JPH08210947A - Lens meter - Google Patents

Lens meter

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JPH08210947A
JPH08210947A JP27734795A JP27734795A JPH08210947A JP H08210947 A JPH08210947 A JP H08210947A JP 27734795 A JP27734795 A JP 27734795A JP 27734795 A JP27734795 A JP 27734795A JP H08210947 A JPH08210947 A JP H08210947A
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light beam
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昭浩 荒井
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Abstract

PURPOSE: To easily measure the refractive characteristic of a lens with small measuring field such as a progressive multifocus lens or contact lens by varying the projecting position of a measuring luminous flux to a lens to be inspected in the radial direction of the lens to be inspected by a conical prism. CONSTITUTION: A conical prism 11 having an apex 11a on a device optical axis 0 and a base bottom 11b on the outside of the optical axis 0 is set in such a manner as to be movable and adjustable in an arrowed direction 18 along the optical axis O. According to such a constitution, since the deflecting position of the luminous flux from a light source 10 is changed when a lens L to be inspected is put adjacent to the optical conjugate position C by a collimator lens 13 of a light source 10 within the optical path, and the prism 11 is moved in the arrowed direction 18, the inclination of the circular measuring luminous flux passing the opening (light transmitting part) 12a of a mask plate 12 is changed, the projecting position to the lens L is changed in the radial direction to change the diameter of the measuring luminous flux, so that the measuring field can be changed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、眼鏡レンズやコンタク
トレンズの屈折特性、すなわち球面度数、円柱度数、円
柱軸度数等を自動的に測定するレンズメーターに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lens meter for automatically measuring refraction characteristics of spectacle lenses and contact lenses, that is, spherical power, cylindrical power, cylindrical axial power and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のレンズメーターとしては、例えば
実公昭44−22912号公報に示されたように、被検
レンズに平行な照明光束を投影して、この被検レンズを
透過した照明光束を可変絞りと視標を介して接眼レンズ
で観察することにより、乱視軸や屈折度の測定を行うよ
うにしたものがある。このレンズメーターは、乱視軸の
測定においては可変絞りの口径を大きくし、屈折度測定
においては可変絞りの口径を小さくすることにより、乱
視軸や屈折度の測定をできるようにしたものである。
2. Description of the Related Art As a conventional lens meter, as shown, for example, in Japanese Utility Model Publication No. 44-22912, an illumination light flux which is parallel to a lens to be inspected is projected, and the illumination light flux transmitted through this lens is inspected. There is a system in which the astigmatic axis and the degree of refraction are measured by observing with an eyepiece through a variable diaphragm and a target. This lens meter is capable of measuring the axis of astigmatism and the degree of refraction by increasing the diameter of the variable diaphragm in measuring the axis of astigmatism and decreasing the diameter of the variable diaphragm in measuring the degree of refraction.

【0003】また、従来のレンズメーターとしては、例
えば特開昭60−210735号公報に開示されたよう
に、照明光源からの照明光を拡散板で拡散して、この拡
散した照明光を回転体の半径方向に延びるスリットから
対物レンズを介して被検レンズに投影し、この被検レン
ズを透過した光束を絞り板に設けた複数の小孔及び投影
レンズを介して一次元位置検出素子に投影するようにし
たものがある。尚、絞り板の小孔は所定半径の円周状に
六角形を為すように配置されている。
As a conventional lens meter, for example, as disclosed in JP-A-60-210735, the illumination light from the illumination light source is diffused by a diffusion plate, and the diffused illumination light is rotated. Of the light from the slit extending in the radial direction onto the lens to be measured through the objective lens, and the light flux that has passed through the lens to be tested is projected onto the one-dimensional position detection element through the plurality of small holes and the projection lens provided on the diaphragm plate. There are things I tried to do. Incidentally, the small holes of the aperture plate are arranged so as to form a hexagon in a circular shape having a predetermined radius.

