JPH08176754A - Alloy for strain gauge, production thereof and strain gauge - Google Patents

Alloy for strain gauge, production thereof and strain gauge

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JPH08176754A
JPH08176754A JP34084294A JP34084294A JPH08176754A JP H08176754 A JPH08176754 A JP H08176754A JP 34084294 A JP34084294 A JP 34084294A JP 34084294 A JP34084294 A JP 34084294A JP H08176754 A JPH08176754 A JP H08176754A
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JP
Japan
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less
total
gauge
alloy
strain gauge
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JP34084294A
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Japanese (ja)
Inventor
Naoji Nakamura
直司 中村
Yuetsu Murakami
雄悦 村上
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Elect & Magn Alloys Res Inst
Research Institute for Electromagnetic Materials
Original Assignee
Elect & Magn Alloys Res Inst
Research Institute for Electromagnetic Materials
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Publication date
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Publication of JPH08176754A publication Critical patent/JPH08176754A/en
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Abstract

PURPOSE: To obtain a novel material having a high gauge rate and gauge charcteristics almost free from uneveness. CONSTITUTION: This alloy having a gauge rate of >=2 consists of, by weight, 1-35% Cr, 15-70% Co, 0.001-15%, in total, of <=10% W, <=10% Mo, <=10% Nb and <=10% Ta, 0.001-20%, in total, of <=10% Mn, <=10% Cu, <=10% Pt, <=10% Rh, <=10% Pd, <=10% Au, <=10% Ag, <=10% Lu, <=10% Ir, <=10% Os, <=10% Hf, <=10% V, <=10% Al, <=10% Si, <=10% Ti, <=10% rare earth element, <=5% Zr, <=5% Tc, <=5% Zn, <=5% Ge, <=5% Sn, <=5% Sb, <=3% Be, <=1% B and <=1% C as subsidiary components and the balance Fe with a small amt. of impurities. The objective strain gauge obtd. from this alloy has high sensitivity and high stability.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ストレインゲージ用合
金ならびに該合金の線材および箔材の製造方法、および
ストレインゲージに関するものである。さらに詳しく
は、本発明は鉄(Fe)、クロム(Cr)、コバルト
(Co)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、
ニオブ(Nb)およびタンタル(Ta)を主成分とし、
副成分として、マンガン(Mn)、銅(Cu)、白金
(Pt)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、金
(Au)、銀(Ag)、ルテニウム(Ru)、イリジウ
ム(Ir)、オスミウム(Os)、ハフニウム(H
f)、バナジウム(V)、アルミニウム(Al)、シリ
コン(Si)、チタン(Ti)、希土類元素、ジルコニ
ウム(Zr)、テクネチウム(Tc)、亜鉛(Zn)、
ゲルマニウム(Ge)、錫(Sn)、アンチモン(S
b)、ベリリウム(Be)、ホウ素(B)および炭素
(C)のうち一種あるいは2種以上の合計0.001〜
20%とからなるストレインゲージ用合金およびその製
造方法、ならびにこの合金を使用したストレインゲージ
に関するもので、その目的とするところは2以上の高い
ゲージ率を有し良好な加工性を具備する線材および箔
材、ならびに薄膜を提供するにある。また、該合金を使
用して作成された2以上のゲージ率を有する線材、箔材
および薄膜よりなるストレインゲージを提供するにあ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a strain gauge alloy, a method of manufacturing a wire rod and a foil material of the alloy, and a strain gauge. More specifically, the present invention relates to iron (Fe), chromium (Cr), cobalt (Co), tungsten (W), molybdenum (Mo),
With niobium (Nb) and tantalum (Ta) as the main components,
As auxiliary components, manganese (Mn), copper (Cu), platinum (Pt), rhodium (Rh), palladium (Pd), gold (Au), silver (Ag), ruthenium (Ru), iridium (Ir), osmium. (Os), hafnium (H
f), vanadium (V), aluminum (Al), silicon (Si), titanium (Ti), rare earth element, zirconium (Zr), technetium (Tc), zinc (Zn),
Germanium (Ge), tin (Sn), antimony (S
b), beryllium (Be), boron (B) and carbon (C), or a total of 0.001 of two or more.
The present invention relates to a strain gauge alloy consisting of 20% and a method for producing the same, and a strain gauge using this alloy, and an object thereof is a wire rod having a high gauge ratio of 2 or more and good workability and In providing foil materials, as well as thin films. Another object of the present invention is to provide a strain gauge composed of a wire material, a foil material and a thin film having a gauge ratio of 2 or more, which is produced by using the alloy.

【0002】[0002]

【従来の技術】ストレインゲージは、一般に弾性歪によ
つてゲージ細線またはゲージ箔の電気抵抗が変化する現
象を利用して、逆に抵抗変化を測定することによって歪
の量あるいは応力を計測したり歪や応力の変換機器にも
ちいられる。例えば、生産工業におけるストレインセン
サ、重量計測、加速度計や各種機器量−電気量変換機
器、土木工業における土圧計、建築業・エネルギー関連
業における圧力計や撓み量計測、航空・宇宙・鉄道・船
舶における各種応力・歪計測ばかりでなく民生用として
の商用秤や各種セキュリティ機器等にも多く利用されて
いる。
2. Description of the Related Art Strain gauges generally utilize the phenomenon that the electrical resistance of a gauge wire or gauge foil changes due to elastic strain, and conversely measure the amount of strain or stress by measuring the resistance change. It is also used as a strain and stress conversion device. For example, strain sensors in the production industry, weight measurement, accelerometers and various equipment quantity-electricity conversion equipment, earth pressure gauges in the civil engineering industry, pressure gauges and flexure measurement in the construction / energy related industries, aviation / space / railroads / ships. It is widely used not only for various stress / strain measurement in Japan, but also for commercial scales and various security devices for consumer use.

【0003】ストレインゲージ材料に課せられる条件
は、 1.ゲージ率が大きく、温度依存性が少ないこと 2.比電気抵抗が大きいこと 3.抵抗温度係数が小さいこと 4.対銅熱起電力が小さいこと 5.加工性がよく、機械的性質がよいこと 6.安価なこと などに要約される。
The conditions imposed on strain gauge materials are: Large gauge ratio and low temperature dependence 1. Large specific electrical resistance 3. Small temperature coefficient of resistance 4. 4. Small thermoelectromotive force for copper Good workability and good mechanical properties 6. It is summarized as cheap things.

【0004】また、ストレインゲージ素子としては、上
記のゲージ特性の他に見掛けの歪が小さいことや素子間
の特性のバラツキが少ないことも重要である。ここでい
う見掛けの歪は、ゲージ周辺の温度変化によって歪みが
加わっていなくても恰も発生しているかのような測定以
外の出力変化のことを意味している。通常は見掛けの歪
に相当する出力が出ないようにブリッジ回路で相殺して
使用している。
In addition to the above-mentioned gauge characteristics, it is also important for the strain gauge element to have a small apparent strain and a small variation in characteristics between elements. The apparent strain referred to here means an output change other than the measurement as if the strain is generated even if the strain is not added due to the temperature change around the gauge. Normally, a bridge circuit is used to cancel the output so that an output corresponding to apparent distortion does not occur.

【0005】ところで、ストレインゲージは、その構造
が金属細線(13〜25μm)または金属箔(3〜5μ
m)をグリッド状あるいはロゼット状に配置してなり、
またその使用法としては前記ゲージを被測定物に接着剤
で貼付し、被測定物に生じた歪をゲージの抵抗変化から
間接的に測定するものである。ストレインゲージの感度
は、ゲージ率Kによってきまり、K(20℃)の値は一
般に次の式で表される。
By the way, the strain gauge has a structure such as a thin metal wire (13 to 25 μm) or a metal foil (3 to 5 μm).
m) are arranged in a grid or rosette,
As a method of using the gauge, the gauge is attached to the object to be measured with an adhesive, and the strain generated in the object to be measured is indirectly measured from the change in resistance of the gauge. The sensitivity of the strain gauge depends on the gauge factor K, and the value of K (20 ° C.) is generally expressed by the following equation.

【0006】[0006]

【数1】 ここで、Rはゲージ細線の全抵抗 σはゲージの細線のポアソン比 ρはゲージ細線の比電気抵抗 lはゲージ細線の全長 である。この式でσは一般の金属・合金ではほぼ0.3
であるから、右辺第1項と第2項の合計は約1.6で一
定値となる。したがってゲージ率を大きくするために
は、上式の右辺第3項の(Δρ/ρ)・(Δl/l)
−1が大きいことが必須条件である。すなわち、材料に
引っ張り変形を与えた時、材料の長さ方向の電子構造が
大幅に変化して、電気抵抗の変化量Δρ/ρが増加する
ことによる。またゲージ率のロット間のばらつき△K
は、次式で評価する。
[Equation 1] Where R is the total resistance of the gauge wire, σ is the Poisson's ratio of the gauge wire, ρ is the specific electrical resistance of the gauge wire, and l is the total length of the gauge wire. In this formula, σ is approximately 0.3 for general metals and alloys.
Therefore, the sum of the first term and the second term on the right side is about 1.6, which is a constant value. Therefore, in order to increase the gauge factor, (Δρ / ρ) · (Δl / l) in the third term on the right side of the above equation
It is an essential condition that -1 is large. That is, when the material is subjected to tensile deformation, the electronic structure in the lengthwise direction of the material changes significantly, and the amount of change in electric resistance Δρ / ρ increases. In addition, variation in gauge ratio between lots △ K
Is evaluated by the following formula.

【0007】[0007]

【数2】 [Equation 2]

【0008】ストレインゲージ素子用材料として現在最
も多く使用されている材料は、Cu−Ni合金である。
この合金は、抵抗温度係数Cが極めて小さい特長を有
する反面、ゲージ率Kおよび比電気抵抗ρが小さく、ま
た対銅熱起電力Emfが大きいために、高感度・高安定
性ストレインゲージ用合金としては使用できない。さら
にこの合金の問題として、ゲージ特性のばらつきが数%
あることも製品の互換性に対して大きな問題であった。
The material most often used at present as a material for strain gauge elements is Cu-Ni alloy.
This alloy, although the temperature coefficient of resistance C f has a very small features, gage factor K and the electrical resistivity ρ is small, also because of the large TaidonetsuOkoshi power E mf, for high sensitivity and high stability strain gauge It cannot be used as an alloy. Furthermore, the problem with this alloy is that the variation in gauge characteristics is several percent.
There was also a big problem with product compatibility.

【0009】この材料の他に、ゲージ率Kが大きな材料
には半導体の炭素(C)、シリコン(Si)やゲルマニ
ウム(Ge)等が知られている。しかしこれら半導体の
場合、Kが数10〜170で非常に大きいが、その値は
正および負を示すだけでなく、Kの異方性が大きく安定
性に欠けること、また機械的強度が劣るなどの欠点があ
るために、特殊な小型圧力変換器に応用化されている程
度である。
In addition to this material, semiconductors such as carbon (C), silicon (Si) and germanium (Ge) are known as materials having a large gauge factor K. However, in the case of these semiconductors, K is very large at several 10 to 170, but the value not only shows positive and negative values, but also has large anisotropy of K and lacks stability, and has poor mechanical strength. However, it is only applied to special small pressure transducers due to its drawbacks.

【0010】一方本発明者が以前発見したFe−Cr−
Co系やFe−Cr−Co(Mo,W,Nb,Ta)多
元系合金などでは、Kが加工状態で4また高温処理によ
り10以上であって、従来の実用合金Cu−Niの2〜
5倍の非常に大きい値を示すので高感度ゲージの要求に
は応えられそうである。(特公昭45−13229号、
特開昭61−15914号、特公平2−13023
号)。しかし、これらの合金のKは、ロット間のばらつ
きが約5〜7%を示しゲージの互換性にはやや難があ
り、高安定性ゲージには不向きである。なお抵抗温度係
数が400×10−6/℃以上を示し、上記Cu−Ni
合金の20倍も大きな値を持っているのが欠点である
が、ゲージの設計とブリッジ回路による補償によって見
掛けの歪みを相殺できる。
On the other hand, the Fe--Cr-- previously discovered by the present inventor
In Co-based and Fe-Cr-Co (Mo, W, Nb, Ta) multi-component alloys and the like, K is 4 in the processed state and 10 or more by high temperature treatment, and 2 to 2 of the conventional practical alloy Cu-Ni.
Since it shows a very large value of 5 times, it seems that it can meet the demand for high-sensitivity gauges. (Japanese Patent Publication No. 45-13229,
Japanese Patent Laid-Open No. 61-15914, Japanese Patent Publication No. 13023
issue). However, the K of these alloys has a lot-to-lot variation of about 5 to 7%, which makes gauge compatibility somewhat difficult, and is not suitable for high stability gauges. The temperature coefficient of resistance is 400 × 10 −6 / ° C. or higher, and the above Cu—Ni
The disadvantage is that it has a value 20 times as large as that of alloys, but apparent distortion can be offset by the gauge design and compensation by the bridge circuit.

