JPH0823004A - Manufacturing for semiconductor package - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体パッケージの製
造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor package manufacturing method.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体パッケージ上に搭載された半導体
チップは、外界の湿気や汚れ等からの保護のために、し
ばしばポッティング法により樹脂封止される。2. Description of the Related Art A semiconductor chip mounted on a semiconductor package is often resin-sealed by a potting method in order to protect it from moisture and dirt in the external environment.
【0003】ここで半導体パッケージの製造プロセスの
一例を紹介する。まず、配線パターン等を有する電子部
品搭載用基板をあらかじめ作製する。次に、ダイボンデ
ィング工程によって、基板上のダイエリアに熱硬化性樹
脂等を介して半導体チップを搭載する。その後、樹脂硬
化工程によって樹脂を硬化させた後、ワイヤボンディン
グ工程によって半導体チップ側と基板側とを接続する。
そして、ディスペンサ等によってダイエリアにポッティ
ング樹脂を供給することにより、半導体チップを封止す
る。Here, an example of a semiconductor package manufacturing process will be introduced. First, an electronic component mounting substrate having a wiring pattern or the like is prepared in advance. Next, a semiconductor chip is mounted on the die area on the substrate via a thermosetting resin or the like by a die bonding process. After that, the resin is cured by a resin curing step, and then the semiconductor chip side and the substrate side are connected by a wire bonding step.
Then, the semiconductor chip is sealed by supplying potting resin to the die area with a dispenser or the like.
【0004】しかし、ポッティング法による樹脂封止
は、他の樹脂封止法に比較して封止部分の形成精度に劣
るという難点がある。このため、基板上のダイエリアの
周囲に、いわゆる封止枠を形成しておくという対策が採
られる場合がある。このような封止枠は、供給されたポ
ッティング樹脂の拡がりを規制する役割を果たす。封止
枠を形成する方法としては、例えば枠状部材を圧着する
方法や、封止枠形成用樹脂を印刷する方法等が知られて
いる。However, the resin sealing by the potting method is inferior to other resin sealing methods in that the accuracy of forming the sealed portion is inferior. Therefore, a measure may be taken to form a so-called sealing frame around the die area on the substrate. Such a sealing frame plays a role of controlling the spread of the supplied potting resin. As a method of forming the sealing frame, for example, a method of pressure-bonding a frame-shaped member, a method of printing a sealing frame forming resin, and the like are known.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところが、基板上に封
止枠を設けようとすると、既存の半導体パッケージ製造
プロセスとは別に、上述したような圧着や印刷等といっ
た封止枠形成工程が必要になる。よって、圧着や印刷等
を行うための専用の設備や装置等が必要になり、おのず
と半導体パッケージのコスト性や生産性が悪くなってし
まう。However, when the sealing frame is provided on the substrate, the sealing frame forming process such as the above-mentioned pressure bonding and printing is required in addition to the existing semiconductor package manufacturing process. Become. Therefore, a dedicated facility or device for performing pressure bonding, printing, etc. is required, which naturally lowers the cost and productivity of the semiconductor package.
【0006】本発明は上記の課題を解消するためになさ
れたものであり、その目的は、生産性やコスト性の悪化
を招くことなく、ダイエリアの周囲に封止枠を容易に形
成することができる半導体パッケージの製造方法を提供
することにある。The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to easily form a sealing frame around a die area without deteriorating productivity and cost. It is to provide a method of manufacturing a semiconductor package that can achieve
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項1に記載の発明では、ダイボンディング装
置のスタンプによって基板上のダイエリアにダイボンデ
ィング用樹脂を転写し、かつその転写されたダイボンデ
ィング用樹脂上に半導体チップを搭載するダイボンディ
ング工程を行った後、樹脂硬化工程及びワイヤボンディ
ング工程を行い、さらにポッティング樹脂によって前記
半導体チップを封止する樹脂封止工程を行う半導体パッ
ケージの製造方法において、前記ダイボンディング用樹
脂を転写するとき、前記装置のスタンプによって封止枠
形成用樹脂を転写する半導体パッケージの製造方法をそ
の要旨としている。In order to solve the above-mentioned problems, in the invention described in claim 1, the die-bonding resin is transferred to the die area on the substrate by the stamp of the die-bonding apparatus, and the transfer is performed. A semiconductor package that performs a die bonding step of mounting a semiconductor chip on the resin for die bonding that has been performed, then performs a resin curing step and a wire bonding step, and further performs a resin sealing step of sealing the semiconductor chip with potting resin. In the method for manufacturing a semiconductor package, the gist is a method for manufacturing a semiconductor package, in which the resin for forming a sealing frame is transferred by a stamp of the apparatus when the resin for die bonding is transferred.
【0008】請求項2に記載の発明では、請求項1にお
いて、前記ダイエリア用の転写面と封止枠形成用の転写
面とを備えたスタンプによって転写することをその要旨
としている。According to the second aspect of the invention, in the first aspect, the transfer is performed by a stamp having the transfer surface for the die area and the transfer surface for forming the sealing frame.
【0009】[0009]
【作用】請求項1,2に記載の発明によると、ダイボン
ディング工程において使用されるスタンプによって、基
板上のダイエリアにダイボンディング用樹脂が転写され
るとともに、ダイエリアの周囲に封止枠形成用樹脂も転
写される。According to the present invention, the stamp used in the die bonding step transfers the die bonding resin to the die area on the substrate and forms the sealing frame around the die area. The resin for printing is also transferred.
【0010】特に請求項1において、前記ダイボンディ
ング用樹脂と前記封止枠形成用樹脂とを、それぞれ形状
の異なる転写面を持つ専用のスタンプによって個別に転
写することが好ましい。この場合、ダイボンディング用
樹脂及び封止枠形成用樹脂の転写用に専用のスタンプが
使用されるため、両樹脂が個々に転写される。In particular, it is preferable that the die bonding resin and the sealing frame forming resin are individually transferred by dedicated stamps having transfer surfaces having different shapes. In this case, since a dedicated stamp is used for transferring the die bonding resin and the sealing frame forming resin, both resins are individually transferred.
【0011】また、ダイボンディング用樹脂を絶縁性エ
ポキシ樹脂とすると、常温で転写した後に加熱すること
によって樹脂が硬化し、その結果としてダイエリアに半
導体チップが確実に接着される。さらに、絶縁性エポキ
シ樹脂であるため、コスト性、絶縁性及び接着性に優れ
ている。When the resin for die bonding is an insulating epoxy resin, the resin is cured by heating after transferring at room temperature, and as a result, the semiconductor chip is surely bonded to the die area. Further, since it is an insulating epoxy resin, it is excellent in cost performance, insulation property and adhesiveness.
