JPH08208754A - エチレン−α−オレフィン共重合体の製造法 - Google Patents
エチレン−α−オレフィン共重合体の製造法Info
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- JPH08208754A JPH08208754A JP1355295A JP1355295A JPH08208754A JP H08208754 A JPH08208754 A JP H08208754A JP 1355295 A JP1355295 A JP 1355295A JP 1355295 A JP1355295 A JP 1355295A JP H08208754 A JPH08208754 A JP H08208754A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】触媒系における有機アルミニウムとメタロセン
錯体の量比を調整することにより、重合初期の温度上昇
を制御し、分子量が高く、また組成が適度に調整された
エチレン−α−オレフィン共重合体の製造法を提供す
る。 【構成】下記触媒成分（Ａ）及び（Ｂ）、あるいは
（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を用いエチレンとα−オレフ
ィンとの共重合を行うに際し、重合反応の初期において
重合温度が１０℃以上の温度上昇を伴うように重合を行
うことを特徴とするエチレン−α−オレフィン共重合体
の製造法。 （Ａ）一般式 Ｌ2 ＭＸ2 で示される遷移金属化合物 （Ｂ）一般式 Ｒ1 a ＡｌＹ3-a で示される有機アルミ
ニウム化合物、または一般式｛−Ａｌ（Ｒ2)−Ｏ−｝b
で示される構造を有する環状のアルミノキサン及び／又
は一般式 Ｒ3(−Ａｌ（Ｒ3)−Ｏ−）c ＡｌＲ3 2で示さ
れる構造を有する線状のアルミノキサン （Ｃ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
する化合物
錯体の量比を調整することにより、重合初期の温度上昇
を制御し、分子量が高く、また組成が適度に調整された
エチレン−α−オレフィン共重合体の製造法を提供す
る。 【構成】下記触媒成分（Ａ）及び（Ｂ）、あるいは
（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を用いエチレンとα−オレフ
ィンとの共重合を行うに際し、重合反応の初期において
重合温度が１０℃以上の温度上昇を伴うように重合を行
うことを特徴とするエチレン−α−オレフィン共重合体
の製造法。 （Ａ）一般式 Ｌ2 ＭＸ2 で示される遷移金属化合物 （Ｂ）一般式 Ｒ1 a ＡｌＹ3-a で示される有機アルミ
ニウム化合物、または一般式｛−Ａｌ（Ｒ2)−Ｏ−｝b
で示される構造を有する環状のアルミノキサン及び／又
は一般式 Ｒ3(−Ａｌ（Ｒ3)−Ｏ−）c ＡｌＲ3 2で示さ
れる構造を有する線状のアルミノキサン （Ｃ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
する化合物
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、メタロセン触媒を用い
たポリオレフィン、特にエチレン−α−オレフィン共重
合体の製造法に関するものである。さらに詳しくは、組
成分布の調整されたポリオレフィン、特に線状低密度ポ
リエチレンを製造する方法に関するものである。
たポリオレフィン、特にエチレン−α−オレフィン共重
合体の製造法に関するものである。さらに詳しくは、組
成分布の調整されたポリオレフィン、特に線状低密度ポ
リエチレンを製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】メタロセン触媒によるポリオレフィンの
製造法については既に多くの報告がなされている。例え
ば、特開昭５８−１９３０９号公報においては、メタロ
セン錯体とアルモキサンを用いたポリオレフィンの製造
法が報告されている。このビス（シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロライド及びメチルアルモキサン
を用いた系でエチレン−α−オレフィン共重合を行う
と、単一組成分布のポリマーが得られる。特表平１−５
０２０３６号公報においては、メタロセン錯体とホウ素
化合物を用いる方法、即ちビス（ペンタメチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジメチルとトリ（ｎ−ブチ
ル）アンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ホ
ウ素を用いてエチレン−α−オレフィン共重合を行ない
単一組成分布のポリマーが得られることが報告されてい
る。このように、メタロセン錯体を用いる従来の知られ
ている触媒系は、エチレン−α−オレフィン共重合にお
いて、単一組成分布のポリオレフィンを与えるものであ
った。しかし、単一組成分布のエチレン−α−オレフィ
ン共重合体は、加工性、成形性、実用物性等の面におい
て、必ずしも好ましいものではなく改良が望まれてい
る。尚、特開平３−２０７７０４号公報は、メタロセン
錯体、有機アルミニウム及びホウ素化合物、例えばビス
（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、
トリエチルアルミニウム及びトリフェニルメチルテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを用いる新規
な触媒系および該触媒を使用してえられる新規なポリマ
ーに関するものであるが、具体的なポリオレフィンとし
て記載されているのはプロピレンの単独重合体のみであ
る。一方、単一組成分布のポリオレフィンを改良するた
めに、従来のチーグラー・ナッタ型の固体触媒とメタロ
セン錯体を併用する方法（特開平３−４３４０６号公
報，特開平３−２０３９０５号公報）、或いは２種類の
メタロセン錯体を用いる方法（特開平３−２０３９１４
号公報）等が知られているが、これらの方法は、触媒の
調整の点で煩雑であり、より簡便な触媒系が望まれる。
製造法については既に多くの報告がなされている。例え
ば、特開昭５８−１９３０９号公報においては、メタロ
セン錯体とアルモキサンを用いたポリオレフィンの製造
法が報告されている。このビス（シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロライド及びメチルアルモキサン
を用いた系でエチレン−α−オレフィン共重合を行う
と、単一組成分布のポリマーが得られる。特表平１−５
０２０３６号公報においては、メタロセン錯体とホウ素
化合物を用いる方法、即ちビス（ペンタメチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジメチルとトリ（ｎ−ブチ
ル）アンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ホ
ウ素を用いてエチレン−α−オレフィン共重合を行ない
単一組成分布のポリマーが得られることが報告されてい
る。このように、メタロセン錯体を用いる従来の知られ
ている触媒系は、エチレン−α−オレフィン共重合にお
いて、単一組成分布のポリオレフィンを与えるものであ
った。しかし、単一組成分布のエチレン−α−オレフィ
ン共重合体は、加工性、成形性、実用物性等の面におい
て、必ずしも好ましいものではなく改良が望まれてい
る。尚、特開平３−２０７７０４号公報は、メタロセン
錯体、有機アルミニウム及びホウ素化合物、例えばビス
（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、
トリエチルアルミニウム及びトリフェニルメチルテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを用いる新規
な触媒系および該触媒を使用してえられる新規なポリマ
ーに関するものであるが、具体的なポリオレフィンとし
て記載されているのはプロピレンの単独重合体のみであ
る。一方、単一組成分布のポリオレフィンを改良するた
めに、従来のチーグラー・ナッタ型の固体触媒とメタロ
セン錯体を併用する方法（特開平３−４３４０６号公
報，特開平３−２０３９０５号公報）、或いは２種類の
メタロセン錯体を用いる方法（特開平３−２０３９１４
号公報）等が知られているが、これらの方法は、触媒の
調整の点で煩雑であり、より簡便な触媒系が望まれる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような状
況に鑑み、簡便な手段として、触媒系における有機アル
ミニウムとメタロセン錯体の量比を調整することによ
り、重合初期の温度上昇を制御し、分子量が高く、ま
た、組成が適度に調整されたエチレン−α−オレフィン
共重合体の製造法を提供することを目的とするものであ
る。
況に鑑み、簡便な手段として、触媒系における有機アル
ミニウムとメタロセン錯体の量比を調整することによ
り、重合初期の温度上昇を制御し、分子量が高く、ま
た、組成が適度に調整されたエチレン−α−オレフィン
共重合体の製造法を提供することを目的とするものであ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために、下記触媒成分（Ａ）及び（Ｂ）、ある
いは、触媒成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を主成分とす
る触媒系を用いたエチレン−α−オレフィン共重合体の
製造法を提供する。
達成するために、下記触媒成分（Ａ）及び（Ｂ）、ある
いは、触媒成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を主成分とす
る触媒系を用いたエチレン−α−オレフィン共重合体の
製造法を提供する。
【０００５】即ち、本発明は、下記触媒成分（Ａ）及び
（Ｂ）、あるいは、触媒成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）
を用いエチレンとα−オレフィンとの共重合を行うに際
し、重合反応の初期において重合温度が１０℃以上の温
度上昇を伴うように重合を行うことを特徴とするエチレ
ン−α−オレフィン共重合体の製造法に係るものであ
