化断面積=1で割った値)の比(酸素
存在量/炭素存在量)が0.05以上、0.30以下が
好ましく、0.08以上、0.25以下がより好まし
く、0.10以上、0.23以下がさらに好まし。ま
た、窒素存在量(窒素の1sの410〜390eVに現れ
るシグナルのピ−ク面積をイオン化断面積=1.77で
割った値)と炭素の存在量(炭素の1sの300〜270
eVに現れるシグナルのピ−ク面積をイオン化断面積=
1で割った値)の比(窒素存在量/炭素存在量)が0.
005以上、0.06以下が好ましく、0.008以
上、0.04以下がより好ましく、0.010以上、
0.03以下がさらに好ましい。このようにして、グロ
ー放電処理を施こした支持体は、直ちに冷却ロールを用
いて温度を下げることが好ましい。
The oxygen abundance (the peak area of the signal appearing at 525 to 545 eV of 1 s of oxygen, which is determined by photoelectron spectroscopy (XPS) on the surface of the support thus obtained, is defined as the ionization cross section = 2.85. Divided by) and the abundance of carbon (the peak area of the signal appearing at 300 to 270 eV for 1 s of carbon divided by the ionization cross section = 1), the ratio (oxygen abundance / carbon abundance) is 0. 0.05 or more and 0.30 or less are preferable, 0.08 or more and 0.25 or less are more preferable, 0.10 or more and 0.23 or less are still more preferable. Also, the amount of nitrogen present (the peak area of the signal appearing at 410 to 390 eV for 1 s of nitrogen divided by the ionization cross section = 1.77) and the amount of carbon present (300 to 270 for 1 s of carbon).
The peak area of the signal appearing in eV is the ionization cross section =
(Value divided by 1) (amount of nitrogen present / amount of carbon present) is 0.
005 or more and 0.06 or less are preferable, 0.008 or more and 0.04 or less are more preferable, 0.010 or more,
0.03 or less is more preferable. It is preferable that the temperature of the support thus subjected to the glow discharge treatment is immediately lowered by using a cooling roll.

【0039】コロナ処理についえは、特公昭48−50
43号、同47−51905号、特開昭47−2806
7号、同49−83767号、同51−41770号、
同51−131576号の各公報に記載されている。放
電周波数は50Hz〜5000kHz、好ましくは5k
Hz〜数100kHzが適当である。被処理物の処理強
度に関しては、0.001KV・A・分/m2〜5KV・
A・分/m2、好ましくは0.01KV・A・分/m2〜1
KV・A・分/m2が適当である。電極と誘電体ロールの
ギャップクリアランスは0.5〜2.5mm、好ましくは
1.0〜2.0mmが適当である。
For corona treatment, Japanese Patent Publication No. 48-50
43, 47-51905, and JP-A-47-2806.
No. 7, No. 49-83767, No. 51-41770,
No. 51-131576. Discharge frequency is 50Hz-5000kHz, preferably 5k
Hz to several hundreds of kHz is suitable. Regarding the processing strength of the object to be processed, 0.001 KV · A · min / m 2 to 5 KV ·
A · min / m 2 , preferably 0.01 KV · A · min / m 2 to 1
KV · A · min / m 2 is suitable. The gap clearance between the electrode and the dielectric roll is 0.5 to 2.5 mm, preferably 1.0 to 2.0 mm.

【0040】紫外線処理は、特公昭43−2603号、
特公昭43−2604号、特公昭45−3828号の各
公報に記載がある。紫外線の光源となる水銀灯は、石英
管からなる高圧水銀灯または低圧水銀灯である。紫外線
の波長は、180〜380nmの間であることが好まし
い。紫外線照射の方法については、365nmを主波長
とする高圧水銀ランプであれば、照射光量20〜100
00(mJ/cm2 )が好ましく、より好ましくは50〜
2000(mJ/cm2 )である。254nmを主波長と
する低圧水銀ランプの場合には、照射光量100〜10
000(mJ/cm2 )が好ましく、より好ましくは20
0〜1500(mJ/cm2 )である。
The ultraviolet treatment is carried out according to Japanese Examined Patent Publication No. 43-2603,
It is described in JP-B-43-2604 and JP-B-45-3828. The mercury lamp serving as a light source of ultraviolet rays is a high-pressure mercury lamp or a low-pressure mercury lamp composed of a quartz tube. The wavelength of ultraviolet rays is preferably between 180 and 380 nm. Regarding the method of irradiating with ultraviolet rays, the irradiation light amount is 20 to 100 for a high-pressure mercury lamp having a main wavelength of 365 nm.
00 (mJ / cm 2 ) is preferable, and more preferably 50-
It is 2000 (mJ / cm 2 ). In the case of a low pressure mercury lamp having a main wavelength of 254 nm, the irradiation light amount is 100 to 10
000 (mJ / cm 2 ) is preferable, and more preferably 20.
It is 0 to 1500 (mJ / cm 2 ).

【0041】火焔処理は、天然ガスまたは液化プロパン
ガスを用いて実施できる。ガスと空気との混合比が重要
である。プロパンガスの場合、プロパンガス/空気の好
ましい混合比は、容積比で1/14〜1/22、好まし
くは1/16〜1/19である。また、天然ガスの場合
は、1/6〜1/10、好ましくは1/7〜1/9であ
る。火焔処理の熱エネルギーは1〜50Kcal/m2
範囲に調製することが好ましく、3〜30Kcal/m2
の範囲とすることがさらに好ましい。またバーナーの内
炎の先端と支持体の距離を4cm未満にするとより効果的
である。処理装置は春日電気(株)製フレーム処理装置
を用いることができる。また、火焔処理時に支持体を支
えるバックアップロールは中空型ロールで、冷却水を通
して水冷し、常に一定温度で処理するのがよい。
The flame treatment can be carried out using natural gas or liquefied propane gas. The mixing ratio of gas and air is important. In the case of propane gas, a preferable mixing ratio of propane gas / air is 1/14 to 1/22, preferably 1/16 to 1/19 in terms of volume ratio. In the case of natural gas, it is 1/6 to 1/10, preferably 1/7 to 1/9. Thermal energy flame treatment is preferably prepared in the range of 1~50Kcal / m 2, 3~30Kcal / m 2
It is more preferable to set the range to. It is more effective if the distance between the tip of the internal flame of the burner and the support is less than 4 cm. A frame processing device manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd. can be used as the processing device. Further, the backup roll that supports the support during the flame treatment is a hollow roll, and it is preferable that the backup roll is water-cooled by cooling water and always treated at a constant temperature.

【0042】次に、フイルムに設ける塗布層について説
明する。ハロゲン化銀写真感光材料では、表面処理した
フイルムに下塗り層および/またはバック層を設ける。
下塗り層としては、第1層として支持体によく接着する
層(以下、下塗り第1層と略す)を設け、その上に第2
層として下塗り第1層と写真層をよく接着する層(以
下、下塗り第2層と略す)を塗布するいわゆる重層法
と、支持体と写真層をよく接着する層を一層のみ塗布す
る単層法とがある。重層法における下塗り第1層では、
例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、酢
酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル、メタクリル酸
エステル、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、無
水マレイン酸等の中から選ばれた単量体を出発原料とす
る共重合体、エポキシ樹脂、ゼラチン、ニトロセルロー
ス、ポリ酢酸ビニルなどが用いられる。また必要に応じ
て、トリアジン系、エポキシ系、メラミン系、ブロック
イソシアネートを含むイソシアネート系、アジリジン
系、オキサザリン系等の架橋剤、コロイダルシリカ等の
無機粒子、界面活性剤、増粘剤、染料、防腐剤などを添
加してもよい。これらについては、E.H.Immergut"Polym
er Handbook" VI187〜231、Intersciense Pub.Ne
w York 1966や特開昭50−39528号、同50
−47196号、同50−63881号、同51−13
3526号、同64−538号、同63−174698
号、特願平1−240965号、特開平1−24096
5号、同2−184844号、特開昭48−89870
号、同48−93672号の各公報に記載がある。下塗
り第2層では、主としてゼラチンが用いられる。
Next, the coating layer provided on the film will be described. In a silver halide photographic light-sensitive material, a surface-treated film is provided with an undercoat layer and / or a back layer.
As the undercoat layer, a layer that adheres well to the support as the first layer (hereinafter, abbreviated as the first undercoat layer) is provided, and the second layer is formed thereon.
A so-called multi-layer method in which a layer for well adhering the undercoat first layer and the photographic layer (hereinafter abbreviated as the undercoat second layer) is applied as a layer, and a single layer method in which only one layer for well adhering the support and the photographic layer is applied. There is. In the first undercoat layer in the multi-layer method,
For example, copolymerization using a monomer selected from vinyl chloride, vinylidene chloride, butadiene, vinyl acetate, styrene, acrylonitrile, methacrylic acid ester, methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, etc. as a starting material Coalescent, epoxy resin, gelatin, nitrocellulose, polyvinyl acetate, etc. are used. If necessary, a crosslinking agent such as triazine-based, epoxy-based, melamine-based, blocked isocyanate-based isocyanate-based, aziridine-based, oxazaline-based, etc., inorganic particles such as colloidal silica, surfactants, thickeners, dyes, preservatives. Agents and the like may be added. For these, EHImmergut "Polym
er Handbook "VI187-231, Intersciense Pub.Ne
w York 1966 and JP-A-50-39528, 50
No. 47196, No. 50-63881, No. 51-13
No. 3526, No. 64-538, No. 63-174698
Japanese Patent Application No. 1-240965, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-24096.
5, JP-A-2-184844, JP-A-48-89870.
And No. 48-93672. Gelatin is mainly used in the second undercoat layer.

【0043】単層法においては、支持体であるポリマー
フイルムを膨潤させ、下塗りポリマーと界面混合させる
ことによって良好な接着性を得る方法が多く用いられ
る。この下塗りポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン
誘導体、ガゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷ
ん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、
無水マレイン酸共重合体などの水溶性ポリマー、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等
のセルロースエステル、塩化ビニル含有共重合体、塩化
ビニリデン含有共重合体、アクリル酸エステル含有共重
合体、酢酸ビニル含有共重合体、酢酸ビニル含有共重合
体等のラテックスポリマー、などが用いられる。これら
のうち好ましいのはゼラチンである。ゼラチンとして
は、いわゆる石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素
処理ゼラチン、ゼラチン誘導体及び変性ゼラチン等当業
界で一般に用いられているものはいずれも用いることが
できる。これらのゼラチンのうち、最も好ましく用いら
れるのは石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチンである。こ
れらの単層法および重層法での乾燥温度は、上述の通り
50℃以上150℃以下で行うことがポイントである。
フイルムに設ける塗布層(下塗り層、バック層)の厚さ
は、0.001乃至5μmであることが好ましく、0.
005乃至1μmであることがさらに好ましく、0.0
1乃至0.5μmであることが最も好ましい。
In the single layer method, a method in which a polymer film as a support is swollen and interfacially mixed with an undercoating polymer to obtain good adhesiveness is often used. As the undercoat polymer, gelatin, gelatin derivative, casein, agar, sodium alginate, starch, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid copolymer,
Water-soluble polymers such as maleic anhydride copolymers, cellulose esters such as carboxymethyl cellulose and hydroxyethyl cellulose, vinyl chloride-containing copolymers, vinylidene chloride-containing copolymers, acrylic acid ester-containing copolymers, vinyl acetate-containing copolymers , Latex polymers such as vinyl acetate-containing copolymers, and the like are used. Of these, gelatin is preferred. As gelatin, so-called lime-processed gelatin, acid-processed gelatin, enzyme-processed gelatin, gelatin derivatives, modified gelatin, and the like commonly used in the art can be used. Among these gelatins, lime-processed gelatin and acid-processed gelatin are most preferably used. The point of the drying temperature in the single layer method and the multi-layer method is 50 ° C. or more and 150 ° C. or less as described above.
The coating layer (undercoat layer, back layer) provided on the film preferably has a thickness of 0.001 to 5 μm, and a thickness of 0.
More preferably 005 to 1 μm, and 0.0
Most preferably, it is 1 to 0.5 μm.

【0044】バック面の耐傷性付与、すべり性付与、カ
−ル補償、帯電防止能の付与等のためにバック層を塗設
する。バック層はは親水性コロイドをバインダ−として
もよく、疎水性ポリマーをバインダーとしてもよい。親
水性コロイドとして最も好ましいものはゼラチンであ
る。ゼラチンとしては、いわゆる石灰処理ゼラチン、酸
処理ゼラチン、酵素処理ゼラチン、ゼラチン誘導体及び
変性ゼラチン等当業界で一般に用いられているものはい
ずれも用いることができる。これらのゼラチンのうち、
最も好ましく用いられるのは石灰処理ゼラチン、酸処理
ゼラチンである。ゼラチン以外の親水性コロイドとして
コロイド状アルブミン、カゼイン等の蛋白質、寒天、ア
ルギン酸ナトリウム、デンプン誘導体等の糖誘導体、カ
ルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロー
ス等のセルロース化合物、ポリビニルアルコール、ポリ
−N−ビニルピロリドン、ポリアクリルアミド等の合成
親水化合物等を挙げることができる。合成親水化合物の
場合、他の成分を共重合してもよい。これらの親水性コ
ロイドは、単独で用いてもよいし、2種以上を混合して
用いてもよい。これらの親水性ポリマーを用いる場合、
より強固な密着性を付与するために、感光層と同じ下塗
を行った上にバック層を塗設することも好ましい。
A back layer is coated for the purpose of imparting scratch resistance, slipping property, curl compensation, antistatic ability and the like to the back surface. The back layer may use a hydrophilic colloid as a binder and a hydrophobic polymer as a binder. The most preferable hydrophilic colloid is gelatin. As gelatin, so-called lime-processed gelatin, acid-processed gelatin, enzyme-processed gelatin, gelatin derivatives, modified gelatin, and the like commonly used in the art can be used. Of these gelatins,
Most preferably, lime-processed gelatin and acid-processed gelatin are used. As hydrophilic colloids other than gelatin, colloidal albumin, proteins such as casein, agar, sodium alginate, sugar derivatives such as starch derivatives, cellulose compounds such as carboxymethyl cellulose and hydroxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol, poly-N-vinylpyrrolidone, polyacrylamide. Examples thereof include synthetic hydrophilic compounds and the like. In the case of a synthetic hydrophilic compound, other components may be copolymerized. These hydrophilic colloids may be used alone or in combination of two or more. When using these hydrophilic polymers,
In order to impart stronger adhesion, it is also preferable to apply the backing layer after applying the same undercoat as the photosensitive layer.