【0004】一方、近年、屈折矯正に累進多焦点レンズ
やコンタクトレンズが多用されるようになってきた。さ
らにコンタクトレンズも遠近両用にするため回転非球面
でその屈折面を形成した、いわゆるバイフォーカルコン
タクトレンズが実用化されている。
On the other hand, in recent years, progressive multifocal lenses and contact lenses have been frequently used for refraction correction. Further, so-called bifocal contact lenses, which have a refractive surface formed of a rotating aspherical surface, have been put into practical use in order to make contact lenses bifocal.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】これら累進多焦点レン
ズやバイフォーカルコンタクトレンズのように非球面の
屈折面を有するレンズにおいて、その遠用及び近用の屈
折特性を測定するには、測定野(測定光束を被検レンズ
に入射させうる領域)を小さくしなければならない。
In a lens having an aspherical refraction surface such as a progressive multifocal lens or a bifocal contact lens, the distance and near refraction characteristics of the lens must be measured by using a measurement field. The area in which the measurement light beam can enter the lens to be measured) must be reduced.

【0006】しかし、上述した実公昭44−22912
号公報に開示されたレンズメーターは、指標を被検レン
ズを介して投影し、この指標像を顕微鏡で観察し、指標
像が合焦状態になるまで光学系を調整し、その合焦位置
から被検レンズの屈折度を算出するものであるため、開
口数が検出精度に大きく影響し、どの位置が合焦位置で
あるかの特定が困難となり、累進多焦点レンズやバイフ
ォーカルコンタクトレンズ等の測定が困難であった。
However, the above-mentioned Japanese Utility Model Publication No. 44-22912.
The lens meter disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-209,197, projects an index through a lens to be inspected, observes this index image with a microscope, adjusts the optical system until the index image is in focus, and adjusts the optical system from the in-focus position. Since the refractive index of the lens to be measured is calculated, the numerical aperture greatly affects the detection accuracy, it is difficult to specify which position is the in-focus position, and it is difficult to identify a progressive multifocal lens or a bifocal contact lens. The measurement was difficult.

【0007】即ち、この公報のレンズメーターでは、開
口数が小さいときは焦点深度が深いため、どの位置が合
焦位置であるかを正確に特定することが困難となり、指
標像も暗くなるため読取りも困難になり、又、開口数が
大きいときは鮮明な指標像が観察できなくなり、どの位
置が合焦位置であるかの特定が困難となる。従って、こ
のレンズメーターの測定原理からすれば、測定領域を変
えることは、測定精度をも変えることになるから、必要
な測定精度を保ちつつ、測定領域を変えることはできな
いものであった。この結果、実公昭44−22912号
公報に開示されたレンズメーターでは、上述した累進多
焦点レンズやバイフォーカルコンタクトレンズ等の測定
が困難であった。
That is, according to the lens meter disclosed in this publication, when the numerical aperture is small, the depth of focus is deep, so that it is difficult to accurately specify which position is the in-focus position, and the index image becomes dark. Moreover, when the numerical aperture is large, a clear index image cannot be observed, and it is difficult to specify which position is the in-focus position. Therefore, according to the measurement principle of this lens meter, changing the measurement area also changes the measurement accuracy, so that the measurement area cannot be changed while maintaining the required measurement accuracy. As a result, with the lens meter disclosed in Japanese Utility Model Publication No. 44-22912, it was difficult to measure the above-described progressive multifocal lens, bifocal contact lens, and the like.

【0008】また、特開昭60−210735号公報に
開示されたレンズメーターでは、回転体を回転させて被
検レンズ上でスリット像の透過位置を周方向に変化させ
ているが、被検レンズに投影されるスリット像の大きさ
は変化しないから、測定領域は変化しない。従って、こ
のレンズメーターでは累進多焦点レンズ等の測定領域の
小さいレンズの測定はできない。
In the lens meter disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-210735, the rotating body is rotated to change the transmission position of the slit image on the test lens in the circumferential direction. Since the size of the slit image projected on the image does not change, the measurement area does not change. Therefore, this lens meter cannot measure a lens such as a progressive multifocal lens having a small measurement area.

【0009】この様に従来のレンズメーターでは、測定
野を可変に出来ないため、中央部と周辺輪帯部の両方を
測定しなければならない様なバイォーカルコンタクトレ
ンズの測定が不可能であった。
As described above, in the conventional lens meter, since the measurement field cannot be changed, it is impossible to measure a biological contact lens which needs to measure both the central portion and the peripheral orbicular zone. there were.

