JPH08196857A - ガス清浄化方法 - Google Patents
ガス清浄化方法Info
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- JPH08196857A JPH08196857A JP7008513A JP851395A JPH08196857A JP H08196857 A JPH08196857 A JP H08196857A JP 7008513 A JP7008513 A JP 7008513A JP 851395 A JP851395 A JP 851395A JP H08196857 A JPH08196857 A JP H08196857A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Treatment Of Biological Wastes In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 浄化槽７にガスを通気して得られる汚染ガス
と、入側８からの外気とを混合する。該混合ガスを送風
機構３により、一部を弁５ａから脱臭機構６を通過させ
た後に出側９より大気中に放出する。また同じく送風機
構３により、上記混合ガスの残りを弁５ｂから前記浄化
槽７へ導き、通気用ガスとして使用する。 【効果】 脱臭機構６及び浄化槽７に対する送風機構６
が１つで共有できるから、ガス清浄化装置がコンパクト
になる。
と、入側８からの外気とを混合する。該混合ガスを送風
機構３により、一部を弁５ａから脱臭機構６を通過させ
た後に出側９より大気中に放出する。また同じく送風機
構３により、上記混合ガスの残りを弁５ｂから前記浄化
槽７へ導き、通気用ガスとして使用する。 【効果】 脱臭機構６及び浄化槽７に対する送風機構６
が１つで共有できるから、ガス清浄化装置がコンパクト
になる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、有害成分や臭気成分を
含む汚染ガス等を清浄化する為のガス清浄化方法に関す
るものである。
含む汚染ガス等を清浄化する為のガス清浄化方法に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より化学工場，汚水処理場，焼却処
理場等から排出される汚染ガスを清浄化する手段として
ガス清浄化装置が用いられている。処理されるべき主な
有害ガス成分や臭気成分としては、硫化水素，メチルメ
ルカプタン，硫化メチル，二硫化メチル，トリメチルア
ミン，アセトアルデヒド，アンモニア等が挙げられる。
理場等から排出される汚染ガスを清浄化する手段として
ガス清浄化装置が用いられている。処理されるべき主な
有害ガス成分や臭気成分としては、硫化水素，メチルメ
ルカプタン，硫化メチル，二硫化メチル，トリメチルア
ミン，アセトアルデヒド，アンモニア等が挙げられる。
【０００３】図４は従来のガス清浄化装置を示す模式図
である。ガス清浄化装置の入側８から外気が導入され、
送風機構７３によって浄化槽７７へと導かれる。この浄
化槽７７で発生した汚染ガスは送風機８３によって吸入
され、ヒーター７２により加熱されて露点が高められ
る。こうして脱臭機構（化学的脱臭機構及び／または吸
着脱臭機構）７６に吸入された汚染ガスは、オゾン発生
機７５からのオゾンと触媒７４の作用によって清浄化さ
れ、出側９から大気中へ放出される。この様に従来のガ
ス清浄化装置では、浄化槽７７に送風するための送風機
構７３と、脱臭機構７６へ送風するための送風機構８３
の２つの送風機構を用いている。
である。ガス清浄化装置の入側８から外気が導入され、
送風機構７３によって浄化槽７７へと導かれる。この浄
化槽７７で発生した汚染ガスは送風機８３によって吸入
され、ヒーター７２により加熱されて露点が高められ
る。こうして脱臭機構（化学的脱臭機構及び／または吸
着脱臭機構）７６に吸入された汚染ガスは、オゾン発生
機７５からのオゾンと触媒７４の作用によって清浄化さ
