JPH08236701A - Semiconductor intergrated circuit device - Google Patents

Semiconductor intergrated circuit device

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Publication number
JPH08236701A
JPH08236701A JP3664095A JP3664095A JPH08236701A JP H08236701 A JPH08236701 A JP H08236701A JP 3664095 A JP3664095 A JP 3664095A JP 3664095 A JP3664095 A JP 3664095A JP H08236701 A JPH08236701 A JP H08236701A
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JP
Japan
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semiconductor
semiconductor circuit
circuit blocks
block
blocks
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Application number
JP3664095A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toru Suyama
透 須山
Fuminori Tanemura
文法 種村
Takashi Ichihara
隆 市原
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PURPOSE: To provide a semiconductor integrated circuit device decreasing a fluitnation of analog characteristics due to the difference in forming places in a plurality of semiconductor circuit blocks. CONSTITUTION: A plurality of semiconductor circuit blocks B1 to B240 of the same constitution composing an electric circuit controlling analog voltage are jaxtaposed in a line on a semiconductor substrate Sb and dummy semisemiconductor circuit blocks DB1, DB2 of about the same constitution with the semiconductor circuit blocks B1 to B240 are respectively juxtaposed in both of the outside positions of a plurality of the semiconductor circuit blocks B1 to B240 of the semiconductor substrate Sb.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、例えばカラーTFT
マトリクス液晶パネルの各列の液晶セルを外部から供給
されるデジタル信号に従って駆動する液晶ドライバ等の
アナログ電圧を制御する電気回路を構成する同一構成の
複数個の半導体回路ブロックを一列に並設した半導体集
積回路装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to, for example, a color TFT.
A semiconductor in which a plurality of semiconductor circuit blocks of the same configuration that form an electric circuit that controls an analog voltage of a liquid crystal driver that drives liquid crystal cells in each column of a matrix liquid crystal panel according to a digital signal supplied from the outside are arranged in a row The present invention relates to an integrated circuit device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のこの種の半導体集積回路装置は、
図3に示すように、横長の半導体基板Sbの中央部分に
アナログ電圧を制御する電気回路を構成する同一構成の
多数個の縦長の実動作する半導体回路ブロックB1,B
2,…,B240を横一列に並設している。各半導体回
路ブロックB1,B2,…,B240は縦方向の一端部
(紙面では下端部)に外部からのデジタル信号の入力信
号線(図示せず)が形成され、縦方向の他端部(紙面で
は上端部)にアナログ信号の出力信号線(図示せず)が
形成され、例えばカラーTFTマトリクス液晶パネルの
各列の液晶セルに接続される。
2. Description of the Related Art A conventional semiconductor integrated circuit device of this type is
As shown in FIG. 3, a plurality of vertically elongated semiconductor circuit blocks B1 and B1 having the same configuration and forming an electric circuit for controlling an analog voltage are formed in the central portion of a horizontally elongated semiconductor substrate Sb.
2, ..., B240 are arranged side by side in a row. Each of the semiconductor circuit blocks B1, B2, ..., B240 has an input signal line (not shown) for an external digital signal formed at one end portion (the lower end portion on the paper surface) in the vertical direction, and the other end portion in the vertical direction (paper surface). An output signal line (not shown) of an analog signal is formed at the upper end portion) and is connected to, for example, the liquid crystal cells in each column of the color TFT matrix liquid crystal panel.

【0003】例えば、カラーTFTマトリクス液晶パネ
ルが横方向1920ライン(=3×640)の液晶セル
からなる場合、一つの半導体集積回路装置としては、半
導体基板Sb上に例えば240個の半導体回路ブロック
B1,B2,…,B240を横一列に並設したものを作
成し、1台のカラーTFTマトリクス液晶パネルを8個
の半導体集積回路装置(8×240=1920)で駆動
する構成とする。
For example, when the color TFT matrix liquid crystal panel is composed of liquid crystal cells of horizontal 1920 lines (= 3 × 640), one semiconductor integrated circuit device has, for example, 240 semiconductor circuit blocks B1 on the semiconductor substrate Sb. , B2, ..., B240 are arranged side by side in a row, and one color TFT matrix liquid crystal panel is driven by eight semiconductor integrated circuit devices (8 × 240 = 1920).

【0004】図4は図3に示した半導体集積回路装置に
おける各半導体回路ブロックB1,B2,…,B240
がそれぞれ実現している電気回路構成の一例を示すもの
で、この例では、カラーTFTマトリクス液晶パネルを
駆動するための液晶ドライバの例を示している。図4に
おいて、サブブロック1はオペアンプと出力回路からな
り、アナログ出力が出力配線を通して取り出される。サ
ブブロック2はアナログ電圧スイッチ回路からなる。サ
ブブロック3は容量群からなる。サブブロック4はアナ
ログ電圧スイッチ回路と基準電圧切替回路とからなる。
サブブロック5は2段ラッチ回路からなり、デジタル信
号が入力配線を通して供給される。
FIG. 4 shows each semiconductor circuit block B1, B2, ..., B240 in the semiconductor integrated circuit device shown in FIG.
Shows an example of an electric circuit configuration realized respectively, and in this example, an example of a liquid crystal driver for driving a color TFT matrix liquid crystal panel is shown. In FIG. 4, the sub-block 1 comprises an operational amplifier and an output circuit, and an analog output is taken out through the output wiring. The sub block 2 is composed of an analog voltage switch circuit. The sub-block 3 is composed of a capacity group. The sub block 4 is composed of an analog voltage switch circuit and a reference voltage switch circuit.
The sub block 5 is composed of a two-stage latch circuit, and a digital signal is supplied through the input wiring.

【0005】サブブロック5へのデジタル入力として
は、画像等の表示のための外部制御回路からデジタルデ
ータが入力される。サブブロック5の2段ラッチ回路
は、入力したデジタルデータを一時記憶する記憶回路で
あり、入力したデジタルデータをそれぞれ順次記憶する
1段目の記憶回路と、デジタル・アナログ変換する期間
毎に一斉にデジタルデータを記憶する2段目の記憶回路
とからなる。
Digital data is input to the sub-block 5 from an external control circuit for displaying an image or the like. The two-stage latch circuit of the sub-block 5 is a storage circuit that temporarily stores the input digital data, and a first-stage storage circuit that sequentially stores the input digital data, and a digital circuit that converts digital-to-analog conversion simultaneously. The second stage storage circuit stores digital data.

【0006】サブブロック4のアナログ電圧切替回路
は、デジタル・アナログ変換用の容量へ供給する電圧を
外部からのデジタルデータに従って切り替えるスイッチ
回路である。サブブロック4の基準電圧切替回路は、デ
ジタル・アナログ変換するためのアナログ基準電圧を切
り替えるための回路である。サブブロック3の容量群
は、容量型デジタル・アナログ変換器を構成するもの
で、電荷の分配により、出力電圧を決める機能を有す
る。
The analog voltage switching circuit of the sub-block 4 is a switching circuit that switches the voltage supplied to the capacitance for digital / analog conversion according to digital data from the outside. The reference voltage switching circuit of the sub-block 4 is a circuit for switching an analog reference voltage for digital / analog conversion. The capacitance group of the sub-block 3 constitutes a capacitance type digital-analog converter and has a function of determining an output voltage by distribution of charges.