【0045】疎水性ポリマー層のバインダーとしてはポ
リメチルメタクリレート、エチルアクリレート等の(メ
タ)アクリル酸エステルポリマー、ポリエチレン等のオ
レフィン系ポリマー、スチレン系ポリマー、塩化ビニリ
デン、ウレタン系ポリマー、ブタジエン等のゴム系ポリ
マーなどが用いられる。この層は1層でも2層以上でも
よい。これらの層には必要に応じてマット剤、すべり
剤、帯電調整剤、界面活性剤、架橋剤、又後述する表面
抵抗率低減のための導電性物質などを添加してもよい。
このようなバック層は、1層でも多層でもよく、各層の
厚みは0.02〜10μm、より好ましくは0.1〜7
μmの範囲が好ましく、これらの層の全厚みは0〜5μ
mが好ましい。
As the binder of the hydrophobic polymer layer, a (meth) acrylic acid ester polymer such as polymethylmethacrylate or ethylacrylate, an olefin polymer such as polyethylene, a styrene polymer, vinylidene chloride, a urethane polymer, a rubber system such as butadiene. A polymer or the like is used. This layer may be one layer or two or more layers. If necessary, a matting agent, a slip agent, a charge control agent, a surfactant, a cross-linking agent, or a conductive substance for reducing the surface resistivity described below may be added to these layers.
Such a back layer may be a single layer or multiple layers, and the thickness of each layer is 0.02 to 10 μm, more preferably 0.1 to 7 μm.
The range of μm is preferable, and the total thickness of these layers is 0 to 5 μm.
m is preferred.

【0046】バック層には更にポリマーラテックスを添
加しても良い。本発明に用いられるポリマーラテックス
は平均粒径が20mμ〜200mμの水不溶性ポリマー
の水分散物で、好ましい使用量はバインダー1.0に対
して乾燥重量比で0.01〜1.0で特に好ましくは
0.1〜0.8である。本発明に用いられるポリマーラ
テックスの好ましい例としてはアクリル酸のアルキルエ
ステル、ヒドロキシアルキルエステルまたはグリシジル
エステル、あるいはメタアクリル酸のアルキルエステ
ル、ヒドロキシアルキルエステル、またはグリシジルエ
ステルをモノマー単位として持ち、平均分子量が10万
以上、特に好ましくは30〜50万のポリマーであり、
具体例は次式で示される。
A polymer latex may be further added to the back layer. The polymer latex used in the present invention is an aqueous dispersion of a water-insoluble polymer having an average particle size of 20 mμ to 200 mμ, and the preferable amount is 0.01 to 1.0 in terms of dry weight ratio to 1.0 of the binder, and particularly preferable. Is 0.1 to 0.8. Preferable examples of the polymer latex used in the present invention have acrylic acid alkyl ester, hydroxyalkyl ester or glycidyl ester, or methacrylic acid alkyl ester, hydroxyalkyl ester or glycidyl ester as a monomer unit and have an average molecular weight of 10 Or more, particularly preferably 300 to 500,000 polymers,
A specific example is shown by the following equation.

【0047】[0047]

【化1】 Embedded image

【0048】このようなバック層塗設後の乾燥は、上述
のように50℃以上150℃以下の温度で行うことがポ
イントである。このよにして調製した下塗層の上にハロ
ゲン化銀乳剤層を塗設する。本発明に用いられるハロゲ
ン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤は通常、水溶性
銀塩(例えば硝酸銀)溶液と水溶性ハロゲン塩(例えば
臭化カリウム)溶液とをゼラチンの如き水溶性高分子溶
液の存在下で混合してつくられる。ハロゲン化銀として
は塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀及び塩沃臭化銀
いづれも用いることが出来、その粒子形態、サイズ分布
に特に限定はない。
The point of drying after coating the back layer is to carry out at a temperature of 50 ° C. to 150 ° C. as described above. A silver halide emulsion layer is coated on the thus prepared undercoat layer. The silver halide emulsion of the silver halide photographic light-sensitive material used in the present invention is usually a water-soluble silver salt (eg silver nitrate) solution and a water-soluble halogen salt (eg potassium bromide) solution and a water-soluble polymer solution such as gelatin. Made by mixing in the presence of. As the silver halide, any of silver chloride, silver bromide, silver chlorobromide, silver iodobromide and silver chloroiodobromide can be used, and the grain form and size distribution are not particularly limited.

【0049】ハロゲン化銀乳剤層は、感光性ハロゲン化
銀、化学増感剤、分光増感剤、カブリ防止剤、親水性コ
ロイド(特にゼラチン)、ゼラチン硬化剤、界面活性剤
など膜物理性改良剤、増粘剤、等を含有することが出来
る。これらについては、リサーチ・ディスクロージャー
誌、176巻17643項(1978年12月)の記
載、及び特開昭52−108130号、同52−114
328号、同52−121321号、同53−3217
号、同53−44025号明細書の記載等を参考にする
ことが出来る。これらのハロゲン化銀は親水性コロイド
層中に分散するのがこのましい。親水性コロイドは、バ
ック層のバインダ−として用いられているものと同様な
ものを用いることができる。このような親水性コロイド
層は、1層でも多層でもよく、各層の厚みは0.02〜
10μm、より好ましくは0.1〜7μmの範囲が好ま
しく、これらの層の全厚みは1.5〜10μmが好まし
い。
The silver halide emulsion layer comprises a photosensitive silver halide, a chemical sensitizer, a spectral sensitizer, an antifoggant, a hydrophilic colloid (especially gelatin), a gelatin hardener, a surfactant, and other physical properties of the film. Agents, thickeners, etc. can be contained. These are described in Research Disclosure, Vol. 176, Item 17643 (Dec. 1978), and in JP-A Nos. 52-108130 and 52-114.
No. 328, No. 52-121321, No. 53-3217.
No. 53-44025 specification, etc. can be referred to. These silver halides are preferably dispersed in the hydrophilic colloid layer. The same hydrophilic colloid as that used as the binder of the back layer can be used. Such a hydrophilic colloid layer may be a single layer or multiple layers, and the thickness of each layer is 0.02 to
The range is preferably 10 μm, more preferably 0.1 to 7 μm, and the total thickness of these layers is preferably 1.5 to 10 μm.

【0050】さらにバック層あるいは/および感光層中
に必要に応じて帯電防止剤を添加し、表面抵抗率を10
12以下に低下させてもよい。表面抵抗率を低下させる手
段に特に制限はない。例えば、特開昭58−62648
号明細書、同58−62649号明細書、同51−11
5291号明細書等に開示されたSn、Zn、Ti、I
n、V等の酸化物の微粉末を添加する方法、特開昭57
−204540号明細書、同54−133324号明細
書等に開示されたポリマーを添加する方法、特開昭64
−26849号明細書、同61−24907号明細書等
に開示されている界面活性剤を添加する方法などがあ
る。これらの方法のうち好ましいものはSnO2 等の金
属酸化物を添加する方法である。
If necessary, an antistatic agent is added to the back layer and / or the photosensitive layer so that the surface resistivity is 10%.
It may be lowered to 12 or less. There is no particular limitation on the means for lowering the surface resistivity. For example, JP-A-58-62648
No. 58-62649, No. 51-11
No. 5,291, Sn, Zn, Ti, I
Method of adding fine powder of oxides of n, V, etc., JP-A-57 / 57
-204540, 54-133324 and other methods for adding the polymer disclosed in JP-A-64-64
No. 26849, No. 61-24907, etc., there is a method of adding a surfactant. Among these methods, the preferred method is to add a metal oxide such as SnO2.

【0051】金属酸化物の微粉末としては導電性の結晶
性酸化物又はその複合酸化物が好ましい。導電性の結晶
性酸化物又はその複合酸化物の微粒子としては体積抵抗
率が107 Ωcm以下、より好ましくは105 Ωcm以下の
ものが望ましい。またその粒子サイズは0.01〜0.
7μ、特に0.02〜0.5μであることが望ましい。
本発明に使用される導電性の結晶性金属酸化物あるいは
複合酸化物の微粒子の製造方法については特願昭55−
47663号の明細書に詳細に記載されている。第1に
金属酸化物微粒子で暁成により作製し、導電性を向上さ
せる異種原子の存在下で熱処理する方法、第2に焼成に
より金属酸化物微粒子を製造するときに導電性を向上さ
せる為の異種原子を共存させる方法、第3に焼成により
金属微粒子を製造する際に雰囲気中の酸素濃度を下げ
て、酸素欠陥を導入する方法等が容易である。金属原子
を含む例としてはZnOに対してAl、In等、TiO
2 に対してはNb、Ta等、SnO2 に対してはSb、
Nb、ハロゲン元素等があげられる。異種原子の添加量
は0.01〜30mol%の範囲が好ましいが0.1〜
10mol%であれば特に好ましい。これらのうちSb
を添加したSnO2 微粒子が最も好ましい。
As the fine powder of the metal oxide, a conductive crystalline oxide or a composite oxide thereof is preferable. The fine particles of the electrically conductive crystalline oxide or the composite oxide thereof preferably have a volume resistivity of 10 7 Ωcm or less, more preferably 10 5 Ωcm or less. The particle size is 0.01 to 0.
It is desirable that the thickness is 7μ, particularly 0.02 to 0.5μ.
Regarding the method for producing fine particles of a conductive crystalline metal oxide or composite oxide used in the present invention, Japanese Patent Application No. 55-
It is described in detail in the specification of No. 47663. Firstly, a method of forming the metal oxide fine particles by calcination and performing heat treatment in the presence of different atoms for improving conductivity, and second, for improving conductivity when producing the metal oxide fine particles by firing. A method of making different atoms coexist, a third method of introducing oxygen defects by lowering the oxygen concentration in the atmosphere when producing metal fine particles by firing, and the like are easy. Examples of containing metal atoms include ZnO, Al, In, etc., TiO.
Nb for 2, Ta, etc., Sb for SnO 2,
Examples include Nb and halogen elements. The addition amount of the heteroatom is preferably in the range of 0.01 to 30 mol%, but 0.1 to 30 mol%
It is particularly preferable if it is 10 mol%. Of these, Sb
Most preferred is SnO 2 fine particles added with.

【0052】またハレーション防止、セーフライト安全
性向上、表裏判別性向上などの目的で、染色された非感
光性親水性コロイド層(以降染色層と表わす)を設けて
もよい。例えば、米国特許3455693号、同254
8564号、同4124386号、同3625694号
の各明細書、特開昭47−13935号、同55−33
172号、同56−36414号、同57−16185
3号、同52−29727号、同61−198148
号、同61−177447号、同61−217039
号、同61−219039号の各公報に記載の染料を媒
染剤に吸着せしめる方法、特開昭61−213839
号、同63−208846号、同63−296039
号、特開平1−158439号の各公報に記載の耐拡散
型染料を用いる方法、特願平1−142688号明細書
に記載のオイルに溶解した染料を油滴状に乳化分散する
方法、米国特許2719088号、同2498841
号、同2496843号の各明細書、特開昭60−45
237号公報、特願平1−139691号明細書に記載
の染料を無機物表面に吸着せしめる方法、特願平1−1
19851号明細書に記載の染料をポリマーに吸着せし
める方法、特開昭56−12639号、同55−155
350号、同55−155351号、同63−2783
8号、同63−197943号の各公報、欧州特許15
601号、同274723号、同276566号、同2
99435号、国際特許(WO)88/04794号、
特願平1−87367号の各明細書に記載の水に不溶性
の染料固体を用いる方法などがある。これらの方法の中
で染料を固体のまま分散する方法が染料を特定層中に固
定し、現像処理後の残色が少ないという観点から好まし
い。
Further, a dyed non-photosensitive hydrophilic colloid layer (hereinafter referred to as a dyed layer) may be provided for the purpose of preventing halation, improving safety of safelight, improving front / back discrimination. For example, US Pat.
Nos. 8564, 4124386, and 3625694, JP-A-47-13935, and 55-33.
No. 172, No. 56-36414, No. 57-16185.
No. 3, No. 52-29727, No. 61-198148.
No. 61, No. 61-177447, No. 61-217039.
And the method of adsorbing the dye described in JP-A-61-219039 on a mordant, JP-A-61-213839.
No. 63-208846, No. 63-296039.
JP-A-1-158439, a method of using a diffusion-resistant dye, JP-A-1-142688, a method of emulsifying and dispersing a dye dissolved in an oil into oil droplets, US Patents 2719088 and 2498841
Nos. 2496843, JP-A-60-45
A method for adsorbing the dye described in Japanese Patent Application No. 237, Japanese Patent Application No. Hei 1-136991 to the surface of an inorganic material, Japanese Patent Application No. Hei 1-1
A method of adsorbing a dye described in the specification of 19851 to a polymer, JP-A-56-12639 and JP-A-55-155.
No. 350, No. 55-155351, No. 63-2783.
No. 8, 63-197943, European Patent 15
No. 601, No. 274723, No. 276566, No. 2
99435, International Patent (WO) 88/04794,
There is a method of using a water-insoluble dye solid described in each specification of Japanese Patent Application No. 1-87367. Among these methods, the method in which the dye is dispersed as a solid is preferable from the viewpoint of fixing the dye in the specific layer and reducing the residual color after the development processing.

