JPH08233768A - Liquid management system - Google Patents
Liquid management systemInfo
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- JPH08233768A JPH08233768A JP3885895A JP3885895A JPH08233768A JP H08233768 A JPH08233768 A JP H08233768A JP 3885895 A JP3885895 A JP 3885895A JP 3885895 A JP3885895 A JP 3885895A JP H08233768 A JPH08233768 A JP H08233768A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄液中の成分濃度を
測定する液管理装置に係り、特に、洗浄液中の過酸化水
素、オゾンなどの酸素を発生させる有効成分濃度を確実
に管理できる液管理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid control device for measuring the concentration of components in a cleaning liquid, and more particularly to a liquid capable of reliably controlling the concentration of effective components that generate oxygen such as hydrogen peroxide and ozone in the cleaning liquid. Regarding management device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、半導体等の洗浄液の濃度分析装置
として、特願平４−３６７５５号に示される液管理装置
が知られている。この特願平４−３６７５５号に示され
る液管理装置は、洗浄液中の有効成分を分解して酸素ガ
スを発生させ、この発生した酸素ガスの濃度に基づき、
該洗浄液中の有効成分の濃度を測定するようにしたもの
である。2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid management device disclosed in Japanese Patent Application No. 4-36755 is known as a concentration analysis device for cleaning liquids such as semiconductors. The liquid management apparatus disclosed in Japanese Patent Application No. 4-36755 decomposes the active ingredient in the cleaning liquid to generate oxygen gas, and based on the concentration of the generated oxygen gas,
The concentration of the active ingredient in the cleaning solution is measured.
【０００３】そして、上記のような液管理装置では、酸
素ガスの濃度を測定する酸素センサの検出値が、予め定
めておいた上限濃度しきい値、下限濃度しきい値との間
にあるか否かを判断し、その判断結果に基づきアラーム
を出力するようにしている。具体的には、洗浄液中の有
効成分濃度が下限濃度しきい値より減少してしまった場
合には、ウエハの洗浄が充分行われないので、次工程に
かかっても、ウエハには不純物やゴミが付いたままとな
っており、これら不純物やゴミを原因とする腐食によっ
て、半導体ウエハが破損されるおそれが生じ、一方、洗
浄液中の有効成分濃度が上限濃度しきい値を越えてしま
った場合には、エッチングが進み過ぎることによって、
ウエハの一部が破損されるおそれが生じ、このため、酸
素ガスの濃度を測定する酸素センサの検出値が、予め定
めておいた上限濃度しきい値、下限濃度しきい値との間
に無い場合にはアラームを出力して、作業者に対し半導
体の洗浄工程を停止するか、あるいは洗浄液の成分チェ
ックを行わせるようにしている。なお、上記酸素センサ
としては、ポーラログラフィック法やガルバニ電池式な
どの電気化学還元を利用したものが使用されている。そ
して、このような酸素センサでは、酸素透過膜を通じて
内部に取り込まれた酸素が電極反応により還元され、酸
素濃度に比例した電流が生じるようになっており、この
電流を測定することにより酸素濃度が検出される。In the liquid management apparatus as described above, is the detected value of the oxygen sensor for measuring the concentration of oxygen gas between the predetermined upper limit threshold value and lower limit concentration threshold value? It is determined whether or not to output an alarm based on the determination result. Specifically, when the concentration of the active ingredient in the cleaning liquid is lower than the lower limit concentration threshold value, the wafer is not sufficiently cleaned, so that even if the next step is performed, impurities or dust on the wafer When the semiconductor wafer is damaged by the corrosion caused by these impurities and dust, on the other hand, the effective component concentration in the cleaning liquid exceeds the upper limit concentration threshold. Is too much etching,
A part of the wafer may be damaged. Therefore, the detection value of the oxygen sensor for measuring the concentration of oxygen gas is not between the upper limit concentration threshold and the lower limit concentration threshold set in advance. In this case, an alarm is output so that the worker can stop the semiconductor cleaning process or check the components of the cleaning liquid. As the oxygen sensor, a sensor utilizing electrochemical reduction such as a polarographic method or a galvanic cell type is used. In such an oxygen sensor, the oxygen taken in through the oxygen permeable membrane is reduced by an electrode reaction, and a current proportional to the oxygen concentration is generated. To be detected.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
に構成された液管理装置では、吸引ポンプにより、洗浄
槽から被測定液供給路を通じて洗浄液を吸引するように
しているが、このように被測定供給路を通じて洗浄液を
輸送した場合に、洗浄液中の成分（過酸化水素、オゾン
等）の一部が分解してガス化し、該洗浄液の全体の体積
が変化することがあり、これにより、吸引ポンプにより
一定の流速で洗浄液を吸引した場合であっても、必ずし
も規定量の洗浄液を取り込めるとは限らず、これによっ
て洗浄液中の成分濃度を正確に測定することができない
という不具合が生じていた。By the way, in the liquid management apparatus constructed as described above, the suction pump sucks the cleaning liquid from the cleaning tank through the liquid supply path to be measured. When the cleaning liquid is transported through the measurement supply path, some of the components (hydrogen peroxide, ozone, etc.) in the cleaning liquid are decomposed and gasified, and the total volume of the cleaning liquid may change. Even when the cleaning liquid is sucked at a constant flow rate by the pump, a specified amount of the cleaning liquid is not always taken in, which causes a problem that the component concentration in the cleaning liquid cannot be accurately measured.
【０００５】具体的には、正常な濃度で洗浄液が作成さ
れていても、吸引ポンプを通過する前に、該洗浄液中の
成分が分解されて酸素ガスが発生した場合には、規定量
よりも少ない量の洗浄液しか取り込まれず、これによっ
て酸素センサの検出値が下限濃度しきい値を下回って、
正常であるのに異常と判定されるという不具合が生じて
いた。そして、このような不具合に対処して、酸素セン
サの検出値に係数を掛ける、あるいはしきい値を修正す
れば良いが、一方で、洗浄液中の成分が分解されて生成
される酸素の割合は一定では無く、被測定液供給路の長
さ、温度、洗浄液の流速等により微妙に変化するもので
あるので、この点においても洗浄液中の成分濃度を正確
に測定することができないという不具合が生じていた。Specifically, even if the cleaning liquid is prepared in a normal concentration, if the components in the cleaning liquid are decomposed and oxygen gas is generated before passing through the suction pump, the amount of the cleaning liquid is lower than the specified amount. Only a small amount of cleaning liquid is taken in, which causes the detected value of the oxygen sensor to fall below the lower concentration threshold,
There was a problem that it was judged to be abnormal even though it was normal. Then, in order to deal with such a defect, the detection value of the oxygen sensor may be multiplied by a coefficient or the threshold value may be corrected, while the proportion of oxygen generated by decomposing the components in the cleaning liquid is Since it is not constant, it slightly changes depending on the length of the liquid to be measured supply path, the temperature, the flow rate of the cleaning liquid, etc. Was there.
【０００６】この発明は、上記の事情に鑑みてなされた
ものであって、吸引ポンプで吸い込まれる洗浄液にガス
が含まれる場合であっても、該洗浄液中の有効成分濃度
の測定を正確に行うことができる液管理装置の提供を目
的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and accurately measures the concentration of the active ingredient in the cleaning liquid even when the cleaning liquid sucked by the suction pump contains gas. It is an object of the present invention to provide a liquid management device that can be used.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に第１の発明では、被測定液供給路の途中に設けられ
て、該被測定液供給路を通じて有効成分を含む被測定液
を吸引する吸引手段と、該吸引手段により吸引された被
測定液中の成分を分解してガス化し、発生したガスを被
測定ガスとして抽出する分解抽出手段と、該分解抽出手
段にて抽出された被測定ガスの濃度を検出するガスセン
サと、該ガスセンサにより検出された被測定ガスの濃度
に基づき、被測定液中の有効成分濃度を検出する演算手
段とを具備してなり、前記分解抽出手段の上流に位置し
た被測定液供給路には、被測定液の気液割合を検出する
気液割合検出センサが設けられ、更に、前記演算手段に
は、該気液割合検出センサにより検出された被測定液の
気液割合に応じて、ガスセンサにより検出された被測定
ガスの濃度を補正する補正手段が設けられていることを
特徴とする。In order to achieve the above object, in the first aspect of the invention, the sample liquid containing the active ingredient is sucked through the sample liquid supply passage provided in the middle of the sample liquid supply passage. Suction means, decomposition and extraction means for decomposing and gasifying the components in the liquid to be measured sucked by the suction means, and extracting the generated gas as the gas to be measured, and the object to be extracted by the decomposition and extraction means. It comprises a gas sensor for detecting the concentration of the measurement gas and an arithmetic means for detecting the concentration of the active ingredient in the measurement liquid based on the concentration of the measurement gas detected by the gas sensor, and upstream of the decomposition and extraction means. A liquid-to-be-measured liquid supply path located at is provided with a gas-liquid ratio detecting sensor for detecting a gas-liquid ratio of the liquid to be measured, and further, the arithmetic means is provided with a liquid-to-be measured ratio detected by the gas-liquid ratio detecting sensor. Depending on the gas-liquid ratio of the liquid, Characterized in that the correction means for correcting the concentration of the measurement gas detected is provided by Susensa.