【0012】また、封止枠形成用樹脂を絶縁性エポキシ
樹脂にシリコーン樹脂の粉末を添加したものとすると、
ダイエリアに転写された樹脂を加熱硬化する条件設定に
よって、同時にダイエリアの周囲に転写された樹脂も硬
化させることができる。また、絶縁性エポキシ樹脂にシ
リコーン樹脂の粉末を添加したものも使用でき、コスト
性、絶縁性、接着性及び揮発性に優れている。If the resin for forming the sealing frame is an insulating epoxy resin to which a powder of silicone resin is added,
By setting the conditions for heating and curing the resin transferred to the die area, the resin transferred to the periphery of the die area can be simultaneously cured. Further, an insulating epoxy resin to which a powder of a silicone resin is added can also be used, and is excellent in cost performance, insulating property, adhesive property and volatility.
【0013】請求項2に記載の発明によると、ダイボン
ディング用樹脂と封止枠形成用樹脂とが1種のスタンプ
によって同時に転写される。According to the second aspect of the invention, the die bonding resin and the sealing frame forming resin are simultaneously transferred by one stamp.
【0014】[0014]
〔実施例1〕以下、本発明を具体化した一実施例を図1
〜図7に基づき詳細に説明する。[Embodiment 1] Hereinafter, an embodiment embodying the present invention will be described with reference to FIG.
~ It demonstrates in detail based on FIG.
【0015】本実施例では、ダイボンディング工程(ダ
イボンディング用樹脂R1 及び封止枠形成用樹脂R2 の
転写、半導体チップ11の搭載)の後、樹脂硬化工程、
ワイヤボンディング工程、樹脂封止工程が行われる。各
工程を説明する前に、まずダイボンディング工程におい
て使用されるダイボンディング装置1の構成について述
べる。In this embodiment, after the die bonding step (transfer of the die bonding resin R1 and sealing frame forming resin R2, mounting of the semiconductor chip 11), a resin curing step,
A wire bonding process and a resin sealing process are performed. Before describing each step, the configuration of the die bonding apparatus 1 used in the die bonding step will be described first.
【0016】図7において概略的に示されるように、こ
のダイボンディング装置1は、フィーダ部2、マウンタ
ヘッド部3、スタンプヘッド部4、ヘッド駆動手段5、
チップ供給部6、樹脂供給部7及び図示しない制御コン
ピュータを備えている。As schematically shown in FIG. 7, the die bonding apparatus 1 includes a feeder section 2, a mounter head section 3, a stamp head section 4, a head driving means 5,
A chip supply unit 6, a resin supply unit 7, and a control computer (not shown) are provided.
【0017】フィーダ部2は、図7の紙面に対して垂直
な方向に電子部品搭載用基板8を搬送する。ヘッド駆動
手段5は、マウンタヘッド部3とスタンプヘッド部4と
を備えている。マウンタヘッド部3は、ヘッド駆動手段
5からの駆動力によって、チップ供給部6とフィーダ部
2との間を水平移動するとともに、所定量だけ垂直移動
する。マウンタヘッド部3の下端には、真空吸着ノズル
9が設けられている。チップ供給部6上に載置されたチ
ップトレイ10の中には、半導体チップ11が並べられ
ている。そして、真空吸着ノズル9は、チップトレイ1
0内の半導体チップ11を1個ずつピックアップする。The feeder unit 2 conveys the electronic component mounting substrate 8 in a direction perpendicular to the paper surface of FIG. The head driving means 5 includes a mounter head section 3 and a stamp head section 4. The mounter head unit 3 is horizontally moved between the chip supply unit 6 and the feeder unit 2 by a driving force from the head driving unit 5 and vertically moved by a predetermined amount. A vacuum suction nozzle 9 is provided at the lower end of the mounter head section 3. Semiconductor chips 11 are arranged in a chip tray 10 placed on the chip supply unit 6. The vacuum suction nozzle 9 is used for the chip tray 1
The semiconductor chips 11 in 0 are picked up one by one.
【0018】スタンプヘッド部4は、ヘッド駆動手段5
からの駆動力によって、樹脂供給部7とフィーダ部2と
の間を水平移動するとともに、所定量だけ垂直移動す
る。スタンプヘッド部4の下端には、形状の異なる転写
面12a,13aを持つ専用のスタンプ12,13が設
けられている。前記2つのスタンプ12,13の垂直方
向の位置は、図示しないスタンプ切り替え手段によって
切り替えられる。樹脂供給部7上には、樹脂トレイ1
4,15が載置されている。これらの樹脂トレイ14,
15の中には、それぞれダイボンディング用樹脂R1 と
封止枠形成用樹脂R2 とが一定の厚さに引き延ばされた
状態で満たされている。The stamp head unit 4 has a head driving means 5
With the driving force from, the resin supply unit 7 and the feeder unit 2 are moved horizontally and vertically by a predetermined amount. Dedicated stamps 12 and 13 having transfer surfaces 12a and 13a having different shapes are provided at the lower end of the stamp head unit 4. The vertical positions of the two stamps 12 and 13 are switched by a stamp switching unit (not shown). The resin tray 1 is provided on the resin supply unit 7.
4, 15 are mounted. These resin trays 14,
Each of 15 is filled with a die bonding resin R1 and a sealing frame forming resin R2 in a state of being stretched to a constant thickness.
【0019】第1のスタンプ12はステンレス製であ
り、ダイエリアDにダイボンディング用樹脂R1 を転写
するための略正方形状の転写面12aを有している。転
写面12aの中央部には、樹脂トレイ14中の樹脂を確
実に付着させるための手段として、突起12bが形成さ
れている。The first stamp 12 is made of stainless steel and has a substantially square transfer surface 12a for transferring the die bonding resin R1 onto the die area D. A protrusion 12b is formed in the center of the transfer surface 12a as a means for surely attaching the resin in the resin tray 14.
【0020】第2のスタンプ13はステンレス製であ
り、ダイエリアDの周囲に封止枠形成用樹脂R2 を転写
するための正方形状かつ枠状の転写面13aを有する。
第2のスタンプ13において転写面13aより内部の領
域には、凹部13bが形成されている。The second stamp 13 is made of stainless steel and has a square and frame-shaped transfer surface 13a for transferring the sealing frame forming resin R2 around the die area D.
A recess 13b is formed in a region of the second stamp 13 that is inside the transfer surface 13a.