【0053】[0053]

【実施例】【Example】

[実施例1] (1)ポリマーの重合 反応容器に、反応溶媒としてトルエン6リットルおよび
テトラエトキシチタン5ミリモルおよびメチルアルミノ
キサンをアルミニウム原子として500ミリモル入れ、
50℃においてモル比でスチレン48.94:p−メチ
ルスチレン1.06とを加え、2時間重合反応を行っ
た。反応終了後、生成物を塩酸とメタノールとの混合液
で洗浄して、触媒成分を分解除去した。次いで乾燥する
ことにより共重合体640gを得た。この共重合体の重
量平均分子量(Mw)が44万であり、数平均分子量
(Mn)が24万であった。この共重合体中のp−メチ
ルスチレン単位の含有割合は5wt%であった。また、
この共重合体は12C−NMRによる分析から、145.
11ppm、145.22ppm、142.09ppm
に吸収が認められ、そのピーク面積から算出したスチレ
ン単位のラセミペンタッドでのシンジオタクティシティ
ーは72%であった。このポリマーのガラス転移温度
(Tg)、融点(Tm)はそれぞれ97℃、250℃で
あった。このポリマ−をSPS−1としする。同様にし
て、スチレンとp−メチルスチレンの仕込み比(モル
比)を50/0、47.88/2.12とし重合を行っ
た。これらをおのおのSPS−2,3とした。これらの
Mwはそれぞれ40万、42万、Mnはそれぞれ22
万、23万、シンジオタクティシティーはそれぞれ7
4、71、Tgはそれぞれ100℃、95℃、Tmはそ
れぞれ257、248であった。このようにしてシンジ
オタクティック構造を有するスチレン系重合体、SPS
−1、2および3(p−メチルスチレン含率はそれぞれ
5、0および10wt%)を得た。
Example 1 (1) Polymerization of Polymer To a reaction vessel, 6 liters of toluene as a reaction solvent, 5 mmol of tetraethoxytitanium and 500 mmol of aluminum atom as methylaluminoxane were charged,
Styrene 48.94: p-methylstyrene 1.06 was added at a molar ratio of 50 ° C., and a polymerization reaction was performed for 2 hours. After completion of the reaction, the product was washed with a mixed solution of hydrochloric acid and methanol to decompose and remove the catalyst component. Then, it was dried to obtain 640 g of a copolymer. The weight average molecular weight (Mw) of this copolymer was 440,000, and the number average molecular weight (Mn) was 240,000. The content ratio of the p-methylstyrene unit in this copolymer was 5 wt%. Also,
This copolymer was analyzed by 12 C-NMR to find that 145.
11 ppm, 145.22 ppm, 142.09 ppm
Was observed, and the syndiotacticity of the styrene unit in the racemic pentad calculated from the peak area was 72%. The glass transition temperature (Tg) and melting point (Tm) of this polymer were 97 ° C. and 250 ° C., respectively. This polymer is called SPS-1. Similarly, polymerization was carried out with the charging ratio (molar ratio) of styrene and p-methylstyrene being 50/0 and 47.88 / 2.12. These were designated as SPS-2 and 3, respectively. These Mw are 400,000 and 420,000 respectively, and Mn is 22 respectively.
10,000, 230,000 and 7 each for Syndiotacticity
4, 71 and Tg were 100 ° C. and 95 ° C., respectively, and Tm was 257 and 248, respectively. Thus, the styrene polymer having a syndiotactic structure, SPS
-1, 2 and 3 (p-methylstyrene contents were 5, 0 and 10 wt% respectively) were obtained.

【0054】上記TgおよびTmは、次のようにして求
めた。試料10mgを示差熱分析計の中にセットしチッ素
気流中、20℃/分で330℃まで昇温後、室温まで急
冷する。再び20℃/分でチッ素気流中で昇温してゆ
き、ベースラインがシフトしはじめる温度と新たにベー
スラインを形成する温度の中点をTgとする。吸熱側に
現われる大きなピークの最大吸熱点の温度をTmとす
る。
The above Tg and Tm were determined as follows. 10 mg of a sample is set in a differential thermal analyzer, heated to 330 ° C. at 20 ° C./min in a nitrogen stream, and then rapidly cooled to room temperature. The temperature is raised again in a nitrogen gas stream at 20 ° C./min, and the midpoint between the temperature at which the baseline starts to shift and the temperature at which a new baseline is formed is Tg. The temperature of the maximum endothermic point of a large peak appearing on the endothermic side is defined as Tm.

【0055】(2)支持体の製膜 SPS−1、2および3を150℃にて減圧、乾燥後1
30℃の熱風中攪拌しながら結晶化させた。このペレッ
トをこの結晶化ペレット中のモノマー含有量は1,10
0〜900ppmであった。この後、SPS−1、SP
S−2はベント付単軸押出機を用いて300℃で混練押
し出しを行った。またSPS−2とSPS−3をそれぞ
れの混合比が2/1になるようにベント付2軸押出機を
用いて300℃で混練押し出しした。これらをを焼結金
属フィルターを通した後320℃に加熱したT−ダイか
ら押出した。この溶融状態のシートを静電印加法を用い
て、2軸延伸後表1に示した厚みになるようにキャステ
ィングを行った。このようにして得られた透明なシート
の結晶化度は9%であった。これを縦方向に120℃で
3.2倍、次いで横方向125℃で3.3倍に逐次2軸
延伸を行った。この後240℃で30秒間5%の制限収
縮下で熱固定を行った。このようにしてSPS−1、S
PS−2のホモポリマーとSPS−2+SPS−3のポ
リマー(以後「 SPS−2/3」 と称する)からなる支
持体を得た。また、参考用にPETを用いて、常法に従
いフイルムを製膜した。
(2) Film formation of support SPS-1, 2 and 3 were dried at 150 ° C. under reduced pressure and dried 1
Crystallization was performed while stirring in hot air at 30 ° C. The content of the monomer in the crystallized pellet was 1,10
It was 0 to 900 ppm. After this, SPS-1, SP
S-2 was kneaded and extruded at 300 ° C. using a vented single-screw extruder. Further, SPS-2 and SPS-3 were kneaded and extruded at 300 ° C. using a twin-screw extruder with a vent so that the mixing ratio of each was 2/1. These were extruded from a T-die heated at 320 ° C. after passing through a sintered metal filter. This molten sheet was cast by biaxial stretching using an electrostatic application method so as to have the thickness shown in Table 1. The crystallinity of the transparent sheet thus obtained was 9%. This was sequentially biaxially stretched 3.2 times at 120 ° C. in the longitudinal direction and then 3.3 times at 125 ° C. in the transverse direction. After that, heat setting was performed at 240 ° C. for 30 seconds under a restricted shrinkage of 5%. In this way SPS-1, S
A support comprising a homopolymer of PS-2 and a polymer of SPS-2 + SPS-3 (hereinafter referred to as "SPS-2 / 3") was obtained. For reference, PET was used to form a film according to a conventional method.

【0056】(3)支持体の表面処理 これらの支持体の両面に以下の条件でグロー放電処理を
施こした。断面が直径2cm、長さ150cmの円柱状で冷
媒流路となる中空部を持つ棒状電極を、10cm間隔に4
本絶縁板状に固定した。この電極板を真空タンク内に固
定し、この電極面から15cm離れ、電極面に正対するよ
うに2軸延伸フイルムを走行させ、2秒間の表面対処が
行われるように速度をコントロールした。フイルムが電
極を通過する直前に、フイルム直径50cmの温度コント
ローラー付き加熱ロールに3/4周接触するように加熱
ロールを配置し、さらに加熱ロールと電極ゾーンの間の
フイルム面に熱電対温度計を接触させることによりフイ
ルム面温度を70℃にコントロールした。真空槽内の圧
力は0.2Torr、雰囲気気体内のH2 O分圧は75
%で行った。放電周波数は30KHz、出力2500
W、処理強度は0.5KV・A・分/m2で行った。放電
処理後の支持体が巻き取られる前に表面温度が30℃に
なるように、直径50cmの温度コントローラー付き冷却
ロールに接触させ巻き取った。
(3) Surface Treatment of Supports Both surfaces of these supports were subjected to glow discharge treatment under the following conditions. A cylindrical electrode with a cross section of 2 cm in diameter and 150 cm in length and having a hollow portion that serves as a coolant channel is provided at intervals of 10 cm.
It was fixed in the shape of an insulating plate. This electrode plate was fixed in a vacuum tank, a biaxially stretched film was run 15 cm away from this electrode surface so as to face the electrode surface, and the speed was controlled so that surface treatment was performed for 2 seconds. Immediately before the film passes through the electrode, the heating roll is placed so that it makes 3/4 round contact with the heating roll with a temperature controller of 50 cm in diameter, and a thermocouple thermometer is placed on the film surface between the heating roll and the electrode zone. By bringing them into contact with each other, the film surface temperature was controlled at 70 ° C. The pressure in the vacuum chamber is 0.2 Torr, and the partial pressure of H2O in the atmospheric gas is 75.
It went in%. Discharge frequency is 30 KHz, output 2500
W, the treatment intensity was 0.5 KV · A · min / m 2 . The support after the discharge treatment was wound in contact with a cooling roll with a temperature controller of 50 cm in diameter so that the surface temperature was 30 ° C. before being wound up.

【0057】(4)写真感材の作成 グロー放電処理をした支持体の両面に下記下塗りを塗設
した。 ──────────────────────────────────── 下塗り層 ──────────────────────────────────── ゼラチン 10.0重量部 水 24.0重量部 メターノール 961.0重量部 サリチル酸 3.0重量部 ポリアマイド−エピクロルヒドリン樹脂(特開昭51−3619号公報の合成 例1に記載) 0.5重量部 ノニオン性界面活性剤(特公平3−27099号公報記載の化合物I−13) 1.0重量部 ────────────────────────────────────
(4) Preparation of photographic light-sensitive material The following undercoat was applied on both sides of the support subjected to glow discharge treatment. ──────────────────────────────────── Undercoat layer ──────────── ──────────────────────── Gelatin 10.0 parts by weight Water 24.0 parts by weight Metanol 961.0 parts by weight Salicylic acid 3.0 parts by weight Polyamide- Epichlorohydrin resin (described in Synthesis Example 1 of JP-A-51-3619) 0.5 part by weight Nonionic surfactant (Compound I-13 described in JP-B-3-27099) 1.0 part by weight ── ───────────────────────────────────

【0058】この塗布液をワイヤーバーを用いて10ml
/m2塗布した。この後、下記第1表に示した条件で5分
間乾燥した。このときの張力はいずれの水準も10kg
/mで行った。この後、支持体の面状を下記の方法で評
価した。結果を下記第1表に示す。
10 ml of this coating solution using a wire bar
/ M 2 was applied. Then, it was dried for 5 minutes under the conditions shown in Table 1 below. The tension at this time is 10 kg at any level.
/ M. Then, the surface condition of the support was evaluated by the following method. The results are shown in Table 1 below.

【0059】[0059]

【表1】 第1表 ──────────────────────────────────── 支持体 ポリマー 層の塗布条件 塗布後の表面状態 番号 (1) (2) (3) (4) (5)(6)(7) ──────────────────────────────────── 1−1 SPS−1 100 2.0 15 12 0 2 2 1−2 SPS−1 210 2.0 15 12 4 42 53 1−3 SPS−1 185 2.0 15 12 0 12 11 1−4 SPS−1 60 2.0 15 12 0 1 0 1−5 SPS−1 40 2.0 15 12 0 1 0 1−6 SPS−1 100 9.0 15 12 0 15 5 1−7 SPS−1 100 11.0 15 12 1 21 6 1−8 SPS−1 100 2.0 210 12 0 5 39 1−9 SPS−1 100 2.0 190 12 0 4 22 1−10 SPS−1 100 2.0 15 38 0 11 9 1−11 SPS−1 100 2.0 15 40 0 17 12 1−12 SPS-2+3 100 2.0 15 12 0 3 3 1−13 SPS-2+3 210 2.0 15 12 4 44 63 1−14 SPS-2+3 185 2.0 15 12 0 15 17 1−15 SPS-2+3 60 2.0 15 12 0 1 0 1−16 SPS-2+3 40 2.0 15 12 0 1 0 1−17 SPS-2+3 100 9.0 15 12 0 17 6 1−18 SPS-2+3 100 11.0 15 12 1 23 7 1−19 SPS-2+3 100 2.0 210 12 0 6 40 1−20 SPS-2+3 100 2.0 190 12 0 5 24 1−21 SPS-2+3 100 2.0 15 38 0 12 9 1−22 SPS-2+3 100 2.0 15 42 0 18 14 1−23 SPS−2 100 2.0 15 12 0 2 2 1−24 PET 100 2.0 15 12 0 0 0 ──────────────────────────────────── 註:(1)乾燥温度(℃) (2)パスロール間の最大長(m) (3)パスロールとフイルムの最大接触長(cm) (4)搬送時にフイルムにかかる張力 (5)筋張り故障(個) フイルムの中央部を30cm幅で10mサンプリング
し、これを張力を加えずテ−ブル上で順の巻ほぐしなが
ら目視で発生個数を数える。この値を10でわり、単位
長さあたりの発生個数とした。 (6)波打ち故障(mm) 支持体を1mサンプリングし無張力でテ¥ブルの上に置
く。この時に両端に発生している波打ちの高さを定規を
用いて全数測定する。この平均高さを求める。 (7)ブツ故障(個) 支持体を幅方向に等間隔で5点、5cm角にサンプリン
グする。これに発生しているブツを目視で数え、5点の
平均個数を求める。
[Table 1] Table 1 ──────────────────────────────────── Support conditions for coating the polymer layer Surface condition number after application (1) (2) (3) (4) (5) (6) (7) ──────────────────────── ───────────── 1-1 SPS-1 100 2.0 15 12 12 0 2 2 1-2 SPS-1 210 2.0 15 15 12 4 42 53 53 1-3 SPS-1 185 2.0 15 12 0 12 11 1-4 SPS-1 60 2.0 15 12 0 1 0 1-5 SPS-1 40 2.0 15 15 12 0 1 0 1-6 SPS-1 100 9.0 9.0 1212 0 15 5 1-7 SPS-1 100 11.0 15 12 1 21 6 1-8 SPS-1 100 2.0 2.0 210 12 0 5 39 1-9 SPS-1 00 2.0 190 12 0 4 22 1-10 SPS-1 100 2.0 15 15 38 0 11 9 1-11 SPS-1 100 2.0 15 40 40 0 17 12 12-12 SPS-2 + 3 100 2.0 15 1203 3 1-13 SPS-2 + 3 210 2.0 15 15 12 4 44 63 1-14 SPS-2 + 3 185 2.0 15 15 12 0 15 17 1-15 SPS-2 + 3 60 2.0 15 15 12 0 1 0 1 -16 SPS-2 + 3 40 2.0 15 12 12 0 1 0 1-17 SPS-2 + 3 100 9 0 15 15 12 0 17 6 1-18 SPS-2 + 3 100 11.0 15 12 12 1 23 7 1-19 SPS-2 + 3 100 2.0 210 12 0 6 40 1-20 SPS-2 + 3 100 2.0 190 190 0 5 5 24 1-21 SPS-2 + 3 100 2.0 15 38 38 12 12 9 1-22 SPS-2 + 3 100 2.0 2.0 15 42 0 18 14 1-2 3 SPS-2 100 2.0 15 12 12 0 2 2 1-24 PET 100 2.0 15 15 2 0 0 0 ───────────────────────── ──────────── Note: (1) Drying temperature (℃) (2) Maximum length between pass rolls (m) (3) Maximum contact length between pass roll and film (cm) (4) Transfer Tension applied to the film at times (5) Stretching failure (pieces) The center of the film is sampled for 10 meters with a width of 30 cm, and the number of occurrences is visually counted while unwinding in sequence on the table without applying tension. This value was divided by 10 to give the number of occurrences per unit length. (6) Waviness failure (mm) Sample the support for 1 m and place it on the table without tension. At this time, the height of the undulations generated at both ends is 100% measured using a ruler. Find this average height. (7) Spot failure (pieces) The support is sampled at 5 points and 5 cm square at equal intervals in the width direction. The seeds generated in this are visually counted and the average number of 5 points is obtained.

