JPH0822898A - プラズマ処理装置及び放電装置 - Google Patents
プラズマ処理装置及び放電装置Info
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- JPH0822898A JPH0822898A JP6153622A JP15362294A JPH0822898A JP H0822898 A JPH0822898 A JP H0822898A JP 6153622 A JP6153622 A JP 6153622A JP 15362294 A JP15362294 A JP 15362294A JP H0822898 A JPH0822898 A JP H0822898A
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- Japan
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- discharge
- plasma
- coils
- electrode pairs
- electrode
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 一方の電極対のみが放電した場合に他方の電
極対にかかる電圧の低下を防止して、安定してプラズマ
を発生し得るプラズマ処理装置及びその放電装置を提供
する。 【構成】 高周波の交流電源８からの配線15はマッチ
ング回路７に接続してある。マッチング回路７からの配
線16は分岐しており、その分岐した配線17,17には相互
に電磁的に結合するように配置されたコイル５，６の一
端がそれぞれ接続してある。そしてコイル５，６の他端
はプラズマ生成室21内に設けられた２つの電極対24，24
のカソード電極22，22にそれぞれ接続してある。これに
よってコイル５，６は相互インダクタンスを有する。そ
して電極対24，24の一方が先に放電した場合、コイル
５，６の相互インダクタンスの作用により他方の電極対
24に係る電圧の低下が妨げられ、その電極対24も放電を
開始する。
極対にかかる電圧の低下を防止して、安定してプラズマ
を発生し得るプラズマ処理装置及びその放電装置を提供
する。 【構成】 高周波の交流電源８からの配線15はマッチ
ング回路７に接続してある。マッチング回路７からの配
線16は分岐しており、その分岐した配線17,17には相互
に電磁的に結合するように配置されたコイル５，６の一
端がそれぞれ接続してある。そしてコイル５，６の他端
はプラズマ生成室21内に設けられた２つの電極対24，24
のカソード電極22，22にそれぞれ接続してある。これに
よってコイル５，６は相互インダクタンスを有する。そ
して電極対24，24の一方が先に放電した場合、コイル
５，６の相互インダクタンスの作用により他方の電極対
24に係る電圧の低下が妨げられ、その電極対24も放電を
開始する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、対向する電極対に電力
を供給して放電を行う放電装置に原料ガスを供給して発
生させたプラズマを用いて成膜，エッチング又は表面処
理等を行うプラズマ処理装置、及びその放電装置に関す
る。
を供給して放電を行う放電装置に原料ガスを供給して発
生させたプラズマを用いて成膜，エッチング又は表面処
理等を行うプラズマ処理装置、及びその放電装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】図３は従来のプラズマ処理装置の要部を
示す模式的断面図であり、図中21は石英又はステンレス
等に形成された中空のプラズマ生成室である。プラズマ
生成室21内には放電装置のカソード電極22及び該カソー
ド電極22と対向するアノード電極23を備える２対の電極
対24，24が設けてあり、両電極対24，24はそのカソード
電極22，22が対向するように配置してある。両電極対2
4，24のアノード電極23，23はプラズマ生成室21の外で
接地してある。
示す模式的断面図であり、図中21は石英又はステンレス
等に形成された中空のプラズマ生成室である。プラズマ
生成室21内には放電装置のカソード電極22及び該カソー
ド電極22と対向するアノード電極23を備える２対の電極
