JPH0820275B2 - 位置測定装置 - Google Patents
位置測定装置Info
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- JPH0820275B2 JPH0820275B2 JP2279470A JP27947090A JPH0820275B2 JP H0820275 B2 JPH0820275 B2 JP H0820275B2 JP 2279470 A JP2279470 A JP 2279470A JP 27947090 A JP27947090 A JP 27947090A JP H0820275 B2 JPH0820275 B2 JP H0820275B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/38—Forming the light into pulses by diffraction gratings
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、少なくとも一つの光源、少なくとも一つ
の光学ユニットおよび少なくとも一つの検出器を一方の
物体に付属させ、一つの回折格子として形成された測定
目盛を他方の物体に付属させ、前記光源から放出された
ビーム束を測定目盛で回折させて干渉性の部分ビーム束
に分解し、回折した部分ビーム束を前記光学ユニットに
より測定目盛に向けて偏向させ、そこでもう一度回折さ
せて対にして二ビーム干渉させ、二ビーム干渉の変調強
度を前記検出器で電気信号に変換する、二つの物体の相
対位置を測定する装置に関する。
の光学ユニットおよび少なくとも一つの検出器を一方の
物体に付属させ、一つの回折格子として形成された測定
目盛を他方の物体に付属させ、前記光源から放出された
ビーム束を測定目盛で回折させて干渉性の部分ビーム束
に分解し、回折した部分ビーム束を前記光学ユニットに
より測定目盛に向けて偏向させ、そこでもう一度回折さ
せて対にして二ビーム干渉させ、二ビーム干渉の変調強
度を前記検出器で電気信号に変換する、二つの物体の相
対位置を測定する装置に関する。
位置測定装置は、種々の構成のものが知られている。
例として、欧州特許第1163 362号明細書を挙げることが
できる。この明細書には、所謂三重格子測定原理で動作
する装置が開示されている。この装置では、目盛格子が
反射式に構成されていて、基準格子は相互に回折次数の
位相角に影響を与える選択された特性を有する。
例として、欧州特許第1163 362号明細書を挙げることが
できる。この明細書には、所謂三重格子測定原理で動作
する装置が開示されている。この装置では、目盛格子が
反射式に構成されていて、基準格子は相互に回折次数の
位相角に影響を与える選択された特性を有する。
F.Hockの学位論文「回折格子による長さまたは角度位
置の変化の光電測定」シュトッガルト大学、1975年に
は、第130と131頁に二つのコヒーレントな部分ビームを
層状の位相格子で再変換することが図示され(第55
図)、記載されている。しかし、そこには測定格子が図
示されていない。位相格子は0次および整数次の回折次
数を消去するように構成されている。
置の変化の光電測定」シュトッガルト大学、1975年に
は、第130と131頁に二つのコヒーレントな部分ビームを
層状の位相格子で再変換することが図示され(第55
図)、記載されている。しかし、そこには測定格子が図
示されていない。位相格子は0次および整数次の回折次
数を消去するように構成されている。
ドイツ特許第37 00 906号明細書には、干渉で動作す
る位置測定装置が示してある。この装置では、測定信号
の位相のずれが部分ビーム束の通路に設置された偏光光
学部材によって生じる。
る位置測定装置が示してある。この装置では、測定信号
の位相のずれが部分ビーム束の通路に設置された偏光光
学部材によって生じる。
〔発明の課題〕 それ故、この発明の課題は、簡単な構造で、偏光光学
手段を用いることなく互いに位相のずれた少なくとも二
つの信号を出力する装置を提供することにある。
手段を用いることなく互いに位相のずれた少なくとも二
つの信号を出力する装置を提供することにある。
上記の課題は、この発明により、 少なくとも一つの光源L,Ln;n=2〜9,少なくとも一つ
の光学ユニット2,2n;3,3n;n=2〜9および少なくとも
一つの検出器4,4n;5,5n;6n;n=2〜9を一方の物体に付
属させ、一つの回折格子として形成された測定目盛1;1
n;n=2〜9を他方の物体に付属させ、前記光源から放
出されたビーム束を測定目盛で回折させて干渉性の部分