【0060】この支持体の下塗り層の反対側に下記組成
の導電層及びバック層を塗布し40℃で5分間乾燥し
た。 ──────────────────────────────────── 導電層 ──────────────────────────────────── SnO2 /Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μm) 200mg/m2 ゼラチン(Ca2+含有量:3000ppm) 77mg/m2 化合物−11 7mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9mg/m2 ────────────────────────────────────
A conductive layer and a back layer having the following compositions were coated on the side opposite to the undercoat layer of this support and dried at 40 ° C. for 5 minutes. ──────────────────────────────────── Conductive layer ──────────── ──────────────────────── SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, average particle size 0.25 μm) 200 mg / m 2 Gelatin (Ca 2 + Content: 3000 ppm) 77 mg / m 2 compound-11 7 mg / m 2 sodium dodecylbenzene sulfonate 10 mg / m 2 dihexyl-α-sulfosuccinate sodium 40 mg / m 2 sodium polystyrene sulfonate 9 mg / m 2 ──── ────────────────────────────────

【0061】 ──────────────────────────────────── バック層 ──────────────────────────────────── ゼラチン(Ca2+含有量30ppm) 3.6g/m2 化合物−11 3mg/m2 ポリメチルメタクリレ−ト微粒子(平均粒径3.4μm) 50mg/m2 化合物−12 40mg/m2 化合物−13 40mg/m2 化合物−14 80mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 75mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナ−トナトリウム 20mg/m2 化合物−15 5mg/m2 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグリシンポタジウム 7mg/m2 硫酸ナトリウム 50mg/m2 酢酸ナトリウム 85mg/m2 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン 150mg/m2 ──────────────────────────────────── Back layer ────────── ─────────────────────────── Gelatin (Ca 2+ content 30ppm) 3.6g / m 2 Compound-11 3mg / m 2 Poly Methyl methacrylate fine particles (average particle size 3.4 μm) 50 mg / m 2 compound-12 40 mg / m 2 compound-13 40 mg / m 2 compound-14 80 mg / m 2 sodium dodecylbenzenesulfonate 75 mg / m 2 dihexyl- α- Suruhosakushina - DOO sodium 20 mg / m 2 compound -15 5mg / m 2 N- perfluorooctane sulfonyl -N- propyl glycine Potassium 7 mg / m 2 sodium sulfate 50 mg / m 2 sodium acetate 85 mg / m 2 1,2- Bis (bini Lusulfonylacetamide) ethane 150 mg / m 2

【0062】[0062]

【化2】 Embedded image

【0063】[0063]

【化3】 Embedded image

【0064】次いで、支持体の反対側の面に、下記組成
の乳剤層、保護層下層、保護層上層を同時に塗布した。 ──────────────────────────────────── I液 ──────────────────────────────────── 水 1000ml ゼラチン 20g 塩化ナトリウム 20g 1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−チオン 20g ベンゼンスルホン酸ナトリウム 6mg
Then, an emulsion layer having the following composition, a protective layer lower layer and a protective layer upper layer were simultaneously coated on the surface opposite to the support. ──────────────────────────────────── Solution I ──────────── ──────────────────────── Water 1000 ml Gelatin 20 g Sodium chloride 20 g 1,3-Dimethylimidazolidine-2-thione 20 g Sodium benzenesulfonate 6 mg

【0065】 ──────────────────────────────────── II液 ──────────────────────────────────── 水 400ml 硝酸銀 100g ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── II liquid ────────── ─────────────────────────── Water 400ml Silver nitrate 100g ─────────────────── ─────────────────

【0066】 ──────────────────────────────────── III液 ──────────────────────────────────── 水 400ml 塩化ナトリウム 30.5g 臭化カリウム 14g ヘキサクロロイリジウム(III )酸カリウム(0.001%水溶液) 15ml ヘキサブロモジウム(III )酸アンモニウム(0.001%水溶液) 1.5ml ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── III liquid ───────── ─────────────────────────── Water 400 ml Sodium chloride 30.5 g Potassium bromide 14 g Potassium hexachloroiridium (III) (0.001% Aqueous solution) 15 ml Ammonium hexabromodium (III) (0.001% aqueous solution) 1.5 ml ────────────────────────────── ───────

【0067】38℃、pH=4.5に保たれたI液にII
液とIII 液を撹拌しながら同時に10分間にわたって加
え、0.16μmの微粒子を形成した。続いて下記IV
液、V液を10分間にわたって加えた。さらにヨウ化カ
リウム0.15gを加え粒子形成を終了した。
II solution in solution I kept at 38 ° C. and pH = 4.5
The liquid and the liquid III were added simultaneously with stirring for 10 minutes to form fine particles of 0.16 μm. Then IV below
Solution and Solution V were added over 10 minutes. Further, 0.15 g of potassium iodide was added to complete grain formation.

【0068】 ──────────────────────────────────── IV液 ──────────────────────────────────── 水 400ml 硝酸銀 100g ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── IV liquid ───────── ─────────────────────────── Water 400ml Silver nitrate 100g ─────────────────── ─────────────────

【0069】 ──────────────────────────────────── V液 ──────────────────────────────────── 水 400ml 塩化ナトリウム 30.5g 臭化カリウム 14g K4 Fe(CN)6 1×10-5モル/モルAg ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── V liquid ────────── ─────────────────────────── Water 400 ml Sodium chloride 30.5 g Potassium bromide 14 g K 4 Fe (CN) 6 1 × 10 -5 Mol / mol Ag ─────────────────────────────────────

【0070】その後常法に従って、フロキュレーション
法によって、水洗し、ゼラチン40gを加えた。この乳
剤を、pH=5.3、pAg=7.5に調節し、チオ硫
酸ナトリウム5.2mg、塩化金酸10.0mgとN,
N−ジメチルセレノ尿素を2.0mg加え、ベンゼンス
ルホン酸ナトリウム2.0mgを加え、55℃で最適感
度になるように化学増感し、最終的に塩化銀80モル%
を含む、平均粒子径0.20μmのヨウ塩臭化銀立方体
粒子乳剤を調製した。次いで増感色素を5×10-4モル
/モルAg加えて、オルソ増感した。さらにカブリ防止
剤として、ハイドロキノン、1−フェニル−5−メルカ
プトテトラゾールをAg1モル当たりそれぞれ2.5
g、50mg、コロイダルシリカ(日産化学製スノ−テ
ックスC、平均粒径0.015μm)をゼラチンに対
し、30重量%加え、可塑剤としてポリエチルアクリレ
ートラテックス(0.05μm)をゼラチンに対し、4
0重量%、硬膜剤として、1,1’−ビス(ビニルスル
ホニル)メタンを100mg/m2 加えた。この塗布液
をAg3.9g/m2 、ゼラチン1.8g/m2 になる
様に塗布した。
Thereafter, according to a conventional method, the product was washed with water by the flocculation method and 40 g of gelatin was added. This emulsion was adjusted to pH = 5.3 and pAg = 7.5, 5.2 mg of sodium thiosulfate, 10.0 mg of chloroauric acid and N,
2.0 mg of N-dimethylselenourea and 2.0 mg of sodium benzenesulfonate were added, and chemical sensitization was performed at 55 ° C. to obtain optimum sensitivity, and finally 80 mol% of silver chloride.
A cubic silver iodochlorobromide cubic grain emulsion having an average grain size of 0.20 μm was prepared. Then, a sensitizing dye was added at 5.times.10@-4 mol / mol Ag for ortho-sensitization. Further, as antifoggants, hydroquinone and 1-phenyl-5-mercaptotetrazole were added in amounts of 2.5 per 1 mol of Ag, respectively.
g, 50 mg, colloidal silica (Nissan Chemical's SNO-TEX C, average particle size 0.015 μm) was added to gelatin in an amount of 30% by weight, and polyethyl acrylate latex (0.05 μm) as a plasticizer was added to gelatin to 4%.
0% by weight, 100 mg / m 2 of 1,1′-bis (vinylsulfonyl) methane was added as a hardening agent. The coating solution Ag3.9g / m 2, was coated so as to be gelatin 1.8 g / m 2.

【0071】[0071]

【化4】 [Chemical 4]

【0072】 ──────────────────────────────────── 保護層下層 m2 当たり ──────────────────────────────────── ゼラチン 0.7g ベンゼンスルホン酸ナトリウム 4mg 1,5−ジヒドロキシ−2−ベンズアルドキシム 25mg ポリエチルアクリレ−トラテックス 125mg ───────────────────────────────────────────────────────────────────────── Protective layer lower layer per m 2 ───── ──────────────────────────────── Gelatin 0.7g Sodium benzenesulfonate 4mg 1,5-Dihydroxy-2-benzald Kisme 25 mg Polyethyl acrylate latex 125 mg ─────────────────────────────────────

【0073】 ──────────────────────────────────── 保護層上層 m2 当たり ──────────────────────────────────── ゼラチン 0.5g ポリメチルメタクリレ−ト微粒子(平均粒径2.5μm) 40mg 化合物−16(滑り剤のゼラチン分散物) 60mg コロイダルシリカ(日産化学製スノ−テックスC) 60mg 化合物−17 5mg ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 22mg ──────────────────────────────────── この試料の動摩擦係数はすべて0.22±0.03(2
5℃60%RH、サファイヤ針φ=1mm、荷重100
g、スピ−ド60cm/min)であった。
──────────────────────────────────── Protection layer upper layer per m 2 ───── ─────────────────────────────── Gelatin 0.5g Polymethylmethacrylate fine particles (average particle size 2.5 μm) 40 mg Compound-16 (gelatin dispersion of lubricant) 60 mg Colloidal silica (Nissan Chemical's Sunotex C) 60 mg Compound-17 5 mg Sodium dodecylbenzenesulfonate 22 mg ──────────────── ───────────────────── The coefficient of dynamic friction of this sample is 0.22 ± 0.03 (2
5 ° C 60% RH, sapphire needle φ = 1mm, load 100
g, speed 60 cm / min).

【0074】[0074]

【化5】 Embedded image

【0075】(5)写真感材の評価 このようにして得られた試料を塗布後10日間25℃6
0%RH下で保管した後、25℃60%RH下で裁断・
加工した後、下記評価を実施した。 (5−1)湿度寸法ズレ 高湿に置いた感材(60%RH)を低湿(20%RH)
にした露光機内に置き、この中での放置時間を変えて露
光する。直ちに露光したものは感材は収縮せず、長時間
(1時間)放置後は十分感材が収縮する。この2つの感
材の露光点の距離を測長することで湿度寸法安定性を評
価する。 (感材の露光)25.5cm幅に裁断した感光材料を、
25℃60%RHに調湿後マガジンに装填した。これを
25℃20%RHの一定環境下に設置したスキャナ−露
光機(マグナセット350:富士写真フイルム製)にセ
ット後直ちにに第1版を露光した。露光は0.5mmの
正方形をフイルムの四隅(幅方向:250mm間隔、長
手方向600mm間隔)に露光した。この1時間後に同
様にして第2版を露光した。 (感材の現像処理)現像液、定着液として、富士写真フ
イルム製SR−D1およびSR−F1を用いて、自動現
像機FG−660F(富士写真フイルム製)で38℃2
0秒の現像処理を実施した。
(5) Evaluation of Photosensitive Material The sample thus obtained was coated at 25 ° C. for 6 days for 10 days.
After storing at 0% RH, cut at 25 ° C and 60% RH.
After processing, the following evaluation was carried out. (5-1) Humidity dimension shift Sensitive material (60% RH) placed in high humidity has low humidity (20% RH)
Then, the exposure time is changed while the exposure time is changed. The one exposed immediately does not shrink the photosensitive material, and the photosensitive material shrinks sufficiently after being left for a long time (1 hour). The humidity dimensional stability is evaluated by measuring the distance between the exposure points of these two sensitive materials. (Exposure of photosensitive material) A photosensitive material cut into a width of 25.5 cm is
After adjusting the humidity to 25 ° C. and 60% RH, the magazine was loaded. The first plate was exposed immediately after being set on a scanner-exposure machine (Magnaset 350: manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) installed in a constant environment of 25 ° C. and 20% RH. For the exposure, a square of 0.5 mm was exposed on the four corners of the film (width direction: 250 mm intervals, longitudinal direction interval: 600 mm). After 1 hour, the second plate was exposed in the same manner. (Development of photosensitive material) Fuji Photo Film SR-D1 and SR-F1 were used as a developing solution and a fixing solution, and the temperature was 38 ° C. 2 with an automatic processor FG-660F (Fuji Photo Film).
A 0 second development process was performed.