【0010】本発明は、係る技術背景に基づいてなされ
たもので、累進多焦点レンズやコンタクトレンズなど測
定野の小さいレンズも測定できるレンズメーターを提供
することを目的としている。
The present invention has been made based on the above technical background, and an object thereof is to provide a lens meter capable of measuring even a lens having a small measurement field such as a progressive multifocal lens or a contact lens.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、請求項1の発明は、測定光束投影手段からの測定光
束を被検レンズに投射して、前記被検レンズを透過した
前記測定光束を介して光検出器上で受光することによ
り、前記被検レンズの屈折力を測定する測定光学系が設
けられたレンズメーターに於て、前記測定光束投影手段
は前記測定光束の前記被検レンズへの投射位置を前記被
検レンズの半径方向へ可変させる投射位置変更手段を有
するレンズメーターとしたことを特徴とする。
In order to achieve this object, the invention of claim 1 projects the measurement light beam from the measurement light beam projection means onto a lens to be measured, and the measurement light beam transmitted through the lens to be measured. In a lens meter provided with a measurement optical system for measuring the refractive power of the lens to be inspected by receiving light on a photodetector via the It is a lens meter having a projection position changing means for changing the projection position to the radial direction of the lens to be inspected.

【0012】また、請求項2の発明は、光源からの光を
被検レンズを介して光検出器に導いて、被検レンズの屈
折特性を測定する測定光学系が設けられたレンズメータ
ーにおいて、前記被検レンズを前記測定光学系に配置し
ない場合の前記光検出器に入射する光束の投射位置を前
記測定光学系の測定光軸の半径方向に可変にする光束投
射位置変更手段を設けたレンズメーターとしたことを特
徴とする。
Further, the invention of claim 2 is a lens meter provided with a measuring optical system for guiding light from a light source to a photodetector through a lens to be inspected and measuring a refraction characteristic of the lens to be inspected. A lens provided with light beam projection position changing means for changing the projection position of the light beam incident on the photodetector in the radial direction of the measurement optical axis of the measurement optical system when the test lens is not arranged in the measurement optical system. It is characterized by being a meter.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

<第1実施例>本発明のレンズメーターの測定光学系
は、所定パターンの測定光束の被検レンズLへの投射位
置を被検レンズLの半径方向へ可変させる測定光束投射
手段を有する。この測定光束投射手段は、光源10,円錐
プリズム11(光束投射位置変更手段),マスク12,及び
コリメータレンズ13を有する。また、測定光学系は、被
検レンズLを透過した測定光束を光検出器17上に案内す
る結像レンズを受光光学系として有する。
<First Embodiment> The measurement optical system of the lens meter of the present invention has a measurement light beam projection means for varying the projection position of the measurement light beam of a predetermined pattern onto the lens L to be inspected in the radial direction of the lens L to be inspected. This measurement light beam projection means has a light source 10, a conical prism 11 (light beam projection position changing means), a mask 12, and a collimator lens 13. Further, the measuring optical system has an imaging lens for guiding the measuring light beam transmitted through the lens L to be detected onto the photodetector 17 as a light receiving optical system.

【0014】円錐プリズム11は、装置光軸O上に頂点11
aを有し、光軸O外に基底 11bを有すると共に、矢印18
で示した光軸Oに沿う方向に移動調整可能に設けられて
いる。また、円錐プリズム11の後方には、第2図に示す
ように、円環状の開口12aを透光部として有するマスク
板 12が配置されている。
The conical prism 11 has a vertex 11 on the optical axis O of the apparatus.
a, the base 11b outside the optical axis O, and the arrow 18
It is provided so as to be movable and adjustable in the direction along the optical axis O indicated by. Further, behind the conical prism 11, a mask plate 12 having an annular opening 12a as a light transmitting portion is arranged as shown in FIG.

【0015】コリメータレンズ13は、その前側焦点をマ
スク板12の開口12aを含む平面内に有するように配置さ
れている。このため、開口12aを通過したリング状の光
束は被検レンズLが光路内にないときにはコリメータレ
ンズ13で平行光束とされてミラー14で反射された後、結
像レンズ16で、例えば光軸上に固定配置されたエリアCC
Dからなる光検器17上に円環状パターンとして結像され
る。尚、光源10のコリメータレンズ13による光学的共役
位置はCの位置にある。また、前述の結像レンズ16の前
側焦点はこの共役位置Cの位置にある。
The collimator lens 13 is arranged so as to have its front focal point in a plane including the opening 12a of the mask plate 12. For this reason, when the test lens L is not in the optical path, the ring-shaped light beam that has passed through the opening 12a is converted into a parallel light beam by the collimator lens 13 and reflected by the mirror 14, and then, by the imaging lens 16, for example, on the optical axis. Area CC fixedly located at
An image is formed as an annular pattern on the photodetector 17 made of D. The optical conjugate position of the light source 10 by the collimator lens 13 is at the position C. The front focus of the imaging lens 16 is located at the conjugate position C.

