JPH08188424A - ガラス成形用金型及びその製造方法 - Google Patents
ガラス成形用金型及びその製造方法Info
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- JPH08188424A JPH08188424A JP274395A JP274395A JPH08188424A JP H08188424 A JPH08188424 A JP H08188424A JP 274395 A JP274395 A JP 274395A JP 274395 A JP274395 A JP 274395A JP H08188424 A JPH08188424 A JP H08188424A
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- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】離型性、高温強度に優れガラス表面に欠点を生
じにくい金型を得る。 【構成】ＳＵＳ４２０Ｊ２基体の表面に塩化ニッケル浴
により５μｍのニッケル層を析出させ、硫酸ニッケル、
タングステン酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムを主成
分とする水溶液に平均粒径０．０５μｍの窒化ホウ素を
分散したメッキ液により窒化ホウ素１０重量％を含むニ
ッケル−タングステン合金（６８重量％、３２重量％）
の分散メッキ被膜を得た。
じにくい金型を得る。 【構成】ＳＵＳ４２０Ｊ２基体の表面に塩化ニッケル浴
により５μｍのニッケル層を析出させ、硫酸ニッケル、
タングステン酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムを主成
分とする水溶液に平均粒径０．０５μｍの窒化ホウ素を
分散したメッキ液により窒化ホウ素１０重量％を含むニ
ッケル−タングステン合金（６８重量％、３２重量％）
の分散メッキ被膜を得た。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガラス成形用金型及びそ
の製造方法に係り、特にテレビ、ＣＲＴ等に用いられる
ブラウン管用パネル、ファンネル等ガラス製品の成形用
金型及びその製造方法に関する。
の製造方法に係り、特にテレビ、ＣＲＴ等に用いられる
ブラウン管用パネル、ファンネル等ガラス製品の成形用
金型及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】テレビのブラウン管は前面のパネルとじ
ょうご型のファンネル及びネックを別々に作り、パネル
内面への蛍光体塗布、シャドウマスクの取り付け、電子
銃用電極の取り付け等を行った後、パネル、ファンネル
及びネックを結合して製造される。
ょうご型のファンネル及びネックを別々に作り、パネル
内面への蛍光体塗布、シャドウマスクの取り付け、電子
銃用電極の取り付け等を行った後、パネル、ファンネル
及びネックを結合して製造される。
【０００３】ところで、パネルの内面性状についてはき
わめて厳しい品質管理が要求される。パネルの成形は溶
融した１０００℃程度の高温にあるガラスに金属製金型
（プランジャー）を押しつけることによってなされる。
前記金型は、機械的強度、耐熱性、高温のガラスに対し
て化学的に安定であることなどの特性が求められる。こ
のような目的に適う成形用金型として、従来よりステン
レス合金上にクロムメッキやニッケル−タングステン合
金メッキを施したものが用いられてきた。
わめて厳しい品質管理が要求される。パネルの成形は溶
融した１０００℃程度の高温にあるガラスに金属製金型
（プランジャー）を押しつけることによってなされる。
前記金型は、機械的強度、耐熱性、高温のガラスに対し
て化学的に安定であることなどの特性が求められる。こ
のような目的に適う成形用金型として、従来よりステン
レス合金上にクロムメッキやニッケル−タングステン合
金メッキを施したものが用いられてきた。
【０００４】メッキ被膜は使用に伴い劣化するため、被
膜を剥離しては新たにメッキをすることで金型基体をリ
サイクル使用する。しかし、金型用に適したクロムメッ
キはサージェント浴、混合触媒浴、高効率浴などで形成
され、いずれも毒性の高い６価クロムを含んでいる他、
成形時にガラス表面に傷が生じやすい、頻繁に離型剤を
塗布する必要がある、ハロゲンに対してきわめて弱いな