れ、出側９から大気中へ放出される。この様に従来のガ
ス清浄化装置では、浄化槽７７に送風するための送風機
構７３と、脱臭機構７６へ送風するための送風機構８３
の２つの送風機構を用いている。
【０００４】また、浄化槽７７を経た後にヒーター７２
が設けられている。ヒーターを用いていない場合では、
浄化槽７７からの高湿度の汚染ガスが、そのまま送風機
構８３や脱臭機構７６に導入され、高湿度の為にガス通
路内で露が付着して装置各部に腐食が生じたり、触媒７
４が早期に劣化するという問題が発生する。従って前記
ヒーター７２の加熱によって露点を上げ、損傷を低減す
る様にしている。
が設けられている。ヒーターを用いていない場合では、
浄化槽７７からの高湿度の汚染ガスが、そのまま送風機
構８３や脱臭機構７６に導入され、高湿度の為にガス通
路内で露が付着して装置各部に腐食が生じたり、触媒７
４が早期に劣化するという問題が発生する。従って前記
ヒーター７２の加熱によって露点を上げ、損傷を低減す
る様にしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来のガス清浄化装置
は以上の様に構成されているが、装置が大がかりで設置
スペースが大きいという問題があった。そこで本発明は
コンパクトでありながらも清浄化効率の良いガス清浄化
装置を提供することを目的とする。
は以上の様に構成されているが、装置が大がかりで設置
スペースが大きいという問題があった。そこで本発明は
コンパクトでありながらも清浄化効率の良いガス清浄化
装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係るガス清浄化
方法は、浄化槽にガスを通気して得られる汚染ガスに外
気を混合し、該混合ガスを送風機構により、一部を脱臭
機構を通過させた後に大気中に放出し、残りを前記浄化
槽への通気用ガスとして使用することを要旨とする。
方法は、浄化槽にガスを通気して得られる汚染ガスに外
気を混合し、該混合ガスを送風機構により、一部を脱臭
機構を通過させた後に大気中に放出し、残りを前記浄化
槽への通気用ガスとして使用することを要旨とする。
【０００７】或いは本発明に係るガス清浄化方法は、浄
化槽にガスを通気して得られる汚染ガスに外気を混合
し、該混合ガスを送風機構により、脱臭機構を通過させ
た後、一部を大気中に放出し、残りを前記清浄化槽への
通気用のガスとして使用することを要旨とする。
化槽にガスを通気して得られる汚染ガスに外気を混合
し、該混合ガスを送風機構により、脱臭機構を通過させ
た後、一部を大気中に放出し、残りを前記清浄化槽への
通気用のガスとして使用することを要旨とする。
【０００８】また、前記送風機構はガスの流れに対して
前記脱臭機構の前方または後方に設置すると良い。また
前記汚染ガスと前記外気との混合比率は、汚染ガス：外
気＝１００：１０〜１００であるのが好ましい。
前記脱臭機構の前方または後方に設置すると良い。また
前記汚染ガスと前記外気との混合比率は、汚染ガス：外
気＝１００：１０〜１００であるのが好ましい。
【０００９】
【作用】本発明者らはガス清浄化装置をコンパクトにす
る為に、従来浄化槽と脱臭機構に対して別個に設けてい
た送風機構を１つで共用することを思い立ち、その方法
として、送風機構の出側から入側に戻る循環ラインを備
え、該循環ラインに浄化槽を設け、１つの送風機構で浄
化槽と脱臭機構の両方へガスを導くこととした。この様
な方法を採用した装置とすることで、従来２つ必要であ
った送風機構が１つで良くなり、ガス清浄化装置の設置
スペースが小さくなる。
る為に、従来浄化槽と脱臭機構に対して別個に設けてい
た送風機構を１つで共用することを思い立ち、その方法
として、送風機構の出側から入側に戻る循環ラインを備
え、該循環ラインに浄化槽を設け、１つの送風機構で浄
化槽と脱臭機構の両方へガスを導くこととした。この様
な方法を採用した装置とすることで、従来２つ必要であ
った送風機構が１つで良くなり、ガス清浄化装置の設置
スペースが小さくなる。
