JPH08229807A - ウェーハの研磨装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ノズルから吐出する噴流をウェーハの周縁部
に好適に当て、ウェーハを保持部材の表面から短時間で
且つ安定的に剥離すること。 【構成】 表面にウェーハ２０を液体の表面張力によっ
て保持する保持部材１０と、保持部材１０の表面に装着
され、ウェーハ２０の滑り移動を防止するテンプレート
１６とを備えるウェーハの保持部にウェーハ２０を保持
し、定盤の研磨面にウェーハ表面を当接させ、ウェーハ
２０に所定の荷重を与えつつ、ウェーハ２０と定盤とを
相対的に運動させてウェーハ表面を鏡面研磨するウェー
ハの研磨装置において、保持部材の表面からウェーハ２
０を剥離させるべく、ウェーハ２０の周縁部に液体を噴
出するノズル２２と、テンプレート１６にノズル２２か
らの噴流を通過させる切り欠き部１８とを設けた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ウェーハの研磨装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】ウェーハの研磨装置は、基本的な構成と
して、ウェーハの保持部、該ウェーハの保持部に対向す
る研磨面を有する定盤、ウェーハ表面を研磨面に当接さ
せるべくウェーハの保持部と定盤とを接離動させる接離
動機構、前記保持部に保持されたウェーハを研磨面に所
定の押圧力で押圧する押圧機構、ウェーハが定盤に当接
・押圧された状態で該ウェーハと定盤とを回転および／
または往復動によって相対的に運動させる駆動機構、ス
ラリー等を含む液状の研磨剤の供給機構を備えている。
このウェーハの研磨装置によれば、薄板状の被研磨部材
であるウェーハ（例えば半導体装置用のシリコンウェー
ハ、ガラス薄板材等の脆性部材の表面）を鏡面状に研磨
することができる。

【０００３】前記ウェーハの保持部としては、ウェーハ
の保持部材にウェーハを真空吸着によって保持させる構
成のものと、ウェーハを表面張力による吸着作用で保持
させるものがある。しかし、ウェーハを真空吸着によっ
て保持するウェーハの保持部は、ウェーハに当接する保
持部材に穿設された複数の細孔を介して空気を吸引する
ことで吸着力を得ているため、ウェーハの着脱は容易に
できるが、ウェーハの細孔で吸引される部分に局所的な
高い圧力が作用してウェーハが局所的に変形してしま
い、結果的に研磨むらが発生するという課題があった。
このため、ウェーハを高い精度で研磨することが要求さ
れる分野では、表面にウェーハを水等の液体の表面張力
によって保持する保持部材を備えるウェーハの保持部を
利用する傾向にある。

【０００４】この表面張力を利用するウェーハの保持部
では、前記保持部材と、その保持部材の表面に装着さ
れ、ウェーハの周囲を取り囲んでウェーハの滑り移動を
防止するテンプレートとを備えている。図７は複数のウ
ェーハ１１０を同時に研磨することが可能なウェーハの
保持部１１２の従来技術を示す斜視図である。１１４は
保持部材であり、セラミックプレート１１６と、その表
面に接着されたバッキング材１１８とからなる。各ウェ
ーハ１１０が、テンプレート１２０に設けられた各穴１
２２内に位置され、保持部材１１４の表面上に表面張力
によって保持されている。なお、ウェーハ１１０は切り
欠き部（オリエンテーションフラット１１０ａ）を備え
ている。そして、このようにウェーハ１１０が吸着され
た保持部材１１４からウェーハ１１０を剥離するには、
ウェーハ１１０の周縁部にノズルから吐出する水流を噴
射する方法がとられている。

