JPH08174429A - Rotary dresser - Google Patents
Rotary dresserInfo
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- JPH08174429A JPH08174429A JP6334878A JP33487894A JPH08174429A JP H08174429 A JPH08174429 A JP H08174429A JP 6334878 A JP6334878 A JP 6334878A JP 33487894 A JP33487894 A JP 33487894A JP H08174429 A JPH08174429 A JP H08174429A
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- diamond abrasive
- abrasive grains
- rotary dresser
- inorganic particles
- inorganic
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ＷＡ、ＧＣなどの研削
砥石、あるいはＣＢＮ（立方晶窒化ホウ素）などの超砥
粒砥石のドレッシングに用いられるロータリードレッサ
に関する。さらに詳しくは、本発明は、ダイヤモンド砥
粒の集中度が低く、研削抵抗が低く切れ味が良好で、研
削焼けを生ずることなく、精度よく研削を行うことを可
能とする反転式の電鋳ロータリードレッサに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rotary dresser used for dressing a grinding wheel such as WA or GC or a superabrasive wheel such as CBN (cubic boron nitride). More specifically, the present invention has a low concentration of diamond abrasive grains, a low grinding resistance and a good sharpness, and an inversion type electroformed rotary dresser that enables accurate grinding without causing grinding burn. Regarding
【０００２】[0002]
【従来の技術】ロータリードレッサは、ロール外周面に
ダイヤモンド砥粒を埋め込み固定した回転式のドレッサ
で、ドレッサを回転させながら研削砥石に押し当てるこ
とにより研削砥石にドレッサの形状を転写するものであ
る。ロータリードレッサは、ドレッシング時間を大幅に
短縮することができ、ドレッシング精度の再現性が高
く、高度な自動化が容易であり、研削コストを低減する
ことができるので、広く使用されるようになっている。
ロータリードレッサは、その製法から焼結ロータリード
レッサと電鋳ロータリードレッサに分けられる。焼結ロ
ータリードレッサは、ドレッサの外周面にダイヤモンド
砥粒を緻密に手植えしたのち焼結金属で固着したもの
で、耐久性にすぐれているが、精細な形状のものは製作
しがたい。電鋳ロータリードレッサは、ダイヤモンド砥
粒を電気メッキ法により金属で固着したものであり、製
造工程での温度が焼結に比べ低いため、精密に仕上げた
母型の形状をそのまま表面に反転することができるの
で、精細な形状のものを高精度に製作することができ
る。電鋳ロータリードレッサは、通常ダイヤモンド砥粒
を母型内周面に充填し、電気メッキによりダイヤモンド
砥粒の一層分を母型内周面に仮固定したのち余剰のダイ
ヤモンド砥粒を除去し、さらに電気メッキにより電鋳し
てダイヤモンド砥粒を固着する。そのため、ダイヤモン
ド砥粒は一層分が密に充填し、集中度が非常に高く１５
０〜２００（６.６〜８.８ｃｔ／cm3）にも達する。こ
のように砥粒間隔が小さいと、研削砥石への切り込みが
かかりにくく、砥石表面の砥粒が切れ刃の少ない平らな
状態となり、結果として研削抵抗が高くなるという問題
があった。ロータリードレッサのダイヤモンド砥粒の集
中度を調整し、性能を向上するために、これまでにいく
つかの方法が試みられている。例えば、特公昭５３−１
１１１２号公報には、ロータリードレッサの外周表面に
凹溝を設けることが提案されている。この方法によれ
ば、ロータリードレッサの外周表面の平均的な集中度は
低下するが、ダイヤモンド砥粒が存在する部分の集中度
は依然として高く、上記の問題を解決するには至らな
い。特公昭６２−４７６６９号公報には、型壁に予めガ
ラス玉などを手で植えつけておき、補填法によるダイヤ
モンド砥粒がガラス玉の占める面積分だけ少なくセット
されることにより集中度を調整する方法が提案されてい
る。この方法では、ガラス玉などの植えつけは接着剤を
使用して手作業で行うため、非常に手間がかかる上に、
粒度の細かいダイヤモンド砥粒には適用できず、さらに
依然としてダイヤモンドが密集する部分が残る点も問題
である。2. Description of the Related Art A rotary dresser is a rotary dresser in which diamond abrasive grains are embedded and fixed on the outer peripheral surface of a roll, and the shape of the dresser is transferred to the grinding wheel by pressing it against the grinding wheel while rotating the dresser. . Rotary dressers have been widely used because they can significantly reduce the dressing time, have high reproducibility of dressing accuracy, facilitate high degree of automation, and reduce grinding cost. .
The rotary dresser is divided into a sintered rotary dresser and an electroformed rotary dresser according to its manufacturing method. A sintered rotary dresser is one in which diamond abrasive grains are densely hand-planted on the outer peripheral surface of a dresser and then fixed with a sintered metal. It has excellent durability, but it is difficult to produce a fine shape. The electroformed rotary dresser is made by fixing diamond abrasive grains with metal by electroplating, and the temperature in the manufacturing process is lower than that of sintering. Therefore, it is possible to manufacture a fine shape with high precision. The electroformed rotary dresser is usually filled with diamond abrasive grains on the inner peripheral surface of the mother die, and is electroplated to temporarily fix one layer of the diamond abrasive grains on the inner peripheral surface of the mother die, and then removes excess diamond abrasive grains. Electroplating is performed by electroplating to fix diamond abrasive grains. Therefore, one layer of diamond abrasive grains is densely packed and the concentration is very high.