どの欠点がある。
膜を剥離しては新たにメッキをすることで金型基体をリ
サイクル使用する。しかし、金型用に適したクロムメッ
キはサージェント浴、混合触媒浴、高効率浴などで形成
され、いずれも毒性の高い６価クロムを含んでいる他、
成形時にガラス表面に傷が生じやすい、頻繁に離型剤を
塗布する必要がある、ハロゲンに対してきわめて弱いな
どの欠点がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】離型剤の塗布について
は、この作業が高度の熟練が必要である他、離型剤が金
型から剥離した場合には、パネル面に欠点を生ずる可能
性がある等の問題点があり、離型剤塗布の必要のない金
型の開発が望まれている。一方、近年開発されたニッケ
ルタングステンメッキ被膜は、パネル成形用金型の表面
被膜として用いた場合離型剤の塗布頻度が少なくて済む
が、クロム被膜に比較して被膜に含まれるタングステン
が酸化されやすく、また高温下での機械的強度が必ずし
も充分ではないためパネル面の不均一性を生じやすいと
いう欠点がある。
は、この作業が高度の熟練が必要である他、離型剤が金
型から剥離した場合には、パネル面に欠点を生ずる可能
性がある等の問題点があり、離型剤塗布の必要のない金
型の開発が望まれている。一方、近年開発されたニッケ
ルタングステンメッキ被膜は、パネル成形用金型の表面
被膜として用いた場合離型剤の塗布頻度が少なくて済む
が、クロム被膜に比較して被膜に含まれるタングステン
が酸化されやすく、また高温下での機械的強度が必ずし
も充分ではないためパネル面の不均一性を生じやすいと
いう欠点がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、離型剤の
使用頻度が低くガラス表面に傷が生じにくいガラス成形
用金型につき鋭意検討した結果、１種以上の鉄族元素を
含有する金属又は合金をマトリックスとし、下記（ａ）
群から選ばれる１種以上の化合物粒子を分散剤として前
記マトリックス中に含有させた分散メッキ被膜を、ステ
ンレス合金からなる基体の最表面に形成してなることを
特徴とするガラス成形用金型が、従来のニッケル−タン
グステン合金メッキ被膜より高温下での機械的強度に優
れ、離型性にも優れ、クロムメッキ被膜より金型寿命が
長くなることを見いだし、本発明を提供するに至った。
使用頻度が低くガラス表面に傷が生じにくいガラス成形
用金型につき鋭意検討した結果、１種以上の鉄族元素を
含有する金属又は合金をマトリックスとし、下記（ａ）
群から選ばれる１種以上の化合物粒子を分散剤として前
記マトリックス中に含有させた分散メッキ被膜を、ステ
ンレス合金からなる基体の最表面に形成してなることを
特徴とするガラス成形用金型が、従来のニッケル−タン
グステン合金メッキ被膜より高温下での機械的強度に優
れ、離型性にも優れ、クロムメッキ被膜より金型寿命が
長くなることを見いだし、本発明を提供するに至った。
【０００７】（ａ）酸化アルミニウム、酸化チタン、酸
化ジルコニウム、希土類元素の酸化物、窒化チタン、窒
化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、ホウ化チタ
ン、ホウ化ジルコニウム、炭化チタン、炭化タングステ
ン、炭化ジルコニウム、炭化タンタル、炭化ホウ素、炭
化ニオブ。
化ジルコニウム、希土類元素の酸化物、窒化チタン、窒
化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、ホウ化チタ
ン、ホウ化ジルコニウム、炭化チタン、炭化タングステ
ン、炭化ジルコニウム、炭化タンタル、炭化ホウ素、炭
化ニオブ。
【０００８】さらに本発明は、１種以上の鉄族元素を含
有する金属又は合金をマトリックスとし、上記（ａ）群
から選ばれる１種以上の化合物粒子を分散剤として前記
マトリックス中に含有させた分散メッキ浴を用いて、ス
テンレス合金からなる基体の最表面に分散メッキ被膜を
形成することを特徴とするガラス成形用金型の製造方法
を提供する。
有する金属又は合金をマトリックスとし、上記（ａ）群
から選ばれる１種以上の化合物粒子を分散剤として前記
マトリックス中に含有させた分散メッキ浴を用いて、ス
テンレス合金からなる基体の最表面に分散メッキ被膜を
形成することを特徴とするガラス成形用金型の製造方法
を提供する。
【０００９】以下、本発明の詳細について説明する。
【００１０】金型の最表面の分散メッキ被膜の形成法は