【００１０】また浄化槽を経た後の高湿度のガスを、外
気と混合している為、湿度が下がって露を発生しないか
ら、装置の腐食や触媒の早期劣化が抑制される。従って
ヒーターを設置する必要がなくなる。
気と混合している為、湿度が下がって露を発生しないか
ら、装置の腐食や触媒の早期劣化が抑制される。従って
ヒーターを設置する必要がなくなる。
【００１１】
【実施例】以下本発明を実施例に基づいて詳述する。 ＜実施例１＞図１は本発明の実施例１に係るガス清浄化
装置を表す模式図である。外気が導入される入側８は弁
１ａを介してタンク２へ続き、更に送風機構３に続いて
いる。送風機構３の下流側にはタンク４及び弁５ａを経
て脱臭機構６が設けられ、出側９へと続いており、また
該送風機構３の下流側には上記タンク４を介して分岐さ
れ、弁５ｂを経て浄化槽７が設けられている。該浄化槽
７の下流側は弁１ｂを介してタンク２に合流されて再び
上記送風機構３へと続き、ここに循環ラインを形成して
いる。尚、脱臭機構６は触媒部１０とオゾン発生機１１
からなっている。
装置を表す模式図である。外気が導入される入側８は弁
１ａを介してタンク２へ続き、更に送風機構３に続いて
いる。送風機構３の下流側にはタンク４及び弁５ａを経
て脱臭機構６が設けられ、出側９へと続いており、また
該送風機構３の下流側には上記タンク４を介して分岐さ
れ、弁５ｂを経て浄化槽７が設けられている。該浄化槽
７の下流側は弁１ｂを介してタンク２に合流されて再び
上記送風機構３へと続き、ここに循環ラインを形成して
いる。尚、脱臭機構６は触媒部１０とオゾン発生機１１
からなっている。
【００１２】実際のガス清浄化装置の例としては、浄化
槽７に曝気型のものを用い、オゾン発生機１１に回転電
極型ターボ式オゾン発生機、送風機構３にロータリ式ブ
ロワー、触媒部１０の触媒にチタン及びケイ素を用い、
触媒のＳＶ（Space Velocity: 空間速度）値を１０００
０Hr-1、浄化槽７を経た汚染ガスと外気の混合比を１：
１、出側９への吐出圧力を３０mmAq、浄化槽７への吐出
圧力を１８００mmAqで行うもの等が挙げられる。
槽７に曝気型のものを用い、オゾン発生機１１に回転電
極型ターボ式オゾン発生機、送風機構３にロータリ式ブ
ロワー、触媒部１０の触媒にチタン及びケイ素を用い、
触媒のＳＶ（Space Velocity: 空間速度）値を１０００
０Hr-1、浄化槽７を経た汚染ガスと外気の混合比を１：
１、出側９への吐出圧力を３０mmAq、浄化槽７への吐出
圧力を１８００mmAqで行うもの等が挙げられる。
【００１３】次に動作について説明する。外気は、上記
送風機構３が作動することによって入側８から弁１ａを
経由してタンク２へ吸入される。またタンク２へは、浄
化槽７からの汚染ガスが弁１ｂを経由して導入される。
タンク２内には邪魔板が設けられ、上記外気と上記汚染
ガスが混合される（本明細書において、これを混合ガス
と称す）。該混合ガスは送風機構３の作動によって更に
タンク４へと導かれ、該タンク４で圧力調節を受け、弁
５ａ側と弁５ｂ側に分かれて吐出される。弁５ｂ側へ吐
出された混合ガスは浄化槽７に導かれ、該浄化槽７にお
ける通気用のガスになる。該通気用ガスは浄化槽７にお
いて汚染ガスとなり、上述の様に、弁１ｂを経由してタ
ンク２へ導入される。一方、弁５ａ側へ吐出された混合
ガスは脱臭機構６へ導入されて脱臭処理が施され、清浄
化済みのガスとして出側９より大気中へ吐出される。
尚、脱臭機構６では、導入された混合ガスがオゾンと混
合され、触媒と接触して化学的脱臭を施される。
送風機構３が作動することによって入側８から弁１ａを
経由してタンク２へ吸入される。またタンク２へは、浄
化槽７からの汚染ガスが弁１ｂを経由して導入される。
タンク２内には邪魔板が設けられ、上記外気と上記汚染
ガスが混合される（本明細書において、これを混合ガス
と称す）。該混合ガスは送風機構３の作動によって更に
タンク４へと導かれ、該タンク４で圧力調節を受け、弁
５ａ側と弁５ｂ側に分かれて吐出される。弁５ｂ側へ吐