【０００８】第２の発明では、被測定液供給路の途中に
設けられて、該被測定液供給路を通じて有効成分を含む
被測定液を吸引する吸引手段と、該吸引手段により吸引
された被測定液中の成分を分解してガス化する分解手段
と、分解手段にて被測定液中の成分から分解された被測
定ガスを、抽出ガス供給手段を通じて供給された抽出ガ
スにより抽出する抽出手段と、該抽出手段にて抽出され
た被測定ガスのガス濃度を検出するガスセンサと、前記
分解抽出手段の上流に位置した被測定液供給路に設けら
れて、被測定液の気液割合を検出する気液割合検出セン
サと、該気液割合検出センサにより検出された被測定液
の気液割合に応じて、抽出ガス供給手段に対して、抽出
手段に供給する抽出ガスの供給量を制御して抽出ガスと
被測定ガスとの混合割合を調整する制御手段とが設けら
れていることを特徴とする。According to the second aspect of the invention, the suction means is provided in the middle of the measured liquid supply passage and sucks the measured liquid containing the active ingredient through the measured liquid supply passage, and the suction means sucked by the suction means. Decomposing means for decomposing and gasifying the components in the measurement liquid, and extraction means for extracting the measurement gas decomposed from the components in the measurement liquid by the decomposition means with the extraction gas supplied through the extraction gas supply means. And a gas sensor for detecting the gas concentration of the gas to be measured extracted by the extracting means, and a gas-to-be-measured liquid supply path provided upstream of the decomposition and extracting means to detect the gas-liquid ratio of the liquid to be measured. And a gas-liquid ratio detection sensor for controlling the supply amount of the extraction gas to be supplied to the extraction means, with respect to the extraction gas supply means, according to the gas-liquid ratio of the liquid to be measured detected by the gas-liquid ratio detection sensor. Mixed extraction gas and measured gas Wherein the control means for adjusting the proportion is provided.
【０００９】[0009]
【作用】第１の発明に示す液管理装置では、分解抽出手
段の上流位置に、被測定液の気液割合を検出する気液割
合検出センサが設けられており、該気液割合検出センサ
にて検出された被測定液の気液割合に応じて、ガスセン
サが検出した被測定ガスの濃度を補正するようにしてい
るので、吸引装置で吸い込まれる被測定液にガスが含ま
れ、規定値より少ない量の被測定液しか被測定液供給路
に取り込まれない場合であっても、被測定液の気液割合
に応じて、ガスセンサが検出した被測定ガスの濃度を補
正するにより、該被測定液中の有効成分濃度を正確に演
算することが可能となる。In the liquid management apparatus according to the first aspect of the invention, a gas-liquid ratio detection sensor for detecting the gas-liquid ratio of the liquid to be measured is provided upstream of the decomposition and extraction means. The concentration of the gas to be measured detected by the gas sensor is corrected according to the gas-liquid ratio of the liquid to be measured detected by the gas sensor. Even when only a small amount of the liquid to be measured is taken into the liquid to be measured supply path, the concentration of the gas to be measured detected by the gas sensor is corrected according to the gas-liquid ratio of the liquid to be measured, so that the liquid to be measured can be measured. It is possible to accurately calculate the concentration of the active ingredient in the liquid.
【００１０】第２の発明に示す液管理装置では、分解抽
出手段の上流位置に、被測定液の気液割合を検出する気
液割合検出センサが設けられており、該気液割合検出セ
ンサにて検出された被測定液の気液割合に応じて、抽出
ガス供給手段に対して、抽出手段に供給する抽出ガスの
供給量を調整するようにしたので、吸引装置で吸い込ま
れる被測定液にガスが含まれ、規定値より少ない量の被
測定液しか被測定液供給路に取り込まれない場合であっ
ても、被測定液の気液割合に応じて、抽出ガスの供給量
を制御して抽出ガスと被測定ガスとの混合割合を調整す
ることによって、第１の発明と同様に、該被測定液中の
有効成分濃度を正確に演算することが可能となる。In the liquid management apparatus according to the second aspect of the present invention, a gas-liquid ratio detection sensor for detecting the gas-liquid ratio of the liquid to be measured is provided upstream of the decomposition and extraction means. The amount of extraction gas supplied to the extraction means is adjusted according to the gas-liquid ratio of the measurement liquid detected by the extraction device. Even when the gas is included and only the amount of the measured liquid that is less than the specified value is taken into the measured liquid supply path, the supply amount of the extraction gas is controlled according to the gas-liquid ratio of the measured liquid. By adjusting the mixing ratio of the extraction gas and the gas to be measured, it becomes possible to accurately calculate the concentration of the active ingredient in the liquid to be measured, as in the first aspect of the invention.
【００１１】[0011]
【実施例】以下、本発明の第１実施例を図１に基づいて
説明する。図１は液管理装置の概略構成図を示すもので
あって、流体の流路からなる流体流路系１００と、デー
タ及び制御信号を処理する制御系１０１とに区分され
る。流体流路系１００は、吸引装置１、希釈装置２、塩
酸センサ３、加熱／分解装置４、抽出装置５、抽出ガス
供給装置６、除湿器７、酸素センサ８、気液割合検出セ
ンサ９とから構成されるものであって、これら各構成要
素は流路により接続されている。制御系１０１は、制御
演算回路１０、警報出力回路１１、警報設定回路１２、
警報器１３、印字装置１４、表示部１５、操作部１６、
補正手段１７とから構成されるものであって、これら各
構成要素はケーブルにより接続されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. FIG. 1 shows a schematic configuration diagram of a liquid management apparatus, which is divided into a fluid flow channel system 100 including a fluid flow channel and a control system 101 for processing data and control signals. The fluid flow path system 100 includes a suction device 1, a diluting device 2, a hydrochloric acid sensor 3, a heating / decomposing device 4, an extracting device 5, an extracting gas supply device 6, a dehumidifier 7, an oxygen sensor 8, and a gas-liquid ratio detecting sensor 9. And each of these components is connected by a flow path. The control system 101 includes a control arithmetic circuit 10, an alarm output circuit 11, an alarm setting circuit 12,
Alarm device 13, printing device 14, display unit 15, operation unit 16,
Compensation means 17 and these components are connected by a cable.
【００１２】まず、流体流路系１００の各構成要素につ
いて説明すると、吸引装置１と希釈装置２とは加熱／分
解装置４に接続され、加熱／分解装置４と抽出ガス供給
装置６は抽出装置５に接続され、抽出装置５は除湿器７
を介して酸素センサ８に接続されている。吸引装置１は
ポンプ等の輸送手段により構成されるものであって、半
導体等の洗浄液が貯留されているタンクや洗浄槽（図示
しない）から、被測定液供給路Ａを通じて洗浄液を吸引
する。First, each component of the fluid channel system 100 will be described. The suction device 1 and the diluting device 2 are connected to the heating / decomposing device 4, and the heating / decomposing device 4 and the extraction gas supply device 6 are the extracting device. 5, the extraction device 5 is a dehumidifier 7
It is connected to the oxygen sensor 8 via. The suction device 1 is composed of a transporting means such as a pump, and sucks the cleaning liquid through the measured liquid supply path A from a tank or a cleaning tank (not shown) in which the cleaning liquid such as a semiconductor is stored.