【0007】サブブロック2のアナログ電圧スイッチ回
路は、容量型デジタル・アナログ変換器を動作させるた
めの回路構成を切り替えるスイッチ回路からなる。サブ
ブロック1のオペアンプは、容量型デジタル・アナログ
変換器を構成するもので、製造ばらつきによらず安定し
た電荷の受け渡しを行うため、十分な電圧増幅率が必要
である。また、サブブロック1の出力回路は、外部負荷
(液晶パネル)を駆動するための電流増幅回路であり、
外部負荷と内部回路を切り離すスイッチ回路として機能
する。
The analog voltage switch circuit of the sub-block 2 comprises a switch circuit for switching the circuit configuration for operating the capacitance type digital-analog converter. The operational amplifier of the sub-block 1 constitutes a capacitance type digital-analog converter, and requires a sufficient voltage amplification factor in order to stably transfer charges regardless of manufacturing variations. The output circuit of the sub-block 1 is a current amplifier circuit for driving an external load (liquid crystal panel),
It functions as a switch circuit that separates the external load from the internal circuit.

【0008】サブブロック1から取り出されるアナログ
出力は、デジタル・アナログ変換されたアナログ信号で
あり、半導体集積回路装置の端子に出力する。半導体集
積回路装置の出力端子は、液晶パネル(配線およびTF
Tをパターニングしたガラス板と液晶材料、接着材で構
成)に異方導電性接着材で接続される。以上に述べた各
サブブロック1〜5の中で、容量カップリングを起こす
ものは、高インピーダンスな回路を持ったオペアンプと
出力回路を構成するサブブロック1と、アナログ電圧ス
イッチを構成するサブブロック2と、容量群を構成する
サブブロック3である。
The analog output extracted from the sub-block 1 is a digital-analog converted analog signal, which is output to the terminal of the semiconductor integrated circuit device. The output terminal of the semiconductor integrated circuit device is a liquid crystal panel (wiring and TF
A glass plate on which T is patterned, a liquid crystal material, and an adhesive) are connected to each other with an anisotropic conductive adhesive. Among the sub-blocks 1 to 5 described above, the ones that cause capacitive coupling are the sub-block 1 that constitutes an operational amplifier having a high-impedance circuit and an output circuit, and the sub-block 2 that constitutes an analog voltage switch. And a sub-block 3 that constitutes a capacity group.

【0009】図5は、図4の半導体回路ブロックの具体
的な回路構成の一例を示すブロック図である。この半導
体回路ブロックは、図5に示すように、デジタル入力が
供給される2段ラッチ回路11(図4のサブブロック5
の2段ラッチ回路に相当)と、基準電圧切替回路12
(図4のサブブロック4の基準電圧切替回路に相当)
と、以下に示す回路部分とからなる。つまり、この半導
体回路ブロックは、8個の並列接続された容量CP0
CP1 ,…,CP7 からなる容量群を有し、容量C
0 ,CP1 ,…,CPK ,…,CP7 の容量値は、そ
れぞれ基準容量値C,2C,…,2K C,…,128C
である。
FIG. 5 is a block diagram showing an example of a concrete circuit configuration of the semiconductor circuit block of FIG. As shown in FIG. 5, this semiconductor circuit block includes a two-stage latch circuit 11 (sub-block 5 in FIG. 4) to which a digital input is supplied.
Corresponding to the two-stage latch circuit) and the reference voltage switching circuit 12
(Corresponding to the reference voltage switching circuit of sub-block 4 in FIG. 4)
And a circuit portion shown below. That is, this semiconductor circuit block includes eight capacitors CP 0 connected in parallel,
A capacitor group consisting of CP 1 , ..., CP 7 , and a capacitor C
The capacitance values of P 0 , CP 1 , ..., CP K , ..., CP 7 are reference capacitance values C, 2C, ..., 2 K C ,.
Is.

【0010】各容量CP0 ,CP1 ,…,CP7 のマイ
ナス側電極は、オペアンプ41の負入力端子Aに接続さ
れ、各容量CP0 ,CP1 ,…,CP7 のプラス側電極
は、それぞれ放電用スイッチSWB0 ,SWB1 ,…,
SWB7 を介して基準入力電圧を供給する電源V- ref
に接続されている。さらに、各容量CP0 ,CP1
…,CP7 のプラス側電極には、それぞれ充電用スイッ
チSWA0 ,SWA1 ,…,SWA7 の一方の端子が接
続される。これらの充電用スイッチSWA0 ,SW
1 ,…,SWA7 は入力電圧をサンプリングする際に
オン状態に設定される。
[0010] Each capacitor CP 0, CP 1, ..., negative electrode CP 7 are connected to the negative input terminal A of the operational amplifier 41, the capacitors CP 0, CP 1, ..., the positive side electrode of the CP 7 is The discharge switches SWB 0 , SWB 1 , ...,
Power supply V - ref that supplies the reference input voltage via SWB 7
It is connected to the. Furthermore, each capacity CP 0 , CP 1 ,
..., to the positive electrode of the CP 7, respectively charging switch SWA 0, SWA 1, ..., one terminal is connected the SWA 7. These charging switches SWA 0 , SW
A 1 , ..., SWA 7 are set to the ON state when sampling the input voltage.

【0011】充電用スイッチSWA0 ,SWA1 ,…,
SWA7 の他方の端子には、それぞれデジタル入力スイ
ッチSW0 ,SW1 ,…,SW7 の一方の端子が接続さ
れている。デジタル入力スイッチSW0 ,SW1 ,…,
SW7 は、この出力回路に入力されるデジタル信号の各
ビットに対応しており、対応するビットが“1”の場合
にオン状態に設定され、“0”の場合にオフ状態に設定
される。
Charging switches SWA 0 , SWA 1 , ...,
One terminal of each of the digital input switches SW 0 , SW 1 , ..., SW 7 is connected to the other terminal of SWA 7 . Digital input switches SW 0 , SW 1 , ...,
SW 7 corresponds to each bit of the digital signal input to this output circuit, and is set to an on state when the corresponding bit is “1” and set to an off state when the corresponding bit is “0”. .