電気メッキ法、化学メッキ法が適用でき、とりわけ電気
メッキ法は比較的低コストであり好適である。
電気メッキ法、化学メッキ法が適用でき、とりわけ電気
メッキ法は比較的低コストであり好適である。
【００１１】被膜中のマトリックス元素としては、鉄、
コバルト、ニッケルの鉄族元素が好適であり、とりわけ
ニッケルを主成分とすることが耐酸化性、コストの点で
好ましい。また、クロム、モリブデン、タングステン等
の６族元素及び／又はレニウムをニッケルに添加する
と、耐酸化性の点でさらに好適である。
コバルト、ニッケルの鉄族元素が好適であり、とりわけ
ニッケルを主成分とすることが耐酸化性、コストの点で
好ましい。また、クロム、モリブデン、タングステン等
の６族元素及び／又はレニウムをニッケルに添加する
と、耐酸化性の点でさらに好適である。
【００１２】被膜の厚さは１μｍより薄いと高温による
酸化、機械的変形を受けやすくなり、５００μｍより厚
いと被膜形成に時間を要し、技術的、コスト的に有効な
範囲を超えるので、１〜５００μｍが好ましい。
酸化、機械的変形を受けやすくなり、５００μｍより厚
いと被膜形成に時間を要し、技術的、コスト的に有効な
範囲を超えるので、１〜５００μｍが好ましい。
【００１３】分散剤として、酸化アルミニウム、酸化チ
タン、酸化ジルコニウム、希土類元素の酸化物、窒化チ
タン、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、ホ
ウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、炭化チタン、炭化タ
ングステン、炭化ジルコニウム、炭化タンタル、炭化ホ
ウ素、炭化ニオブから選ばれる１種以上の化合物粒子を
被膜中に分散させることは、被膜の高温下における強度
を確保するとともに、潤滑性を付与する効果がある。こ
れらの濃度は前記の点で１〜５０重量％が好適である。
分散剤の平均粒径は、平滑な成形面を得るためのメッキ
被膜とするうえで０．０１〜１０μｍが好適である。ブ
ラウン管用パネル等に適した高精度に平滑な成形面とす
るためには、０．０３〜１μｍがより好適である。
タン、酸化ジルコニウム、希土類元素の酸化物、窒化チ
タン、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、ホ
ウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、炭化チタン、炭化タ
ングステン、炭化ジルコニウム、炭化タンタル、炭化ホ
ウ素、炭化ニオブから選ばれる１種以上の化合物粒子を
被膜中に分散させることは、被膜の高温下における強度
を確保するとともに、潤滑性を付与する効果がある。こ
れらの濃度は前記の点で１〜５０重量％が好適である。
分散剤の平均粒径は、平滑な成形面を得るためのメッキ
被膜とするうえで０．０１〜１０μｍが好適である。ブ
ラウン管用パネル等に適した高精度に平滑な成形面とす
るためには、０．０３〜１μｍがより好適である。
【００１４】金型の基体と最表面の分散メッキ被膜との
間に、８族〜１１族から選ばれる１種以上の金属元素を
含む中間薄膜を形成させることにより、基体と分散メッ
キ被膜との結合を強固にするとともに、最表面の分散メ
ッキ被膜の作製を容易にすることができる。８族〜１１
族から選ばれる１種以上の金属元素としては、鉄、ルテ
ニウム、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウム、
白金、銅、銀、金などが好ましい。
間に、８族〜１１族から選ばれる１種以上の金属元素を
含む中間薄膜を形成させることにより、基体と分散メッ
キ被膜との結合を強固にするとともに、最表面の分散メ
ッキ被膜の作製を容易にすることができる。８族〜１１
族から選ばれる１種以上の金属元素としては、鉄、ルテ
ニウム、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウム、
白金、銅、銀、金などが好ましい。
【００１５】例えば、ニッケル、コバルト、鉄、パラジ
ウム等をメッキ法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法及び溶射法のう
ちのいずれかの薄膜形成法で作製する。特にメッキ法は
被膜形成速度、平滑性及びコスト等の点で好適である。
また、これらの元素は主成分として４０〜１００重量％
含有されることが、それら元素の特性を活かすうえで好