【００１３】なお、前記洗浄液には酸素を発生させる、
例えば過酸化水素、オゾン等の成分が含有されている。
また、洗浄液としては、具体的にはＨＣｌ−Ｈ2Ｏ2−Ｈ
2Ｏからなる半導体用洗浄液（本実施例では酸素を発生
させる成分は過酸化水素であるが、オゾンであっても良
い）が使用されている。また、この洗浄液中に含まれる
塩酸は、吸引装置１と加熱／分解装置４との間に位置す
る塩酸センサ３により検出されるものであるが、この場
合、洗浄液中に、塩酸に代えて他の成分（例えば、硫
酸、水酸化ナトリウム等）が含まれる場合、塩酸センサ
３に代えて当該成分を検出するセンサを設けるようにす
る。Incidentally, oxygen is generated in the cleaning liquid,
For example, it contains components such as hydrogen peroxide and ozone.
As the cleaning liquid, in particular HCl-H 2 O 2 -H
A cleaning solution for semiconductors composed of 2 O (in this embodiment, hydrogen peroxide is a component that generates oxygen, but may be ozone) is used. Further, the hydrochloric acid contained in this cleaning liquid is detected by the hydrochloric acid sensor 3 located between the suction device 1 and the heating / decomposing device 4, but in this case, instead of hydrochloric acid in the cleaning liquid, When the component (for example, sulfuric acid, sodium hydroxide, etc.) is included, a sensor for detecting the component is provided instead of the hydrochloric acid sensor 3.
【００１４】希釈装置２は、ポンプ等の輸送手段により
構成されて、流路Ｂを通じて供給された純水（希釈液）
を、吸引装置１にて吸引された洗浄液に供給、添加する
ためのものである。加熱／分解装置４は、洗浄液を一時
貯留する容器２０と、容器２０内にて洗浄液を加熱する
ホットチューブ（図示略）と、容器２０に充填されて、
過酸化水素、オゾンなどの成分を分解して、酸素ガスを
発生させる活性炭等の固体触媒２１とから構成される。The diluting device 2 is composed of a transporting means such as a pump and is supplied with pure water (diluting liquid) through the flow path B.
Is supplied to and added to the cleaning liquid sucked by the suction device 1. The heating / decomposing device 4 is filled with a container 20 for temporarily storing the cleaning liquid, a hot tube (not shown) for heating the cleaning liquid in the container 20, and the container 20.
It is composed of a solid catalyst 21 such as activated carbon that decomposes components such as hydrogen peroxide and ozone to generate oxygen gas.
【００１５】そして、加熱／分解装置４においては、ホ
ットチューブにより洗浄液が加熱された状態で、該洗浄
液中の過酸化水素が固体触媒２１により分解されて、酸
素が生成される。そして、この加熱分解装置４にて生成
された酸素は、前記洗浄液とともに更に下流に位置する
抽出装置５に供給される。なお、加熱／分解装置４とし
ては、触媒を用いて過酸化水素を分解して酸素を発生さ
せるようにしたが、これに限定されず、電気分解により
酸素を発生させるようにしても良い。また、加熱／分解
装置４は、ホットチューブにより構成される加熱手段
と、触媒により構成される分解手段とを同一の容器２０
内で一体化したものであるが、これに限定されず、別々
の容器にて、上流側に加熱手段、下流側に分解手段を設
けるようにしても良い。また、酸素を発生させる成分
（過酸化水素）が触媒のみによって分解可能である場合
には、ホットチューブからなる加熱手段を省略しても良
い。In the heating / decomposing device 4, hydrogen peroxide in the cleaning liquid is decomposed by the solid catalyst 21 in the state where the cleaning liquid is heated by the hot tube to generate oxygen. Then, the oxygen generated in the thermal decomposition apparatus 4 is supplied to the extraction apparatus 5 located further downstream together with the cleaning liquid. Although the heating / decomposing device 4 decomposes hydrogen peroxide by using a catalyst to generate oxygen, it is not limited to this and may generate oxygen by electrolysis. In addition, the heating / decomposition device 4 includes a heating means composed of a hot tube and a decomposition means composed of a catalyst in the same container 20.
However, the present invention is not limited to this, and the heating means may be provided on the upstream side and the decomposition means may be provided on the downstream side in separate containers. Further, when the component that generates oxygen (hydrogen peroxide) can be decomposed only by the catalyst, the heating means composed of a hot tube may be omitted.
【００１６】抽出装置５は、加熱／分解装置４にて得た
酸素ガスを、洗浄液から抽出する反応セル２２を有する
ものであって、該酸素ガスは、抽出ガス供給装置６から
供給された窒素等の抽出ガスにより抽出されるようにな
っている。そして、この抽出装置５では、抽出ガスによ
り抽出された酸素ガスが、該反応セル２２の上部に設け
られた被測定ガス供給路２３に送られ、一方、酸素ガス
を抽出後の洗浄液がドレンとして、該反応セル２２の下
部に設けられた流路２４から排出されるようになってい
る。The extraction device 5 has a reaction cell 22 for extracting the oxygen gas obtained by the heating / decomposition device 4 from the cleaning liquid, and the oxygen gas is nitrogen supplied from the extraction gas supply device 6. It is designed to be extracted with an extraction gas such as. Then, in the extraction device 5, the oxygen gas extracted by the extraction gas is sent to the measured gas supply path 23 provided in the upper portion of the reaction cell 22, while the cleaning liquid after the oxygen gas is extracted is drained. The gas is discharged from the flow path 24 provided at the lower part of the reaction cell 22.
【００１７】一方、抽出ガス供給装置６は、図示しない
ガス供給源から供給された抽出ガスの流量を調整する流
量調整弁と、抽出ガスの流量を検出する流量計とを有す
るものであって、流量計の計測値に基づき流量調整弁の
開度が調整されて常時一定の抽出ガスが供給されるよう
になっている。また、抽出装置５において、抽出ガスに
よって抽出されて酸素ガスは、被測定ガス供給路２３の
途中に設けられた除湿器７にて水分が除去された後、酸
素センサ８にて、抽出ガス中の酸素濃度が検出される。On the other hand, the extraction gas supply device 6 has a flow rate adjusting valve for adjusting the flow rate of the extraction gas supplied from a gas supply source (not shown), and a flow meter for detecting the flow rate of the extraction gas, The opening of the flow rate adjusting valve is adjusted based on the measurement value of the flow meter so that a constant extraction gas is constantly supplied. In the extraction device 5, the oxygen gas extracted by the extraction gas is dewatered by the dehumidifier 7 provided in the measured gas supply path 23, and then the oxygen gas is extracted by the oxygen sensor 8. The oxygen concentration of is detected.
【００１８】酸素センサ８は、抽出装置５にて抽出され
た酸素ガスの濃度を検出するものであって、該酸素セン
サ８から出力された酸素濃度を示す検出信号Ｍ１は、プ
リアンプ８Ａにて増幅、補正手段１７にて補正された
後、検出信号Ｍ３となって演算制御回路１０に供給され
る。なお、本実施例では、被測定ガス供給路２３に除湿
器７を設け、被測定ガス供給路２３内を流れるガスを乾
燥させるようにしているが、この除湿器７は、特に反応
セル２２内から水分が流れこまない場合には省略しても
よい。また、抽出装置５の反応セル２２に抽出ガスを供
給したが、これに限定されず、該抽出装置５と加熱分解
装置４との間に位置する流路の途中に、抽出ガスを供給
する抽出ガス供給装置６を設けてもよい。The oxygen sensor 8 detects the concentration of the oxygen gas extracted by the extraction device 5, and the detection signal M1 indicating the oxygen concentration output from the oxygen sensor 8 is amplified by the preamplifier 8A. After being corrected by the correction means 17, the detection signal M3 is supplied to the arithmetic control circuit 10. In the present embodiment, the dehumidifier 7 is provided in the measured gas supply path 23 to dry the gas flowing in the measured gas supply path 23. However, the dehumidifier 7 is especially used in the reaction cell 22. It may be omitted if the water does not flow from it. Further, although the extraction gas is supplied to the reaction cell 22 of the extraction device 5, the extraction gas is not limited to this, and the extraction gas is supplied in the middle of the flow path located between the extraction device 5 and the thermal decomposition device 4. A gas supply device 6 may be provided.