【0012】さらに、各デジタル入力スイッチSW0
SW1 ,…,SW7 の他方の端子は基準入力電圧を供給
する電源V+ ref に接続されている。SWA8 はオペア
ンプ41の入出力端子間に接続された充電用スイッチ、
SWA9 はオペアンプ41の入力電圧のサンプリング時
にオン状態になる充電用スイッチで、負帰還用容量CP
8 のプラス電極と基準入力電圧(電源)V- ref との間
に接続されている。SWB9 は、充電した電荷を放電す
る放電用スイッチで、負帰還容量CP8 のプラス電極と
出力Vout の間に接続されている。
Further, each digital input switch SW 0 ,
The other terminals of SW 1 , ..., SW 7 are connected to a power supply V + ref that supplies a reference input voltage. SWA 8 is a charging switch connected between the input and output terminals of the operational amplifier 41,
SWA 9 is a charging switch that is turned on when the input voltage of the operational amplifier 41 is sampled, and is a negative feedback capacitor CP.
It is connected between the positive electrode of 8 and the reference input voltage (power supply) V - ref . SWB 9 is a discharging switch for discharging the charged electric charge, and is connected between the positive electrode of the negative feedback capacitor CP 8 and the output V out .

【0013】オペアンプ41の出力Yは充電用スイッチ
SWA8 を介して、オペアンプ41の負入力端子Aに帰
還されるとともに、放電用スイッチSWB8 および負帰
還用容量CP8 を介して、負入力端子Aに帰還されてい
る。また、オペアンプ41の正入力端子Bは、基準入力
電圧(電源)V- ref に接続されるとともに、充電用ス
イッチSWA9 および負帰還用容量CP8 を介して、負
入力端子Aに接続されている。負帰還容量CP8 は基準
容量値の28 ×C(256C)の容量値を有している。
この出力回路によって発生される出力電圧は出力端子V
out から出力される。
The output Y of the operational amplifier 41 is fed back to the negative input terminal A of the operational amplifier 41 via the charging switch SWA 8 and also to the negative input terminal via the discharging switch SWB 8 and the negative feedback capacitance CP 8. You have been returned to A. Further, the positive input terminal B of the operational amplifier 41 is connected to the reference input voltage (power supply) V - ref, and is also connected to the negative input terminal A via the charging switch SWA 9 and the negative feedback capacitor CP 8. There is. The negative feedback capacitance CP 8 has a capacitance value of 2 8 × C (256C) which is the reference capacitance value.
The output voltage generated by this output circuit is the output terminal V
is output from the out.

【0014】上記の容量CP0 ,CP1 ,…,CP7
らなる容量群は、帰還容量CP8 と合わせて図4のサブ
ブロック3の容量に相当する。デジタル入力スイッチS
0,SW1 ,…,SW7 は、図4のサブブロック4の
アナログ電圧スイッチ回路に相当する。充電用スイッチ
SWA0 ,SWA1 ,…,SWA7 ,SWA8 ,SWA
9 、放電用スイッチSWB0 ,SWB1 ,…,SW
7 ,SWB8 は図4のサブブロック2のアナログ電圧
スイッチ回路に相当する。オペアンプ41が図4のサブ
ブロック1のオペアンプおよび出力回路に相当する。
The capacitance group consisting of the capacitances CP 0 , CP 1 , ..., CP 7 together with the feedback capacitance CP 8 corresponds to the capacitance of the sub-block 3 in FIG. Digital input switch S
W 0 , SW 1 , ..., SW 7 correspond to the analog voltage switch circuit of the sub-block 4 in FIG. Charging switches SWA 0 , SWA 1 , ..., SWA 7 , SWA 8 , SWA
9 , discharge switches SWB 0 , SWB 1 , ..., SW
B 7 and SWB 8 correspond to the analog voltage switch circuit of the sub-block 2 in FIG. The operational amplifier 41 corresponds to the operational amplifier and output circuit of the sub-block 1 in FIG.

【0015】以上のような構成を有する半導体回路ブロ
ックの動作を説明する。まず、放電用スイッチSW
0 ,SWB1 ,…,SWB7 がオン状態に設定され
る。これにより、オペアンプ41の出力Yが、放電用ス
イッチSWB8 を介して、オペアンプ41の負入力端子
Aに負帰還される。このような負帰還によって負入力端
子Aと正入力端子Bとの間の電位差は、〔数1〕に示す
オフセット電圧となる。
The operation of the semiconductor circuit block having the above configuration will be described. First, the discharge switch SW
B 0 , SWB 1 , ..., SWB 7 are set to the ON state. As a result, the output Y of the operational amplifier 41 is negatively fed back to the negative input terminal A of the operational amplifier 41 via the discharging switch SWB 8 . Due to such negative feedback, the potential difference between the negative input terminal A and the positive input terminal B becomes the offset voltage shown in [Equation 1].

【0016】[0016]

【数1】Voff =(オペアンプ41の正入力端子Bの電
位)−(オペアンプ41の負入力端子Aの電位) また、各容量CP0 ,CP1 ,…,CP7 の正負の電極
間の電位差もオフセット電圧Voff に等しくなる。この
とき各容量CP0 ,CP1 ,…,CP7 に充電されてい
る電荷量QDCn は、
## EQU1 ## Voff = (potential of the positive input terminal B of the operational amplifier 41)-(potential of the negative input terminal A of the operational amplifier 41) Also, between the positive and negative electrodes of the capacitors CP 0 , CP 1 , ..., CP 7 . The potential difference also becomes equal to the offset voltage Voff . At this time, the charge amount Q DCn charged in each of the capacitors CP 0 , CP 1 , ..., CP 7 is

【0017】[0017]

【数2】 QDCn =2n ×C×Voff 〔n=0〜7〕 となる。つぎに、8ビットのデジタル入力信号が、デジ
タル入力スイッチSW0 ,SW 1 ,…,SW7 に入力さ
れ、デジタル入力信号の各ビットに対応して各デジタル
入力スイッチSW0 ,SW1 ,…,SW7 がオン状態、
またはオフ状態に設定される。デジタル入力信号の最上
位ビット(MSB)は、デジタル入力スイッチSW7
対応し、デジタル入力信号の最下位ビット(LSB)
は、デジタル入力スイッチSW0 に対応している。
[Formula 2] QDCn= 2n× C × Voff [N = 0 to 7]. Next, the 8-bit digital input signal is
TAL input switch SW0, SW 1,,, SW7Entered in
Corresponding to each bit of the digital input signal.
Input switch SW0, SW1,,, SW7Is on,
Or it is set to the off state. Best of digital input signal
Significant bit (MSB) is digital input switch SW7To
Corresponding, least significant bit (LSB) of digital input signal
Is the digital input switch SW0It corresponds to.

【0018】つぎに、放電用スイッチSWB0 ,SWB
1 ,…,SWB7 のすべてをオフ状態に設定した後、充
電用スイッチSWA0 ,SWA1 ,…,SWA7 のすべ
てをオン状態に設定する。そのとき、デジタル入力スイ
ッチSW0 ,SW1 ,…,SW7 のうち、オン状態に設
定されているスイッチに接続されている容量に充電され
る電荷QCCn は、
Next, the discharge switches SWB 0 , SWB
After setting all of 1 , ..., SWB 7 to the off state, all of the charging switches SWA 0 , SWA 1 , ..., SWA 7 are set to the on state. At that time, the charge Q CCn charged in the capacitance connected to the switch that is set to the ON state among the digital input switches SW 0 , SW 1 , ..., SW 7 is

【0019】[0019]

【数3】QCCn =2n ×C×(V+ ref −V- ref +V
off ) ,(n=0〜7) となる。また、充電用スイッチSWA9 がオンに設定さ
れるため、容量CP8 には、〔数4〕に示すようにオフ
セット電圧が印加される。
## EQU3 ## Q CCn = 2 n × C × (V + ref −V ref + V
off ), (n = 0 to 7). Since the charging switch SWA 9 is set to ON, the offset voltage is applied to the capacitor CP 8 as shown in [Equation 4].