【0011】また、抵抗温度係数が小さい材料として開
発されたFe−Cr−Al基合金は、耐酸化性に劣るだ
けでなく、かなり複雑な加工法で作製しなければならな
いなど多くの問題があった〔特開平5−21449
3〕。以上説明したように、上記公知の材料には一長一
短があり、関連業界から本発明の目的である高いゲージ
率とばらつきの少ないゲージ特性を具備した新規な材料
の要望がなされている。
Further, the Fe-Cr-Al based alloy developed as a material having a small temperature coefficient of resistance has many problems such as not only being inferior in oxidation resistance but also being required to be manufactured by a considerably complicated processing method. [JP-A-5-21449
3]. As described above, the known material has advantages and disadvantages, and there is a demand from a related industry for a new material having a high gauge ratio and a gauge characteristic with less variation, which is the object of the present invention.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】さて、ストレインゲー
ジは、近年マイクロコンピューターの進歩に伴って、そ
の応用領域がますます拡大して超精密、小型化および高
性能化にむかっており、特に高感度で安定性を必要とす
る圧力変換器やロードセルの他、ロボットの触角センサ
や滑りセンサ等の要求が高まってきた。これらの各種セ
ンサ用ストレインゲージに対しては高感度で良好な安定
性を有する素材が緊急に求められている。
[Problems to be Solved by the Invention] Strain gauges have been expanding their application fields with the advancement of microcomputers in recent years, toward ultra-precision, miniaturization and high performance. In addition to pressure transducers and load cells that require stability, there are increasing demands for robot tactile sensors and slip sensors. Materials having high sensitivity and good stability are urgently required for these strain gauges for various sensors.

【0013】ところでこれらの要望に応えられる材料と
しては、安価でゲージ率が大きい前記Fe−Cr−Co
−(Mo,W,Nb,Ta)多元系合金が有望である。
この合金を高感度・高安定性ストレインゲージ用材料と
して使用するためには、次の課題を克服しなければなら
ない。 1 ゲージ率は、2以上とする。 2 ゲージ率のロット間のばらつきを2%以下に抑え
る。 3 加工性の改善を図る。
By the way, as a material that can meet these demands, Fe--Cr--Co, which is inexpensive and has a large gauge factor, is used.
-(Mo, W, Nb, Ta) multi-component alloys are promising.
In order to use this alloy as a material for a highly sensitive and highly stable strain gauge, the following problems must be overcome. 1 Gauge ratio shall be 2 or more. 2 Keep lot-to-lot variation in gage rate below 2%. 3 Improve workability.

【0014】[0014]

【発明が解決するための手段】本発明は、前述の点に鑑
みなされたものであって、上記Fe−Cr−Co−(M
o,W,Nb,Ta)多元系合金を改良するために多く
の実験と研究を行ったものである。その結果、本発明で
は多くの新規な知見が得られた。以下に、その詳細を説
明する。本発明の特徴とするところは、下記の点にあ
る。
The present invention has been made in view of the above-mentioned points, and the above-mentioned Fe-Cr-Co- (M
(o, W, Nb, Ta) A lot of experiments and researches have been conducted to improve the multi-component alloys. As a result, many novel findings have been obtained in the present invention. The details will be described below. The features of the present invention are as follows.

【0015】第1発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下およびタンタル10%以下の1種あるい
は2種以上の合計0.001〜15%、副成分としてマ
ンガン10%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロ
ジウム10%以下、パラジウム10%以下、金10%以
下、銀10%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム
10%以下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%
以下、バナジウム10%以下、アルミニウム10%以
下、シリコン10%以下、チタン10%以下、希土類元
素10%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5
%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%
以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ
素1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種
以上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不
純物とからなり、ゲージ率が2以上を有することを特徴
とするストレインゲージ用合金。
First invention Chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% by weight
And a total of 0.001 to 15% of 10% or less of tungsten, 10% or less of molybdenum, 10% or less of niobium and 10% or less of tantalum, or a total of 0.001 to 15%, and 10% or less of manganese, 10% or less of copper as a subcomponent, and platinum. 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10%.
Below, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5
% Or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5%
Below, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon 1% or less, one or two or more in total of 0.001 to 20% and the balance iron and a small amount of impurities. An alloy for strain gauges, characterized by having 2 or more.

【0016】第2発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下、タンタル10%以下およびアルミニウ
ム10%以下の1種あるいは2種以上の合計0.001
〜15%、副成分としてマンガン10%以下、銅10%
以下、白金10%以下、ロジウム10%以下、パラジウ
ム10%以下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウ
ム10%以下、イリジウム10%以下、オスミウム10
%以下、ハフニウム10%以下、バナジウム10%以
下、シリコン10%以下、チタン10%以下、希土類元
素10%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5
%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%
以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ
素1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種
以上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不
純物とからなり、ゲージ率が2以上を有することを特徴
とするストレインゲージ用合金。
Second invention By weight ratio, chromium is 1 to 35% and cobalt is 15 to 70%.
And a total of 0.001 of tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less, tantalum 10% or less and aluminum 10% or less.
-15%, manganese 10% or less as subcomponent, copper 10%
Hereinafter, platinum 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10
% Or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5
% Or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5%
Below, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon 1% or less, one or two or more in total of 0.001 to 20% and the balance iron and a small amount of impurities. An alloy for strain gauges, characterized by having 2 or more.

【0017】第3発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下およびタンタル10%以下の1種あるい
は2種以上の合計0.001〜15%、副成分としてマ
ンガン10%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロ
ジウム10%以下、パラジウム10%以下、金10%以
下、銀10%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム
10%以下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%
以下、バナジウム10%以下、シリコン10%以下、チ
タン10%以下、希土類元素10%以下、シルコニウム
5%以下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲル
マニウム5%以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、
ベリリウム3%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以
下のうち1種あるいは2種以上の合計0.001〜20
%および残部鉄と少量の不純物とからなり、ゲージ率が
2以上を有することを特徴とするストレインゲージ用合
金。
Third Invention Chromium 1 to 35% and cobalt 15 to 70% by weight
And a total of 0.001 to 15% of 10% or less of tungsten, 10% or less of molybdenum, 10% or less of niobium and 10% or less of tantalum, or a total of 0.001 to 15%, and 10% or less of manganese, 10% or less of copper as a subcomponent, and platinum. 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10%.
Below, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, silconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5 %Less than,
Beryllium 3% or less, boron 1% or less, and carbon 1% or less 1 type or 2 or more types in total 0.001-20
% And the balance iron, and a small amount of impurities, and a strain gauge alloy having a gauge factor of 2 or more.

【0018】第4発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下およびタンタル10%以下の1種あるい
は2種以上の合計0.001〜15%、副成分としてマ
ンガン10%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロ
ジウム10%以下、パラジウム10%以下、金10%以
下、銀10%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム
10%以下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%
以下、バナジウム10%以下、アルミニウム10%以
下、シリコン10%以下、チタン10%以下、希土類元
素10%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5
%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%
以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ
素1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種
以上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不
純物とからなる合金組成の原料を非酸化性ガス、還元性
ガスあるいは真空中において溶解した後、適当な鋳型で
鋳造し、得られたインゴットを熱間加工により所望の丸
棒あるいは板材となし、ついで冷間加工を施して線材あ
るいは箔材となすか、あるいは該線材あるいは該箔材
に、さらに非酸化性ガス、還元性ガスあるいは真空中の
400℃以上1200℃以下の温度で適当な時間加熱後
冷却することを特徴とするゲージ率が2以上を有するス
トレインゲージ用合金の製造法。
Fourth invention Chromium 1 to 35% and cobalt 15 to 70% by weight
And a total of 0.001 to 15% of 10% or less of tungsten, 10% or less of molybdenum, 10% or less of niobium and 10% or less of tantalum, or a total of 0.001 to 15%, and 10% or less of manganese, 10% or less of copper as a subcomponent, and platinum. 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10%.
Below, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5
% Or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5%
Below, an alloy composition of 0.001 to 20% in total of one or more of antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon 1% or less and the balance iron and a small amount of impurities After melting the raw material in a non-oxidizing gas, reducing gas or vacuum, cast it in a suitable mold, hot-work the desired ingot into a desired round bar or plate, then cold-work it. A wire or a foil, or the wire or the foil is further heated at a temperature of 400 ° C. or more and 1200 ° C. or less in a non-oxidizing gas, a reducing gas or a vacuum for a suitable time and then cooled. To produce a strain gauge alloy having a gauge factor of 2 or more.

【0019】第5発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下、タンタル10%以下およびアルミニウ
ム10%以下の1種あるいは2種以上の台計0.001
〜15%、副成分としてマンガン10%以下、銅10%
以下、白金10%以下、ロジウム10%以下、パラジウ
ム10%以下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウ
ム10%以下、イリジウム10%以下、オスミウム10
%以下、ハフニウム10%以下、バナジウム10%以
下、シリコン10%以下、チタン10%以下、希土類元
素10%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5
%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%
以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ
素1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種
以上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不
純物とからなる合金組成の原料を、非酸化性ガス、還元
性ガスあるいは真空中において溶解した後、適当な鋳型
で鋳造し、得られたインゴットを熱間加工により所望の
丸棒あるいは板材となし、ついで冷間加工を施して線材
あるいは箔材となすか、あるいは該線材あるいは該箔材
に、さらに非酸化性ガス、還元性ガスあるいは真空中の
400℃以上1200℃以下の温度で適当な時間加熱後
冷却することを特徴とするゲージ率が2以上を有するス
トレインゲージ用合金の製造法。
Fifth invention By weight ratio, chromium is 1 to 35% and cobalt is 15 to 70%.
And a total of 0.001 of tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less, tantalum 10% or less and aluminum 10% or less, or two or more.
-15%, manganese 10% or less as subcomponent, copper 10%
Hereinafter, platinum 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10
% Or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5
% Or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5%
Below, an alloy composition of 0.001 to 20% in total of one or more of antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon 1% or less and the balance iron and a small amount of impurities The raw material is melted in a non-oxidizing gas, a reducing gas or in vacuum and then cast in an appropriate mold, and the resulting ingot is hot worked into a desired round bar or plate, and then cold worked. A wire or foil material, or by heating the wire or foil material at a temperature of 400 ° C. or more and 1200 ° C. or less in a non-oxidizing gas, a reducing gas, or a vacuum for an appropriate time and then cooling. A method for producing a strain gauge alloy having a gauge factor of 2 or more.

【0020】第6発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下およびタンタル10%以下の1種あるい
は2種以上の合計0.001〜15%、副成分としてマ
ンガン10%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロ
ジウム10%以下、パラジウム10%以下、金10%以
下、銀10%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム
10%以下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%
以下、バナジウム10%以下、シリコン10%以下、チ
タン10%以下、希土類元素10%以下、ジルコニウム
5%以下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲル
マニウム5%以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、
ベリリウム3%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以
下のうち1種あるいは2種以上の合計0.001〜20
%および残部鉄と少量の不純物とからなる合金組成の原
料を、非酸化性ガス、還元性ガスあるいは真空中におい
て溶解した後、適当な鋳型で鋳造し、得られたインゴッ
トを熱間加工により所望の丸棒あるいは板材となし、つ
いで冷間加工を施して線材あるいは箔材となすか、ある
いは該線材あるいは該箔材に、さらに非酸化性ガス、還
元性ガスあるいは真空中の400℃以上1200℃以下
の温度で適当な時間加熱後冷却することを特徴とするゲ
ージ率が2以上を有するストレインゲージ用合金の製造
法。
Sixth invention By weight ratio, chromium is 1 to 35% and cobalt is 15 to 70%.
And a total of 0.001 to 15% of 10% or less of tungsten, 10% or less of molybdenum, 10% or less of niobium and 10% or less of tantalum, or a total of 0.001 to 15%, and 10% or less of manganese, 10% or less of copper as a subcomponent, and platinum. 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10%.
Hereinafter, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5 %Less than,
Beryllium 3% or less, boron 1% or less, and carbon 1% or less 1 type or 2 or more types in total 0.001-20
%, The balance of iron, and the raw material of the alloy composition consisting of a small amount of impurities are melted in a non-oxidizing gas, a reducing gas or in a vacuum and then cast in an appropriate mold, and the obtained ingot is desired by hot working. No round bar or plate, and then cold-worked to form a wire or foil, or the wire or foil is further heated in a non-oxidizing gas, reducing gas or vacuum at 400 ° C or higher to 1200 ° C A method for producing a strain gauge alloy having a gauge factor of 2 or more, which comprises heating at the following temperature for an appropriate time and then cooling.

【0021】第7発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下およびタンタル10%以下の1種あるい
は2種以上の合計0.001〜15%、副成分としてマ
ンガン10%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロ
ジウム10%以下、パラジウム10%以下、金10%以
下、銀10%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム
10%以下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%
以下、バナジウム10%以下、アルミニウム10%以
下、シリコン10%以下、チタン10%以下、希土類元
素10%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5
%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%
以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ
素1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種
以上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不
純物とからなる合金組成の原料を、非酸化性ガス、還元
性ガスあるいは真空中において溶解した後適当な鋳型で
鋳造し、得られたインゴットを熱間加工により所望の丸
棒あるいは板材となし、ついで冷間加工を施して線材あ
るいは箔材となし、そのままかあるいはさらに非酸化性
ガス、還元性ガスあるいは真空中の400℃以上120
0℃以下の温度で適当な時間加熱冷却した該線材あるい
は該箔材を、適当なベース面に貼付して素子となし、必
要ならば温度補償として、該素子と直角成分の素子を同
一面内に構築してゲージパターンを形成することを特徴
とするストレインゲージ。
Seventh invention By weight ratio, chromium is 1 to 35% and cobalt is 15 to 70%.
And a total of 0.001 to 15% of 10% or less of tungsten, 10% or less of molybdenum, 10% or less of niobium and 10% or less of tantalum, or a total of 0.001 to 15%, and 10% or less of manganese, 10% or less of copper as a subcomponent, and platinum. 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10%.
Below, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5
% Or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5%
Below, an alloy composition of 0.001 to 20% in total of one or more of antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon 1% or less and the balance iron and a small amount of impurities The raw material is melted in a non-oxidizing gas, a reducing gas or vacuum and then cast in an appropriate mold, and the obtained ingot is formed into a desired round bar or plate by hot working, and then cold worked. No wire or foil material, 400 ℃ or more 120 as it is or in non-oxidizing gas, reducing gas or vacuum
The wire or foil heated and cooled at a temperature of 0 ° C. or lower for an appropriate time is attached to an appropriate base surface to form an element. If necessary, the element and the element having a right angle component are in the same plane for temperature compensation. A strain gauge that is constructed by forming a gauge pattern.