【００１９】気液割合検出センサ９は、洗浄液中の気液
の割合、すなわち、吸引装置１にて吸引された洗浄液中
の液体の割合を測定するものであって、具体的には静電
容量センサが使用される。この静電容量センサは、被測
定物（液体）との間の静電容量を検出し、この検出値を
予め記憶させておいたセンサしきい値との比をとること
により、洗浄液中の液体の割合に応じた検出信号Ｍ２を
出力するものであって、検出した静電容量が大きくなる
場合に、該洗浄液中の液体の割合が増加することを示す
検出信号Ｍ２が出力され、また、静電容量が小さくなる
場合に該洗浄液中の液体の割合が減少することを示す検
出信号Ｍ２が出力される。The gas-liquid ratio detection sensor 9 measures the ratio of the gas-liquid in the cleaning liquid, that is, the ratio of the liquid in the cleaning liquid sucked by the suction device 1, and more specifically, the capacitance. A sensor is used. This capacitance sensor detects the capacitance between the object to be measured (liquid) and the ratio of this detected value to the sensor threshold value stored in advance to obtain the liquid in the cleaning liquid. The detection signal M2 is output in accordance with the ratio, and the detection signal M2 indicating that the ratio of the liquid in the cleaning liquid increases when the detected electrostatic capacitance becomes large is output. A detection signal M2 indicating that the ratio of the liquid in the cleaning liquid decreases when the capacitance becomes small is output.
【００２０】なお、上記静電容量センサではセンサしき
い値を気体と液体との境を示す値に設定することによ
り、該静電容量センサの検出信号Ｍ２に基づき、被測定
流体が気体であるか、液体であるかも判別することが可
能となる。また、上記気液割合検出センサ９として静電
容量センサを使用したが、これに限定されず、光を用い
たフォトインタラプタ、電極構造を持った比抵抗等をい
ずれを使用しても良い。In the above capacitance sensor, by setting the sensor threshold value to a value indicating the boundary between gas and liquid, the fluid to be measured is gas based on the detection signal M2 of the capacitance sensor. It is also possible to determine whether or not it is liquid. Further, although the capacitance sensor is used as the gas-liquid ratio detection sensor 9, the invention is not limited to this, and a photo interrupter using light, a specific resistance having an electrode structure, or the like may be used.
【００２１】次に、制御演算回路１０、警報出力回路１
１、警報設定回路１２、印字装置１４、表示部１５、操
作部１６、補正手段１７とを有する制御系１０１につい
て詳細に説明する。Next, the control arithmetic circuit 10 and the alarm output circuit 1
1, the control system 101 including the alarm setting circuit 12, the printer 14, the display unit 15, the operation unit 16, and the correction unit 17 will be described in detail.
【００２２】制御演算回路１０には、図１に示されるよ
うに、補正手段１７から出力された検出信号Ｍ３（後述
する）と、塩酸センサ３からプリアンプ３Ａを経て出力
された検出信号が入力され、また、該制御演算回路１
０からは、吸引装置１、希釈装置２、抽出ガス供給装置
６を駆動し、これら装置１・２・６により供給される流
体流量を調整するための駆動信号〜、酸素センサ８
の検出信号Ｍ１のゼロ点、スパンを調整するためのゼロ
点／スパン調整信号、印字装置１４及び表示部１５に
対して過酸化水素、オゾン濃度を印字、表示させるため
の印字信号、表示信号が出力される。なお、駆動信
号〜により調整される吸引装置１、希釈装置２、抽
出ガス供給装置６での各流体流量は、操作部１６での操
作内容に基づき設定される。As shown in FIG. 1, the control arithmetic circuit 10 is supplied with a detection signal M3 (described later) output from the correction means 17 and a detection signal output from the hydrochloric acid sensor 3 via the preamplifier 3A. , The control arithmetic circuit 1
From 0, a drive signal for driving the suction device 1, the diluting device 2, the extraction gas supply device 6, and adjusting the flow rate of the fluid supplied by these devices 1, 2, and 6 to the oxygen sensor 8
The zero point of the detection signal M1 and the zero point / span adjustment signal for adjusting the span, the print signal and the display signal for printing and displaying the hydrogen peroxide and ozone concentrations on the printer 14 and the display unit 15, respectively. Is output. The fluid flow rates of the suction device 1, the diluting device 2, and the extraction gas supply device 6, which are adjusted by the drive signals, are set based on the operation content of the operation unit 16.
【００２３】まず、補正手段１７について説明する。こ
の補正手段１７は、気液割合検出センサ９からの検出信
号Ｍ２が入力される平均化回路２５と、酸素センサ８か
らの検出信号Ｍ２が入力される割算回路２６とにより構
成されるものである。平均化回路２５は気液割合検出セ
ンサ９からの検出信号Ｍ２の振幅を平均化するものであ
って、該平均化回路２５により平均化された検出信号Ｍ
２は、割算回路２６に供給される。割算回路２６は、酸
素センサ８により検出された酸素濃度（検出信号Ｍ１に
より示される）を、気液割合検出センサ９により検出さ
れた洗浄液中に占める液体の割合（検出信号Ｍ２により
示される）で割ることにより、前記酸素濃度を補正する
ものであって、この割算回路２６によって補正された酸
素濃度値（この値をｘとする）は、検出信号Ｍ３として
制御演算回路１０に供給される。First, the correction means 17 will be described. The correction means 17 is composed of an averaging circuit 25 to which the detection signal M2 from the gas-liquid ratio detection sensor 9 is input and a division circuit 26 to which the detection signal M2 from the oxygen sensor 8 is input. is there. The averaging circuit 25 averages the amplitude of the detection signal M2 from the gas-liquid ratio detecting sensor 9, and the detection signal M averaged by the averaging circuit 25 is used.
2 is supplied to the division circuit 26. The division circuit 26 occupies the oxygen concentration (indicated by the detection signal M1) detected by the oxygen sensor 8 in the cleaning liquid detected by the gas-liquid ratio detection sensor 9 (indicated by the detection signal M2). The oxygen concentration is corrected by dividing by, and the oxygen concentration value corrected by the dividing circuit 26 (this value is defined as x) is supplied to the control arithmetic circuit 10 as the detection signal M3. ..
【００２４】なお、割算回路２６にて補正された酸素濃
度値ｘは、酸素センサ８により検出された酸素濃度（検
出信号Ｍ１により示される）を、気液割合検出センサ９
により検出された洗浄液中に占める液体の割合（検出信
号Ｍ２により示される）で割ることにより得られたもの
であるので、吸引装置１が吸い込んだ実際の洗浄液（す
なわち、液体成分）の流量に基づき、酸素濃度が補正さ
れたことと等しい。As the oxygen concentration value x corrected by the division circuit 26, the oxygen concentration detected by the oxygen sensor 8 (indicated by the detection signal M1) is calculated by the gas-liquid ratio detection sensor 9
It is obtained by dividing by the ratio of the liquid in the cleaning liquid detected by (indicated by the detection signal M2). Therefore, based on the flow rate of the actual cleaning liquid (that is, liquid component) sucked by the suction device 1. , Is equal to the corrected oxygen concentration.
【００２５】次に、制御演算回路１０について説明す
る。この制御演算回路１０では、洗浄液の流量、希釈液
の流量、抽出ガスの流量と、補正手段１７から出力され
た検出信号Ｍ３とに基づいて、洗浄液中の過酸化水素濃
度を演算し、その演算結果を、印字信号、表示信号
として印字装置１４及び表示部１５に対しそれぞれ出力
する。また、これら印字装置１４及び表示部１５では、
制御演算回路１０からの印字信号、表示信号に基づ
いて、オペレータが認識／理解できる単位系、例えば％
あるいはｇ／Ｌという単位で印字、表示する。Next, the control arithmetic circuit 10 will be described. The control calculation circuit 10 calculates the hydrogen peroxide concentration in the cleaning liquid based on the flow rate of the cleaning liquid, the flow rate of the diluting liquid, the flow rate of the extracted gas, and the detection signal M3 output from the correction means 17, and the calculation is performed. The result is output to the printer 14 and the display unit 15 as a print signal and a display signal, respectively. Further, in the printing device 14 and the display unit 15,
A unit system that the operator can recognize / understand based on the print signal and display signal from the control arithmetic circuit 10, for example,%
Alternatively, it is printed and displayed in units of g / L.