出された混合ガスは浄化槽７に導かれ、該浄化槽７にお
ける通気用のガスになる。該通気用ガスは浄化槽７にお
いて汚染ガスとなり、上述の様に、弁１ｂを経由してタ
ンク２へ導入される。一方、弁５ａ側へ吐出された混合
ガスは脱臭機構６へ導入されて脱臭処理が施され、清浄
化済みのガスとして出側９より大気中へ吐出される。
尚、脱臭機構６では、導入された混合ガスがオゾンと混
合され、触媒と接触して化学的脱臭を施される。
【００１４】各弁１ａ，１ｂ，５ａ，５ｂはそれぞれ通
過するガスの流量を調節する。弁１ａ，１ｂにおけるガ
ス流量の比率は、汚染ガス：外気＝１００：１〜１００
であり、タンク２ではこの割合で混合される。好ましく
は汚染ガス：外気＝１００：１０〜１００である。
過するガスの流量を調節する。弁１ａ，１ｂにおけるガ
ス流量の比率は、汚染ガス：外気＝１００：１〜１００
であり、タンク２ではこの割合で混合される。好ましく
は汚染ガス：外気＝１００：１０〜１００である。
【００１５】浄化槽７の出側の汚染ガスの相対湿度は３
０〜１００％であり、入側８の外気の相対湿度は３０〜
９０％である。浄化槽７における気液接触により汚染ガ
スの相対湿度は１００％となることがあり、このままで
は装置を腐食し、また触媒を早期に劣化させるが、入側
８からの外気と混合されることによって相対湿度が低下
し、例えば相対湿度が９５％以下になることで、上記の
様な装置腐食，触媒早期劣化の心配が少なくなる。従っ
て従来では湿度１００％の汚染ガスの露点を上げる為に
ヒーターを必要としたが、これを不要とすることができ
る。
０〜１００％であり、入側８の外気の相対湿度は３０〜
９０％である。浄化槽７における気液接触により汚染ガ
スの相対湿度は１００％となることがあり、このままで
は装置を腐食し、また触媒を早期に劣化させるが、入側
８からの外気と混合されることによって相対湿度が低下
し、例えば相対湿度が９５％以下になることで、上記の
様な装置腐食，触媒早期劣化の心配が少なくなる。従っ
て従来では湿度１００％の汚染ガスの露点を上げる為に
ヒーターを必要としたが、これを不要とすることができ
る。
【００１６】加えて、この様に汚染ガスと外気の混合に
より、湿度が低くなり、触媒の劣化が押さえられるか
ら、触媒の寿命が長くなる。例えば従来の様に浄化槽か
らの汚染ガスのみの時の触媒寿命に対し、本実施例にお
ける汚染ガス：外気＝１００：１００では２倍に、汚染
ガス：外気＝１００：１０では１０倍に触媒寿命が延び
る。
より、湿度が低くなり、触媒の劣化が押さえられるか
ら、触媒の寿命が長くなる。例えば従来の様に浄化槽か
らの汚染ガスのみの時の触媒寿命に対し、本実施例にお
ける汚染ガス：外気＝１００：１００では２倍に、汚染
ガス：外気＝１００：１０では１０倍に触媒寿命が延び
る。
【００１７】また、汚染ガスが外気と混合されているこ
とにより脱臭機構６を通過するガスの汚染濃度が低いも
のとなるから、触媒への負荷が少なくなり、即ち被毒を
最小限にすることができ、従って触媒の寿命を長くする
ことができる。
とにより脱臭機構６を通過するガスの汚染濃度が低いも
のとなるから、触媒への負荷が少なくなり、即ち被毒を
最小限にすることができ、従って触媒の寿命を長くする
ことができる。
【００１８】各ガスの温度については、装置への損傷を
押さえるという観点から、入側８の温度は５０℃以下が
好ましく、また同じく装置への損傷を押さえる観点及び
浄化槽７での浄化効率を高く保つ観点から、浄化槽７の
入側のガス温度は５０℃以下が好ましい。ＳＶ値は２０
００〜２０００００Ｈｒ-1が推奨され、弁５ａ，５ｂに
よってガス流量が調整される。
押さえるという観点から、入側８の温度は５０℃以下が
好ましく、また同じく装置への損傷を押さえる観点及び
浄化槽７での浄化効率を高く保つ観点から、浄化槽７の
入側のガス温度は５０℃以下が好ましい。ＳＶ値は２０
００〜２０００００Ｈｒ-1が推奨され、弁５ａ，５ｂに
よってガス流量が調整される。
【００１９】出側９に吐出される圧力は通常１０〜２０
０mmAqであり、弁５ｂから吐出される圧力は通常５００