ビーム束に分解し、回折した部分ビーム束を前記光学ユ
ニットにより測定目盛に向けて偏向させ、そこでもう一
度回折させて対にして二ビーム干渉させ、各二ビーム干
渉の変調強度を前記検出器で電気信号に変換する、二つ
の物体の相対位置を測定する装置において、 前記光学ユニットが偏光手段を含まない単純な光学反
射部材で構成され、 少なくとも一つの0次の回折次数の部分ビーム束が、
各二ビーム干渉の少なくとも一つの二ビーム干渉の形成
要素に含まれ、測定目盛が測定方向に移動する時に二ビ
ーム干渉に生じる強度変調が互いに位相がずれているよ
うに、前記測定目盛が設計されている装置によって解決
されている。
の光学ユニット2,2n;3,3n;n=2〜9および少なくとも
一つの検出器4,4n;5,5n;6n;n=2〜9を一方の物体に付
属させ、一つの回折格子として形成された測定目盛1;1
n;n=2〜9を他方の物体に付属させ、前記光源から放
出されたビーム束を測定目盛で回折させて干渉性の部分
ビーム束に分解し、回折した部分ビーム束を前記光学ユ
ニットにより測定目盛に向けて偏向させ、そこでもう一
度回折させて対にして二ビーム干渉させ、各二ビーム干
渉の変調強度を前記検出器で電気信号に変換する、二つ
の物体の相対位置を測定する装置において、 前記光学ユニットが偏光手段を含まない単純な光学反
射部材で構成され、 少なくとも一つの0次の回折次数の部分ビーム束が、
各二ビーム干渉の少なくとも一つの二ビーム干渉の形成
要素に含まれ、測定目盛が測定方向に移動する時に二ビ
ーム干渉に生じる強度変調が互いに位相がずれているよ
うに、前記測定目盛が設計されている装置によって解決
されている。
この発明による装置の他の有利な構成は特許請求の範
囲の従属請求項に記載されている。
囲の従属請求項に記載されている。
図面に示した実施例に基づき、この発明を更に詳しく
説明する。
説明する。
第1図に示す測定装置M1は、回折格子1を有する。こ
の回折格子1で垂直に入射する光束Lを±1次の回折を
波ずる。他の回折次数の光は消滅する。±1次の回折次
数の部分ビーム束は三重鏡2と3の形状の逆反射部材に
入射する。これ等の三重鏡2と3は±1次の回折次数の
部分ビーム束をそれ自体に平行にして回折格子に戻す。
そこでは、これ等のビーム束が新たに回折し、回折格子
1を二回通過した後、以下の回折次数の光が互いに干渉
する。第一回折の−1次ビーム束および第二回折の第0
次ビーム束は、第一回折の+1次ビーム束および第二回
折の+2次ビーム束と干渉し、第一回折の+1次ビーム
束および第二回折の第0次ビーム束は第一の回折の−1
次ビーム束および第二回折の−2次ビーム束と干渉す
る。
の回折格子1で垂直に入射する光束Lを±1次の回折を
波ずる。他の回折次数の光は消滅する。±1次の回折次
数の部分ビーム束は三重鏡2と3の形状の逆反射部材に
入射する。これ等の三重鏡2と3は±1次の回折次数の
部分ビーム束をそれ自体に平行にして回折格子に戻す。
そこでは、これ等のビーム束が新たに回折し、回折格子
1を二回通過した後、以下の回折次数の光が互いに干渉
する。第一回折の−1次ビーム束および第二回折の第0
次ビーム束は、第一回折の+1次ビーム束および第二回
折の+2次ビーム束と干渉し、第一回折の+1次ビーム
束および第二回折の第0次ビーム束は第一の回折の−1
次ビーム束および第二回折の−2次ビーム束と干渉す
る。
回折格子1が移動すると、強度が変調され、0次の回
折次数を入れて回折格子1に二回通過した後、互いに位
相のずれた二ビーム干渉が生じる。
折次数を入れて回折格子1に二回通過した後、互いに位
相のずれた二ビーム干渉が生じる。
これ等の位相のずれは回折格子の特性に依存し、1対
1からずれた目盛線対隙間の幅の比および位相被膜の屈
折率の差や膜厚によって変わる。
1からずれた目盛線対隙間の幅の比および位相被膜の屈
折率の差や膜厚によって変わる。
検出器4と5により変調強度は互いに位相のずれた電
気信号に変換される。
気信号に変換される。
第1図に基づき説明した基本原理は全ての実施例に当
て嵌まるので、ここでは明確にするため各図面で基本と
なる実施例のみを説明する。
て嵌まるので、ここでは明確にするため各図面で基本と
なる実施例のみを説明する。
第2図では、似たような構成であるが、互いに位相の
ずれた三つの信号を発生し、回折格子12を3方向に二回
通過した後、二ビーム干渉が生じ、三個の検出器42,52,
62により互いに位相のずれた三つの電気信号に変換され
る。干渉したビームが検出器の方向に生じる。つまり、 検出器42の方向では、 回折次数+1.,+1.の第一ビームが回折次数−1.,−1.