適である。薄膜の厚さは、０．１μｍより薄いと全面を
実効的に被覆するうえで困難であり、５０μｍより厚い
と残留歪が増大し中間層としての意味がなくなるので、
０．１〜５０μｍが好適である。
ウム等をメッキ法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法及び溶射法のう
ちのいずれかの薄膜形成法で作製する。特にメッキ法は
被膜形成速度、平滑性及びコスト等の点で好適である。
また、これらの元素は主成分として４０〜１００重量％
含有されることが、それら元素の特性を活かすうえで好
適である。薄膜の厚さは、０．１μｍより薄いと全面を
実効的に被覆するうえで困難であり、５０μｍより厚い
と残留歪が増大し中間層としての意味がなくなるので、
０．１〜５０μｍが好適である。
【００１６】金型の基体としては、機械的強度、耐食
性、熱伝導性、熱膨張特性等の点からマルテンサイト系
ステンレスが好適である。
性、熱伝導性、熱膨張特性等の点からマルテンサイト系
ステンレスが好適である。
【００１７】
【作用】本発明の分散メッキ被膜は、高温下での機械的
強度がニッケル−タングステン合金メッキ被膜よりも向
上する。その理由は必ずしも明確ではないが、上記の分
散剤が金属又は合金中に分散固定されることにより、高
温下でのマトリックスの変形が抑制されること、及び分
散粒子による微細な凹凸により溶融ガラスとの熱接触が
軽減され金型の温度上昇が抑制されることが考えられ
る。また、分散剤の濃度が適当であればニッケル合金特
有の離型性が保持されるものと考えられる。特に、窒化
ホウ素等の離型性を与える分散剤は添加量を多くでき
る。
強度がニッケル−タングステン合金メッキ被膜よりも向
上する。その理由は必ずしも明確ではないが、上記の分
散剤が金属又は合金中に分散固定されることにより、高
温下でのマトリックスの変形が抑制されること、及び分
散粒子による微細な凹凸により溶融ガラスとの熱接触が
軽減され金型の温度上昇が抑制されることが考えられ
る。また、分散剤の濃度が適当であればニッケル合金特
有の離型性が保持されるものと考えられる。特に、窒化
ホウ素等の離型性を与える分散剤は添加量を多くでき
る。
【００１８】
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明は必
ずしもこれらに限定されない。なお、例１〜１６は実施
例で、例１７、１８は比較例である。
ずしもこれらに限定されない。なお、例１〜１６は実施
例で、例１７、１８は比較例である。
【００１９】（例１）マルテンサイト系ステンレスのＳ
ＵＳ４２０Ｊ２（ＪＩＳ Ｇ４３０３）からなる基体の
表面に、塩化ニッケル浴を用いて５μｍ厚のニッケル層
を析出させた。その後、硫酸ニッケル、タングステン酸
ナトリウム、クエン酸ナトリウムを主成分として含む水
溶液に、分散剤として平均粒径０．０５μｍの窒化ホウ
素を添加し分散させたメッキ液を用い、ニッケル−タン
グステン合金（ニッケル６８重量％、タングステン３２
重量％）をマトリックスとし、窒化ホウ素１０重量％を
分散させて含んでいる最表面の分散メッキ被膜を形成さ
せた。
ＵＳ４２０Ｊ２（ＪＩＳ Ｇ４３０３）からなる基体の
表面に、塩化ニッケル浴を用いて５μｍ厚のニッケル層
を析出させた。その後、硫酸ニッケル、タングステン酸
ナトリウム、クエン酸ナトリウムを主成分として含む水
溶液に、分散剤として平均粒径０．０５μｍの窒化ホウ
素を添加し分散させたメッキ液を用い、ニッケル−タン
グステン合金（ニッケル６８重量％、タングステン３２
重量％）をマトリックスとし、窒化ホウ素１０重量％を
分散させて含んでいる最表面の分散メッキ被膜を形成さ
せた。
【００２０】この被膜につき硬度試験（ビッカース硬度
試験）、テーバー摩耗試験を行うとともに、この被膜を
設けた金型（プランジャー）を用いてブラウン管パネル
を成形した。結果を表１に示す。
試験）、テーバー摩耗試験を行うとともに、この被膜を
設けた金型（プランジャー）を用いてブラウン管パネル
を成形した。結果を表１に示す。
【００２１】（例２）分散剤として窒化ホウ素のかわり
に平均粒径０．０５μｍのホウ化ジルコニウムを添加し
分散させたメッキ液を用いた他は例１と同様にして、ニ
ッケル−タングステン合金（ニッケル７１重量％、タン
グステン２９重量％）をマトリックスとし、ホウ化ジル
コニウム１５重量％を分散させて含んでいる２０μｍ厚
の最表面の分散メッキ被膜を形成させた。この被膜につ