【０００５】しかしながら、ウェーハ１１０の周縁部の
円周部分１１０ｂに水流を当てる場合は、テンプレート
１２０が水流の障害物となり、ウェーハ１１０を好適に
剥離できず、その剥離時間が長期化するという課題があ
った。また、ウェーハ１１０が保持部材１１４の表面上
で滑って移動してウェーハ１１０の周縁部とテンプレー
トの穴１２０の内周面との間隔が変動するため、ウェー
ハ１１０の剥離条件が変動してしまい、その剥離にかか
る時間が安定しないという課題があった。一方、オリエ
ンテーションフラット１１０ａに水流を当てる場合は、
テンプレート１２０が水流の障害とならず、水流が好適
に当たるので、ウェーハ１１０を安定的に剥離すること
が可能である。しかし、近年のウェーハの大型化に伴っ
て、ウェーハの方向性を出すためにはオリエンテーショ
ンフラットを設けることによらず、ノッチ（Ｖ字状の小
さな切り欠き）を設ける傾向にあるため、ウェーハを安
定的に剥離することが難しいという課題が発生してき
た。

【０００６】そこで、本発明の目的は、ノズルから吐出
する噴流をウェーハの周縁部に好適に当て、ウェーハを
保持部材の表面から短時間で且つ安定的（略同一の所要
時間）に剥離することができるウェーハの研磨装置を提
供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は次の構成を備える。すなわち、本発明によ
れば、表面にウェーハを水等の液体の表面張力によって
保持する保持部材と、該保持部材の表面に装着され、ウ
ェーハの周囲を取り囲んで該ウェーハの滑り移動を防止
するテンプレートとを備えるウェーハの保持部にウェー
ハを保持し、定盤の研磨面にウェーハ表面を当接させ、
該ウェーハに所定の荷重を与えつつ、ウェーハと定盤と
を相対的に運動させてウェーハ表面を鏡面研磨するウェ
ーハの研磨装置において、前記保持部材の表面からウェ
ーハを剥離させるべく、ウェーハの周縁部に液体を噴出
するノズルと、前記テンプレートに前記ノズルからの噴
流を通過させる切り欠き部とを設けたことを特徴とす
る。

【０００８】また、前記切り欠き部は、前記ノズルから
噴出する液体の噴流を妨げない斜面からなることで、ウ
ェーハの全周を好適に囲むことができる。従って、テン
プレートを一体的に形成することができ、テンプレート
内への研磨液の進入を抑制できる。

【０００９】また、前記ノズルは、前記保持部材に保持
されたウェーハの周縁部に所望の角度に液体の噴流を当
てるべく、角度調整が可能であることで、使用条件に好
適に対応することができる。

【００１０】また、前記切り欠き部に前記ノズルが対応
して位置するように、前記ウェーハの保持部を所定の位
置で停止させる定位置停止装置を設けたことで、一また
は少数のノズルで確実のウェーハの剥離をすることがで
きる。

【００１１】また、前記ウェーハの保持部が、下方に向
けて開放する凹部と、外周部が前記凹部の周側壁に固定
されると共に内周部が保持部材に固定され、該保持部材
を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可
能に吊持する板状の弾性部材と、前記凹部を保持部材お
よび板状の弾性部材によって画成して設けられる圧力室
と、該圧力室に所定圧力の流体を供給する流体の供給手
段とを具備することで、ウェーハ表面は研磨面の傾斜に
素早く追随できると共に、そのようにウェーハ表面が研
磨面の傾斜に追随した状態においても、ウェーハの表面
全面を研磨面に均等な圧力で押圧できる。このため、ウ
ェーハの高い等厚度及び平坦度を維持しつつウェーハ表
面を好適に鏡面研磨できる。

【００１２】また、前記テンプレートがリング状に形成
されていることで、テンプレートの面積を小さく抑える
ことができ、特にウェーハを一枚毎に研磨するタイプの
ウェーハの研磨装置に好適に対応できる。

【００１３】また、前記保持プレートが複数のウェーハ
を保持可能なように、前記テンプレートには、ウェーハ
が内嵌される複数の穴が設けられ、該各穴に前記の切り
欠き部が設けられていることで、複数のウェーハを効率
良く研磨することができる。