対24，24が設けてあり、両電極対24，24はそのカソード
電極22，22が対向するように配置してある。両電極対2
4，24のアノード電極23，23はプラズマ生成室21の外で
接地してある。
【０００３】高周波の交流電源28からの配線35はマッチ
ング回路27に接続してあり、マッチング回路27からの配
線36は分岐してあり、その分岐した配線37,37 はプラズ
マ生成室21内に設けられた電極対24，24のカソード電極
22，22にそれぞれ接続してある。
ング回路27に接続してあり、マッチング回路27からの配
線36は分岐してあり、その分岐した配線37,37 はプラズ
マ生成室21内に設けられた電極対24，24のカソード電極
22，22にそれぞれ接続してある。
【０００４】プラズマ生成室21には図示しないガス供給
源に連なるガス導入管30が接続してあり、該ガス導入管
30からプラズマ生成室21内へ原料ガスが導入される。ま
たプラズマ生成室21には図示しない減圧装置に連なるガ
ス排出管31が接続してあり、該ガス排出管31にてプラズ
マ生成室21内が所定の圧力に減圧されると共に、未反応
ガス及び反応済ガスが排出される。またプラズマ生成室
21には試料を設置し、該試の表面に成膜，エッチング等
のプラズマ処理を行う処理室が連設してある。
源に連なるガス導入管30が接続してあり、該ガス導入管
30からプラズマ生成室21内へ原料ガスが導入される。ま
たプラズマ生成室21には図示しない減圧装置に連なるガ
ス排出管31が接続してあり、該ガス排出管31にてプラズ
マ生成室21内が所定の圧力に減圧されると共に、未反応
ガス及び反応済ガスが排出される。またプラズマ生成室
21には試料を設置し、該試の表面に成膜，エッチング等
のプラズマ処理を行う処理室が連設してある。
【０００５】このような装置にあっては、ガス排出管31
からプラズマ生成室21内の気体を排出して所定の圧力に
減圧した後、交流電源28から電極対24，24のカソード電
極22，22に給電し、対向するアノード電極23，23との間
にて放電を行わせる。そしてガス導入管30から所定流量
にて原料ガスを導入し、両電極対24，24の放電によって
プラズマを生成させる。生成したプラズマは誘導磁界等
を利用して、プラズマ生成室21に連設する処理室内に設
置してある試料の周囲に導き、該試料に成膜，エッチン
グ等のプラズマ処理を施す。このように複数の電極対2
4，24を設けることによって、プラズマの生成領域が大
きくなり、均一なプラズマ処理が可能となる。
からプラズマ生成室21内の気体を排出して所定の圧力に
減圧した後、交流電源28から電極対24，24のカソード電
極22，22に給電し、対向するアノード電極23，23との間
にて放電を行わせる。そしてガス導入管30から所定流量
にて原料ガスを導入し、両電極対24，24の放電によって
プラズマを生成させる。生成したプラズマは誘導磁界等
を利用して、プラズマ生成室21に連設する処理室内に設
置してある試料の周囲に導き、該試料に成膜，エッチン
グ等のプラズマ処理を施す。このように複数の電極対2
4，24を設けることによって、プラズマの生成領域が大
きくなり、均一なプラズマ処理が可能となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の放
電装置を備えるプラズマ処理装置にあっては、１つの交
流電源に接続した２対の電極対が同時的に放電を開始す
ることは考えられず、処理条件に応じて低電圧にて放電
させる場合、後述する如く、放電を開始した方の電極対
のみが放電を発生し続け、他方の電極対は放電を発生し
得ないため、安定してプラズマを得ることができないと
いう問題があった。
電装置を備えるプラズマ処理装置にあっては、１つの交
流電源に接続した２対の電極対が同時的に放電を開始す
ることは考えられず、処理条件に応じて低電圧にて放電
させる場合、後述する如く、放電を開始した方の電極対
のみが放電を発生し続け、他方の電極対は放電を発生し
得ないため、安定してプラズマを得ることができないと
いう問題があった。
【０００７】図４は図３に示したプラズマ処理装置の等
価回路図であり、２つの電極対の一方のみが放電を発生
した場合を示している。その一端が接地された交流電源
28の他端は、マッチング回路27を介して２つの電極対の