【0016】被検レンズLは共役位置Cに近接して、図
示しないレンズ受け台に載置され光路内に置かれる。そ
して、円錐プリズム11を矢印18方向に移動させると、光
源10からの光束の偏向位置が変化するため、マスク板12
の開口12aを通過する円環状パターン(円形)の測定光
束の光軸O(測定光軸)に対する傾斜角が変化して、こ
の測定光束の被検レンズLへの投射位置が被検レンズL
の半径方向に変化させられ、被検レンズLを通るリング
状の測定光束の径が変化するので、測定野を変えること
ができる。尚、被検レンズLが測定光学系に配置されて
いない場合には、マスク板12の開口12aを通過する円環
状パターン(円形)の測定光束の光軸Oに対する傾斜角
が変化して、光検出器17への測定光束の投射位置が測定
光軸Oの半径方向に変化させられることになる。即ち、
被検レンズLを透過する測定光束の被検レンズL半径方
向における検出器17側への取出位置を可変させることが
できることになる。
The test lens L is placed on a lens holder (not shown) near the conjugate position C, and is placed in the optical path. When the conical prism 11 is moved in the direction of arrow 18, the deflection position of the light beam from the light source 10 changes.
The inclination angle of the measurement light flux of the annular pattern (circle) passing through the opening 12a with respect to the optical axis O (measurement optical axis) changes, and the projection position of the measurement light flux onto the test lens L is changed to the test lens L.
Since the diameter of the ring-shaped measuring light flux passing through the lens L to be measured is changed in the radial direction of, the measurement field can be changed. When the lens L to be inspected is not arranged in the measurement optical system, the inclination angle of the measurement light beam of the annular pattern (circle) passing through the opening 12a of the mask plate 12 with respect to the optical axis O changes, and The projection position of the measurement light beam on the detector 17 is changed in the radial direction of the measurement optical axis O. That is,
This makes it possible to change the position at which the measurement light beam transmitted through the lens L to be extracted is extracted toward the detector 17 in the radial direction of the lens L to be inspected.

【0017】第3図は、光検出器17上へ投射された円環
状パターン(被検レンズが円柱度数を有するときは楕円
形状となる)の大きさから被検レンズの屈折特性を求め
る方法を示すものである。
FIG. 3 shows a method for obtaining the refraction characteristics of a lens to be measured from the size of an annular pattern projected on the photodetector 17 (an elliptical shape when the lens has a cylindrical power). It is shown.

【0018】被検レンズLが光路内にないときの光検出
器17上の円環状パターンの半径a0は結像レンズ16の焦
点距離をfとすると、第3図より、 a0=ftanθ0 …(1) また、共役位置Cに被検レンズLを挿置したと考えると
光検出器17上の円環状パターンの半径がaに変化した場
合には、aは a=ftanθ …(2) として表わされる。
Assuming that the focal length of the imaging lens 16 is f, the radius a 0 of the annular pattern on the photodetector 17 when the lens L to be inspected is not in the optical path is: a 0 = ftan θ 0 from FIG. (1) Further, assuming that the test lens L is inserted at the conjugate position C, when the radius of the annular pattern on the photodetector 17 changes to a, a becomes a = ftan θ (2) Is represented as