【0022】第8発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下、タンタル10%以下およびアルミニウ
ム10%以下の1種あるいは2種以上の合計0.001
〜15%、副成分としてマンガン10%以下、銅10%
以下、白金10%以下、ロジウム10%以下、パラジウ
ム10%以下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウ
ム10%以下、イリジウム10%以下、オスミウム10
%以下、ハフニウム10%以下、バナジウム10%以
下、シリコン10%以下、チタン10%以下、希土類元
素10%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5
%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%
以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ
素1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種
以上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不
純物とからなる合金組成の原料を、非酸化性ガス、還元
性ガスあるいは真空中において溶解した後適当な鋳型で
鋳造し、得られたインゴットを熱間加工により所望の丸
棒あるいは板材となし、ついで冷間加工を施して線材あ
るいは箔材となし、そのままかあるいはさらに非酸化性
ガス、還元性ガスあるいは真空中の400℃以上120
0℃以下の温度で適当な時間加熱後冷却した該線材ある
いは該箔材を適当なベース面に貼付して素子となし、必
要ならば温度補償として、該素子と直角成分の素子を同
一面内に構築してゲージパターンを形成することを特徴
とするストレインゲージ。
Eighth invention Chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% by weight
And a total of 0.001 of tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less, tantalum 10% or less and aluminum 10% or less.
-15%, manganese 10% or less as subcomponent, copper 10%
Hereinafter, platinum 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10
% Or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5
% Or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5%
Below, an alloy composition of 0.001 to 20% in total of one or more of antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon 1% or less and the balance iron and a small amount of impurities The raw material is melted in a non-oxidizing gas, a reducing gas or vacuum and then cast in an appropriate mold, and the obtained ingot is formed into a desired round bar or plate by hot working, and then cold worked. No wire or foil material, 400 ℃ or more 120 as it is or in non-oxidizing gas, reducing gas or vacuum
The wire or foil, which has been heated at a temperature of 0 ° C. or lower for an appropriate time and then cooled, is attached to an appropriate base surface to form an element. If necessary, as an element for temperature compensation, the element having a component orthogonal to the element is in the same plane. A strain gauge that is constructed by forming a gauge pattern.

【0023】第9発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下およびタンタル10%以下の1種あるい
は2種以上の合計0.001〜15%、副成分としてマ
ンガン10%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロ
ジウム10%以下、パラジウム10%以下、金10%以
下、銀10%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム
10%以下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%
以下、バナジウム10%以下、シリコン10%以下、チ
タン10%以下、希土類元素10%以下、ジルコニウム
5%以下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲル
マニウム5%以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、
ベリリウム3%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以
下のうち1種あるいは2種以上の合計0.001〜20
%および残部鉄と少量の不純物とからなる合金組成の原
料を、非酸化性ガス、還元性ガスあるいは真空中におい
て溶解した後適当な鋳型で鋳造し、得られたインゴット
を熱間加工により所望の丸棒あるいは板材となし、つい
で冷間加工を施して線材あるいは箔材となし、そのまま
かあるいはさらに非酸化性ガス、還元性ガスあるいは真
空中の400℃以上1200℃以下の温度で適当な時間
加熱後冷却した該線材あるいは該箔材を、適当なベース
面に貼付して素子となし、必要ならば温度補償として、
該素子と直角成分の素子を同一面内に構築してゲージパ
ターンを形成することを特徴とするストレインゲージ。
Ninth invention By weight ratio, chromium is 1 to 35% and cobalt is 15 to 70%.
And a total of 0.001 to 15% of 10% or less of tungsten, 10% or less of molybdenum, 10% or less of niobium and 10% or less of tantalum, or a total of 0.001 to 15%, and 10% or less of manganese, 10% or less of copper as a subcomponent, and platinum. 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10%.
Hereinafter, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5 %Less than,
Beryllium 3% or less, boron 1% or less, and carbon 1% or less 1 type or 2 or more types in total 0.001-20
%, The balance of iron and a raw material of an alloy composition consisting of a small amount of impurities are melted in a non-oxidizing gas, a reducing gas or in a vacuum and then cast in an appropriate mold, and the obtained ingot is hot-worked to obtain a desired product. No round bar or plate, then cold-worked to form wire or foil, either as it is or further heated in a non-oxidizing gas, reducing gas or vacuum at a temperature of 400 ° C to 1200 ° C for an appropriate time. The post-cooled wire material or foil material is attached to an appropriate base surface to form an element, and if necessary, as temperature compensation,
A strain gauge, characterized in that a gauge pattern is formed by constructing an element having a component orthogonal to the element in the same plane.

【0024】第10発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下およびタンタル10%以下の1種あるい
は2種以上の合計0.001〜15%、副成分としてマ
ンガン10%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロ
ジウム10%以下、パラジウム10%以下、金10%以
下、銀10%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム
10%以下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%
以下、バナジウム10%以下、アルミニウム10%以
下、シリコン10%以下、チタン10%以下、希土類元
素10%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5
%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%
以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ
素1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種
以上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不
純物とからなる合金を、電着、蒸着、無電解メッキある
いはスパッタリングより選択した方法で、所望の基板に
薄膜を形成し、その後所望の形状に打ち抜き、フォトエ
ッチングあるいはトリミングなどの加工を施して素子と
なし、必要ならば温度補償として、該素子と直角成分の
素子を同一面内に構築してゲージパターンを形成し、さ
らに電極を構成したことを特徴とする薄膜ストレインゲ
ージ。
Tenth invention Chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% by weight
And a total of 0.001 to 15% of 10% or less of tungsten, 10% or less of molybdenum, 10% or less of niobium and 10% or less of tantalum, or a total of 0.001 to 15%, and 10% or less of manganese, 10% or less of copper as a subcomponent, and platinum. 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10%.
Below, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5
% Or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5%
An alloy consisting of 0.001 to 20% of a total of 1% or more of antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less, and carbon 1% or less and the balance iron and a small amount of impurities, A thin film is formed on the desired substrate by a method selected from electrodeposition, vapor deposition, electroless plating or sputtering, and then punched into the desired shape and processed by photoetching or trimming to form an element. As a compensation, a thin film strain gauge characterized in that a gauge pattern is formed by constructing an element having a component orthogonal to the element in the same plane and further forming an electrode.

【0025】第11発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下、タンタル10%以下およびアルミニウ
ム10%以下の1種あるいは2種以上の合計0.001
〜15%、副成分としてマンガン10%以下、銅10%
以下、白金10%以下、ロジウム10%以下、パラジウ
ム10%以下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウ
ム10%以下、イリジウム10%以下、オスミウム10
%以下、ハフニウム10%以下、バナジウム10%以
下、シリコン10%以下、チタン10%以下、希土類元
素10%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5
%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%
以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ
素1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種
以上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不
純物からなる合金を、電着、蒸着、無電解メッキあるい
はスパッタリングより選択した方法で、所望の基板に薄
膜を形成し、その後所望の形状に打ち抜き、フォトエッ
チングあるいはトリミングなどの加工を施して素子とな
し、必要ならば温度補償として、該素子と直角成分の素
子を同一面内に構築してゲージパターンを形成し、さら
に電極を構成したことを特徴とする薄膜ストレインゲー
ジ。
Eleventh Invention Chromium 1-35% and cobalt 15-70% by weight
And a total of 0.001 of tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less, tantalum 10% or less and aluminum 10% or less.
-15%, manganese 10% or less as subcomponent, copper 10%
Hereinafter, platinum 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10
% Or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5
% Or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5%
Below, an alloy consisting of 0.001 to 20% of a total of 1% or more of antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less, and carbon 1% or less and the balance iron and a small amount of impurities is charged. By a method selected from deposition, vapor deposition, electroless plating or sputtering, a thin film is formed on the desired substrate, then punched into the desired shape, processed by photoetching or trimming to form an element, and if necessary, temperature compensation The thin film strain gauge is characterized in that a gauge pattern is formed by constructing an element having a component orthogonal to the element in the same plane as the above, and further an electrode is configured.

【0026】第12発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下およびタンタル10%以下の1種あるい
は2種以上の合計0.001〜15%、副成分としてマ
ンガン10%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロ
ジウム10%以下、パラジウム10%以下、金10%以
下、銀10%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム
10%以下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%
以下、バナジウム10%以下、シリコン10%以下、チ
タン10%以下、希土類元素10%以下、ジルコニウム
5%以下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲル
マニウム5%以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、
ベリリウム3%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以
下のうち1種あるいは2種以上の合計0.001〜20
%および残部鉄と少量の不純物とからなる合金を、電
着、蒸着、無電解メッキあるいはスパッタリングより選
択した方法で、所望の基板に薄膜を形成し、その後所望
の形状に打ち抜き、フォトエッチングあるいはトリミン
グなどの加工を施して素子となし、必要ならば温度補償
として、該素子と直角成分の素子を同一面内に構築して
ゲージパターンを形成し、さらに電極を構成したことを
特徴とする薄膜ストレインゲージ。
Twelfth invention By weight ratio, chromium is 1 to 35% and cobalt is 15 to 70%.
And a total of 0.001 to 15% of 10% or less of tungsten, 10% or less of molybdenum, 10% or less of niobium and 10% or less of tantalum, or a total of 0.001 to 15%, and 10% or less of manganese, 10% or less of copper as a subcomponent, and platinum. 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10%.
Hereinafter, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5 %Less than,
Beryllium 3% or less, boron 1% or less, and carbon 1% or less 1 type or 2 or more types in total 0.001-20
% And the balance of iron and a small amount of impurities, a thin film is formed on a desired substrate by a method selected from electrodeposition, vapor deposition, electroless plating or sputtering, and then punched into a desired shape, photoetching or trimming. Thin film strain characterized by forming a gauge pattern by constructing an element of a component orthogonal to the element in the same plane as temperature compensation if necessary to form an element by performing processing such as gauge.

【0027】第13発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下およびタンタル10%以下の1種あるい
は2種以上の合計0.001〜15%、副成分としてマ
ンガン10%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロ
ジウム10%以下、パラジウム10%以下、金10%以
下、銀10%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム
10%以下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%
以下、バナジウム10%以下、アルミニウム10%以
下、シリコン10%以下、チタン10%以下、希土類元
素10%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5
%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%
以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ
素1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種
以上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不
純物とからなる合金を、電着、蒸着、無電解メッキある
いはスパッタリングより選択した方法で、所望の基板に
薄膜を形成し、その後所望の形状に打ち抜き、フォトエ
ッチングあるいはトリミングなどの加工を施して素子と
なし、必要ならば温度補償として、該素子と直角成分の
素子を同一面内に構築してゲージパターンを形成し、さ
らに電極を構成した後、これをさらに非酸化性ガス、還
元性ガスあるいは真空中で熱処理を施すことを特徴とす
る薄膜ストレインゲージ。
Thirteenth invention By weight ratio, chromium is 1 to 35% and cobalt is 15 to 70%.
And a total of 0.001 to 15% of 10% or less of tungsten, 10% or less of molybdenum, 10% or less of niobium and 10% or less of tantalum, or a total of 0.001 to 15%, and 10% or less of manganese, 10% or less of copper as a subcomponent, and platinum. 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10%.
Below, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5
% Or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5%
An alloy consisting of 0.001 to 20% of a total of 1% or more of antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less, and carbon 1% or less and the balance iron and a small amount of impurities, A thin film is formed on the desired substrate by a method selected from electrodeposition, vapor deposition, electroless plating or sputtering, and then punched into the desired shape and processed by photoetching or trimming to form an element. For compensation, an element having a component orthogonal to the element is constructed in the same plane to form a gauge pattern, and then an electrode is formed, which is then further heat-treated in a non-oxidizing gas, reducing gas or vacuum. A thin film strain gauge characterized by.

【0028】第14発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下、タンタル10%以下およびアルミニウ
ム10%以下の1種あるいは2種以上の合計0.001
〜15%、副成分として、マンガン10%以下、銅10
%以下、白金10%以下、ロジウム10%以下、パラジ
ウム10%以下、金10%以下、銀10%以下、ルテニ
ウム10%以下、イリジウム10%以下、オスミウム1
0%以下、ハフニウム10%以下、バナジウム10%以
下、シリコン10%以下、チタン10%以下、希土類元
素10%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5
%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%
以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ
素1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種
以上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不
純物とからなる合金を、電着、蒸着、無電解メッキある
いはスパッタリングより選択した方法で、所望の基板に
薄膜を形成し、その後所望の形状に打ち抜き、フォトエ
ッチングあるいはトリミングなどの加工を施して素子と
なし、必要ならば温度補償として、該素子と直角成分の
素子を同一面内に構築してゲージパターンを形成し、さ
らに電極を構成した後、これをさらに非酸化性ガス、還
元性ガスあるいは真空中で熱処理を施すことを特徴とす
る薄膜ストレインケージ。
Fourteenth invention Chromium 1-35%, cobalt 15-70% by weight
And a total of 0.001 of tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less, tantalum 10% or less and aluminum 10% or less.
~ 15%, as a sub-component, manganese 10% or less, copper 10
% Or less, platinum 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 1
0% or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5
% Or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5%
An alloy consisting of 0.001 to 20% of a total of 1% or more of antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less, and carbon 1% or less and the balance iron and a small amount of impurities, A thin film is formed on the desired substrate by a method selected from electrodeposition, vapor deposition, electroless plating or sputtering, and then punched into the desired shape and processed by photoetching or trimming to form an element. For compensation, an element having a component orthogonal to the element is constructed in the same plane to form a gauge pattern, and then an electrode is formed, which is then further heat-treated in a non-oxidizing gas, reducing gas or vacuum. A thin film strain cage characterized by.