き硬度試験、テーバー摩耗試験を行うとともに、この被
膜を設けた金型（プランジャー）を用いてブラウン管パ
ネルを成形した。結果を表１に示す。
に平均粒径０．０５μｍのホウ化ジルコニウムを添加し
分散させたメッキ液を用いた他は例１と同様にして、ニ
ッケル−タングステン合金（ニッケル７１重量％、タン
グステン２９重量％）をマトリックスとし、ホウ化ジル
コニウム１５重量％を分散させて含んでいる２０μｍ厚
の最表面の分散メッキ被膜を形成させた。この被膜につ
き硬度試験、テーバー摩耗試験を行うとともに、この被
膜を設けた金型（プランジャー）を用いてブラウン管パ
ネルを成形した。結果を表１に示す。
【００２２】（例３）分散剤として窒化ホウ素のかわり
に平均粒径０．０５μｍの炭化タングステンを添加し分
散させたメッキ液を用いた他は例１と同様にして、ニッ
ケル−タングステン合金（ニッケル７５重量％、タング
ステン２５重量％）をマトリックスとし、炭化タングス
テン１８重量％を分散させて含んでいる２０μｍ厚の最
表面の分散メッキ被膜を形成させた。この被膜につき硬
度試験、テーバー摩耗試験を行うとともに、この被膜を
設けた金型（プランジャー）を用いてブラウン管パネル
を成形した。結果を表１に示す。
に平均粒径０．０５μｍの炭化タングステンを添加し分
散させたメッキ液を用いた他は例１と同様にして、ニッ
ケル−タングステン合金（ニッケル７５重量％、タング
ステン２５重量％）をマトリックスとし、炭化タングス
テン１８重量％を分散させて含んでいる２０μｍ厚の最
表面の分散メッキ被膜を形成させた。この被膜につき硬
度試験、テーバー摩耗試験を行うとともに、この被膜を
設けた金型（プランジャー）を用いてブラウン管パネル
を成形した。結果を表１に示す。
【００２３】（例４）分散剤として窒化ホウ素のかわり
に平均粒径０．０５μｍの酸化イットリウムを添加し分
散させたメッキ液を用いた他は例１と同様にして、ニッ
ケル−タングステン合金（ニッケル７６重量％、タング
ステン２４重量％）をマトリックスとし、酸化イットリ
ウム１６重量％を分散させて含んでいる２０μｍ厚の最
表面の分散メッキ被膜を形成させた。この被膜につき硬
度試験、テーバー摩耗試験を行うとともに、この被膜を
設けた金型（プランジャー）を用いてブラウン管パネル
を成形した。結果を表１に示す。
に平均粒径０．０５μｍの酸化イットリウムを添加し分
散させたメッキ液を用いた他は例１と同様にして、ニッ
ケル−タングステン合金（ニッケル７６重量％、タング
ステン２４重量％）をマトリックスとし、酸化イットリ
ウム１６重量％を分散させて含んでいる２０μｍ厚の最
表面の分散メッキ被膜を形成させた。この被膜につき硬
度試験、テーバー摩耗試験を行うとともに、この被膜を
設けた金型（プランジャー）を用いてブラウン管パネル
を成形した。結果を表１に示す。
【００２４】（例５）分散剤として酸化アルミニウムを
用いる他は例３と同様にして最表面の分散メッキ被膜を
形成させた。結果を表１に示す。
用いる他は例３と同様にして最表面の分散メッキ被膜を
形成させた。結果を表１に示す。
【００２５】（例６）分散剤として酸化ジルコニウムを
用いる他は例４と同様にして最表面の分散メッキ被膜を
形成させた。結果を表１に示す。
用いる他は例４と同様にして最表面の分散メッキ被膜を
形成させた。結果を表１に示す。
【００２６】（例７〜９）分散剤として窒化チタン（例
７）、窒化ケイ素（例８）、又は窒化アルミニウム（例
９）を用いる他は例１と同様にして最表面の分散メッキ
被膜を形成させた。結果を表１に示す。
７）、窒化ケイ素（例８）、又は窒化アルミニウム（例
９）を用いる他は例１と同様にして最表面の分散メッキ
被膜を形成させた。結果を表１に示す。
【００２７】（例１０）分散剤としてホウ化チタンを用
いる他は例２と同様にして最表面の分散メッキ被膜を形
成させた。結果を表１に示す。
いる他は例２と同様にして最表面の分散メッキ被膜を形
成させた。結果を表１に示す。
【００２８】（例１１〜１５）分散剤として炭化チタン
（例１１）、炭化ジルコニウム（例１２）、炭化タンタ
ル（例１３）、炭化ホウ素（例１４）、又は炭化ニオブ
（例１５）を用いる他は例３と同様にして最表面の分散
メッキ被膜を形成させた。結果を表１に示す。
（例１１）、炭化ジルコニウム（例１２）、炭化タンタ
ル（例１３）、炭化ホウ素（例１４）、又は炭化ニオブ
（例１５）を用いる他は例３と同様にして最表面の分散
メッキ被膜を形成させた。結果を表１に示す。
【００２９】（例１６）分散剤として酸化チタンを用い
