JPH08213732A - Multilayer integrated circuit package and its manufacture - Google Patents

Multilayer integrated circuit package and its manufacture

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JPH08213732A
JPH08213732A JP30686895A JP30686895A JPH08213732A JP H08213732 A JPH08213732 A JP H08213732A JP 30686895 A JP30686895 A JP 30686895A JP 30686895 A JP30686895 A JP 30686895A JP H08213732 A JPH08213732 A JP H08213732A
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JP
Japan
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flexible circuit
dielectric layer
wiring pattern
layer
basic
Prior art date
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Pending
Application number
JP30686895A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Rajendra D Pendse
ディー ペンズ ラジェンドラ
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HP Inc
Original Assignee
Hewlett Packard Co
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Filing date
Publication date
Application filed by Hewlett Packard Co filed Critical Hewlett Packard Co
Publication of JPH08213732A publication Critical patent/JPH08213732A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/4038Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections
    • H05K3/4084Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by deforming at least one of the conductive layers

Landscapes

  • Combinations Of Printed Boards (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To place a solder ball directly above a dielectric layer by providing a first flexible circuit, having a through-hole filled with a conductive material for connecting at least a part of a basic wiring pattern electrically with a first wiring pattern. SOLUTION: An electrical connection is made between a wiring pattern 114 formed on a basic dielectric layer 112 and a first wiring pattern 124 formed on a first dielectric layer 125 of a flexible circuit 120. A solder ball 134 is placed in an opening 128 made in the first dielectric layer 125. Since the temperature increases when the solder ball is fixed, it is fused partially and touches a part of the wiring pattern 114, formed on the basic dielectric layer 112 through the opening 128 in the first dielectric layer. According to the method, the solder ball 134 can be placed directly above the opening 128 in the dielectric layer 125.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は集積回路パッケージ
の分野に関し、更に詳細には、多層集積回路パッケージ
およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the field of integrated circuit packages, and more particularly to a multi-layer integrated circuit package and its manufacturing method.

【0002】[0002]

【技術背景】集積回路の大きさが小さくなるにつれて、
集積回路のパッケージはますます複雑になり、典型的
に、一つの集積回路に300を超すI/O接続が必要で
ある。同時に高いピン数、清浄な電気的環境、および小
さいダイの必要性から、その間に経路接続を持つ、導電
材料および誘電体材料が交替して成る多層を設けるパッ
ケージング技術を使用することが必要になる。共焼セラ
ミックおよび印刷回路板の積層は、導電経路(ヴァイ
ア)により相互接続された交替する導体層および誘電体
層によりI/O能力を増大させる二つの多層パッケージ
ング技術である。
BACKGROUND OF THE INVENTION As the size of integrated circuits decreases,
Integrated circuit packages are becoming more complex and typically require more than 300 I / O connections per integrated circuit. At the same time, the high pin count, clean electrical environment, and the need for small dies necessitate the use of packaging techniques that provide multiple layers of alternating conductive and dielectric materials with path connections between them. Become. Co-fired ceramic and printed circuit board stacking are two multilayer packaging techniques that increase I / O capability with alternating conductor and dielectric layers interconnected by conductive paths (vias).

【0003】印刷回路積層パッケージは典型的に、誘電
体層上に配線パターンを形成する工程、誘電体層を積層
する工程、誘電体層に経路開口を形成する工程、経路開
口にめっきして層間に電気接続を形成する工程、得られ
た構造を個別パッケージにまとめる工程、および集積回
路ダイ・スラグをパッケージに取り付ける工程、により
作ることができる。典型的には、配線パターンは銅であ
り、フォトリソグラフ技術を用いて個別のポリマー誘電
体層上に形成される。誘電体層は誘電体層間に接着剤を
置き、誘電体層を位置合わせし、多層を共に押圧し、そ
れらを加熱して確実な結合を形成することにより典型的
に共に積層される。積層後、層間に電気的相互接続を必
要とする区域に層に錐揉み(ドリリング)して経路開口
を形成する。
A printed circuit laminated package is typically formed by forming a wiring pattern on a dielectric layer, laminating a dielectric layer, forming a via opening in the dielectric layer, and plating the via opening to form an interlayer. Can be made by making electrical connections to the package, assembling the resulting structure into individual packages, and attaching integrated circuit die slugs to the package. Typically, the wiring pattern is copper and is formed on the individual polymer dielectric layers using photolithographic techniques. Dielectric layers are typically laminated together by placing an adhesive between the dielectric layers, aligning the dielectric layers, pressing the layers together and heating them to form a secure bond. After lamination, the layers are drilled into areas that require electrical interconnection between the layers to form via openings.

【0004】印刷回路板積層プロセスに伴う問題は処理
中に生ずる寸法変化から生ずる。印刷回路板プロセスに
使用される誘電体層は主としてポリマーから構成されて
いるので、層を加熱して結合を形成する工程中収縮が生
ずる。位置合わせは加熱工程前に行なわれるので、収縮
および印刷回路板の歪みによる寸法変化を考慮するのに
別の空間公差が必要である。収縮の量は使用するポリマ
ーの形式および誘電体層内のポリマー材料の百分率の関
数であり、誘電体層内のポリマー材料の百分率が高けれ
ば高い程、印刷回路積層プロセス中に生ずる寸法変化は
大きい。
Problems with the printed circuit board lamination process result from dimensional changes that occur during processing. Because the dielectric layers used in printed circuit board processes are composed primarily of polymers, shrinkage occurs during the process of heating the layers to form a bond. Since the alignment is done before the heating step, another spatial tolerance is needed to account for dimensional changes due to shrinkage and distortion of the printed circuit board. The amount of shrinkage is a function of the type of polymer used and the percentage of polymeric material in the dielectric layer, the higher the percentage of polymeric material in the dielectric layer, the greater the dimensional changes that occur during the printed circuit lamination process. .

【0005】印刷回路板積層プロセスに関連する問題に
は印刷回路板の歪みを生ずる誘電体層の反りがある。更
に、各誘電体層の切り抜き領域は層間の接着剤を切り抜
き領域の空洞内に流出させ、結合域を汚染する可能性が
ある。更に、はんだボールを経路穴の直上に置いてはな
らないので、各パッケージについて別のパッケージ区域
が必要であり、パッケージの大きさが増大する。
A problem associated with the printed circuit board lamination process is the warpage of the dielectric layers that causes the printed circuit board to distort. In addition, the cutout areas of each dielectric layer can cause adhesive between the layers to drain into the cavities of the cutout areas and contaminate the bond areas. Further, because solder balls must not be placed directly above the via holes, a separate package area is required for each package, increasing package size.

【0006】共焼セラミックパッケージは、「グリー
ン」セラミック層の表面に配線パターンを形成する工
程、セラミック層を精密に位置合わせする工程、経路穴
を形成する工程、経路穴に金属を詰める工程、構造を焼
結する工程、および焼結構造を個別パッケージにまとめ
る工程、により作られる。共焼セラミックプロセスで
は、セラミック層の位置合わせはグリーン状態にある間
に行なわれ、仕上がり構造の収縮のためかなりの寸法変
化を生ずる。位置合わせは焼結工程の前に行なわれるの
で、収縮による寸法変化を考慮するには別の空間公差が
必要であり、パッケージの大きさが増大する。更に、配
線パターンを形成するのにスクリーン印刷法が使用され
ているので、グリーン層で達成される密度はフォトリソ
グラフパターン作成法よりかなり少ない。このことは更
に多数の層が必要であり、したがってこの技術に関連す
る費用は典型的に非常に高いということを意味してい
る。
The co-fired ceramic package is a process of forming a wiring pattern on the surface of the "green" ceramic layer, a process of precisely aligning the ceramic layer, a process of forming a via hole, a process of filling the via hole with metal, and a structure. And sintering the sintered structure into individual packages. In the co-fired ceramic process, the alignment of the ceramic layers is done while in the green state, causing significant dimensional changes due to shrinkage of the finished structure. Since the alignment is done prior to the sintering process, additional space tolerances are needed to account for dimensional changes due to shrinkage, increasing package size. Furthermore, because screen printing is used to form the wiring pattern, the density achieved in the green layer is much less than in photolithographic patterning. This means that a larger number of layers are required and therefore the costs associated with this technology are typically very high.

【0007】共焼プロセスおよび印刷回路板積層プロセ
スには共に誘電体層の位置合わせ後かなりな寸法収縮が
あり、適宜に経路を設置するには空間公差を増す必要が
ある。更に、共焼セラミックおよび印刷回路積層の技術
の費用および性能特性は個々の層の厚さ、必要な層の
数、および経路相互接続を作る数および方法により限定
される。寸法変化を小さくし、個別誘電体層の厚さを減
らし、誘電体層間で簡単な相互接続を行なう高ピン数相
互接続を設ける構造および方法が必要である。
Both the co-firing process and the printed circuit board laminating process have significant dimensional shrinkage after alignment of the dielectric layers, requiring increased spatial tolerances to properly route. Furthermore, the cost and performance characteristics of co-fired ceramic and printed circuit stacking techniques are limited by the thickness of the individual layers, the number of layers required, and the number and method of making the path interconnects. What is needed is a structure and method for providing high pin count interconnects that provides small dimensional changes, reduced thickness of individual dielectric layers, and simple interconnections between dielectric layers.