【0019】マスク板12の円環状開口12aが被検レンズL
により光検出器17上に結像されたとき、この被検レンズ
Lによる円環状開口12aの結像位置Xでの像の半径y(結
像レンズ16の屈折作用は考えないとする)は、共役位置
Cの光源リング像の半径をhとし、共役位置Cと結像位
置Xまでの距離をDとすると、 y=Dtanθ0 …(3) y=Dtanθ−h …(4) となり、(3),(4)式より、 D(tanθ0−tanθ)= −h ゆえに、 D=−h/(tanθ0 −tanθ) …(5) となる。前記(1),(2)式と上記(5)式により、 D=−h/[(a0/f)−(a/f)] D=−f・h/(a0 −a) が得られる。実際には被検レンズLは共役位置Cから離
れているから、共役位置Cと被検レンズLとの距離をΔ
dとすると、 S=(a −a0)/[fh+Δd(a0−a)] …(6) として求められる。
The annular opening 12a of the mask plate 12 is
When an image is formed on the photodetector 17 by the
The radius y of the image at the image forming position X of the annular aperture 12a by L (assuming that the refraction of the image forming lens 16 is not considered) is defined as h, where the radius of the light source ring image at the conjugate position C is h. Assuming that the distance to the imaging position X is D, y = Dtan θ 0 (3) y = Dtan θ-h (4), and from the expressions (3) and (4), D (tan θ 0 −tan θ) = − h Therefore, D = −h / (tan θ 0 −tan θ) (5) From the above equations (1), (2) and the above equation (5), D = −h / [(a 0 / f) − (a / f)] D = −f · h / (a 0 −a) can get. Actually, since the test lens L is far from the conjugate position C, the distance between the conjugate position C and the test lens L is Δ
If d, then S = (a−a 0 ) / [fh + Δd (a 0 −a)] (6)

【0020】被検レンズLが乱視レンズの場合は、光検
出器17上に投射された楕円パターンの短径と長径及びそ
れの軸角度から(6)式を利用して屈折特性を求めるこ
とができる。
When the lens L to be inspected is an astigmatic lens, the refraction characteristics can be obtained from the minor axis and major axis of the elliptical pattern projected on the photodetector 17 and the axis angle thereof using the equation (6). it can.

【0021】なお、本発明では、光検出器17は固定配置
されているので、光検出器17上に投射されたパターンが
被検レンズの屈折レンズの屈折力によりボケたパターン
となるが、パターンの中心位置を求めることにより円ま
たは楕円形状を求めることができるので、測定が可能で
ある。
In the present invention, since the photodetector 17 is fixedly arranged, the pattern projected on the photodetector 17 becomes a blurred pattern due to the refractive power of the refractive lens of the lens to be measured. Since the circle or the elliptical shape can be obtained by obtaining the center position of, measurement is possible.

【0022】上記(6)式による演算はマイクロプロセッ
サ等から構成される演算制御回路20で実行され、その演
算結果は表示器21に表示されるとともに必要に応じてプ
リンタ22で印字出力される。
The calculation according to the above formula (6) is executed by a calculation control circuit 20 composed of a microprocessor or the like, and the calculation result is displayed on a display 21 and printed out by a printer 22 as required.

【0023】本実施例においては、上述したように円錐
プリズム11を光軸Oにそって移動させることにより第4
図(A)及び第4図(B)に示すように被検レンズLの測定野
φを変化させることができるため、累進焦点レンズやバ
イフォーカルコンタクトレンズ等の測定野の小さいレン
ズや、あるいは測定野をかえなければならないレンズ等
も測定可能となる。
In this embodiment, by moving the conical prism 11 along the optical axis O as described above,
Since the measurement field φ of the test lens L can be changed as shown in FIGS. 4A and 4B, a lens having a small measurement field such as a progressive lens or a bifocal contact lens, or Lenses that need to change fields can be measured.

【0024】なお、本実施例は、被検レンズLの厚さが
薄く、その両屈折面の曲率差が小さく、第4図(A)のhが
レンズによって変化しない場合に適用できる。
This embodiment can be applied to the case where the thickness of the lens L to be measured is small, the difference in curvature between the two refraction surfaces is small, and h in FIG. 4 (A) does not change depending on the lens.

【0025】被検レンズの屈折面の曲形状や厚さが大き
いときには、共役装置Cに円環状開口15aをもつ絞り15a
を第4図示すように配置し、その絞り開口を円錐プリズ
ムの移動に応じて変化させるとよい。
When the curved shape and the thickness of the refraction surface of the lens to be examined are large, the conjugate device C has a diaphragm 15a having an annular aperture 15a.
May be arranged as shown in FIG. 4, and the aperture of the stop may be changed according to the movement of the conical prism.

【0026】<第2実施例>第2実施例は円錐プリズム
11の移動量Pに応じて絞り15(光束投射位置変更手段)
の円環状開口15aの半径hを可変にした例を示したもの
で、第5図に示す構成を有する。尚、上述の第1実施例
と同一の構成要素には同一の符号を附して説明の重複を
さける。
<Second Embodiment> A second embodiment is a conical prism.
A diaphragm 15 (light beam projection position changing means) according to the movement amount P of 11
This shows an example in which the radius h of the annular opening 15a is variable and has the configuration shown in FIG. The same components as those in the first embodiment described above are designated by the same reference numerals to avoid redundant description.