〜２０００mmAqである。曝気型の浄化槽７の場合はこの
様に高い背圧が必要であるが、それに対し脱臭機構６に
吐出される背圧は小さいものでよいから、送風機構に負
担を強いることなく共有することができる。
０mmAqであり、弁５ｂから吐出される圧力は通常５００
〜２０００mmAqである。曝気型の浄化槽７の場合はこの
様に高い背圧が必要であるが、それに対し脱臭機構６に
吐出される背圧は小さいものでよいから、送風機構に負
担を強いることなく共有することができる。
【００２０】この様に浄化槽７を循環ラインとすること
により、１つの送風機構３で浄化槽７と脱臭機構６の両
方のガス導入を行うことができる様になった。従って従
来浄化槽用と脱臭機構用に２つ送風機構が必要であった
が、１つで共有でき、ガス清浄化装置全体をコンパクト
なものにできる。
により、１つの送風機構３で浄化槽７と脱臭機構６の両
方のガス導入を行うことができる様になった。従って従
来浄化槽用と脱臭機構用に２つ送風機構が必要であった
が、１つで共有でき、ガス清浄化装置全体をコンパクト
なものにできる。
【００２１】触媒部１０の触媒としては、通常の悪臭処
理用の触媒を使用することができ、例えばアルミナ，シ
リカ−アルミナ，ジルコニア，チタン，ケイソウ土，シ
リカ−チタニア，シリカ−ジルコニア，チタニア−ジル
コニア等の担体にＭｎ，Ａｇ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｚｎ，Ｎ
ｉ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｈ等の酸化物または金属を担持した
ものが挙げられる。なお触媒部１０はカセット方式と
し、触媒が劣化した際に取り替えるようにすると良い。
理用の触媒を使用することができ、例えばアルミナ，シ
リカ−アルミナ，ジルコニア，チタン，ケイソウ土，シ
リカ−チタニア，シリカ−ジルコニア，チタニア−ジル
コニア等の担体にＭｎ，Ａｇ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｚｎ，Ｎ
ｉ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｈ等の酸化物または金属を担持した
ものが挙げられる。なお触媒部１０はカセット方式と
し、触媒が劣化した際に取り替えるようにすると良い。
【００２２】尚脱臭機構としては、前述の様な触媒式の
化学的脱臭機構の他に、活性炭等による吸着を利用した
吸着脱臭機構のものを用いても良い。オゾン発生機１１
としては、回転電極型ターボ式，回転電極型ファン式，
または固定電極ガラス管放電式のオゾン発生機等が用い
られる。
化学的脱臭機構の他に、活性炭等による吸着を利用した
吸着脱臭機構のものを用いても良い。オゾン発生機１１
としては、回転電極型ターボ式，回転電極型ファン式，
または固定電極ガラス管放電式のオゾン発生機等が用い
られる。
【００２３】送風機構３としては、電磁式ブロワー，ロ
ータリー式ブロワー，渦流式送風機（例えばリングブロ
ー），多段ブロワー，遠心送風機，軸流送風機等が用い
られる。
ータリー式ブロワー，渦流式送風機（例えばリングブロ
ー），多段ブロワー，遠心送風機，軸流送風機等が用い
られる。
【００２４】浄化槽は、通常浄化槽として使用されるも
のであれば、いずれでも良い。尚、浄化槽には活性汚泥
等の好気性菌等を用いることが多く、曝気型が好まし
い。実施例１では、浄化槽７として曝気型のものを挙げ
たが、通過用ガスをシャワー中に通す様にしたもの等で
あっても良い。
のであれば、いずれでも良い。尚、浄化槽には活性汚泥
等の好気性菌等を用いることが多く、曝気型が好まし
い。実施例１では、浄化槽７として曝気型のものを挙げ
たが、通過用ガスをシャワー中に通す様にしたもの等で
あっても良い。
【００２５】尚図２に示す様に、脱臭機構６としては、
オゾンを用いずに触媒部１０の触媒作用のみで脱臭を行
う様にしても良い。また、上記実施例１ではタンク２，