It reaches 0 to 200 (6.6 to 8.8 ct / cm 3 ). If the interval between the abrasive grains is small as described above, it is difficult to cut into the grinding stone, the abrasive grains on the surface of the stone become flat with few cutting edges, and as a result, there is a problem that the grinding resistance increases. Several methods have been attempted so far in order to adjust the concentration of diamond abrasive grains in a rotary dresser and improve the performance. For example, Japanese Patent Publication Sho 53-1
Japanese Patent No. 1112 proposes to provide a groove on the outer peripheral surface of the rotary dresser. According to this method, the average degree of concentration on the outer peripheral surface of the rotary dresser decreases, but the degree of concentration on the portion where the diamond abrasive grains are present is still high, and the above problem cannot be solved. In Japanese Examined Patent Publication No. 62-47669, glass balls or the like are planted in advance on the mold wall by hand, and the diamond abrasive grains by the filling method are set to be small by the area occupied by the glass balls to adjust the degree of concentration. A method has been proposed. With this method, planting such as glass beads is done manually using an adhesive, so it is very time-consuming and
It cannot be applied to fine-grained diamond abrasive grains, and there is still a problem in that a portion where diamonds are still dense remains.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ダイヤモン
ド砥粒の集中度を任意に調整し、ダイヤモンド砥粒間隔
を広げることにより、研削砥石への切り込みがかかりや
すくドレッシングの際の抵抗が減少し、砥石表面におい
ても砥粒の間隔が広がり、被削材との間の研削抵抗が減
少し、良好な研削を行うことができるロータリードレッ
サを提供することを目的としてなされたものである。DISCLOSURE OF THE INVENTION According to the present invention, the degree of concentration of diamond abrasive grains is arbitrarily adjusted and the intervals of diamond abrasive grains are widened, whereby cutting into a grinding wheel is likely to occur and resistance during dressing is reduced. The object of the present invention is to provide a rotary dresser capable of performing excellent grinding by widening the intervals of the abrasive grains on the surface of the grindstone, reducing the grinding resistance with the work material.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ダイヤモンド砥
粒と無機物粒子を混合して母型内面に充填し、電気メッ
キによりダイヤモンド砥粒と無機物粒子を固着すること
により、任意の集中度を有するロータリードレッサを得
ることができることを見いだし、この知見に基づいて本
発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、（１）
ダイヤモンド砥粒と無機物粒子を混合して母型内周面に
充填し、電気メッキによって母型内周面に一層分を仮固
定したのち余剰のダイヤモンド砥粒と無機物粒子を除去
し、さらに電気メッキにより電鋳してダイヤモンド砥粒
と無機物粒子を固着し、鉄芯金を母型中央部に固定し、
母型を除去してなることを特徴とするロータリードレッ
サ、（２）無機物粒子がガラス粒子である第(１)項記載
のロータリードレッサ、（３）無機物粒子がダイヤモン
ド砥粒に厚さ１０〜１００μｍの無機質のコーティング
を施したものである第(１)項記載のロータリードレッ
サ、（４）無機物粒子の密度が３.０〜４.０ｇ／cm3で
あり、無機物粒子の粒度とダイヤモンド砥粒の粒度の差
がＪＩＳ Ｂ ４１３０に定める粒度の種類の上下１水準
以内である第(１)〜(３)項記載のロータリードレッサ、
及び、（５）ダイヤモンド砥粒と無機物粒子の重量比
が、１：０.０５ないし１：２である第(１)〜(４)項記
載のロータリードレッサ、を提供するものである。As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have mixed diamond abrasive grains and inorganic particles to fill the inner surface of the mother die and electroplated diamond. It has been found that a rotary dresser having an arbitrary degree of concentration can be obtained by fixing the abrasive grains and the inorganic particles, and the present invention has been completed based on this finding. That is, the present invention provides (1)
Mix diamond abrasive grains and inorganic particles and fill the inner peripheral surface of the master die, temporarily fix one layer on the inner peripheral surface of the master die by electroplating, remove excess diamond abrasive particles and inorganic particles, and then electroplate By electroforming by fixing diamond abrasive grains and inorganic particles, fixing the iron cored bar in the central part of the mold,
A rotary dresser characterized by removing a matrix, (2) the rotary dresser according to item (1), wherein the inorganic particles are glass particles, and (3) the inorganic particles are diamond abrasive grains having a thickness of 10 to 100 μm. The rotary dresser according to item (1), wherein the inorganic coating has a density of 3.0 to 4.0 g / cm 3 , and the particle size of the inorganic particles and the diamond abrasive grains are The rotary dresser according to (1) to (3), wherein the difference in particle size is within one level above and below the type of particle size defined in JIS B 4130.
And (5) the rotary dresser according to any one of (1) to (4), wherein the weight ratio of the diamond abrasive grains and the inorganic particles is 1: 0.05 to 1: 2.
【０００５】本発明において、ダイヤモンド砥粒と混合
する無機物粒子は、電気絶縁性を有するものであれば特
に制限なく使用することができる。このような無機物粒
子としては、例えば、ガラス、炭化珪素、窒化珪素、ア
ルミナ、ジルコニアなどの粒子を挙げることができ、さ
らにダイヤモンド砥粒に無機質のコーティングを施した
ものも使用することができる。これらの無機物粒子の中
で、ガラス及びダイヤモンド砥粒に無機質のコーティン
グを施したものを好適に使用することができる。ガラス
は、通常等方性であり、周期表にある９０種類以上の元
素をその構造中に取り込み、非化学量論的な組成のガラ
スを形成することができるので、その密度を広い範囲に
わたって選択することができる。本発明に使用するガラ
スとしては、ソルダーガラスが特に好適である。ダイヤ
モンド砥粒に無機質のコーティングを施したものは、ダ
イヤモンド砥粒とその形状及び密度が近似しているの
で、特に好適に使用することができる。ダイヤモンド砥
粒に無機質のコーティングを施す方法には特に制限はな
く、例えば、スパッタリングなどによりガラスなどをコ
ーティングすることができる。無機質のコーティングの
厚さは、１０〜１００μｍであることが好ましく、１０
〜６０μｍであることがより好ましく、１０〜３０μｍ
であることがさらに好ましい。無機質のコーティングの
厚さが１０μｍ未満であると、コーティングが除去され
てダイヤモンド砥粒が露出し、ロータリードレッサの集
中度が上昇するおそれがある。無機質のコーティングの
厚さが１００μｍを超えると、コーティングに要する費
用が嵩む。In the present invention, the inorganic particles to be mixed with the diamond abrasive particles can be used without particular limitation as long as they have electrical insulation. Examples of such inorganic particles include particles of glass, silicon carbide, silicon nitride, alumina, zirconia, and the like, and also particles of diamond abrasives coated with an inorganic material can be used. Among these inorganic particles, glass and diamond abrasive particles coated with an inorganic material can be preferably used. Glass is usually isotropic, and since 90 or more kinds of elements in the periodic table can be incorporated into its structure to form a glass having a non-stoichiometric composition, its density can be selected over a wide range. can do. Solder glass is particularly suitable as the glass used in the present invention. A diamond abrasive grain coated with an inorganic material has a shape and density similar to those of the diamond abrasive grain, and thus can be used particularly preferably. The method of applying the inorganic coating to the diamond abrasive grains is not particularly limited, and for example, glass or the like can be coated by sputtering or the like. The thickness of the inorganic coating is preferably 10 to 100 μm, and 10
It is more preferable that it is -60 μm, and it is 10-30 μm.