の第二ビームと干渉し、 検出器52の方向では、 回折次数−1.,−2.の第一ビームが回折次数+1.,0.の
第二ビームと干渉し、 検出器62の方向では、 回折次数+1.,+2.の第一ビームが回折次数−1.,0.の
第二ビームと干渉する。
ずれた三つの信号を発生し、回折格子12を3方向に二回
通過した後、二ビーム干渉が生じ、三個の検出器42,52,
62により互いに位相のずれた三つの電気信号に変換され
る。干渉したビームが検出器の方向に生じる。つまり、 検出器42の方向では、 回折次数+1.,+1.の第一ビームが回折次数−1.,−1.
の第二ビームと干渉し、 検出器52の方向では、 回折次数−1.,−2.の第一ビームが回折次数+1.,0.の
第二ビームと干渉し、 検出器62の方向では、 回折次数+1.,+2.の第一ビームが回折次数−1.,0.の
第二ビームと干渉する。
これ等の信号の位相のずれは、この場合、120゜であ
る。
る。
この場合でも、注意すべきことは、回折格子12(分離
格子)を最初に通過したとき、0.,±2.およびより高次
の回折次数の光束は吸収されるか、ないしは絞りで除去
され、回折格子12(合体格子)を二回通過するとき初め
で、0.次とより高次の回折次数の光束が干渉する部分ビ
ーム束を形成するとき、再び一緒になる。
格子)を最初に通過したとき、0.,±2.およびより高次
の回折次数の光束は吸収されるか、ないしは絞りで除去
され、回折格子12(合体格子)を二回通過するとき初め
で、0.次とより高次の回折次数の光束が干渉する部分ビ
ーム束を形成するとき、再び一緒になる。
第3図に示す実施例では、回折格子13が90゜からずれ
た或る角度で照明される。ここでは、−1.の回折次数の
光束が回折格子13を最初に通過するとき消滅し、0.およ
び−2.の回折次数のビーム束が三重鏡23と33に導入さ
れ、これ等の三重鏡が前記回折次数の光束を位相格子13
に戻す。新たな回折した後、 検出器43の方向で、 回折次数0.,+2.の第一ビームが回折次数−2.,0.の第
二ビームと干渉し、 検出器53の方向で、 回折次数−2.,−2.の第一ビームが回折次数0.,0.の第
二ビームと干渉する。
た或る角度で照明される。ここでは、−1.の回折次数の
光束が回折格子13を最初に通過するとき消滅し、0.およ
び−2.の回折次数のビーム束が三重鏡23と33に導入さ
れ、これ等の三重鏡が前記回折次数の光束を位相格子13
に戻す。新たな回折した後、 検出器43の方向で、 回折次数0.,+2.の第一ビームが回折次数−2.,0.の第
二ビームと干渉し、 検出器53の方向で、 回折次数−2.,−2.の第一ビームが回折次数0.,0.の第
二ビームと干渉する。
第4A図には、平面鏡24と34を用いる実施例が示してあ
る。この場合、照射ビーム束L4は再び測定方向に垂直に
回折格子14に入射し、そこで部分ビーム束に分離する。
る。この場合、照射ビーム束L4は再び測定方向に垂直に
回折格子14に入射し、そこで部分ビーム束に分離する。
これに反して、第4B図はこの図で照射ビーム束L4が法
線からずれた角度で回折格子14の一部14Aに入射し、平
面鏡24,34により他の部分14Vに当たる。その場合、回折
した部分ビーム束はもう一度回折し、再び互いに干渉す
る。
線からずれた角度で回折格子14の一部14Aに入射し、平
面鏡24,34により他の部分14Vに当たる。その場合、回折