【００２６】一方、制御演算回路１０に入力された検出
信号Ｍ３は警報出力回路１１に供給され、この警報出力
回路１１にて、この検出信号Ｍ３が異常なものか否かが
判定される。すなわち、警報出力回路１１では、検出信
号Ｍ３により示される酸素濃度値ｘが、警報設定回路１
２にて設定した上限、下限濃度しきい値より大きいか否
かを比較し、その結果、酸素センサ８の検出信号Ｍ３
が、警報設定回路１２にて設定した上限しきい値を上回
ったか否か、下限しきい値を下回ったか否かにより、異
常を示すアラームを出力して、作業者に異常を報知する
ようにしている。なお、警報設定回路１２にて設定され
る上限、下限しきい値は、例えば操作部１６の操作内容
に応じて変更されるものであり、また、これらしきい値
は固定せず、時間に応じて適宜設定変更しても良い。On the other hand, the detection signal M3 input to the control arithmetic circuit 10 is supplied to the alarm output circuit 11, and the alarm output circuit 11 determines whether or not the detection signal M3 is abnormal. That is, in the alarm output circuit 11, the oxygen concentration value x indicated by the detection signal M3 is changed to the alarm setting circuit 1
It is compared whether or not it is larger than the upper and lower concentration thresholds set in 2, and as a result, the detection signal M3 of the oxygen sensor 8 is detected.
However, depending on whether the upper limit threshold set by the alarm setting circuit 12 is exceeded or the lower limit threshold is exceeded, an alarm indicating an abnormality is output to notify the operator of the abnormality. There is. The upper and lower thresholds set by the alarm setting circuit 12 are changed according to, for example, the operation content of the operation unit 16, and these thresholds are not fixed and are set according to time. The setting may be changed as appropriate.
【００２７】次に、上述した液管理装置の作用について
説明する。まず、演算制御回路１１から、吸引装置１、
希釈装置２、抽出ガス供給装置６をそれぞれ駆動するた
めの駆動信号〜をぞれぞれ出力する。なお、通常運
転モード時では、吸引装置１、希釈装置２、抽出ガス供
給装置６の各流体流量は一定に設定する。Next, the operation of the above-mentioned liquid management device will be described. First, from the arithmetic control circuit 11, the suction device 1,
Drive signals for driving the diluting device 2 and the extraction gas supply device 6 are output respectively. In the normal operation mode, the fluid flow rates of the suction device 1, the diluting device 2, and the extraction gas supply device 6 are set to be constant.
【００２８】そして、このような吸引装置１、希釈装置
２、抽出ガス供給装置６の駆動により、過酸化水素を有
効成分とする洗浄液は、加熱分解装置４内に導かれ、こ
の加熱分解装置４内において加熱されて、かつ充填され
た触媒により該洗浄液中の過酸化水素が酸素と水とに分
解される。また、この加熱分解装置４において得られた
酸素ガスは、抽出ガス供給装置６から供給された抽出ガ
スとともに抽出装置５に供給され、この抽出装置５にお
いて洗浄液から気液分離された後、酸素センサ８にてそ
の濃度が測定され、更にプリアンプ８Ａにて検出信号Ｍ
１の直線性や利得の補正を行なう。一方、気液割合検出
センサ９からは洗浄液中の液体の割合を示す検出信号Ｍ
２が出力され、この検出信号Ｍ２は、平均化回路２５に
て振幅が平均化された後に割算回路２６に供給される。By driving the suction device 1, the diluting device 2, and the extraction gas supply device 6 as described above, the cleaning liquid containing hydrogen peroxide as an active ingredient is introduced into the thermal decomposition device 4, and the thermal decomposition device 4 is heated. The hydrogen peroxide in the cleaning liquid is decomposed into oxygen and water by the catalyst which is heated and filled in the inside. Further, the oxygen gas obtained in the thermal decomposition apparatus 4 is supplied to the extraction apparatus 5 together with the extraction gas supplied from the extraction gas supply apparatus 6, and the oxygen gas is separated from the cleaning liquid in the extraction apparatus 5 and then the oxygen sensor is supplied. The concentration is measured at 8, and the detection signal M is further detected at the preamplifier 8A.
Correction of linearity and gain of 1. On the other hand, the gas-liquid ratio detection sensor 9 outputs a detection signal M indicating the ratio of the liquid in the cleaning liquid.
2 is output, and the detection signal M2 is supplied to the division circuit 26 after the amplitude is averaged by the averaging circuit 25.
【００２９】そして、プリアンプ８Ａを経て出力された
酸素センサ８の検出信号Ｍ１と、気液割合検出センサ９
から平均化回路２５を経て出力された洗浄液中の液体の
割合を示す検出信号Ｍ２とは、共に割算回路２６に供給
され、この割算回路２６にて、酸素センサ８により検出
された酸素濃度（検出信号Ｍ１により示される）を、気
液割合検出センサ９により検出された洗浄液中に占める
液体の割合（検出信号Ｍ２により示される）で割ること
により、前記酸素濃度を補正する。そして、この割算回
路２６によって補正された酸素センサ８の酸素濃度値ｘ
は、検出信号Ｍ３として制御演算回路１０に供給され
る。Then, the detection signal M1 of the oxygen sensor 8 output through the preamplifier 8A and the gas-liquid ratio detection sensor 9 are detected.
And the detection signal M2 indicating the ratio of the liquid in the cleaning liquid output from the averaging circuit 25 are both supplied to the division circuit 26, and the oxygen concentration detected by the oxygen sensor 8 is detected in the division circuit 26. The oxygen concentration is corrected by dividing (indicated by the detection signal M1) by the ratio of the liquid in the cleaning liquid detected by the gas-liquid ratio detection sensor 9 (indicated by the detection signal M2). Then, the oxygen concentration value x of the oxygen sensor 8 corrected by the division circuit 26
Is supplied to the control arithmetic circuit 10 as a detection signal M3.
【００３０】制御演算回路１０では、該検出信号Ｍ３に
基づき、洗浄液中に含有されていた過酸化水素の割合
（％濃度、ｇ／Ｌ）を演算して、印字装置１４、表示部
１５にリアルタイムで出力する。一方、酸素センサ２７
にて検出された検出信号Ｍ３は警報出力回路１１に供給
され、この警報出力回路１１にて、検出信号Ｍ３により
示される酸素濃度が、警報設定回路１２にて設定した上
限濃度しきい値（例えば、２０％）より大きい否か、下
限濃度しきい値（例えば、１０％）より大きいか否かを
判断し、その判断の結果、酸素濃度が、上限濃度しきい
値より大きい、あるいは下限濃度しきい値より小さい場
合には、警報器１３に対して作業者に対して洗浄液をチ
ェックさせるための警報アラームを出力する。The control calculation circuit 10 calculates the ratio (% concentration, g / L) of hydrogen peroxide contained in the cleaning liquid based on the detection signal M3, and the real time is displayed on the printer 14 and the display unit 15. To output. On the other hand, the oxygen sensor 27
The detection signal M3 detected by is supplied to the alarm output circuit 11, and the oxygen concentration indicated by the detection signal M3 is detected by the alarm output circuit 11 so that the oxygen concentration indicated by the upper limit threshold value (eg, , 20%) and a lower limit concentration threshold value (for example, 10%), and as a result of the determination, the oxygen concentration is higher than the upper limit concentration threshold value or lower than the lower limit concentration value. When it is smaller than the threshold value, an alarm alarm for causing the operator to check the cleaning liquid is output to the alarm device 13.
【００３１】なお、警報設定回路１２にて設定される２
０％という上限濃度しきい値、１０％という下限濃度し
きい値は、任意に設定変更可能であることは言うまでも
無い。また、制御演算回路１０には、塩酸センサ３から
塩酸濃度を示す検出信号が入力されるようになってお
り、この制御演算回路１０では、検出信号により示さ
れる塩酸濃度が、酸素センサ８と同様、予め設定した上
限濃度しきい値と下限濃度しきい値との間から外れる場
合に、警報器１３に対して警報を出力させるようにして
いる。2 set by the alarm setting circuit 12
It goes without saying that the upper limit density threshold of 0% and the lower limit density threshold of 10% can be arbitrarily changed. Further, a detection signal indicating the hydrochloric acid concentration is input from the hydrochloric acid sensor 3 to the control arithmetic circuit 10. In this control arithmetic circuit 10, the hydrochloric acid concentration indicated by the detection signal is the same as that of the oxygen sensor 8. The alarm device 13 is caused to output an alarm when it deviates from between the preset upper and lower concentration thresholds.