【0076】感材の寸法評価 現像後の感材を25℃60%RHの一定環境下で、第1
版と第2版の正方形(A:最初の露光した点)を基準点
として重ね合わせた後、下記のように他の3つの正方形
どうしのズレた距離を測長した。 (1) B点(幅方向のズレを示す):正方形Aの幅方向2
50mmに露光した正方形をB点とする。第1版と第2
版のB点の正方形の幅方向のズレを測定する。 (2) C点(長さ方向のズレを示す):正方形Aの長さ方
向600mmに露光した正方形をC点とする。第1版と
第2版のC点の正方形の長手方向のズレを測定する。 (3) D点(幅方向、長手方向のズレを示す):正方形A
の対角線方向に露光した正方形をD点とする。第1版と
第2版の正方形の長手方向のズレ:Dl 、幅方向のズ
レ:Dw を測定する。
Dimensional evaluation of the photosensitive material The developed photosensitive material was subjected to the first test in a constant environment of 25 ° C. and 60% RH.
After the squares of the plate and the second plate (A: the first exposed point) were overlapped with each other as a reference point, the distance between the other three squares was measured as follows. (1) Point B (indicating deviation in width direction): Width direction 2 of square A
The square exposed at 50 mm is designated as point B. First Edition and Second Edition
The shift in the width direction of the square at point B on the plate is measured. (2) Point C (indicating a deviation in the length direction): The square exposed in the length A of the square A is defined as the point C. The shift in the longitudinal direction of the squares at point C of the first and second editions is measured. (3) Point D (indicating deviations in the width and length directions): Square A
The square exposed in the diagonal direction is defined as point D. The deviation in the longitudinal direction: Dl and the deviation in the width direction: Dw of the squares of the first and second plates are measured.

【0077】(5-2) 画像ボケの評価 感材の平面性が悪いと、上に重ね合わせた原稿フイルム
との間に隙間ができる。この隙間が画像ボケを引き起こ
す。網点の密度が高いところで露光すると、画像ボケに
より網点どうしがくっつくため、肉眼で確認できる。 (露光)網点画像が10%の平網原稿フイルムを用いて
密着露光用プリンタ−で原稿フイルム(35cm×40
cm)とサンプルフイルムを合わせて真空密着露光し
た。これを1水準につき10枚のフイルムについて実施
した。 (現像)上記寸法評価の項と同様に行った。 (評価)網点画像のくっつきの発生している箇所を10
枚のフイルムに対して目視で計測した。
(5-2) Evaluation of Image Blur When the flatness of the photosensitive material is poor, a gap is formed between the original film and the original film superimposed on it. This gap causes image blur. When exposure is performed at a high density of halftone dots, the halftone dots stick to each other due to image blurring, which can be visually confirmed. (Exposure) An original film (35 cm x 40 cm) was used with a contact exposure printer using a halftone original film having a halftone dot image of 10%.
cm) and the sample film were combined and subjected to vacuum contact exposure. This was done for 10 films per level. (Development) The development was performed in the same manner as in the above-mentioned item of dimension evaluation. (Evaluation) 10 points where the dots in the halftone image are stuck
The film was visually measured for each film.

【0078】(5-3) 密着性の評価 乳剤面に5mm間隔で剃刀で碁盤目状に切れ込みを入れ
た後、粘着テ−プを張り付け180度方向にすばやくひ
きはがし、密着レベルを評価した。剥離した面積が、5
%以下のものをA、5%を越え10%以下のものをB、
10%を越えるものをCとした。許容されるのはAとB
である。以上の結果を下記第2表に示す。
(5-3) Evaluation of Adhesiveness After making cuts in a grid pattern on the emulsion surface with a razor at 5 mm intervals, an adhesive tape was attached and quickly peeled in the direction of 180 ° to evaluate the adhesion level. The peeled area is 5
% Or less A, 5% to 10% or less B,
A value exceeding 10% was designated as C. A and B are allowed
Is. The above results are shown in Table 2 below.

【0079】[0079]

【表2】 第2表 ──────────────────────────────────── 支持体 層間の 重ね焼き時の寸法ズレ 番号 密着性 幅方向B 幅方向D 長手方法C 長手方向D 画像ボケ ──────────────────────────────────── 1−1 A 20μm 25μm 42μm 49μm 0 1−2 A 150μm 185μm 300μm 350μm 36 1−3 A 45μm 50μm 82μm 91μm 0 1−4 B 16μm 20μm 30μm 35μm 0 1−5 C 15μm 21μm 32μm 34μm 0 1−6 A 40μm 42μm 82μm 90μm 0 1−7 A 85μm 90μm 175μm 190μm 8 1−8 A 45μm 48μm 90μm 96μm 0 1−9 A 32μm 35μm 62μm 72μm 0 1−10 A 38μm 39μm 82μm 86μm 0 1−11 A 48μm 50μm 88μm 90μm 0 1−12 A 22μm 27μm 46μm 52μm 0 1−13 A 165μm 190μm 335μm 375μm 42 1−14 A 48μm 52μm 85μm 90μm 0 1−15 B 19μm 23μm 33μm 38μm 0 1−16 C 18μm 22μm 35μm 36μm 0 1−17 A 41μm 44μm 83μm 92μm 0 1−18 A 88μm 92μm 117μm 195μm 0 1−19 A 47μm 49μm 95μm 99μm 0 1−20 A 34μm 37μm 64μm 74μm 0 1−21 A 39μm 42μm 85μm 88μm 0 1−22 A 47μm 52μm 89μm 10μm 0 1−23 A 20μm 24μm 44μm 48μm 0 1−24 A 65μm 69μm 125μm 150μm 0 ────────────────────────────────────[Table 2] Table 2 ──────────────────────────────────── Supports When layers are layered Dimensional deviation number Adhesion Width direction B Width direction D Longitudinal method C Longitudinal direction D Image blur ────────────────────────────── ────── 1-1 A 20μm 25μm 42μm 49μm 0 1-2 A 150μm 185μm 300μm 350μm 36 1-3 A 45μm 50μm 82μm 91μm 0 1-4 B 16μm 20μm 30μm 35μm 0 1-5 C 15μm 21μm 32μm 34μm 0 1-6 A 40 μm 42 μm 82 μm 90 μm 0 1-7 A 85 μm 90 μm 175 μm 190 μm 8 1-8 A 45 μm 48 μm 90 μm 96 μm 0 1-9 A 32 μm 35 μm 62 μm 1 72 μm 1- 0 A 38 [mu] m 39 [mu] m 82 [mu] m 86 [mu] m 0 1-11 A 48 [mu] m 50 [mu] m 88 [mu] m 90 [mu] m 0 1-12 A 22 [mu] m 27 [mu] m 46 [mu] m [mu] m [mu] m [mu] m 85 [mu] m 90 [mu] m 90 [mu] m 48 [mu] m 15 [mu] m 48 [mu] m 48 [mu] m 45 [mu] m 42 [mu] m 42 [mu] m [] 38 μm 0 1-16 C 18 μm 22 μm 35 μm 36 μm 0 1-17 A 41 μm 44 μm 83 μm 92 μm 0 1-18 A 88 μm 92 μm 117 μm 195 μm 0 μm 21 μm 21 μm 1 μm 19 μm 20 μm 1 μm 19 μm 20 μm 0 A 39 μm 42 μm 85 μm 88 μm 0 1-22 A 47 μm 52 μm 89 μm 10 μm 0 1-23 A 20 μm 24 μm 44 μm 48 μm 0 1-24 A 65 μm 69 μm 125 μm 150 μm 0 ─ ──────────────────────────────────

【0080】(6)結果 本発明を実施した水準は比較例のPET(水準1−2
4)に比べて、重ね合わせを行ってもズレが極めて小さ
く良好な値を示した。さらに、重ね焼きしても画像のボ
ケに伴う網点のくっつきも発生せず良好な結果が得られ
た。一方本発明の範囲を越えた温度、パスロ−ル間長さ
で乾燥したものは、寸法ズレや画像のボケが発生した。
また本発明の乾燥温度を下回った条件では、乳剤の密着
不良が発生した。さらに、パスロ−ルとの接触している
長さの最大値、張力を本発明の範囲内で実施すること
で、さらに重ね焼き時の寸法ズレを改良できる。
(6) Results PET of the comparative example (Level 1-2) was used for carrying out the present invention.
Compared to 4), the deviation was extremely small and a good value was exhibited even after the superposition. Furthermore, even when overprinted, good results were obtained without the occurrence of halftone dot sticking accompanying image blurring. On the other hand, when dried at a temperature exceeding the range of the present invention and a length between pass rolls, dimensional deviation and image blur occurred.
Under the drying temperature of the present invention, poor adhesion of the emulsion occurred. Furthermore, by implementing the maximum value of the length in contact with the pass roll and the tension within the range of the present invention, it is possible to further improve the dimensional deviation during repeated baking.

【0081】[実施例2] (1)ポリマーの重合 実施例1に記載のシンジオタクティック構造を有するス
チレン系重合体、SPS−1、2および3(p−メチル
スチレン含率はそれぞれ5、0および10wt%)を得
た。これに第3表に示した微粒子を添加した。 (2)支持体の製膜 SPS−1,2,3を150℃にて減圧、乾燥後130
℃の熱風中攪拌しながら結晶化させた。このペレットを
この結晶化ペレット中のモノマー含有量は1,100〜
900ppmであった。この後、SPS−1、SPS−
2はベント付単軸押出機を用いて300℃で混練押し出
しを行った。またSPS−2とSPS−3をそれぞれの
混合比が2/1になるようにベント付2軸押出機を用い
て300℃で混練押し出した。これらを焼結金属フィル
タ−を通した後、320℃に加熱したT−ダイから押出
した。この溶融状態のシートを静電印加法を用いて、2
軸延伸、熱固定後の厚みが表2に示した値になるように
キャスティングを行った。このようにして得られた透明
なシートの結晶化度は9%であった。これを周速の異な
る2つのロ−ルの間を通過させ縦方向に延伸した。支持
体の加熱は赤外線ヒ−タを用い、これと周速の速い方の
ロ−ル(B−ロ−ル)の間の距離を表2に示した値とし
た。延伸温度は120℃、延伸倍率は第3表に示した。
これを125℃で30秒予熱した後、125℃下で第3
表に示した倍率で横延伸を行った。ただし、2−14の
み横延伸後、縦方向に130℃で1.3倍再延伸した。
この後、下記第3表に示した温度で30秒熱固定を実施
した。この時、第3表に示した量だけ幅方向に緩和させ
た。
Example 2 (1) Polymerization of Polymer Styrene-based polymers having the syndiotactic structure described in Example 1, SPS-1, 2 and 3 (p-methylstyrene content of 5, 0 respectively) And 10 wt%) were obtained. To this, the fine particles shown in Table 3 were added. (2) Film formation of support SPS-1, 2 and 3 were decompressed at 150 ° C. and dried to 130
Crystallization was carried out while stirring in hot air at ℃. The content of the monomer in the crystallized pellet is 1,100 to
It was 900 ppm. After this, SPS-1, SPS-
No. 2 was kneaded and extruded at 300 ° C. using a vented single-screw extruder. Further, SPS-2 and SPS-3 were kneaded and extruded at 300 ° C. using a twin-screw extruder with a vent so that the mixing ratio of each was 2/1. These were passed through a sintered metal filter and then extruded from a T-die heated to 320 ° C. This fused sheet is used to
Casting was performed so that the thickness after axial stretching and heat setting would be the values shown in Table 2. The crystallinity of the transparent sheet thus obtained was 9%. This was passed between two rolls having different peripheral speeds and stretched in the longitudinal direction. An infrared heater was used to heat the support, and the distance between this and the roll with the higher peripheral speed (B-roll) was set to the value shown in Table 2. The stretching temperature is 120 ° C. and the stretching ratio is shown in Table 3.
Preheat this at 125 ℃ for 30 seconds,
The transverse stretching was performed at the magnification shown in the table. However, only 2-14 was transversely stretched and then re-stretched 1.3 times in the longitudinal direction at 130 ° C.
After that, heat setting was carried out for 30 seconds at the temperature shown in Table 3 below. At this time, the width was relaxed by the amount shown in Table 3.