４を設けたが、これらを設けなくても良く、また弁１
ａ，１ｂ，５ａ，５ｂを設けなくても良い。ノズル径に
よって適正流量を固定したガス清浄化装置の場合はタン
ク及び弁共に設けなくても良い。
オゾンを用いずに触媒部１０の触媒作用のみで脱臭を行
う様にしても良い。また、上記実施例１ではタンク２，
４を設けたが、これらを設けなくても良く、また弁１
ａ，１ｂ，５ａ，５ｂを設けなくても良い。ノズル径に
よって適正流量を固定したガス清浄化装置の場合はタン
ク及び弁共に設けなくても良い。
【００２６】下記表１は本実施例１と従来例の消費電力
を示したもので、処理風量１０，２００，６００m3/ 時
の規模のガス清浄化装置について、夫々実験したもので
ある。尚、背圧を大きく必要とする場合は１つの送風機
構に２台の送風機を用いた。表１の曝気用送風機は図４
に示す送風機構７３に相当し、また脱臭機構用送風機は
図４に示す送風機構８３に相当し、表１の実施例の場合
は送風機構３についての消費電力である。
を示したもので、処理風量１０，２００，６００m3/ 時
の規模のガス清浄化装置について、夫々実験したもので
ある。尚、背圧を大きく必要とする場合は１つの送風機
構に２台の送風機を用いた。表１の曝気用送風機は図４
に示す送風機構７３に相当し、また脱臭機構用送風機は
図４に示す送風機構８３に相当し、表１の実施例の場合
は送風機構３についての消費電力である。
【００２７】
【表１】
【００２８】上記表１から分かる様に、ガスの混合比が
汚染ガス：外気＝１０：１の場合はガス清浄化装置の消
費電力の低減が図れる。消費電力の低減は装置が大規模
になるほど効果が上がる。また入側８からの外気量を減
らすほど消費電力の低減が見込まれる。
汚染ガス：外気＝１０：１の場合はガス清浄化装置の消
費電力の低減が図れる。消費電力の低減は装置が大規模
になるほど効果が上がる。また入側８からの外気量を減
らすほど消費電力の低減が見込まれる。
【００２９】＜実施例２＞図３は本発明の実施例２に係
るガス清浄化装置を表す模式図である。実施例２は実施
例１と異なり、送風機構３の上流側に脱臭機構１６が設
けられており、送風機構３の下流側はタンク４を介して
分岐され、弁５ａを経て出側９へ続いている。また上記
実施例１と同様に、上記タンク４を介して分岐された他
方の経路は弁５ｂを経て浄化槽７へ続き、その下流側は
弁１ｂを介してタンク２で合流し上記脱臭機構１６へ続
き、更に上記送風機構３へと続いて、循環ラインを形成
している。また外気が導入される入側８は弁１ａを介し
て上記タンク２に合流している。尚、上記実施例１と同
様に、脱臭機構１６は触媒部とオゾン発生機からなるも
の、或いは触媒部のみのもの等である。
るガス清浄化装置を表す模式図である。実施例２は実施
例１と異なり、送風機構３の上流側に脱臭機構１６が設
けられており、送風機構３の下流側はタンク４を介して
分岐され、弁５ａを経て出側９へ続いている。また上記
実施例１と同様に、上記タンク４を介して分岐された他
方の経路は弁５ｂを経て浄化槽７へ続き、その下流側は
弁１ｂを介してタンク２で合流し上記脱臭機構１６へ続
き、更に上記送風機構３へと続いて、循環ラインを形成
している。また外気が導入される入側８は弁１ａを介し
て上記タンク２に合流している。尚、上記実施例１と同
様に、脱臭機構１６は触媒部とオゾン発生機からなるも
の、或いは触媒部のみのもの等である。
【００３０】本実施例２においても上記実施例１と同様
に、浄化槽７及び脱臭機構１６に対する送風機構を１つ
で共有することができ、ガス清浄化装置をコンパクトに
することができる。加えて汚染ガスと外気が混合されて
いるので、湿度を低くすることができ、臭気成分等の凝
縮による送風機構の腐食の防止、触媒の早期劣化の防止
が図られる。
に、浄化槽７及び脱臭機構１６に対する送風機構を１つ
で共有することができ、ガス清浄化装置をコンパクトに
することができる。加えて汚染ガスと外気が混合されて
いるので、湿度を低くすることができ、臭気成分等の凝
縮による送風機構の腐食の防止、触媒の早期劣化の防止