【0021】なお、この実施例では、ダイボンディング
用樹脂R1 として絶縁性エポキシ樹脂(日本エイブルス
ティック株式会社製,商品名975−2L)が使用され
ている。また、封止枠形成用樹脂R2 として前記絶縁性
エポキシ樹脂にシリコーン樹脂の粉末を添加したものが
使用されている。In this embodiment, an insulating epoxy resin (made by Nippon Able Stick Co., Ltd., trade name 975-2L) is used as the die bonding resin R1. Further, as the sealing frame forming resin R2, a resin obtained by adding powder of silicone resin to the insulating epoxy resin is used.
【0022】次に、上記のようなダイボンディング装置
1を用いたダイボンディング工程について説明する。図
1には、ダイボンディング工程に供される電子部品搭載
用基板8が示されている。基板8の下面側には導体パタ
ーン16が形成されている。前記導体パターン16の一
部は、ダイエリアDのすぐ周囲に設けられた5つの貫通
孔17によって露出されている。即ち、この基板8にお
いては、当該露出部分がボンディングパッド18となっ
ている。そして、このボンディングパッド18の上面に
は、ワイヤボンディング性を向上させるために、薄い金
めっき(図示略)が施されている。Next, a die bonding process using the die bonding apparatus 1 as described above will be described. FIG. 1 shows an electronic component mounting substrate 8 used in a die bonding process. A conductor pattern 16 is formed on the lower surface side of the substrate 8. A part of the conductor pattern 16 is exposed by the five through holes 17 provided immediately around the die area D. That is, in this substrate 8, the exposed portion is the bonding pad 18. Then, on the upper surface of the bonding pad 18, a thin gold plating (not shown) is applied in order to improve the wire bonding property.
【0023】まず、スタンプ切り替え手段を作動させ
て、第1のスタンプ12に切り替える。次に、スタンプ
ヘッド部4を樹脂トレイ14の直上の位置まで移動させ
た後、スタンプヘッド部4を下降させる。このとき、第
1のスタンプ12の転写面12aにダイボンディング用
樹脂R1 が付着する。次に、スタンプヘッド部4を上昇
させた後、スタンプヘッド部4を基板8におけるダイエ
リアDの直上の位置まで移動させる。次に、スタンプヘ
ッド部4を下降させる。すると、図2に示されるよう
に、ダイエリアDにダイボンディング用樹脂R1 が厚さ
約50μm転写される。次に、スタンプヘッド部4を上
昇させた後、スタンプヘッド部4を樹脂トレイ15の直
上の位置に退避させる。First, the stamp switching means is operated to switch to the first stamp 12. Next, after moving the stamp head portion 4 to a position directly above the resin tray 14, the stamp head portion 4 is lowered. At this time, the die bonding resin R1 adheres to the transfer surface 12a of the first stamp 12. Next, after the stamp head unit 4 is lifted, the stamp head unit 4 is moved to a position directly above the die area D on the substrate 8. Next, the stamp head unit 4 is lowered. Then, as shown in FIG. 2, the die bonding resin R1 is transferred to the die area D by a thickness of about 50 .mu.m. Next, after raising the stamp head portion 4, the stamp head portion 4 is retracted to a position directly above the resin tray 15.
【0024】次に、チップトレイ10の直上の位置にお
いて退避していたマウントヘッド部3を下降させ、真空
吸引ノズル9によって半導体チップ11をピックアップ
する。次に、マウントヘッド部3を上昇させた後、マウ
ントヘッド部3を基板8におけるダイエリアDの直上の
位置まで移動させる。次に、マウントヘッド部3を下降
させる。すると、図3に示されるように、転写されたダ
イボンディング用樹脂R1 上に半導体チップ11が搭載
される。次に、マウントヘッド部3を上昇させた後、マ
ウントヘッド部3を再びチップトレイ10の直上の位置
に退避させる。Next, the mount head portion 3 retracted at a position directly above the chip tray 10 is lowered, and the vacuum suction nozzle 9 picks up the semiconductor chip 11. Next, after raising the mount head portion 3, the mount head portion 3 is moved to a position directly above the die area D on the substrate 8. Next, the mount head unit 3 is lowered. Then, as shown in FIG. 3, the semiconductor chip 11 is mounted on the transferred die bonding resin R1. Next, after raising the mount head unit 3, the mount head unit 3 is again retracted to a position directly above the chip tray 10.
【0025】次に、スタンプ切り替え手段を作動させて
第1のスタンプ12を第2のスタンプ13に切り替えた
後、スタンプヘッド部4を下降させる。このとき、第2
のスタンプ13の転写面13aに封止枠形成用樹脂R2
が付着する。次に、スタンプヘッド部4を上昇させた
後、スタンプヘッド部4を基板8におけるダイエリアD
の直上の位置まで移動させる。次に、スタンプヘッド部
4を下降させる。すると、ダイエリアDの周囲に封止枠
形成用樹脂R2 が転写される。その結果、図4に示され
るように、所望の封止枠19(この実施例では約100
μm厚,約500μm幅)が形成される。次に、スタン
プヘッド部4を上昇させた後、スタンプヘッド部4を樹
脂トレイ14の直上の位置に退避させる。Next, the stamp switching means is operated to switch the first stamp 12 to the second stamp 13, and then the stamp head portion 4 is lowered. At this time, the second
Of the sealing frame forming resin R2 on the transfer surface 13a of the stamp 13 of
Adheres. Next, after raising the stamp head portion 4, the stamp head portion 4 is moved to the die area D on the substrate 8.
Move it to the position directly above. Next, the stamp head unit 4 is lowered. Then, the sealing frame forming resin R2 is transferred around the die area D. As a result, as shown in FIG. 4, the desired sealing frame 19 (about 100 in this embodiment) is obtained.
μm thick, about 500 μm wide) is formed. Next, after raising the stamp head portion 4, the stamp head portion 4 is retracted to a position directly above the resin tray 14.
【0026】このような一連の動作によって、ダイボン
ディング用樹脂R1 の転写、半導体チップ11の搭載及
び封止枠19の形成の1回分が終了する。なお、基板8
上に複数のダイエリアDが存在している場合には、必要
な回数だけ前記動作が繰り返される。なお、以上のダイ
ボンディング工程は常温において行われる。また、前記
一連の動作は、制御コンピュータに記憶されているプロ
グラムに基づいて自動的にかつ高速・高精度に行われ
る。By such a series of operations, the transfer of the die bonding resin R1, the mounting of the semiconductor chip 11 and the formation of the sealing frame 19 are completed once. The substrate 8
When there are a plurality of die areas D above, the above operation is repeated as many times as necessary. The above die bonding process is performed at room temperature. In addition, the series of operations are automatically and quickly performed with high accuracy based on a program stored in the control computer.