【００１４】

【作用】本発明のウェーハの研磨装置によれば、テンプ
レートが、保持部材の表面に装着され、ウェーハの周囲
を取り囲んでおり、そのテンプレートにノズルからの噴
流を通過させる切り欠き部が設けられている。このた
め、ノズルから噴出する液体の噴流が、妨げられずに保
持部材の表面および／またはテンプレートの切り欠き面
に沿って流れ、ウェーハの周縁部へ好適に当たる。これ
により、ウェーハを保持部材の表面から効率よく且つ安
定的に剥離できる。

【００１５】

【実施例】以下、本発明の好適な実施例を添付図面に基
づいて詳細に説明する。図１は本発明にかかるウェーハ
の研磨装置の一実施例を示す要部断面図であり、図２は
図１の実施例の底面図である。１０は保持部材であり、
表面１０ａにウェーハ２０を水等の液体（本実施例では
水）の表面張力によって保持できる。この保持部材１０
は、セラミックプレート１２を基材とし、そのセラミッ
クプレート１２の表面に弾性材であってウェーハ２０を
吸着する吸着性の優れたバッキング材１４が接着等によ
って付着されて形成されている。バッキング材１４の材
質は、ポリウレタンを主体とする高分子材料の微孔質シ
ートであり、このバッキング材１４は、その弾性によっ
てウェーハ２０に好適に馴染んで密着し易く、水の表面
張力の作用による吸着性を好適に得ることができるとい
う利点がある。

【００１６】１６はテンプレートであり、保持部材１０
の表面に接着によって装着されている。このテンプレー
ト１６は、リング状に形成されており、ウェーハ２０の
周囲を取り囲んでウェーハ２０の滑り移動を防止してい
る。テンプレート１６の内径は、ウェーハ２０の横滑り
を抑え、ウェーハ２０が容易に内嵌するように設定され
ている。また、ウェーハ２０の厚さの３分の２程度の厚
さに設定されている。なお、テンプレート１６は嵌め込
み式に装着されていてもよい。１８は切り欠き部であ
り、ノズル２２から噴出する水の噴流２４をウェーハ２
０の周縁部２１に当て、ウェーハ２０を保持部材１０の
表面から剥離させるように、テンプレート１６にノズル
２２からの噴流を通過させるべく切り欠かれて形成され
ている。このように切り欠き部１８が形成されているた
め、ウェーハ２０の周縁部２１に当たるまで水の噴流２
４が妨げられずに保持部材１０の表面１０ａに沿って好
適に流れる。すなわち、水の噴流２４の障害となる部分
が切り欠かれており、水の噴流２４が、保持部材１０の
表面１０ａに当たるとその表面１０ａにガイドされ、ウ
ェーハ２０を剥離するように周縁部２１へ好適に当てら
れる。

【００１７】また、保持部材１０の表面に保持されたウ
ェーハの２０の周縁部２１には、両面に所定の傾斜角に
面取りがなされて面取り面２１ａが形成されている。本
実施例では、この面取り面２１ａの傾斜角と略同一の入
射角によって、ノズル２２から水の噴流２４が当てられ
ている。これにより、噴流２４が好適にガイドされてウ
ェーハ２０の周縁部２１に当たり、くさびの作用によっ
てウェーハ２０を短時間で安定的に剥離させることがで
きる。

【００１８】次に他の実施例について図３および図４に
基づいて説明する。図３は要部断面図であり、図４は図
３の底面図である。なお、ノズルの位置関係については
前記実施例と同じであるため省略してある。本実施例と
前記実施例との相違は切り欠き部の形状にあり、本実施
例の切り欠き部１９は、図３に示すようにノズル２２か
ら噴出する水の噴流の流れを妨げない斜面３０を備える
ように形成されている。すなわち、切り欠き部１９は、
斜面３０を形成する傾斜部３２を残してテンプレート１
６が切り欠かれて形成されている。このため、テンプレ
ート１６は、リング状の形態を維持することができ、保
持部材１０の表面１０ａに接着等によって容易に装着す
ることができる。また、ウェーハ２０の研磨がなされる
際に、スラリー等を含む液状の研磨剤がテンプレート１
６の内周とウェーハ２０の外周との間に進入することを
抑制することができる。