【0029】第15発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下およびタンタル10%以下の1種あるい
は2種以上の合計0.001〜15%、副成分としてマ
ンガン10%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロ
ジウム10%以下、パラジウム10%以下、金10%以
下、銀10%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム
10%以下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%
以下、バナジウム10%以下、シリコン10%以下、チ
タン10%以下、希土類元素10%以下、ジルコニウム
5%以下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲル
マニウム5%以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、
ベリリウム3%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以
下のうち1種あるいは2種以上の合計0.001〜20
%および残部鉄と少量の不純物とからなる合金を、電
着、蒸着、無電解メッキあるいはスパッタリングより選
択した方法で、所望の基板に薄膜を形成し、その後所望
の形状に打ち抜き、フォトエッチングあるいはトリミン
グなどの加工を施して素子となし、必要ならば温度補償
として、該素子と直角成分の素子を同一面内に構築して
ゲージパターンを形成し、さらに電極を構成した後、こ
れをさらに非酸化性ガス、還元性ガスあるいは真空中で
熱処理を施すことを特徴とする薄膜ストレインゲージ。
Fifteenth invention Chromium 1 to 35% and cobalt 15 to 70% by weight
And a total of 0.001 to 15% of 10% or less of tungsten, 10% or less of molybdenum, 10% or less of niobium and 10% or less of tantalum, or a total of 0.001 to 15%, and 10% or less of manganese, 10% or less of copper as a subcomponent, and platinum. 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10%.
Hereinafter, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5 %Less than,
Beryllium 3% or less, boron 1% or less, and carbon 1% or less 1 type or 2 or more types in total 0.001-20
% And the balance of iron and a small amount of impurities, a thin film is formed on a desired substrate by a method selected from electrodeposition, vapor deposition, electroless plating or sputtering, and then punched into a desired shape, photoetching or trimming. Etc. are processed to form an element, and if necessary, temperature compensation is performed by constructing an element having a component orthogonal to the element in the same plane to form a gauge pattern, and further forming an electrode, which is then further non-oxidized. A thin film strain gauge characterized by being heat-treated in a neutral gas, a reducing gas or in a vacuum.

【0030】第16発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下およびタンタル10%以下の1種あるい
は2種以上の合計0.001〜15%、副成分としてマ
ンガン10%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロ
ジウム10%以下、パラジウム10%以下、金10%以
下、銀10%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム
10%以下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%
以下、バナジウム10%以下、アルミニウム10%以
下、シリコン10%以下、チタン10%以下、希土類元
素10%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5
%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%
以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ
素1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種
以上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不
純物からなり、ゲージ率が2以上を有するストレインゲ
ージ用合金の線材、箔材および薄膜よりなるストレイン
ゲージ。
Sixteenth invention Chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% by weight
And a total of 0.001 to 15% of 10% or less of tungsten, 10% or less of molybdenum, 10% or less of niobium and 10% or less of tantalum, or a total of 0.001 to 15%, and 10% or less of manganese, 10% or less of copper as a subcomponent, and platinum. 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10%.
Below, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5
% Or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5%
Below, one or more of antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon 1% or less, 0.001 to 20% in total, and the balance iron and a small amount of impurities, and the gauge factor is A strain gauge comprising two or more strain gauge alloy wires, foils and thin films.

【0031】第17発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下、タンタル10%以下およびアルミニウ
ム10%以下の1種あるいは2種以上の合計0.001
〜15%、副成分としてマンガン10%以下、銅10%
以下、白金10%以下、ロジウム10%以下、パラジウ
ム10%以下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウ
ム10%以下、イリジウム10%以下、オスミウム10
%以下、ハフニウム10%以下、バナジウム10%以
下、シリコン10%以下、チタン10%以下、希土類元
素10%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5
%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%
以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ
素1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種
以上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不
純物とからなり、ゲージ率が2以上を有するストレイン
ゲージ用合金の線材、箔材および薄膜よりなるストレイ
ンゲージ。
Seventeenth invention By weight ratio, chromium is 1 to 35% and cobalt is 15 to 70%.
And a total of 0.001 of tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less, tantalum 10% or less and aluminum 10% or less.
-15%, manganese 10% or less as subcomponent, copper 10%
Hereinafter, platinum 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10
% Or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5
% Or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5%
Below, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon 1% or less, one or two or more in total of 0.001 to 20% and the balance iron and a small amount of impurities. A strain gauge comprising a wire material, a foil material and a thin film of a strain gauge alloy having 2 or more.

【0032】第18発明 重量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%
とタングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニ
オブ10%以下およびタンタル10%以下の1種あるい
は2種以上の合計0.001〜15%、副成分としてマ
ンガン10%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロ
ジウム10%以下、パラジウム10%以下、金10%以
下、銀10%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム
10%以下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%
以下、バナジウム10%以下、シリコン10%以下、チ
タン10%以下、希土類元素10%以下、ジルコニウム
5%以下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲル
マニウム5%以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、
ベリリウム3%以下、ホウ素1%以下および炭累1%以
下のうち1種あるいは2種以上の合計0.001〜20
%および残部鉄と少量の不純物とからなり、ゲージ率が
2以上を有するストレインゲージ用合金の線材、箔材お
よび薄膜よりなるストレインゲージ。
Eighteenth invention Chromium 1-35%, cobalt 15-70% by weight
And a total of 0.001 to 15% of 10% or less of tungsten, 10% or less of molybdenum, 10% or less of niobium and 10% or less of tantalum, or a total of 0.001 to 15%, and 10% or less of manganese, 10% or less of copper as a subcomponent, and platinum. 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10%.
Hereinafter, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5 %Less than,
Beryllium 3% or less, boron 1% or less, and charcoal 1% or less 1 type or 2 or more types in total 0.001-20
%, The balance iron and a small amount of impurities, and a strain gauge consisting of a wire material, a foil material and a thin film of a strain gauge alloy having a gauge ratio of 2 or more.

【0033】[0033]

【作用】従来のFe−Cr−Co−(W,Mo,Nb,
Ta)多元系合金は、非常に硬い性質を持っているため
に、加工と軟化処理の工程を繰り返しながら所望の形状
の素材を造らなければならなかった。すなわちビッカー
ス硬度Hvは、加工状態において500以上の高い値で
あるために加工性は非常に劣っている。これとは反対に
800〜1000℃の高温処理では、Hvがいずれの合
金も約400以下に低下し、合金素材が軟化し、これら
の低い値と加工状態との差△Hvは約200以上にもな
る。したがって、加工硬化が極めて著しいと考えられ
る。この加工軟化の拳動は、W,Mo,Nb又はTaの
含有量の増加とともに一層著しくなるものと予想され
る。一般に素材の加工性は、Hvが400以下であるこ
とが好ましいと言われているので、上記合金の冷間加工
は、かなり困難である。
The conventional Fe-Cr-Co- (W, Mo, Nb,
Since the Ta) multi-component alloy has a very hard property, it has been necessary to produce a material having a desired shape by repeating the steps of processing and softening treatment. That is, since the Vickers hardness Hv is a high value of 500 or more in the processed state, the workability is very poor. On the contrary, in the high temperature treatment of 800 to 1000 ° C., Hv is lowered to about 400 or less for all alloys, the alloy material is softened, and the difference ΔHv between these low values and the worked state becomes about 200 or more. Also becomes. Therefore, work hardening is considered to be extremely remarkable. It is expected that this work-softening motion becomes more remarkable as the content of W, Mo, Nb, or Ta increases. Since it is generally said that the workability of the material is preferably Hv of 400 or less, cold working of the above alloy is quite difficult.

【0034】これらの合金の加工硬化の主な原因は、加
工誘起マルテンサイト相α´によるとされている。高温
で加熱処理するとα´→γ変態により加工性に富んだγ
相となる。したがって、このγ相とα´相とのバランス
を変えるためには、副成分の添加が有効である。
It is said that the main cause of work hardening of these alloys is the work-induced martensite phase α '. When heat-treated at high temperature, γ, which is rich in workability due to α ′ → γ transformation
Be in phase. Therefore, in order to change the balance between the γ phase and the α'phase, it is effective to add a subcomponent.

【0035】本発明は、上記Fe−Cr−Co−(W,
Mo,Nb,Ta)多元系合金に、副成分として、マン
ガン、銅、白金、ロジウム、パラジウム、金、銀、ルテ
ニウム、イリジウム、オスミウム、ハフニウム、バナジ
ウム、アルミニウム、シリコン、チタン、希土類元素、
ジルコニウム、テクネチウム、亜鉛、ゲルマニウム、
錫、アンチモン、ベリリウム、ホウ素、炭素を合計0.
001〜20%含有させることにより加工性が改善でき
ることを、多くの実験で明らかにした。
According to the present invention, the above-mentioned Fe-Cr-Co- (W,
Mo, Nb, Ta) multi-component alloy, as a subcomponent, manganese, copper, platinum, rhodium, palladium, gold, silver, ruthenium, iridium, osmium, hafnium, vanadium, aluminum, silicon, titanium, rare earth elements,
Zirconium, technetium, zinc, germanium,
Tin, antimony, beryllium, boron, and carbon are added to a total of 0.
Many experiments have revealed that the workability can be improved by containing 001 to 20%.

【0036】すなわち、本発明合金を製造するには、重
量比にて、クロム1〜35%、コバルト15〜70%と
タングステン10%以下、モリブデン10%以下、ニオ
ブ10%以下およびタンタル10%以下の1種あるいは
2種以上の合計0.001〜15%、副成分としてマン
ガン10%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロジ
ウム10%以下、パラジウム10%以下、金10%以
下、銀10%以下、ルテニウム10%以ト、イリジウム
10%以下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%
以下、バナジウム10%以下、アルミニウム10%以
下、シリコン10%以下、希土類元素10%以下、ジル
コニウム5%以下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以
下、ゲルマニウム5%以下、錫5%以下、アンチモン5
%以下、ベリリウム3%以下、ホウ素1%以下および炭
素1%以下のうち1種あるいは2種以上の合計0.00
1〜20%および残部鉄の各原料を、真空中において融
点以下まで加熱して含有ガスを十分に排気した後、好ま
しくは非酸化性ガス、還元性ガスあるいは真空中におい
て溶解する。また溶融合金を十分に攪拌することによっ
て、組成が均一化する。次に、適当な形および大きさの
鋳型に鋳造して健全なインゴットを得る。
That is, in order to produce the alloy of the present invention, chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less and tantalum 10% or less in weight ratio. 0.001 to 15% in total of one kind or two or more kinds, 10% or less of manganese as a subcomponent, 10% or less of copper, 10% or less of platinum, 10% or less of rhodium, 10% or less of palladium, 10% or less of gold, and silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10%
Hereinafter, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5
% Or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon 1% or less, one or two or more in total 0.00
Each raw material of 1 to 20% and the balance iron is heated to a temperature equal to or lower than the melting point in a vacuum to sufficiently exhaust the contained gas, and then preferably dissolved in a non-oxidizing gas, a reducing gas or in a vacuum. Further, the composition is homogenized by sufficiently stirring the molten alloy. It is then cast into a mold of suitable shape and size to obtain a healthy ingot.

【0037】このインゴットを、必要ならば高温度で適
当時間加熱して、均質化処理を施すか、あるいは直ちに
鍛造、熱間圧延などの熱間加工により丸棒あるいは板材
となし、ついで必要ならば400℃以上の温度で軟化焼
鈍を施しながら、これをスエージングマシン、線引加工
機あるいは冷間圧延機などの冷間加工により、所望の形
状、例えば線経0.1mm以下の細線および0.1mm
以下のリボン等の線材、厚さ0.1mm以下の箔材ある
いはターゲット材などを得る。さらにこのターゲット材
からは、電着、蒸着、無電解メッキあるいはスパッタリ
ングより選択された方法で薄膜を形成する。さらに、必
要ならばこれらの線材、箔材および薄膜を非酸化性ガ
ス、還元性ガスあるいは真空中の1200℃以下の温度
で、好ましくは1分間以上10時間以下加熱後適度な速
度で冷却することによって、ゲージ率が2以上の値を有
するストレインゲージ用合金の線材、箔材および薄膜が
得られる。
If necessary, this ingot is heated at a high temperature for an appropriate period of time and homogenized, or immediately formed into a round bar or plate by hot working such as forging or hot rolling, and then if necessary. While performing softening annealing at a temperature of 400 ° C. or higher, this is subjected to cold working using a swaging machine, a wire drawing machine, a cold rolling machine, or the like to obtain a desired shape, for example, a fine wire having a wire diameter of 0.1 mm or less and 0. 1 mm
The following wire material such as ribbon, foil material or target material having a thickness of 0.1 mm or less is obtained. Further, a thin film is formed from this target material by a method selected from electrodeposition, vapor deposition, electroless plating or sputtering. Further, if necessary, these wires, foils and thin films are heated at a temperature of 1200 ° C. or less in a non-oxidizing gas, a reducing gas or a vacuum, preferably for 1 minute or more and 10 hours or less, and then cooled at an appropriate rate. Thus, a wire material, a foil material, and a thin film of a strain gauge alloy having a gauge factor of 2 or more can be obtained.