【0027】ダイボンディング工程を経た基板8は、次
いで樹脂硬化工程を実施するためのキュア装置内に搬送
される。基板8は前記キュア装置内において、所定温度
で所定時間(この実施例では150℃〜180℃,10
分〜30分)のあいだ加熱処理される。その結果、ダイ
ボンディング用樹脂R1 及び封止枠形成用樹脂R2 が共
に硬化する。The substrate 8 that has undergone the die bonding process is then carried into a curing device for carrying out a resin curing process. The substrate 8 is kept in the curing device at a predetermined temperature for a predetermined time (150 ° C. to 180 ° C., 10 ° C. in this embodiment).
The heat treatment is performed for 10 minutes to 30 minutes. As a result, the die bonding resin R1 and the sealing frame forming resin R2 are both cured.
【0028】樹脂硬化工程を経た基板8は、次いでワイ
ヤボンディング工程を実施するためのワイヤボンダに搬
送される。ワイヤボンダでは、半導体チップ11側の図
示しない電極と、基板8側のボンディングパッド18と
が電気的に接続される。この実施例では、図5に示され
るように、前記電極とボンディングパッド18とは細い
金ワイヤ20を介して互いに接続される。The substrate 8 that has undergone the resin curing step is then conveyed to a wire bonder for carrying out the wire bonding step. In the wire bonder, an electrode (not shown) on the semiconductor chip 11 side and the bonding pad 18 on the substrate 8 side are electrically connected. In this embodiment, as shown in FIG. 5, the electrode and the bonding pad 18 are connected to each other via a thin gold wire 20.
【0029】ワイヤボンディング工程を経た基板8は、
次いでポッティング法による樹脂封止工程を行うための
ポッティング装置に搬送される。ポッティング装置の前
段にあるポッティング部は、水平方向及び垂直方向に所
定量だけ移動可能なディスペンサを備えている。ディス
ペンサは、基板8のダイエリアDに対してノズルからポ
ッティング樹脂R3 を所定量だけ吐出する。The substrate 8 that has undergone the wire bonding process is
Then, it is transported to a potting device for performing a resin sealing step by the potting method. The potting unit at the front stage of the potting device is provided with a dispenser that is movable in a horizontal direction and a vertical direction by a predetermined amount. The dispenser discharges a predetermined amount of potting resin R3 from the nozzle onto the die area D of the substrate 8.
【0030】ダイエリアD上に供給されたポッティング
樹脂R3 は、通常、ダイエリアDの外側方向に向かって
拡がるような挙動を示す。しかし、ダイエリアDの周囲
には封止枠19が存在していることから、ポッティング
樹脂R3 の拡がりは規制される。このとき、ポッティン
グ樹脂R3 による封止部分の外形は、封止枠19の外形
とほぼ同じ形状(即ち、この実施例では略正方形)にな
る。The potting resin R3 supplied onto the die area D usually behaves as if it spreads outward in the die area D. However, since the sealing frame 19 exists around the die area D, the spread of the potting resin R3 is restricted. At this time, the outer shape of the portion sealed with the potting resin R3 is substantially the same as the outer shape of the sealing frame 19 (that is, substantially square in this embodiment).
【0031】その後、ポッティング装置の後段にあるキ
ュア装置によって、未硬化のポッティング樹脂R3 を所
定温度で加熱硬化させる。その結果、図6に示されるよ
うに、ポッティング樹脂R3 によって半導体チップ11
が全体的に封止された半導体パッケージ21が形成され
る。なお、本実施例ではポッティング樹脂R3 として、
絶縁性エポキシ樹脂が使用されている。After that, the uncured potting resin R3 is heated and cured at a predetermined temperature by a curing device in the subsequent stage of the potting device. As a result, as shown in FIG. 6, the semiconductor chip 11 is removed by the potting resin R3.
A semiconductor package 21 is formed in which the whole is sealed. In this embodiment, as the potting resin R3,
Insulating epoxy resin is used.
【0032】さて、次に本実施例の半導体パッケージ2
1の製造方法の作用効果について説明する。この実施例
の製造方法によると、ダイボンディング装置1の備える
スタンプ12,13のうち、第1のスタンプ12によっ
て、基板8上のダイエリアDにダイボンディング用樹脂
R1 が転写される。また、前記ダイボンディング装置1
の備える第2のスタンプ13によって、ダイエリアDの
周囲に封止枠形成用樹脂R2が転写される。つまり、封
止枠形成用樹脂R2 は、ダイボンディング用樹脂R1を
転写するダイボンディング工程において同一のダイボン
ディング装置1により転写されることになる。このた
め、従来のときとは異なり、封止枠の圧着や印刷等とい
った、既存の半導体パッケージ製造プロセスとは別の封
止枠形成工程を必要とするということがない。よって、
圧着や印刷等を行うための専用の設備や装置等も不要で
ある。ゆえに、この製造方法によれば、半導体パッケー
ジ21のコスト性や生産性を招くことなく、ダイエリア
Dの周囲に封止枠19を容易に形成することができる。Now, the semiconductor package 2 of this embodiment
The function and effect of the manufacturing method 1 will be described. According to the manufacturing method of this embodiment, the die bonding resin R1 is transferred to the die area D on the substrate 8 by the first stamp 12 of the stamps 12 and 13 of the die bonding apparatus 1. In addition, the die bonding apparatus 1
By the second stamp 13 provided in, the sealing frame forming resin R2 is transferred around the die area D. That is, the sealing frame forming resin R2 is transferred by the same die bonding apparatus 1 in the die bonding step of transferring the die bonding resin R1. Therefore, unlike the conventional case, there is no need to provide a sealing frame forming step different from the existing semiconductor package manufacturing process, such as pressure bonding or printing of the sealing frame. Therefore,
There is no need for dedicated equipment or devices for performing crimping or printing. Therefore, according to this manufacturing method, the sealing frame 19 can be easily formed around the die area D without inviting the cost and productivity of the semiconductor package 21.
【0033】特にこの実施例によると、ダイボンディン
グ用樹脂R1 及び封止枠形成用樹脂R2 を転写するため
に、第1のスタンプ12及び第2のスタンプ13という
ような専用のスタンプ12,13を使用している。その
ため、ダイボンディング用樹脂R1 及び封止枠形成用樹
脂R2 が個々に転写される。ゆえに、転写する樹脂の厚
さや樹脂の種類の組合せ等を任意に変更することができ
るというメリットがある。Particularly in this embodiment, dedicated stamps 12, 13 such as the first stamp 12 and the second stamp 13 are used to transfer the die bonding resin R1 and the sealing frame forming resin R2. I'm using it. Therefore, the die bonding resin R1 and the sealing frame forming resin R2 are individually transferred. Therefore, there is an advantage that the thickness of the resin to be transferred, the combination of the types of the resin, and the like can be arbitrarily changed.