る。 （Ａ）一般式 Ｌ2 ＭＸ2 で示される遷移金属化合物(
但し、Ｌはシクロペンタジエニル基、置換シクロペンタ
ジエニル基又はシクロペンタジエニル骨格を有する多環
式基を表し、それぞれは架橋していてもしていなくても
良い。Ｘはハロゲン又はアルキル基を表し、２つのＬ及
び２つのＸは、それぞれ同一でも異なっていても良い。
また、Ｍは、周期律表の第４族又はランタナイド系列の
遷移金属元素を表す。） （Ｂ）一般式 Ｒ1 a ＡｌＹ3-a で示される有機アルミ
ニウム化合物、または、一般式｛−Ａｌ（Ｒ2)−Ｏ−｝
b で示される構造を有する環状のアルミノキサン及び／
又は一般式 Ｒ3(−Ａｌ（Ｒ3)−Ｏ−）c ＡｌＲ3 2で示
される構造を有する線状のアルミノキサン（但し、Ｒ1
は、炭素数１〜２０個の炭化水素基を表し、Ｒ2 及びＲ
3 は、炭素数１〜８の炭化水素基から成る群から任意に
選ばれる。ここに、全てのＲ1 、Ｒ2 又はＲ3 は、同じ
であっても異なっていても良い。また、Ｙは、水素原子
及び／又はハロゲン原子を表し、ａは０〜３の数を表
し、ｂ及びｃは１以上の整数を表す。） （Ｃ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
する化合物 以下、本発明につき、さらに詳しく説明する。
（Ｂ）、あるいは、触媒成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）
を用いエチレンとα−オレフィンとの共重合を行うに際
し、重合反応の初期において重合温度が１０℃以上の温
度上昇を伴うように重合を行うことを特徴とするエチレ
ン−α−オレフィン共重合体の製造法に係るものであ
る。 （Ａ）一般式 Ｌ2 ＭＸ2 で示される遷移金属化合物(
但し、Ｌはシクロペンタジエニル基、置換シクロペンタ
ジエニル基又はシクロペンタジエニル骨格を有する多環
式基を表し、それぞれは架橋していてもしていなくても
良い。Ｘはハロゲン又はアルキル基を表し、２つのＬ及
び２つのＸは、それぞれ同一でも異なっていても良い。
また、Ｍは、周期律表の第４族又はランタナイド系列の
遷移金属元素を表す。） （Ｂ）一般式 Ｒ1 a ＡｌＹ3-a で示される有機アルミ
ニウム化合物、または、一般式｛−Ａｌ（Ｒ2)−Ｏ−｝
b で示される構造を有する環状のアルミノキサン及び／
又は一般式 Ｒ3(−Ａｌ（Ｒ3)−Ｏ−）c ＡｌＲ3 2で示
される構造を有する線状のアルミノキサン（但し、Ｒ1
は、炭素数１〜２０個の炭化水素基を表し、Ｒ2 及びＲ
3 は、炭素数１〜８の炭化水素基から成る群から任意に
選ばれる。ここに、全てのＲ1 、Ｒ2 又はＲ3 は、同じ
であっても異なっていても良い。また、Ｙは、水素原子
及び／又はハロゲン原子を表し、ａは０〜３の数を表
し、ｂ及びｃは１以上の整数を表す。） （Ｃ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
する化合物 以下、本発明につき、さらに詳しく説明する。
【０００６】本発明において、触媒成分（Ａ）として
は、一般式Ｌ2 ＭＸ2 で表される遷移金属化合物を用い
る。式中、Ｌは、シクロペンタジエニル基、置換シクロ
ペンタジエニル基又はシクロペンタジエニル骨格を有す
る多環式基を表し、それぞれは架橋していてもしていな
くても良い。置換シクロペンタジエニル基の場合には、
該置換基は、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、
またシクロペンタジエニル骨格を有する多環式基に場合
は、インデニル基やフルオレニル基が好ましい。Ｍは、
周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改訂版、１９８
９）の第４族又はランタナイド系列の遷移金属元素を表
す。またＸは、ハロゲン又は炭素数１〜２０のアルキル
基を表す。成分（Ａ）におけるＬとしては、置換シクロ
ペンタジエニル基の具体例として、メチルシクロペンタ
ジエニル基、エチルシクロペンタジエニル基、ノルマル
プロピルシクロペンタジエニル基、ノルマルブチルシク
ロペンタジエニル基、イソプロピルシクロペンタジエニ
ル基、イソブチルシクロペンタジエニル基、第２級ブチ
ルシクロペンタジエニル基、第３級ブチルシクロペンタ
ジエニル基、１，２−ジメチルシクロペンタジエニル
基、１，３−ジメチルシクロペンタジエニル基、１，
２，３−トリメチルシクロペンタジエニル基、１，２，
４−トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチル
シクロペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジ
エニル基などが挙げられる。また、シクロペンタジエニ
ル骨格を有する多環式基の具体例として、インデニル
基、４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基、フル
オレニル基などが挙げられる。これらの基同士は、エチ
レン、プロピレンなどのアルキレン基、イソプロピリデ
ン、ジフェニルメチレンなどの置換アルキレン基、ある
いは、シリレン基、ジメチルシリレン基、ジフェニルシ
リレン基などの置換シリレン基などにより架橋されてい
ても良い。成分（Ａ）におけるＭの具体例としては、周
期律表の第４族の遷移金属元素としては、チタニウム原
子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子、ランタニド系
列の遷移金属元素としては、サマリウム原子などが挙げ
られるが、より好ましくは、チタニウム原子、ジルコニ
ウム原子、あるいは、ハフニウム原子である。また、成
分（Ａ）における、Ｘの具体例としては、例えば、ハロ
ゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子が挙げられ、また炭素数１〜２０のアルキル基
として、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イ
ソプロピル基、ノルマルブチル基などが挙げられる。
は、一般式Ｌ2 ＭＸ2 で表される遷移金属化合物を用い
る。式中、Ｌは、シクロペンタジエニル基、置換シクロ
ペンタジエニル基又はシクロペンタジエニル骨格を有す
る多環式基を表し、それぞれは架橋していてもしていな
くても良い。置換シクロペンタジエニル基の場合には、
該置換基は、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、
またシクロペンタジエニル骨格を有する多環式基に場合
は、インデニル基やフルオレニル基が好ましい。Ｍは、
周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改訂版、１９８
９）の第４族又はランタナイド系列の遷移金属元素を表
す。またＸは、ハロゲン又は炭素数１〜２０のアルキル
基を表す。成分（Ａ）におけるＬとしては、置換シクロ
ペンタジエニル基の具体例として、メチルシクロペンタ
ジエニル基、エチルシクロペンタジエニル基、ノルマル
プロピルシクロペンタジエニル基、ノルマルブチルシク
ロペンタジエニル基、イソプロピルシクロペンタジエニ
ル基、イソブチルシクロペンタジエニル基、第２級ブチ
ルシクロペンタジエニル基、第３級ブチルシクロペンタ
ジエニル基、１，２−ジメチルシクロペンタジエニル
基、１，３−ジメチルシクロペンタジエニル基、１，
２，３−トリメチルシクロペンタジエニル基、１，２，
４−トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチル
シクロペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジ
エニル基などが挙げられる。また、シクロペンタジエニ
ル骨格を有する多環式基の具体例として、インデニル
基、４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基、フル
オレニル基などが挙げられる。これらの基同士は、エチ
レン、プロピレンなどのアルキレン基、イソプロピリデ
ン、ジフェニルメチレンなどの置換アルキレン基、ある
いは、シリレン基、ジメチルシリレン基、ジフェニルシ
リレン基などの置換シリレン基などにより架橋されてい
ても良い。成分（Ａ）におけるＭの具体例としては、周
期律表の第４族の遷移金属元素としては、チタニウム原
子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子、ランタニド系
列の遷移金属元素としては、サマリウム原子などが挙げ
られるが、より好ましくは、チタニウム原子、ジルコニ
ウム原子、あるいは、ハフニウム原子である。また、成
分（Ａ）における、Ｘの具体例としては、例えば、ハロ
ゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子が挙げられ、また炭素数１〜２０のアルキル基
として、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イ
ソプロピル基、ノルマルブチル基などが挙げられる。
【０００７】前記、成分（Ａ）として表される化合物の
内、Ｍがジルコニウムである化合物の具体例としては、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジブロ
マイド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
メチル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジクロライド、ビス（メチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジブロマイド、ビス（メチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジメチル、ビス（ペンタメ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジブロマイド、ビス（ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジメチル、ビス（インデニル）
ジルコニウムジクロリド、ビス（インデニル）ジルコニ
ウムジブロマイド、ビス（インデニル）ジルコニウムジ