【0027】絞り15は、第6図に示すように互いに半径
の異なる同心の円環状透光部151,152,153が例えば液晶
素子やフォトクロミック素子等の光電素子で構成され、
各透光部151,152,153に設けられたパターン電極(図示せ
ず)はスイッチ回路205 の接点 205a,205b,205cに接続
されている。他方、共通の(−)側電極(図示せず)は直流
電源206の(−)側に接続されている。しかも、この電源2
06の(+)側はスイッチ回路205の可動接点205dに接続さ
れている。このスイッチ回路205は固定接点205a,205b,2
05cと可動接点205dを有していて、可動接点205dは制御
回路204の制御を受けて固定接点205a,205b,205cの何れ
かに切換え接続し得る様になっている。これにより、測
定光束は絞り15の透光部151ないし 153のいずれか一つ
のみを通過できる。なお、絞り15の透光部151〜153以外
の部分、即ち、154で示した中央部の部分は光不透過の
円形遮光部として、又、155で示した周縁部の部分は光
不透過の遮光帯として構成されている。
In the diaphragm 15, as shown in FIG. 6, concentric ring-shaped light transmitting portions 151, 152, 153 having different radii are composed of photoelectric elements such as liquid crystal elements and photochromic elements.
The pattern electrodes (not shown) provided on the respective light transmitting portions 151, 152, 153 are connected to the contacts 205a, 205b, 205c of the switch circuit 205. On the other hand, a common (−) side electrode (not shown) is connected to the (−) side of the DC power supply 206. And this power supply 2
The (+) side of 06 is connected to the movable contact 205d of the switch circuit 205. This switch circuit 205 has fixed contacts 205a, 205b, 2
05c and a movable contact 205d, and the movable contact 205d can be switched and connected to any of the fixed contacts 205a, 205b, 205c under the control of the control circuit 204. As a result, the measurement light beam can pass through only one of the light transmitting portions 151 to 153 of the diaphragm 15. The portion of the diaphragm 15 other than the light-transmitting portions 151 to 153, that is, the central portion indicated by 154 is a light-impermeable circular light-shielding portion, and the peripheral portion indicated by 155 is light-impermeable. It is configured as a light-shielding band.

【0028】錐プリズム301の移動量はボリューム201か
らの電圧変化としてとらえられ、その出力電圧Qは比較
器202,203の一方の入力端子に入力される。しかも、比
較器202の他方の入力端子には基準電圧aVが入力され、
比較器203の他方の入力端子には基準電圧bV(a>b)が
入力されている。比較器202はボリューム201から
の出力電圧Qが基準電圧aより大きくなると信号S1を制
御回路204へ出力し、比較器203はボリューム201からの
出力Qが基準電圧bより小さくなると信号S2を制御回路
に出力するように構成されている。 制御回路204は、
比較器202からの信号S1を受けると、円錐プリズム11が
マスク板12側にあると判断して、スイッチ回路205を制
御して図示するように可動接点 205dを固定接点205aに
接続し、 外側の透光部151のパターン電極(図示せず)に
通電し、 透光部151のみが光を通過できるようにする。
The moving amount of the conical prism 301 is regarded as a voltage change from the volume 201, and its output voltage Q is input to one input terminal of the comparators 202 and 203. Moreover, the reference voltage aV is input to the other input terminal of the comparator 202,
The reference voltage bV (a> b) is input to the other input terminal of the comparator 203. The comparator 202 outputs the signal S 1 to the control circuit 204 when the output voltage Q from the volume 201 becomes larger than the reference voltage a, and the comparator 203 outputs the signal S 2 when the output Q from the volume 201 becomes smaller than the reference voltage b. It is configured to output to the control circuit. The control circuit 204 is
When the signal S 1 from the comparator 202 is received, it is determined that the conical prism 11 is on the mask plate 12 side, the switch circuit 205 is controlled, and the movable contact 205d is connected to the fixed contact 205a as shown in the drawing. The pattern electrode (not shown) of the transparent portion 151 is energized so that only the transparent portion 151 can pass light.