【0034】この実施例では、ダイボンディング用樹脂
R1 として絶縁性エポキシ樹脂が選択され、封止枠形成
用樹脂R2 として絶縁性エポキシ樹脂にシリコーン樹脂
の粉末を添加したものが選択されている。このようにコ
スト性、絶縁性及び接着性に優れたものを構成材料とし
ているため、信頼性の高い半導体パッケージ21を安価
に得るうえで好都合となる。また、ともに同じ絶縁性エ
ポキシ樹脂であることから、ダイボンディング用樹脂R
1 を加熱硬化するときの条件設定によって、同時に封止
枠形成用樹脂R2 も硬化させることができる。よって、
工程簡略化につながるというメリットがある。In this embodiment, an insulative epoxy resin is selected as the die bonding resin R1 and an insulative epoxy resin to which a silicone resin powder is added is selected as the sealing frame forming resin R2. As described above, the material having excellent cost performance, insulation property, and adhesiveness is used as the constituent material, which is convenient for obtaining the highly reliable semiconductor package 21 at low cost. In addition, since both are the same insulating epoxy resin, the resin R for die bonding
The sealing frame forming resin R2 can be cured at the same time by setting the conditions for curing 1 by heat. Therefore,
It has the advantage of simplifying the process.
【0035】さらに、上記のような製造方法の場合、基
本的にダイボンディング装置1の精度によって封止枠1
9の形成精度が決定される。従って、コンピュータ制御
によるこのダイボンディング装置1によれば、極めて形
成精度に優れた封止枠19を得ることが可能である。よ
って、ポッティング樹脂R3 による封止部分の形成精度
を確実に向上させることができる。 〔実施例2〕次に、実施例2の製造方法を図8,図10
に基づいて説明する。Further, in the case of the manufacturing method as described above, basically the sealing frame 1 depends on the accuracy of the die bonding apparatus 1.
The formation accuracy of 9 is determined. Therefore, according to the die-bonding apparatus 1 controlled by a computer, it is possible to obtain the sealing frame 19 with extremely excellent forming accuracy. Therefore, it is possible to reliably improve the accuracy of forming the sealing portion with the potting resin R3. [Embodiment 2] Next, a manufacturing method of Embodiment 2 will be described with reference to FIGS.
It will be described based on.
【0036】本実施例においても、実施例1と基本的に
同じく、ダイボンディング装置1によるダイボンディン
グ工程の後、樹脂硬化工程、ワイヤボンディング工程、
樹脂封止工程が行われる。ただし、ここでは実施例1の
ダイボンディング装置1のスタンプ12,13とは若干
構成の異なるスタンプ25が使用されている。Also in this embodiment, basically, as in the first embodiment, after the die bonding process by the die bonding apparatus 1, the resin hardening process, the wire bonding process,
A resin sealing process is performed. However, here, a stamp 25 having a slightly different structure from the stamps 12 and 13 of the die bonding apparatus 1 of the first embodiment is used.
【0037】このスタンプ25はステンレス製であり、
ダイエリアD用の転写面25aと封止枠形成用の転写面
25bとをほぼ同一平面内に備えている。ダイエリアD
用の転写面25aは略正方形状であり、スタンプ25の
下面中央部に位置している。封止枠形成用の転写面25
bは正方形状かつ枠状であり、スタンプ25の下面外周
部に位置している。転写面25aの中央部には、樹脂ト
レイ14中の樹脂を確実に付着させるための手段とし
て、突起25cが形成されている。転写面25aと転写
面25bとの間の領域には、凹部25dが形成されてい
る。このように構成されたスタンプ25は、スタンプヘ
ッド部4の下端に設けられている。The stamp 25 is made of stainless steel,
The transfer surface 25a for the die area D and the transfer surface 25b for forming the sealing frame are provided in substantially the same plane. Die area D
The transfer surface 25a for printing has a substantially square shape and is located at the center of the lower surface of the stamp 25. Transfer surface 25 for forming a sealing frame
b has a square shape and a frame shape, and is located on the outer peripheral portion of the lower surface of the stamp 25. A protrusion 25c is formed at the center of the transfer surface 25a as a means for surely adhering the resin in the resin tray 14. A recess 25d is formed in a region between the transfer surface 25a and the transfer surface 25b. The stamp 25 thus configured is provided at the lower end of the stamp head unit 4.
【0038】この実施例では、ダイボンディング用樹脂
及び封止枠形成用樹脂として共通の樹脂(実施例1にお
いてダイボンディング用樹脂として選択した絶縁性エポ
キシ樹脂)R4 が使用されている。従って、樹脂供給部
7上には、前記樹脂R4 が満たされた樹脂トレイ14の
みが載置されている。なお、図10に示されるダイボン
ディング装置1において実施例1と同じ部材番号を付し
た部分については、基本構成に差異はないため、ここで
はその詳細な説明を省略する。In this embodiment, a common resin (insulating epoxy resin selected as the die bonding resin in Example 1) R4 is used as the die bonding resin and the sealing frame forming resin. Therefore, only the resin tray 14 filled with the resin R4 is placed on the resin supply section 7. Note that, in the die bonding apparatus 1 shown in FIG. 10, the parts having the same member numbers as in the first embodiment are the same in basic configuration, and therefore detailed description thereof will be omitted here.
【0039】次に、ダイボンディング装置1を用いたダ
イボンディング工程について説明する。まず、スタンプ
ヘッド部4を樹脂トレイ14の直上の位置まで移動させ
た後、スタンプヘッド部4を下降させる。すると、スタ
ンプ25の両方の転写面25a,25bに絶縁性エポキ
シ樹脂R4 が付着する。次に、スタンプヘッド部4を上
昇させた後、スタンプヘッド部4を基板8におけるダイ
エリアDの直上の位置まで移動させる。次に、スタンプ
ヘッド部4を下降させる。Next, a die bonding process using the die bonding apparatus 1 will be described. First, the stamp head unit 4 is moved to a position directly above the resin tray 14, and then the stamp head unit 4 is lowered. Then, the insulating epoxy resin R4 adheres to both transfer surfaces 25a and 25b of the stamp 25. Next, after the stamp head unit 4 is lifted, the stamp head unit 4 is moved to a position directly above the die area D on the substrate 8. Next, the stamp head unit 4 is lowered.