した部分ビーム束はもう一度回折し、再び互いに干渉す
る。
この配置では、回折格子の部分領域が部分ビーク束に
発生すべき回折次数に対してそれぞれ回折ビーム通路を
分離するため、および回折した部分ビーム束の合体に対
するそれぞれの回折格子の部分領域が部分ビーム束の発
生すべき回折次数に対して最適にされている。干渉した
部分ビーム束は、前に説明した実施例と同じように形成
される。
発生すべき回折次数に対してそれぞれ回折ビーム通路を
分離するため、および回折した部分ビーム束の合体に対
するそれぞれの回折格子の部分領域が部分ビーム束の発
生すべき回折次数に対して最適にされている。干渉した
部分ビーム束は、前に説明した実施例と同じように形成
される。
第5図には、0.と±1.の回折次数のビーム束が使用さ
れる第3図の実施例の変形が示してある。この配置は、
格子周期の1/2になる信号周期を与える。得られた二ビ
ーム干渉は前記の例と同じようになる。
れる第3図の実施例の変形が示してある。この配置は、
格子周期の1/2になる信号周期を与える。得られた二ビ
ーム干渉は前記の例と同じようになる。
第6A,6B,7A,7B図の実施例では、第2,4A,4B図の例の反
射形としての変形が示してある。照明部材、反射部材2
6,36;27,37および検出器46,56,66;47,57,67は、全て回
折格子16,17の同じ側に設置してあり、この点が第一実
施例とは異なり所謂反射式に相当する。
射形としての変形が示してある。照明部材、反射部材2
6,36;27,37および検出器46,56,66;47,57,67は、全て回
折格子16,17の同じ側に設置してあり、この点が第一実
施例とは異なり所謂反射式に相当する。
構造上の構成は透過光装置に対して反射光装置で通常
の変形に一致するので、ここでは詳しい説明をしない。
の変形に一致するので、ここでは詳しい説明をしない。
第8図と第9図の実施例でも、同じ状況である。ここ
では、所謂直径走査である公知の走査原理が、特に有利
な方法でこの発明に結び付いている。
では、所謂直径走査である公知の走査原理が、特に有利
な方法でこの発明に結び付いている。
直径走査の例は、ドイツ特許第36 33 574号明細書に
開示されている。
開示されている。
測定格子としては円筒ケースが使用され、このケース
の上にこの発明に必要な物理特性を備えた回折格子18が
周知の方法で装着されている。
の上にこの発明に必要な物理特性を備えた回折格子18が
周知の方法で装着されている。
位相格子18を通過する第一過程では、入射光ビームL8
が再び回折し、±1.次の部分ビーム束が生じ、偏向プリ
ズム28に入射する。このプリズム中で部分ビーム束が二
回偏向する。
が再び回折し、±1.次の部分ビーム束が生じ、偏向プリ
ズム28に入射する。このプリズム中で部分ビーム束が二
回偏向する。
偏向プリズム28に入射した角度と同じ角度で再び前記
部分ビーム束が出射し、回折格子18を二回、つまり最初
の格子通過に対して対向円周上を通過する。その後、部
分ビーム束は既に説明した方式でもう一度回折し、再び
干渉して、二ビーム干渉となる次の組み合わせが検出器
48,58,68上で生じる。つまり、 検出器48の方向で、 回折次数−1.,−2.の第一ビームが回折次数+1.,0.の
第二ビームと、 検出器58の方向で、 回折次数+1.,+1.の第一ビームが回折次数−1.,−1.