【0029】比較器202,203ともに信号出力がないとき
には、ボリューム201の出力Qと基準電圧a,bVとがa>
Q>bとなっている。 このときには、 制御回路204
は、スイッチ回路205の可動接点205dを固定接点205bに
接続して、中央の透光部152のパターン電極(図示せず)
に通電し、この透光部152のみを測定光が通過できるよ
うにする。 さらに比較器203からの信号S2が制御回路2
04に入力されたときには、円錐プリズム11はもっとも光
源側に移動している。このときには制御回路204は、ス
イッチ回路205の可動接点205dを固定接点205cに接続し
て、内側の透光部153のパターン電極(図示せず)に通電
し、この透光部153のみを測定光束が通過できるように
する。
When neither of the comparators 202 and 203 outputs a signal, the output Q of the volume 201 and the reference voltages a and bV are a>
Q> b. At this time, the control circuit 204
Connects the movable contact 205d of the switch circuit 205 to the fixed contact 205b, and forms a pattern electrode (not shown) of the central light-transmitting portion 152.
, So that the measurement light can pass through only the light transmitting portion 152. Further, the signal S 2 from the comparator 203 is
When input to 04, the conical prism 11 has moved to the light source side most. At this time, the control circuit 204 connects the movable contact 205d of the switch circuit 205 to the fixed contact 205c, energizes a pattern electrode (not shown) of the inner light transmitting portion 153, and only passes the measuring light flux Pass through.

【0030】この様に、透光部151,152,153のいずれか
ひとつを測定光束が透過するように選択することによ
り、測定光束が測定光軸Oの半径方向に可変させられる
ことになる。即ち、被検レンズLを透過する測定光束の
被検レンズL半径方向における検出器17側への取出位置
を可変させることができることになる。
As described above, by selecting any one of the light transmitting portions 151, 152, and 153 so that the measurement light beam is transmitted, the measurement light beam can be varied in the radial direction of the measurement optical axis O. That is, the position at which the measurement light flux transmitted through the lens L to be extracted is extracted toward the detector 17 in the radial direction of the lens L can be varied.

【0031】また、 円錐プリズム11の移動量Pを大き
くし測定野φの変化量を大きくしたことにより、測定範
囲を確保するために、マスク板12の開口12aの半径を変
える必要がある場合、或いは、被検レンズの屈折特性に
より、その測定範囲を確保するためにマスク板12の開口
12aの半径を変える必要がある場合には、前記絞り15と
同様の構成で互いに半径の異なる複数の透光部を選択で
きるマスク板を構成すればよい。この場合、光源10,円
錐プリズム11,マスク12に代えて用いられる絞り15と同
様な構成のマスク、コリメータレンズ13等が測定光束投
射手段となり、このマスクが光束投射位置変更手段とな
る。
Further, by increasing the amount of movement P of the conical prism 11 and the amount of change in the measurement field φ, it is necessary to change the radius of the opening 12a of the mask plate 12 in order to secure the measurement range. Alternatively, depending on the refraction characteristics of the test lens, the opening of the mask
When it is necessary to change the radius of 12a, a mask plate that can select a plurality of light-transmitting portions having different radii from each other may be configured in the same configuration as the stop 15. In this case, the light source 10, the conical prism 11, the mask having the same configuration as the diaphragm 15 used in place of the mask 12, the collimator lens 13 and the like serve as the measurement light beam projection means, and this mask serves as the light beam projection position changing means.