Is more preferable. When the thickness of the inorganic coating is less than 10 μm, the coating may be removed to expose the diamond abrasive grains, and the concentration of the rotary dresser may increase. If the thickness of the inorganic coating exceeds 100 μm, the cost required for coating increases.
【０００６】本発明において、ダイヤモンド砥粒と混合
する無機物粒子は、ダイヤモンド砥粒と、密度、粒度及
び形状が類似したものであることが好ましい。ダイヤモ
ンドの密度は、通常３.１５〜３.５３ｇ／cm3であるの
で、混合する無機物粒子の密度は、３.０〜４.０ｇ／cm
3であることが好ましく、３.２〜３.８ｇ／cm3であるこ
とがより好ましく、３.４〜３.６ｇ／cm3であることが
さらに好ましい。混合する無機物粒子の密度が３.０ｇ
／cm3未満であっても、４.０ｇ／cm3を超えても、ダイ
ヤモンド砥粒と無機物粒子の均一な混合が困難になり、
ロータリードレッサ表面においてダイヤモンド砥粒と無
機物粒子が均一に分布しないおそれがある。本発明にお
いて、ダイヤモンド砥粒と混合する無機物粒子の粒度
は、無機物粒子とダイヤモンド砥粒の粒度の差が、ＪＩ
Ｓ Ｂ ４１３０-1982の表１に定める粒度の種類の上下
１水準以内であることが好ましい。例えば、使用するダ
イヤモンド砥粒の粒度が３０／４０であれば、混合する
無機物粒子の粒度は２０／３０、３０／４０又は４０／
５０であることが好ましく、使用するダイヤモンド砥粒
の粒度が６０／８０であれば、混合する無機物粒子の粒
度は５０／６０、６０／８０又は８０／１００であるこ
とが好ましい。無機物粒子とダイヤモンド砥粒の粒度の
差が、ＪＩＳ Ｂ ４１３０の表１に定める粒度の種類の
上下２水準以上であると、ダイヤモンド砥粒と無機物粒
子の均一な混合が困難になり、ロータリードレッサ表面
においてダイヤモンド砥粒と無機物粒子が均一に分布し
ないおそれがある。粒度の異なる２種以上のダイヤモン
ド砥粒を混合して使用するときは、混合する無機物粒子
も２種以上とし、それぞれのダイヤモンド砥粒の粒度と
の差がＪＩＳ Ｂ ４１３０の表１に定める粒度の種類の
上下１水準以内であるものを選定する。混合する無機物
粒子の粒度は、ＪＩＳ Ｂ ４１３０に準じて測定するこ
とができる。In the present invention, it is preferable that the inorganic particles mixed with the diamond abrasive grains have similar density, particle size and shape to the diamond abrasive grains. Since the density of diamond is usually 3.15 to 3.53 g / cm 3 , the density of the inorganic particles to be mixed is 3.0 to 4.0 g / cm 3.
Preferably 3 is, more preferably 3.2~3.8g / cm 3, further preferably 3.4~3.6g / cm 3. The density of the mixed inorganic particles is 3.0g
Even if it is less than / cm 3 or more than 4.0 g / cm 3 , it becomes difficult to uniformly mix the diamond abrasive grains and the inorganic particles.
Diamond abrasive grains and inorganic particles may not be uniformly distributed on the surface of the rotary dresser. In the present invention, the particle size of the inorganic particles to be mixed with the diamond abrasive is such that the difference in particle size between the inorganic particles and the diamond abrasive is JI.
It is preferably within 1 level above and below the type of grain size defined in Table 1 of SB 4130-1982 . For example, if the particle size of the diamond abrasive grains used is 30/40, the particle size of the inorganic particles to be mixed is 20/30, 30/40 or 40 /
50 is preferable, and when the particle size of the diamond abrasive grains used is 60/80, the particle size of the inorganic particles to be mixed is preferably 50/60, 60/80 or 80/100. If the difference in particle size between the inorganic particles and the diamond abrasive particles is at least two levels above and below the type of particle size specified in Table 1 of JIS B 4130, it becomes difficult to uniformly mix the diamond abrasive particles and the inorganic particles, and the surface of the rotary dresser becomes difficult. In, the diamond abrasive grains and the inorganic particles may not be uniformly distributed. When two or more types of diamond abrasive grains having different grain sizes are mixed and used, the inorganic particles to be mixed should also be two or more types, and the difference from the grain size of each diamond abrasive grain should be the same as the grain size specified in Table 1 of JIS B 4130. Select one that is within one level above and below the type. The particle size of the inorganic particles to be mixed can be measured according to JIS B4130.