【0038】図1、図2および図3は、上記の方法で製
造された本発明合金のゲージ率と副成分の添加量との関
係を示す。すなわち、図1は、Fe−15%Cr−27
%Co−2%W−2%Mo−2%Nb−2%Ta系合金
にMn,Cu,Pt,Rh,Pd,Au,Ag,Ruお
よびIrの各元素の添加量との関係、図2は同じくFe
−15%Cr−27%Co−2%W−2%Mo−2%N
b−2%Ta系合金にOs,Hf,V,Al,Si,T
i,YおよびLaの各元素の添加量との関係ならびに図
3は、同じくFe−15%Cr−27%Co−2%W−
2%Mo−2%Nb−2%Ta系合金にCe,Zr,T
c,Zn,Ge,Sn,Sb,Be,BおよびCの各元
素の添加量とゲージ率との関係を示したものである。こ
れらの図に見られるように、一般に上記元素の添加はゲ
ージ率を高める効果が大きい。
FIG. 1, FIG. 2 and FIG. 3 show the relationship between the gauge ratio of the alloy of the present invention produced by the above method and the amount of addition of the accessory component. That is, FIG. 1 shows that Fe-15% Cr-27.
% Co-2% W-2% Mo-2% Nb-2% Ta system alloy with respect to the added amount of each element of Mn, Cu, Pt, Rh, Pd, Au, Ag, Ru and Ir, FIG. Is also Fe
-15% Cr-27% Co-2% W-2% Mo-2% N
b-2% Ta-based alloy with Os, Hf, V, Al, Si, T
The relationship between the addition amount of each element of i, Y and La and FIG. 3 are the same as in Fe-15% Cr-27% Co-2% W-.
2% Mo-2% Nb-2% Ta alloy with Ce, Zr, T
The relationship between the added amount of each element of c, Zn, Ge, Sn, Sb, Be, B and C and the gauge factor is shown. As can be seen from these figures, the addition of the above elements generally has a large effect of increasing the gauge factor.

【0039】上記の方法で製造した本発明合金極細線
(線経0.06mm、加工率75%)のゲージ特性を測
定した結果、表1および表2に示すような値が得られ
た。
As a result of measuring the gauge characteristics of the alloy fine wire of the present invention (wire diameter 0.06 mm, processing rate 75%) manufactured by the above method, the values shown in Tables 1 and 2 were obtained.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】[0041]

【表2】 [Table 2]

【0042】次に、本発明において、合金の成分組成、
製造工程における熱処理等の数値を限定した理由につい
て以下説明する。本発明合金の組成をクロム1〜35
%、コバルト15〜70%とタングステン10%以下、
モリブデン10%以下、ニオブ10%以下およびタンタ
ル10%以下の1種あるいは2種以上の合計0.001
〜15%、副成分としてマンガン10%以下、銅10%
以下、白金10%以下、ロジウム10%以下、パラジウ
ム10%以下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウ
ム10%以下、イリジウム10%以下、オスミウム10
%以下、ハフニウム10%以下、バナジウム10%以
下、アルミニウム10%以下、シリコン10%以下、チ
タン10%以下、希土類元素10%以下、ジルコニウム
5%以下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲル
マニウム5%以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、
ベリリウム3%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以
下のうち1種あるいは2種以上の合計0.001〜20
%および残部鉄と、それぞれの範囲に限定した理由は、
ゲージ率が2以上の高い値が得られ、ゲージ率のばらつ
きが極めて少なく、ゲージ特性が改善され、加工性も改
善されるが、これらの範囲以外では、これらの効果が期
待できないからである。尚、希土類元素は、Sc,Yお
よびランタン系元素からなるが、その効果は均等であ
る。さらに、熱処理の条件において、400℃以上12
00℃以下の温度と限定し、好ましくは1分間以上10
時間加熱するように限定した理由は、この処理条件内で
は、冷間加工が容易となり、またゲージ率が2以上で、
ストレインゲージの見掛けの歪も100με/ε・℃
−1以下になって好ましいからである。
Next, in the present invention, the alloy composition,
The reason for limiting the numerical values such as the heat treatment in the manufacturing process will be described below. The composition of the alloy of the present invention is chromium 1-35.
%, Cobalt 15-70% and tungsten 10% or less,
Molybdenum 10% or less, niobium 10% or less and tantalum 10% or less 1 type or 2 or more types in total 0.001
-15%, manganese 10% or less as subcomponent, copper 10%
Platinum 10% or less, Rhodium 10% or less, Palladium 10% or less, Gold 10% or less, Silver 10% or less, Ruthenium 10% or less, Iridium 10% or less, Osmium 10
% Or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium. 5% or less, tin 5% or less, antimony 5% or less,
Beryllium 3% or less, boron 1% or less, and carbon 1% or less 1 type or 2 or more types in total 0.001-20
% And the balance iron, and the reason for limiting to each range,
This is because a high gage factor of 2 or more is obtained, variation in gage factor is extremely small, gage characteristics are improved, and workability is also improved, but these effects cannot be expected outside these ranges. The rare earth element is made of Sc, Y and a lanthanum element, but the effects are the same. Furthermore, under heat treatment conditions, 400 ° C or higher 12
Limit the temperature to 00 ° C or less, preferably 1 minute or more and 10
The reason for limiting the heating to time is that cold working is easy under the above processing conditions, and the gauge ratio is 2 or more.
Apparent strain of strain gauge is 100με / ε ・ ℃
This is because -1 or less is preferable.

【0043】[0043]

【実施例】以下、本発明の実施例について述べる。 実施例1 合金番号60(組成:Fe−15%Cr一2
7%Co−2%W−2%Mo−2%Nb−2%Ta−5
%Mn−5%Ru)の合金線材・箔材の製造と評価 原料としては、99.97%純度の電解鉄、99.4%
純度のテルミットクロム、99.59%純度の電解コバ
ルト、99.9%純度のタングステン、モリブデン、ニ
オブ、タンタル、99.94%純度の電解マンガンおよ
び99.99%純度のルテニウムを用いた。試料を造る
には、先ず全重量100gの原料をアルミナ坩堝に入
れ、真空中で高周波誘導溶解炉を用いて徐々に加熱し、
融点直下で暫く一定の温度に保ち原料中のガスを排気す
る。その後、さらに温度を昇温して全体が溶融状態とす
る。この作業において、融液を攪拌して均質な溶融合金
とする。つぎに内径10mm、高さ120mmの鉄型に
鋳込み鋳塊とした。このような方法で、同じインゴット
を10本製造した。これらのインゴットを1150℃で
鍛造して、外径5mmの丸棒にし、さらに1000℃の
中間焼鈍を何度か繰り返した後、スエージングおよび冷
間線引き抜きにより直径0.02mmの極細線を造っ
た。この場合の加工率は、95%であった。次に、得ら
れた極細線に対して、真空中400〜1200℃の各種
温度で10分〜5時間加熱後、室温まで炉中冷却(平均
100℃/時間)する。表3には、種々な熱処理を施し
た場合の特性値を示した。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. Example 1 Alloy No. 60 (Composition: Fe-15% Cr-12
7% Co-2% W-2% Mo-2% Nb-2% Ta-5
% Mn-5% Ru) Alloy Wire / Foil Material Production and Evaluation As raw materials, electrolytic iron with 99.97% purity, 99.4%
Pure thermite chromium, 99.59% pure electrolytic cobalt, 99.9% pure tungsten, molybdenum, niobium, tantalum, 99.94% pure electrolytic manganese and 99.99% pure ruthenium were used. In order to make a sample, first, a total weight of 100 g of raw material is put into an alumina crucible and gradually heated in a vacuum using a high frequency induction melting furnace,
The gas in the raw material is exhausted while maintaining a constant temperature for a while just below the melting point. Then, the temperature is further raised to bring the whole into a molten state. In this operation, the melt is agitated to form a homogeneous molten alloy. Next, an ingot was cast into an iron mold having an inner diameter of 10 mm and a height of 120 mm to form an ingot. In this way, 10 identical ingots were manufactured. These ingots were forged at 1150 ° C to make a round bar with an outer diameter of 5 mm, and after repeating intermediate annealing at 1000 ° C several times, an ultrafine wire with a diameter of 0.02 mm was made by swaging and cold drawing. It was The processing rate in this case was 95%. Next, the obtained ultrafine wire is heated in vacuum at various temperatures of 400 to 1200 ° C. for 10 minutes to 5 hours, and then cooled in the furnace to room temperature (average 100 ° C./hour). Table 3 shows the characteristic values when various heat treatments were performed.

【0044】[0044]

【表3】 [Table 3]

【0045】上記極細線とは別に、同様な方法で作製し
たインゴットから圧延と熱処理の工程を経て厚さ3μm
および幅100mmの箔材を得る。ここで、圧延の圧加
率および熱処理などの条件は、極細線のそれと殆ど同じ
であった。図4は、合金番号60のロット10種から製
造した極細線の加工状態におけるゲージ率Kの測定結果
を示す。この図からKの平均値(図中印)、最大値、最
小値およびKのばらつき△Kなどが求められる。本発明
のKは、ロット内では4.10±0.02およびロット
間では4.10±0.02で、それらのばらつき△K
は、0.5%で非常に小さい。すなわち、本発明合金の
△Kは、比較材料のそれに比べて約10分の1で、著し
く改善されていることが分かった。なお、箔材の場合の
ゲージ特性は、線材の△Kとほぼ一致した。
Separately from the above ultrafine wire, an ingot manufactured by the same method is subjected to rolling and heat treatment steps to have a thickness of 3 μm.
And a foil material having a width of 100 mm is obtained. Here, the conditions such as the pressing rate of rolling and the heat treatment were almost the same as those of the ultrafine wire. FIG. 4 shows the measurement results of the gauge factor K in the processed state of the ultrafine wire manufactured from lot 10 of alloy No. 60. From this figure, the average value of K (marked in the figure), the maximum value, the minimum value, and the variation ΔK of K are obtained. The K of the present invention is 4.10 ± 0.02 within a lot and 4.10 ± 0.02 between lots, and their variation ΔK.
Is very small at 0.5%. That is, it was found that the ΔK of the alloy of the present invention was about 1/10 of that of the comparative material, and was significantly improved. The gauge characteristics of the foil material were almost the same as the ΔK of the wire material.

【0046】実施例2 合金番号7(組成:Fe−15
%Cr−35%Co−5%W−5%Hf−5%Rh)の
線材および箔材よりなるストレインゲージの製造と評価 合金の原料はさらに99.99%純度のハフニウムおよ
びロジウムを用い、製造工程の条件は、実施例1と同じ
であった。得られた極細線と箔材をそのままか、あるい
はさらに真空中の400℃以上1200℃以下の温度で
1時間熱処理した該極細線および該箔材を、厚さ5μm
の樹脂に接着した後グリツド状のゲージパターンに加工
して線材および箔材よりなるストレインゲージを試作し
た。線材ストレインゲージおよび箔材ストレインゲージ
の評価結果を、それぞれ図5および図6に示す。ゲージ
率Kは、加熱温度に対して約850℃で極大となる。ゲ
ージ率Kは約850℃で極大値を示し、また比電気抵抗
ρおよび対銅熱起電力Emfは、加熱温度に対し大きな
変化はないが、抵抗温度係数TCRは小さい。すなわ
ち、本発明合金を使用することによって高感度・高安定
性ストレインゲージが提供できることを明らかにした。
Example 2 Alloy No. 7 (Composition: Fe-15
% Cr-35% Co-5% W-5% Hf-5% Rh) Strain gauge made of wire and foil material and evaluated. The alloy raw material was made of hafnium and rhodium with a purity of 99.99%. The process conditions were the same as in Example 1. The obtained ultrafine wire and the foil material may be used as they are, or may be further heat-treated at a temperature of 400 ° C. or more and 1200 ° C. or less in a vacuum for 1 hour to give a thickness of 5 μm.
After adhering to the resin of No. 3, it was processed into a grid-shaped gauge pattern, and a strain gauge made of wire and foil was prototyped. The evaluation results of the wire strain gauge and the foil strain gauge are shown in FIGS. 5 and 6, respectively. The gauge factor K reaches its maximum at about 850 ° C. with respect to the heating temperature. The gauge factor K has a maximum value at about 850 ° C., and the specific electrical resistance ρ and the thermoelectromotive force with respect to copper E mf do not change significantly with the heating temperature, but the resistance temperature coefficient TCR is small. That is, it was clarified that a highly sensitive and highly stable strain gauge can be provided by using the alloy of the present invention.

【0047】実施例3 合金番号82(組成:Fe−1
4%Cr−35%Co−3%W−2%Mo−2%Nb−
3%Ta−5%Pt−3%V)薄膜ストレインゲージの
製造と評価 使用した原料の純度は、実施例1にさらに99.99%
純度の白金およびバナジウムを用いた。試料の製造方法
は、先ず所定の配合からなる原料800gを高純度アル
ミナ坩堝に入れ、高周波溶解炉を使用して、10−5
orrの真空中高温にて脱ガス後、高純度アルゴンガス
中で溶解し、除滓後鋳造してインゴットを得る。このイ
ンゴットを1150℃で鍛造して、直径105mmおよ
び厚さ3mmの円盤状に加工する。ついで旋盤により、
精密加工して直径105mmおよび厚さ2mmの円盤を
作製する。最後に銅製電極にボンデングしてスパッター
用ターゲットとする。これらのターゲットからスパッタ
ー装置を用いて、下記に示したスパッター条件で厚さ1
μmの薄膜を作製する。
Example 3 Alloy No. 82 (composition: Fe-1
4% Cr-35% Co-3% W-2% Mo-2% Nb-
3% Ta-5% Pt-3% V) Manufacture and Evaluation of Thin Film Strain Gauge The purity of the raw material used was 99.99% as in Example 1.
Pure platinum and vanadium were used. First, 800 g of a raw material having a predetermined composition was put into a high-purity alumina crucible and a high-frequency melting furnace was used to produce 10 −5 T.
After degassing at high temperature in a vacuum of orr, it is melted in a high-purity argon gas, and after removing slag, casting is performed to obtain an ingot. This ingot is forged at 1150 ° C. to be processed into a disk shape having a diameter of 105 mm and a thickness of 3 mm. Then by a lathe,
A disc having a diameter of 105 mm and a thickness of 2 mm is produced by precision processing. Finally, the copper electrode is bonded to form a sputtering target. From these targets, using a sputtering device, the thickness of 1 is obtained under the following sputtering conditions.
A thin film of μm is prepared.