【0082】[0082]

【表3】 第3表 ──────────────────────────────────── 支持体 ポリマー 厚さ 添加微粒子 縦延伸 横延伸 熱固定 番号 (μm) 粒径 量 距離 倍率 倍率 温度 緩和率 ──────────────────────────────────── 2−1 SPS-1 175 0.2 60 28 3.7 4.0 230 8 2−2 SPS-1 175 0.2 60 28 4.3 4.4 230 8 2−3 SPS-1 175 0.2 60 28 2.7 2.7 230 8 2−4 SPS-1 175 0.2 60 60 2.8 2.9 230 8 2−5 SPS-1 175 0.2 60 60 3.7 4.0 230 8 2−6 SPS-1 175 なし − 28 3.7 4.0 230 8 2−7 SPS-2+3 175 5.1 350 28 3.7 4.0 230 8 2−8 SPS-2 175 0.2 60 28 3.7 4.0 230 8 2−9 SPS-1 175 0.2 60 28 3.7 4.0 230 8 2−10 SPS-1 175 0.2 60 28 3.7 4.0 230 8 2−11 SPS-1 85 0.2 60 28 3.7 4.0 230 8 2−12 SPS-1 100 0.2 60 28 3.7 4.0 230 8 2−13 SPS-1 175 0.2 60 28 3.7 4.0 260 0 2−14 SPS-1 175 0.2 60 28 3.7×1.3 4.0 260 0 ──────────────────────────────────── (註) 添加粒子の平均粒径:μm 添加粒子の量:ppm 縦延伸間距離:cm 熱固定温度:℃ 熱固定緩和率:%[Table 3] Table 3 ──────────────────────────────────── Support Polymer Polymer Thickness- added fine particles Longitudinal stretching Horizontal stretching Heat set number (μm) Particle size Amount Distance Magnification Magnification Temperature relaxation rate ─────────────────────────────── ───── 2-1 SPS-1 175 0.2 60 28 3.7 4.0 8.0 230 8 2-2 SPS-1 175 0.2 60 28 4.3 4.3 4.4 230 8 2-3 SPS- 1 175 0.2 60 60 28 2.7 2.7 230 8 2-4 SPS-1 175 0.2 60 60 2.8 2.9 230 8 2-5 SPS-1 175 0.2 60 60 3.7 4.0 230 8 2-6 SPS-1 175 None-28 3.7 4.0 230 230 2-7 SPS-2 + 3 175 5.1 350 28 3.7 4.0 230 8 8 2-8 SPS- 2 175 0.2 60 28 3.7 4.0 4.0 230 8 2-9 SPS-1 175 0.2 60 28 3.7 4.0 230 230 8 2-10 SPS-1 175 0.2 60 28 2.7 3.7 4. 0 230 8 2-11 SPS-1 85 0.2 60 28 3.7 4.0 4.0 230 8 2-12 SPS-1 100 0.2 60 28 3.7 4.0 230 230 8 2-13 SPS-1 175 0.2 60 28 3.7 4.0 4.0 260 0-14 SPS-1 175 0.2 60 28 3.7 x 1.3 4.0 260 0 ────────────────── ─────────────────── (Note) Average particle size of added particles: μm Amount of added particles: ppm Distance between longitudinal stretching: cm Heat setting temperature: ° C Heat setting relaxation rate:%

【0083】このようにして得た2軸延伸SPS支持体
に対し、110℃での熱収縮およびヤング率、熱流速の
差、ヘーズを測定した。またこれらの支持体の25℃、
60%RHから25℃、20%RHへの湿度寸法変化から湿
度寸法変化率を求めたが、本発明の支持体はいずれも
0.5〜1.5×10-6/%RH の良好な値を示した。 (2) 110℃でのヤング率 恒温層を有する引っ張り試験機を用い、110℃下、引
っ張り速度500mm/分、チャック間距離100m
m、サンプル幅10mmで測定する。これを幅方向等間
隔5点、長手方向30cm毎5点(幅中央で測定)の1
0点でそれぞれ長手方向、幅方向の値を測定。それぞれ
各10点の平均値を求めた。また、面内偏差は、長手方
向10点、幅方向10点、合計20点の最大値と最小値
を用い、面内偏差(%)=100×{( 最大値) −( 最
小値) }/( 最大値) (%)として求めた。
With respect to the biaxially stretched SPS support thus obtained, the heat shrinkage at 110 ° C., Young's modulus, difference in heat flow rate, and haze were measured. Also, at 25 ° C of these supports,
The rate of dimensional change in humidity was determined from the dimensional change in humidity from 60% RH to 25 ° C. and 20% RH. In all of the supports of the present invention, a good value of 0.5 to 1.5 × 10 −6 /% RH was obtained. Showed the value. (2) Young's modulus at 110 ° C. Using a tensile tester having a constant temperature layer, at 110 ° C., pulling speed 500 mm / min, chuck distance 100 m
m, sample width 10 mm. 5 points at equal intervals in the width direction and 5 points every 30 cm in the longitudinal direction (measured at the width center)
Measure the values in the longitudinal and width directions at 0 points respectively. The average value of each 10 points was obtained. For the in-plane deviation, the maximum value and the minimum value of 10 points in the longitudinal direction, 10 points in the width direction, and 20 points in total are used, and the in-plane deviation (%) = 100 × {(maximum value) − (minimum value)} / It was calculated as (maximum value) (%).

【0084】(3) 熱寸法変化 25cm×5cmにサンプリングした後、20cm間隔
で孔をあけ、ピンゲ−ジを用い25℃下で測長する。
(これをL1 とする)この後110℃で、無張力下、1
0分間放置する。これを25℃下に3時間以上放置した
あと再びピンゲ−ジで測長する。(これをL2 )とす
る。100 ×(L2 −L1 )/L1(%)の絶対値を熱寸法変
化率とする。これを幅方向等間隔5点、長手方向30c
m毎5点(幅中央で測定)の10点でそれぞれ長手方
向、幅方向の値を測定。それぞれ各10点の平均値を求
めた。また、面内偏レンジは、長手方向10点、幅方向
10点、合計20点の最大値と最小値を用い、面内レン
ジ(%)={( 最大値) −( 最小値) }として求めた。 (4) 熱流速の差 示差熱分析計(DSC)を用いて測定する。フイルムサ
ンプル5mg〜10mgを精秤し、これをパンの中に入
れた後、窒素気流下で20℃/分で昇温しながら測定
し、90℃における熱流速と115℃における熱流速の
差を求める。 (5) 表面粗さ(Ra) 小坂研究所製表面粗さ測定器(SE−3FK)を用い、
触針の先端半径は2μm、荷重は30mg、測定長さは
2.5mm、カットオフは80μmで測定し、測定値を
μmで表す。以上の結果を第4表に示す。
(3) Thermal dimensional change: After sampling at 25 cm × 5 cm, holes are made at 20 cm intervals, and the length is measured at 25 ° C. using a pin gauge.
(This is designated as L1) After this, at 110 ° C, without tension, 1
Leave for 0 minutes. After leaving this at 25 ° C. for 3 hours or more, the length is measured again with a pin gauge. (This is L2). The absolute value of 100 x (L2-L1) / L1 (%) is defined as the thermal dimensional change rate. 5 points at equal intervals in the width direction, 30c in the longitudinal direction
The values in the longitudinal direction and the width direction are measured at 10 points of 5 points per m (measured at the center of the width). The average value of each 10 points was obtained. The in-plane deviation range is calculated as in-plane range (%) = {(maximum value)-(minimum value)} using the maximum and minimum values of 20 points in the longitudinal direction and 10 points in the width direction, totaling 20 points. It was (4) Difference in heat flow rate Measure with a differential thermal analyzer (DSC). A film sample of 5 mg to 10 mg was precisely weighed, put in a pan, and then measured under a nitrogen stream while raising the temperature at 20 ° C./min. The difference between the heat flow rate at 90 ° C. and the heat flow rate at 115 ° C. Ask. (5) Surface roughness (Ra) Using a surface roughness measuring instrument (SE-3FK) manufactured by Kosaka Laboratory,
The tip radius of the stylus is 2 μm, the load is 30 mg, the measurement length is 2.5 mm, the cutoff is 80 μm, and the measured value is expressed in μm. The above results are shown in Table 4.

【0085】[0085]

【表4】 第4表 ──────────────────────────────────── 支持体 110℃ヤング率 110℃熱収縮 熱流速 ヘーズ 番号 LD TD 偏差 LD TD レンジ の差 (%) ──────────────────────────────────── 2−1 190 160 18 0.3 0.4 0.1 0.049 0.4 2−2 330 310 7 0.9 1.4 0.5 0.018 5.9 2−3 41 45 12 0.2 0.3 0.2 0.059 2.2 2−4 52 54 11 0.3 0.4 0.2 0.072 2.1 2−5 180 130 32 0.2 0.7 0.9 0.055 0.7 2−6 200 170 16 0.2 0.3 0.2 0.045 0.1 2−7 240 190 17 0.3 0.2 0.2 0.042 2.6 2−8 150 130 14 0.3 0.7 0.5 0.042 0.7 2−9 210 150 32 0.3 0.7 0.1 0.037 1.8 2−10 190 160 18 0.3 0.4 0.2 0.049 0.4 2−11 180 160 11 0.3 0.4 0.1 0.046 0.2 2−12 185 160 9 0.3 0.3 0.3 0.048 0.3 2−13 200 180 15 0.7 0.7 0.7 0.052 3.4 2−14 230 200 19 0.9 0.5 0.5 0.035 3.4 ──────────────────────────────────── (註) ヤング率:kg/mm2 ヤング率の面内偏差:% 熱収縮およびその面内レンジ:% 熱流速の差:W/g ヘーズ:% [Table 4] Table 4 ──────────────────────────────────── Support 110 ° C Young's modulus 110 ℃ Heat shrinkage heat flow rate Haze number LD TD deviation LD TD Range difference (%) ────────────────────────────────── ──── 2-1 190 160 18 0.3 0.4 0.4 0.1 0.049 0.4 2-2 330 310 7 0.9 1.4 0.5 0.018 5.9 2-3 41 45 12 0.2 0.3 0.3 0.2 0.059 2.2 2-4 52 54 11 0.3 0.4 0.4 0.2 0.072 2.1 2-5 180 130 130 32 0.2 0.7 0.9 0.055 0.7 2-6 200 170 16 0.2 0.3 0.2 0.045 0.1 2-7 240 190 17 0.3 0.2 0.2 0.2. 042 2.6 2-8 150 130 14 0.3 0.7 0.7 0.5 0.042 0.7 2-9 210 150 150 32 0.3 0.7 0.1 0.037 1.8 2-10 190 160 18 0.3 0.4 0.4 0.049 0.4 2-11 180 160 11 0.3 0.4 0.1 0.046 0.2 2-12 185 160 9 0.3 0.3 0.3 0.048 0.3 2-13 200 200 180 15 0.7 0.7 0.7 0.7 0.052 3.4 2-14 230 200 19 0.9 0.9 0.5 0.5 0.035 3. 4 ──────────────────────────────────── (Note) Young's modulus: kg / mm 2 Young's modulus In-plane deviation:% Heat shrinkage and its in-plane range:% Heat flow rate difference: W / g Haze:%

【0086】(3)支持体の表面処理 これらの支持体の両面に実施例1に記載のグロー放電処
理を施こした。 (4)支持体の下塗り グロー放電処理をした支持体の両面に実施例1に記載の
下塗りを塗設した。この塗布液をワイヤーバーを用いて
10ml/m2 塗布した。この後、乾燥温度110℃、
乾燥ゾ−ンのパスロ−ル間最大長2m、支持体のパスロ
−ル最大接触長15cm、張力12kg/mで5分間乾
燥した。この後、波打ち高さを上述の方法に従って評価
した。さらに下塗り後の平面性(筋張り故障、ブツ故
障)を実施例1と同様に評価した。結果を第5表に示
す。
(3) Surface Treatment of Supports These supports were subjected to the glow discharge treatment described in Example 1 on both sides. (4) Undercoat of support The undercoat described in Example 1 was applied on both sides of the support subjected to glow discharge treatment. This coating solution was applied at 10 ml / m 2 using a wire bar. After this, the drying temperature is 110 ° C,
The drying zone was dried for 5 minutes at a maximum length between path rolls of 2 m, a maximum support roller contact length of 15 cm, and a tension of 12 kg / m. After this, the waviness height was evaluated according to the method described above. Further, the flatness after undercoating (strength failure, spot failure) was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 5.

【0087】(5)写真感材の作成 下塗り後の支持体に対し、下記2種類のバック層、感光
層を塗設した。 (イ)バック層/感光層=イ(第5表の記号) 2−10以外の全試料に対し、下記バック層、感光層を
塗設した。 (1) バック層の塗設 支持体の一方の側に支持体から近い順に下記処方の導電
層及びバック層をスライドコーターを用いて同時に塗布
した。 ──────────────────────────────────── (1-1) 導電層 ──────────────────────────────────── ゼラチン(Ca2+含有量:3000ppm) 100mg/m2 化合物−A 1mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 11mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 SnO2 /Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μm) 200mg/m2 ────────────────────────────────────
(5) Preparation of photographic light-sensitive material The following two types of back layers and photosensitive layers were coated on the support after undercoating. (A) Back layer / photosensitive layer = a (symbol in Table 5) The following back layer and photosensitive layer were coated on all the samples except 2-10. (1) Coating of Back Layer A conductive layer having the following formulation and a back layer were simultaneously coated on one side of the support in the order of being closer to the support using a slide coater. ──────────────────────────────────── (1-1) Conductive layer ─────── ───────────────────────────── Gelatin (Ca 2+ content: 3000ppm) 100mg / m 2 Compound-A 1mg / m 2 Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium 11 mg / m 2 Sodium dodecylbenzenesulfonate 15 mg / m 2 Sodium polystyrene sulfonate 10 mg / m 2 SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, average particle size 0.25 μm) 200 mg / m 2 ────────────────────────────────────

【0088】 ──────────────────────────────────── (1-2) バック層 ──────────────────────────────────── ゼラチン(Ca2+含有量:30ppm) 1.5g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μm) 20mg/m2 化合物−A 4mg/m2 染料− 60mg/m2 染料− 40mg/m2 染料− 32mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 20mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 80mg/m2 酢酸 7mg/m2 硫酸ナトリウム 200mg/m2 化合物−C 8mg/m2 化合物−D 9mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 16mg/m2 1,3−ビス(ビニルスルホニル)−プロパノール−2 ゼラチンの1.8wt% ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── (1-2) Back layer ──── ──────────────────────────────── Gelatin (Ca 2+ content: 30ppm) 1.5g / m 2 Polymethyl Methacrylate fine particles (average particle size 3.4 μm) 20 mg / m 2 compound-A 4 mg / m 2 dye-60 mg / m 2 dye-40 mg / m 2 dye-32 mg / m 2 dihexyl-α-sulfosuccinate sodium 20 mg / m 2 Sodium dodecylbenzene sulfonate 80 mg / m 2 Acetic acid 7 mg / m 2 Sodium sulfate 200 mg / m 2 Compound-C 8 mg / m 2 Compound-D 9 mg / m 2 Sodium polystyrene sulfonate 16 mg / m 2 1,3-bis (vinyl Sulfonyl) -propanol-2 1.8 wt% of gelatin ───────────────── ───────────────────

【0089】[0089]

【化6】 [Chemical 6]