【0008】[0008]

【発明の目的】本発明は、処理中の寸法変化を減らし、
個別誘電体層の厚さを減らし、多層パッケージの層間で
簡単な相互接続を行なう高ピン数相互接続を設ける構造
および方法を提供することを目的とする。
OBJECTS OF THE INVENTION The present invention reduces dimensional changes during processing,
It is an object of the present invention to provide a structure and method for reducing the thickness of individual dielectric layers and providing a high pin count interconnect that provides easy interconnection between layers of a multi-layer package.

【0009】[0009]

【発明の概要】本発明では、フレキシブル回路が慣習的
技術での交替誘電体層として使用されているセラミック
層または印刷回路板層に取って替わっている。各フレキ
シブル回路は誘電体層上に形成された配線パターンから
成り、少なくとも一つの開口が前記フレキシブル回路の
誘電体層を貫いている。フレキシブル回路を基礎誘電体
層の表面および配線パターンに積層するかまたは代わり
にフレキシブル回路層を他のフレキシブル回路層に積層
するかして多層を構成する。典型的に積層は層間に非導
電接着剤を使用することにより行なわれる。層間に電気
的接続が必要な領域の第1の誘電体パターンに開口を形
成する。
SUMMARY OF THE INVENTION In the present invention, a flexible circuit replaces the ceramic layer or printed circuit board layer used as an alternating dielectric layer in conventional techniques. Each flexible circuit comprises a wiring pattern formed on the dielectric layer, and at least one opening penetrates the dielectric layer of the flexible circuit. The flexible circuit is laminated on the surface of the basic dielectric layer and the wiring pattern, or alternatively, the flexible circuit layer is laminated on another flexible circuit layer to form a multilayer. Lamination is typically accomplished by using a non-conductive adhesive between the layers. An opening is formed in the first dielectric pattern in a region where an electrical connection is required between layers.

【0010】層間の電気的相互接続は典型的にはんだボ
ール取り付け中に行なわれる。2レベルパッケージにつ
いては、電気的相互接続は基礎誘電体層に形成された配
線パターンと第1のフレキシブル回路の誘電体層に形成
された配線パターンとの間に行なわれる。はんだボール
は第1のフレキシブル回路に形成された開口に設置され
る。はんだボール取り付け中、温度が上昇するので、は
んだボールの一部は第1のフレキシブル回路の開口を通
して融け、基礎誘電体層に形成された配線パターンの一
部と接触する。はんだボールは、慣習的技術でのように
開口の側方に置くのとは対照的に、誘電体層の開口の直
上に設置することができるので、パッケージの大きさが
減少する。
Electrical interconnections between layers are typically made during solder ball attachment. For a two-level package, the electrical interconnection is between the wiring pattern formed on the base dielectric layer and the wiring pattern formed on the dielectric layer of the first flexible circuit. The solder balls are placed in the openings formed in the first flexible circuit. As the temperature rises during solder ball attachment, some of the solder balls melt through the openings in the first flexible circuit and come into contact with some of the wiring patterns formed in the underlying dielectric layer. Solder balls can be placed directly above the opening in the dielectric layer, as opposed to being placed laterally to the opening as in conventional techniques, thus reducing package size.

【0011】高ピン数パッケージはパッケージの大きさ
を小さくする層間接続を行なう新しい方法を提供する。
第1に、フレキシブル回路層の使用により、印刷回路板
積層または共焼セラミックプロセスに使用される誘電体
層に比較して薄い誘電体層を使用することから生ずる薄
い多層パッケージが得られる。更に、接地平面を共有さ
せることによりパッケージの大きさを小さくすることが
できる。本発明の一実施例では、第1の誘電体層および
第2の誘電体層に形成された配線パターンが接地平面を
共有している。共有接地平面パッケージという独特の制
御されたインピーダンス構成により層の数が最も少ない
改良された電気性能が得られる。
High pin count packages provide a new way to make interlayer connections that reduce package size.
First, the use of flexible circuit layers results in a thin multilayer package resulting from the use of thin dielectric layers compared to those used in printed circuit board lamination or co-fired ceramic processes. Furthermore, the size of the package can be reduced by sharing the ground plane. In one embodiment of the present invention, the wiring patterns formed on the first dielectric layer and the second dielectric layer share the ground plane. The unique controlled impedance configuration of the shared ground plane package results in improved electrical performance with the least number of layers.

【0012】本発明は慣習的経路形成法の必要性を排除
する、多層パッケージの層を電気的に相互接続する新し
い方法を提供する。多層パッケージは、基礎誘電体層お
よび基礎配線パターンを備えた基板を得る工程、少なく
とも第1の誘電体層および第1の誘電体層の表面に形成
された第1の配線パターンを備えている第1のフレキシ
ブル回路を得る工程、第1のフレキシブル回路に複数の
開口を形成する工程、第1のフレキシブル回路を基板
に、それらの間に配置した接着剤を使用して積層する工
程、基礎誘電体配線パターンを第1の誘電体配線パター
ンに電気的に相互接続する工程、により形成される。電
気的相互接続が交替する導電層間に形成されてから、集
積回路ダイをパッケージ本体に取り付ける。ダイ取り付
けの後、集積回路ダイを配線パターンに電気的に結合す
る。
The present invention provides a new method of electrically interconnecting the layers of a multi-layer package that eliminates the need for conventional path forming methods. The multi-layer package includes a step of obtaining a substrate having a basic dielectric layer and a basic wiring pattern, and a step of providing at least a first dielectric layer and a first wiring pattern formed on a surface of the first dielectric layer. 1. A step of obtaining a flexible circuit, a step of forming a plurality of openings in the first flexible circuit, a step of laminating the first flexible circuit on a substrate using an adhesive placed between them, a basic dielectric Electrically interconnecting the wiring pattern to the first dielectric wiring pattern. Electrical interconnects are formed between the alternating conductive layers before the integrated circuit die is attached to the package body. After die attachment, the integrated circuit die is electrically coupled to the wiring pattern.

【0013】共焼セラミックおよび印刷回路板積層プロ
セスに比較して、積層プロセス中に生ずる収縮は関係す
る誘電体材料および接着剤材料の性質のため最小であ
る。重大な収縮が生じないので、慣習的相互接続と比較
して必要な空間公差は小さい。同じ理由で、パッケージ
の結合可能部分への接着剤の流出も限られている。更
に、共焼セラミックおよび印刷回路板積層プロセスと異
なり、フレキシブル回路層の積層はまとめの後に行なわ
れる。これにより慣習的印刷回路および共焼セラミック
技術と比較して確実に寸法精度が高く、層と層との位置
合不良が小さくなる。
Compared to the co-fired ceramic and printed circuit board lamination process, the shrinkage that occurs during the lamination process is minimal due to the properties of the dielectric and adhesive materials involved. Since there is no significant shrinkage, the required spatial tolerances are small compared to conventional interconnects. For the same reason, the outflow of adhesive to the bondable parts of the package is also limited. Moreover, unlike the co-fired ceramic and printed circuit board lamination process, lamination of the flexible circuit layers occurs after assembly. This ensures higher dimensional accuracy and less layer-to-layer misalignment as compared to conventional printed circuit and co-fired ceramic technology.

【0014】好適実施例では、基礎誘電体層やよび基礎
配線層は基礎フレキシブル回路を形成している。第1の
フレキシブル回路を基礎フレキシブル回路に積層する前
に、第1のフレキシブル回路および基礎フレキシブル回
路を位置合わせする。一実施例では、第1のフレキシブ
ル回路の開口は第1のフレキシブル回路を基礎フレキシ
ブル回路に位置合わせして積層してから形成される。代
わりの実施例では、第1のフレキシブル回路の開口は第
1のフレキシブル回路を基礎フレキシブル回路に位置合
わせし且つ積層する前に形成される。開口は典型的には
フレキシブル回路を貫く機械的押しぬきまたは錐揉みに
より、湿式化学エッチングにより、または乾式エッチン
グ(プラズマエッチングおよびレーザの手法を含む)に
より第1のフレキシブル回路に形成される。慣習的技術
で使用されているセラミック層または印刷回路板誘電体
層とは対照的に、フレキシブル回路の第1の誘電体層も
薄いので、開口を形成するのにレーザを使用して経路形
成プロセスを簡略にすることができる。
In the preferred embodiment, the base dielectric layer and the base wiring layer form the base flexible circuit. Prior to laminating the first flexible circuit to the base flexible circuit, the first flexible circuit and the base flexible circuit are aligned. In one embodiment, the opening in the first flexible circuit is formed after the first flexible circuit is aligned and laminated to the base flexible circuit. In an alternative embodiment, the opening in the first flexible circuit is formed prior to aligning and laminating the first flexible circuit with the underlying flexible circuit. The opening is typically formed in the first flexible circuit by mechanical punching or abrading through the flexible circuit, by wet chemical etching, or by dry etching (including plasma etching and laser techniques). In contrast to the ceramic or printed circuit board dielectric layers used in conventional technology, the first dielectric layer of the flexible circuit is also thin so that a laser is used to form the opening in the process of forming the path. Can be simplified.

【0015】ここに説明する本発明の性格および長所の
これ以上の理解は明細書の残りの部分および付図を参照
することにより実現することができる。
A further understanding of the nature and advantages of the invention described herein may be realized by reference of the remaining portions of the specification and the accompanying drawings.