【０００７】本発明において、ダイヤモンド砥粒と混合
する無機物粒子の形状は、ダイヤモンド砥粒の形状と類
似したものであることが好ましい。天然ダイヤモンド砥
粒は、ダイヤモンド原石の粉砕によりつくられ、ブロッ
キー状のラウンド、針状のニードル、立方体状のキュー
ブ、平面状のフラットのいずれかの形状を有している。
また、合成ダイヤモンド砥粒には、いわゆるブロッキー
と呼ばれるずんぐりした形状のものが多い。ダイヤモン
ド砥粒と混合する無機物粒子の形状は、無機物粒子を粉
砕により得る場合は、その原料の等方性又は異方性及び
破砕方法などにより、ある程度制御することが可能であ
り、顕微鏡による観察などにより適切なものを選ぶこと
ができる。粉砕により得られたダイヤモンド砥粒に、真
球状の無機物粒子を混合するようなことは好ましくな
く、ロータリードレッサ表面においてダイヤモンド砥粒
と無機物粒子が均一に分布しないおそれがある。本発明
において、ダイヤモンド砥粒と無機物粒子の重量比は、
１：０.０５〜１：２であることが好ましく、１：０.２
〜１：１.５であることがより好ましく、１：０.３〜
１：１.１であることがさらに好ましい。ダイヤモンド
砥粒と無機物粒子の重量比が１：０.０５を超えるほど
ダイヤモンド砥粒の量が多くなると、無機物粒子により
ダイヤモンド砥粒の集中度を下げるという本発明の効果
が顕著でなくなる。ダイヤモンド砥粒と無機物粒子の重
量比が１：２未満であるほどダイヤモンド砥粒の量が少
なくなると、ロータリードレッサ表面のドレッシングに
作用するダイヤモンド砥粒の量が少なくなる。In the present invention, the shape of the inorganic particles mixed with the diamond abrasive grains is preferably similar to the shape of the diamond abrasive grains. The natural diamond abrasive grains are produced by crushing rough diamond and have any one of a blocky round shape, a needle shape, a cube shape, and a flat shape.
In addition, many synthetic diamond abrasive grains have a stubby shape called a so-called blocky. The shape of the inorganic particles to be mixed with the diamond abrasive grains can be controlled to some extent by the isotropicity or anisotropy of the raw material and the crushing method when the inorganic particles are obtained by crushing, and observation by a microscope, etc. You can choose the appropriate one. It is not preferable to mix the spherical abrasive particles obtained by pulverization with spherical inorganic particles, and the diamond abrasive particles and the inorganic particles may not be uniformly distributed on the surface of the rotary dresser. In the present invention, the weight ratio of the diamond abrasive grains and the inorganic particles,
The ratio is preferably 1: 0.05 to 1: 2, and is 1: 0.2.
˜1: 1.5 is more preferred, and 1: 0.3˜
More preferably, it is 1: 1.1. When the weight ratio of the diamond abrasive grains to the inorganic particles exceeds 1: 0.05, the amount of the diamond abrasive particles increases, and the effect of the present invention of lowering the concentration of the diamond abrasive particles due to the inorganic particles becomes less remarkable. When the weight ratio of the diamond abrasive grains to the inorganic particles is less than 1: 2, the smaller the amount of the diamond abrasive grains is, the smaller the amount of the diamond abrasive grains acting on the dressing on the surface of the rotary dresser is.
【０００８】本発明のロータリードレッサを製造するた
めには、ダイヤモンド砥粒と無機物粒子を混合して母型
内周面に充填する。母型内周面に充填する方法には特に
制限はなく、メッキ浴内に浸漬した母型の内周面にダイ
ヤモンド砥粒と無機物粒子の混合物を充填することがで
き、あるいは母型の内周面にダイヤモンド砥粒と無機物
粒子の混合物を充填下のち静かにメッキ浴内に浸漬する
ことができる。操作としては、メッキ浴内に浸漬した母
型の内周面にダイヤモンド砥粒と無機物粒子の混合物を
充填する方が容易であるが、ダイヤモンド砥粒と無機物
粒子の密度、粒径、形状などの差が比較的大きいとき
は、母型の内周面にダイヤモンド砥粒と無機物粒子の混
合物を充填したのち静かにメッキ浴内に浸漬すればダイ
ヤモンド砥粒と無機物粒子の分離を防ぐことができる。
内周面にダイヤモンド砥粒と無機物粒子を充填した母型
は陰極に接続し、メッキ液に陽極を接続して、電気メッ
キを行う。メッキする金属は、ダイヤモンド砥粒と無機
物粒子を仮固定することができるものであれば特に制限
なく使用することができるが、例えば、ニッケル、銅、
クロムなどを好適に使用することができる。ダイヤモン
ド砥粒と無機物粒子の一層分が仮固定され、母型内周面
より脱落しない状態になれば、余剰のダイヤモンド砥粒
と無機物粒子を母型内周面より除去し、さらに電気メッ
キを続けてダイヤモンド砥粒と無機物粒子を電鋳により
固着する。In order to manufacture the rotary dresser of the present invention, diamond abrasive grains and inorganic particles are mixed and filled in the inner peripheral surface of the master die. The method of filling the inner peripheral surface of the master mold is not particularly limited, and the inner peripheral surface of the master mold immersed in the plating bath can be filled with a mixture of diamond abrasive grains and inorganic particles, or the inner peripheral surface of the master mold. The surface can be filled with a mixture of diamond abrasive grains and inorganic particles and then gently dipped in the plating bath. As an operation, it is easier to fill the inner peripheral surface of the mother die immersed in the plating bath with the mixture of the diamond abrasive grains and the inorganic particles, but the density of the diamond abrasive grains and the inorganic particles, the particle diameter, the shape, etc. When the difference is relatively large, the inner peripheral surface of the mother die is filled with a mixture of diamond abrasive grains and inorganic particles and then gently immersed in the plating bath to prevent the diamond abrasive grains and inorganic particles from being separated.
The mother die having the inner peripheral surface filled with diamond abrasive grains and inorganic particles is connected to a cathode, and an anode is connected to a plating solution to perform electroplating. The metal to be plated can be used without particular limitation as long as it can temporarily fix the diamond abrasive grains and the inorganic particles, for example, nickel, copper,
Chromium or the like can be preferably used. If one layer of diamond abrasive grains and inorganic particles is temporarily fixed and does not fall off from the inner peripheral surface of the master mold, excess diamond abrasive grains and inorganic particles are removed from the inner peripheral surface of the master mold, and electroplating is continued. The diamond abrasive grains and the inorganic particles are fixed by electroforming.