【0090】(2) 感光層の塗設 ついで、もう一方の面に支持体から近い順に非感光性
層、乳剤層、保護層をスライドコーターを用いて同時に
塗設して乾燥した。 ──────────────────────────────────── (2-1) 非感光層 ──────────────────────────────────── ゼラチン 1.0g/m2 化合物−A 2mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 7mg/m2 1,3−ビス(ビニルスルホニル)−プロパノール−2 15mg/m2 ポリエチルアクリレートラテックス(粒径0.05μm) 600mg/m2 ────────────────────────────────────
(2) Coating of photosensitive layer Next, a non-photosensitive layer, an emulsion layer and a protective layer were simultaneously coated on the other surface in the order of being closer to the support using a slide coater and dried. ──────────────────────────────────── (2-1) Non-photosensitive layer ────── ────────────────────────────── Gelatin 1.0 g / m 2 Compound-A 2 mg / m 2 Sodium polystyrene sulfonate 15 mg / m 2 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine 7 mg / m 2 1,3-bis (vinylsulfonyl) -propanol-2 15 mg / m 2 polyethyl acrylate latex (particle size 0.05 μm) 600 mg / m 2 ────────────────────────────────────

【0091】(2-2) 乳剤層 Ag 1モル当り3.5×10-7モルのロジウムを含
む、臭化銀30モル%、塩化銀70モル%のハロゲン化
銀乳剤を当業界でよく知られた常法で調製し、可溶性塩
類を除去した後、ゼラチンを加えた。この乳剤にAg
1モル当りチオ硫酸ナトリウム6mg、塩化金酸8.5mg
加え、60℃50分間の化学増感を行った。得られた乳
剤の平均粒子サイズは0.25μの立方体粒子で乳剤1
kg当りのAgは125g、ゼラチンは53gであった。
この乳剤にオルソ増感色素として、1−(2−ヒドロキ
シエトキシエチル)−3−(ピリジン−2−イル)−5
−〔(3−スルホブチル−5−クロロ−2−ベンゾオキ
サゾリニデン)エチリデン〕−2−チオヒダントインカ
リウム塩11mg/m2を加え、さらにα−リボ酸7mg/
m2、ハイドロキノン27mg/m2、化合物−3mg/m2
1−フェニル−5−メルカプト−テトラゾール1mg/
m2、化合物−1mg/m2、化合物−6mg/m2、化合物
−4mg/m2、化合物−2mg/m2、安定剤として6−
メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザ
インデン8mg/m2、硬膜剤として、1,3−ビス(ビニ
ルスルホニル)−プロパノール−2 40mg/m2を加
え、さらにエチルアクリレートラテックス(平均粒子サ
イズ0.05μm)900mg/m2、増粘剤としてポリス
チレンスルホン酸ナトリウム塩40mg/m2を加えた。こ
の塗布液を銀量3.5g/m2、ゼラチン1.6g/m2
なる様に塗布した。
(2-2) Emulsion Layer A silver halide emulsion containing 30 mol% of silver bromide and 70 mol% of silver chloride containing 3.5 × 10 −7 mol of rhodium per 1 mol of Ag is well known in the art. Prepared by the usual method, and after removing soluble salts, gelatin was added. Ag in this emulsion
Sodium thiosulfate 6 mg, chloroauric acid 8.5 mg per mole
In addition, chemical sensitization was performed at 60 ° C. for 50 minutes. The average grain size of the resulting emulsion was 0.25μ cubic grains and emulsion 1
The amount of Ag per kg was 125 g and the amount of gelatin was 53 g.
1- (2-hydroxyethoxyethyl) -3- (pyridin-2-yl) -5 was added to this emulsion as an ortho sensitizing dye.
-[(3-Sulfobutyl-5-chloro-2-benzoxazolinidene) ethylidene] -2-thiohydantoin potassium salt 11 mg / m 2 was added, and α-riboic acid 7 mg /
m 2 , hydroquinone 27 mg / m 2 , compound-3 mg / m 2 ,
1-phenyl-5-mercapto-tetrazole 1 mg /
m 2 , compound-1 mg / m 2 , compound-6 mg / m 2 , compound-4 mg / m 2 , compound- 2 mg / m 2 , 6-as stabilizer
Methyl-4-hydroxy-1,3,3a, 7-tetrazaindene 8 mg / m 2 , and as a hardening agent 1,3-bis (vinylsulfonyl) -propanol-2 40 mg / m 2 were added, and ethyl acrylate was further added. 900 mg / m 2 of latex (average particle size 0.05 μm) and 40 mg / m 2 of polystyrenesulfonic acid sodium salt as a thickener were added. This coating solution was applied so that the amount of silver was 3.5 g / m 2 and the amount of gelatin was 1.6 g / m 2 .

【0092】[0092]

【化7】 [Chemical 7]

【0093】 ──────────────────────────────────── (2-3) 保護層処方 ──────────────────────────────────── ゼラチン 1.0g/m2 ポリメチルメタアクリレート微粒子(平均粒径2.5μm) 40mg/m2 化合物−B 50mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 8mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 18mg/m2 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── (2-3) Protective Layer Prescription ─── ───────────────────────────────── Gelatin 1.0 g / m 2 Polymethylmethacrylate fine particles (average particle size 2 .5 μm) 40 mg / m 2 compound-B 50 mg / m 2 sodium dodecylbenzene sulfonate 40 mg / m 2 sodium polystyrene sulfonate 8 mg / m 2 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine 18 mg / m 2 ── ───────────────────────────────────

【0094】[0094]

【化8】 Embedded image

【0095】(ロ)バック層/感光層=ロ(第5表に記
載の記号) 試料番号2−10に対し、下記バック層、感光層を塗設
した。 (1) バック層の塗設 支持体の一方の側に支持体から近い順に下記処方の導電
層及びバック層をスライドコーターを用いて同時に塗布
し、40℃で5分間乾燥した。 ──────────────────────────────────── (1-1) 導電層 ──────────────────────────────────── SnO2 /Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μm) 200mg/m2 ゼラチン(Ca2+含有量:3000ppm) 77mg/m2 化合物−11 7mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナ−トナトリウム 40mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9mg/m2 ────────────────────────────────────
(B) Back layer / photosensitive layer = b (symbol described in Table 5) Sample No. 2-10 was coated with the following back layer and photosensitive layer. (1) Coating of back layer A conductive layer having the following formulation and a back layer were simultaneously coated on one side of the support in the order of proximity from the support using a slide coater, and dried at 40 ° C for 5 minutes. ──────────────────────────────────── (1-1) Conductive layer ─────── ───────────────────────────── SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, average particle size 0.25 μm) 200 mg / m 2 Gelatin (Ca 2+ content: 3000 ppm) 77 mg / m 2 compound-11 7 mg / m 2 sodium dodecylbenzenesulfonate 10 mg / m 2 dihexyl-α-sulfosuccinate sodium 40 mg / m 2 sodium polystyrenesulfonate 9 mg / m 2 ────────────────────────────────────

【0096】 ──────────────────────────────────── (2) バック層 ──────────────────────────────────── ゼラチン(Ca2+含有量:30ppm) 3.6g/m2 化合物−11 3mg/m2 ポリメチルメタクリレ−ト微粒子(平均粒径3.4μm) 50mg/m2 化合物−12 40mg/m2 化合物−13 40mg/m2 化合物−14 80mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 75mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナ−トナトリウム 20mg/m2 化合物−15 5mg/m2 N−パ−フルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグリシンポタジウム 7mg/m2 硫酸ナトリウム 50mg/m2 酢酸ナトリウム 85mg/m2 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン 150mg/m2 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── (2) Back layer ────── ────────────────────────────── Gelatin (Ca 2+ content: 30 ppm) 3.6 g / m 2 Compound-11 3 mg / M 2 Polymethylmethacrylate fine particles (average particle size 3.4 μm) 50 mg / m 2 compound-12 40 mg / m 2 compound-13 40 mg / m 2 compound-14 80 mg / m 2 sodium dodecylbenzenesulfonate 75 mg / m 2 Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium 20 mg / m 2 compound-15 5 mg / m 2 N-para-fluorooctanesulfonyl-N-propylglycine potassium 7 mg / m 2 sodium sulfate 50 mg / m 2 sodium acetate 85 mg / m 2 1,2-bis Vinylsulfonyl acetamide) ethane 150mg / m 2 ────────────────────────────────────

【0097】[0097]

【化9】 [Chemical 9]

【0098】(2) 感光層の塗設 次いで、支持体の反対側の面に、下記組成の乳剤層、保
護層下層、保護層上層を同時に塗布した。 (2-1) 乳剤層 ──────────────────────────────────── I液 ──────────────────────────────────── 水 1000ml ゼラチン 20g 塩化ナトリウム 20g 1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−チオン 20g ベンゼンスルホン酸ナトリウム 6mg ────────────────────────────────────
(2) Coating of photosensitive layer Next, an emulsion layer having the following composition, a protective layer lower layer and a protective layer upper layer were simultaneously coated on the opposite surface of the support. (2-1) Emulsion layer ──────────────────────────────────── Solution I ───── ──────────────────────────────── Water 1000ml Gelatin 20g Sodium chloride 20g 1,3-Dimethylimidazolidin-2-thione 20g Sodium benzenesulfonate 6mg ────────────────────────────────────

【0099】 ──────────────────────────────────── II液 水 400ml 硝酸銀 100g ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── II liquid water 400 ml silver nitrate 100 g ───── ───────────────────────────────

【0100】 ──────────────────────────────────── III 液 ──────────────────────────────────── 水 400ml 塩化ナトリウム 30.5g 臭化カリウム 14g ヘキサクロロイリジウム(III )酸カリウム(0.001%水溶液) 15ml ヘキサブロモジウム(III )酸アンモニウム(0.001%水溶液) 1.5ml ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── III liquid ────────── ─────────────────────────── Water 400 ml Sodium chloride 30.5 g Potassium bromide 14 g Potassium hexachloroiridium (III) (0.001% Aqueous solution) 15 ml Ammonium hexabromodium (III) (0.001% aqueous solution) 1.5 ml ────────────────────────────── ───────

【0101】38℃、pH=4.5に保たれたI液にII
液とIII 液を撹拌しながら同時に10分間にわたって加
え、0.16μmの微粒子を形成した。続いて下記IV
液、V液を10分間にわたって加えた。さらにヨウ化カ
リウム0.15gを加え粒子形成を終了した。 ──────────────────────────────────── IV液 ──────────────────────────────────── 水 400ml 硝酸銀 100g ────────────────────────────────────
II solution in solution I kept at 38 ° C. and pH = 4.5
The liquid and the liquid III were added simultaneously with stirring for 10 minutes to form fine particles of 0.16 μm. Then IV below
Solution and Solution V were added over 10 minutes. Further, 0.15 g of potassium iodide was added to complete grain formation. ──────────────────────────────────── IV liquid ──────────── ──────────────────────── Water 400ml Silver nitrate 100g ────────────────────── ──────────────

【0102】 ──────────────────────────────────── V液 ──────────────────────────────────── 水 400ml 塩化ナトリウム 30.5g 臭化カリウム 14g K4 Fe(CN)6 1×10-5モル/モルAg ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── V liquid ───────── ─────────────────────────── Water 400 ml Sodium chloride 30.5 g Potassium bromide 14 g K 4 Fe (CN) 6 1 × 10 -5 Mol / mol Ag ────────────────────────────────────

【0103】その後常法に従って、フロキュレ−ション
法によって、水洗し、ゼラチン40gを加えた。この乳
剤を、pH=5.3、pAg=7.5に調節し、チオ硫
酸ナトリウム5.2mg,塩化金酸10.0mgとN,
N−ジメチルセレノ尿素を2.0mg加え、ベンゼンス
ルホン酸ナトリウム2.0mgを加え、55℃で最適感
度になるように化学増感し、最終的に塩化銀80モル%
を含む、平均粒子径0.20μmのヨウ塩臭化銀立方体
粒子乳剤を調製した。次いで増感色素 を5×10-4
ル/モルAg加えて、オルソ増感した。さらにカブリ防
止剤として、ハイドロキノン、1−フェニル−5−メル
カプトテトラゾ−ルをAg1モル当たりそれぞれ2.5
g、50mg、コロイダルシリカ(日産化学製スノ−テ
ックスC、平均粒径0.015μm)をゼラチンに対
し、30重量%加え、可塑剤としてポリエチルアクリレ
−トラテックス(0.05μm)をゼラチンに対し、4
0重量%、硬膜剤として、1,1’−ビス(ビニルスル
ホニル)メタンを100mg/m2 加えた。この塗布液
をAg3.9g/m2 、ゼラチン1.8g/m2 になる
様に塗布した。
Then, according to a conventional method, the product was washed with water by the flocculation method and 40 g of gelatin was added. This emulsion was adjusted to pH = 5.3 and pAg = 7.5, sodium thiosulfate 5.2 mg, chloroauric acid 10.0 mg and N,
2.0 mg of N-dimethylselenourea and 2.0 mg of sodium benzenesulfonate were added, and chemical sensitization was performed at 55 ° C. to obtain optimum sensitivity, and finally 80 mol% of silver chloride.
A cubic silver iodochlorobromide cubic grain emulsion having an average grain size of 0.20 μm was prepared. Then, a sensitizing dye was added at 5 × 10 −4 mol / mol Ag for ortho-sensitization. Further, as antifoggants, hydroquinone and 1-phenyl-5-mercaptotetrazole were added in an amount of 2.5 per mol of Ag, respectively.
g, 50 mg, colloidal silica (Nissan Chemical's SNO-TEX C, average particle size 0.015 μm) was added to gelatin in an amount of 30% by weight, and polyethyl acrylate latex (0.05 μm) as a plasticizer was added to gelatin. Four
0% by weight, 100 mg / m 2 of 1,1′-bis (vinylsulfonyl) methane was added as a hardening agent. The coating solution Ag3.9g / m 2, was coated so as to be gelatin 1.8 g / m 2.