【0020】[0020]

【数4】VCP8 =Voff したがって、容量CP8 に蓄えられている電荷Q
CP8 は、〔数5〕に示すようになる。
(4) V CP8 = V off Therefore, the charge Q stored in the capacitor CP 8
CP8 becomes as shown in [ Equation 5].

【0021】[0021]

【数5】QCP8 =256×C×Voff つぎに、充電用スイッチSWA0 ,SWA1 ,…,SW
7 のすべてをオフ状態に設定した後、放電用スイッチ
SWB0 ,SWB1 ,…,SWB7 のすべてをオン状態
に設定する。その時、オペアンプ41の出力Yが放電用
スイッチSWB 8 を通して負入力端子Aに負帰還されて
いるため、負入力端子Aと正入力端子Bとの間の電位差
は、再びオフセット電圧Voff に等しくなる。
[Formula 5] QCP8= 256 x C x Voff Next, the charging switch SWA0, SWA1,,, SW
A7After setting all of the
SWB0, SWB1,…, SWB7All turned on
Set to. At that time, the output Y of the operational amplifier 41 is for discharging
Switch SWB 8Is fed back to the negative input terminal A through
Therefore, the potential difference between the negative input terminal A and the positive input terminal B is
Is again offset voltage VoffIs equal to

【0022】また、容量CP0 ,CP1 ,…,CP7
正負の電極間の電位差もオフセット電圧Voff に等しく
なる。このとき、容量CP0 ,CP1 ,…,CP7 のマ
イナス電極から移動した電荷は容量CP8 のマイナス電
極に集まる。容量CP8 のマイナス電極に移動した電荷
量ΔQCP8 は、デジタル入力信号の各ビット情報“0”
または“1”の数値をbitnで表すと、
The potential difference between the positive and negative electrodes of the capacitors CP 0 , CP 1 , ..., CP 7 is also equal to the offset voltage V off . At this time, the charges transferred from the negative electrodes of the capacitors CP 0 , CP 1 , ..., CP 7 gather at the negative electrodes of the capacitor CP 8 . The amount of charge ΔQ CP8 transferred to the negative electrode of the capacitance CP 8 is the bit information “0” of the digital input signal.
Or if the numerical value of "1" is represented by bitn,

【0023】[0023]

【数6】ΔQCP8 =(1×bit0+2×bit1+4×bit2+
8×bit3+16×bit4+32×bit5+64×bit6+12
8×bit7)×C×(V+ ref −V- ref ) となる。
[ Equation 6] ΔQ CP8 = (1 × bit0 + 2 × bit1 + 4 × bit2 +
8 x bit3 + 16 x bit4 + 32 x bit5 + 64 x bit6 + 12
8 × bit7) × C × (V + ref− V ref ).

【0024】例えば、2進数で“10110010”のデジタル
入力信号が入力された場合、bit0,bit2,bit3およびbi
t6は“0”(オフ状態)、bit1,bit4,bit5およびbit7
は“1”(オン状態)となり、このときの容量CP8
マイナス電極に移動した電荷量ΔQCP8 は、〔数7〕に
より求めることができる。
For example, when a digital input signal of "10110010" in binary number is input, bit0, bit2, bit3 and bi
t6 is “0” (off state), bit1, bit4, bit5 and bit7
Becomes "1" (ON state), and the amount of charge ΔQ CP8 transferred to the negative electrode of the capacitor CP 8 at this time can be obtained by [ Equation 7].

【0025】[0025]

【数7】 ΔQCP8 =(2+16+32+128)×C×(V+ ref −V- ref ) =178×C×(V+ ref −V- ref ) このとき、この移動した電荷と極性が反対で、同量の電
荷が容量CP8 のプラス電極に集まる。容量CP8 のマ
イナス電極の電位はオペアンプ41の負入力端子Aと同
電位であり、〔数1〕から、
ΔQ CP8 = (2 + 16 + 32 + 128) × C × (V + ref− V ref ) = 178 × C × (V + ref− V ref ) At this time, the polarity of the transferred charge is opposite and the same. A certain amount of charge collects on the positive electrode of the capacitor CP 8 . The potential of the negative electrode of the capacitor CP 8 is the same potential as the negative input terminal A of the operational amplifier 41, and from [Equation 1],

【0026】[0026]

【数8】(容量CP8 のマイナス電極の電位)=V-
ref −Voff となる。これにより、この出力回路の出力Vout は容量
CP0 ,CP1 ,…,CP7 による電荷の移動がなかっ
た場合には、〔数4〕および〔数8〕から、
(Equation 8) (potential of the negative electrode of the capacitance CP 8 ) = V
ref- V off . As a result, the output V out of this output circuit is obtained from [Equation 4] and [Equation 8] when there is no charge transfer due to the capacitors CP 0 , CP 1 , ..., CP 7 .

【0027】[0027]

【数9】Vout =V- ref −Voff +Voff =V- ref となり、〔数6〕に示す電荷の移動があった場合には、[Formula 9] V out = V ref −V off + V off = V ref , and when there is a charge transfer shown in [ Formula 6],

【0028】[0028]

【数10】Vout =(1/256)×(1×bit0+2×bit1+
4×bit2+8×bit3+16×bit4+32×bit5+64×
bit6+128×bit7)×(V+ ref −V- ref )+V-
ref となる。
[Formula 10] V out = (1/256) × (1 × bit0 + 2 × bit1 +
4 x bit2 + 8 x bit3 + 16 x bit4 + 32 x bit5 + 64 x
bit6 + 128 × bit7) × ( V + ref -V - ref) + V -
It becomes ref .

【0029】上述の例に示した2進数のデジタル信号
“10110010”が入力された場合、
When the binary digital signal "10110010" shown in the above example is input,

【0030】[0030]

【数11】Vout =(178/256)×(V+ ref
- ref )+V- ref となる。以上のように、この半導体回路ブロックは、8
ビットのデジタル信号の各ビットに対応し、それぞれ2
0 〜27 倍の容量値を有する容量CP0 ,CP1 ,…,
CP7 よりなる容量群と、入力されるデジタル信号の各
ビット情報に基づいて、それらの容量群への充電をオン
・オフ制御するスイッチ群とを設けており、入力される
デジタル信号の表す数値に対応した電荷が容量群に充電
され、この充電された電荷によって生じる電圧を増幅器
に入力して必要とする出力電圧が得られる。つまり、多
くの基準電圧を設けることなく必要とする電圧を発生さ
せることができる。したがって、配線数が大幅に削減さ
れる。
[Number 11] V out = (178/256) × ( V + ref -
V - ref ) + V - ref . As described above, this semiconductor circuit block is
2 for each bit of the digital signal
Capacity CP 0 with a 0-2 seven times the capacitance value, CP 1, ...,
A capacitance group consisting of CP 7 and a switch group for on / off controlling charging to these capacitance groups based on each bit information of the input digital signal are provided, and the numerical value represented by the input digital signal is provided. Is charged in the capacitance group, and the voltage generated by the charged charges is input to the amplifier to obtain the required output voltage. That is, the required voltage can be generated without providing many reference voltages. Therefore, the number of wires is significantly reduced.