間に生じる容量Ｃ1 ，Ｃ2 の一端に連なり、容量Ｃ1 ，
Ｃ2 の他端は接地電位となり、容量Ｃ1 ，Ｃ2 の非接地
側の端子間には、両電極対のカソード電極間に生じる容
量Ｃ3 が介在する。
価回路図であり、２つの電極対の一方のみが放電を発生
した場合を示している。その一端が接地された交流電源
28の他端は、マッチング回路27を介して２つの電極対の
間に生じる容量Ｃ1 ，Ｃ2 の一端に連なり、容量Ｃ1 ，
Ｃ2 の他端は接地電位となり、容量Ｃ1 ，Ｃ2 の非接地
側の端子間には、両電極対のカソード電極間に生じる容
量Ｃ3 が介在する。
【０００８】いま、プラズマ処理の条件を温和にすべ
く、交流電源28の電圧Ｖ0 を容量Ｃ1，Ｃ2 の放電が共
に発生し得る程度に低下させたとすると、容量Ｃ2 に放
電が発生した場合、容量Ｃ2 の電極対の間にプラズマが
発生し、そのプラズマの荷電粒子によって容量Ｃ2 の静
電容量が大きくなり、そのため容量Ｃ2 の非接地側端子
の電圧が低下する。また容量Ｃ2 の両端の間にプラズマ
による抵抗Ｒ2 が生じる。容量Ｃ2 にかかる電圧が低下
すると、容量Ｃ3 の容量結合によって容量Ｃ1 の非接地
側端子の電圧が低下し、これによって容量Ｃ1 は放電を
発生し得なくなる。
く、交流電源28の電圧Ｖ0 を容量Ｃ1，Ｃ2 の放電が共
に発生し得る程度に低下させたとすると、容量Ｃ2 に放
電が発生した場合、容量Ｃ2 の電極対の間にプラズマが
発生し、そのプラズマの荷電粒子によって容量Ｃ2 の静
電容量が大きくなり、そのため容量Ｃ2 の非接地側端子
の電圧が低下する。また容量Ｃ2 の両端の間にプラズマ
による抵抗Ｒ2 が生じる。容量Ｃ2 にかかる電圧が低下
すると、容量Ｃ3 の容量結合によって容量Ｃ1 の非接地
側端子の電圧が低下し、これによって容量Ｃ1 は放電を
発生し得なくなる。
【０００９】本発明はかかる事情に鑑みてなされたもの
であって、その目的とするところは２つの電極対にコイ
ルを接続し、両コイルを電磁的に結合し得るように配置
することによって、一方の電極対のみが放電した場合に
他方の電極対にかかる電圧の低下を防止して他方の電極
対を放電させ、安定してプラズマを発生し得るプラズマ
処理装置及びその放電装置を提供することにある。
であって、その目的とするところは２つの電極対にコイ
ルを接続し、両コイルを電磁的に結合し得るように配置
することによって、一方の電極対のみが放電した場合に
他方の電極対にかかる電圧の低下を防止して他方の電極
対を放電させ、安定してプラズマを発生し得るプラズマ
処理装置及びその放電装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明に係るプラズマ処
理装置及び放電装置は、交流電源からの配線を分岐して
接続してある２つの電極対にはそれぞれコイルが接続し
てあり、両コイルは電磁的に結合し得る距離に配置して
あることを特徴とする。
理装置及び放電装置は、交流電源からの配線を分岐して
接続してある２つの電極対にはそれぞれコイルが接続し
てあり、両コイルは電磁的に結合し得る距離に配置して
あることを特徴とする。
【００１１】
【作用】本発明のプラズマ処理装置及び放電装置にあっ
ては、交流電源からの配線を分岐して接続してある２つ
の電極対にはそれぞれコイルが接続してあり、両コイル
は電磁的に結合し得る距離に配置してあるため、一方の
電極対が先に放電した場合、両コイルによって他方の電
極対における電圧降下が妨げられる。
ては、交流電源からの配線を分岐して接続してある２つ
の電極対にはそれぞれコイルが接続してあり、両コイル
は電磁的に結合し得る距離に配置してあるため、一方の
電極対が先に放電した場合、両コイルによって他方の電
極対における電圧降下が妨げられる。
【００１２】
【実施例】以下本発明をその実施例を示す図面に基づい
て具体的に説明する。図１は本発明に係るプラズマ処理
装置の要部を示す模式的断面図であり、図中１は石英又
はステンレス等に形成された中空のプラズマ生成室であ
る。プラズマ生成室１内にはカソード電極２及び該カソ
ード電極２と対向するアノード電極３を備える２対の電
極対４，４が設けてあり、両電極対４，４はそのカソー
ド電極２，２が対向するように配置してある。両電極対
２，２のアノード電極３，３はプラズマ生成室１の外で
接地してある。