【0104】[0104]

【化10】 [Chemical 10]

【0105】 ──────────────────────────────────── (2-2) 保護層下層 m2 当たり ──────────────────────────────────── ゼラチン 0.7g ベンゼンスルホン酸ナトリウム 4mg 1,5−ジヒドロキシ−2−ベンズアルドキシム 25mg ポリエチルアクリレートラテックス 125mg ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── (2-2) Protective layer Lower layer per m 2 ──────────────────────────────────── Gelatin 0.7g Sodium benzenesulfonate 4mg 1,5-dihydroxy -2-Benzaldoxime 25 mg Polyethyl acrylate latex 125 mg ─────────────────────────────────────

【0106】 ──────────────────────────────────── (2-3) 保護層上層 m2 当たり ──────────────────────────────────── ゼラチン 0.5g ポリメチルメタクリレ−ト微粒子(平均粒径2.5μm) 40mg 化合物−16(滑り剤のゼラチン分散物) 60mg コロイダルシリカ(日産化学製スノ−テックスC) 60mg 化合物−17 5mg ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 22mg ──────────────────────────────────── この試料の動摩擦係数はすべて0.22±0.03(2
5℃60%RH、サファイヤ針φ=1mm、荷重100
g、スピ−ド60cm/min)であった。
──────────────────────────────────── (2-3) Upper layer of protective layer per m 2 ──────────────────────────────────── Gelatin 0.5g Polymethylmethacrylate fine particles (average particle size) Diameter 2.5 μm) 40 mg Compound-16 (gelatin dispersion of lubricant) 60 mg Colloidal silica (SUN-TEX C manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd.) 60 mg Compound-17 5 mg Sodium dodecylbenzenesulfonate 22 mg ──────────── ────────────────────────── The dynamic friction coefficient of this sample is 0.22 ± 0.03 (2
5 ° C 60% RH, sapphire needle φ = 1mm, load 100
g, speed 60 cm / min).

【0107】[0107]

【化11】 [Chemical 11]

【0108】(6)写真感材の評価 このようにして得られた感材試料を塗布後10日間25
℃60%RH下で保管した後、25℃60%RH下で裁
断・加工した後、下記のように評価した。 (5-1) 寸法ズレ (感材の露光)大全サイズにスリットしたサンプルを2
5℃60%RH下で防湿袋に一晩調湿した。これを開封
し直ちに25℃20%RH下でLPP−3680 型露
光器を用い、フラッドベッドで露光した。この時長手方
向30cm×幅方向30cmの四隅に5mm□のマ−ク
を焼き付けた。
(6) Evaluation of photographic light-sensitive material The light-sensitive material sample thus obtained was applied for 25 days for 10 days.
After storing at 60 ° C RH of 60 ° C, cutting and processing at 60% RH of 25 ° C, evaluation was performed as follows. (5-1) Dimensional deviation (exposure of photosensitive material) 2
The humidity was controlled in a moisture-proof bag overnight at 5 ° C. and 60% RH. This was opened and immediately exposed to flood bed using a LPP-3680 type exposure device at 25 ° C. and 20% RH. At this time, marks of 5 mm square were baked at the four corners of 30 cm in the longitudinal direction and 30 cm in the width direction.

【0109】(感材の現像処理)現像液、定着液とし
て、富士写真フイルム製HS−5およびLF−5を用い
て、自動現像機FG−660F(富士写真フイルム製)
で32℃60秒の現像した後42℃で60秒乾燥した。 (感材の寸法評価)現像後の感材を25℃60%RHの
一定環境下で、ミツトヨFJ805を用い上記4点の露
光点の間距離を測長した。この値と露光時の距離との差
を寸法ズレを平均し、表2に示した。 (5-2) 画像ボケの評価 実施例1と同様にして評価した。以上の結果を第5表に
示す。
(Development processing of light-sensitive material) An automatic developing machine FG-660F (manufactured by Fuji Photo Film) using HS-5 and LF-5 manufactured by Fuji Photo Film as developer and fixer.
After development at 32 ° C. for 60 seconds, it was dried at 42 ° C. for 60 seconds. (Dimensional Evaluation of Photosensitive Material) The developed photosensitive material was measured under constant environment of 25 ° C. and 60% RH using Mitutoyo FJ805 to measure the distance between the four exposure points. The difference between this value and the distance at the time of exposure is shown in Table 2 after averaging the dimensional deviation. (5-2) Evaluation of Image Blur Evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The above results are shown in Table 5.

【0110】[0110]

【表5】 第5表 ──────────────────────────────────── 支持体 塗布後の表面状態 感材/ 感光材料特性 番号 (5)(6)(7) バック層 寸法変化 画像ボケ ──────────────────────────────────── 2−1 0 0 0 イ 15μm 0個 2−2 8 8 42 イ 88μm 25個 2−3 10 9 0 イ 96μm 33個 2−4 12 9 0 イ 93μm 38個 2−5 1 2 4 イ 65μm 0個 2−6 0 0 3 イ 23μm 0個 2−7 0 0 0 イ 18μm 0個 2−8 1 2 0 イ 60μm 0個 2−9 1 2 0 イ 51μm 0個 2−10 0 0 0 ロ 15μm 0個 2−11 1 3 0 イ 45μm 0個 2−12 0 0 0 イ 20μm 0個 2−13 3 5 5 イ 55μm 0個 2−14 10 8 25 イ 85μm 22個 ──────────────────────────────────── 註:(5)筋張り故障(個) 測定方法は実施例1と同じ (6)波打ち故障(mm) 測定方法は実施例1と同じ (7)ブツ故障(個) 測定方法は実施例1と同じ[Table 5] Table 5 ──────────────────────────────────── Surface condition after coating the support Sensitive material / Photosensitive material characteristic number (5) (6) (7) Back layer dimensional change Image blur ───────────────────────────── ──────── 2-1 0 0 0 a 15 μm 0 2-2 8 8 42 a 88 μm 25 2-3 10 9 90 a 96 μm 33 2-4 12 9 0 93 μm 38 2 5 1 2 4 a 65 μm 0 pcs 2-6 0 0 3 a 23 μm 0 pcs 2-7 0 0 0 a 18 μm 0 pcs 2-8 1 2 0 a 60 μm 0 pcs 2-9 1 2 0 a 51 μm 0 pcs 2- 10 0 0 0 15 μm 0 pieces 2-11 1 3 0 b 45 μm 0 pieces 2-12 0 0 0 b 20 μm 0 pieces 2-13 3 5 5 i 55 μm 0 pieces 2-14 10 8 25 B 85 μm 22 pieces ──────────────────────────────────── Note: (5) Strengthening failure (piece ) The measuring method is the same as that of the first embodiment. (6) Rippling failure (mm) The measuring method is the same as that of the first embodiment. (7) Butt failure (pieces) The measuring method is the same as that of the first embodiment.

【0111】(6)結果 本発明の110℃でのヤング率、熱収縮特性、熱流速の
差を有する支持体を用いることのより、下塗り後の平面
性に優れ、寸法特性、重ね焼き特性に優れた感材を提供
することができる。さらに、これらの特性の面内偏差、
面内レンジを小さくしたり、本発明の厚みの支持体を用
いたり、支持体中に微粒子を添加することで、いっそう
優れた平面性、感材特性、ヘイズを達成した。熱固定は
250℃以下で実施した試料はすべてヘーズが低く、良
好であった。再延伸を行った試料は熱収縮、ヘイズが高
く、その結果波打ち高さも本発明の範囲を上回ってい
る。また、支持体厚みを310μmとした以外は、本発
明の試料と全く同様にして調製したサンプルを評価した
が、自動現像機で発生するジャミングのため許容されな
かった。
(6) Results By using the support of the present invention having a difference in Young's modulus at 110 ° C., heat shrinkage characteristics, and heat flow rate, excellent flatness after undercoating, excellent dimensional characteristics and double baking characteristics can be obtained. An excellent sensitive material can be provided. Furthermore, the in-plane deviation of these characteristics,
By further reducing the in-plane range, using the support having the thickness of the present invention, and adding fine particles to the support, more excellent flatness, photosensitive material properties, and haze were achieved. All the samples that were heat-set at 250 ° C. or lower had a low haze and were good. The sample subjected to re-stretching has high heat shrinkage and haze, and as a result, the waviness height exceeds the range of the present invention. Further, a sample prepared in exactly the same manner as the sample of the present invention was evaluated except that the thickness of the support was set to 310 μm, but it was not allowed due to jamming generated by an automatic processor.

【0112】[0112]

【発明の効果】本発明に従い、重ね焼きしたときに寸法
ズレや画像ボケの起きにくいハロゲン化銀写真感光材料
が得られた。これは、シンジオタクチック構造を有する
スチレンポリマーを主成分とし、下塗り層を有するスチ
レンポリマーフイルムおよびその製造方法の改良により
得られる効果である。
According to the present invention, a silver halide photographic light-sensitive material is obtained in which dimensional deviation and image blurring hardly occur when overprinted. This is an effect obtained by improving a styrene polymer film having a styrene polymer having a syndiotactic structure as a main component and having an undercoat layer and a method for producing the same.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】波打ち高さの測定方法を説明する断面模式図で
ある。
FIG. 1 is a schematic sectional view illustrating a method for measuring a corrugation height.

【図2】縦延伸工程の断面模式図である。FIG. 2 is a schematic sectional view of a longitudinal stretching step.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

h 波打ち高さ MD 長手方向 TD 幅方向 1 基準線 2 スチレンポリマーフイルム 3 塗布層 21a、21b、21c ヒーター 22 スチレンポリマーフイルム 23 搬送ロール 24 低周速延伸ロール 25 高周速延伸ロ−ル L 延伸間距離 h Wavy height MD Longitudinal direction TD Width direction 1 Reference line 2 Styrene polymer film 3 Coating layers 21a, 21b, 21c Heater 22 Styrene polymer film 23 Conveying roll 24 Low peripheral speed stretching roll 25 High peripheral speed stretching roll L Between stretching distance

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シンジオタクチック構造を有するスチレ
ンポリマーを主成分とし、塗布層が設けられているスチ
レンポリマーフイルムであって、フイルムの波打ちの高
さが18mm以下であることを特徴とする塗布層を有す
るスチレンポリマーフイルム。
1. A styrene polymer film comprising a styrene polymer having a syndiotactic structure as a main component and provided with a coating layer, wherein the undulation height of the film is 18 mm or less. A styrene polymer film having
【請求項2】 110℃におけるヤング率が、長手方向
と幅方向のいずれも50乃至300kg/mm2 である
請求項1に記載の塗布層を有するスチレンポリマーフイ
ルム。
2. A styrene polymer film having a coating layer according to claim 1, wherein the Young's modulus at 110 ° C. is 50 to 300 kg / mm 2 in both the longitudinal direction and the width direction.
【請求項3】 110℃、10分間熱処理前後における
長手方向と幅方向の寸法変化が0.8%以下である請求
項1に記載のスチレンポリマーフイルム。
3. The styrene polymer film according to claim 1, wherein the dimensional change in the longitudinal direction and the width direction before and after the heat treatment at 110 ° C. for 10 minutes is 0.8% or less.
【請求項4】 110℃におけるヤング率の面内偏差が
30%以下である請求項2に記載の塗布層を有するスチ
レンポリマーフイルム。
4. The styrene polymer film having a coating layer according to claim 2, wherein the in-plane Young's modulus deviation at 110 ° C. is 30% or less.
【請求項5】 110℃、10分間熱処理前後における
寸法変化の面内レンジが0.6%以下である請求項3に
記載の塗布層を有するスチレンポリマーフイルム。
5. A styrene polymer film having a coating layer according to claim 3, wherein the in-plane range of dimensional change before and after heat treatment at 110 ° C. for 10 minutes is 0.6% or less.
【請求項6】 90℃と115℃における熱流速の差が
0.02乃至0.07W/gである請求項1に記載の塗
布層を有するスチレンポリマーフイルム。
6. The styrene polymer film having a coating layer according to claim 1, wherein the difference in heat flow rate between 90 ° C. and 115 ° C. is 0.02 to 0.07 W / g.
【請求項7】 請求項1に規定する塗布層を有するスチ
レンポリマーフイルムを製造する方法であって、 シンジオタクチック構造を有するスチレンポリマーを主
成分とするフイルムに層を塗布する工程;そしてフイル
ムを、ロール間の最大長さが0.1乃至10mに設定さ
れている複数のロールを用いて搬送しながら、塗布層を
50乃至200にて乾燥する工程を有することを特徴と
する塗布層を有するスチレンポリマーフイルムの製造方
法。
7. A method for producing a styrene polymer film having a coating layer as defined in claim 1, wherein the layer is applied to a film containing a styrene polymer having a syndiotactic structure as a main component; And having a coating layer characterized by including a step of drying the coating layer at 50 to 200 while transporting using a plurality of rolls whose maximum length between rolls is set to 0.1 to 10 m. Method for producing styrene polymer film.
【請求項8】 乾燥工程において、フイルムとロールが
接触する領域の最大の長さが3乃至200cmである請
求項7に記載の製造方法。
8. The manufacturing method according to claim 7, wherein the maximum length of the region where the film and the roll contact each other in the drying step is 3 to 200 cm.
【請求項9】 乾燥工程において、フイルムにかかる張
力が2乃至40kg/mである請求項7に記載の製造方
法。
9. The manufacturing method according to claim 7, wherein the tension applied to the film in the drying step is 2 to 40 kg / m.
【請求項10】 シンジオタクチック構造を有するスチ
レンポリマーを主成分とする支持体、下塗り層および/
またはバック層、および少なくとも一層のハロゲン化銀
乳剤層が設けられているハロゲン化銀写真感光材料であ
って、 支持体の波打ちの高さが18mm以下であることを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。
10. A support containing a styrene polymer having a syndiotactic structure as a main component, an undercoat layer, and / or
Alternatively, a silver halide photographic light-sensitive material provided with a back layer and at least one silver halide emulsion layer, wherein the undulation height of the support is 18 mm or less. material.
JP7349224A 1994-12-20 1995-12-20 Styrene polymer film having coating layer, production thereof, and silver halide photosensitive material Withdrawn JPH08239497A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004358933A (en) * 2003-04-08 2004-12-24 Toyobo Co Ltd Laminated syndiotactic polystyrene oriented film

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004358933A (en) * 2003-04-08 2004-12-24 Toyobo Co Ltd Laminated syndiotactic polystyrene oriented film
JP4560704B2 (en) * 2003-04-08 2010-10-13 東洋紡績株式会社 Multilayer Syndiotactic Polystyrene Stretched Film for Packaging Materials

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