【0031】[0031]

【発明が解決しようとする課題】上記のような半導体集
積回路装置では、半導体回路ブロックB1,B2,…,
B240を横一列に近接して並設した構成となっている
ので、半導体回路ブロックB1,B2,…,B240
は、それぞれ両隣の他の半導体回路ブロックB1,B
2,…,B240との間で容量カップリングが生じる。
図6は図3の半導体集積回路装置の半導体回路ブロック
B1,B2,…,B8,…の部分の拡大図であり、C
1-2 は半導体回路ブロックB1,B2間のカップリング
容量、C2-3 は半導体回路ブロックB2,B3間のカッ
プリング容量、C3-4 は半導体回路ブロックB3,B4
間のカップリング容量、C4-5 は半導体回路ブロックB
4,B5間のカップリング容量、C5-6 は半導体回路ブ
ロックB5,B6間のカップリング容量、C6-7 は半導
体回路ブロックB6,B7間のカップリング容量、C
7-8 は半導体回路ブロックB7,B8間のカップリング
容量である。
In the semiconductor integrated circuit device as described above, the semiconductor circuit blocks B1, B2, ...
Since the B240s are arranged side by side in a row, the semiconductor circuit blocks B1, B2 ,.
Are the other semiconductor circuit blocks B1 and B on both sides.
2, ..., B240 and capacitive coupling occur.
6 is an enlarged view of a portion of semiconductor circuit blocks B1, B2, ..., B8, ... Of the semiconductor integrated circuit device of FIG.
1-2 is the coupling capacitance between the semiconductor circuit blocks B1 and B2, C 2-3 is the coupling capacitance between the semiconductor circuit blocks B2 and B3, and C 3-4 is the semiconductor circuit blocks B3 and B4.
Coupling capacitance between them, C 4-5 is semiconductor circuit block B
C5-6 is a coupling capacitance between the semiconductor circuit blocks B5 and B6, C6-7 is a coupling capacitance between the semiconductor circuit blocks B6 and B7, and C is a coupling capacitance between the semiconductor circuit blocks B6 and B7.
7-8 is a coupling capacitance between the semiconductor circuit blocks B7 and B8.

【0032】各半導体回路ブロックB1,B2,…,B
8,…のアナログ特性は、カップリング容量C1-2 ,C
2-3 ,…,C7-8 ,…により両隣の半導体回路ブロック
B1,B2,…,B8,…の影響を受け、両端位置以外
の例えば半導体回路ブロックB2は、カップリング容量
1-2 ,C2-3 を介して2つの半導体回路ブロックB
1,B3と結合されているので、2つの半導体回路ブロ
ックB1,B3の影響を受ける。一方、両端位置、例え
ば右端の半導体回路ブロックB1はカップリング容量C
1-2 を介して1つの半導体回路ブロックB2と結合され
ているのみであるので、1つの半導体回路ブロックB2
の影響のみを受ける。
Each semiconductor circuit block B1, B2, ..., B
The analog characteristics of 8, ... are the coupling capacitances C 1-2 , C
2-3 , ..., C 7-8 , are influenced by the semiconductor circuit blocks B1, B2, ..., B8, ... Adjacent to both sides, and for example, the semiconductor circuit block B2 other than the both end positions is coupled with the coupling capacitance C 1-2. , C 2-3 through two semiconductor circuit blocks B
Since they are connected to the semiconductor circuit blocks B1 and B3, they are influenced by the two semiconductor circuit blocks B1 and B3. On the other hand, the semiconductor circuit block B1 at both ends, for example, the right end, has a coupling capacitance C
Since it is only connected to one semiconductor circuit block B2 through 1-2 , one semiconductor circuit block B2
Only affected by.

【0033】このように、従来の半導体集積回路装置で
は、半導体回路ブロックB2〜B239は両側に隣接し
た半導体回路ブロックB1〜B240と容量カップリン
グしているのに対して、両端の半導体回路ブロックB
1,B240は、片側に隣接した半導体回路ブロックB
2,B239としか容量カップリングしておらず、容量
カップリングの程度が異なるため、半導体回路ブロック
B1〜B240の回路パターンを全て同じに設計して
も、両端の半導体回路ブロックB1,B240のアナロ
グ特性が、他の半導体回路ブロックB2〜B239のア
ナログ特性とは異なり、同じ特性を得ることができない
という問題があった。
As described above, in the conventional semiconductor integrated circuit device, the semiconductor circuit blocks B2 to B239 are capacitively coupled with the semiconductor circuit blocks B1 to B240 adjacent on both sides, whereas the semiconductor circuit blocks B on both ends are capacitively coupled.
1, B240 are semiconductor circuit blocks B adjacent to one side.
2 and B239 are capacitively coupled, and the degree of capacitive coupling is different, even if the circuit patterns of the semiconductor circuit blocks B1 to B240 are all designed to be the same, the analog circuits of the semiconductor circuit blocks B1 and B240 at both ends are analog. The characteristics are different from the analog characteristics of the other semiconductor circuit blocks B2 to B239, and there is a problem that the same characteristics cannot be obtained.

【0034】両端の半導体回路ブロックB1,B240
のアナログ特性が、他の半導体回路ブロックB2〜B2
39のアナログ特性とは異なるという問題は、カラーT
FTマトリクス液晶パネルを、上記の半導体集積回路装
置で駆動する場合に以下に示すような問題となって現れ
る。半導体集積回路装置として、240個の半導体回路
ブロックB1〜B240を形成してあるものを使用し
て、横方向1920ラインのカラーTFTマトリクス液
晶パネルを駆動するには、先にも述べたように、8個の
半導体集積回路装置が必要である。この状態を図7に示
す。図7において、LCPは横方向1920ラインのカ
ラーTFTマトリクス液晶パネルである。IC1 〜IC
8 は8個の半導体集積回路装置であり、それぞれ240
本のアナログ出力ラインがカラーTFTマトリクス液晶
パネルLCPに接続されている。
Semiconductor circuit blocks B1 and B240 at both ends
Analog characteristics of other semiconductor circuit blocks B2 to B2
The problem that is different from the analog characteristics of 39 is that color T
When the FT matrix liquid crystal panel is driven by the above semiconductor integrated circuit device, the following problems will appear. To drive a color TFT matrix liquid crystal panel having 1920 lines in the horizontal direction by using a semiconductor integrated circuit device in which 240 semiconductor circuit blocks B1 to B240 are formed, as described above, Eight semiconductor integrated circuit devices are required. This state is shown in FIG. In FIG. 7, LCP is a color TFT matrix liquid crystal panel having 1920 lines in the horizontal direction. IC 1 to IC
8 is eight semiconductor integrated circuit devices, each of which is 240
The analog output line of the book is connected to the color TFT matrix liquid crystal panel LCP.