【0048】 予備排気 1×10−7 Torr 高周波電力 100W アルゴンガス圧 3×10−2 基板 SiO基板 電極間距離 60mm 成膜速度 50Å/min 膜厚 1μm ついでマスキングを施し、エッチングによりゲージパタ
ーンとし、図7(A)に示す通り電極を取り付けて48
素子のゲージを作製する。図7(B)は、図7(A)の
得られた素子個々のKのばらつきを示したもので、成膜
状態で4.1±0.05となり、非常に良好であった。
Preliminary exhaust 1 × 10 −7 Torr High frequency power 100 W Argon gas pressure 3 × 10 −2 Substrate SiO 2 substrate Distance between electrodes 60 mm Deposition rate 50 Å / min Film thickness 1 μm Then masking is performed to form a gauge pattern by etching. Attach the electrodes as shown in FIG.
Make a gauge for the device. FIG. 7B shows the variation in K of each element obtained in FIG. 7A, which was 4.1 ± 0.05 in the film formation state, which was very good.

【0049】上記ゲージの内、 ゲージ率のばらつきが
少ない素子について、Ar中各温度で30分加熱して試
料とする。図8は、これらの素子のゲージ特性と加熱温
度との関係を示したものである。得られたゲージ特性
は、線材・箔材およびそれらを使用したストレインゲー
ジの評価結果とよく似ている。
Of the above-mentioned gauges, the element having a small variation in gauge ratio is heated in Ar at each temperature for 30 minutes to prepare a sample. FIG. 8 shows the relationship between the gauge characteristics of these elements and the heating temperature. The obtained gauge characteristics are very similar to the evaluation results of the wire / foil material and the strain gauge using them.

【0050】[0050]

【発明の効果】上記の実験結果が示すように、本発明合
金はゲージ特性および加工性が従来の材料よりさらに向
上し、特性のばらつきが少なくなる特徴を有している。
さらに、本発明のストレインゲージ用合金の線材、箔材
および薄膜よりなるストレインゲージは、ゲージ率が2
以上の高感度・高安定性を発揮する効果がある。したが
って、本発明合金よりなるストレインゲージは、ロード
セル、ストレインセンサ、重量計、加速度計、圧力計、
各種応力・歪計および各種セキュリテイ機器などに好適
である。
As shown by the above experimental results, the alloy of the present invention has the characteristics that the gauge characteristics and workability are further improved as compared with the conventional materials, and the variations in the characteristics are reduced.
Further, the strain gauge comprising the alloy wire for strain gauge, wire material and foil material of the present invention has a gauge ratio of 2 or less.
It has the effect of exhibiting the above high sensitivity and high stability. Therefore, the strain gauge made of the alloy of the present invention includes a load cell, a strain sensor, a weighing scale, an accelerometer, a pressure gauge,
Suitable for various stress / strain gauges and various security devices.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、Fe−15%Cr−27%Co−2%
W−2%Mo−2%Nb−2%Ta系合金にMn,C
u,Pt,Rh,Pd,Au,Ag,RuあるいはIr
を添加した場合のゲージ率Kと各元素の添加量との関係
を示す特性図である。
FIG. 1 shows Fe-15% Cr-27% Co-2%.
W-2% Mo-2% Nb-2% Ta based alloy with Mn, C
u, Pt, Rh, Pd, Au, Ag, Ru or Ir
FIG. 6 is a characteristic diagram showing the relationship between the gauge factor K and the addition amount of each element in the case of adding.

【図2】図2は、Fe−15%Cr−27%Co−2%
W−2%Mo−2%Nb−2%Ta系合金にOs,H
f,V,Al,Si,Ti,YあるいはLaを添加した
場合のゲージ率Kと各元素の添加量との関係を示す特性
図である。
FIG. 2 shows Fe-15% Cr-27% Co-2%.
W, 2% Mo, 2% Nb, 2% Ta based alloy with Os, H
It is a characteristic view which shows the relationship between the gage factor K and the addition amount of each element when f, V, Al, Si, Ti, Y or La is added.

【図3】図3は、Fe−15%Cr−27%Co−2%
W−2%Mo−2%Nb−2%Ta系合金にCe,Z
r,Tc,Zn,Ge,Sn,Sb,Be,Bあるいは
Cを添加した場合のゲージ率Kと各元素の添加量との関
係を示す特性図である。
FIG. 3 shows Fe-15% Cr-27% Co-2%.
W-2% Mo-2% Nb-2% Ta based alloy with Ce, Z
It is a characteristic view which shows the relationship between the gauge ratio K and the addition amount of each element when adding r, Tc, Zn, Ge, Sn, Sb, Be, B or C.

【図4】図4は、合金番号60の10ロットについて、
加工状態の極細線のゲージ率Kを示す特性図である。
FIG. 4 is a graph of 10 lots of alloy No. 60,
It is a characteristic view which shows the gauge factor K of the ultrafine wire in a processing state.

【図5】図5は、合金番号7の線材よりなるスロレイン
ゲージの諸特性と加熱温度Tとの関係を示す諸特性図で
ある。
FIG. 5 is a characteristic diagram showing a relationship between various characteristics of a strain gauge made of an alloy No. 7 wire rod and a heating temperature T.

【図6】図6は、合金番号7の箔材よりなるストレイン
ゲージの諸特性と加熱温度Tとの関係を示す諸特性図で
ある。
FIG. 6 is a characteristic diagram showing a relationship between various characteristics of a strain gauge made of an alloy No. 7 foil material and a heating temperature T.

【図7】図7は、合金番号82の薄膜よりなるストレイ
ンゲージの(A)ゲージパターンと(B)各薄膜素子の
ゲージ率Kを示した特性図である。
FIG. 7 is a characteristic diagram showing (A) a gauge pattern of a strain gauge made of a thin film of alloy No. 82 and (B) a gauge factor K of each thin film element.

【図8】図8は、合金番号82の薄膜よりなるストレイ
ンゲージの諸特性と加熱温度Tとの関係を示す諸特性図
である。
FIG. 8 is a characteristic diagram showing a relationship between various characteristics of a strain gauge made of a thin film of alloy No. 82 and heating temperature T.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G01B 7/16 G01L 1/22 Z ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location G01B 7/16 G01L 1/22 Z