が図られる。
【００３１】更に本実施例２の様に、送風機構３より上
流側（前方）に脱臭機構１６を設置したものの場合は、
脱臭機構を経ているから、臭気成分や有害ガス成分が直
接送風機構に流れず、より一層送風機構の腐食防止に良
い。
流側（前方）に脱臭機構１６を設置したものの場合は、
脱臭機構を経ているから、臭気成分や有害ガス成分が直
接送風機構に流れず、より一層送風機構の腐食防止に良
い。
【００３２】尚、実施例１が比較的大型のガス清浄化装
置に有効であるのに対し、本実施例２は比較的小型のガ
ス清浄化装置に有効である。尚、弁５ａの下流に更に脱
臭機構を設けるようにしても良く、そうすることでガス
が一層清浄化される。
置に有効であるのに対し、本実施例２は比較的小型のガ
ス清浄化装置に有効である。尚、弁５ａの下流に更に脱
臭機構を設けるようにしても良く、そうすることでガス
が一層清浄化される。
【００３３】また、上記実施例２においてタンク２，４
を設けたが、これらを設けなくても良く、この場合は脱
臭機構１６の入側に分散板や整流格子を設け、ガスを混
合するようにすると良い。尚実施例１の様に送風機構の
下流側に脱臭機構を設ける場合は、送風機構の撹拌作用
によってガスが十分に混合されるので、上記分散板や整
流格子を設けなくても良い。
を設けたが、これらを設けなくても良く、この場合は脱
臭機構１６の入側に分散板や整流格子を設け、ガスを混
合するようにすると良い。尚実施例１の様に送風機構の
下流側に脱臭機構を設ける場合は、送風機構の撹拌作用
によってガスが十分に混合されるので、上記分散板や整
流格子を設けなくても良い。
【００３４】また本実施例２の場合も弁１ａ，１ｂ，５
ａ，５ｂを設けなくても良い。ノズル径によって適正流
量を固定したガス清浄化装置の場合はタンク及び弁共に
設けなくても良い。
ａ，５ｂを設けなくても良い。ノズル径によって適正流
量を固定したガス清浄化装置の場合はタンク及び弁共に
設けなくても良い。
【００３５】また、本実施例１，２ではヒーターを不要
としたが、露による損傷を一層低減する為に、脱臭機構
６，１６の入側にヒーターを設け、ガスを加熱して露点
を上げる様にしても良い。尚、実施例１または実施例２
のいずれの装置を用いるかは、汚染ガスの濃度，ＳＶ
値，および触媒組成により適宜選択し得るものである。
としたが、露による損傷を一層低減する為に、脱臭機構
６，１６の入側にヒーターを設け、ガスを加熱して露点
を上げる様にしても良い。尚、実施例１または実施例２
のいずれの装置を用いるかは、汚染ガスの濃度，ＳＶ
値，および触媒組成により適宜選択し得るものである。
【００３６】
【発明の効果】浄化槽と脱臭機構へのガスの導入を、一
つの送風機構で行う様にしたから、ガス清浄化装置全体
をコンパクトにできる。加えて汚染ガスを外気と混合し
ているから、湿度が低減して、装置の腐食の恐れが低く
なり、また触媒寿命が長くなる。また汚染ガスへ外気を
少なく混合した場合は電力消費量が低減でき、この電力
消費量の低減は、規模の大きいガス清浄化装置であるほ
ど効果が高い。
つの送風機構で行う様にしたから、ガス清浄化装置全体
をコンパクトにできる。加えて汚染ガスを外気と混合し
ているから、湿度が低減して、装置の腐食の恐れが低く
なり、また触媒寿命が長くなる。また汚染ガスへ外気を
少なく混合した場合は電力消費量が低減でき、この電力
消費量の低減は、規模の大きいガス清浄化装置であるほ
ど効果が高い。
【図１】本発明の実施例１に係るガス清浄化装置を示す
模式図。
模式図。
【図２】本発明の実施例１の変形例を示すガス清浄化装
置の模式図。
置の模式図。
【図３】本発明の実施例２に係るガス清浄化装置を示す
図。
図。
【図４】従来のガス清浄化装置を示す図。
１ａ，１ｂ，５ａ，５ｂ 弁 ２，４ タンク ３ 送風機構 ６，１６ 脱臭機構 ７ 浄化槽 ８ 入側 ９ 出側 １０ 触媒部 １１ オゾン発生機
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０２Ｆ 3/00 Ａ