【0035】このように、一つのカラーTFTマトリク
ス液晶パネルLCPを8個の半導体集積回路装置IC1
〜IC8 で駆動すると、各半導体集積回路装置IC1
IC 8 において、両端の半導体回路ブロックB1,B2
40のアナログ特性が、他の半導体回路ブロックB2〜
B239のアナログ特性とは異なることから、カラーT
FTマトリクス液晶パネルLCPの画面上において、同
一のデジタルデータを入力しても、半導体集積回路装置
IC1 〜IC8 が出力するアナログ電圧出力の境界BD
の部分が他の部分と明るさが異なる等して、画面上に縦
縞が入るという画質の上で致命的な欠陥が生じるという
問題があった。
In this way, one color TFT matrix is
Liquid crystal panel LCP with 8 semiconductor integrated circuit device ICs1
~ IC8When driven by, each semiconductor integrated circuit device IC1~
IC 8In the semiconductor circuit blocks B1 and B2 at both ends
The analog characteristics of 40 are other semiconductor circuit blocks B2 to
Color T is different from the analog characteristics of B239.
On the screen of the FT matrix liquid crystal panel LCP, the same
Semiconductor integrated circuit device even if one digital data is input
IC1~ IC8Boundary BD of analog voltage output
The brightness of the part of the
There is a fatal defect in the image quality that streaks occur
There was a problem.

【0036】したがって、この発明の目的は、複数の半
導体回路ブロックにおける形成場所の違いによるアナロ
グ特性のばらつきをなくすことができる半導体集積回路
装置を提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device capable of eliminating variations in analog characteristics due to differences in formation locations in a plurality of semiconductor circuit blocks.

【0037】[0037]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の半導体集
積回路装置は、半導体基板にアナログ電圧を制御する電
気回路を構成する同一構成の複数個の半導体回路ブロッ
クを一列に並設し、半導体基板の複数個の半導体回路ブ
ロックの両外側位置にダミー半導体回路ブロックをそれ
ぞれ並設している。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit device, wherein a plurality of semiconductor circuit blocks having the same structure and forming an electric circuit for controlling an analog voltage are arranged in a line on a semiconductor substrate. Dummy semiconductor circuit blocks are arranged in parallel on both outer sides of the plurality of semiconductor circuit blocks on the substrate.

【0038】請求項2記載の半導体集積回路装置は、請
求項1記載の半導体集積回路装置において、電気回路は
マトリクス液晶パネルを構成する液晶セルを横方向の1
ラインずつ駆動する液晶駆動回路である。
A semiconductor integrated circuit device according to a second aspect is the same as the semiconductor integrated circuit device according to the first aspect, wherein the electric circuit has liquid crystal cells constituting a matrix liquid crystal panel in a horizontal direction.
It is a liquid crystal drive circuit that drives line by line.

【0039】[0039]

【作用】請求項1記載の構成によれば、複数個の半導体
回路ブロックの両外側位置にダミー半導体回路ブロック
をそれぞれ並設したので、両端の半導体回路ブロックは
隣接した半導体回路ブロックおよびダミー半導体回路ブ
ロックと容量カップリングすることになり、したがって
複数個の半導体回路ブロックのすべてが同じように容量
カップリングすることになり、複数個の半導体回路ブロ
ックのすべてのアナログ特性が均一化されることにな
る。
According to the structure of the present invention, since the dummy semiconductor circuit blocks are arranged in parallel on both outer sides of the plurality of semiconductor circuit blocks, the semiconductor circuit blocks at both ends are adjacent semiconductor circuit blocks and dummy semiconductor circuit blocks. Capacitive coupling with the block, and thus all of the plurality of semiconductor circuit blocks are similarly capacitively coupled, and all analog characteristics of the plurality of semiconductor circuit blocks are equalized. .

【0040】請求項2記載の構成によれば、マトリクス
液晶パネルを複数個の半導体集積回路装置で駆動する際
に、マトリクス液晶パネルの各半導体集積回路装置のア
ナログ出力電圧の境界における縦縞の発生が防止され
る。
According to the structure of claim 2, when the matrix liquid crystal panel is driven by a plurality of semiconductor integrated circuit devices, vertical stripes are generated at the boundary of the analog output voltage of each semiconductor integrated circuit device of the matrix liquid crystal panel. To be prevented.

【0041】[0041]

【実施例】以下、この発明の一実施例を図面を参照しな
がら説明する。図1にこの発明の一実施例の半導体集積
回路装置の概略平面図を示す。この半導体集積回路装置
は、図1に示すように、横長の半導体基板Sbの中央部
分にアナログ電圧を制御する電気回路を構成する同一構
成の多数個の縦長の実動作する半導体回路ブロックB
1,B2,…,B240を横一列に並設している。ま
た、半導体基板Sbの半導体回路ブロックB1,B2,
…,B240の両外側位置にダミー半導体回路ブロック
DB1,DB2をそれぞれ並設している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a schematic plan view of a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention. In this semiconductor integrated circuit device, as shown in FIG. 1, a large number of vertically elongated semiconductor circuit blocks B having the same configuration that constitute an electric circuit for controlling an analog voltage are formed in a central portion of a horizontally elongated semiconductor substrate Sb.
1, B2, ..., B240 are arranged side by side in a row. Further, the semiconductor circuit blocks B1, B2 of the semiconductor substrate Sb are
, And dummy semiconductor circuit blocks DB1 and DB2 are arranged in parallel on both outer sides of B240.

【0042】各半導体回路ブロックB1,B2,…,B
240は縦方向の一端部(紙面では下端部)に外部から
のデジタル信号の入力信号線(図示せず)が形成され、
縦方向の他端部(紙面では上端部)にアナログ信号の出
力信号線(図示せず)が形成され、例えばカラーTFT
マトリクス液晶パネルの各列の液晶セルに接続される。
Each semiconductor circuit block B1, B2, ..., B
An input signal line (not shown) for a digital signal from the outside is formed at one end portion (the lower end portion in the drawing) of 240 in the vertical direction,
An analog signal output signal line (not shown) is formed at the other end (upper end on the paper) in the vertical direction.
It is connected to the liquid crystal cells in each column of the matrix liquid crystal panel.