【0040】すると、図8に示されるように、ダイエリ
アDに絶縁性エポキシ樹脂R4 が転写されると同時に、
ダイエリアDの周囲にも絶縁性エポキシ樹脂R4 が転写
される。即ち、このとき封止枠19が形成されることに
なる。本実施例においては、ダイエリアD及びその周囲
における絶縁性エポキシ樹脂R4 の厚さは、ともに約5
0μmになる。次に、スタンプヘッド部4を上昇させた
後、スタンプヘッド部4を樹脂トレイ14の直上の位置
に退避させる。Then, as shown in FIG. 8, at the same time when the insulating epoxy resin R4 is transferred to the die area D,
The insulating epoxy resin R4 is also transferred around the die area D. That is, at this time, the sealing frame 19 is formed. In this embodiment, the thickness of the insulating epoxy resin R4 in and around the die area D is about 5
It becomes 0 μm. Next, after raising the stamp head portion 4, the stamp head portion 4 is retracted to a position directly above the resin tray 14.
【0041】次に、チップトレイ10の直上の位置にお
いて退避していたマウントヘッド部3を下降させ、真空
吸引ノズル9によって半導体チップ11をピックアップ
する。次に、マウントヘッド部3を上昇させた後、マウ
ントヘッド部3を基板8におけるダイエリアDの直上の
位置まで移動させる。次に、マウントヘッド部3を下降
させる。すると、ダイエリアDに転写された絶縁性エポ
キシ樹脂R4 上に半導体チップ11が搭載される。次
に、マウントヘッド部3を上昇させた後、マウントヘッ
ド部3を再びチップトレイ10の直上の位置に退避させ
る。Next, the mount head portion 3 retracted at a position directly above the chip tray 10 is lowered, and the semiconductor chip 11 is picked up by the vacuum suction nozzle 9. Next, after raising the mount head portion 3, the mount head portion 3 is moved to a position directly above the die area D on the substrate 8. Next, the mount head unit 3 is lowered. Then, the semiconductor chip 11 is mounted on the insulating epoxy resin R4 transferred to the die area D. Next, after raising the mount head unit 3, the mount head unit 3 is again retracted to a position directly above the chip tray 10.
【0042】このような一連の動作によって、絶縁性エ
ポキシ樹脂R4 の転写(封止枠19の形成)及び半導体
チップ11の搭載の1回分が終了する。なお、基板8上
に複数のダイエリアDが存在している場合には、必要な
回数だけ前記動作が繰り返される。なお、以上のダイボ
ンディング工程は常温において行われる。また、前記一
連の動作は、制御コンピュータに記憶されているプログ
ラムに基づいて自動的にかつ高速・高精度に行われる。By such a series of operations, transfer of the insulating epoxy resin R4 (formation of the sealing frame 19) and mounting of the semiconductor chip 11 are completed once. When there are a plurality of die areas D on the substrate 8, the above operation is repeated as many times as necessary. The above die bonding process is performed at room temperature. In addition, the series of operations are automatically and quickly performed with high accuracy based on a program stored in the control computer.
【0043】そして、ダイボンディング工程を経た基板
8は、実施例1に準じた樹脂硬化工程、ワイヤボンディ
ング工程及び樹脂封止工程を経て、図6に示されるよう
な半導体パッケージ21となる。The substrate 8 that has undergone the die bonding process becomes the semiconductor package 21 as shown in FIG. 6 through the resin curing process, the wire bonding process and the resin sealing process according to the first embodiment.
【0044】上記のような半導体パッケージ21の製造
方法であっても、基本的には実施例1の製造方法と同等
の作用効果を得ることができる。特に、この製造方法に
よると、ダイボンディング用樹脂と封止枠形成用樹脂と
が1種のスタンプ25によって同時に転写されるという
特徴がある。従って、実施例1と比べた場合、ダイボン
ディング装置1の動作が少なくて済むというメリットが
ある。換言すると、封止枠19を形成しないときと同じ
所要時間で封止枠19を形成することが可能となる。従
って、この製造方法を実施したとしても、半導体パッケ
ージ21の生産性を害するようなことはない。Even with the manufacturing method of the semiconductor package 21 as described above, basically the same operational effects as those of the manufacturing method of the first embodiment can be obtained. In particular, this manufacturing method is characterized in that the die bonding resin and the sealing frame forming resin are simultaneously transferred by the one stamp 25. Therefore, as compared with the first embodiment, there is an advantage that the operation of the die bonding apparatus 1 can be reduced. In other words, the sealing frame 19 can be formed in the same required time as when the sealing frame 19 is not formed. Therefore, even if this manufacturing method is carried out, the productivity of the semiconductor package 21 is not impaired.
【0045】なお、本発明は上記実施例のみに限定され
ることはなく、例えば次のように変更することが可能で
ある。 (1) ダイボンディング用樹脂R1 及び封止枠形成用
樹脂R2 として、例えば絶縁性エポキシ樹脂以外にも、
ポリイミド樹脂等といったその他の熱硬化性樹脂を使用
してもよい。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be modified as follows. (1) As the die bonding resin R1 and the sealing frame forming resin R2, for example, other than the insulating epoxy resin,
Other thermosetting resins such as polyimide resins may be used.
【0046】(2) 実施例2のスタンプ25におい
て、転写面25a,25bの高さは必ずしも同一でなく
てもよい。例えば、実施例2よりも高い封止枠19を得
たいときには、転写面25bを転写面25aよりも低く
しておけばよい。勿論、実施例2よりも低い封止枠19
を得たいときには、この逆にすればよい。(2) In the stamp 25 of the second embodiment, the transfer surfaces 25a and 25b do not have to have the same height. For example, when it is desired to obtain the sealing frame 19 higher than that in the second embodiment, the transfer surface 25b may be lower than the transfer surface 25a. Of course, the sealing frame 19 lower than that in the second embodiment
If you want to get
【0047】(3) 実施例2のスタンプ25におい
て、2つある転写面25a,25bの相対的な高さを変
更可能としてもよい。このような構成にすれば、各々の
転写厚みを調節することができる。また、封止枠19の
形成を必要としないダイエリアDについても同スタンプ
25を使用することができる。(3) In the stamp 25 of the second embodiment, the relative heights of the two transfer surfaces 25a and 25b may be changeable. With such a configuration, each transfer thickness can be adjusted. The stamp 25 can also be used for the die area D that does not require the formation of the sealing frame 19.
【0048】(4) 図9に示される別例のスタンプ2
6のように、外周側の転写面26bを幅広にするととも
に、その長手方向中央部に全周にわたって突条26eを
設けてもよい。このような突条26eが形成されている
と、転写面26bに樹脂トレイ14中の樹脂が確実に付
着するようになり、結果として封止枠19の形成精度が
向上する。(4) Stamp 2 of another example shown in FIG.