【0016】[0016]

【実施例】本発明は、処理中の寸法変化を減らし、個々
の誘電体層の厚さを減らし、多層パッケージの層間の相
互接続を簡単にする高ピン数相互接続を提供する構造お
よび方法である。多層パッケージ100は、基礎誘電体
層112および基礎誘電体層112の表面116に形成
された基礎配線パターン114、および基礎誘電体層1
12および基礎配線パターン114に積層された第1の
フレキシブル回路120から構成され、第1のフレキシ
ブル回路120は第1の誘電体層125および第1の誘
電体層125の表面126に形成された第1の配線パタ
ーン層124を備えており、少なくとも一つの開口12
8が第1のフレキシブル回路120を貫いて延びてお
り、開口128には少なくとも部分的に導電材料が詰め
られていて基礎配線パターン114の少なくとも一部を
第1の配線パターン124の少なくとも一部に電気的に
接続している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is a structure and method that provides high pin count interconnections that reduce dimensional changes during processing, reduce the thickness of individual dielectric layers, and simplify interconnections between layers of a multi-layer package. is there. The multilayer package 100 includes a basic dielectric layer 112, a basic wiring pattern 114 formed on a surface 116 of the basic dielectric layer 112, and a basic dielectric layer 1.
12 and the first flexible circuit 120 laminated on the basic wiring pattern 114. The first flexible circuit 120 is formed on the first dielectric layer 125 and the surface 126 of the first dielectric layer 125. One wiring pattern layer 124, and at least one opening 12
8 extends through the first flexible circuit 120, the opening 128 is at least partially filled with a conductive material, and at least a part of the basic wiring pattern 114 is formed on at least a part of the first wiring pattern 124. It is electrically connected.

【0017】パッケージ本体102は典型的に集積回路
ダイを設置するための第1の領域104、典型的には空
洞、および第2の領域108を備えている。一実施例で
は、第2の領域108はワイヤボンディングのための結
合材となる。好適実施例では、パッケージ本体102は
銅またはアルミニウムのような導電材料から形成されて
いる。代わりの実施例では、パッケージ本体102をセ
ラミックまたはポリイミドのような非導電材料から構成
することができる。
The package body 102 typically includes a first region 104, typically a cavity, for mounting an integrated circuit die, and a second region 108. In one embodiment, second region 108 provides a bond for wire bonding. In the preferred embodiment, package body 102 is formed from a conductive material such as copper or aluminum. In an alternative embodiment, package body 102 can be constructed of a non-conductive material such as ceramic or polyimide.

【0018】図1に示す実施例では、基礎誘電体層11
1、接着剤層113、および基礎配線層114は基板1
10を形成している。好適実施例では、基板110は薄
いフレキシブル回路であり、基礎フレキシブル回路11
0とも称される。1992年12月10日に出願された
No.07/988,640の継続である1994年2
月18日に出願された出願番号No.08/198,7
23を有する米国特許出願は、薄いフレキシブル回路が
パッケージ本体に積層され、したがって基礎誘電体層お
よび基礎配線パターンを設けているパッケージについて
記している。基板110は基礎誘電体層112および基
礎誘電体層112の表面に形成された基礎配線パターン
114から構成されている。一実施例では、基礎誘電体
層112は接着剤層113および薄いポリイミド層11
1から構成されている。代わりの実施例では、基礎誘電
体層112は単に接着剤層113である。
In the embodiment shown in FIG. 1, the base dielectric layer 11
1, the adhesive layer 113, and the basic wiring layer 114 are the substrate 1
Forming 10. In the preferred embodiment, the substrate 110 is a thin flexible circuit, and the basic flexible circuit 11
Also called 0. No. filed on Dec. 10, 1992 Continuation of 07 / 988,640 2nd 1994
No. No. filed on 18th of March 08 / 198,7
The U.S. patent application having No. 23 describes a package in which a thin flexible circuit is laminated to the package body, thus providing a basic dielectric layer and a basic wiring pattern. The substrate 110 is composed of a basic dielectric layer 112 and a basic wiring pattern 114 formed on the surface of the basic dielectric layer 112. In one embodiment, the base dielectric layer 112 comprises an adhesive layer 113 and a thin polyimide layer 11
1 is comprised. In an alternative embodiment, the base dielectric layer 112 is simply an adhesive layer 113.

【0019】基板は薄いフレキシブル回路であることが
望ましいが、これは本発明にとっては重要ではない。代
わりに、基礎配線パターンを印刷回路板またはセラミッ
ク層の表面に形成することができる。パッケージ本体1
02が導電材料から構成されていれば、基礎誘電体層1
12はパッケージ本体102から分離した層である。し
かし、パッケージ本体102が基礎誘電体層112と同
じ非導電材料から構成されていれば、パッケージ本体1
02および基礎誘電体層112が一体ユニットを形成す
ることができる。
The substrate is preferably a thin flexible circuit, but this is not critical to the invention. Alternatively, the base wiring pattern can be formed on the surface of the printed circuit board or ceramic layer. Package body 1
If 02 is composed of a conductive material, the basic dielectric layer 1
12 is a layer separated from the package body 102. However, if the package body 102 is made of the same non-conductive material as the basic dielectric layer 112, the package body 1
02 and the base dielectric layer 112 can form an integral unit.

【0020】経路接続が交替する誘電体層と導電層との
間に作られている。慣習的パッケージング技術では、セ
ラミック層および印刷回路板層は誘電体層として働き、
誘電体層上に形成された配線パターンは導電層として働
く。本発明では、フレキシブル回路は慣習的技術に使用
されている配線パターンおよびセラミック層または配線
パターンおよび印刷回路板層の代わりをしている。各フ
レキシブル回路は誘電体層上に形成された配線パターン
から構成され、前記フレキシブル回路の誘電体層を貫く
少なくとも一つの開口を備えている。多層はフレキシブ
ル回路を基板に積層することにより、またはフレキシブ
ル回路層を他のフレキシブル回路層に積層することによ
り構成される。典型的には積層は層間に非導電接着剤を
使用して行なわれる。
Path connections are made between the alternating dielectric and conductive layers. In conventional packaging technology, the ceramic and printed circuit board layers act as dielectric layers,
The wiring pattern formed on the dielectric layer functions as a conductive layer. In the present invention, the flexible circuit replaces the wiring patterns and ceramic layers or wiring patterns and printed circuit board layers used in conventional technology. Each flexible circuit comprises a wiring pattern formed on the dielectric layer and has at least one opening penetrating the dielectric layer of the flexible circuit. A multilayer is constructed by laminating a flexible circuit on a substrate or by laminating a flexible circuit layer on another flexible circuit layer. Lamination is typically performed using a non-conductive adhesive between the layers.

【0021】図1は第1の誘電体層122および第1の
配線パターン124を備えている第1のフレキシブル回
路120を示す。典型的には、第1の誘電体層は厚さが
0.050mm未満のポリイミドから構成されている。
好適実施例では、フレキシブル回路120は接着剤層1
30により基板110の表面に積層される。第1のフレ
キシブル回路120を基板に積層する二つの代わりの構
造を図2に示す。一実施例では、接着剤層130および
薄いポリイミド層122は第1の誘電体層125を形成
している。他の実施例では、接着剤層130だけが第1
の誘電体層125を形成している。
FIG. 1 shows a first flexible circuit 120 having a first dielectric layer 122 and a first wiring pattern 124. Typically, the first dielectric layer is composed of polyimide with a thickness of less than 0.050 mm.
In the preferred embodiment, flexible circuit 120 includes adhesive layer 1
30 is laminated on the surface of the substrate 110. Two alternative structures for laminating the first flexible circuit 120 to the substrate are shown in FIG. In one embodiment, adhesive layer 130 and thin polyimide layer 122 form first dielectric layer 125. In other embodiments, only the adhesive layer 130 is first
Of the dielectric layer 125 are formed.

【0022】図2(A)は接着剤層130、薄い誘電体
ポリイミド層122、および配線パターン124から構
成される3層フレキシブル回路120の拡大部分を示
す。図2(A)に示す構造では、接着剤層130および
ポリイミド層122は共に非導電材料であり、共に第1
の誘電体層125を形成している。接着剤層130は典
型的に熱可塑性である。
FIG. 2A shows an enlarged portion of a three-layer flexible circuit 120 composed of an adhesive layer 130, a thin dielectric polyimide layer 122, and a wiring pattern 124. In the structure shown in FIG. 2A, both the adhesive layer 130 and the polyimide layer 122 are non-conductive materials, and both are the first
Of the dielectric layer 125 are formed. Adhesive layer 130 is typically thermoplastic.

【0023】図2(A)に示す3層フレキシブル回路の
典型的寸法はつぎのとおりである。接着剤層130が約
12ミクロン厚、ポリイミド誘電体層122が約25ミ
クロン厚、および銅配線層124が約18ミクロン厚で
ある。図2(A)に示す3層構造を組み込んだフレキシ
ブル回路はロジャース・コーポレーションおよび三井東
圧化学のような供給者から市場入手できる。しかし、こ
れら構造を代わりに接着剤フィルムを一層標準的な銅/
ポリイミド(124/122)構造の裏面に施すことに
よりまたは他の手段により作り出すことができる。
Typical dimensions of the three-layer flexible circuit shown in FIG. 2A are as follows. Adhesive layer 130 is about 12 microns thick, polyimide dielectric layer 122 is about 25 microns thick, and copper wiring layer 124 is about 18 microns thick. Flexible circuits incorporating the three-layer structure shown in Figure 2A are commercially available from suppliers such as Rogers Corporation and Mitsui Toatsu Chemicals. However, instead of these structures, the adhesive film is replaced by a more standard copper /
It can be created by application to the backside of a polyimide (124/122) structure or by other means.