の第二ビームと、 検出器68の方向で、 回折次数−1.,0.の第一ビームが回折次数+1.,+2.の
第二ビームと干渉する。
部分ビーム束が出射し、回折格子18を二回、つまり最初
の格子通過に対して対向円周上を通過する。その後、部
分ビーム束は既に説明した方式でもう一度回折し、再び
干渉して、二ビーム干渉となる次の組み合わせが検出器
48,58,68上で生じる。つまり、 検出器48の方向で、 回折次数−1.,−2.の第一ビームが回折次数+1.,0.の
第二ビームと、 検出器58の方向で、 回折次数+1.,+1.の第一ビームが回折次数−1.,−1.
の第二ビームと、 検出器68の方向で、 回折次数−1.,0.の第一ビームが回折次数+1.,+2.の
第二ビームと干渉する。
第9図の実施例は、核心部分で第8図の実施例に一致
している。しかし、回折した±1の次数の部分ビーム束
の偏向は、ここでは、偏向格子39が前置または後置接続
されている所謂「ドーブ」プリズム29によって行われ
る。回折した部分ビーム束の通過道筋は第9図から判
る。また、干渉する部分ビーム束は第8図に示す二ビー
ム干渉と一致している。これ等の干渉ビームは公知の方
法で検出器49,59と69によって互いに位相のずれた信号
に変換される。
している。しかし、回折した±1の次数の部分ビーム束
の偏向は、ここでは、偏向格子39が前置または後置接続
されている所謂「ドーブ」プリズム29によって行われ
る。回折した部分ビーム束の通過道筋は第9図から判
る。また、干渉する部分ビーム束は第8図に示す二ビー
ム干渉と一致している。これ等の干渉ビームは公知の方
法で検出器49,59と69によって互いに位相のずれた信号
に変換される。
光源は、HeNeガスレーザー源、コリメータ光学系を有
する半導体レーザー源、コリメータ光学系を有するルミ
ネッセンスダイオード等で形成できる。
する半導体レーザー源、コリメータ光学系を有するルミ
ネッセンスダイオード等で形成できる。
以上、説明したように、この発明の利点は、装置にた
だ一個の回折格子しか装備する必要がなく、偏光光学部
材を用いなくても十分で、このことが構造を非常に単純
にし、経費を低減させる点にある。更に、周期が目盛板
の周期の4分の1になる走査信号が得られる。
だ一個の回折格子しか装備する必要がなく、偏光光学部
材を用いなくても十分で、このことが構造を非常に単純
にし、経費を低減させる点にある。更に、周期が目盛板
の周期の4分の1になる走査信号が得られる。
第1図、位相のずれた二つの測定信号用の測定装置の模
式構成図、 第2図、位相のずれた三つの測定信号用の測定装置の模
式構成図、 第3図、垂直入射する照明ビーム束を用いる測定装置の
模式構成図、 第4A図、反射鏡を備えた測定装置の模式構成図、 第4B図、第4A図の測定装置の側面図、 第5図、三重鏡を装備した第3図の測定装置の変形実施
例を示す模式構成図、 第6A図、反射鏡を備えた反射測定装置の模式構成図、 第6B図、第6A図の測定装置の側面図、 第7A図、三重鏡を備えた反射測定装置の模式構成図、 第7B図、第7A図の測定装置の側面図、 第8図、直径走査部を有する測角装置の模式構成図、 第9図、直径走査部を有する他の測角装置の模式構成
図。 図中参照符号: 1,12,13,14,16,17,18……回折格子、 2,23;3,33……三重鏡、 4,42,43,46,48;5,52,53,56,58;62,67,68……検出器、 24;34……平面鏡、 26,27;36,37……反射部材、 28……偏向プリズム、 29……ドーブプリズム、 39……偏向格子。
式構成図、 第2図、位相のずれた三つの測定信号用の測定装置の模
式構成図、 第3図、垂直入射する照明ビーム束を用いる測定装置の
模式構成図、 第4A図、反射鏡を備えた測定装置の模式構成図、 第4B図、第4A図の測定装置の側面図、 第5図、三重鏡を装備した第3図の測定装置の変形実施
例を示す模式構成図、 第6A図、反射鏡を備えた反射測定装置の模式構成図、 第6B図、第6A図の測定装置の側面図、 第7A図、三重鏡を備えた反射測定装置の模式構成図、 第7B図、第7A図の測定装置の側面図、 第8図、直径走査部を有する測角装置の模式構成図、 第9図、直径走査部を有する他の測角装置の模式構成
図。 図中参照符号: 1,12,13,14,16,17,18……回折格子、 2,23;3,33……三重鏡、 4,42,43,46,48;5,52,53,56,58;62,67,68……検出器、 24;34……平面鏡、 26,27;36,37……反射部材、 28……偏向プリズム、 29……ドーブプリズム、 39……偏向格子。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−260813(JP,A) 特開 昭58−191907(JP,A) 実開 昭59−45506(JP,U)
Claims (9)
- 【請求項1】少なくとも一つの光源(L,Ln;n=2〜
9),少なくとも一つの光学ユニット(2,2n;3,3n;n=
2〜9)および少なくとも一つの検出器(4,4n;5,5n;6
n;n=2〜9)を一方の物体に付属させ、一つの回折格
子として形成された測定目盛(1;1n;n=2〜9)を他方
の物体に付属させ、前記光源から放出されたビーム束を
測定目盛で回折させて干渉性の部分ビーム束に分解し、
回折した部分ビーム束を前記光学ユニットにより測定目