【００３２】なお、制御演算回路１０では、吸引装置
１、希釈装置２、抽出ガス供給装置６の各流体流量は一
定量に設定したが、これに限定されず、希釈装置２、抽
出ガス供給装置６により供給される流体流量を、吸引装
置１により供給される流体流量に対して変更する場合に
は以下の（一）（二）のような演算を行う。 （一） 加熱／分解装置２に供給される過酸化水素の濃
度は、吸引装置１により供給される洗浄液の流量、抽出
ガス供給装置６により供給される抽出ガスの流量が一定
である場合に、希釈装置３により供給される希釈液の流
量に応じて変化する。すなわち、酸素センサ８にて検出
される酸素濃度（過酸化水素の濃度）は、希釈装置３の
流量を増大させることで減少し、希釈装置３の流量を減
少させることで増加し、その割合は希釈液による洗浄液
の希釈割合に比例する。In the control arithmetic circuit 10, the flow rate of each fluid of the suction device 1, the diluting device 2 and the extraction gas supply device 6 is set to a fixed amount, but the present invention is not limited to this, and the diluting device 2 and the extraction gas supply device are not limited thereto. When the flow rate of the fluid supplied by 6 is changed with respect to the flow rate of the fluid supplied by the suction device 1, the following operations (1) and (2) are performed. (1) When the concentration of hydrogen peroxide supplied to the heating / decomposition device 2 is constant when the flow rate of the cleaning liquid supplied by the suction device 1 and the flow rate of the extraction gas supplied by the extraction gas supply device 6 are constant, It changes according to the flow rate of the diluting liquid supplied by the diluting device 3. That is, the oxygen concentration (hydrogen peroxide concentration) detected by the oxygen sensor 8 decreases as the flow rate of the diluting device 3 increases, and increases as the flow rate of the diluting device 3 decreases. It is proportional to the dilution ratio of the cleaning solution with the diluent.
【００３３】そして、この希釈割合は、吸引装置１の流
量を、吸引装置１と希釈装置３の合計の流量で割った値
のことであり、吸引装置１に吸入される過酸化水素の濃
度を求めるには、酸素センサ８にて検出された過酸化水
素の濃度に、この希釈割合を掛けるようにし、これによ
り正確な過酸化水素の濃度を求めるようにする。なお、
このような希釈割合は、塩酸センサ３にて検出された塩
酸濃度に対しても掛けるようにし、これにより塩酸濃度
を補正する。 （二） 一方、加熱／分解装置２に供給される洗浄液、
希釈液の流量が一定であっても、抽出ガス供給装置６か
ら抽出ガスを多く供給すると、酸素センサ８に供給され
る酸素濃度は減少し、抽出ガスの流量と酸素濃度は反比
例の関係となる。従って、酸素センサ８から得られた酸
素濃度を、抽出ガスの流量で割ることによって、加熱／
分解装置２に実際に供給された過酸化水素の濃度が求め
られる。The dilution ratio is a value obtained by dividing the flow rate of the suction device 1 by the total flow rate of the suction device 1 and the diluting device 3, and the concentration of hydrogen peroxide sucked into the suction device 1 is determined. In order to obtain the hydrogen peroxide concentration, the concentration of hydrogen peroxide detected by the oxygen sensor 8 is multiplied by this dilution ratio, whereby the accurate concentration of hydrogen peroxide is obtained. In addition,
Such a dilution ratio is also multiplied by the hydrochloric acid concentration detected by the hydrochloric acid sensor 3 to correct the hydrochloric acid concentration. (2) On the other hand, the cleaning liquid supplied to the heating / decomposing device 2,
Even if the flow rate of the diluting liquid is constant, when a large amount of the extracted gas is supplied from the extracted gas supply device 6, the oxygen concentration supplied to the oxygen sensor 8 decreases, and the extracted gas flow rate and the oxygen concentration have an inversely proportional relationship. . Therefore, by dividing the oxygen concentration obtained from the oxygen sensor 8 by the flow rate of the extraction gas, heating /
The concentration of hydrogen peroxide actually supplied to the decomposition device 2 is obtained.
【００３４】以上詳細に説明したように本実施例に示す
液管理装置では、被測定液供給路Ａの加熱／分解装置４
が設けられた位置よりも上流位置に、洗浄液の液体割合
を検出する気液割合検出センサ９が設けられ、該気液割
合検出センサ８にて検出された洗浄液の液体割合に応じ
て、酸素センサ８が検出した酸素ガスの濃度を補正する
補正回路１７が設けられているので、吸引装置１で吸い
込まれる洗浄液にガスが含まれ、規定値より少ない量の
洗浄液しか被測定液供給路Ａに取り込まれない場合であ
っても、洗浄液の液体割合に応じて、酸素センサ８が検
出した被測定ガスの濃度を補正できて、該洗浄液中の有
効成分濃度を正確に演算することが可能となる。なお、
本実施例において気液割合検出センサ９は被測定液供給
路Ａの加熱／分解装置４が設けられた位置よりも上流側
に設けているが、この気液割合検出センサ９の被測定液
供給路Ａへの取付位置は、吸引装置１近傍に設けた方が
好ましく、加熱／分解装置４と吸引装置１との間に気液
割合検出センサ９を設けることがより好ましい。そし
て、この様にすれば、加熱／分解装置４に供給される洗
浄液の量を正確に測定することができる。As described in detail above, in the liquid management apparatus of this embodiment, the heating / decomposing device 4 for the measured liquid supply path A is used.
A gas-liquid ratio detection sensor 9 for detecting the liquid ratio of the cleaning liquid is provided at a position upstream of the position where the oxygen sensor is provided according to the liquid ratio of the cleaning liquid detected by the gas-liquid ratio detection sensor 8. Since the correction circuit 17 for correcting the concentration of the oxygen gas detected by 8 is provided, the cleaning liquid sucked by the suction device 1 contains gas, and only the cleaning liquid of a smaller amount than the specified value is taken into the measured liquid supply path A. Even if it is not, the concentration of the measured gas detected by the oxygen sensor 8 can be corrected according to the liquid ratio of the cleaning liquid, and the effective component concentration in the cleaning liquid can be accurately calculated. In addition,
In the present embodiment, the gas-liquid ratio detecting sensor 9 is provided on the upstream side of the position where the heating / decomposing device 4 is provided in the measured liquid supply path A. The attachment position to the passage A is preferably provided near the suction device 1, and more preferably, the gas-liquid ratio detection sensor 9 is provided between the heating / decomposition device 4 and the suction device 1. Then, in this way, the amount of the cleaning liquid supplied to the heating / decomposing device 4 can be accurately measured.
【００３５】次に、図２を参照して本発明の第２実施例
について説明する。図２に示す液管理装置が図１に示す
ものと構成を異にするのは、気液割合検出センサ９から
出力される検出信号Ｍ２の処理であって、図２では、気
液割合検出センサ９から出力される検出信号Ｍ２は直
接、制御演算回路１０に供給されるとともに、プリアン
プ８Ａを介して出力された酸素センサ８の検出信号Ｍ１
も途中でその濃度値が補正されず、直接、制御演算回路
１０に供給される。Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The liquid management apparatus shown in FIG. 2 differs from that shown in FIG. 1 in the processing of the detection signal M2 output from the gas-liquid ratio detection sensor 9. In FIG. The detection signal M2 output from the oxygen sensor 8 is directly supplied to the control arithmetic circuit 10 and output from the oxygen sensor 8 via the preamplifier 8A.
In the middle, the density value is not corrected and is directly supplied to the control arithmetic circuit 10.