【0024】図2(B)は図2(A)に示すフレキシブ
ル回路の代わりに置き換えることができるフレキシブル
回路の代わりの実施例を示す。フレキシブル回路120
は接着剤層130および銅配線層124から構成されて
いる。図2(B)に示す実施例では、接着剤層130は
第1の誘電体層125でもある。接着剤層130は典型
的にその厚さが約12ミクロンである。フレキシブル回
路120の第1の配線層124の厚さは典型的に約18
ミクロンである。図2(A),(B)では、接着剤をフ
レキシブル回路構造の一体部分として図示してある。こ
れは好適な変種である。代わりに、接着剤をその自身の
分離層とすることができる。
FIG. 2B shows an alternative embodiment of a flexible circuit that can be substituted for the flexible circuit shown in FIG. 2A. Flexible circuit 120
Is composed of an adhesive layer 130 and a copper wiring layer 124. In the example shown in FIG. 2B, the adhesive layer 130 is also the first dielectric layer 125. Adhesive layer 130 is typically about 12 microns thick. The thickness of the first wiring layer 124 of the flexible circuit 120 is typically about 18
Micron. In FIGS. 2A and 2B, the adhesive is shown as an integral part of the flexible circuit structure. This is the preferred variant. Alternatively, the adhesive can be its own separate layer.

【0025】図3は本発明による図1に示した2レベル
回路の最上位のフレキシブル回路120を示す上面図で
ある。区域配列132を図3にフレキシブル回路120
の外周に沿って数百のはんだバンプ134を備えている
として示してある。各バンプ134はI/O接続に対応
している。一例として、フレキシブル回路120の寸法
が42mm×42mmであれば、約600の使用可能な
I/O接続を利用できる。更に詳細に述べれば、図3に
おいて、区域配列134は区域配列132の各辺に奥行
6行のバンプ134および25列のバンプ134を備え
ている2次元配列であるから、全部で600個のバンプ
が設けられている。しかし、区域配列の行および列の数
は重要ではなく、変わることがある。
FIG. 3 is a top view showing the top flexible circuit 120 of the two-level circuit shown in FIG. 1 according to the present invention. The area array 132 is shown in FIG.
Is shown as having hundreds of solder bumps 134 along its perimeter. Each bump 134 corresponds to an I / O connection. As an example, if the flexible circuit 120 measures 42 mm × 42 mm, then about 600 available I / O connections are available. More specifically, in FIG. 3, since the area array 134 is a two-dimensional array in which each side of the area array 132 is provided with the bumps 134 of depth 6 rows and the bumps 134 of 25 columns, a total of 600 bumps are provided. Is provided. However, the number of rows and columns in the area array is not important and can vary.

【0026】各バンプ134は配線パターン124の条
線に接続されている必要はない。たとえば、区域配列1
32のバンプ134の幾つかを信号接続とは反対に接地
接続とすることができる。接地接続として働くバンプ1
34は条線124を使用して集積回路ダイに接続する必
要はない。条線124は接地接続には必要がないから、
配線条線124の数および密度が減少する。その上、周
辺の周りのバンプ134の最外行を接地接続として使用
することが望ましいことさえある。
Each bump 134 does not need to be connected to the line of the wiring pattern 124. For example, area array 1
Some of the 32 bumps 134 may be grounded as opposed to signal connected. Bump 1 acting as a ground connection
34 need not be connected to the integrated circuit die using striations 124. Striations 124 are not needed for ground connection,
The number and density of wiring lines 124 are reduced. Moreover, it may even be desirable to use the outermost row of bumps 134 around the perimeter as a ground connection.

【0027】多層パッケージ102は、基礎誘電体層1
12および基礎誘電体層112の第1の表面に形成され
た基礎配線パターン114を得る工程、第1の誘電体層
125および第1の誘電体層125の表面に形成された
第1の配線パターン124を備えた第1のフレキシブル
回路120を得る工程、第1の誘電体層125に少なく
とも一つの開口128を形成する工程、第1のフレキシ
ブル回路120を基板110に積層する工程、基礎誘電
体配線層114を第1の配線パターン124に電気的に
相互接続する工程、により形成される。
The multi-layer package 102 includes the basic dielectric layer 1
12 and the step of obtaining the basic wiring pattern 114 formed on the first surface of the basic dielectric layer 112, the first dielectric layer 125 and the first wiring pattern formed on the surface of the first dielectric layer 125. A step of obtaining a first flexible circuit 120 having 124, a step of forming at least one opening 128 in a first dielectric layer 125, a step of laminating the first flexible circuit 120 on a substrate 110, a basic dielectric wiring Electrically interconnecting layer 114 to first wiring pattern 124.

【0028】多層パッケージ100を形成する第1の工
程は基礎誘電体層112、接着剤層113、および基礎
配線パターン114を備えている基板110を得ること
である。基板110は典型的には接着剤層113により
パッケージ本体102の第2の領域に典型的に積層され
ているフレキシブル回路である。第1の誘電体層125
および第1の配線層124を備えているフレキシブル回
路120は基板110の表面に積層される。
The first step in forming the multi-layer package 100 is to obtain a substrate 110 with a basic dielectric layer 112, an adhesive layer 113, and a basic wiring pattern 114. The substrate 110 is a flexible circuit that is typically laminated to the second region of the package body 102 by an adhesive layer 113. First dielectric layer 125
The flexible circuit 120 including the first wiring layer 124 is laminated on the surface of the substrate 110.

【0029】基礎配線パターン114を有する基礎誘電
体層112および第1のフレキシブル回路120を得て
から、第1のフレキシブル回路120に開口を形成し、
第1のフレキシブル回路を基礎誘電体層112および基
礎配線パターン114に積層する。好適実施例では、基
板110はフレキシブル回路であり、基板は第1のフレ
キシブル回路120を基板110の表面に積層するのと
同時にパツケージ本体102に積層される。開口128
が第1のフレキシブル回路の、層間に電気的相互接続を
必要とする領域に形成される。パッケージ形成の一つの
方法では、開口は積層工程前に第1の誘電体層に形成さ
れる。代わりの方法では、開口は積層工程後に形成され
る。
After obtaining the basic dielectric layer 112 having the basic wiring pattern 114 and the first flexible circuit 120, an opening is formed in the first flexible circuit 120,
The first flexible circuit is laminated on the basic dielectric layer 112 and the basic wiring pattern 114. In the preferred embodiment, the substrate 110 is a flexible circuit and the substrate is laminated to the package body 102 at the same time as the first flexible circuit 120 is laminated to the surface of the substrate 110. Opening 128
Are formed in regions of the first flexible circuit that require electrical interconnection between layers. In one method of package formation, openings are formed in the first dielectric layer prior to the laminating process. In the alternative, the openings are formed after the laminating process.

【0030】図4は基板をパッケージ本体に積層する前
およびフレキシブル回路120を基板に積層する前の断
面分解図である。図4に示す方法では、開口128が積
層工程前に第1のフレキシブル回路に形成されているの
がわかる。図5(A)は穴形成および積層の後、ただし
積層工程前に穴形成を行なうはんだボール取り付け前の
2レベル多層パッケージ相互接続の部分の拡大断面図で
ある。第1のフレキシブル回路120に開口を形成する
幾つかの方法が存在する。図4に示す方法では、典型的
に開口はドリルまたはパンチを使用して開口を形成する
ことによりフレキシブル回路120に形成される。図
1、図4および図5(A),(B)に示す実施例は2レ
ベル構造を示しているが、三つ以上の配線パターンを備
えた多層構造を別のフレキシブル回路層を追加すること
により容易に形成することができる。
FIG. 4 is an exploded cross-sectional view before stacking the board on the package body and before stacking the flexible circuit 120 on the board. In the method shown in FIG. 4, it can be seen that the opening 128 is formed in the first flexible circuit before the laminating step. FIG. 5A is an enlarged cross-sectional view of a portion of the two-level multilayer package interconnect after hole formation and lamination, but before solder ball attachment, where holes are formed before the lamination process. There are several ways to form an opening in the first flexible circuit 120. In the method shown in FIG. 4, openings are typically formed in the flexible circuit 120 by forming the openings using a drill or punch. Although the embodiments shown in FIGS. 1, 4 and 5A and 5B show a two-level structure, a multilayer structure having three or more wiring patterns may be added to another flexible circuit layer. Can be formed more easily.

【0031】図5(A)に示す実施例では、開口128
には、はんだボール導電材料が詰められている。しか
し、開口を部分的に埋めて側壁の少なくとも一部を導電
材料で被覆するだけでよい。重要な目的は一つのレベル
(たとえば、第1の配線経路)から他のレベル(たとえ
ば、基礎誘電体配線経路)までの導電経路を設けること
である。
In the embodiment shown in FIG. 5A, the opening 128
Is filled with a solder ball conductive material. However, it is only necessary to partially fill the opening and cover at least part of the sidewall with a conductive material. An important objective is to provide a conductive path from one level (eg, the first wire path) to another level (eg, the base dielectric wire path).