盛に向けて偏向させ、そこでもう一度回折させて対にし
て二ビーム干渉させ、各二ビーム干渉の変調強度を前記
検出器で電気信号に変換する、二つの物体の相対位置を
測定する装置において、 前記光学ユニットが偏光手段を含まない単純な光学反射
部材で構成され、 少なくとも一つの0次の回折次数の部分ビーム束が、各
二ビーム干渉の少なくとも一つの二ビーム干渉の形成要
素に含まれ、測定目盛が測定方向に移動する時に二ビー
ム干渉に生じる強度変調が互いに位相がずれているよう
に、前記測定目盛が設計されていることを特徴とする装
置。 - 【請求項2】前記光学ユニットは三重プリズム、三重鏡
等のような逆反射部材(2,3;2n,3n;n=2,3,5,7)である
ことを特徴とする請求項1記載の装置。 - 【請求項3】前記光学ユニットは平面鏡(2n,3n;n=4,
6)であることを特徴とする請求項1記載の装置。 - 【請求項4】測角装置の場合、前記光学ユニットは偏向
プリズム(28)であることを特徴とする請求項1記載の
装置。 - 【請求項5】測角装置の場合、前記光学ユニットはそれ
ぞれ一つの偏向格子(39)を前後に配置するドーブプリ
ズム(29)で形成されていることを特徴とする請求項1
記載の装置。 - 【請求項6】検出器は少なくとも二つの光電素子(4,5;
4n,5n,6n;n=2〜9)を有し、これ等の光電素子は少な
くとも2つの二ビーム干渉を互いに位相のずれた二つの
電気信号に変換することを特徴とする請求項1記載の装
置。 - 【請求項7】回折格子(14)の部分領域はそれぞれビー
ム束を分離するための領域(14V)と合体させるための
領域(14A)に対してそれぞれ異なった物理特性を有す
ることを特徴とする請求項1記載の装置。 - 【請求項8】両方の電気信号の周期が測定目盛(13)の
目盛周期の1/4となるように干渉する回折次数が選択さ
れていることを特徴とする請求項1または6記載の装
置。 - 【請求項9】電気信号の周期が測定目盛(15)の目盛周
期の1/2となるように干渉する回折次数が選択されてい
ることを特徴とする請求項1または6記載の装置。
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JP3144143B2 (ja) * | 1993-04-13 | 2001-03-12 | ソニー・プレシジョン・テクノロジー株式会社 | 光学式変位測定装置 |
US5652426A (en) * | 1993-04-19 | 1997-07-29 | Ricoh Company, Ltd. | Optical encoder having high resolution |
DE59403306D1 (de) * | 1994-02-26 | 1997-08-14 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Interferometer |
JP3395339B2 (ja) * | 1994-03-31 | 2003-04-14 | ソニー・プレシジョン・テクノロジー株式会社 | 定点検出装置 |
US5442172A (en) * | 1994-05-27 | 1995-08-15 | International Business Machines Corporation | Wavefront reconstruction optics for use in a disk drive position measurement system |
JP3641316B2 (ja) * | 1995-05-08 | 2005-04-20 | 松下電器産業株式会社 | 光学式エンコーダ |
DE19652562C2 (de) * | 1996-12-17 | 1999-07-22 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Positionsmeßeinrichtung |
EP1056989B1 (de) | 1998-02-21 | 2002-12-18 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Verfahren zum betrieb eines positionsmesssystems und geeignetes positionsmesssystem hierzu |
DE19908328A1 (de) | 1999-02-26 | 2000-08-31 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Optische Positionsmeßeinrichtung |
DE19956912A1 (de) * | 1999-11-26 | 2001-08-09 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Winkelmeßsystem und Winkelmeßverfahren zur berührungslosen Winkelmessung |
US6543149B1 (en) * | 1999-12-02 | 2003-04-08 | The Regents Of The University Of California | Coordinate measuring system |