る他は例４と同様にして最表面の分散メッキ被膜を形成
させた。結果を表１に示す。
る他は例４と同様にして最表面の分散メッキ被膜を形成
させた。結果を表１に示す。
【００３０】例１、２については、ブラウン管パネル用
ガラスとして酸化ケイ素６２．０重量％、酸化ナトリウ
ム７．５重量％、酸化カリウム８．１重量％、酸化スト
ロンチウム１１．６重量％、酸化バリウム２．２重量
％、その他酸化ジルコニウム等８．６重量％を含むブラ
ウン管用ガラスを用いた。
ガラスとして酸化ケイ素６２．０重量％、酸化ナトリウ
ム７．５重量％、酸化カリウム８．１重量％、酸化スト
ロンチウム１１．６重量％、酸化バリウム２．２重量
％、その他酸化ジルコニウム等８．６重量％を含むブラ
ウン管用ガラスを用いた。
【００３１】例３〜１６については、ブラウン管パネル
用ガラスとして酸化ケイ素６４．６重量％、酸化ナトリ
ウム６．０重量％、酸化カリウム２．５重量％、酸化鉛
３．０重量％、その他酸化ストロンチウム等２３．９重
量％を含むブラウン管用ガラスを用いた。
用ガラスとして酸化ケイ素６４．６重量％、酸化ナトリ
ウム６．０重量％、酸化カリウム２．５重量％、酸化鉛
３．０重量％、その他酸化ストロンチウム等２３．９重
量％を含むブラウン管用ガラスを用いた。
【００３２】（例１７）ＳＵＳ４２０Ｊ２からなる基体
の表面に、硫酸クロム浴を用いて１５μｍ厚の最表面被
膜を形成させた。この被膜につき、ビッカース硬度試
験、テーバー摩耗試験を行うとともに、この被膜を設け
た金型（プランジャー）を用いてブラウン管パネルを成
形した。結果を表１に示す。
の表面に、硫酸クロム浴を用いて１５μｍ厚の最表面被
膜を形成させた。この被膜につき、ビッカース硬度試
験、テーバー摩耗試験を行うとともに、この被膜を設け
た金型（プランジャー）を用いてブラウン管パネルを成
形した。結果を表１に示す。
【００３３】（例１８）ＳＵＳ４２０Ｊ２からなる基体
の表面に、塩化ニッケル浴を用いて５μｍ厚のニッケル
層を析出させた。その後、硫酸ニッケル、タングステン
酸ナトリウム、クエン酸カリウムを主成分として含むメ
ッキ液を用い、ニッケル−タングステン（ニッケル７１
重量％、タングステン２９重量％）よりなる厚さ２０μ
ｍの最表面被膜を形成させた。この被膜につき、ビッカ
ース硬度試験、テーバー摩耗試験を行うとともに、この
被膜を設けた金型（プランジャー）を用いてブラウン管
パネルを成形した。結果を表１に示す。
の表面に、塩化ニッケル浴を用いて５μｍ厚のニッケル
層を析出させた。その後、硫酸ニッケル、タングステン
酸ナトリウム、クエン酸カリウムを主成分として含むメ
ッキ液を用い、ニッケル−タングステン（ニッケル７１
重量％、タングステン２９重量％）よりなる厚さ２０μ
ｍの最表面被膜を形成させた。この被膜につき、ビッカ
ース硬度試験、テーバー摩耗試験を行うとともに、この
被膜を設けた金型（プランジャー）を用いてブラウン管
パネルを成形した。結果を表１に示す。
【００３４】例１７、１８においては、ブラウン管パネ
ル用ガラスとして例１、２と同じものを用い、金型によ
る効果の違いが明確になるようにした。
ル用ガラスとして例１、２と同じものを用い、金型によ
る効果の違いが明確になるようにした。
【００３５】表１において、テーバー指数、パネル成形
特性（ガラス表面の傷、金型寿命）、塗布頻度について
は、例１７を１０とした場合の相対値で示している。ま
た、ガラス表面の傷が０とは、ブラウン管用パネルとし
て要求される規格を満たさないような傷が発生しなかっ
たことを意味する。
特性（ガラス表面の傷、金型寿命）、塗布頻度について
は、例１７を１０とした場合の相対値で示している。ま
た、ガラス表面の傷が０とは、ブラウン管用パネルとし
て要求される規格を満たさないような傷が発生しなかっ
たことを意味する。
【００３６】
【表１】
【００３７】
【発明の効果】実施例からもわかるように、ステンレス
合金を基体とし、１種以上の鉄族元素からなる金属又は
合金をマトリックスとするか、又は、６族元素及び／又
はレニウムと１種以上の鉄族元素との合金をマトリック
スとし、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニ
ウム、希土類元素の酸化物、窒化チタン、窒化ケイ素、
窒化ホウ素、窒化アルミニウム、ホウ化チタン、ホウ化
ジルコニウム、炭化チタン、炭化タングステン、炭化ジ
ルコニウム、炭化タンタル、炭化ホウ素、炭化ニオブを