メチル、ビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ビス（４，５，６，７−
テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジブロマイド、
ビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジル
コニウムジメチル、ビス（フルオレニル）ジルコニウム
ジクロリド、ビス（フルオレニル）ジルコニウムジブロ
マイド、ビス（フルオレニル）ジルコニウムジメチル、
エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、
エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジブロマイ
ド、エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジメチ
ル、エチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロイン
デニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン
（シクロペンタジエニル−フルオレニル）ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリレンビス（シクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
（インデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（シクロペ
ンタジエニル−フルオレニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ジフェニルシリレンビス（インデニル）ジルコニウ
ムジクロリド、などが挙げられる。また、上記のような
ジルコニウム化合物においてジルコニウムを、チタン、
ハフニウムに置き換えた化合物も同様に例示することが
できる。
内、Ｍがジルコニウムである化合物の具体例としては、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジブロ
マイド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
メチル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジクロライド、ビス（メチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジブロマイド、ビス（メチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジメチル、ビス（ペンタメ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジブロマイド、ビス（ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジメチル、ビス（インデニル）
ジルコニウムジクロリド、ビス（インデニル）ジルコニ
ウムジブロマイド、ビス（インデニル）ジルコニウムジ
メチル、ビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ビス（４，５，６，７−
テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジブロマイド、
ビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジル
コニウムジメチル、ビス（フルオレニル）ジルコニウム
ジクロリド、ビス（フルオレニル）ジルコニウムジブロ
マイド、ビス（フルオレニル）ジルコニウムジメチル、
エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、
エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジブロマイ
ド、エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジメチ
ル、エチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロイン
デニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン
（シクロペンタジエニル−フルオレニル）ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリレンビス（シクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
（インデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（シクロペ
ンタジエニル−フルオレニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ジフェニルシリレンビス（インデニル）ジルコニウ
ムジクロリド、などが挙げられる。また、上記のような
ジルコニウム化合物においてジルコニウムを、チタン、
ハフニウムに置き換えた化合物も同様に例示することが
できる。
【０００８】本発明において、触媒成分（Ｂ）として用
いられる有機アルミニウム化合物としては、一般式 Ｒ
1 a ＡｌＹ3-a で示される有機アルミニウム化合物、ま
たは一般式｛−Ａｌ（Ｒ2)−Ｏ−｝b で示される構造を
有する環状のアルミノキサン及び／又は一般式 Ｒ
3 （−Ａｌ（Ｒ3)−Ｏ−）c ＡｌＲ3 2で示される構造を
有する線状のアルミノキサン（但し、Ｒ1 は、炭素数１
〜８の炭化水素基、Ｒ2 及びＲ3 は、炭素数１〜８の炭
化水素基から成る群から任意に選ばれ、上記の一般式に
おいて、全てのＲ1 、Ｒ2 又はＲ3 は、同じであっても
異なっていても良い。Ｙは、水素原子及び／又はハロゲ
ン原子であり、ａは、０〜３の数を表し、ｂ及びｃは、
１以上の整数を表す。）を例示することができる。
いられる有機アルミニウム化合物としては、一般式 Ｒ
1 a ＡｌＹ3-a で示される有機アルミニウム化合物、ま
たは一般式｛−Ａｌ（Ｒ2)−Ｏ−｝b で示される構造を
有する環状のアルミノキサン及び／又は一般式 Ｒ
3 （−Ａｌ（Ｒ3)−Ｏ−）c ＡｌＲ3 2で示される構造を
有する線状のアルミノキサン（但し、Ｒ1 は、炭素数１
〜８の炭化水素基、Ｒ2 及びＲ3 は、炭素数１〜８の炭
化水素基から成る群から任意に選ばれ、上記の一般式に
おいて、全てのＲ1 、Ｒ2 又はＲ3 は、同じであっても
異なっていても良い。Ｙは、水素原子及び／又はハロゲ
ン原子であり、ａは、０〜３の数を表し、ｂ及びｃは、
１以上の整数を表す。）を例示することができる。
【０００９】一般式、Ｒ1 a ＡｌＹ3-a で示される有機
アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアル
ミニウム、トリエチルアルミニウム、トリノルマルプロ
ピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ
ノルマルヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミ
ニウム、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルア
ルミニウムクロライド、ジノルマルプロピルアルミニウ
ムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、
ジノルマルヘキシルアルミニウムクロライド等のジアル
キルアルミニウムクロライド、メチルアルミニウムジク
ロライド、エチルアルミニウムジクロライド、ノルマル
プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミ
ニウムジクロライド、ノルマルヘキシルアルミニウムジ
クロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド、ジ
メチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウ
ムハイドライド、ジノルマルプロピルアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジ
ノルマルヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアル
キルアルミニウムハイドライド等を例示することができ
る。中でも好ましくは、トリアルキルアルミニウムであ
り、より好ましくは分岐アルキル基を一つ以上有するト
リアルキルアルミニウムであり、最も好ましくはトリイ
ソブチルアルミニウムである。
アルミニウム化合物の具体例としては、トリメチルアル
ミニウム、トリエチルアルミニウム、トリノルマルプロ
ピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ
ノルマルヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミ
ニウム、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルア
ルミニウムクロライド、ジノルマルプロピルアルミニウ
ムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、
ジノルマルヘキシルアルミニウムクロライド等のジアル
キルアルミニウムクロライド、メチルアルミニウムジク
ロライド、エチルアルミニウムジクロライド、ノルマル
プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミ
ニウムジクロライド、ノルマルヘキシルアルミニウムジ
クロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド、ジ
メチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウ
ムハイドライド、ジノルマルプロピルアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジ
ノルマルヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアル
キルアルミニウムハイドライド等を例示することができ
る。中でも好ましくは、トリアルキルアルミニウムであ
り、より好ましくは分岐アルキル基を一つ以上有するト
リアルキルアルミニウムであり、最も好ましくはトリイ
ソブチルアルミニウムである。
【００１０】次に、一般式｛−Ａｌ（Ｒ2)−Ｏ−｝b で
示される構造を有する環状のアルミノキサン又は一般式
Ｒ3(−Ａｌ（Ｒ3)−Ｏ−）c ＡｌＲ3 2で示される構造
を有する線状のアルミノキサンにおけるＲ2 、Ｒ3 の具
体例としては、メチル、エチル、ノルマルプロピル、イ
ソプロピル、ノルマルブチル、イソブチル、ノルマルペ
ンチル、ネオペンチル等のアルキル基を例示することが
できる。ｂ及びｃは１以上の整数、好ましくは１〜４０
の整数である。より好ましくは、Ｒ2 、Ｒ3 は、メチル
及び／又はイソブチルであり、ｂ及びｃは、３〜２０の
整数である。上記アルミノキサンの中で、メチルアルミ
ノキサンが特に好ましい。
示される構造を有する環状のアルミノキサン又は一般式
Ｒ3(−Ａｌ（Ｒ3)−Ｏ−）c ＡｌＲ3 2で示される構造
を有する線状のアルミノキサンにおけるＲ2 、Ｒ3 の具
体例としては、メチル、エチル、ノルマルプロピル、イ
ソプロピル、ノルマルブチル、イソブチル、ノルマルペ
ンチル、ネオペンチル等のアルキル基を例示することが
できる。ｂ及びｃは１以上の整数、好ましくは１〜４０
の整数である。より好ましくは、Ｒ2 、Ｒ3 は、メチル
及び／又はイソブチルであり、ｂ及びｃは、３〜２０の
整数である。上記アルミノキサンの中で、メチルアルミ
ノキサンが特に好ましい。
【００１１】上記のアルミノキサンは、各種の方法で作
られる。その手段については、特に制限はなく、公知の
方法に準じて作ればよい。好ましくは、トリアルキルア
ルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）
を、適当な有機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）
に溶かした溶液を、水と接触させて作る。別法として、
トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミ
ニウムなど）を、結晶水を含んでいる金属塩（例えば、
硫酸銅水和物など）に、接触させて作ることが、望まし
い。
られる。その手段については、特に制限はなく、公知の
方法に準じて作ればよい。好ましくは、トリアルキルア
ルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）
を、適当な有機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）
に溶かした溶液を、水と接触させて作る。別法として、
トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミ
ニウムなど）を、結晶水を含んでいる金属塩（例えば、
硫酸銅水和物など）に、接触させて作ることが、望まし
い。
【００１２】本発明において、触媒成分（Ｃ）として、
遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する化
合物が用いられるが、この化合物としては、上記の触媒
成分（Ａ）と（Ｂ）の反応において、形成される遷移金
属化合物と反応して、イオン性の錯体を形成しうるもの
であれば、いずれのものでも使用できる。好ましくは、
遷移金属化合物をカチオンにし、対応する非配位性アニ
オンになることができるルイス酸、もしくは、一般式
Ｚ+ Ａ- (但し、Ｚ+ は、遷移金属を酸化して、カチオ
ンにすることができるカチオン性酸化剤であり、Ａ
- は、対応する非配位性アニオンである。）で表される
化合物、もしくは、一般式 （ＬーＨ）+ Ａ - （但し、
Ｌは、中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）+ は、ブレン
ステッド酸であり、遷移金属をカチオンにすることがで
き、そして、Ａ- は、対応する非配位性アニオンであ
る。）で表される化合物である。好ましくは、遷移化合
物をカチオンにし、対応する非配位性アニオンになるこ
とができるルイス酸、一般式 Ｚ+ Ａ- で表される化合
物、もしくは、一般式（ＬーＨ）+ Ａ- で表される化合
物がホウ素化合物である場合である。より好ましくは、
上記のルイス酸は、一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 、及び、式
Ｚ+Ａ- で表される化合物は、一般式 Ｚ+ (ＢＱ1 Ｑ
2 Ｑ3 Ｑ4 ）- 、及び、式（Ｌ−Ｈ）+ Ａ- で表される
化合物は、一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4）
- で表される、遷移金属化合物と反応してイオン性の錯
体を形成するホウ素化合物である。但し、Ｂは、３価の
原子価状態のホウ素であり、Ｑ1 、Ｑ2 、Ｑ3、Ｑ
4 は、１〜２０個の炭素を含む基であって、１〜２０個
から成る炭化水素基、ハロゲン、ハロゲン化炭化水素
基、シリル基、アルコキシ基、アミド基などから成る群
の中より選ばれる置換基を、任意に有することができ、
Ｑ1 、Ｑ2 、Ｑ 3 、Ｑ4 は、同じであっても異なってい
ても良い。
遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する化
合物が用いられるが、この化合物としては、上記の触媒
成分（Ａ）と（Ｂ）の反応において、形成される遷移金
属化合物と反応して、イオン性の錯体を形成しうるもの
であれば、いずれのものでも使用できる。好ましくは、
遷移金属化合物をカチオンにし、対応する非配位性アニ
オンになることができるルイス酸、もしくは、一般式
Ｚ+ Ａ- (但し、Ｚ+ は、遷移金属を酸化して、カチオ
ンにすることができるカチオン性酸化剤であり、Ａ
- は、対応する非配位性アニオンである。）で表される
化合物、もしくは、一般式 （ＬーＨ）+ Ａ - （但し、
Ｌは、中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）+ は、ブレン
ステッド酸であり、遷移金属をカチオンにすることがで
き、そして、Ａ- は、対応する非配位性アニオンであ
る。）で表される化合物である。好ましくは、遷移化合
物をカチオンにし、対応する非配位性アニオンになるこ
とができるルイス酸、一般式 Ｚ+ Ａ- で表される化合
物、もしくは、一般式（ＬーＨ）+ Ａ- で表される化合
物がホウ素化合物である場合である。より好ましくは、
上記のルイス酸は、一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 、及び、式
Ｚ+Ａ- で表される化合物は、一般式 Ｚ+ (ＢＱ1 Ｑ
2 Ｑ3 Ｑ4 ）- 、及び、式（Ｌ−Ｈ）+ Ａ- で表される
化合物は、一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4）
- で表される、遷移金属化合物と反応してイオン性の錯
体を形成するホウ素化合物である。但し、Ｂは、３価の
原子価状態のホウ素であり、Ｑ1 、Ｑ2 、Ｑ3、Ｑ
4 は、１〜２０個の炭素を含む基であって、１〜２０個
から成る炭化水素基、ハロゲン、ハロゲン化炭化水素
基、シリル基、アルコキシ基、アミド基などから成る群
の中より選ばれる置換基を、任意に有することができ、
Ｑ1 、Ｑ2 、Ｑ 3 、Ｑ4 は、同じであっても異なってい
ても良い。
【００１３】遷移金属化合物をカチオンにし対応する非
配位性アニオンになることができるルイス酸の具体例と
しては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、ト
リス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラ
ン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニ
ル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニ
ル）ボラン、トリス（２，３，５−トリフルオロフェニ
ル）ボラン、フェニルビス（パーフルオロフェニル）ボ
ラン等が挙げられるが、最も、好ましくは、トリス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボランである。
配位性アニオンになることができるルイス酸の具体例と
しては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、ト
リス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラ
ン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニ
ル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニ
ル）ボラン、トリス（２，３，５−トリフルオロフェニ
ル）ボラン、フェニルビス（パーフルオロフェニル）ボ
ラン等が挙げられるが、最も、好ましくは、トリス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボランである。
【００１４】また、一般式 Ｚ+ (ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ
3 Ｑ4 ）- で表される化合物の具体例としては、カチオ
ン性酸化剤であるＺ+ は、フェロセニウムカチオン、ア
ルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオン、トリ
フェニルメチルカチオンなどが挙げられ、非配位性アニ
オンである（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- は、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス
（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレー
ト、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェ
ニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオ
ロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５−トリ
フルオロフェニル）ボレート、フェニルトリス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，５−ビ
ストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げら
れる。これらの具体的な組み合わせとしては、フェロセ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、１，１’−ジメチルフェロセニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフ
ェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメ
チルフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、
最も好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートである。
3 Ｑ4 ）- で表される化合物の具体例としては、カチオ
ン性酸化剤であるＺ+ は、フェロセニウムカチオン、ア
ルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオン、トリ
フェニルメチルカチオンなどが挙げられ、非配位性アニ
オンである（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- は、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス
（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレー
ト、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェ
ニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオ
ロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５−トリ
フルオロフェニル）ボレート、フェニルトリス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，５−ビ
ストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げら
れる。これらの具体的な組み合わせとしては、フェロセ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、１，１’−ジメチルフェロセニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフ
ェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメ
チルフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、
最も好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートである。
【００１５】また、一般式（Ｌ−Ｈ）+ (ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ
3 Ｑ4 ）- で表される化合物の具体例としては、ブレン
ステッド酸である（Ｌ−Ｈ）+ は、トリアルキル置換ア
ンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアル
キルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙
げられ、非配位性アニオンである（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ 4)
- としては、前述と、同様のものが挙げられる。これら
の具体的な組み合わせとしては、トリエチルアンモニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ト
リプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ト
リ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（３，５
−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−
２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチ
ルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシク
ロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチル
フェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートな
どを挙げることができるが、最も好ましくは、トリ（ノ
ルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート、もしくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ートである。
3 Ｑ4 ）- で表される化合物の具体例としては、ブレン
ステッド酸である（Ｌ−Ｈ）+ は、トリアルキル置換ア
ンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアル
キルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙
げられ、非配位性アニオンである（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ 4)
- としては、前述と、同様のものが挙げられる。これら
の具体的な組み合わせとしては、トリエチルアンモニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ト
リプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ト
リ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（３，５
−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−
２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチ
ルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシク
ロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチル
フェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートな
どを挙げることができるが、最も好ましくは、トリ（ノ
ルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート、もしくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ートである。
【００１６】本発明において、重合触媒として、前記の
触媒成分（Ａ）及び触媒成分（Ｂ）、あるいは触媒成分
（Ａ）、触媒成（Ｂ）及び触媒成分（Ｃ）の組み合わせ
から成る触媒のいずれを用いても良い。しかし、上記触
媒系を使用してオレフィン（エチレン−α−オレフィ
ン）の重合を行うに際し、重合反応の初期において重合
温度が１０℃以上の温度上昇を伴うように重合を行うこ
とが必要である。即ち、オレフィンの存在下において、
触媒成分（Ａ）と触媒成分（Ｂ）、あるいは触媒成分
（Ａ）、触媒成分（Ｂ）及び触媒成分（Ｃ）が接触した
とき、予めオレフィンがさらされていた初期の温度、即
ち目標重合温度から、１０℃以上の温度上昇がもたらさ
れるように重合を行うことが好ましい。さらに、その温
度上昇は、触媒成分（Ａ）と触媒成分（Ｂ）、あるいは
触媒成分（Ａ）、触媒成分（Ｂ）及び触媒成分（Ｃ）が
接触したときから１０分以内、一般には５分以内、好ま
しくは３分以内に上昇するように制御することが好まし
い。
触媒成分（Ａ）及び触媒成分（Ｂ）、あるいは触媒成分
（Ａ）、触媒成（Ｂ）及び触媒成分（Ｃ）の組み合わせ
から成る触媒のいずれを用いても良い。しかし、上記触
媒系を使用してオレフィン（エチレン−α−オレフィ
ン）の重合を行うに際し、重合反応の初期において重合
温度が１０℃以上の温度上昇を伴うように重合を行うこ
とが必要である。即ち、オレフィンの存在下において、
触媒成分（Ａ）と触媒成分（Ｂ）、あるいは触媒成分
（Ａ）、触媒成分（Ｂ）及び触媒成分（Ｃ）が接触した
とき、予めオレフィンがさらされていた初期の温度、即
ち目標重合温度から、１０℃以上の温度上昇がもたらさ
れるように重合を行うことが好ましい。さらに、その温
度上昇は、触媒成分（Ａ）と触媒成分（Ｂ）、あるいは
触媒成分（Ａ）、触媒成分（Ｂ）及び触媒成分（Ｃ）が
接触したときから１０分以内、一般には５分以内、好ま
しくは３分以内に上昇するように制御することが好まし
い。
【００１７】上記のように、触媒成分（Ａ）と触媒成分
（Ｂ）、あるいは触媒成分（Ａ）、触媒成分（Ｂ）、触
媒成分（Ｃ）が、接触したとき初期温度から、１０℃以
上の温度上昇をもたらすには、例えば、各触媒成分の使
用量を次のようにすることにより達成できる。触媒成分
（Ａ）が、０．０００１〜５ミリモル／リットルで、好
ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットル、触媒成
分（Ｂ）が、Ａｌ原子換算で、０．０１〜５００ミリモ
ル／リットルで、好ましくは、０．１〜１００ミリモル
／リットル、触媒成分（Ｃ）は、０．０００１〜５ミリ
モル／リットルで、好ましくは、０．００１〜１ミリモ