US6577401B1 (en) * | 2000-09-14 | 2003-06-10 | Citizen Watch Co., Ltd. | Encoder displacement measuring apparatus with liquid crystal |
US7019842B2 (en) * | 2000-09-14 | 2006-03-28 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Position measuring device |
DE10151216A1 (de) * | 2001-10-16 | 2003-04-24 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Verfahren zur optischen Erfassung von charakteristischen Größen einer beleuchteten Probe |
DE10202120A1 (de) * | 2002-01-21 | 2003-07-31 | Scinex Ag Zug | Interferometrische optische Anordnung |
US20030174343A1 (en) * | 2002-03-18 | 2003-09-18 | Mitutoyo Corporation | Optical displacement sensing device with reduced sensitivity to misalignment |
GB0404829D0 (en) * | 2004-03-04 | 2004-04-07 | Renishaw Plc | Optical readhead |
US20050259274A1 (en) * | 2004-05-24 | 2005-11-24 | Kuo-Chin Chuang | Method and apparatus for measuring displacement |
DE102005025385B4 (de) * | 2005-04-20 | 2007-03-22 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Vakuumbeschichtungsanlage zur Beschichtung flächiger Substrate mit einer Messeinrichtung zur Transmissions- oder/und Reflexionsmessung |
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Family Cites Families (10)
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---|---|---|---|---|
US3726595A (en) * | 1970-01-07 | 1973-04-10 | Canon Kk | Method for optical detection and/or measurement of movement of a diffraction grating |
US3738753A (en) * | 1970-09-21 | 1973-06-12 | Holograf Corp | Interferometer utilizing gratings to measure motion |
JPS58191907A (ja) * | 1982-05-04 | 1983-11-09 | Canon Inc | 移動量測定方法 |
JPS5945506U (ja) * | 1982-09-20 | 1984-03-26 | ソニ−マグネスケ−ル株式会社 | 光学式測長スケ−ル |
US4629886A (en) * | 1983-03-23 | 1986-12-16 | Yokogawa Hokushin Electric Corporation | High resolution digital diffraction grating scale encoder |
GB8413955D0 (en) * | 1984-05-31 | 1984-07-04 | Pa Consulting Services | Displacement measuring apparatus |
DE3700906C2 (de) * | 1986-01-14 | 1995-09-28 | Canon Kk | Verschlüßler |
DE3633574A1 (de) * | 1986-10-02 | 1988-04-14 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Lichtelektrische winkelmesseinrichtung |
DE3807011C1 (ja) * | 1988-03-04 | 1989-04-27 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut, De | |
JP2586120B2 (ja) * | 1988-09-22 | 1997-02-26 | キヤノン株式会社 | エンコーダー |
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