As shown in FIG. 6, the transfer surface 26b on the outer peripheral side may be widened, and the protrusion 26e may be provided at the central portion in the longitudinal direction over the entire circumference. When such a protrusion 26e is formed, the resin in the resin tray 14 is surely attached to the transfer surface 26b, and as a result, the accuracy of forming the sealing frame 19 is improved.
【0049】(5) 基板8上のダイエリアDにダイパ
ッドがある場合には、例えば導電性を有する樹脂をダイ
ボンディング用樹脂R1 として使用してもよい。 (6) 実施例1において、先に封止枠19を転写した
後、ダイボンディング用樹脂R1 の転写及び半導体チッ
プ11の搭載を行ってもよい。(5) When the die area D on the substrate 8 has a die pad, for example, a conductive resin may be used as the die bonding resin R1. (6) In the first embodiment, the sealing frame 19 may be transferred first, and then the die bonding resin R1 may be transferred and the semiconductor chip 11 may be mounted.
【0050】(7) スタンプ12,13,25,26
の形成材料としてステンレス以外の金属材料(例えば、
鉄、銅、アルミニウム等)を選択してもよい。また、金
属材料ばかりでなく、例えばゴム材料やセラミックス材
料等を選択してもよい。ただい、金属製のスタンプ1
2,13…であると、ゴム材料に比して封止枠19の形
成精度がよいという利点がある。また、セラミックス材
料に比して、安価でありかつ加工性がよいという利点が
ある。(7) Stamps 12, 13, 25, 26
As a forming material of a metal material other than stainless steel (for example,
(Iron, copper, aluminum, etc.) may be selected. Further, not only a metal material but also a rubber material, a ceramic material or the like may be selected. Right, a metal stamp 1
2, 13, ... has an advantage that the forming accuracy of the sealing frame 19 is higher than that of the rubber material. Further, it has the advantages of being cheaper and having better workability than ceramic materials.
【0051】ここで、特許請求の範囲に記載された技術
的思想のほかに、前述した実施例及び別例によって把握
される技術的思想をその効果とともに以下に列挙する。 (1) 請求項1,2の製造方法によって製造された半
導体パッケージ。このような半導体パッケージである
と、封止部分の形成精度に優れ、しかもコスト性や信頼
性にも優れたものとなる。Here, in addition to the technical ideas described in the claims, the technical ideas grasped by the above-described embodiments and other examples will be listed below together with their effects. (1) A semiconductor package manufactured by the manufacturing method according to claim 1. With such a semiconductor package, the precision of forming the sealing portion is excellent, and the cost and reliability are also excellent.
【0052】(2) 電子部品搭載用基板を搬送するた
めの搬送手段と、搬送手段の近傍に配置されたチップ供
給部及び樹脂供給部と、基板上のダイエリアに半導体チ
ップを搭載するためのマウンタヘッド部と、ダイエリア
及びその周囲に所定の樹脂を転写するためのスタンプヘ
ッド部と、マウンタヘッド部及びスタンプヘッド部を任
意の位置に移動させるための駆動手段と、ダイボンディ
ング用樹脂を転写するため転写面を有する第1のスタン
プと、封止枠形成用樹脂を転写するため転写面を有する
第2のスタンプと、両スタンプの上下位置を切り替える
スタンプ切り替え手段とを備えたダイボンディング装
置。この装置であると、通常のダイボンディング工程内
において封止枠の形成を行うことができる。(2) Conveying means for conveying the electronic component mounting board, a chip supplying section and a resin supplying section arranged in the vicinity of the conveying means, and a semiconductor chip for mounting a semiconductor chip on the die area on the board. Mounter head part, stamp head part for transferring a predetermined resin to the die area and its periphery, drive means for moving the mounter head part and the stamp head part to an arbitrary position, and transfer of the die bonding resin A die bonding apparatus including a first stamp having a transfer surface, a second stamp having a transfer surface for transferring the sealing frame forming resin, and a stamp switching unit for switching the upper and lower positions of both stamps. With this apparatus, the sealing frame can be formed in a normal die bonding process.
【0053】(3) 請求項1の半導体パッケージの製
造方法を実施するためのスタンプであって、ダイエリア
用の転写面と封止枠形成用の転写面とをほぼ同一平面内
に備えた金属製のスタンプ。このスタンプであると、ダ
イボンディング用樹脂及び前記封止枠形成用樹脂を共通
のものとし、前記樹脂を同時に転写できる。(3) A stamp for carrying out the method for manufacturing a semiconductor package according to claim 1, wherein the stamp has a transfer surface for a die area and a transfer surface for forming a sealing frame in substantially the same plane. Made stamp. With this stamp, the die bonding resin and the sealing frame forming resin are common, and the resin can be transferred at the same time.
【0054】(4) 技術的思想(3)のスタンプであ
って、封止枠形成用の転写面に突条を有するスタンプ。
この構成であると、封止枠の形成精度をより向上でき
る。 (5) ダイボンディング装置のスタンプにより基板上
のダイエリアにダイボンディング用樹脂を転写し、かつ
その転写されたダイボンディング樹脂上に半導体チップ
を搭載するダイボンディング工程を行うとき、前記スタ
ンプによって封止枠形成用樹脂を転写することにより、
前記ダイエリアの周囲にポッティング樹脂の拡がりを規
制する封止枠を形成する半導体パッケージ用基板の封止
枠形成方法。この形成方法であると、生産性やコスト性
の悪化を招くことなく、ダイエリアの周囲に封止枠を容
易に形成することができる。(4) A stamp having the technical concept (3), which has a protrusion on the transfer surface for forming the sealing frame.
With this configuration, the accuracy of forming the sealing frame can be further improved. (5) When the die bonding process is performed by transferring the die bonding resin to the die area on the substrate by the stamp of the die bonding apparatus and mounting the semiconductor chip on the transferred die bonding resin. By transferring the frame forming resin,
A method for forming a sealing frame for a semiconductor package substrate, which comprises forming a sealing frame around the die area for restricting the spread of potting resin. With this forming method, the sealing frame can be easily formed around the die area without inviting deterioration in productivity and cost performance.
【0055】なお、本明細書中において使用した技術用
語を次のように定義する。 「ダイエリア: 基板上における領域であって、絶縁性
または導電性のダイボンディング用樹脂によって半導体
チップを接着すべき領域をいう。」The technical terms used in this specification are defined as follows. "Die area: An area on a substrate to which a semiconductor chip is to be adhered by an insulating or conductive die bonding resin."
【0056】[0056]
【発明の効果】以上詳述したように、請求項1,2に記
載の発明によれば、既存の半導体パッケージ製造プロセ
スにおいて封止枠が形成されるため、生産性やコスト性
の悪化を招くことなく、ダイエリアの周囲に封止枠を容
易に形成することができる。As described above in detail, according to the inventions of claims 1 and 2, since the sealing frame is formed in the existing semiconductor package manufacturing process, productivity and cost are deteriorated. Without this, the sealing frame can be easily formed around the die area.