分散剤として、分散メッキ法により基体の最表面に被膜
を形成させることにより、従来のクロム被膜より離型性
に優れ、ガラス表面に傷を生じにくくかつニッケル−タ
ングステン被膜より高温下での機械的強度が優れるとい
う効果を有する。
合金を基体とし、１種以上の鉄族元素からなる金属又は
合金をマトリックスとするか、又は、６族元素及び／又
はレニウムと１種以上の鉄族元素との合金をマトリック
スとし、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニ
ウム、希土類元素の酸化物、窒化チタン、窒化ケイ素、
窒化ホウ素、窒化アルミニウム、ホウ化チタン、ホウ化
ジルコニウム、炭化チタン、炭化タングステン、炭化ジ
ルコニウム、炭化タンタル、炭化ホウ素、炭化ニオブを
分散剤として、分散メッキ法により基体の最表面に被膜
を形成させることにより、従来のクロム被膜より離型性
に優れ、ガラス表面に傷を生じにくくかつニッケル−タ
ングステン被膜より高温下での機械的強度が優れるとい
う効果を有する。
Claims (10)
- 【請求項１】１種以上の鉄族元素を含有する金属又は合
金をマトリックスとし、下記（ａ）群から選ばれる１種
以上の化合物粒子を分散剤として前記マトリックス中に
含有させた分散メッキ被膜を、ステンレス合金からなる
基体の最表面に形成してなることを特徴とするガラス成
形用金型。 （ａ）酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、希土類元素の酸化物、窒化チタン、窒化ケイ素、窒
化ホウ素、窒化アルミニウム、ホウ化チタン、ホウ化ジ
ルコニウム、炭化チタン、炭化タングステン、炭化ジル
コニウム、炭化タンタル、炭化ホウ素、炭化ニオブ。 - 【請求項２】前記マトリックスが、さらに６族元素及び
／又はレニウムを含有する合金からなる請求項１記載の
ガラス成形用金型。 - 【請求項３】前記分散メッキ被膜の厚さが１〜５００μ
ｍである請求項１記載のガラス成形用金型。 - 【請求項４】前記分散剤の分散メッキ被膜中における濃
度が１〜５０重量％である請求項１記載のガラス成形用
金型。 - 【請求項５】前記分散剤の平均粒径が０．０１〜１０μ
ｍである請求項１記載のガラス成形用金型。 - 【請求項６】前記基体と分散メッキ被膜との間に、８族
〜１１族から選ばれる１種以上の元素を主成分とする中
間薄膜を形成してなる請求項１記載のガラス成形用金
型。 - 【請求項７】前記中間薄膜をメッキ法、ＣＶＤ法、ＰＶ
Ｄ法及び溶射法のうちのいずれかの方法により形成して
なる請求項６記載のガラス成形用金型。 - 【請求項８】前記中間薄膜の厚さが０．１〜５０μｍで
ある請求項６記載のガラス成形用金型。 - 【請求項９】前記ステンレス合金がマルテンサイト系ス
テンレスである請求項１記載のガラス成形用金型。 - 【請求項１０】１種以上の鉄族元素を含有する金属又は
合金をマトリックスとし、下記（ａ）群から選ばれる１
種以上の化合物粒子を分散剤として前記マトリックス中
に含有させた分散メッキ浴を用いて、ステンレス合金か
らなる基体の最表面に分散メッキ被膜を形成することを
特徴とするガラス成形用金型の製造方法。 （ａ）酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、希土類元素の酸化物、窒化チタン、窒化ケイ素、窒
化ホウ素、窒化アルミニウム、ホウ化チタン、ホウ化ジ
ルコニウム、炭化チタン、炭化タングステン、炭化ジル
コニウム、炭化タンタル、炭化ホウ素、炭化ニオブ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP274395A JPH08188424A (ja) | 1995-01-11 | 1995-01-11 | ガラス成形用金型及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP274395A JPH08188424A (ja) | 1995-01-11 | 1995-01-11 | ガラス成形用金型及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08188424A true JPH08188424A (ja) | 1996-07-23 |
Family