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 重量比にて、クロム1〜35%、コバル
ト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデン
10%以下、ニオブ10%以下およびタンタル10%以
下の1種あるいは2種以上の合計0.001〜15%、
副成分としてマンガン10%以下、銅10%以下、白金
10%以下、ロジウム10%以下、パラジウム10%以
下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウム10%以
下、イリジウム10%以下、オスミウム10%以下、ハ
フニウム10%以下、バナジウム10%以下、アルミニ
ウム10%以下、シリコン10%以下、チタン10%以
下、希土類元素10%以下、ジルコニウム5%以下、テ
クネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%
以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3
%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以下のうち1種
あるいは2種以上の合計0.001〜20%および残部
鉄と少量の不純物とからなり、ゲージ率が2以上を有す
ることを特徴とするストレインゲージ用合金。
1. A weight ratio of one or more of chromium 1-35%, cobalt 15-70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less and tantalum 10% or less. 0.001-15%,
As secondary components, manganese 10% or less, copper 10% or less, platinum 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10 % Or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium. 5%
Below, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3
% Or less, 1% or less of boron and 1% or less of carbon, a total of 0.001 to 20% of one or more kinds and the balance iron and a small amount of impurities, and have a gauge factor of 2 or more. Strain gauge alloy.
【請求項2】 重量比にて、クロム1〜35%、コバル
ト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデン
10%以下、ニオブ10%以下、タンタル10%以下お
よびアルミニウム10%以下の1種あるいは2種以上の
合計0.001〜15%、副成分としてマンガン10%
以下、銅10%以下、白金10%以下、ロジウム10%
以下、パラジウム10%以下、金10%以下、銀10%
以下、ルテニウム10%以下、イリジウム10%以下、
オスミウム10%以下、ハフニウム10%以下、バナジ
ウム10%以下、シリコン10%以下、チタン10%以
下、希土類元素10%以下、ジルコニウム5%以下、テ
クネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%
以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3
%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以下のうち1種
あるいは2種以上の合計0.001〜20%および残部
鉄と少量の不純物とからなり、ゲージ率が2以上を有す
ることを特徴とするストレインゲージ用合金。
2. By weight ratio, one or more of chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less, tantalum 10% or less and aluminum 10% or less, or 0.001 to 15% in total of two or more kinds, and 10% manganese as an accessory component
Below, copper 10% or less, platinum 10% or less, rhodium 10%
Below, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10%
Below, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less,
Osmium 10% or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5%.
Below, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3
% Or less, 1% or less of boron and 1% or less of carbon, a total of 0.001 to 20% of one or more kinds and the balance iron and a small amount of impurities, and have a gauge factor of 2 or more. Strain gauge alloy.
【請求項3】 重量比にて、クロム1〜35%、コバル
ト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデン
10%以下、ニオブ10%以下およびタンタル10%以
下の1種あるいは2種以上の合計0.001〜15%、
副成分としてマンガン10%以下、銅10%以下、白金
10%以下、ロジウム10%以下、パラジウム10%以
下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウム10%以
下、イリジウム10%以下、オスミウム10%以下、ハ
フニウム10%以下、バナジウム10%以下、シリコン
10%以下、チタン10%以下、希土類元素10%以
下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5%以下、亜
鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%以下、アン
チモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ素1%以下
および炭素1%以下のうち1種あるいは2種以上の合計
0.001〜20%および残部鉄と少量の不純物とから
なり、ゲージ率が2以上を有することを特徴とするスト
レインゲージ用合金。
3. A weight ratio of one or more of chromium 1-35%, cobalt 15-70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less and tantalum 10% or less. 0.001-15%,
As secondary components, manganese 10% or less, copper 10% or less, platinum 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10 % Or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin. 5% or less, 5% or less of antimony, 3% or less of beryllium, 1% or less of boron, and 1% or less of carbon, and 0.001 to 20% in total, and the balance iron and a small amount of impurities, A strain gauge alloy having a gauge factor of 2 or more.
【請求項4】 重量比にて、クロム1〜35%、コバル
ト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデン
10%以下、ニオブ10%以下およびタンタル10%以
下の1種あるいは2種以上の合計0.001〜15%、
副成分としてマンガン10%以下、銅10%以下、白金
10%以下、ロジウム10%以下、パラジウム10%以
下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウム10%以
下、イリジウム10%以下、オスミウム10%以下、ハ
フニウム10%以下、バナジウム10%以下、アルミニ
ウム10%以下、シリコン10%以下、チタン10%以
下、希土類元素10%以下、ジルコニウム5%以下、テ
クネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%
以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3
%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以下のうち1種
あるいは2種以上の合計0.001〜20%および残部
鉄と少量の不純物とからなる合金組成の原料を、非酸化
性ガス、還元性ガスあるいは真空中において溶解した
後、適当な鋳型で鋳造し、得られたインゴットを熱間加
工により所望の丸棒あるいは板材となし、ついで冷間加
工を施して線材あるいは箔材となすか、あるいは該線材
あるいは該箔材に、さらに非酸化性ガス、還元性ガスあ
るいは真空中の400℃以上1200℃以下の温度で適
当な時間加熱後冷却することを特徴とするゲージ率が2
以上を有するストレインゲージ用合金の製造法。
4. A total of one or more of chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less and tantalum 10% or less by weight ratio. 0.001-15%,
As secondary components, manganese 10% or less, copper 10% or less, platinum 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10 % Or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium. 5%
Below, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3
% Or less, 1% or less of boron and 1% or less of carbon, a total of 0.001 to 20% of one kind or two or more kinds, and a raw material having an alloy composition consisting of the balance iron and a small amount of impurities are reduced with a non-oxidizing gas and reduction. After melting in a suitable gas or vacuum, cast in a suitable mold, the obtained ingot is formed into a desired round bar or plate by hot working, and then cold working is performed to form a wire or foil, or Alternatively, the wire material or the foil material is further heated at a temperature of 400 ° C. or more and 1200 ° C. or less in a non-oxidizing gas, a reducing gas or a vacuum for an appropriate time and then cooled, and has a gauge factor of 2
A method for producing a strain gauge alloy having the above.
【請求項5】 重量比にて、クロム1〜35%、コバル
ト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデン
10%以下、ニオブ10%以下、タンタル10%以下お
よびアルミニウム10%以下の1種あるいは2種以上の
合計0.001〜15%、副成分としてマンガン10%
以下、銅10%以下、白金10%以下、ロジウム10%
以下、パラジウム10%以下、金10%以下、銀10%
以下、ルテニウム10%以下、イリジウム10%以下、
オスミウム10%以下、ハフニウム10%以下、バナジ
ウム10%以下、シリコン10%以下、チタン10%以
下、希土類元素10%以下、ジルコニウム5%以下、テ
クネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%
以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3
%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以下のうち1種
あるいは2種以上の合計0.001〜20%および残部
鉄と少量の不純物とからなる合金組成の原料を、非酸化
性ガス、還元性ガスあるいは真空中において溶解した
後、適当な鋳型で鋳造し、得られたインゴットを熱間加
工により所望の丸棒あるいは板材となし、ついで冷間加
工を施して線材あるいは箔材となすか、あるいは該線材
あるいは該箔材に、さらに非酸化性ガス、還元性ガスあ
るいは真空中の400℃以上1200℃以下の温度で適
当な時間加熱後冷却することを特徴とするゲージ率が2
以上を有するストレインゲージ用合金の製造法。
5. By weight ratio, one or more of chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less, tantalum 10% or less and aluminum 10% or less, or 0.001 to 15% in total of two or more kinds, and 10% manganese as an accessory component
Below, copper 10% or less, platinum 10% or less, rhodium 10%
Below, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10%
Below, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less,
Osmium 10% or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5%.
Below, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3
% Or less, 1% or less of boron and 1% or less of carbon, a total of 0.001 to 20% of one kind or two or more kinds, and a raw material having an alloy composition consisting of the balance iron and a small amount of impurities are reduced with a non-oxidizing gas and reduction. After melting in a suitable gas or vacuum, cast in a suitable mold, the obtained ingot is formed into a desired round bar or plate by hot working, and then cold working is performed to form a wire or foil, or Alternatively, the wire material or the foil material is further heated at a temperature of 400 ° C. or more and 1200 ° C. or less in a non-oxidizing gas, a reducing gas or a vacuum for an appropriate time and then cooled, and has a gauge factor of 2
A method for producing a strain gauge alloy having the above.
【請求項6】 重量比にて、クロム1〜35%、コバル
ト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデン
10%以下、ニオブ10%以下およびタンタル10%以
下の1種あるいは2種以上の合計0.001〜15%、
副成分としてマンガン10%以下、銅10%以下、白金
10%以下、ロジウム10%以下、パラジウム10%以
下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウム10%以
下、イリジウム10%以下、オスミウム10%以下、ハ
フニウム10%以下、バナジウム10%以下、シリコン
10%以下、チタン10%以下、希土類元素10%以
下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5%以下、亜
鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%以下、アン
チモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ素1%以下
および炭素1%以下のうち1種あるいは2種以上の合計
0.001〜20%および残部鉄と少量の不純物とから
なる合金組成の原料を、非酸化性ガス、還元性ガスある
いは真空中において溶解した後、適当な鋳型で鋳造し、
得られたインゴットを熱間加工により所望の丸棒あるい
は板材となし、ついで冷間加工を施して線材あるいは箔
材となすか、あるいは該線材あるいは該箔材に、さらに
非酸化性ガス、還元性ガスあるいは真空中の400℃以
上12000℃以下の温度で適当な時間加熱後冷却する
ことを特徴とするゲージ率が2以上を有するストレイン
ゲージ用合金の製造法。
6. A weight ratio of 1 to 2 or more of chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less and tantalum 10% or less. 0.001-15%,
As secondary components, manganese 10% or less, copper 10% or less, platinum 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10 % Or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin. 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less, and carbon 1% or less, a total of 0.001 to 20% of one or more, and the balance iron and a small amount of impurities. The raw material of the composition is melted in a non-oxidizing gas, a reducing gas or a vacuum, and then cast in an appropriate mold,
The obtained ingot is hot-worked to form a desired round bar or plate, and then cold-worked to form a wire or foil, or the wire or foil is further non-oxidizing gas, reducing A method for producing a strain gauge alloy having a gauge factor of 2 or more, which comprises heating at a temperature of 400 ° C. or more and 12000 ° C. or less in a gas or vacuum for an appropriate time and then cooling.
【請求項7】 重量比にて、クロム1〜35%、コバル
ト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデン
10%以下、ニオブ10%以下およびタンタル10%以
下の1種あるいは2種以上の合計0.001〜15%、
副成分としてマンガン10%以下、銅10%以下、白金
10%以下、ロジウム10%以下、パラジウム10%以
下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウム10%以
下、イリジウム10%以下、オスミウム10%以下、ハ
フニウム10%以下、バナジウム10%以下、アルミニ
ウム10%以下、シリコン10%以下、チタン10%以
下、希土類元素10%以下、ジルコニウム5%以下、テ
クネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%
以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3
%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以下のうち1種
あるいは2種以上の合計0.001〜20%および残部
鉄と少量の不純物とからなる合金組成の原料を、非酸化
性ガス、還元性ガスあるいは真空中において溶解した後
適当な鋳型で鋳造し、得られたインゴットを熱間加工に
より所望の丸棒あるいは板材となし、ついで冷間加工を
施して線材あるいは箔材となし、そのままかあるいはさ
らに非酸化性ガス、還元性ガスあるいは真空中の400
℃以上1200℃以下の温度で適当な時間加熱冷却した
該線材あるいは該箔材を、適当なベース面に貼付して素
子となし、必要ならば温度補償として、該素子と直角成
分の素子を同一面内に構築してゲージパターンを形成す
ることを特徴とするストレインゲージ。
7. A total of one or more of 1 to 35% by weight of chromium, 1 to 35% of chromium, 15 to 70% of cobalt and 10% or less of tungsten, 10% or less of molybdenum, 10% or less of niobium and 10% or less of tantalum. 0.001-15%,
As secondary components, manganese 10% or less, copper 10% or less, platinum 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10 % Or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium. 5%
Below, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3
% Or less, 1% or less of boron and 1% or less of carbon, a total of 0.001 to 20% of one kind or two or more kinds, and a raw material having an alloy composition consisting of the balance iron and a small amount of impurities are reduced with a non-oxidizing gas and reduction. After melting in a neutral gas or vacuum and casting in an appropriate mold, the ingot obtained is hot-worked to form the desired round bar or plate, and then cold-worked to form the wire or foil, or as is. Alternatively, 400 in a non-oxidizing gas, reducing gas or vacuum
The wire or foil material heated and cooled at a temperature of ℃ to 1200 ℃ for a suitable time is attached to a suitable base surface to form an element, and if necessary, the element and the element having a quadrature component are the same as temperature compensation. A strain gauge characterized by being constructed in-plane to form a gauge pattern.
【請求項8】 重量比にて、クロム1〜35%、コバル
ト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデン
10%以下、ニオブ10%以下、タンタル10%以下お
よびアルミニウム10%以下の1種あるいは2種以上の
合計0.001〜15%、副成分としてマンガン10%
以下、銅10%以下、白金10%以下、ロジウム10%
以下、パラジウム10%以下、金10%以下、銀10%
以下、ルテニウム10%以下、イリジウム10%以下、
オスミウム10%以下、ハフニウム10%以下、バナジ
ウム10%以下、シリコン10%以下、チタン10%以
下、希土類元素10%以下、ジルコニウム5%以下、テ
クネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%
以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、ベリリウム3
%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以下のうち1種
あるいは2種以上の合計0.001〜20%および残部
鉄と少量の不純物とからなる合金組成の原料を、非酸化
性ガス、還元性ガスあるいは真空中において溶解した後
適当な鋳型で鋳造し、得られたインゴットを熱間加工に
より所望の丸棒あるいは板材となし、ついで冷間加工を
施して線材あるいは箔材となし、そのままかあるいはさ
らに非酸化性ガス、還元性ガスあるいは真空中の400
℃以上1200℃以下の温度で適当な時間加熱後冷却し
た該線材あるいは該箔材を適当なベース面に貼付して素
子となし、必要ならば温度補償として、該素子と直角成
分の素子を同一面内に構築してゲージパターンを形成す
ることを特徴とするストレインゲージ。
8. By weight ratio, one or more of chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less, tantalum 10% or less and aluminum 10% or less, or 0.001 to 15% in total of two or more kinds, and 10% manganese as an accessory component
Below, copper 10% or less, platinum 10% or less, rhodium 10%
Below, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10%
Below, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less,
Osmium 10% or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5%.
Below, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3
% Or less, 1% or less of boron and 1% or less of carbon, a total of 0.001 to 20% of one kind or two or more kinds, and a raw material having an alloy composition consisting of the balance iron and a small amount of impurities are reduced with a non-oxidizing gas and reduction. After melting in a neutral gas or vacuum and casting in an appropriate mold, the ingot obtained is hot-worked to form the desired round bar or plate, and then cold-worked to form the wire or foil, or as is. Alternatively, 400 in a non-oxidizing gas, reducing gas or vacuum
The wire or foil, which has been heated at a temperature of ℃ or more and 1200 ℃ or less for a suitable time and then cooled, is attached to a suitable base surface to form an element. If necessary, the element and the element of the orthogonal component are the same as temperature compensation. A strain gauge characterized by being constructed in-plane to form a gauge pattern.
【請求項9】 重量比にて、クロム1〜35%、コバル
ト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデン
10%以下、ニオブ10%以下およびタンタル10%以
下の1種あるいは2種以上の合計0.001〜15%、
副成分としてマンガン10%以下、銅10%以下、白金
10%以下、ロジウム10%以下、パラジウム10%以
下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウム10%以
下、イリジウム10%以下、オスミウム10%以下、ハ
フニウム10%以下、バナジウム10%以下、シリコン
10%以下、チタン10%以下、希土類元素10%以
下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5%以下、亜
鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%以下、アン
チモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ素1%以下
および炭素1%以下のうち1種あるいは2種以上の合計
0.001〜20%および残部鉄と少量の不純物とから
なる合金組成の原料を、非酸化性ガス、還元性ガスある
いは真空中において溶解した後適当な鋳型で鋳造し、得
られたインゴットを熱間加工により所望の丸棒あるいは
板材となし、ついで冷間加工を施して線材あるいは箔材
となし、そのままかあるいはさらに非酸化性ガス、還元
性ガスあるいは真空中の400℃以上1200℃以下の
温度で適当な時間加熱後冷却した該線材あるいは該箔材
を、適当なベース面に貼付して素子となし、必要ならば
温度補償として、該素子と直角成分の素子を同一面内に
構築してゲージパターンを形成することを特徴とするス
トレインゲージ。
9. By weight ratio, one or more of chromium 1-35%, cobalt 15-70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less and tantalum 10% or less, or a total of two or more thereof. 0.001-15%,
As secondary components, manganese 10% or less, copper 10% or less, platinum 10% or less, rhodium 10% or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10 % Or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin. 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less, and carbon 1% or less, a total of 0.001 to 20% of one or more, and the balance iron and a small amount of impurities. The raw material of the composition is melted in a non-oxidizing gas, a reducing gas or in a vacuum and then cast in an appropriate mold, and the obtained ingot is The desired round bar or plate is formed by hot working, and then cold working is performed to form a wire or foil, either as it is or further in a non-oxidizing gas, reducing gas, or vacuum at a temperature of 400 ° C to 1200 ° C. Then, the wire or foil that has been heated and cooled for an appropriate time is attached to an appropriate base surface to form an element, and if necessary, as a temperature compensation, an element having a component orthogonal to the element is constructed in the same plane. A strain gauge that is characterized by forming a gauge pattern.