【００１９】次に前記実施例の保持部材１０を備えるウ
ェーハの保持部３４の構成およびノズルの角度調整機構
と、そのウェーハの保持部を有するウェーハの研磨装置
について以下に説明する。図５はウェーハ２０をウェー
ハの保持部３４から剥離させる状態を示した側面図（一
部断面図）である。保持部材１０は、ウェーハ２０を下
面に水の表面張力によって保持している。この保持部材
の１０の表面外周部には、ウェーハ２０を取り巻くよう
にリング状のテンプレートが装着されている。３８は凹
部であり、下方に向けて開放している。４０は板状の弾
性部材であり、例えば硬質のゴム板材によってドーナツ
形の平板状に形成され、外周部４０ａが凹部３８の内上
面の外周段部３８ａに固定されると共に内周部４０ｂが
保持部材１０の上面に固定されており、保持部材１０を
上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可能
に吊持する。４２は圧力室であり、前記凹部３８を保持
部材１０および板状の弾性部材４０によって画成して設
けられている。この圧力室４２内に所定圧力の流体が、
流体の供給手段（図示せず）によって供給される。４１
はリング状の弾性部材であり、例えばゴム等により成形
されたＯ−リング状の部材からなる。このリング状の弾
性部材４１は、保持部材１０の外周面と凹部３８の側壁
内周面の双方に当接するように配設され、保持部材１０
の水平方向の移動を微小範囲内で許容している。これに
より、ウェーハが研磨される際に発生する水平方向への
作用力を吸収することができる。４３はリング状の規制
部材であり、例えば、他の部材に損傷を与えないように
デルリン等の樹脂材料によって形成されており、凹部３
８に内嵌している。このリング状の規制部材４３は、保
持部材１０が凹部３８内で上下方向及び水平方向の所定
の範囲外へ移動しないように保持部材１０を規制してい
る。

【００２０】また、ノズル２２は、前記保持部材１０に
保持されたウェーハ２０の周縁部２１に所望の角度に液
体の噴流２４を当てるべく、角度調整が可能に設けられ
ている。４４は円弧状の溝部であり、基部４６に立設さ
れた立設板４８に形成されており、その円弧の中心は保
持部材１０に保持されたウェーハ２０の周縁部２１にあ
る。５０はノズルのホルダー部であり、そのホルダー部
５０の二箇所に突設されたボルト５２、５２が溝部４４
に嵌まっている。そのボルト５２、５２には立設板４８
の裏側で蝶ナットが螺合しており、その蝶ナットを締め
付けることでノズル２２を所望の角度に固定することが
できる。本実施例では、手動でノズル２２の角度を調整
できる構成としたが、モータ駆動装置、シリンダ駆動装
置等を利用して、自動調整可能にできることは勿論であ
る。なお、５４はウェットステーションであり、保持部
材１０から剥離されたウェーハ２０受けて一旦保持する
ように設けられている。また、ウェットステーション５
４には水が張られており、ウェーハ２０が落下した際の
衝撃を好適に吸収してウェーハ２０を受けることができ
る。

【００２１】図６は前記ウェーハの保持部３４を有する
ウェーハの研磨装置の研磨機構の側面図（一部断面図）
である。５６は定盤であり、通常、上面に研磨布５８が
貼着されており、これによってシリコンウェーハ２０の
表面を研磨する研磨面６０が形成されている。この研磨
面６０には、スラリー等を含む液状研磨剤が供給され、
保持部材１０の下面に保持されたウェーハ２０の表面が
その研磨面６０に所定の荷重を与えられつつ当接・押圧
されると共に、ウェーハ２０と定盤５６とを相対的に運
動させることでウェーハ２０の表面を鏡面研磨すること
ができる。また、定盤５６の回転方向は、ウェーハ２０
を下面に保持する保持部材１０の回転と同方向に回転可
能に設けられており、回転軸のズレと相互の回転数の違
い、および相対的な往復運動によってウェーハ２０表面
と研磨面とが相対的に運動されることによって、ウェー
ハ２０の表面が鏡面研磨される。