て具体的に説明する。図１は本発明に係るプラズマ処理
装置の要部を示す模式的断面図であり、図中１は石英又
はステンレス等に形成された中空のプラズマ生成室であ
る。プラズマ生成室１内にはカソード電極２及び該カソ
ード電極２と対向するアノード電極３を備える２対の電
極対４，４が設けてあり、両電極対４，４はそのカソー
ド電極２，２が対向するように配置してある。両電極対
２，２のアノード電極３，３はプラズマ生成室１の外で
接地してある。
【００１３】高周波の交流電源８からの配線15はマッチ
ング回路７に接続してある。マッチング回路７からの配
線16は分岐しており、その分岐した配線17,17 は相互に
電磁的に結合するように配置されたコイル５，６の一端
にそれぞれ接続してある。そしてコイル５，６の他端は
プラズマ生成室21内に設けられた２つの電極対24，24の
カソード電極22，22にそれぞれ接続してある。これによ
ってコイル５，６は相互インダクタンスを有する。
ング回路７に接続してある。マッチング回路７からの配
線16は分岐しており、その分岐した配線17,17 は相互に
電磁的に結合するように配置されたコイル５，６の一端
にそれぞれ接続してある。そしてコイル５，６の他端は
プラズマ生成室21内に設けられた２つの電極対24，24の
カソード電極22，22にそれぞれ接続してある。これによ
ってコイル５，６は相互インダクタンスを有する。
【００１４】プラズマ生成室１には図示しないガス供給
源に連なるガス導入管10が接続してあり、該ガス導入管
10からプラズマ生成室１内へ原料ガスが導入される。ま
たプラズマ生成室１には図示しない減圧装置に連なるガ
ス排出管11が接続してあり、該ガス排出管11にてプラズ
マ生成室１内が所定の圧力に減圧されると共に、未反応
ガス及び反応済ガスが排出される。またプラズマ生成室
１には試料を設置し、該試の表面に成膜，エッチング等
のプラズマ処理を行う処理室が連設してある。
源に連なるガス導入管10が接続してあり、該ガス導入管
10からプラズマ生成室１内へ原料ガスが導入される。ま
たプラズマ生成室１には図示しない減圧装置に連なるガ
ス排出管11が接続してあり、該ガス排出管11にてプラズ
マ生成室１内が所定の圧力に減圧されると共に、未反応
ガス及び反応済ガスが排出される。またプラズマ生成室
１には試料を設置し、該試の表面に成膜，エッチング等
のプラズマ処理を行う処理室が連設してある。
【００１５】このような装置にあっては、ガス排出管11
からプラズマ生成室１内の気体を排出して所定の圧力に
減圧した後、交流電源８から電極対４，４のカソード電
極２，２に給電し、両電極対４，４のアノード電極３，
３との間にて放電を行わせる。このとき、一方の電極対
４のみが放電しても、コイル５，６の相互インダクタン
スによって他方の電極対４の電圧降下が妨げられるた
め、その電極対４も放電を開始する。そしてガス導入管
10から所定流量にて原料ガスを導入し、両電極対４，４
の放電によってプラズマを生成させる。生成したプラズ
マは誘導磁界等を利用して、プラズマ生成室１に連設す
る処理室内に設置してある試料の周囲に導き、該試料に
成膜，エッチング等のプラズマ処理を施す。
からプラズマ生成室１内の気体を排出して所定の圧力に
減圧した後、交流電源８から電極対４，４のカソード電
極２，２に給電し、両電極対４，４のアノード電極３，
３との間にて放電を行わせる。このとき、一方の電極対
４のみが放電しても、コイル５，６の相互インダクタン
スによって他方の電極対４の電圧降下が妨げられるた
め、その電極対４も放電を開始する。そしてガス導入管
10から所定流量にて原料ガスを導入し、両電極対４，４
の放電によってプラズマを生成させる。生成したプラズ
マは誘導磁界等を利用して、プラズマ生成室１に連設す
る処理室内に設置してある試料の周囲に導き、該試料に
成膜，エッチング等のプラズマ処理を施す。
【００１６】図２は本発明に係る装置の要部の等価回路
図であり、２つの電極対の一方のみが放電を発生した場
合を示している。一方の電極対の容量Ｃ1 及び他方の電
極対の容量Ｃ2 には、自己インダクタンスＬ1 ，Ｌ2 を
有するコイル５，６がそれぞれ接続してあり、コイル
５，６は電磁的に結合し得る距離に配置してある。これ
によってコイル５，６は相互インダクタンスＭ12を有す