【0043】また、ダミー半導体回路ブロックDB1,
DB2は、半導体回路ブロックB1,B2,…,B24
0とはほぼ構造が同じで、出力配線が設けられていない
ことのみ相違し、入力配線は設けられており、ダミー半
導体回路ブロックDB1,DB2には、デジタルデータ
が供給され、半導体回路ブロックB1,B2,…,B2
40と同様に動作している。ここで、カラー液晶パネル
は、横方向の3本のラインをR,G,Bの3色にそれぞ
れ対応させているので、ダミー半導体回路ブロックDB
1には、半導体回路ブロックB3と同じデジタルデータ
が供給され、ダミー半導体回路ブロックDB2には、半
導体回路ブロックB238と同じデジタルデータが供給
される。
Further, the dummy semiconductor circuit block DB1,
DB2 is a semiconductor circuit block B1, B2, ..., B24.
The structure is almost the same as that of 0, except that output wiring is not provided, input wiring is provided, digital data is supplied to the dummy semiconductor circuit blocks DB1 and DB2, and semiconductor circuit block B1 and B2, ..., B2
It is operating like 40. Here, in the color liquid crystal panel, since the three horizontal lines correspond to the three colors of R, G, and B, respectively, the dummy semiconductor circuit block DB
1 is supplied with the same digital data as the semiconductor circuit block B3, and dummy semiconductor circuit block DB2 is supplied with the same digital data as the semiconductor circuit block B238.

【0044】上記以外の構成は従来例と同様である。図
2は図1の半導体集積回路装置の半導体回路ブロックB
1,B2,…,B8,…およびダミー半導体回路ブロッ
クDB1の部分の拡大図であり、C1-2 は半導体回路ブ
ロックB1,B2間のカップリング容量、C2-3 は半導
体回路ブロックB2,B3間のカップリング容量、C
3-4 は半導体回路ブロックB3,B4間のカップリング
容量、C4-5 は半導体回路ブロックB4,B5間のカッ
プリング容量、C5-6 は半導体回路ブロックB5,B6
間のカップリング容量、C6-7 は半導体回路ブロックB
6,B7間のカップリング容量、C7-8 は半導体回路ブ
ロックB7,B8間のカップリング容量、CDB1 は半導
体回路ブロックB1とダミー半導体回路ブロックDB1
との間のカップリング容量である。
The configuration other than the above is the same as the conventional example. 2 is a semiconductor circuit block B of the semiconductor integrated circuit device of FIG.
1, B2, ..., B8, ... And a dummy semiconductor circuit block DB1 are enlarged views, C 1-2 is a coupling capacitance between the semiconductor circuit blocks B1 and B2, and C 2-3 is a semiconductor circuit block B2. Coupling capacity between B3, C
3-4 is the coupling capacitance between the semiconductor circuit blocks B3 and B4, C 4-5 is the coupling capacitance between the semiconductor circuit blocks B4 and B5, and C 5-6 is the semiconductor circuit blocks B5 and B6.
Coupling capacitance between C 6-7 is semiconductor circuit block B
6, B7 is a coupling capacitance, C 7-8 is a coupling capacitance between the semiconductor circuit blocks B7 and B8, and C DB1 is a semiconductor circuit block B1 and a dummy semiconductor circuit block DB1.
Is the coupling capacity between and.

【0045】各半導体回路ブロックB1,B2,…,B
8,…のアナログ特性は、カップリング容量C1-2 ,C
2-3 ,…,C7-8 ,…,CDB1 により両隣の半導体回路
ブロックB1,B2,…,B8,…およびダミー半導体
回路ブロックDB1の影響を受け、両端位置以外の例え
ば半導体回路ブロックB2は、カップリング容量
1- 2 ,C2-3 を介して2つの半導体回路ブロックB
1,B3と結合されているので、2つの半導体回路ブロ
ックB1,B3の影響を受ける。
Each semiconductor circuit block B1, B2, ..., B
The analog characteristics of 8, ... are the coupling capacitances C 1-2 , C
2-3 , ..., C 7-8 , ..., C DB1 are influenced by the semiconductor circuit blocks B1, B2, ..., B8, ... Adjacent to both sides and the dummy semiconductor circuit block DB1 and, for example, the semiconductor circuit block B2 other than the both end positions. the coupling capacitance C 1-2, via a C 2-3 2 single semiconductor circuit blocks B
Since they are connected to the semiconductor circuit blocks B1 and B3, they are influenced by the two semiconductor circuit blocks B1 and B3.

【0046】一方、両端位置、例えば右端の半導体回路
ブロックB1はカップリング容量C 1-2 を介して半導体
回路ブロックB2と結合され、またカップリング容量C
DB1を介してダミー半導体回路ブロックDB1と結合さ
れているので、半導体回路ブロックB2の影響とダミー
半導体回路ブロックDB1の影響を受ける。ダミー半導
体回路ブロックDB1は出力配線が存在しないこと以外
は半導体回路ブロックB1〜B240と同じ構成である
ので、容量カップリングによる影響は、半導体回路ブロ
ックB1〜B240の場合と、ダミー半導体回路ブロッ
クDB1,DB2の場合とで同じと考えられる。
On the other hand, the semiconductor circuit at both ends, for example, the right end
Block B1 is coupling capacity C 1-2Through semiconductor
It is connected to the circuit block B2 and has a coupling capacitance C.
DB1Is connected to the dummy semiconductor circuit block DB1 via
Therefore, the influence of the semiconductor circuit block B2 and the dummy
It is affected by the semiconductor circuit block DB1. Dummy semi-conductor
Body circuit block DB1 except that there is no output wiring
Has the same configuration as the semiconductor circuit blocks B1 to B240.
Therefore, the effect of capacitive coupling is
Blocks B1 to B240 and the dummy semiconductor circuit block
It is considered to be the same as in the case of DB1 and DB2.

【0047】このように、この実施例の半導体集積回路
装置では、半導体回路ブロックB2〜B239は両側に
隣接した半導体回路ブロックB1〜B240と容量カッ
プリングし、両端の半導体回路ブロックB1,B240
は、片側に隣接した半導体回路ブロックB2,B239
と容量カップリングするとともに、もう片側に隣接した
ダミー半導体回路ブロックDB1,DB2とそれぞれ容
量カップリングすることになり、半導体回路ブロックB
1〜B240のすべてについて容量カップリングの程度
が同じになるため、半導体回路ブロックB1〜B240
の回路パターンを全て同じに設計し、その両側のダミー
半導体回路ブロックDB1,DB2についても出力配線
を除いて半導体回路ブロックB1〜B240と同じに設
計することで、両端の半導体回路ブロックB1,B24
0のアナログ特性を、他の半導体回路ブロックB2〜B
239のアナログ特性と同じにすることができる。
As described above, in the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, the semiconductor circuit blocks B2 to B239 are capacitively coupled with the semiconductor circuit blocks B1 to B240 which are adjacent on both sides, and the semiconductor circuit blocks B1 and B240 on both ends.
Are semiconductor circuit blocks B2 and B239 adjacent to one side.
And the dummy semiconductor circuit blocks DB1 and DB2 adjacent to each other on the other side, respectively.
1 to B240 have the same degree of capacitive coupling, the semiconductor circuit blocks B1 to B240
All of the circuit patterns are designed to be the same, and the dummy semiconductor circuit blocks DB1 and DB2 on both sides thereof are also designed to be the same as the semiconductor circuit blocks B1 to B240 except for the output wiring.
The analog characteristics of 0 are set to other semiconductor circuit blocks B2 to B
It can be the same as the analog characteristics of 239.