Claims (4)
- 【請求項１】 浄化槽にガスを通気して得られる汚染ガ
スに、外気を混合し、該混合ガスを送風機構により、一
部を脱臭機構を通過させた後に大気中へ放出し、残りを
前記浄化槽への通気用ガスとして使用することを特徴と
するガス清浄化方法。 - 【請求項２】 浄化槽にガスを通気して得られる汚染ガ
スに、外気を混合し、該混合ガスを送風機構により、脱
臭機構を通過させた後、一部を大気中へ放出し、残りを
前記浄化槽への通気用ガスとして使用することを特徴と
するガス清浄化方法。 - 【請求項３】 前記送風機構がガスの流れに対して前記
脱臭機構の前方または後方に設置してなる請求項１また
は２に記載のガス清浄化方法。 - 【請求項４】 前記汚染ガスと前記外気との混合比率
が、汚染ガス：外気＝１００：１０〜１００である請求
項１〜３のいずれかに記載のガス清浄化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7008513A JPH08196857A (ja) | 1995-01-23 | 1995-01-23 | ガス清浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7008513A JPH08196857A (ja) | 1995-01-23 | 1995-01-23 | ガス清浄化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08196857A true JPH08196857A (ja) | 1996-08-06 |
Family
ID=11695220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7008513A Pending JPH08196857A (ja) | 1995-01-23 | 1995-01-23 | ガス清浄化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08196857A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009183898A (ja) * | 2008-02-07 | 2009-08-20 | Kajima Corp | 臭気ガス処理装置および臭気ガス処理方法 |
| JP2013022498A (ja) * | 2011-07-20 | 2013-02-04 | Ube Industries Ltd | 硫化水素の除害方法 |
| JP2019103796A (ja) * | 2017-12-13 | 2019-06-27 | 株式会社フジコー | 浄化槽用脱臭装置及び浄化槽の脱臭方法 |
| CN115340273A (zh) * | 2022-09-16 | 2022-11-15 | 重庆市荣冠科技有限公司 | 一种化粪池除臭装置 |
-
1995
- 1995-01-23 JP JP7008513A patent/JPH08196857A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009183898A (ja) * | 2008-02-07 | 2009-08-20 | Kajima Corp | 臭気ガス処理装置および臭気ガス処理方法 |
| JP2013022498A (ja) * | 2011-07-20 | 2013-02-04 | Ube Industries Ltd | 硫化水素の除害方法 |
| JP2019103796A (ja) * | 2017-12-13 | 2019-06-27 | 株式会社フジコー | 浄化槽用脱臭装置及び浄化槽の脱臭方法 |
| CN115340273A (zh) * | 2022-09-16 | 2022-11-15 | 重庆市荣冠科技有限公司 | 一种化粪池除臭装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040427 |