【００２２】また、６２は主軸であり、筒状に形成され
ており、その筒内に高圧流体源である圧縮空気源（図示
せず）に連通する管６４が挿入されている。この管６４
は前記圧力室４２（図５参照）に連通しており、ウェー
ハ２０の表面を定盤５６の研磨面６０に当接させた際
に、この圧力室４２内に圧縮空気が導入されると、保持
部材１０の上面の略全面に均一な圧力が負荷される。こ
れにより、所望の圧力によってウェーハ２０の表面をそ
の全面に均等な荷重を負荷しつつ、定盤５６の研磨面６
０に押圧することができる。このとき、圧力室４２に充
填された圧縮空気は流体（本実施例では空気）であるた
め、保持部材１０の全面を均等に押圧し、ウェーハ２０
の表面を定盤５６の研磨面６０の傾斜に素早く追随させ
ることができる。

【００２３】６６はベース部材であり、保持部材１０に
よって保持されるウェーハ２０を定盤５６の研磨面６０
上へ供給すると共にその研磨面６０上から排出するべく
移動可能に設けられている。また、主軸６２の先端に固
定されたウェーハの保持部３４を主軸６２等を介して回
転可能に支持している。６８は係止部であり、主軸６２
の上部に設けられ、下側よりも小径に形成されている。
この係止部６８は、シリンダ装置７０のロッド７２に固
定されたアーム部７４に、回転及びスラスト方向の両方
向に軸受けする軸受部７６、７６を介して係止されてい
る。また、ウェーハの保持部３４と一体に設けられた主
軸６２は、ベース部材６６に対して回転軸受７８、７８
を介して回転可能に設けられた回転伝達部材８０内に挿
入されている。回転軸受７８、７８はベース部材６６に
一体に固定された立設筒部８２内に装着されている。こ
の回転伝達部材８０と主軸６２とは、主軸６２側に固定
されたキー８４が、回転伝達部材８０側に設けられたキ
ー溝８１内に臨むことで連繋されている。このため、回
転伝達部材８０と主軸６２とは一体的に回転動する。ま
た、キー溝８１が長手方向である軸線方向に長く設けら
れているため、主軸６２は、シリンダ装置７０によって
所定の範囲内でベース部材６６に対して上下方向に移動
できる。なお、図６では、ウェーハの保持部３４はシリ
ンダ装置７０によって上方に移動した状態にある。

【００２４】８６は駆動モータであり、ピニオンギア８
８及び従動ギア９０を介して、その従動ギア９０がキー
９１によって連結された回転伝達部材８０を回転させ
る。なお、この回転伝達部材８０は、ベース部材６６と
の間に配設された回転軸受７８、７８によって、ベース
部材６６に対して回転可能に設けられている。以上の構
成からなる駆動機構を備えるウェーハの研磨装置によれ
ば、ウェーハの保持部３４にウェーハ２０を保持し、定
盤５６の研磨面６０にウェーハ表面を当接させ、そのウ
ェーハ２０に所定の荷重を与えつつ、ウェーハ２０と定
盤５６とを相対的に運動させてウェーハ表面を鏡面研磨
することができる。

【００２５】９２はディストリビュータ部であり、圧縮
空気源と連通するための連結ポート部である。このディ
ストリビュータ部９２に内嵌した主軸６２の先端部６２
ａを、その先端部６２ａが回転できるように受けてい
る。９４は連通路であり、管６４に連通している。ま
た、９６はシール部材であり、このシール部材９６、９
６にシールされて全周のリング状の空間９７が形成され
ており、そのリング状の空間９７に連通して高圧源連結
ポート９８が設けられている。このため、先端部６２ａ
が回転しても、圧縮空気源は、高圧源連結ポート９８、
リング状の空間９７、連通路９４、管６４を通して常に
圧力室４２に連通できる。