【０００９】ダイヤモンド砥粒と無機物粒子の電鋳によ
る固着が終われば、鉄芯金を母型中央部に固定する。鉄
芯金を固定する方法には特に制限はなく、例えば、低熔
融合金で固定することができ、あるいは、エポキシなど
の耐熱性接着剤、あるいは樹脂などで充填固定すること
ができる。鉄芯金を固定したのち、母型を除去しロータ
リードレッサ形状に仕上げ、最終的にＡ、ＷＡなどの砥
石でロータリードレッサ表面のダイヤモンド砥粒を露出
させ、ロータリードレッサを得る。図１は、本発明のロ
ータリードレッサの一態様の部分断面図である。ロータ
リードレッサのダイヤ表面には、ダイヤモンド砥粒１と
無機物粒子２が均等に混在した状態で一層分配列され、
ダイヤモンド砥粒の集中度が低くなっている。ダイヤモ
ンド砥粒と無機物粒子は電鋳により形成された金属層３
により固着され、金属層は低熔融合金４により鉄芯金５
に固定されいる。また、図２は、本発明のロータリード
レッサの他の一態様の部分断面図である。本図において
は、図１の無機物粒子の代わりに、無機質のコーティン
グを施したダイヤモンド砥粒６が使用されている。本発
明のロータリードレッサは、従来の電鋳ロータリードレ
ッサでは考えられなかった低集中度、例えば、集中度１
００（４.４ｃｔ／cm3）や集中度７５（３.３ｃｔ／c
m3）のものをダイヤモンド砥粒のむらなく製造すること
ができ、しかも加工物に合わせて集中度を自由に調節す
ることができる。本発明のロータリードレッサで焼成砥
石をドレッシングするときに、除去された無機物粒子又
は無機質のコーティングの表面積部分の加わった切り込
み量をかけることができ、結果として、本発明のロータ
リードレッサでドレッシングされたＷＡ、ＣＢＮなどの
砥石による研削抵抗や研削音が下がり、被削物の研削焼
けも少なくなる。After the diamond abrasive grains and the inorganic particles have been fixed by electroforming, the iron cored bar is fixed to the central part of the die. The method of fixing the iron core metal is not particularly limited, and for example, it can be fixed with a low fusion metal, or can be filled and fixed with a heat resistant adhesive such as epoxy or a resin. After fixing the iron core metal, the mother die is removed and the rotary dresser shape is finished. Finally, the diamond abrasive grains on the surface of the rotary dresser are exposed with a grindstone such as A or WA to obtain the rotary dresser. FIG. 1 is a partial cross-sectional view of one aspect of the rotary dresser of the present invention. On the diamond surface of the rotary dresser, diamond abrasive grains 1 and inorganic particles 2 are evenly mixed and arranged in a single layer,
The concentration of diamond abrasive grains is low. Diamond abrasive grains and inorganic particles are metal layer 3 formed by electroforming
The metal layer is fixed by the low fusion metal 4 and the iron core 5
It is fixed to. FIG. 2 is a partial cross-sectional view of another aspect of the rotary dresser of the present invention. In this figure, instead of the inorganic particles shown in FIG. 1, diamond-coated abrasive grains 6 having an inorganic coating are used. The rotary dresser of the present invention has a low degree of concentration, for example, a degree of concentration of 1 which has not been considered in the conventional electroformed rotary dresser.
00 (4.4 ct / cm 3 ) and concentration degree 75 (3.3 ct / c)
m 3 ) can be produced without unevenness of diamond abrasive grains, and the degree of concentration can be freely adjusted according to the workpiece. When dressing a calcined grindstone with the rotary dresser of the present invention, an additional incision of the removed inorganic particles or surface area of the inorganic coating can be applied, resulting in a WA dressed with the rotary dresser of the present invention. , Grinding noise and grinding noise due to a grindstone such as CBN are reduced, and grinding burn of the work is reduced.
【００１０】[0010]
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。 実施例１ 図３に示すネジ研削用の電鋳ロータリードレッサを製作
した。完成形状は、外形８０mmで、外周面のピッチ１m
m、累積ピッチ３０mm、角度６０度、ネジ高さ０.６５mm
である。外径１５０mm、内径８０mmにピッチ１mm、累積
ピッチ３０mm、角度６０度、ネジ高さ０.６５mmの形状
を有する母型を、ニッケルメッキ浴に浸漬し、粒度６０
／８０、密度３.５０ｇ／cm3の天然ダイヤモンド砥粒
と、粒度６０／８０、密度３.４６ｇ／cm3で、化学成分
がＳｉＯ2＋ＰｂＯ2＋Ｋ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋ＣｅＯ2である
ソルダーガラス粒子の重量比１：１の混合物を母型内周
面に充填した。次いで、電流密度１Ａ／dm2で２４０分
間通電してダイヤモンド砥粒及びソルダーガラス粒子の
一層分を仮固定し、その後余剰のダイヤモンド砥粒及び
ソルダーガラス粒子を除去し、さらに電流密度２Ａ／dm
2で９０時間ニッケルメッキを継続し、厚さ約３mmのメ
ッキ層を形成した。その後、母型の内部に鉄（Ｓ４５
Ｃ）芯金を設置し、母型ニッケル面と鉄芯金の間隙に低
熔融合金を２００℃で流し込み、冷却して固定した。母
型部分を切削除去した後、ホワイトアランダム砥石＃３
２０でロータリードレッサの表面のダイヤを露出させ、
集中度７５のロータリードレッサを得た。この電鋳ロー
タリードレッサでドレスした焼成砥石を使用して研削抵
抗を調べた。なお、試験条件は下記の通りである。 ロータリードレッサ仕様：９０Ｄ−３６Ｔ−３０Ｈ (ネジ形状、角度６０度、ピッチ１mm、累積ピッチ３０mm) 研削盤： 円筒研削盤 砥石仕様： ３５５Ｄ−１６Ｔ−１２７Ｈ ＷＡ３２０Ｊ ドレッシング条件：ロータリードレッサ回転速度 １５００min-1 砥石回転速度 １８９５min-1 周速比 ＋０.２（ダウンカット） 切り込み速度 ０.４mm／分 切り込み量 ０.０５mmφ 研削条件： 砥石回転速度 １８９５min-1 被削物回転速度 ９３９min-1（アップカット） 切り込み速度 ０.２mm／分 切り込み量 ０.０２mmφ 被削物 材質Ｓ４５Ｃ ９０Ｄ−８Ｔ−３０Ｈ 研削抵抗は、法線抵抗が３.１Ｎ／mm、接線抵抗が２.２