【図1】 (a)は実施例1の半導体パッケージの製造
方法において電子部品搭載用基板を示す部分断面図、
(b)は同じくその部分平面図である。FIG. 1A is a partial cross-sectional view showing an electronic component mounting substrate in a semiconductor package manufacturing method according to a first embodiment,
(B) is a partial plan view of the same.
【図2】 同製造方法において、(a)はダイエリアに
ダイボンディング用樹脂を転写した状態を示す部分断面
図、(b)はその部分平面図である。2A is a partial cross-sectional view showing a state in which a die bonding resin is transferred to a die area in the same manufacturing method, and FIG. 2B is a partial plan view thereof.
【図3】 同製造方法において、(a)はダイエリアに
半導体チップを搭載した状態を示す部分断面図、(b)
はその部分平面図である。FIG. 3A is a partial cross-sectional view showing a state in which a semiconductor chip is mounted on a die area in the same manufacturing method, and FIG.
Is a partial plan view thereof.
【図4】 同製造方法において、(a)はダイエリアの
周囲に封止枠形成用樹脂を転写した状態を示す部分断面
図、(b)はその部分平面図である。4A is a partial cross-sectional view showing a state in which a resin for forming a sealing frame is transferred around the die area in the same manufacturing method, and FIG. 4B is a partial plan view thereof.
【図5】 同製造方法において、(a)はワイヤボンデ
ィングを実施した状態を示す部分断面図、(b)はその
部分平面図である。5A is a partial cross-sectional view showing a state where wire bonding is performed in the manufacturing method, and FIG. 5B is a partial plan view thereof.
【図6】 同製造方法において、(a)はポッティング
樹脂により半導体チップを封止した状態を示す部分断面
図、(b)はその部分平面図である。FIG. 6A is a partial cross-sectional view showing a state in which a semiconductor chip is sealed with potting resin in the manufacturing method, and FIG. 6B is a partial plan view thereof.
【図7】 同製造方法において使用されるダイボンディ
ング装置を示す概略図である。FIG. 7 is a schematic view showing a die bonding apparatus used in the manufacturing method.
【図8】 実施例2の製造方法において、(a)はダイ
ボンディング用樹脂と封止枠形成用樹脂とを転写した状
態を示す部分断面図、(b)はその部分平面図である。8A is a partial cross-sectional view showing a state in which a die bonding resin and a sealing frame forming resin are transferred in the manufacturing method of Example 2, and FIG. 8B is a partial plan view thereof.
【図9】 別例の製造方法において、(a)はダイボン
ディング用樹脂と封止枠形成用樹脂とを転写した状態を
示す部分断面図、(b)はその部分平面図である。9A is a partial cross-sectional view showing a state in which a die bonding resin and a sealing frame forming resin are transferred in a manufacturing method of another example, and FIG. 9B is a partial plan view thereof.
【図10】 実施例2の製造方法において使用されるダ
イボンディング装置を示す概略図である。FIG. 10 is a schematic view showing a die bonding apparatus used in the manufacturing method of Example 2.
【符号の説明】 1…ダイボンディング装置、8…(電子部品搭載用)基
板、11…半導体チップ、12,13,25,26…ス
タンプ、12a,13a,25a,25b,26a,2
6b…転写面、19…封止枠、21…半導体パッケー
ジ、D…ダイエリア、R1 …ダイボンディング用樹脂、
R2 …封止枠形成用樹脂、R3 …ポッティング樹脂、R
4 …絶縁性エポキシ樹脂。[Explanation of reference numerals] 1 ... Die bonding device, 8 ... (Electronic component mounting) substrate, 11 ... Semiconductor chip, 12, 13, 25, 26 ... Stamp, 12a, 13a, 25a, 25b, 26a, 2
6b ... Transfer surface, 19 ... Sealing frame, 21 ... Semiconductor package, D ... Die area, R1 ... Die bonding resin,
R2 ... Resin for forming sealing frame, R3 ... Potting resin, R
4… Insulating epoxy resin.
Claims (2)
基板上のダイエリアにダイボンディング用樹脂を転写
し、かつその転写されたダイボンディング用樹脂上に半
導体チップを搭載するダイボンディング工程を行った
後、樹脂硬化工程及びワイヤボンディング工程を行い、
さらにポッティング樹脂によって前記半導体チップを封
止する樹脂封止工程を行う半導体パッケージの製造方法
において、 前記ダイボンディング工程を行うとき、前記スタンプに
よって封止枠形成用樹脂を転写することにより、前記ダ
イエリアの周囲に前記ポッティング樹脂の拡がりを規制
する封止枠を形成する半導体パッケージの製造方法。1. A die-bonding step of transferring a resin for die-bonding to a die area on a substrate by a stamp of a die-bonding device and mounting a semiconductor chip on the transferred resin for die-bonding. Curing process and wire bonding process
Furthermore, in the method of manufacturing a semiconductor package, which performs a resin sealing step of sealing the semiconductor chip with a potting resin, when the die bonding step is performed, the sealing frame forming resin is transferred by the stamp, thereby forming A method of manufacturing a semiconductor package, wherein a sealing frame for restricting the spread of the potting resin is formed around the periphery of the semiconductor package.
枠形成用樹脂として共通の樹脂を使用するとともに、そ
の共通の樹脂を、ダイエリア用の転写面と封止枠形成用
の転写面とをほぼ同一平面内に備えたスタンプによって
転写する請求項1に記載の半導体パッケージの製造方
法。2. A common resin is used as the die bonding resin and the sealing frame forming resin, and the common resin is used as a die area transfer surface and a sealing frame forming transfer surface. The method of manufacturing a semiconductor package according to claim 1, wherein the transfer is performed by a stamp provided in substantially the same plane.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15500294A JP3393708B2 (en) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | Semiconductor package manufacturing method |
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JPH0823004A true JPH0823004A (en) | 1996-01-23 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08236917A (en) * | 1995-02-28 | 1996-09-13 | Nec Kyushu Ltd | Device and method for mounting electronic parts |
JP2015005625A (en) * | 2013-06-21 | 2015-01-08 | 日亜化学工業株式会社 | Method for manufacturing light-emitting device and light-emitting device |
-
1994
- 1994-07-06 JP JP15500294A patent/JP3393708B2/en not_active Expired - Fee Related
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JPH08236917A (en) * | 1995-02-28 | 1996-09-13 | Nec Kyushu Ltd | Device and method for mounting electronic parts |
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