【請求項10】 重量比にて、クロム1〜35%、コバ
ルト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデ
ン10%以下、ニオブ10%以下およびタンタル10%
以下の1種あるいは2種以上の合計0.001〜15
%、副成分としてマンガン10%以下、銅10%以下、
白金10%以下、ロジウム10%以下、パラジウム10
%以下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウム10
%以下、イリジウム10%以下、オスミウム10%以
下、ハフニウム10%以下、バナジウム10%以下、ア
ルミニウム10%以下、シリコン10%以下、チタン1
0%以下、希土類元素10%以下、ジルコニウム5%以
下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウ
ム5%以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、ベリリ
ウム3%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以下のう
ち1種あるいは2種以上の合計0.001〜20%およ
び残部鉄と少量の不純物とからなる合金を、電着、蒸
着、無電解メッキあるいはスパッタリングより選択した
方法で、所望の基板に薄膜を形成し、その後所望の形状
に打ち抜き、フォトエッチングあるいはトリミングなど
の加工を施して素子となし、必要ならば温度補償とし
て、該素子と直角成分の素子を同一面内に構築してゲー
ジパターンを形成し、さらに電極を構成したことを特徴
とする薄膜ストレインゲージ。
10. By weight, chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less and tantalum 10%.
0.001 to 15 in total of one or more of the following
%, Manganese 10% or less as a sub-component, copper 10% or less,
Platinum 10% or less, Rhodium 10% or less, Palladium 10
% Or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10
% Or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, titanium 1
0% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and Desirable by a method selected from electrodeposition, vapor deposition, electroless plating or sputtering of an alloy consisting of 0.001 to 20% in total of 1 or 2 or more of carbon 1% or less and the balance iron and a small amount of impurities. After forming a thin film on the substrate of, and then punching it into the desired shape, performing processing such as photoetching or trimming to form an element, if necessary, for temperature compensation, construct an element of a component orthogonal to this element in the same plane. The thin film strain gauge is characterized in that a gauge pattern is formed on the electrode and electrodes are further configured.
【請求項11】 重量比にて、クロム1〜35%、コバ
ルト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデ
ン10%以下、ニオブ10%以下、タンタル10%以下
およびアルミニウム10%以下の1種あるいは2種以上
の合計0.001〜15%、副成分としてマンガン10
%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロジウム10
%以下、パラジウム10%以下、金10%以下、銀10
%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム10%以
下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%以下、バ
ナジウム10%以下、シリコン10%以下、チタン10
%以下、希土類元素10%以下、ジルコニウム5%以
下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウ
ム5%以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、ベリリ
ウム3%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以下のう
ち1種あるいは2種以上の合計0.001〜20%およ
び残部鉄と少量の不純物からなる合金を、電着、蒸着、
無電解メッキあるいはスパッタリングより選択した方法
で所望の基板に薄膜を形成し、その後所望の形状に打ち
抜き、フォトエッチングあるいはトリミングなどの加工
を施して素子となし、必要ならば温度補償として、該素
子と直角成分の素子を同一面内に構築してゲージパター
ンを形成し、さらに電極を構成したことを特徴とする薄
膜ストレインゲージ。
11. A weight ratio of one of chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less, tantalum 10% or less and aluminum 10% or less, or 0.001 to 15% in total of two or more kinds, and manganese 10 as a subcomponent
% Or less, copper 10% or less, platinum 10% or less, rhodium 10
% Or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10
% Or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10
% Or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon. 1% or less, 0.001 to 20% in total of 1 or 2 or more, and an alloy composed of the balance iron and a small amount of impurities, electrodeposition, vapor deposition,
A thin film is formed on a desired substrate by a method selected from electroless plating or sputtering, and then punched into a desired shape and subjected to processing such as photoetching or trimming to form an element. A thin film strain gauge characterized in that elements of right-angled components are constructed in the same plane to form a gauge pattern, and electrodes are further configured.
【請求項12】 重量比にて、クロム1〜35%、コバ
ルト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデ
ン10%以下、ニオブ10%以下およびタンタル10%
以下の1種あるいは2種以上の合計0.001〜15
%、副成分としてマンガン10%以下、銅10%以下、
白金10%以下、ロジウム10%以下、パラジウム10
%以下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウム10
%以下、イリジウム10%以下、オスミウム10%以
下、ハフニウム10%以下、バナジウム10%以下、シ
リコン10%以下、チタン10%以下、希土類元素10
%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5%以
下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%以
下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ素
1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種以
上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不純
物とからなる合金を、電着、蒸着、無電解メッキあるい
はスパッタリングより選択した方法で、所望の基板に薄
膜を形成し、その後所望の形状に打ち抜き、フォトエッ
チングあるいはトリミングなどの加工を施して素子とな
し、必要ならば温度補償として、該素子と直角成分の素
子を同一面内に構築してゲージパターンを形成し、さら
に電極を構成したことを特徴とする薄膜ストレインゲー
ジ。
12. By weight ratio, chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less and tantalum 10%.
0.001 to 15 in total of one or more of the following
%, Manganese 10% or less as a sub-component, copper 10% or less,
Platinum 10% or less, Rhodium 10% or less, Palladium 10
% Or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10
% Or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10
% Or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon 1% or less 1 A thin film is formed on a desired substrate by a method selected from electrodeposition, vapor deposition, electroless plating, or sputtering of an alloy of 0.001 to 20% in total of two or more kinds and the balance iron and a small amount of impurities. After that, it is punched into a desired shape, subjected to processing such as photo etching or trimming to form an element, and if necessary, as a temperature compensation, an element having a component orthogonal to the element is constructed in the same plane to form a gauge pattern, Furthermore, a thin film strain gauge characterized by comprising electrodes.
【請求項13】 重量比にて、クロム1〜35%、コバ
ルト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデ
ン10%以下、ニオブ10%以下およびタンタル10%
以下の1種あるいは2種以上の合計0.001〜15
%、副成分としてマンガン10%以下、銅10%以下、
白金10%以下、ロジウム10%以下、パラジウム10
%以下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウム10
%以下、イリジウム10%以下、オスミウム10%以
下、ハフニウム10%以下、バナジウム10%以下、ア
ルミニウム10%以下、シリコン10%以下、チタン1
0%以下、希土類元素10%以下、ジルコニウム5%以
下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウ
ム5%以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、ベリリ
ウム3%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以下のう
ち1種あるいは2種以上の合計0.001〜20%およ
び残部鉄と少量の不純物とからなる合金を、電着、蒸
着、無電解メッキあるいはスパッタリングより選択した
方法で、所望の基板に薄膜を形成し、その後所望の形状
に打ち抜き、フォトエッチングあるいはトリミングなど
の加工を施して素子となし、必要ならば温度補償とし
て、該素子と直角成分の素子を同一面内に構築してゲー
ジパターンを形成し、さらに電極を構成した後、これを
さらに非酸化性ガス、還元性ガスあるいは真空中で熱処
理を施すことを特徴とする薄膜ストレインゲージ。
13. By weight, chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less and tantalum 10%.
0.001 to 15 in total of one or more of the following
%, Manganese 10% or less as a sub-component, copper 10% or less,
Platinum 10% or less, Rhodium 10% or less, Palladium 10
% Or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10
% Or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, titanium 1
0% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and Desirable by a method selected from electrodeposition, vapor deposition, electroless plating or sputtering of an alloy consisting of 0.001 to 20% in total of 1 or 2 or more of carbon 1% or less and the balance iron and a small amount of impurities. After forming a thin film on the substrate of, and then punching it into the desired shape, performing processing such as photoetching or trimming to form an element, if necessary, for temperature compensation, construct an element of a component orthogonal to this element in the same plane. After forming a gauge pattern with the electrode and further configuring an electrode, this is further subjected to heat treatment in a non-oxidizing gas, a reducing gas or a vacuum. Thin-film strain gauge that.
【請求項14】 重量比にて、クロム1〜35%、コバ
ルト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデ
ン10%以下、ニオブ10%以下、タンタル10%以下
およびアルミニウム10%以下の1種あるいは2種以上
の合計0.001〜15%、副成分としてマンガン10
%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロジウム10
%以下、パラジウム10%以下、金10%以下、銀10
%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム10%以
下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%以下、バ
ナジウム10%以下、シリコン10%以下、チタン10
%以下、希土類元素10%以下、ジルコニウム5%以
下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウ
ム5%以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、ベリリ
ウム3%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以下のう
ち1種あるいは2種以上の合計0.001〜20%およ
び残部鉄と少量の不純物とからなる合金を、電着、蒸
着、無電解メッキあるいはスパッタリングより選択した
方法で、所望の基板に薄膜を形成し、その後所望の形状
に打ち抜き、フォトエッチングあるいはトリミングなど
の加工を施して素子となし、必要ならば温度補償とし
て、該素子と直角成分の素子を同一面内に構築してゲー
ジパターンを形成し、さらに電極を構成した後、これを
さらに非酸化性ガス、還元性ガスあるいは真空中で熱処
理を施すことを特徴とする薄膜ストレインゲージ。
14. A weight ratio of one or more of chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less, tantalum 10% or less and aluminum 10% or less, or 0.001 to 15% in total of two or more kinds, and manganese 10 as a subcomponent
% Or less, copper 10% or less, platinum 10% or less, rhodium 10
% Or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10
% Or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10
% Or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon. 1% or less of 1% or less of 0.001 to 20% in total and an alloy composed of the balance iron and a small amount of impurities are selected by a method selected from electrodeposition, vapor deposition, electroless plating or sputtering. After forming a thin film on the substrate, punching it into a desired shape, performing photo-etching or trimming etc. to make an element, and if necessary, for temperature compensation, construct an element of a component orthogonal to the element in the same plane. The method is characterized in that after forming a gauge pattern and further forming an electrode, this is further heat-treated in a non-oxidizing gas, a reducing gas or a vacuum. Thin-film strain gauge.
【請求項15】 重量比にて、クロム1〜35%、コバ
ルト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデ
ン10%以下、ニオブ10%以下およびタンタル10%
以下の1種あるいは2種以上の合計0.001〜15
%、副成分としてマンガン10%以下、銅10%以下、
白金10%以下、ロジウム10%以下、パラジウム10
%以下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウム10
%以下、イリジウム10%以下、オスミウム10%以
下、ハフニウム10%以下、バナジウム10%以下、シ
リコン10%以下、チタン10%以下、希土類元素10
%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5%以
下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%以
下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ素
1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種以
上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不純
物とからなる合金を、電着、蒸着、無電解メッキあるい
はスパッタリングより選択した方法で、所望の基板に薄
膜を形成し、その後所望の形状に打ち抜き、フォトエッ
チングあるいはトリミングなどの加工を施して素子とな
し、必要ならば温度補償として、該素子と直角成分の素
子を同一面内に構築してゲージパターンを形成し、さら
に電極を構成した後、これをさらに非酸化性ガス、還元
性ガスあるいは真空中で熱処理を施すことを特徴とする
薄膜ストレインゲージ。
15. By weight ratio, chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less and tantalum 10%.
0.001 to 15 in total of one or more of the following
%, Manganese 10% or less as a sub-component, copper 10% or less,
Platinum 10% or less, Rhodium 10% or less, Palladium 10
% Or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10
% Or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10
% Or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon 1% or less 1 A thin film is formed on a desired substrate by a method selected from electrodeposition, vapor deposition, electroless plating, or sputtering of an alloy of 0.001 to 20% in total of two or more kinds and the balance iron and a small amount of impurities. After that, it is punched into a desired shape, subjected to processing such as photo etching or trimming to form an element, and if necessary, as a temperature compensation, an element having a component orthogonal to the element is constructed in the same plane to form a gauge pattern, Further, after forming the electrode, the thin film strain gauge is characterized by being further heat-treated in a non-oxidizing gas, a reducing gas or in a vacuum.
【請求項16】 重量比にて、クロム1〜35%、コバ
ルト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデ
ン10%以下、ニオブ10%以下およびタンタル10%
以下の1種あるいは2種以上の合計0.001〜15
%、副成分としてマンガン10%以下、銅10%以下、
白金10%以下、ロジウム10%以下、パラジウム10
%以下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウム10
%以下、イリジウム10%以下、オスミウム10%以
下、ハフニウム10%以下、バナジウム10%以下、ア
ルミニウム10%以下、シリコン10%以下、チタン1
0%以下、希土類元素10%以下、ジルコニウム5%以
下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウ
ム5%以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、ベリリ
ウム3%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以下のう
ち1種あるいは2種以上の合計0.001〜20%およ
び残部鉄と少量の不純物からなり、ゲージ率が2以上を
有するストレインゲージ用合金の線材、箔材および薄膜
よりなるストレインゲージ。
16. By weight ratio, chromium 1-35%, cobalt 15-70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less and tantalum 10%.
0.001 to 15 in total of one or more of the following
%, Manganese 10% or less as a sub-component, copper 10% or less,
Platinum 10% or less, Rhodium 10% or less, Palladium 10
% Or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10
% Or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, aluminum 10% or less, silicon 10% or less, titanium 1
0% or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and Consists of a wire rod, a foil and a thin film of a strain gauge alloy having a total of 0.001 to 20% of one or two or more carbons of 1% or less and the balance iron and a small amount of impurities, and having a gauge factor of 2 or more. Strain gauge.
【請求項17】 重量比にて、クロム1〜35%、コバ
ルト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデ
ン10%以下、ニオブ10%以下、タンタル10%以下
およびアルミニウム10%以下の1種あるいは2種以上
の合計0.001〜15%、副成分としてマンガン10
%以下、銅10%以下、白金10%以下、ロジウム10
%以下、パラジウム10%以下、金10%以下、銀10
%以下、ルテニウム10%以下、イリジウム10%以
下、オスミウム10%以下、ハフニウム10%以下、バ
ナジウム10%以下、シリコン10%以下、チタン10
%以下、希土類元素10%以下、ジルコニウム5%以
下、テクネチウム5%以下、亜鉛5%以下、ゲルマニウ
ム5%以下、錫5%以下、アンチモン5%以下、ベリリ
ウム3%以下、ホウ素1%以下および炭素1%以下のう
ち1種あるいは2種以上の合計0.001〜20%およ
び残部鉄と少量の不純物とからなり、ゲージ率が2以上
を有するストレインゲージ用合金の線材、箔材および薄
膜よりなるストレインゲージ。
17. A weight ratio of one or more of chromium 1 to 35%, cobalt 15 to 70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less, tantalum 10% or less and aluminum 10% or less, or 0.001 to 15% in total of two or more kinds, and manganese 10 as a subcomponent
% Or less, copper 10% or less, platinum 10% or less, rhodium 10
% Or less, palladium 10% or less, gold 10% or less, silver 10
% Or less, ruthenium 10% or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10
% Or less, rare earth element 10% or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon. 1% or less of 1% or less, 0.001 to 20% in total, the balance of iron and a small amount of impurities, and a strain gauge alloy wire having a gauge factor of 2 or more, a foil material, and a thin film. Strain gauge.
【請求項18】 重量比にて、クロム1〜35%、コバ
ルト15〜70%とタングステン10%以下、モリブデ
ン10%以下、ニオブ10%以下およびタンタル10%
以下の1種あるいは2種以上の合計0.001〜15
%、副成分としてマンガン10%以下、銅10%以下、
白金10%以下、ロジウム10%以下、パラジウム10
%以下、金10%以下、銀10%以下、ルテニウム10
%以下、イリジウム10%以下、オスミウム10%以
下、ハフニウム10%以下、バナジウム10%以下、シ
リコン10%以下、チタン10%以下、希土類元素10
%以下、ジルコニウム5%以下、テクネチウム5%以
下、亜鉛5%以下、ゲルマニウム5%以下、錫5%以
下、アンチモン5%以下、ベリリウム3%以下、ホウ素
1%以下および炭素1%以下のうち1種あるいは2種以
上の合計0.001〜20%および残部鉄と少量の不純
物とからなり、ゲージ率が2以上を有するストレインゲ
ージ用台金の線材、箔材および薄膜よりなるストレイン
ゲージ。
18. By weight ratio, chromium 1-35%, cobalt 15-70% and tungsten 10% or less, molybdenum 10% or less, niobium 10% or less and tantalum 10%.
0.001 to 15 in total of one or more of the following
%, Manganese 10% or less as a sub-component, copper 10% or less,
Platinum 10% or less, Rhodium 10% or less, Palladium 10
% Or less, gold 10% or less, silver 10% or less, ruthenium 10
% Or less, iridium 10% or less, osmium 10% or less, hafnium 10% or less, vanadium 10% or less, silicon 10% or less, titanium 10% or less, rare earth element 10
% Or less, zirconium 5% or less, technetium 5% or less, zinc 5% or less, germanium 5% or less, tin 5% or less, antimony 5% or less, beryllium 3% or less, boron 1% or less and carbon 1% or less 1 A strain gauge comprising a wire material, a foil material and a thin film of a strain gauge base metal having a total of 0.001 to 20% of two or more kinds and the balance iron and a small amount of impurities and having a gauge ratio of 2 or more.
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