【0032】図5(B)は穴形成およびはんだボール取
り付け後の図5(A)に示す2レベル多層パッケージの
一部の断面図である。層間の電気的相互接続は典型的に
はんだボール取り付け中に行なわれる。はんだボール取
り付けの工程中、はんだの流れはフレキシブル回路12
0の導体を配線パターン114の導体に橋渡しして、フ
レキシブル回路間に経路接続を効果的に形成するのに役
立つ。2レベルパッケージの場合、電気的相互接続は基
礎誘電体層112に形成された配線パターン114とフ
レキシブル回路120の第1の誘電体層125に形成さ
れた第1の配線パターン124との間で行なわれる。
FIG. 5B is a sectional view of a part of the two-level multilayer package shown in FIG. 5A after forming holes and attaching solder balls. Electrical interconnections between layers are typically made during solder ball attachment. During the process of attaching the solder balls, the flow of solder is flexible circuit 12
Bridging the 0 conductors to the conductors of the wiring pattern 114 helps to effectively form path connections between the flexible circuits. In the case of a two-level package, electrical interconnection is made between the wiring pattern 114 formed on the basic dielectric layer 112 and the first wiring pattern 124 formed on the first dielectric layer 125 of the flexible circuit 120. Be done.

【0033】はんだボール134は第1の誘電体層12
5に形成された開口128に設置される。はんだボール
取り付け中、温度が上昇するので、はんだボールの一部
は第1の誘電体層の開口128を通して溶融し、基礎誘
電体層112に形成された配線パターン114の一部と
接触する。はんだボール134を、慣習的技術の場合に
開口の側方に設置するのとは反対に、誘電体層125の
開口128の直上に置くことができるので、パッケージ
の大きさが小さくなる。はんだボールを用いて経路接続
を行なう説明した方法は製造費用の観点からは最も魅力
があるが、経路接続ははんだペーストまたは導電性接着
剤を用いてまたは穴のめっきによりまたは他の手段によ
り達成することもできる。
The solder balls 134 are formed on the first dielectric layer 12
It is installed in the opening 128 formed in 5. As the temperature rises during solder ball attachment, some of the solder balls melt through the openings 128 in the first dielectric layer and come into contact with some of the wiring patterns 114 formed in the underlying dielectric layer 112. The size of the package is reduced because the solder balls 134 can be placed directly above the openings 128 in the dielectric layer 125, as opposed to being placed laterally to the openings with conventional techniques. Although the described method of making vias using solder balls is the most attractive from a manufacturing cost standpoint, vias are accomplished using solder paste or conductive adhesive, or by plating holes or by other means. You can also

【0034】図6(A)〜(C)は3レベル多層パッケ
ージの一部の断面図を示す。別の相互接続層を別のフレ
キシブル回路、たとえば、図6(A)〜(C)からわか
るように、第2のフレキシブル回路層150、を追加す
ることにより容易に形成することができる。図4および
図5(A),(B)に示す実施例と対照的に、第1およ
び第2のフレキシブル回路層の誘電体層の開口は第1の
フレキシブル回路層120、および第2のフレキシブル
回路層150の積層後に形成される。
FIGS. 6A to 6C are sectional views showing a part of the three-level multilayer package. Another interconnect layer can be easily formed by adding another flexible circuit, eg, a second flexible circuit layer 150, as can be seen in FIGS. 6 (A)-(C). In contrast to the embodiment shown in FIGS. 4 and 5A, 5B, the openings in the dielectric layers of the first and second flexible circuit layers are the first flexible circuit layer 120 and the second flexible circuit layer. It is formed after the circuit layer 150 is laminated.

【0035】図6(A)〜(C)に示すプロセスでは、
開口は積層後レーザを使用して誘電体層に形成される。
図6(A)は積層工程前のパッケージ相互接続構造の一
部の分解図を示す。図1に示す実施例と同様に、好適実
施例では、図6(A)〜(C)に示す基板110は基礎
誘電体層112および配線パターン114から成るフレ
キシブル回路である。3レベル構造は更に第1のフレキ
シブル回路120および第2のフレキシブル回路150
を備えている。第1のフレキシブル回路120は第1の
誘電体層125および第1の配線パターン124を備え
ている。次に、第2のフレキシブル回路140は第1の
フレキシブル回路120の上方に設置されている。第2
のフレキシブル回路は第2の誘電体層152および第2
の配線パターン15を備えている。
In the process shown in FIGS. 6A to 6C,
The openings are formed in the dielectric layer using a laser after lamination.
FIG. 6A shows an exploded view of a portion of the package interconnect structure before the stacking process. Similar to the embodiment shown in FIG. 1, in the preferred embodiment, the substrate 110 shown in FIGS. 6A-6C is a flexible circuit consisting of a basic dielectric layer 112 and a wiring pattern 114. The three-level structure further includes a first flexible circuit 120 and a second flexible circuit 150.
It has. The first flexible circuit 120 includes a first dielectric layer 125 and a first wiring pattern 124. Next, the second flexible circuit 140 is installed above the first flexible circuit 120. Second
Flexible circuit includes a second dielectric layer 152 and a second dielectric layer 152.
The wiring pattern 15 is provided.

【0036】図6(B)は積層工程後のただし穴形成工
程前のパッケージ相互接続構造の一部の断面図を示す。
層間に電気的相互接続を必要とする誘電体層125、1
52の個々の領域上方にレーザを設置することができ
る。配線パターン124、154はレーザ照射中マスク
として働くことができる。他の随意選択では、所要区域
を保護する金属マスクをフレキシブル回路の表面上方に
位置合わせし、続いて表面の全体的レーザ露出を行なう
ことができる。慣習的共焼セラミックおよび印刷回路板
積層プロセスとは対照的に、レーザ穴形成は、フレキシ
ブル誘電体がポリマーから構成され且つ薄いので本発明
に関して実行可能である。対照的に印刷回路板積層技術
に使用されるガラス誘電体は溶融するが、焼けず、容易
に開口を形成しない。更に、共焼セラミックおよび印刷
回路板パッケージング技術での層の厚さおよび数はレー
ザを使用する開口の形成を実行不能にする。
FIG. 6B shows a cross-sectional view of a portion of the package interconnect structure after the laminating step but before the hole forming step.
Dielectric layers 125, 1 requiring electrical interconnection between layers
Lasers can be installed above the individual areas of 52. The wiring patterns 124 and 154 can act as masks during laser irradiation. Another option is to align a metal mask protecting the required area over the surface of the flexible circuit, followed by a global laser exposure of the surface. In contrast to conventional co-fired ceramic and printed circuit board lamination processes, laser hole forming is feasible with the present invention because the flexible dielectric is composed of a polymer and is thin. In contrast, glass dielectrics used in printed circuit board lamination techniques melt but do not burn and do not easily form openings. Furthermore, the thickness and number of layers in co-fired ceramic and printed circuit board packaging techniques make the formation of openings using lasers impractical.

【0037】レーザを使用する穴形成は経路穴をドリル
で穴明けするのとは反対にレーザを使用することにより
提示される大きさの利点のため好ましいと信じられてい
る。経路開口の大きさはドリルの大きさにより制限され
る。現在のドリル技術により作られる最小の大きさは
0.025から0.05mm(1〜2ミル)の開口を作
ることができるレーザに比較してドリルについて約0.
25mm(10ミル)およびパンチについて0.1mm
(4ミル)である。更に、開口を形成するのにレーザを
使用するとパッケージ形成の処理時間が少なくなる。個
々の穴を一度に一つ機械的に錐揉みすることは費用が嵩
み、時間を消費する。レーザ穴形成は対照的に経路穴の
機械的錐揉みまたは押しぬきに比較して極小時間しか取
らないガングプロセスである。
Hole formation using a laser is believed to be preferred due to the size advantages offered by using a laser as opposed to drilling a via hole. The size of the passage opening is limited by the size of the drill. The smallest size produced by current drilling technology is about .0 for a drill compared to a laser that can produce an aperture of 0.025 to 0.05 mm (1-2 mils).
25 mm (10 mils) and 0.1 mm for punches
(4 mil). Moreover, the use of lasers to form the openings reduces the processing time for package formation. Mechanically milling individual holes one at a time is expensive and time consuming. Laser hole forming, by contrast, is a gang process that takes a minimal amount of time compared to mechanical abrading or punching of via holes.

【0038】出願人はレーザを使用する更に他の長所は
流出の排除であると信じている。錐揉みプロセスに関連
して使用される薄い接着剤層は慣習的共焼セラミックお
よび印刷回路板積層プロセスと比較して開口内への流出
を最小にするが、レーザまたは他の乾式エッチ技術を使
用すると流出が完全に排除される。
Applicants believe that yet another advantage of using a laser is the elimination of spills. The thin adhesive layer used in connection with the ablation process minimizes outflow into openings compared to conventional co-fired ceramic and printed circuit board lamination processes, but uses laser or other dry etch techniques. Then the outflow is completely eliminated.