ル／リットルの範囲にあり、かつ、触媒成分（Ｂ）／触
媒成分（Ａ）のモル比が、１０〜２０００で、好ましく
は、８０〜８００、触媒成分（Ｃ）／触媒成分（Ａ）の
モル比が、０．０１〜１００で、好ましくは、０．５〜
１０の範囲にあるように、各成分を用いることが望まし
い。
（Ｂ）、あるいは触媒成分（Ａ）、触媒成分（Ｂ）、触
媒成分（Ｃ）が、接触したとき初期温度から、１０℃以
上の温度上昇をもたらすには、例えば、各触媒成分の使
用量を次のようにすることにより達成できる。触媒成分
（Ａ）が、０．０００１〜５ミリモル／リットルで、好
ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットル、触媒成
分（Ｂ）が、Ａｌ原子換算で、０．０１〜５００ミリモ
ル／リットルで、好ましくは、０．１〜１００ミリモル
／リットル、触媒成分（Ｃ）は、０．０００１〜５ミリ
モル／リットルで、好ましくは、０．００１〜１ミリモ
ル／リットルの範囲にあり、かつ、触媒成分（Ｂ）／触
媒成分（Ａ）のモル比が、１０〜２０００で、好ましく
は、８０〜８００、触媒成分（Ｃ）／触媒成分（Ａ）の
モル比が、０．０１〜１００で、好ましくは、０．５〜
１０の範囲にあるように、各成分を用いることが望まし
い。
【００１８】重合反応の初期において、１０℃以上の温
度上昇がもたらされる理由の詳細は不明であるが、触媒
成分（Ａ）と触媒成分（Ｂ）との接触生成物と触媒成分
（Ｂ）とが強く相互作用した活性種と、その相互作用が
それ程強くない若しくは全く相互作用がない活性種が、
重合の初期段階で、通常は５分以内に、生成し、そのい
ずれかが温度上昇をもたらし２組成のポリマーを与える
ことが推測される。一方、温度上昇がみられない従来の
ケースにおいては、それらの内の一種のみの活性種が生
成し、単一組成のポリマーを与えると推測される。
度上昇がもたらされる理由の詳細は不明であるが、触媒
成分（Ａ）と触媒成分（Ｂ）との接触生成物と触媒成分
（Ｂ）とが強く相互作用した活性種と、その相互作用が
それ程強くない若しくは全く相互作用がない活性種が、
重合の初期段階で、通常は５分以内に、生成し、そのい
ずれかが温度上昇をもたらし２組成のポリマーを与える
ことが推測される。一方、温度上昇がみられない従来の
ケースにおいては、それらの内の一種のみの活性種が生
成し、単一組成のポリマーを与えると推測される。
【００１９】本発明において、共重合体を構成するモノ
マーは、エチレンと１種類以上のα−オレフィンであ
り、α−オレフィンとしては、炭素数３〜１０個のもの
であり、具体例としては、プロピレン、ブテン−１、４
−メチルペンテン−１、ヘキセン−１、オクテン−１、
ビニルシクロヘキサン等が例示されるが、本発明は、上
記化合物に限定されるべきものではない。尚、共重合体
中のα−オレフィンの含有量は、一般には、５〜２０重
量％である。
マーは、エチレンと１種類以上のα−オレフィンであ
り、α−オレフィンとしては、炭素数３〜１０個のもの
であり、具体例としては、プロピレン、ブテン−１、４
−メチルペンテン−１、ヘキセン−１、オクテン−１、
ビニルシクロヘキサン等が例示されるが、本発明は、上
記化合物に限定されるべきものではない。尚、共重合体
中のα−オレフィンの含有量は、一般には、５〜２０重
量％である。
【００２０】重合方法も、特に限定されるべきものでは
ないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素、又は、メチレンクロライド等のハ
ロゲン化炭化水素を溶媒として用いる溶媒重合、また
は、スラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等
が可能であり、また、連続重合、回分式重合のどちらで
も可能である。また、エチレン又はα−オレフィンの存
在下、触媒成分（Ａ）と触媒成分（Ｂ）、あるいは触媒
成分（Ａ）、触媒成分（Ｂ）、触媒成分（Ｃ）を予め反
応の初期に１０℃以上の温度上昇をもたらすように予備
重合を行った後に、上述のスラリー重合、気相重合等の
本重合を行ってもよい。重合温度は、−５０℃〜２００
℃の範囲を取り得るが、特に、−２０℃〜１００℃の範
囲が好ましく、重合圧力は、常圧〜６０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ
が、好ましい。重合時間は、一般的に、目的とするポリ
マーの種類、反応装置により適宜決定されるが、５分間
〜２０時間の範囲を取ることができる。また、本発明
は、共重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移
動剤を添加することもできる。
ないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素、又は、メチレンクロライド等のハ
ロゲン化炭化水素を溶媒として用いる溶媒重合、また
は、スラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等
が可能であり、また、連続重合、回分式重合のどちらで
も可能である。また、エチレン又はα−オレフィンの存
在下、触媒成分（Ａ）と触媒成分（Ｂ）、あるいは触媒
成分（Ａ）、触媒成分（Ｂ）、触媒成分（Ｃ）を予め反
応の初期に１０℃以上の温度上昇をもたらすように予備
重合を行った後に、上述のスラリー重合、気相重合等の
本重合を行ってもよい。重合温度は、−５０℃〜２００
℃の範囲を取り得るが、特に、−２０℃〜１００℃の範
囲が好ましく、重合圧力は、常圧〜６０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ
が、好ましい。重合時間は、一般的に、目的とするポリ
マーの種類、反応装置により適宜決定されるが、５分間
〜２０時間の範囲を取ることができる。また、本発明
は、共重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移
動剤を添加することもできる。
【００２１】
【実施例】以下、実施例、及び比較例によって本発明を
さらに詳細に説明するが、本発明は、これらに限定され
るものではない。実施例における重合体の性質は、下記
の方法によって測定した。極限粘度［η］は、ウベロー
デ型粘度計を用い、１３０℃でテトラリン溶液中で測定
した。α−オレフィン含有量は、赤外分光光度計（日本
分光工業社製 ＩＲ−８１０）を用いて、エチレンとα
−オレフィンの特性吸収よりより求め、1000 C当たりの
短鎖分岐数（ＳＣＢ）として表した。共重合体の組成分
布は、セイコーＳＳＣ−５２００を用いて以下の条件に
より求めた。 昇温：４０℃から１５０℃（１０℃／分）、５分間保持 冷却：１５０℃から１０℃（５℃／分）、１０分間保持 測定：１０℃から１６０℃（５℃／分） 分子量、及び、分子量分布は、ゲル・パーミュエーショ
ン・クロマトグラフィー（ウォーターズ社製１５０，
Ｃ）を用いて以下の条件により求めた。 カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ ＧＭＨ−ＨＴ 測定温度：１４５℃設定 測定濃度：１０ｍｇ／１０ｍｌ−ＯＤＣＢ
さらに詳細に説明するが、本発明は、これらに限定され
るものではない。実施例における重合体の性質は、下記
の方法によって測定した。極限粘度［η］は、ウベロー
デ型粘度計を用い、１３０℃でテトラリン溶液中で測定
した。α−オレフィン含有量は、赤外分光光度計（日本
分光工業社製 ＩＲ−８１０）を用いて、エチレンとα
−オレフィンの特性吸収よりより求め、1000 C当たりの
短鎖分岐数（ＳＣＢ）として表した。共重合体の組成分
布は、セイコーＳＳＣ−５２００を用いて以下の条件に
より求めた。 昇温：４０℃から１５０℃（１０℃／分）、５分間保持 冷却：１５０℃から１０℃（５℃／分）、１０分間保持 測定：１０℃から１６０℃（５℃／分） 分子量、及び、分子量分布は、ゲル・パーミュエーショ
ン・クロマトグラフィー（ウォーターズ社製１５０，
Ｃ）を用いて以下の条件により求めた。 カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ ＧＭＨ−ＨＴ 測定温度：１４５℃設定 測定濃度：１０ｍｇ／１０ｍｌ−ＯＤＣＢ
【００２２】実施例 １ 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオートクレーブを真空乾
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィードし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム０．２５ｍｍ
ｏｌを投入し、続いてビス（シクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド０．７μｍｏｌを投入し、続い
てトリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート２．０μｍｏｌを投入し、６０℃に重合
温度がなるように調整しながら３０分間重合を行った。
尚、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレートを投入後、２分以内に１２．０℃の温
度上昇が見られた。その後の重合温度は重合開始から１
０分後には６２℃に、２０分後には６０℃となり、以後
６０℃で重合を続けた。重合の結果、コモノマー含有量
（ＳＣＢ）が２３．３、［η］が１．８７（ｄｌ／
ｇ）、分子量（Ｍｗ）が９３０００、分子量分布（Ｍｗ
／Ｍｎ）が２．６、また融点が９０．６℃及び１０４．
２℃である組成分布を持つエチレン−ヘキセン−１共重
合体を、ジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、３．０
×１０7 ｇの収量で製造した。
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィードし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム０．２５ｍｍ
ｏｌを投入し、続いてビス（シクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド０．７μｍｏｌを投入し、続い
てトリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート２．０μｍｏｌを投入し、６０℃に重合