る。コイル５，６はマッチング回路７を介して交流電源
８に接続してある。また容量Ｃ1 及び容量Ｃ2 の非接地
側の端子間には容量Ｃ3 が介在する。
図であり、２つの電極対の一方のみが放電を発生した場
合を示している。一方の電極対の容量Ｃ1 及び他方の電
極対の容量Ｃ2 には、自己インダクタンスＬ1 ，Ｌ2 を
有するコイル５，６がそれぞれ接続してあり、コイル
５，６は電磁的に結合し得る距離に配置してある。これ
によってコイル５，６は相互インダクタンスＭ12を有す
る。コイル５，６はマッチング回路７を介して交流電源
８に接続してある。また容量Ｃ1 及び容量Ｃ2 の非接地
側の端子間には容量Ｃ3 が介在する。
【００１７】そして容量Ｃ2 に放電が発生して電極間に
プラズマが生成すると、生成したプラズマの荷電粒子に
よって容量Ｃ2 の静電容量が増加し、コイル６を流れる
電流Ｉ2 がＩ2 ＋ΔＩ2 に増加する。また容量Ｃ2 の両
端の間にプラズマによる抵抗Ｒ2 が生じる。このとき、
コイル５にかかる電圧ＶL1はコイル５，６の相互インダ
クタンスＭ12を用いた次の（１）式で表される。 ＶL1＝Ｌ1 （ｄＩ1 ／ｄｔ） −Ｍ12（ｄＩ2 ／ｄｔ＋ｄ（ΔＩ2 ）／ｄｔ） …（１） 但し、Ｉ1 ：コイル５を流れる電流
プラズマが生成すると、生成したプラズマの荷電粒子に
よって容量Ｃ2 の静電容量が増加し、コイル６を流れる
電流Ｉ2 がＩ2 ＋ΔＩ2 に増加する。また容量Ｃ2 の両
端の間にプラズマによる抵抗Ｒ2 が生じる。このとき、
コイル５にかかる電圧ＶL1はコイル５，６の相互インダ
クタンスＭ12を用いた次の（１）式で表される。 ＶL1＝Ｌ1 （ｄＩ1 ／ｄｔ） −Ｍ12（ｄＩ2 ／ｄｔ＋ｄ（ΔＩ2 ）／ｄｔ） …（１） 但し、Ｉ1 ：コイル５を流れる電流
【００１８】（１）式から明らかな如く、コイル５にか
かる電圧ＶL1は容量Ｃ2 に放電が発生する前に比べてＭ
12（ｄ（ΔＩ2 ）／ｄｔ）だけ減少し、容量Ｃ1 にかか
る電圧はその分大きくなる。これによって容量Ｃ1 にお
ける電圧降下が妨げられる。なお、先に容量Ｃ1 に放電
が発生した場合も前同様に、相互インダクタンスＭ12を
有するコイル５，６の作用により、容量Ｃ2 における電
圧降下が妨げられる。
かる電圧ＶL1は容量Ｃ2 に放電が発生する前に比べてＭ
12（ｄ（ΔＩ2 ）／ｄｔ）だけ減少し、容量Ｃ1 にかか
る電圧はその分大きくなる。これによって容量Ｃ1 にお
ける電圧降下が妨げられる。なお、先に容量Ｃ1 に放電
が発生した場合も前同様に、相互インダクタンスＭ12を
有するコイル５，６の作用により、容量Ｃ2 における電
圧降下が妨げられる。
【００１９】次に図１に示した装置を用いて試験した結
果について説明する。コイル５として、その直径が４５
ｍｍであり巻数が１０回である中空コイルを、またコイ
ル６として、その直径が５０ｍｍでありコイル５とは逆
巻に１０回巻回した中空コイルを用いた。そして交流電
源８から両電極対４，４にそれらが共に放電し得る程度
の電圧を印加すると、コイル６が接続した電極対４が先
に放電を開始した。このときコイル６を流れる電流を測
定すると、放電前に比べて１Ａ増加しており、これによ
りコイル５が接続した電極対４のカソード電極２にかか
る電圧が１２０Ｖ増加していた。そして前記電極対４に
続いて、コイル５が接続した電極対４が放電を開始し、
プラズマを安定して得ることができた。
果について説明する。コイル５として、その直径が４５
ｍｍであり巻数が１０回である中空コイルを、またコイ
ル６として、その直径が５０ｍｍでありコイル５とは逆
巻に１０回巻回した中空コイルを用いた。そして交流電
源８から両電極対４，４にそれらが共に放電し得る程度
の電圧を印加すると、コイル６が接続した電極対４が先
に放電を開始した。このときコイル６を流れる電流を測
定すると、放電前に比べて１Ａ増加しており、これによ
りコイル５が接続した電極対４のカソード電極２にかか
る電圧が１２０Ｖ増加していた。そして前記電極対４に
続いて、コイル５が接続した電極対４が放電を開始し、
プラズマを安定して得ることができた。
【００２０】
【発明の効果】以上詳述した如く第１発明に係るプラズ
マ発生装置にあっては、低い電圧を印加した場合であっ
ても安定してプラズマを得られるため、プラズマ処理に
おける条件設定の範囲が広がり、多様な製品に対処し得
る。