【0039】図6(C)は穴形成後のパッケージ相互接
続の一部の断面図である。図6(C)に示す階段経路構
造では、各フレキシブル回路の開口は次の低いレベルの
フレキシブル回路の開口より大きい。図6(C)でわか
るように、第1のフレキシブル回路150の開口はフレ
キシブル回路120の開口より大きい。図5(A),
(B)に示す実施例と同様に、層間の電気的相互接続は
典型的にはんだボール取り付け中に行なわれる。3レベ
ル電気的相互接続では、電気的相互接続を個々のレベル
のどれかまたはすべての間で確立することができる。各
フレキシブル回路レベルを互いに電気的に接続する必要
はない。更に、金属化ランド154a、124a、11
4aのどれか一つをそれらのそれぞれの配線パターンに
接続する必要はない。それらは各はんだボールに対して
一貫した環境を提供する機能行なうだけである。
FIG. 6C is a cross-sectional view of a portion of the package interconnect after hole formation. In the staircase path structure shown in FIG. 6C, the opening of each flexible circuit is larger than the opening of the next lower level flexible circuit. As shown in FIG. 6C, the opening of the first flexible circuit 150 is larger than the opening of the flexible circuit 120. FIG. 5 (A),
Similar to the embodiment shown in (B), electrical interconnections between layers are typically made during solder ball attachment. With three-level electrical interconnections, electrical interconnections can be established between any or all of the individual levels. It is not necessary for each flexible circuit level to be electrically connected to each other. Further, metallized lands 154a, 124a, 11
It is not necessary to connect any one of 4a to their respective wiring patterns. They only perform the function of providing a consistent environment for each solder ball.

【0040】先に詳述したとおり、別のフレキシブル回
路層を単に追加するだけで別の相互接続レベルが容易に
形成される。パッケージはすべて複数のフレキシブル回
路(n)を備えることができる。ここでnは1以上の整
数である。たとえば、基礎誘電体層がフレキシブル回路
である5レベル相互接続構造について、nは5に等し
い。五つのフレキシブル回路は共に積層され、各フレキ
シブル回路層には少なくとも一つの開口がある。各フレ
キシブル回路に形成されている少なくとも一つの開口に
は少なくとも部分的に導電材料が詰められ、配線パター
ンのどれかを共に電気的に接続している。たとえば、第
4の配線パターンを第2の配線パターンに接続し、第3
の配線パターンを基礎配線パターンに接続することがで
きる。各フレキシブル回路レベルが互いに電気的に接続
されている必要はない。代わりに、基礎誘電体層および
基礎配線パターンがフレキシブル回路を形成していない
場合、たとえば、基礎配線パターンが印刷回路板上に形
成されていない場合には、nは2レベルパッケージにつ
いて1に等しく、基礎配線パターンは第1の誘電体層上
に形成された第1の配線パターンに接続される。
As detailed above, another interconnection level is easily formed by simply adding another flexible circuit layer. The packages can all include multiple flexible circuits (n). Here, n is an integer of 1 or more. For example, for a 5-level interconnect structure in which the underlying dielectric layer is a flexible circuit, n equals 5. The five flexible circuits are stacked together and each flexible circuit layer has at least one opening. At least one opening formed in each flexible circuit is at least partially filled with a conductive material to electrically connect any of the wiring patterns together. For example, connecting the fourth wiring pattern to the second wiring pattern,
The wiring pattern can be connected to the basic wiring pattern. It is not necessary that each flexible circuit level be electrically connected to each other. Alternatively, if the base dielectric layer and the base wiring pattern do not form a flexible circuit, eg, the base wiring pattern is not formed on a printed circuit board, then n equals 1 for a two level package, The basic wiring pattern is connected to the first wiring pattern formed on the first dielectric layer.

【0041】典型的に基礎配線層を有する基礎誘電体層
はパッケージ本体に積層されるが、基礎誘電体および基
礎配線層を、それらがフレキシブル回路であれば、中間
相互接続層として記述することができる。たとえば、図
6(A)〜(C)に示す3レベル構造において、フレキ
シブル回路120を基礎誘電体および基礎配線層という
ことができ、フレキシブル回路150を第1のフレキシ
ブル回路ということができる。
The base dielectric layer, which typically has a base wiring layer, is laminated to the package body, but the base dielectric and the wiring layer may be described as intermediate interconnect layers if they are flexible circuits. it can. For example, in the three-level structure shown in FIGS. 6A to 6C, the flexible circuit 120 can be referred to as a basic dielectric and a basic wiring layer, and the flexible circuit 150 can be referred to as a first flexible circuit.

【0042】個々に説明したパッケージは、ワイヤボン
ディングが現在使用されている最も廉価で最も普及して
いる相互接続機構であるから、集積回路にワイヤボンデ
ィング接続するように設計されているが、相互接続の他
の手段(TABおよびフリップチップ)を比較的容易に
組み込むことができる。二つのボンディング結合材はフ
レキシブル回路140の中心開口をフレキシブル回路1
20の中心開口より大きく選定することにより作られ
る。各ボンディング結合材に関して154ミクロン(1
02ミクロン条線、52ミクロン間隔)のボンドフィン
ガーピッチが典型的に可能であり、これにより77ミク
ロン(約3ミル)という低い有効ボンディングピッチ能
力が得られる。
Although the individually described packages are designed for wirebonding to integrated circuits, wirebonding is the cheapest and most popular interconnect mechanism currently in use. Other means (TAB and flip chip) can be incorporated relatively easily. The two bonding binders connect the central opening of the flexible circuit 140 to the flexible circuit 1.
It is made by selecting larger than the central opening of 20. 154 microns (1 for each bonding bond)
Bond finger pitches of 02 micron stripes, 52 micron spacing) are typically possible, which results in a low effective bond pitch capability of 77 microns (about 3 mils).

【0043】図7を参照すると2レベル接地平面共有パ
ッケージの断面図が示されている。本発明によるパッケ
ージの重要な電気的特性は両信号層に対して低い制御イ
ンピーダンス環境を与えるということである。低インピ
ーダンスは線幅および誘電体厚さを賢明に選択すること
により同じ接地平面を共有させることにより達成するこ
とができる。このシナリオは薄い誘電体およびフレキシ
ブル回路技術により与えられる細い線能力によってのみ
可能となり、慣習的印刷回路および共焼技術によっては
達成することができないとに注目するのは重要である。
慣習的印刷回路および共焼技術では、誘電体層ははるか
に厚く、各信号層に対して別々の接地平面が必要であ
る。
Referring to FIG. 7, there is shown a cross sectional view of a two level ground plane shared package. An important electrical property of the package according to the invention is that it provides a low controlled impedance environment for both signal layers. Low impedance can be achieved by sharing the same ground plane by judicious choice of line width and dielectric thickness. It is important to note that this scenario is only possible due to the thin line capability provided by thin dielectric and flexible circuit technology, and cannot be achieved by conventional printed circuit and co-firing technology.
In conventional printed circuit and co-firing techniques, the dielectric layer is much thicker, requiring a separate ground plane for each signal layer.

【0044】本発明の一実施例は基礎誘電体の配線パタ
ーン114と第1の誘電体層125の配線パターン12
4との間で接地平面を共有している。図7に示す実施例
では、第1のフレキシブル回路120は図2(A)に示
すような2層構造を備え、第1の誘電体層125が接着
剤層130である。この例示に使用している接着材料は
その誘電率がポリイミド層122の誘電率と同じである
熱可塑性ポリイミドであるが、他の接着材料をも使用す
ることができる。接地平面共有実施例では、パッケージ
本体は導電材料から構成され、第1の配線パターンおよ
び基礎配線パターンは共にパッケージ本体に電気的に結
合されている。
In one embodiment of the present invention, the wiring pattern 114 of the basic dielectric and the wiring pattern 12 of the first dielectric layer 125 are used.
4 and 4 share a ground plane. In the embodiment shown in FIG. 7, the first flexible circuit 120 has a two-layer structure as shown in FIG. 2A, and the first dielectric layer 125 is the adhesive layer 130. The adhesive material used in this illustration is a thermoplastic polyimide whose dielectric constant is the same as that of the polyimide layer 122, although other adhesive materials can be used. In the ground plane sharing embodiment, the package body is made of a conductive material and the first wiring pattern and the basic wiring pattern are both electrically coupled to the package body.

【0045】基礎誘電体配線パターン114の信号線の
幅は50ミクロンであり、信号線と接地平面(金属パッ
ケージ本体)との間の誘電体厚さは35ミクロンであ
る。フレキシブル回路120の信号線124の幅は78
ミクロンであり、信号線と接地平面102との間の前誘
電体厚さは55ミクロン(基礎誘電体からの誘電体の3
5ミクロンにフレキシブル回路120からの誘電体の2
0ミクロンが加わる)である。したがって信号線の幅の
誘電体厚さに対する比は、両層に関する信号に対するマ
イクロストリップ制御インピーダンスが同じとすれば、
両層に対して同じであり、別々の接地線の必要が回避さ
れる。
The width of the signal line of the basic dielectric wiring pattern 114 is 50 μm, and the dielectric thickness between the signal line and the ground plane (metal package body) is 35 μm. The width of the signal line 124 of the flexible circuit 120 is 78.
Micron and the predielectric thickness between the signal line and the ground plane 102 is 55 microns (3 of dielectric from the base dielectric).
2 of dielectric from flexible circuit 120 to 5 microns
0 micron is added). Therefore, the ratio of the width of the signal line to the dielectric thickness is given by the same microstrip control impedance for the signals on both layers:
The same for both layers avoids the need for separate ground lines.