【００２６】１００はエンコーダ装置であり、主軸６２
の回転位置を検知する。ここで検知したデータに基づい
て、切り欠き部１８にノズル２２が対応して位置するよ
うに、ウェーハの保持部３４を所定の位置で停止させる
定位置停止装置の検知装置として作用する。

【００２７】次に以上の構成からなるウェーハの研磨装
置に関して、その作動状態について説明する。先ず、所
定の位置に載置されたウェーハ２０の上方からウェーハ
の保持部３４をシリンダ装置７０によって下降させ、保
持部材１０の表面に水の表面張力によって吸着させる。
次に、ベース部材６６を移動させることによりウェーハ
２０を定盤５６の上方まで搬送し、さらに、シリンダ装
置７０によって、ウェーハの保持部３４を下方に下げる
ことにより、シリコンウェーハ２０の表面を定盤５６の
研磨面６０に当接させる。

【００２８】次に、所定の圧力の圧縮空気を圧力室４２
に導入することによって、ウェーハ２０の表面を研磨面
６０に所望の圧力で押圧することができる。このとき、
圧縮空気は流体であるから保持部材１０の全面を均等に
押圧して、シリコンウェーハ２０の表面を研磨面６０の
傾斜に素早く追随させることができる。また、圧縮空気
によって保持部材１０の上面全面に均等な圧力を負荷す
ることができる。このため、シリコンウェーハ２０の表
面が研磨面６０の傾斜に追随した状態においても、シリ
コンウェーハ２０の表面全面を研磨面６０に均等な圧力
で押圧することができる。そして、上記の如く好適にシ
リコンウェーハ２０に荷重が負荷された状態で、定盤５
６の研磨面６０上にスラリーを供給しつつ、定盤５６が
回転すると共に駆動モータ８６の動力によりウェーハの
保持部３４が回転されて、ウェーハ２０が鏡面研磨され
る。このとき、ウェーハ２０を研磨する際に生ずる研磨
面６０の傾斜等による上下動の変位に対しては、圧力室
４２に充填された圧縮空気と主に板状の弾性部材４０と
が作用して好適に追随することができる。

【００２９】上記実施例では、セラミックプレート１２
にバッキング材１４を接着させた保持部材１０を利用し
ているが、本発明にかかる保持部材はこれに限らない。
例えば、セラミックプレート１２とは、種々のセラミッ
クの材質を意味するが、具体的には、焼結によって形成
されたセラミック、普通のガラス、パイレックスガラ
ス、石英ガラス等を利用できる。セラミックは、金属材
に比べ線膨張係数の小さく、変形しにくいため、ウェー
ハ２０を精度よく均一に研磨する際に好適である。な
お、使用条件によっては、セラミックプレート１２に代
えて、金属材または樹脂材からなるプレートを利用して
もよいのは勿論である。また、保持部材としては、変形
しにくいプレート状の形態を備えているものに限らず、
弾性部材によって形成された薄膜状のものも含まれる。
そのような保持部材でも、ウェーハ２０を液体の表面張
力によって保持させている場合には、本発明にかかる構
成を好適に適用できる。

【００３０】以上に説明してきた実施例では、圧縮空気
によって保持部材１０を介してウェーハ２０を研磨面に
押圧する場合を説明したが、他の流体圧例えば油圧を利
用することもできる。また、前記保持部材が複数のウェ
ーハを保持可能なように大型に設けられた場合には、テ
ンプレートに、ウェーハが内嵌される複数の穴を設け、
該各穴に対応して前述した切り欠き部を設ければよい。
これにより、複数のウェーハを好適に剥離することがで
きる。以上、本発明の好適な実施例について種々述べて
きたが、本発明はこの実施例に限定されるものではな
く、発明の精神を逸脱しない範囲内でさらに多くの改変
を施し得るのは勿論のことである。