【0032】更に、光源10からの照明光束が平行光束で
あれば、マスク12に代えて用いられる絞り15と同様な構
成のマスクを組み合わせたものが光束投射位置変更手段
手段となる。
Further, if the illuminating light beam from the light source 10 is a parallel light beam, a combination of a mask having the same configuration as the diaphragm 15 used in place of the mask 12 serves as a light beam projection position changing means.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明は、以上説明したように、構成し
たので、累進多焦点レンズやコンタクトレンズ等の測定
野が小さく、且つこの小さい測定野が測定光学系の光学
中心から半径方向のいずれの位置にあったとしても、測
定光束の被検レンズへの半径方向への投射位置を変更し
て、又は被検レンズを透過した測定光束の内の被検レン
ズの半径方向に於ける取出位置を変更して、測定光束の
光検出器に入射する位置を測定光学系の光軸の半径方向
に変更することができる。この結果、従来測定が困難で
あった累進多焦点レンズやコンタクトレンズ等の測定野
が小さいレンズの測定が可能となると共に、測定領域を
変えて測定野が大きいレンズの測定も正確にできる。
Since the present invention is configured as described above, the measurement field of a progressive power multifocal lens, a contact lens or the like is small, and this small measurement field is either radial from the optical center of the measurement optical system. Position of the measurement light beam to the lens to be measured in the radial direction is changed, or the measurement light beam transmitted through the lens to be measured is taken out in the radial direction of the lens to be measured. Can be changed to change the position of the measurement light beam incident on the photodetector in the radial direction of the optical axis of the measurement optical system. As a result, it is possible to measure a lens having a small measurement field such as a progressive multifocal lens or a contact lens, which has conventionally been difficult to measure, and to accurately measure a lens having a large measurement field by changing the measurement area.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るレンズメーターの第1実施例を示
す光学配置図である。
FIG. 1 is an optical layout diagram showing a first embodiment of a lens meter according to the present invention.

【図2】図1に示したマスク板及び絞り板の開口形状を
示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing an opening shape of a mask plate and an aperture plate shown in FIG.

【図3】図1の被検レンズの屈折力を求める方法を説明
するための光路図である。
FIG. 3 is an optical path diagram for explaining a method for obtaining the refractive power of the lens to be inspected in FIG.

【図4】(A)及び(B)は、第1の実施例の作用を示す光路
図である。
FIGS. 4A and 4B are optical path diagrams showing the operation of the first embodiment.

【図5】本発明に係るレンズメーターの第2実施例を示
す光路配置図及びブロック図である。
FIG. 5 is an optical path layout diagram and a block diagram showing a second embodiment of the lens meter according to the present invention.

【図6】図5の絞りの構成を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing the configuration of the stop shown in FIG. 5;

【符号の説明】 10…光源 11…円錐プリズム 12…マスク板 12a…開口(透光部) 13…コリメーターレンズ 15…絞り 151,152,153…透光部 16…結像レンズ 17…光検出器 L…被検レンズ[Explanation of symbols] 10 ... Light source 11 ... Conical prism 12 ... Mask plate 12a ... Aperture (transparent portion) 13 ... Collimator lens 15 ... Stoppers 151, 152, 153 ... Transparent portion 16 ... Imaging lens 17 ... Photodetector L ... Target Inspection lens

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 測定光束投影手段からの測定光束を被検
レンズに投射して、前記被検レンズを透過した前記測定
光束を介して光検出器上で受光することにより、前記被
検レンズの屈折力を測定する測定光学系が設けられたレ
ンズメーターに於て、 前記測定光束投影手段は前記測定光束の前記被検レンズ
への投射位置を前記被検レンズの半径方向へ可変させる
投射位置変更手段を有することを特徴とするレンズメー
ター。
1. A measuring light beam from a measuring light beam projection means is projected onto a lens to be measured, and is received on a photodetector via the measuring light beam transmitted through the lens to be measured. In a lens meter provided with a measurement optical system for measuring refractive power, the measurement light beam projection means changes a projection position for changing a projection position of the measurement light beam onto the lens under test in a radial direction of the lens under test. A lens meter having means.
【請求項2】 光源からの光を被検レンズを介して光検
出器に導いて、被検レンズの屈折特性を測定する測定光
学系が設けられたレンズメーターにおいて、 前記被検レンズを前記測定光学系に配置しない場合の前
記光検出器に入射する光束の投射位置を前記測定光学系
の測定光軸の半径方向に可変にする光束投射位置変更手
段を設けたことを特徴とするレンズメーター。
2. A lens meter provided with a measurement optical system that guides light from a light source to a photodetector through a lens to be measured and measures refraction characteristics of the lens to be measured. A lens meter provided with a light beam projection position changing means for changing a projection position of a light beam incident on the photodetector when it is not arranged in an optical system in a radial direction of a measurement optical axis of the measurement optical system.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN1325894C (en) * 2001-10-01 2007-07-11 株式会社拓普康 Lens tester
JP2008151680A (en) * 2006-12-19 2008-07-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Lens measuring device and aperture for measuring lens

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58223033A (en) * 1982-06-22 1983-12-24 Nippon Sheet Glass Co Ltd Method for measuring aberration of distributed index lens

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