Ｎ／mmであった。 実施例２ 天然ダイヤモンド砥粒とソルダーガラス粒子の混合物の
重量比が１：０.５であること以外は、実施例１と全く
同じ操作を繰り返し、集中度１００のロータリードレッ
サを得た。このロータリードレッサを用いて、実施例１
と同じ試験を行ったところ、研削抵抗は、法線抵抗が
７.１Ｎ／mm、接線抵抗が８.８Ｎ／mmであった。 比較例１ 天然ダイヤモンド砥粒とソルダーガラス粒子の混合物の
代わりに、天然ダイヤモンド砥粒のみを用いたこと以外
は、実施例１と全く同じ操作を繰り返し、集中度１５０
のロータリードレッサを得た。このロータリードレッサ
を用いて、実施例１と同じ試験を行ったところ、研削抵
抗は、法線抵抗が７.４Ｎ／mm、接線抵抗が９.４Ｎ／mm
であった。実施例１、２及び比較例１の結果をまとめ
て、第１表に示す。The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 An electroformed rotary dresser for screw grinding shown in FIG. 3 was manufactured. The finished shape has an outer diameter of 80 mm and a pitch of 1 m on the outer peripheral surface.
m, cumulative pitch 30 mm, angle 60 degrees, screw height 0.65 mm
Is. An outer diameter of 150 mm, an inner diameter of 80 mm, a pitch of 1 mm, a cumulative pitch of 30 mm, an angle of 60 degrees, and a screw height of 0.65 mm were immersed in a nickel plating bath to obtain a grain size of 60.
/ 80, a density of 3.50 g / cm 3 of natural diamond abrasive grains, and a grain size of 60/80, a density of 3.46 g / cm 3 and a chemical composition of SiO 2 + PbO 2 + K 2 O + Na 2 O + CeO 2 A mixture having a weight ratio of 1: 1 was filled on the inner peripheral surface of the master mold. Then, a current density of 1 A / dm 2 is applied for 240 minutes to temporarily fix one layer of diamond abrasive grains and solder glass particles, and then excess diamond abrasive grains and solder glass particles are removed, and further current density is 2 A / dm.
Nickel plating was continued for 90 hours at 2 to form a plating layer having a thickness of about 3 mm. After that, iron (S45
C) A core metal was installed, and a low fusion metal was poured at 200 ° C. into the gap between the mother die nickel surface and the iron core metal, cooled and fixed. After cutting and removing the mother die part, white alundum grindstone # 3
At 20, expose the diamond on the surface of the rotary dresser,
I got a rotary dresser with a concentration of 75. Grinding resistance was investigated using a firing grindstone dressed with this electroformed rotary dresser. The test conditions are as follows. Rotary dresser specification: 90D-36T-30H (screw shape, angle 60 degrees, pitch 1mm, cumulative pitch 30mm) Grinder: Cylindrical grinder Grinding wheel specification: 355D-16T-127H WA320J Dressing condition: Rotary dresser rotation speed 1500min- 1 grindstone Rotation speed 1895min -1 Peripheral speed ratio +0.2 (down cut) Cutting speed 0.4mm / min Depth of cut 0.05mmφ Grinding condition: Wheel rotation speed 1895min -1 Workpiece rotation speed 939min -1 (upcut) Cutting speed 0.2mm / min Depth of cut 0.02mmφ Workpiece material S45C 90D-8T-30H Grinding resistance is normal resistance 3.1N / mm, tangential resistance 2.2.
It was N / mm. Example 2 Except that the weight ratio of the mixture of natural diamond abrasive grains and solder glass particles was 1: 0.5, the same operation as in Example 1 was repeated to obtain a rotary dresser having a concentration of 100. Using this rotary dresser, Example 1
When the same test was conducted, the grinding resistance was 7.1 N / mm for normal resistance and 8.8 N / mm for tangential resistance. Comparative Example 1 Except that only natural diamond abrasive grains were used instead of the mixture of natural diamond abrasive grains and solder glass particles, the same operation as in Example 1 was repeated, and the concentration degree was 150.
Got a rotary dresser. Using this rotary dresser, the same test as in Example 1 was performed. As for the grinding resistance, the normal resistance was 7.4 N / mm and the tangential resistance was 9.4 N / mm.
Met. The results of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 are summarized in Table 1.