【0046】上の説明は図解を目的とするもので、限定
を目的とするものではない。本発明の範囲はそれ故上の
説明を参照して決めるのではなく、次に述べる種々の実
施態様を参照して決めるべきである。
The descriptions above are intended to be illustrative, not limiting. The scope of the invention should, therefore, be determined not with reference to the above description, but with reference to the various embodiments described below.

【0047】すなわち、本発明の多層集積回路パッケー
ジは、〔1〕基礎誘電体層の表面に形成された基礎配線
パターンと、基礎誘電体層に積層された第1のフレキシ
ブル回路であり、第1の誘電体層および第1の誘電体層
の第1の表面に形成された第1の配線パターン、および
第1のフレキシブル回路を貫く少なくとも一つの開口を
備え、少なくとも一つの開口には少なくとも部分的に基
礎配線パターンの一部を第1の配線パターンに電気的に
接続する導電材料が詰まっている第1のフレキシブル回
路、から構成されていることを特徴とするもので、
〔2〕〜〔8〕のような実施態様を有している。
That is, the multilayer integrated circuit package of the present invention is [1] a basic wiring pattern formed on the surface of a basic dielectric layer and a first flexible circuit laminated on the basic dielectric layer. Of the dielectric layer and the first wiring pattern formed on the first surface of the first dielectric layer, and at least one opening penetrating the first flexible circuit, wherein the at least one opening is at least partially And a first flexible circuit filled with a conductive material for electrically connecting a part of the basic wiring pattern to the first wiring pattern,
It has an embodiment like [2]-[8].

【0048】〔2〕更に、第1の領域および第2の領域
を備え、基礎誘電体層がその第2の領域に形成されてい
るパッケージ本体、を備えている〔1〕に記載の多層集
積回路パッケージ。
[2] The multi-layer integration according to [1], further including a package body having a first region and a second region, and a basic dielectric layer formed in the second region. Circuit package.

【0049】〔3〕更に、第1の誘電体層はポリイミド
層および粘着性のある熱可塑性層の組合せから成り、第
1の誘電体層の全体の厚さは4ミル未満である〔1〕に
記載の多層集積回路パッケージ。
[3] Further, the first dielectric layer comprises a combination of a polyimide layer and a tacky thermoplastic layer, the total thickness of the first dielectric layer being less than 4 mils [1]. The multi-layer integrated circuit package described in.

【0050】〔4〕更に、第2のフレキシブル回路層を
備え、第2のフレキシブル回路層は第2の誘電体層およ
び第2の誘電体層の表面に形成された第2の配線パター
ンを備え、第2のフレキシブル回路は第1のフレキシブ
ル回路層に積層され、少なくとも一つの開口が第2のフ
レキシブル回路に形成されている〔1〕に記載の多層集
積回路パッケージ。
[4] Further, a second flexible circuit layer is provided, and the second flexible circuit layer is provided with a second dielectric layer and a second wiring pattern formed on the surface of the second dielectric layer. The second flexible circuit is laminated on the first flexible circuit layer, and at least one opening is formed in the second flexible circuit. [1].

【0051】〔5〕開口が第2のフレキシブル回路層か
ら基礎フレキシブル回路まで延長しており、該開口には
少なくとも部分的に第2の配線パターンを基礎配線パタ
ーンに電気的に接続する導電材料が詰まっている〔4〕
に記載の多層集積回路パッケージ。
[5] An opening extends from the second flexible circuit layer to the basic flexible circuit, and a conductive material for electrically connecting the second wiring pattern to the basic wiring pattern is at least partially formed in the opening. Clogged [4]
The multi-layer integrated circuit package described in.

【0052】〔6〕開口が第2のフレキシブル回路層か
ら第1のフレキシブル回路層まで延長しており、該開口
には少なくとも部分的に第2の配線パターンを第1の配
線パターンに電気的に接続する導電材料が詰まっている
〔4〕に記載の多層集積回路パッケージ。
[6] The opening extends from the second flexible circuit layer to the first flexible circuit layer, and the second wiring pattern is electrically connected to the first wiring pattern at least partially in the opening. The multilayer integrated circuit package according to [4], in which conductive materials to be connected are packed.

【0053】〔7〕パッケージ本体は金属から成り、更
に、基礎配線パターンおよび基礎誘電体層を貫いてパッ
ケージ本体まで形成されている開口を備え、開口には基
礎配線パターンをパッケージ本体に接続する導電材料が
詰まっている〔2〕に記載の多層集積回路パッケージ。
[7] The package body is made of metal, and further has an opening formed through the basic wiring pattern and the basic dielectric layer to the package body, and the opening is made of a conductive material for connecting the basic wiring pattern to the package body. The multilayer integrated circuit package according to [2], wherein the material is packed.

【0054】〔8〕基礎誘電体層および基礎配線パター
ンはフレキシブル回路を形成している〔1〕に記載の多
層集積回路パッケージ。
[8] The multilayer integrated circuit package according to [1], wherein the basic dielectric layer and the basic wiring pattern form a flexible circuit.

【0055】また、本発明の多層集積回路パッケージ
は、
Further, the multilayer integrated circuit package of the present invention is

〔9〕nを1以上の整数として、n個のフレキシブ
ル回路から成り、各フレキシブル回路は誘電体層および
誘電体層の表面に形成された配線パターンを備え、n個
のフレキシブル回路は共に積層されており、少なくとも
一つの開口が各フレキシブル回路を貫いており、少なく
とも一つの開口には少なくとも部分的に配線パターンの
どれかを共に電気的に接続する導電材料が詰まっている
こととも特徴とする。
[9] Where n is an integer of 1 or more, it is composed of n flexible circuits, each flexible circuit has a dielectric layer and a wiring pattern formed on the surface of the dielectric layer, and the n flexible circuits are laminated together. At least one opening extends through each flexible circuit, and at least one opening is at least partially filled with a conductive material for electrically connecting any of the wiring patterns together.

【0056】更に、本発明の多層集積回路パッケージの
製造方法は、〔10〕その表面上に基礎配線パターンが
形成されている基礎誘電体層を得る工程、その表面上に
第1の配線パターンが形成された少なくとも一つの第1
の誘電体層を備えている第1のフレキシブル回路を得る
工程、第1のフレキシブル回路に複数の開口を形成する
工程、第1のフレキシブル回路を基礎誘電体層および基
礎配線パターンに積層する工程、および、第1のフレキ
シブル回路の複数の開口に基礎配線パターンを第1の配
線パターンに電気的に接続する導電材料を少なくとも部
分的に詰める工程、から構成されることを特徴とし、
〔11〕〜〔20〕のような実施態様を有する。
Further, in the method for manufacturing a multilayer integrated circuit package of the present invention, [10] a step of obtaining a basic dielectric layer having a basic wiring pattern formed on the surface thereof, and a first wiring pattern formed on the surface thereof. At least one first formed
A step of obtaining a first flexible circuit having a dielectric layer, a step of forming a plurality of openings in the first flexible circuit, a step of laminating the first flexible circuit on a basic dielectric layer and a basic wiring pattern, And a step of at least partially filling a plurality of openings of the first flexible circuit with a conductive material for electrically connecting the basic wiring pattern to the first wiring pattern,
It has an embodiment like [11]-[20].

【0057】〔11〕第1のフレキシブル回路の複数の
開口は錐揉みにより機械的に形成される〔10〕に記載
の多層集積回路パッケージの製造方法。
[11] The method for manufacturing a multi-layer integrated circuit package according to [10], wherein the plurality of openings of the first flexible circuit are mechanically formed by milling.

【0058】〔12〕第1のフレキシブル回路の複数の
開口は押しぬきにより機械的に形成される〔19〕に記
載の多層集積回路パッケージの製造方法。
[12] The method for manufacturing a multilayer integrated circuit package according to [19], wherein the plurality of openings of the first flexible circuit are mechanically formed by punching.

【0059】〔13〕複数の開口はフレキシブル回路を
乾式エッチングにより形成される〔10〕に記載の多層
集積回路パッケージの製造方法。
[13] The method for manufacturing a multilayer integrated circuit package according to [10], wherein the plurality of openings are formed by dry etching a flexible circuit.

【0060】〔14〕開口は積層工程の後構造をレーザ
から放出される光に曝すことにより形成される〔13〕
に記載の多層集積回路パッケージの製造方法。
[14] The opening is formed by exposing the structure to light emitted from a laser after the laminating process [13].
A method for manufacturing a multilayer integrated circuit package according to.

【0061】〔15〕更に第1のフレキシブル回路の上
方にマスクを位置合わせし、構造をレーザから放出され
る光に曝す工程を備え、位置合わせ工程は第1のフレキ
シブル回路に少なくとも一つの開口を形成する工程の前
に行なう〔14〕に記載の多層集積回路パッケージの製
造方法。
[15] The method further comprises the step of aligning a mask above the first flexible circuit and exposing the structure to the light emitted from the laser, the step of aligning forming at least one opening in the first flexible circuit. The method for manufacturing a multilayer integrated circuit package according to [14], which is performed before the step of forming.

【0062】〔16〕レーザは開口を必要とする場所ま
で個別に動かし、更に配線パターンをマスクとして使用
する〔14〕に記載の多層集積回路パッケージの製造方
法。
[16] The method for manufacturing a multi-layer integrated circuit package according to [14], wherein the laser is individually moved to a position requiring an opening, and the wiring pattern is used as a mask.