温度がなるように調整しながら３０分間重合を行った。
尚、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレートを投入後、２分以内に１２．０℃の温
度上昇が見られた。その後の重合温度は重合開始から１
０分後には６２℃に、２０分後には６０℃となり、以後
６０℃で重合を続けた。重合の結果、コモノマー含有量
（ＳＣＢ）が２３．３、［η］が１．８７（ｄｌ／
ｇ）、分子量（Ｍｗ）が９３０００、分子量分布（Ｍｗ
／Ｍｎ）が２．６、また融点が９０．６℃及び１０４．
２℃である組成分布を持つエチレン−ヘキセン−１共重
合体を、ジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、３．０
×１０7 ｇの収量で製造した。
【００２３】実施例 ２ 実施例１においてトリフェニルメチルテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートをジメチルアニリニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートに変
え、６０分重合を行った以外は、実施例１と同様に実施
した。この重合における、ジメチルアニリニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレートの投入後２分
以内に１０．４℃の温度上昇がみられた。その後の重合
温度は重合開始から１０分後には６１℃に、１５分後に
は６０℃となり、以後６０℃で重合を続けた。重合の結
果、コモノマー含有量（ＳＣＢ）が１８．４、［η］が
２．３１（ｄｌ／ｇ）、分子量（Ｍｗ）が１４５００
０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．２、また融点が９
８．２℃及び１０６．２℃である組成分布を持つエチレ
ン−ヘキセン−１共重合体を、ジルコニウム１ｍｏｌ、
１時間あたり、１．７×１０7 ｇの収量で製造した。
タフルオロフェニル）ボレートをジメチルアニリニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートに変
え、６０分重合を行った以外は、実施例１と同様に実施
した。この重合における、ジメチルアニリニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレートの投入後２分
以内に１０．４℃の温度上昇がみられた。その後の重合
温度は重合開始から１０分後には６１℃に、１５分後に
は６０℃となり、以後６０℃で重合を続けた。重合の結
果、コモノマー含有量（ＳＣＢ）が１８．４、［η］が
２．３１（ｄｌ／ｇ）、分子量（Ｍｗ）が１４５００
０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．２、また融点が９
８．２℃及び１０６．２℃である組成分布を持つエチレ
ン−ヘキセン−１共重合体を、ジルコニウム１ｍｏｌ、
１時間あたり、１．７×１０7 ｇの収量で製造した。
【００２４】実施例 ３ 実施例１においてトリフェニルメチルテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートをトリス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボランに変えた以外は、実施例１と同様に
実施した。この重合における、トリス（ペンタフルオロ
フェニル）ボランの投入後３分以内に１５．６℃の温度
上昇がみられた。その後の重合温度は重合開始から１０
分後には６２℃に、１５分後には６０℃となり、以後６
０℃で重合を続けた。重合の結果、コモノマー含有量
（ＳＣＢ）が２１．０、［η］が１．７０（ｄｌ／
ｇ）、また融点が９２．０℃及び１０４．０℃である組
成分布を持つエチレン−ヘキセン−１共重合体を、ジル
コニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、３．５×１０7 ｇの
収量で製造した。
タフルオロフェニル）ボレートをトリス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボランに変えた以外は、実施例１と同様に
実施した。この重合における、トリス（ペンタフルオロ
フェニル）ボランの投入後３分以内に１５．６℃の温度
上昇がみられた。その後の重合温度は重合開始から１０
分後には６２℃に、１５分後には６０℃となり、以後６
０℃で重合を続けた。重合の結果、コモノマー含有量
（ＳＣＢ）が２１．０、［η］が１．７０（ｄｌ／
ｇ）、また融点が９２．０℃及び１０４．０℃である組
成分布を持つエチレン−ヘキセン−１共重合体を、ジル
コニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、３．５×１０7 ｇの
収量で製造した。
【００２５】実施例 ４ 実施例１においてトルエン１９０ｍｌ、ヘキセン−１を
１０ｍｌに変更し、またビス（シクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロライドをエチレンビス（インデニ
ル）ジルコニウムジクロリドにトリイソブチルアルミニ
ウムをトリエチルアルミニウムに変え、重合時間を２０
分間とした以外は、実施例１と同様に実施した。この重
合における、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレートの投入後の５分以内の温度上
昇は、２２．５℃であった。その後の重合温度は重合開
始から１０分後には６５℃に、２０分後には６１℃であ
った。重合の結果、コモノマー含有量（ＳＣＢ）が３
３．８、［η］が０．８３（ｄｌ／ｇ）、また融点が６
８．４℃及び１０９．９℃である組成分布を持つエチレ
ン−ヘキセン−１共重合体を、ジルコニウム１ｍｏｌ、
１時間あたり、９．３×１０7 ｇの収量で製造した。
１０ｍｌに変更し、またビス（シクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロライドをエチレンビス（インデニ
ル）ジルコニウムジクロリドにトリイソブチルアルミニ
ウムをトリエチルアルミニウムに変え、重合時間を２０
分間とした以外は、実施例１と同様に実施した。この重
合における、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレートの投入後の５分以内の温度上
昇は、２２．５℃であった。その後の重合温度は重合開
始から１０分後には６５℃に、２０分後には６１℃であ
った。重合の結果、コモノマー含有量（ＳＣＢ）が３
３．８、［η］が０．８３（ｄｌ／ｇ）、また融点が６
８．４℃及び１０９．９℃である組成分布を持つエチレ
ン−ヘキセン−１共重合体を、ジルコニウム１ｍｏｌ、
１時間あたり、９．３×１０7 ｇの収量で製造した。
【００２６】実施例 ５ 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオートクレーブを真空乾
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、αーオレフィンとして、ヘキセンー１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィードし、系内が
安定した後、メチルアルモキサン（東ソーアクゾ社製Ｐ
ＭＡＯ）１．０ｍｍｏｌを投入し、続いてビス（シクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド１．０μｍ
ｏｌを投入し、６０℃に重合温度がなるように調整しな
がら１５分間重合を行った。尚、ビス（シクロペンタジ
エニル）ジルコニウムジクロライドを投入後、２分以内
に１５．２℃の温度上昇が見られた。その後の重合温度
は重合開始から１５分後には６３℃であった。重合の結
果、コモノマー含有量（ＳＣＢ）が４３．１、［η］が
０．４７（ｄｌ／ｇ）、また融点が６０．３℃及び１０
８．３℃である組成分布を持つエチレン−ヘキセン−１
共重合体を、ジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、
９．２×１０7 ｇの収量で製造した。
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、αーオレフィンとして、ヘキセンー１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィードし、系内が
安定した後、メチルアルモキサン（東ソーアクゾ社製Ｐ
ＭＡＯ）１．０ｍｍｏｌを投入し、続いてビス（シクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド１．０μｍ
ｏｌを投入し、６０℃に重合温度がなるように調整しな
がら１５分間重合を行った。尚、ビス（シクロペンタジ
エニル）ジルコニウムジクロライドを投入後、２分以内
に１５．２℃の温度上昇が見られた。その後の重合温度
は重合開始から１５分後には６３℃であった。重合の結
果、コモノマー含有量（ＳＣＢ）が４３．１、［η］が
０．４７（ｄｌ／ｇ）、また融点が６０．３℃及び１０
８．３℃である組成分布を持つエチレン−ヘキセン−１
共重合体を、ジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、
９．２×１０7 ｇの収量で製造した。
【００２７】実施例 ６ 実施例５における東ソーアクゾ社製のＰＭＡＯをエチル
・コーポレーション社製のＰＭＡＯに変えた以外は、同
様とした。但し、この重合におけるビス（シクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロライドの投入後、２分以
内に１６．５℃の温度上昇がみられた。その後の重合温
度は重合開始から１５分後には６２℃であった。重合の
結果、コモノマー含有量（ＳＣＢ）が２４．９、［η］
が０．６３（ｄｌ／ｇ）、また融点が９１．４℃及び１
１０．３℃である組成分布を持つエチレン−ヘキセン−
１共重合体を、ジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、
７．８×１０7 ｇの収量で製造した。
・コーポレーション社製のＰＭＡＯに変えた以外は、同