【００３６】一方、制御演算回路１０では、気液割合検
出センサ９から出力される検出信号Ｍ２に基づき以下の
制御を行なう。すなわち、制御演算回路１０では、気液
割合検出センサ９にて検出される液体の割合に応じて抽
出ガス供給装置６の弁を開閉する。そして、このときの
抽出ガス供給装置６では、洗浄液中の液体の割合に対応
した時間分だけ開弁とし、洗浄液中の気体の割合に対応
した時間分だけ閉弁する。すなわち、洗浄液中の液体の
割合が大きければ大きい程、開弁している時間が長くな
るようにすることにより、気液割合検出センサ９にて検
出される液体の割合に応じた窒素ガスを供給するもので
あり、このような開弁制御は、制御演算回路１０から出
力される制御信号に基づき行うものである。なお、こ
のような抽出ガス供給装置６の制御に際しては、希釈装
置２の制御は行わず、希釈液の流量は一定とする。ま
た、このような抽出ガス供給装置６は一定時間を、洗浄
液中の液体、気体の割合に応じて配分することにより、
開弁、閉弁を繰り返すようにする。On the other hand, the control calculation circuit 10 performs the following control based on the detection signal M2 output from the gas-liquid ratio detection sensor 9. That is, in the control arithmetic circuit 10, the valve of the extraction gas supply device 6 is opened and closed according to the ratio of the liquid detected by the gas-liquid ratio detection sensor 9. Then, in the extraction gas supply device 6 at this time, the valve is opened for a time corresponding to the ratio of the liquid in the cleaning liquid, and closed for the time corresponding to the ratio of the gas in the cleaning liquid. That is, the larger the ratio of the liquid in the cleaning liquid is, the longer the valve opening time is, so that the nitrogen gas corresponding to the ratio of the liquid detected by the gas-liquid ratio detection sensor 9 is supplied. The valve opening control is performed based on the control signal output from the control arithmetic circuit 10. When controlling the extraction gas supply device 6 as described above, the diluting device 2 is not controlled, and the flow rate of the diluting liquid is constant. In addition, such an extraction gas supply device 6 distributes a certain period of time according to the ratio of liquid and gas in the cleaning liquid,
Repeat opening and closing.
【００３７】そして、以上のような第２実施例で示され
る液管理装置では、被測定液供給路Ａの吸引装置１の近
傍位置に、洗浄液の液体割合を検出する気液割合検出セ
ンサ９が設けられており、気液割合検出センサ９にて検
出された洗浄液の液体割合に応じて、抽出ガス供給装置
６に対して、抽出装置５に供給する窒素ガスの供給量を
調整するようにしたので、吸引装置１で吸い込まれる洗
浄液にガスが含まれ、規定値より少ない量の洗浄液しか
被測定液供給路Ａに取り込まれない場合であっても、洗
浄液の液体割合に応じて窒素ガスの供給量を調整するこ
とにより、酸素センサ８に対して被測定ガスの測定を行
わせることが可能となり、第１実施例と同様、該洗浄液
中の有効成分濃度を正確に演算することが可能となる。Further, in the liquid management apparatus shown in the second embodiment as described above, the gas-liquid ratio detecting sensor 9 for detecting the liquid ratio of the cleaning liquid is provided at a position in the measured liquid supply path A in the vicinity of the suction device 1. The amount of nitrogen gas supplied to the extraction device 5 is adjusted with respect to the extraction gas supply device 6 according to the liquid ratio of the cleaning liquid detected by the gas-liquid ratio detection sensor 9. Therefore, even if the cleaning liquid sucked by the suction device 1 contains gas and only a smaller amount of cleaning liquid than the specified value is taken into the measured liquid supply path A, the nitrogen gas is supplied according to the liquid ratio of the cleaning liquid. By adjusting the amount, the oxygen sensor 8 can be made to measure the gas to be measured, and the concentration of the effective component in the cleaning liquid can be accurately calculated as in the first embodiment. .
【００３８】なお、第２実施例では、抽出ガス供給装置
６の弁を開閉することにより、抽出ガスとしての窒素ガ
スの供給量を調整するようにしたが、これに限定され
ず、弁の開度を調整することにより窒素ガスの供給量を
調整しても良い。また、第２実施例では、気液割合検出
センサ９にて検出された洗浄液の液体割合に応じて、抽
出ガス供給装置６に対して、抽出装置５に供給する窒素
ガスの供給量を調整するようにしたが、このような抽出
ガス供給装置６の制御に代えて、気液割合検出センサ９
にて検出された洗浄液の液体割合に応じ、すなわち、液
体割合が少なければ少ない程吸引装置１の吸引能力をあ
げて、加熱／分解装置４、抽出装置５に供給される洗浄
液の量を常に一定に調整させるようにしても良い。In the second embodiment, the supply amount of the nitrogen gas as the extraction gas is adjusted by opening and closing the valve of the extraction gas supply device 6, but the present invention is not limited to this, and the valve is opened. The supply amount of nitrogen gas may be adjusted by adjusting the temperature. Further, in the second embodiment, the supply amount of the nitrogen gas supplied to the extraction device 5 is adjusted with respect to the extraction gas supply device 6 according to the liquid ratio of the cleaning liquid detected by the gas-liquid ratio detection sensor 9. However, instead of such control of the extraction gas supply device 6, the gas-liquid ratio detection sensor 9 is used.
In accordance with the liquid ratio of the cleaning liquid detected in step 1, that is, the smaller the liquid ratio, the higher the suction capacity of the suction device 1, and the amount of the cleaning liquid supplied to the heating / decomposing device 4 and the extracting device 5 is always constant. May be adjusted.
【００３９】また、第１、第２実施例では、半導体の製
造時に使用される洗浄液中の過酸化水素、オゾンの有効
成分濃度を検出する液管理装置について説明したが、こ
れに限定されず、このような液管理装置を、野菜工場な
どの農業関係の施設で、殺菌、洗浄に使用する洗浄液中
の過酸化水素、オゾンの有効成分濃度を検出することに
利用しても良い。Further, in the first and second embodiments, the liquid management device for detecting the concentration of the effective components of hydrogen peroxide and ozone in the cleaning liquid used in manufacturing the semiconductor has been described, but the present invention is not limited to this. Such a liquid management device may be used in an agricultural facility such as a vegetable factory to detect the concentration of effective components of hydrogen peroxide and ozone in the cleaning liquid used for sterilization and cleaning.
【００４０】また、第１、第２実施例では、吸引装置１
の直前に位置する被測定液供給路Ａに気液割合検出セン
サ９に設けたが、これに限定されず、吸引装置１の直後
に設けても良く、要は吸引装置１の近傍であれば良い。
また、第１、第２実施例では、制御系１０１をアナログ
回路及びデジタル回路により構成したが、検出信号の取
り込みや各種しきい値の切り換え制御をマイコンにより
行うようにしても良い。また、上記実施例の構成要素は
特許請求の範囲の構成要素と以下のような関係にある。
すなわち、実施例に記載の吸引装置１は特許請求の範囲
の「吸引手段」に相当し、加熱／分解装置４は特許請求
の範囲の「分解手段」と「分解抽出手段」に相当し、抽
出装置５は特許請求の範囲の「抽出手段」と「分解抽出
手段」に相当し、抽出ガス供給装置６は特許請求の範囲
の「抽出ガス供給手段」に相当し、酸素センサ８は特許
請求の範囲の「ガスセンサ」に相当する。また、実施例
に記載の補正回路１７は特許請求の範囲の「補正手段」
に相当し、更に、制御演算手段１０は特許請求の範囲の
「演算手段」「制御手段」に相当する。Further, in the first and second embodiments, the suction device 1
Although the gas-liquid ratio detection sensor 9 is provided in the measured liquid supply path A located immediately before, the present invention is not limited to this, and may be provided immediately after the suction device 1, as long as it is in the vicinity of the suction device 1. good.
Further, in the first and second embodiments, the control system 101 is constituted by the analog circuit and the digital circuit, but the detection signal may be fetched and various thresholds may be switched by a microcomputer. The constituent elements of the above embodiment have the following relationship with the constituent elements of the claims.
That is, the suction device 1 described in the embodiment corresponds to “suction means” in the claims, and the heating / decomposition device 4 corresponds to “decomposition means” and “decomposition extraction means” in the claims and extraction. The device 5 corresponds to "extracting means" and "decomposition and extracting means" in the claims, the extracted gas supply device 6 corresponds to "extracting gas supply means" in the claims, and the oxygen sensor 8 is claimed in the claims. It corresponds to the "gas sensor" of the range. Further, the correction circuit 17 described in the embodiment is the “correction unit” in the claims.
Further, the control calculation means 10 corresponds to "calculation means" and "control means" in the claims.