マ発生装置にあっては、低い電圧を印加した場合であっ
ても安定してプラズマを得られるため、プラズマ処理に
おける条件設定の範囲が広がり、多様な製品に対処し得
る。
【００２１】また第２発明に係る放電装置にあっては、
一方の電極対のみが放電した場合に他方の電極対にかか
る電圧の低下を防止し、両電極対が安定して放電し得る
等、本発明は優れた効果を奏する。
一方の電極対のみが放電した場合に他方の電極対にかか
る電圧の低下を防止し、両電極対が安定して放電し得る
等、本発明は優れた効果を奏する。
【図１】 本発明に係るプラズマ処理装置の要部を示す
模式的断面図である。
模式的断面図である。
【図２】 本発明に係る装置の要部の等価回路図であ
る。
る。
【図３】 従来のプラズマ処理装置の要部を示す模式的
断面図である。
断面図である。
【図４】 図３に示したプラズマ処理装置の等価回路図
である。
である。
１ プラズマ生成室、２ カソード電極、３ アノード
電極、４ 電極対、５ コイル、６ コイル、７ マッ
チング回路、８ 交流電源。
電極、４ 電極対、５ コイル、６ コイル、７ マッ
チング回路、８ 交流電源。
Claims (2)
- 【請求項１】 交流電源からの配線を分岐して接続して
ある２つの電極対に放電を発生させ、その放電領域に原
料ガスを供給して生成させたプラズマを用いて処理を行
うプラズマ処理装置において、 両電極対にはそれぞれコイルが接続してあり、両コイル
は電磁的に結合し得る距離に配置してあることを特徴と
するプラズマ処理装置。 - 【請求項２】 交流電源からの配線を分岐して接続して
ある２つの電極対に放電を発生させる放電装置におい
て、 両電極対にはそれぞれコイルが接続してあり、両コイル
は電磁的に結合し得る距離に配置してあることを特徴と
する放電装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6153622A JPH0822898A (ja) | 1994-07-05 | 1994-07-05 | プラズマ処理装置及び放電装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6153622A JPH0822898A (ja) | 1994-07-05 | 1994-07-05 | プラズマ処理装置及び放電装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0822898A true JPH0822898A (ja) | 1996-01-23 |
Family
ID=15566522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6153622A Pending JPH0822898A (ja) | 1994-07-05 | 1994-07-05 | プラズマ処理装置及び放電装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0822898A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20150332897A1 (en) * | 2012-12-21 | 2015-11-19 | Asahi Glass Company Limited | Ignition process and device for pairs of dbd electrodes |
-
1994
- 1994-07-05 JP JP6153622A patent/JPH0822898A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20150332897A1 (en) * | 2012-12-21 | 2015-11-19 | Asahi Glass Company Limited | Ignition process and device for pairs of dbd electrodes |
| JP2016507853A (ja) * | 2012-12-21 | 2016-03-10 | 旭硝子株式会社 | Ｄｂｄ電極対の点火方法と装置 |
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