様とした。但し、この重合におけるビス（シクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロライドの投入後、２分以
内に１６．５℃の温度上昇がみられた。その後の重合温
度は重合開始から１５分後には６２℃であった。重合の
結果、コモノマー含有量（ＳＣＢ）が２４．９、［η］
が０．６３（ｄｌ／ｇ）、また融点が９１．４℃及び１
１０．３℃である組成分布を持つエチレン−ヘキセン−
１共重合体を、ジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、
７．８×１０7 ｇの収量で製造した。
【００２８】比較例 １ 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオートクレーブを真空乾
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィードし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム３．５ｍｍｏ
ｌを投入し、続いてビス（シクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロライド０．７μｍｏｌを投入し、続いて
トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート２．０μｍｏｌを投入し、６０℃にて３０
分間重合を行った。尚、トリフェニルメチルテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートを投入後、５分以
内の温度上昇は１℃であった。重合の結果、コモノマー
含有量（ＳＣＢ）が１２．６、［η］が２．５０（ｄｌ
／ｇ）、また融点が１１１．７℃である単一組成分布を
持つエチレン−ヘキセン−１共重合体を、ジルコニウム
１ｍｏｌ、１時間あたり、１．６×１０7 ｇの収量で製
造した。
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィードし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム３．５ｍｍｏ
ｌを投入し、続いてビス（シクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロライド０．７μｍｏｌを投入し、続いて
トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート２．０μｍｏｌを投入し、６０℃にて３０
分間重合を行った。尚、トリフェニルメチルテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートを投入後、５分以
内の温度上昇は１℃であった。重合の結果、コモノマー
含有量（ＳＣＢ）が１２．６、［η］が２．５０（ｄｌ
／ｇ）、また融点が１１１．７℃である単一組成分布を
持つエチレン−ヘキセン−１共重合体を、ジルコニウム
１ｍｏｌ、１時間あたり、１．６×１０7 ｇの収量で製
造した。
【００２９】比較例 ２ 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオートクレーブを真空乾
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィードし、系内が
安定した後、メチルアルモキサン（東ソーアクゾ社製Ｐ
ＭＡＯ）１．０ｍｍｏｌを投入し、続いてビス（シクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド１．０μｍ
ｏｌを投入し６０℃にて２０分間重合を行った。尚、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド
を投入後、５分以内の温度上昇が２．３℃であった。重
合の結果、コモノマー含有量（ＳＣＢ）が１２．４、
［η］が２．１４（ｄｌ／ｇ）、また融点が１１３．２
℃である単一組成分布を持つエチレン−ヘキセン−１共
重合体を、ジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、１．
５×１０7 ｇの収量で製造した。
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィードし、系内が
安定した後、メチルアルモキサン（東ソーアクゾ社製Ｐ
ＭＡＯ）１．０ｍｍｏｌを投入し、続いてビス（シクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド１．０μｍ
ｏｌを投入し６０℃にて２０分間重合を行った。尚、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド
を投入後、５分以内の温度上昇が２．３℃であった。重
合の結果、コモノマー含有量（ＳＣＢ）が１２．４、
［η］が２．１４（ｄｌ／ｇ）、また融点が１１３．２
℃である単一組成分布を持つエチレン−ヘキセン−１共
重合体を、ジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、１．
５×１０7 ｇの収量で製造した。
【００３０】
【発明の効果】以上、詳述したように、本発明によれ
ば、メタロセン錯体に含まれる遷移金属原子の量と有機
アルミニウムに含まれるアルミニウム原子の量を調整す
ることにより、重合初期に１０℃以上の発熱をもたらす
ことができ、その結果、高分子量で、２組成分布を持つ
組成が制御されたエチレン−α−オレフィン共重合体を
容易に製造することができる。
ば、メタロセン錯体に含まれる遷移金属原子の量と有機
アルミニウムに含まれるアルミニウム原子の量を調整す
ることにより、重合初期に１０℃以上の発熱をもたらす
ことができ、その結果、高分子量で、２組成分布を持つ
組成が制御されたエチレン−α−オレフィン共重合体を
容易に製造することができる。
【図１】図１は、本発明の説明する為のフローチャート
図である。本フローチャート図は、本発明の一実施態様
の代表例であり、本発明は何らこれらに限定されるもの
ではない。
図である。本フローチャート図は、本発明の一実施態様
の代表例であり、本発明は何らこれらに限定されるもの
ではない。
Claims (5)
- 【請求項１】下記触媒成分（Ａ）及び（Ｂ）を用いエチ
レンとα−オレフィンとの共重合を行うに際し、重合反
応の初期において重合温度が１０℃以上の温度上昇を伴
うように重合を行うことを特徴とするエチレン−α−オ
レフィン共重合体の製造法。 （Ａ）一般式 Ｌ2 ＭＸ2 で示される遷移金属化合物(
但し、Ｌはシクロペンタジエニル基、置換シクロペンタ
ジエニル基又はシクロペンタジエニル骨格を有する多環
式基を表し、それぞれは架橋していてもしていなくても
良い。Ｘはハロゲン原子又はアルキル基を表し、２つの
Ｌ及び２つのＸは、それぞれ同一でも異なっていても良
い。また、Ｍは、周期律表の第４族又はランタナイド系
列の遷移金属元素を表す。） （Ｂ）一般式 Ｒ1 a ＡｌＹ3-a で示される有機アルミ
ニウム化合物、または、一般式｛−Ａｌ（Ｒ2)−Ｏ−｝
b で示される構造を有する環状のアルミノキサン及び／
又は一般式 Ｒ3(−Ａｌ（Ｒ3)−Ｏ−）c ＡｌＲ3 2で示
される構造を有する線状のアルミノキサン（但し、Ｒ1
は、炭素数１〜２０個の炭化水素基を表し、Ｒ2 及びＲ
3 は、炭素数１〜８の炭化水素基から成る群から任意に
選ばれる。ここに、全てのＲ1 、Ｒ2 又はＲ3 は、同じ
であっても異なっていても良い。また、Ｙは、水素原子
及び／又はハロゲン原子を表し、ａは０〜３の数を表
し、ｂ及びｃは１以上の整数を表す。） - 【請求項２】触媒成分（Ａ）、（Ｂ）に加え、下記触媒
成分（Ｃ）を更に用いることを特徴とする請求項１記載
のエチレン−α−オレフィン共重合体の製造法。 （Ｃ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
する化合物 - 【請求項３】一般式 Ｒ1 a ＡｌＹ3-a で示される有機
アルミニウム化合物がトリアルキルアルミニウムである
ことを特徴とする請求項１又は２記載のエチレン−α−
オレフィン共重合体の製造法。 - 【請求項４】一般式｛−Ａｌ（Ｒ2)−Ｏ−｝b で示され
る構造を有する環状のアルミノキサンおよび／または一
般式 Ｒ3 ｛−Ａｌ（Ｒ3)−Ｏ−｝c ＡｌＲ3 で示され
る構造を有する線状のアルミノキサンがメチルアルミノ
キサンであることを特徴とする請求項１又は２記載のエ
チレン−α−オレフィン共重合体の製造法。 - 【請求項５】触媒成分（Ｃ）が、ホウ素化合物であるこ
とを特徴とする請求項２記載のエチレン−α−オレフィ
ン共重合体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1355295A JPH08208754A (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | エチレン−α−オレフィン共重合体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1355295A JPH08208754A (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | エチレン−α−オレフィン共重合体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08208754A true JPH08208754A (ja) | 1996-08-13 |
Family
ID=11836339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1355295A Pending JPH08208754A (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | エチレン−α−オレフィン共重合体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08208754A (ja) |
-
1995
- 1995-01-31 JP JP1355295A patent/JPH08208754A/ja active Pending
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