【００４１】[0041]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように第１の発
明に示す液管理装置では、分解抽出手段の上流位置に、
被測定液の気液割合を検出する気液割合検出センサが設
けられており、該気液割合検出センサにて検出された被
測定液の気液割合に応じて、ガスセンサが検出した被測
定ガスの濃度を補正するようにしているので、吸引装置
で吸い込まれる被測定液にガスが含まれ、規定値より少
ない量の被測定液しか被測定液供給路に取り込まれない
場合であっても、被測定液の気液割合に応じて、ガスセ
ンサが検出した被測定ガスの濃度を補正するにより、該
被測定液中の有効成分濃度を正確に演算することが可能
となる。As is apparent from the above description, in the liquid management apparatus according to the first aspect of the invention, the liquid management device is provided at the upstream position of the decomposition and extraction means.
A gas-liquid ratio detection sensor for detecting the gas-liquid ratio of the liquid to be measured is provided, and the gas to be measured detected by the gas sensor according to the gas-liquid ratio of the liquid to be measured detected by the gas-liquid ratio detection sensor. Since the concentration of is to be corrected, even if the liquid to be measured sucked by the suction device contains gas and only a small amount of liquid to be measured is introduced into the liquid supply path to be measured, By correcting the concentration of the measured gas detected by the gas sensor according to the gas-liquid ratio of the measured liquid, it becomes possible to accurately calculate the concentration of the effective component in the measured liquid.
【００４２】第２の発明に示す液管理装置では、分解抽
出手段の上流位置に、被測定液の気液割合を検出する気
液割合検出センサが設けられており、該気液割合検出セ
ンサにて検出された被測定液の気液割合に応じて、抽出
ガス供給手段に対して、抽出手段に供給する抽出ガスの
供給量を調整するようにしたので、吸引装置で吸い込ま
れる被測定液にガスが含まれ、規定値より少ない量の被
測定液しか被測定液供給路に取り込まれない場合であっ
ても、被測定液の気液割合に応じて、抽出ガスの供給量
を制御して抽出ガスと被測定ガスとの混合割合を調整す
ることによって、第１の発明と同様に、該被測定液中の
有効成分濃度を正確に演算することが可能となる。In the liquid management apparatus according to the second aspect of the present invention, a gas-liquid ratio detecting sensor for detecting the gas-liquid ratio of the liquid to be measured is provided at the upstream position of the decomposition and extraction means. The amount of extraction gas supplied to the extraction means is adjusted according to the gas-liquid ratio of the measurement liquid detected by the extraction device. Even when the gas is included and only the amount of the measured liquid that is less than the specified value is taken into the measured liquid supply path, the supply amount of the extraction gas is controlled according to the gas-liquid ratio of the measured liquid. By adjusting the mixing ratio of the extraction gas and the gas to be measured, it becomes possible to accurately calculate the concentration of the active ingredient in the liquid to be measured, as in the first aspect of the invention.
【図１】本発明の第１実施例に係わる液管理装置の全体
を示す図。FIG. 1 is a diagram showing an entire liquid management apparatus according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第２実施例に係わる液管理装置の全体
を示す図。FIG. 2 is a diagram showing an entire liquid management apparatus according to a second embodiment of the present invention.
Ａ 被測定液供給路 １ 吸引装置（吸引手段） ２ 希釈装置 ３ 塩酸センサ ４ 加熱／分解装置（分解手段／分解抽出手段） ５ 抽出装置（抽出手段／分解抽出手段） ６ 抽出ガス供給装置（抽出ガス供給手段） ８ 酸素センサ（ガスセンサ） ９ 気液割合検出センサ １７ 補正回路（補正手段） １０ 制御演算手段（演算手段／制御手段） １００ 流体流路系 １０１ 制御系 A liquid to be measured supply path 1 suction device (suction means) 2 diluting device 3 hydrochloric acid sensor 4 heating / decomposition device (decomposition means / decomposition extraction means) 5 extraction device (extraction means / decomposition extraction means) 6 extraction gas supply device (extraction) Gas supply means) 8 Oxygen sensor (gas sensor) 9 Gas-liquid ratio detection sensor 17 Correction circuit (correction means) 10 Control calculation means (calculation means / control means) 100 Fluid flow path system 101 Control system
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１Ｚ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication H01L 21/304 341 H01L 21/304 341Z
Claims (2)
被測定液供給路を通じて有効成分を含む被測定液を吸引
する吸引手段と、 該吸引手段により吸引された被測定液中の成分を分解し
てガス化し、発生したガスを被測定ガスとして抽出する
分解抽出手段と、 該分解抽出手段にて抽出された被測定ガスの濃度を検出
するガスセンサと、 該ガスセンサにより検出された被測定ガスの濃度に基づ
き、被測定液中の有効成分濃度を検出する演算手段とを
具備してなり、 前記分解抽出手段の上流に位置した被測定液供給路に
は、被測定液の気液割合を検出する気液割合検出センサ
が設けられ、更に、前記演算手段には、該気液割合検出
センサにより検出された被測定液の気液割合に応じて、
ガスセンサにより検出された被測定ガスの濃度を補正す
る補正手段が設けられていることを特徴とする液管理装
置。1. A suction means, which is provided in the middle of the measured liquid supply path and sucks the measured liquid containing an active ingredient through the measured liquid supply path, and a suction means in the measured liquid sucked by the suction means. Decomposition and extraction means for decomposing and gasifying the components and extracting the generated gas as a measurement gas, a gas sensor for detecting the concentration of the measurement gas extracted by the decomposition and extraction means, and a detection object detected by the gas sensor. And a calculation means for detecting the concentration of the active ingredient in the measured liquid based on the concentration of the measured gas, and the measured liquid supply path upstream of the decomposition and extraction means has a gas-liquid state of the measured liquid. A gas-liquid ratio detection sensor for detecting the ratio is provided, and further, the arithmetic means, depending on the gas-liquid ratio of the liquid to be measured detected by the gas-liquid ratio detection sensor,
A liquid management apparatus comprising: a correction unit that corrects a concentration of a gas to be measured detected by a gas sensor.
被測定液供給路を通じて有効成分を含む被測定液を吸引
する吸引手段と、 該吸引手段により吸引された被測定液中の成分を分解し
てガス化する分解手段と、 分解手段にて被測定液中の成分から分解された被測定ガ
スを、抽出ガス供給手段を通じて供給された抽出ガスに
より抽出する抽出手段と、 該抽出手段にて抽出された被測定ガスのガス濃度を検出
するガスセンサと、 前記分解抽出手段の上流に位置した被測定液供給路に設
けられて、被測定液の気液割合を検出する気液割合検出
センサと、 該気液割合検出センサにより検出された被測定液の気液
割合に応じて、抽出ガス供給手段に対して、抽出手段に
供給する抽出ガスの供給量を制御して抽出ガスと被測定
ガスとの混合割合を調整する制御手段と具備することを
特徴とする液管理装置。2. A suction means provided in the middle of the measured liquid supply path for sucking the measured liquid containing an active ingredient through the measured liquid supply path, and a suction means in the measured liquid sucked by the suction means. Decomposing means for decomposing and gasifying the components, extracting means for extracting the measured gas decomposed from the components in the liquid to be measured by the decomposing means with the extracted gas supplied through the extracting gas supply means, and the extracting A gas sensor for detecting the gas concentration of the measured gas extracted by the means, and a gas-liquid ratio for detecting the gas-liquid ratio of the measured liquid, which is provided in the measured liquid supply path located upstream of the decomposition and extraction means. A detection sensor and an extraction gas by controlling the supply amount of the extraction gas supplied to the extraction means to the extraction gas supply means in accordance with the gas-liquid ratio of the liquid to be measured detected by the gas-liquid ratio detection sensor. Adjust the mixing ratio with the measured gas Liquid management apparatus characterized by comprising a that the control means.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3885895A JPH08233768A (en) | 1995-02-27 | 1995-02-27 | Liquid management system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3885895A JPH08233768A (en) | 1995-02-27 | 1995-02-27 | Liquid management system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08233768A true JPH08233768A (en) | 1996-09-13 |
Family
ID=12536909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3885895A Withdrawn JPH08233768A (en) | 1995-02-27 | 1995-02-27 | Liquid management system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08233768A (en) |
-
1995
- 1995-02-27 JP JP3885895A patent/JPH08233768A/en not_active Withdrawn
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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