【００１１】[0011]
【表１】 [Table 1]
【００１２】従来の集中度１５０のロータリードレッサ
に比べ、本発明の集中度１００のロータリードレッサで
は研削抵抗が９５％に低下し、さらに集中度７５のロー
タリードレッサでは研削抵抗が３３％に顕著に低下し
た。 実施例３ 図４に示すストレート形状の電鋳ロータリードレッサを
製作した。外径１５０mm、内径８０mm、厚さ３０mmの形
状を有する母型を、ニッケルメッキ浴に浸漬し、粒度３
０／４０、密度３.５０ｇ／cm3の天然ダイヤモンド砥粒
と、粒度３０／４０、密度３.５０ｇ／cm3の天然ダイヤ
モンド砥粒にスパッタリングによりソルダーガラスを厚
さ２０μｍにコーティングした粒子の重量比１：１の混
合物を母型内周面に充填した。次いで、電流密度１Ａ／
dm2で２４０分間通電してダイヤモンド砥粒及びガラス
のコーティングを施したダイヤモンド砥粒の一層分を仮
固定し、その後余剰のダイヤモンド砥粒及びガラスのコ
ーティングを施したダイヤモンド砥粒を除去し、さらに
電流密度２Ａ／dm2で９０時間ニッケルメッキを継続
し、厚さ約３mmのダイヤモンド砥粒層を形成した。その
後、母型の内部に鉄（Ｓ４５Ｃ）芯金を設置し、母型ニ
ッケル面と鉄芯金の間隙に低熔融合金を２００℃で流し
込み、冷却して固定した。母型部分を切削式した後、ホ
ワイトアランダム砥石＃３２０でロール表面をドレッシ
ングして集中度７５のロータリードレッサを得た。この
電鋳ロータリードレッサでドレッシングした焼成砥石を
使用して研削抵抗を調べた。なお、試験条件は下記の通
りである。 ロータリードレッサ仕様：８０Ｄ−３０Ｔ−３０Ｈ（ストレート形状） 研削盤： 円筒研削盤 砥石仕様： 焼成砥石 ３５５Ｄ−３０Ｔ−１２７Ｈ ＷＡ８０Ｊ ドレッシング条件：ロータリードレッサ回転速度 １５００min-1 砥石回転速度 １８９５min-1 周速比 ＋０.２（ダウンカット） 切り込み速度 ０.４mm／分 切り込み量 ０.０５mmφ 研削条件： 砥石回転速度 １８９５min-1 被削物回転速度 ９３９min-1（アップカット） 切り込み速度 ０.２mm／分 切り込み量 ０.０２mmφ 被削物 材質Ｓ４５Ｃ ８０Ｄ−３０Ｔ−３０Ｈ 研削抵抗は、法線抵抗２.５Ｎ／mm、接線抵抗２.７Ｎ／
mmであった。 実施例４ 天然ダイヤモンド砥粒とガラスのコーティングを施した
ダイヤモンド砥粒の重量比が１：０.５であること以外
は、実施例３と全く同じ操作を繰り返し、集中度１００
のロータリードレッサを得た。このロータリードレッサ
を用いて、実施例３と同じ試験を行ったところ、研削抵
抗は、法線抵抗が５.６Ｎ／mm、接線抵抗が５.９Ｎ／mm
であった。 比較例２ ガラスのコーティングを施したダイヤモンド砥粒を混合
することなく、天然ダイヤモンド砥粒のみを用いたこと
以外は、実施例３と全く同じ操作を繰り返し、集中度１
５０のロータリードレッサを得た。このロータリードレ
ッサを用いて、実施例３と同じ試験を行ったところ、研
削抵抗は、法線抵抗が６.６Ｎ／mm、接線抵抗が７.８Ｎ
／mmであった。実施例３、４及び比較例２の結果をまと
めて、第２表に示す。As compared with the conventional rotary dresser having a concentration of 150, the grinding resistance of the rotary dresser having a concentration of 100 of the present invention is reduced to 95%, and the grinding resistance of the rotary dresser having a concentration of 75 is significantly reduced to 33%. did. Example 3 A straight electroformed rotary dresser shown in FIG. 4 was manufactured. A master mold having an outer diameter of 150 mm, an inner diameter of 80 mm and a thickness of 30 mm is dipped in a nickel plating bath to give a grain size of 3
Weight of natural diamond abrasive grains with a density of 0/40 and a density of 3.50 g / cm 3 and natural diamond abrasive grains with a particle size of 30/40 and a density of 3.50 g / cm 3 coated with solder glass to a thickness of 20 μm by sputtering. The inner peripheral surface of the master mold was filled with the mixture having a ratio of 1: 1. Next, current density 1A /
A single layer of diamond abrasive grains and glass coated diamond abrasive grains is temporarily fixed by applying dm 2 for 240 minutes, and then excess diamond abrasive grains and glass coated diamond abrasive grains are removed. Nickel plating was continued for 90 hours at a current density of 2 A / dm 2 to form a diamond abrasive grain layer having a thickness of about 3 mm. Then, an iron (S45C) mandrel was placed inside the mother die, and a low-melting metal was poured into the gap between the nickel surface of the mother die and the iron mandrel at 200 ° C., cooled and fixed. After cutting the mother die part, the roll surface was dressed with a white alundum grindstone # 320 to obtain a rotary dresser having a concentration of 75. Grinding resistance was investigated using a firing grindstone dressed with this electroformed rotary dresser. The test conditions are as follows. Rotary dresser specification: 80D-30T-30H (straight shape) Grinding machine: Cylindrical grinder Grinding wheel specification: Firing grindstone 355D-30T-127H WA80J Dressing condition: Rotary dresser rotation speed 1500min -1 Grindstone rotation speed 1895min -1 peripheral speed ratio +0 .2 (Down cut) Cutting speed 0.4 mm / min Cutting amount 0.05 mmφ Grinding conditions: Grinding wheel rotation speed 1895 min -1 Workpiece rotation speed 939 min -1 (up cut) Cutting speed 0.2 mm / min Cutting amount 0. 02mmφ Workpiece Material S45C 80D-30T-30H Grinding resistance is normal resistance 2.5N / mm, tangential resistance 2.7N /
It was mm. Example 4 Except that the weight ratio of the natural diamond abrasive grains to the glass-coated diamond abrasive grains is 1: 0.5, the same operation as in Example 3 is repeated to obtain a concentration degree of 100.
Got a rotary dresser. When this rotary dresser was used to perform the same test as in Example 3, the grinding resistance was 5.6 N / mm for the normal resistance and 5.9 N / mm for the tangential resistance.
Met. Comparative Example 2 Except for using only natural diamond abrasive grains without mixing glass-coated diamond abrasive grains, the same operation as in Example 3 was repeated until the concentration degree was 1.
Obtained 50 rotary dressers. When this rotary dresser was used to perform the same tests as in Example 3, the grinding resistance was 6.6 N / mm for the normal resistance and 7.8 N for the tangential resistance.
It was / mm. The results of Examples 3 and 4 and Comparative Example 2 are summarized in Table 2.