ID=11537838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP274395A Pending JPH08188424A (ja) | 1995-01-11 | 1995-01-11 | ガラス成形用金型及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08188424A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004092083A1 (en) * | 2003-04-15 | 2004-10-28 | Raytheon Company | System and method for forming infrared glass optical components |
| US7159419B2 (en) | 2003-04-15 | 2007-01-09 | Umicore Sa | System and method for vapor pressure controlled growth of infrared chalcogenide glasses |
| US7171827B2 (en) | 2003-04-15 | 2007-02-06 | Umicore Sa | System and method for automated casting of infrared glass optical components |
| JP2007223846A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-09-06 | Tokai Rubber Ind Ltd | 成形型 |
| JP2007254266A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-10-04 | Tokai Rubber Ind Ltd | ガラス成形型 |
| JP2008150712A (ja) * | 2008-02-12 | 2008-07-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 表面被膜を有する金型又は鋳型 |
-
1995
- 1995-01-11 JP JP274395A patent/JPH08188424A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004092083A1 (en) * | 2003-04-15 | 2004-10-28 | Raytheon Company | System and method for forming infrared glass optical components |
| US7159419B2 (en) | 2003-04-15 | 2007-01-09 | Umicore Sa | System and method for vapor pressure controlled growth of infrared chalcogenide glasses |
| US7159420B2 (en) | 2003-04-15 | 2007-01-09 | Umicore Sa | System and method for forming infrared glass optical components |
| US7171827B2 (en) | 2003-04-15 | 2007-02-06 | Umicore Sa | System and method for automated casting of infrared glass optical components |
| JP2007223846A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-09-06 | Tokai Rubber Ind Ltd | 成形型 |
| JP2007254266A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-10-04 | Tokai Rubber Ind Ltd | ガラス成形型 |
| JP2008150712A (ja) * | 2008-02-12 | 2008-07-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 表面被膜を有する金型又は鋳型 |
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