【0063】〔17〕基礎配線パターンは第1のフレキ
シブル回路と基礎配線パターンとの間の開口に導電材料
を詰めることにより第1の配線パターンに電気的に接続
される〔10〕に記載の多層集積回路パッケージの製造
方法。
[17] The multilayer wiring according to [10], wherein the basic wiring pattern is electrically connected to the first wiring pattern by filling a conductive material in an opening between the first flexible circuit and the basic wiring pattern. Manufacturing method of integrated circuit package.

【0064】〔18〕開口は開口上方にはんだボールを
設置し、はんだボールを溶かして開口に詰めることによ
り埋める〔17〕に記載の多層集積回路パッケージの製
造方法。
[18] The method for manufacturing a multilayer integrated circuit package as described in [17], wherein the opening is filled by placing a solder ball above the opening and melting the solder ball to fill the opening.

【0065】〔19〕更に、第2の誘電体層および第2
の誘電体層上に形成された第2の配線パターンを備えて
いる第2のフレキシブル回路を得、第1のフレキシブル
回路と第2のフレキシブル回路との間に開口を形成し、
第1のフレキシブル回路と第2のフレキシブル回路との
間の開口に少なくとも部分的に導電材料を詰めて第1の
配線パターンを第2の配線パターンに接続する工程を備
えている〔10〕に記載の多層集積回路パッケージの製
造方法。
[19] Furthermore, the second dielectric layer and the second
To obtain a second flexible circuit having a second wiring pattern formed on the dielectric layer, and to form an opening between the first flexible circuit and the second flexible circuit,
The step of connecting a first wiring pattern to a second wiring pattern by at least partially filling a conductive material into an opening between the first flexible circuit and the second flexible circuit is described in [10]. Of manufacturing a multi-layer integrated circuit package.

【0066】〔20〕更に、第2の誘電体層および第2
の誘電体層上に形成された第2の配線パターンを備えて
いる第2のフレキシブル回路を得、第1のフレキシブル
回路と基礎配線パターンとの間に開口を形成し、第1の
フレキシブル回路と基礎配線パターンとの間の開口に少
なくとも部分的に導電材料を詰めて第2の配線パターン
を基礎配線パターンに接続する工程を備えている〔1
0〕に記載の多層集積回路パッケージの製造方法。
[20] Further, the second dielectric layer and the second
To obtain a second flexible circuit having a second wiring pattern formed on the dielectric layer, and to form an opening between the first flexible circuit and the basic wiring pattern. The method further comprises the step of connecting the second wiring pattern to the basic wiring pattern by at least partially filling the opening with the basic wiring pattern with a conductive material.
0] The method for manufacturing a multilayer integrated circuit package described in [0].

【0067】[0067]

【発明の効果】本発明は、処理中の寸法変化を減らし、
個別誘電体層の厚さを減らし、多層パッケージの層間で
簡単な相互接続を行なう高ピン数相互接続を提供するこ
とができる。
The present invention reduces dimensional changes during processing,
The thickness of the individual dielectric layers can be reduced to provide high pin count interconnects that provide easy interconnection between layers of a multi-layer package.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例による2レベル多層パッケー
ジの断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a two-level multilayer package according to an exemplary embodiment of the present invention.

【図2】(A),(B)は本発明を実施するのに役立つ
二つの異なるフレキシブル回路構造の一部の断面図であ
る。
2A and 2B are cross-sectional views of portions of two different flexible circuit structures useful in practicing the present invention.

【図3】本発明による2レベルパッケージの最上位フレ
キシブル回路層を示す上面図である。
FIG. 3 is a top view showing a top flexible circuit layer of a two-level package according to the present invention.

【図4】穴形成前の本発明による2レベル多層パッケー
ジの断面分解図である。
FIG. 4 is an exploded cross-sectional view of a two-level multilayer package according to the present invention before forming holes.

【図5】(A)は穴形成後ではんだボール取り付け前の
2レベル多層パッケージの一部の断面図であり、(B)
は穴形成後ではんだボール取り付け後の2レベル多層パ
ッケージの一部の断面図である。
FIG. 5A is a cross-sectional view of a part of the two-level multilayer package after forming the holes and before attaching the solder balls, and FIG.
FIG. 6 is a cross-sectional view of a part of the two-level multilayer package after forming the holes and attaching the solder balls.

【図6】(A)〜(C)は3レベル多層パッケージを形
成する一方法を示す断面図である。
6A-6C are cross-sectional views showing one method of forming a three-level multilayer package.

【図7】2レベル接地平面共有構造を示す断面図であ
る。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a two-level ground plane sharing structure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 多層パッケージ 102 パッケージ本体 104 第1の領域 108 第2の領域 110 基板 111 ポリイミド層 112 基礎誘電体層 113 接着剤層 114 基礎配線パターン 120 第1のフレキシブル回路 122 第1の誘電体層 124 第1の配線パターン層 125 第1の誘電体層 128 開口 130 接着剤層 134 はんだバンプ 140 第2のフレキシブル回路 150 第2のフレキシブル回路 152 第2の誘電体層 154 第2の配線パターン 100 Multilayer Package 102 Package Body 104 First Region 108 Second Region 110 Substrate 111 Polyimide Layer 112 Basic Dielectric Layer 113 Adhesive Layer 114 Basic Wiring Pattern 120 First Flexible Circuit 122 First Dielectric Layer 124 First Wiring pattern layer 125 First dielectric layer 128 Opening 130 Adhesive layer 134 Solder bump 140 Second flexible circuit 150 Second flexible circuit 152 Second dielectric layer 154 Second wiring pattern

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 相互接続システムを構成する多層集積回
路パッケージにおいて、 基礎誘電体層の表面に形成された基礎配線パターンと、 基礎誘電体層に積層された第1のフレキシブル回路であ
り、第1の誘電体層および第1の誘電体層の第1の表面
に形成された第1の配線パターン、および第1のフレキ
シブル回路を貫く少なくとも一つの開口を備え、少なく
とも一つの開口には少なくとも部分的に基礎配線パター
ンの一部を第1の配線パターンに電気的に接続する導電
材料が詰まっている第1のフレキシブル回路、から構成
されている多層集積回路パッケージ。
1. A multilayer integrated circuit package constituting an interconnection system, comprising: a basic wiring pattern formed on a surface of a basic dielectric layer; and a first flexible circuit laminated on the basic dielectric layer. Of the dielectric layer and the first wiring pattern formed on the first surface of the first dielectric layer, and at least one opening penetrating the first flexible circuit, wherein the at least one opening is at least partially A multi-layer integrated circuit package including a first flexible circuit filled with a conductive material for electrically connecting a part of the basic wiring pattern to the first wiring pattern.
【請求項2】 相互接続システムを構成する多層集積回
路パッケージにおいて、 nを1以上の整数として、n個のフレキシブル回路から
成り、各フレキシブル回路は誘電体層および誘電体層の
表面に形成された配線パターンを備え、n個のフレキシ
ブル回路は共に積層されており、少なくとも一つの開口
が各フレキシブル回路を貫いており、少なくとも一つの
開口には少なくとも部分的に配線パターンのどれかを共
に電気的に接続する導電材料が詰まっている多層集積回
路パッケージ。
2. A multilayer integrated circuit package constituting an interconnection system, comprising n flexible circuits, where n is an integer of 1 or more, and each flexible circuit is formed on a dielectric layer and a surface of the dielectric layer. A wiring pattern is provided, n flexible circuits are stacked together, at least one opening extends through each flexible circuit, and at least one opening electrically connects at least partially any of the wiring patterns together. Multilayer integrated circuit package filled with conductive material to connect.
【請求項3】 多層パッケージを電気的に相互接続する
多層集積回路パッケージの製造方法であり、 その表面上に基礎配線パターンが形成されている基礎誘
電体層を得る工程、 その表面上に第1の配線パターンが形成された少なくと
も一つの第1の誘電体層を備えている第1のフレキシブ
ル回路を得る工程、 第1のフレキシブル回路に複数の開口を形成する工程、 第1のフレキシブル回路を基礎誘電体層および基礎配線
パターンに積層する工程、および、 第1のフレキシブル回路の複数の開口に基礎配線パター
ンを第1の配線パターンに電気的に接続する導電材料を
少なくとも部分的に詰める工程、から構成される多層集
積回路パッケージの製造方法。
3. A method of manufacturing a multi-layer integrated circuit package for electrically interconnecting multi-layer packages, the method comprising: obtaining a basic dielectric layer having a basic wiring pattern formed on its surface; A step of obtaining a first flexible circuit having at least one first dielectric layer on which the wiring pattern is formed; a step of forming a plurality of openings in the first flexible circuit; From the step of laminating the dielectric layer and the basic wiring pattern, and the step of at least partially filling a plurality of openings of the first flexible circuit with a conductive material that electrically connects the basic wiring pattern to the first wiring pattern. Method of manufacturing a multilayer integrated circuit package configured.
JP30686895A 1994-10-31 1995-10-30 Multilayer integrated circuit package and its manufacture Pending JPH08213732A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6509643B2 (en) 2000-06-29 2003-01-21 Hitachi Cable, Ltd. Tab tape with stiffener and semiconductor device using same
JP2013046054A (en) * 2011-08-23 2013-03-04 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Semiconductor package substrate and method of manufacturing semiconductor package substrate

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