【００３１】

【発明の効果】本発明のウェーハの研磨装置によれば、
テンプレートが、保持部材の表面に装着され、ウェーハ
の周囲を取り囲んでおり、そのテンプレートにノズルか
らの噴流を通過させる切り欠き部を設けている。このた
め、ノズルから噴出する液体の噴流を、ウェーハを保持
部材の表面から剥離させるようにウェーハの周縁部に当
てるべく、保持部材の表面および／またはテンプレート
の切り欠き面に沿って好適に流すことができる。これに
より、ノズルから噴出する液体の噴流によって、ウェー
ハを保持部材の表面から短時間で且つ安定的に剥離する
ことができるという著効を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかるウェーハの研磨装置の一実施例
を示す要部断面図。

【図２】図２の実施例の底面図である。

【図３】本発明にかかるウェーハの研磨装置の他の実施
例を示す要部断面図。

【図４】図３の実施例の底面図である。

【図５】ウェーハを剥離させる状態を示した側面図。

【図６】本発明にかかるウェーハの研磨装置の研磨機構
の構成を示す側面図。

【図７】従来の技術を示す断面図。

【符号の説明】

１０ 保持部材 １２ セラミックプレート １４ バッキング材 １６ テンプレート １８ 切り欠き部 ２０ ウェーハ ２２ ノズル ２４ 噴流 ３０ 斜面 ３２ 傾斜部 ３４ ウェーハの保持部 ３８ 凹部 ４０ 板状の弾性部材 ４２ 圧力室 １００ エンコーダ装置

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面にウェーハを水等の液体の表面張力
   によって保持する保持部材と、該保持部材の表面に装着
   され、ウェーハの周囲を取り囲んで該ウェーハの滑り移
   動を防止するテンプレートとを備えるウェーハの保持部
   にウェーハを保持し、定盤の研磨面にウェーハ表面を当
   接させ、該ウェーハに所定の荷重を与えつつ、ウェーハ
   と定盤とを相対的に運動させてウェーハ表面を鏡面研磨
   するウェーハの研磨装置において、 前記保持部材の表面からウェーハを剥離させるべく、ウ
   ェーハの周縁部に液体を噴出するノズルと、 前記テンプレートに前記ノズルからの噴流を通過させる
   切り欠き部とを設けたことを特徴とするウェーハの研磨
   装置。
2. 【請求項２】 前記切り欠き部は、前記ノズルから噴出
   する液体の噴流を妨げない斜面からなることを特徴とす
   る請求項１記載のウェーハの研磨装置。
3. 【請求項３】 前記ノズルは、前記保持部材に保持され
   たウェーハの周縁部に所望の角度に液体の噴流を当てる
   べく、角度調整が可能であることを特徴とする請求項１
   または２記載のウェーハの研磨装置。
4. 【請求項４】 前記切り欠き部に前記ノズルが対応して
   位置するように、前記ウェーハの保持部を所定の位置で
   停止させる定位置停止装置を設けたことを特徴とする請
   求項１、２または３記載のウェーハの研磨装置。
5. 【請求項５】 前記ウェーハの保持部が、 下方に向けて開放する凹部と、 外周部が前記凹部の周側壁に固定されると共に内周部が
   保持部材に固定され、該保持部材を上下方向及び水平方
   向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持する板状の弾
   性部材と、 前記凹部を保持部材および板状の弾性部材によって画成
   して設けられる圧力室と、 該圧力室に所定圧力の流体を供給する流体の供給手段と
   を具備することを特徴とする請求項１、２、３または４
   記載のウェーハの研磨装置。
6. 【請求項６】 前記テンプレートがリング状に形成され
   ていることを特徴とする請求項１、２、３、４または５
   記載のウェーハの研磨装置。
7. 【請求項７】 前記保持プレートが複数のウェーハを保
   持可能なように、前記テンプレートには、ウェーハが内
   嵌される複数の穴が設けられ、該各穴に前記の切り欠き
   部が設けられていることを特徴とする請求項１、２、
   ３、４または５記載のウェーハの研磨装置。