【００１３】[0013]
【表２】 [Table 2]
【００１４】従来の集中度１５０のロータリードレッサ
に比べ、本発明の集中度１００のロータリードレッサで
は研削抵抗が８０％に低下し、さらに集中度７５のロー
タリードレッサでは研削抵抗が３６％に顕著に低下し
た。As compared with the conventional rotary dresser having the concentration of 150, the grinding resistance of the rotary dresser having the concentration of 100 of the present invention is reduced to 80%, and the grinding resistance of the rotary dresser having the concentration of 75 is significantly reduced to 36%. did.
【００１５】[0015]
【発明の効果】本発明のロータリードレッサは、ダイヤ
モンド砥粒の集中度を任意に調整することができ、ダイ
ヤモンド砥粒間隔を広げているので、研削砥石への切り
込みがかかりやすくドレッシングの際の抵抗が減少し、
砥石表面においても砥粒の間隔が広がり、被削材との間
の研削抵抗が減少し、良好な研削を行うことができる。The rotary dresser of the present invention can adjust the degree of concentration of diamond abrasive grains arbitrarily and widens the intervals of the diamond abrasive grains, so that it is easy to cut into the grinding wheel and the resistance during dressing is increased. Is reduced,
On the surface of the grindstone, the intervals between the abrasive grains are widened, the grinding resistance between the work piece and the work piece is reduced, and good grinding can be performed.
【図１】図１は、本発明のロータリードレッサの一態様
の部分断面図である。FIG. 1 is a partial cross-sectional view of one embodiment of the rotary dresser of the present invention.
【図２】図２は、本発明のロータリードレッサの他の一
態様の部分断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view of another aspect of the rotary dresser of the present invention.
【図３】図３は、実施例１において製作したネジ研削用
の電鋳ロータリードレッサの部分断面図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional view of an electroformed rotary dresser for screw grinding manufactured in Example 1.
【図４】図４は、実施例３において製作したストレート
形状の電鋳ロータリードレッサの部分断面図である。FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a straight electroformed rotary dresser manufactured in a third embodiment.
１ ダイヤモンド砥粒 ２ 無機物粒子 ３ 金属層 ４ 低熔融合金 ５ 鉄芯金 ６ 無機質のコーティングを施したダイヤモンド砥粒 1 Diamond Abrasive Grains 2 Inorganic Particles 3 Metal Layer 4 Low Melting Gold 5 Iron Core Bar 6 Diamond Abrasive Grains with Inorganic Coating
Claims (5)
母型内周面に充填し、電気メッキによって母型内周面に
一層分を仮固定したのち余剰のダイヤモンド砥粒と無機
物粒子を除去し、さらに電気メッキにより電鋳してダイ
ヤモンド砥粒と無機物粒子を固着し、鉄芯金を母型中央
部に固定し、母型を除去してなることを特徴とするロー
タリードレッサ。1. A diamond abrasive grain and an inorganic particle are mixed and filled in the inner peripheral surface of the master die, and one layer is temporarily fixed to the inner peripheral surface of the master die by electroplating, and then excess diamond abrasive grain and the inorganic particle are removed. Further, the rotary dresser is characterized in that the diamond abrasive grains and the inorganic particles are fixed by electroplating by electroplating, the iron core is fixed to the central part of the mold, and the mold is removed.
載のロータリードレッサ。2. The rotary dresser according to claim 1, wherein the inorganic particles are glass particles.
〜１００μｍの無機質のコーティングを施したものであ
る請求項１記載のロータリードレッサ。3. Inorganic particles have a diamond abrasive grain thickness of 10
The rotary dresser according to claim 1, which has an inorganic coating of -100 μm.
であり、無機物粒子の粒度とダイヤモンド砥粒の粒度の
差がＪＩＳ Ｂ ４１３０に定める粒度の種類の上下１水
準以内である請求項１〜３記載のロータリードレッサ。4. The density of the inorganic particles is 3.0 to 4.0 g / cm 3.
4. The rotary dresser according to claim 1, wherein the difference between the particle size of the inorganic particles and the particle size of the diamond abrasive grains is within one level above and below the type of particle size defined in JIS B4130.
が、１：０.０５ないし１：２である請求項１〜４記載
のロータリードレッサ。5. The rotary dresser according to claim 1, wherein the weight ratio of the diamond abrasive grains and the inorganic particles is 1: 0.05 to 1: 2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33487894A JP3260252B2 (en) | 1994-12-20 | 1994-12-20 | Rotary dresser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33487894A JP3260252B2 (en) | 1994-12-20 | 1994-12-20 | Rotary dresser |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08174429A true JPH08174429A (en) | 1996-07-09 |
| JP3260252B2 JP3260252B2 (en) | 2002-02-25 |
Family
ID=18282237
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33487894A Expired - Fee Related JP3260252B2 (en) | 1994-12-20 | 1994-12-20 | Rotary dresser |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3260252B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11300621A (en) * | 1998-04-16 | 1999-11-02 | Toyoda Van Moppes Kk | Grinding wheel with extra-abrasive grain having dimples dotted on outer peripheral surface and manufacture thereof |
| WO2015057003A1 (en) * | 2013-10-16 | 2015-04-23 | 새솔다이아몬드공업 주식회사 | Method for manufacturing polishing pad conditioner |
-
1994
- 1994-12-20 JP JP33487894A patent/JP3260252B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11300621A (en) * | 1998-04-16 | 1999-11-02 | Toyoda Van Moppes Kk | Grinding wheel with extra-abrasive grain having dimples dotted on outer peripheral surface and manufacture thereof |
| WO2015057003A1 (en) * | 2013-10-16 | 2015-04-23 | 새솔다이아몬드공업 주식회사 | Method for manufacturing polishing pad conditioner |
| KR101530365B1 (en) * | 2013-10-16 | 2015-06-18 | 새솔다이아몬드공업 주식회사 | Method of manufacturing the polishing pad conditioner |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3260252B2 (en) | 2002-02-25 |
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