【0048】この結果、従来例と同様に、8個の半導体
集積回路装置で一つのカラーTFTマトリクス液晶パネ
ルを駆動する場合にも、カラーTFTマトリクス液晶パ
ネルの画面上に縦縞が入るというような致命的な欠陥の
発生が防止される。この半導体集積回路装置によれば、
半導体回路ブロックB1〜B240の両外側位置に半導
体回路ブロックB1〜B240とは出力配線が設けられ
ていないことのみ相違し、その他は同じ構成であるダミ
ー半導体回路ブロックDB1,DB2をそれぞれ並設し
たので、両外端の半導体回路ブロックB1,B240は
隣接した半導体回路ブロックB2,B239およびダミ
ー半導体回路ブロックDB1,DB2とそれぞれ容量カ
ップリングすることになり、したがって半導体回路ブロ
ックB1〜B240のすべてが同じように容量カップリ
ングすることになり、半導体回路ブロックB1〜B24
0のすべてのアナログ特性を均一化することができ、半
導体回路ブロックB1〜B240における形成場所の違
いによるアナログ特性のばらつきをなくすことができ
る。
As a result, as in the conventional example, even when one color TFT matrix liquid crystal panel is driven by eight semiconductor integrated circuit devices, it is fatal that vertical stripes appear on the screen of the color TFT matrix liquid crystal panel. Occurrence of specific defects is prevented. According to this semiconductor integrated circuit device,
Dummy semiconductor circuit blocks DB1 and DB2, which have the same structure as the semiconductor circuit blocks B1 to B240, are arranged side by side, except that output wirings are not provided at the outer side positions of the semiconductor circuit blocks B1 to B240. , The semiconductor circuit blocks B1 and B240 at both outer ends are capacitively coupled to the adjacent semiconductor circuit blocks B2 and B239 and the dummy semiconductor circuit blocks DB1 and DB2, respectively, so that all of the semiconductor circuit blocks B1 to B240 are the same. Capacitive coupling to the semiconductor circuit blocks B1 to B24
It is possible to make all the analog characteristics of 0 uniform, and it is possible to eliminate variations in the analog characteristics due to the difference in the formation location in the semiconductor circuit blocks B1 to B240.

【0049】なお、この実施例では、半導体集積回路装
置は、240個の半導体回路ブロックB1〜B240を
並設していたが、その個数は上記に限ることはない。
In this embodiment, the semiconductor integrated circuit device has 240 semiconductor circuit blocks B1 to B240 arranged side by side, but the number is not limited to the above.

【0050】[0050]

【発明の効果】請求項1記載の半導体集積回路装置によ
れば、複数個の半導体回路ブロックの両外側位置にダミ
ー半導体回路ブロックをそれぞれ並設したので、両外端
の半導体回路ブロックは隣接した半導体回路ブロックお
よびダミー半導体回路ブロックと容量カップリングする
ことになり、複数個の半導体回路ブロックのすべてが同
じように容量カップリングすることになり、複数個の半
導体回路ブロックのすべてのアナログ特性を均一化する
ことができ、複数の半導体回路ブロックにおける形成場
所の違いによるアナログ特性のばらつきをなくすことが
できる。
According to the semiconductor integrated circuit device of the first aspect, since the dummy semiconductor circuit blocks are arranged in parallel on both outer sides of the plurality of semiconductor circuit blocks, the semiconductor circuit blocks at both outer ends are adjacent to each other. Capacitive coupling with the semiconductor circuit block and dummy semiconductor circuit block means that all of the semiconductor circuit blocks are capacitively coupled in the same way, and all analog characteristics of the semiconductor circuit blocks are uniform. Therefore, it is possible to eliminate variations in analog characteristics due to differences in formation locations in a plurality of semiconductor circuit blocks.

【0051】請求項2記載の半導体集積回路装置によれ
ば、マトリクス液晶パネルを複数個の半導体集積回路装
置で駆動する際に、マトリクス液晶パネルの各半導体集
積回路装置のアナログ出力電圧の境界における縦縞の発
生を防止することができる。
According to the semiconductor integrated circuit device of the second aspect, when the matrix liquid crystal panel is driven by a plurality of semiconductor integrated circuit devices, vertical stripes at boundaries of analog output voltages of the respective semiconductor integrated circuit devices of the matrix liquid crystal panel. Can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例の半導体集積回路装置の概
略平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view of a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の半導体集積回路装置の要部の拡大図であ
る。
FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the semiconductor integrated circuit device of FIG.

【図3】従来の半導体集積回路装置の概略平面図であ
る。
FIG. 3 is a schematic plan view of a conventional semiconductor integrated circuit device.

【図4】半導体回路ブロックの具体例を示す概略図であ
る。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a specific example of a semiconductor circuit block.

【図5】半導体回路ブロックの具体的な回路構成の一例
を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a specific circuit configuration of a semiconductor circuit block.

【図6】図3の半導体集積回路装置の要部の拡大図であ
る。
6 is an enlarged view of a main part of the semiconductor integrated circuit device of FIG.

【図7】カラーTFTマトリクス液晶パネルに半導体集
積回路装置を接続した状態の概略図である。
FIG. 7 is a schematic view of a state in which a semiconductor integrated circuit device is connected to a color TFT matrix liquid crystal panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Sb 半導体基板 B1〜B240 半導体回路ブロック DB1,DB2 ダミー半導体回路ブロック Sb Semiconductor substrate B1 to B240 Semiconductor circuit block DB1, DB2 Dummy semiconductor circuit block

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アナログ電圧を制御する電気回路を構成
する同一構成の複数個の半導体回路ブロックを半導体基
板に一列に並設し、前記半導体基板の前記複数個の半導
体回路ブロックの両外側位置にダミー半導体回路ブロッ
クをそれぞれ並設したことを特徴とする半導体集積回路
装置。
1. A plurality of semiconductor circuit blocks having the same structure, which form an electric circuit for controlling an analog voltage, are arranged side by side in a row on a semiconductor substrate, and the semiconductor substrate is provided on both sides of the semiconductor substrate on both outer sides. A semiconductor integrated circuit device, wherein dummy semiconductor circuit blocks are arranged in parallel.
【請求項2】 電気回路はマトリクス液晶パネルを構成
する液晶セルを横方向の1ラインずつ駆動する液晶駆動
回路である請求項1記載の半導体集積回路装置。
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the electric circuit is a liquid crystal drive circuit for driving liquid crystal cells constituting a matrix liquid crystal panel line by line in a horizontal direction.
JP3664095A 1995-02-24 1995-02-24 Semiconductor intergrated circuit device Pending JPH08236701A (en)

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