JPH08172263A - 不活性雰囲気リフロー炉用の酸素濃度自動制御装置 - Google Patents
不活性雰囲気リフロー炉用の酸素濃度自動制御装置Info
- Publication number
- JPH08172263A JPH08172263A JP6313506A JP31350694A JPH08172263A JP H08172263 A JPH08172263 A JP H08172263A JP 6313506 A JP6313506 A JP 6313506A JP 31350694 A JP31350694 A JP 31350694A JP H08172263 A JPH08172263 A JP H08172263A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 濃度測定レンジの切換時の検出や、制御定数
の決定や、エアミックス制御の自動化を行える不活性雰
囲気リフロー炉専用の酸素濃度自動制御装置を提供する
ことを目的とするものである。 【構成】 リフロー用の炉体内より制御装置本体27内に
設けられたポンプ35により炉体内雰囲気をサンプリング
し、酸素濃度計38の検出セル38a に供給する。検出セル
38a で検出された雰囲気中の酸素濃度は、酸素濃度計38
の酸素濃度測定回路38b により測定する。酸素濃度測定
回路38b と酸素濃度制御回路41は一体に設ける。酸素濃
度制御回路41は、酸素濃度計38から得られた酸素濃度情
報に基づき炉体内に供給される不活性ガスおよび空気の
流量を制御する。
の決定や、エアミックス制御の自動化を行える不活性雰
囲気リフロー炉専用の酸素濃度自動制御装置を提供する
ことを目的とするものである。 【構成】 リフロー用の炉体内より制御装置本体27内に
設けられたポンプ35により炉体内雰囲気をサンプリング
し、酸素濃度計38の検出セル38a に供給する。検出セル
38a で検出された雰囲気中の酸素濃度は、酸素濃度計38
の酸素濃度測定回路38b により測定する。酸素濃度測定
回路38b と酸素濃度制御回路41は一体に設ける。酸素濃
度制御回路41は、酸素濃度計38から得られた酸素濃度情
報に基づき炉体内に供給される不活性ガスおよび空気の
流量を制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、リフローはんだ付けに
使用される不活性雰囲気リフロー炉の炉体内を所定の低
酸素濃度雰囲気に制御するための酸素濃度自動制御装置
に関するものである。
使用される不活性雰囲気リフロー炉の炉体内を所定の低
酸素濃度雰囲気に制御するための酸素濃度自動制御装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、不活性雰囲気リフロー炉の炉体内
雰囲気を所定の低酸素濃度に制御する場合は、酸素濃度
計と不活性ガスの注入量を制御する自動制御装置とを組
合せて、酸素濃度の制御を行っている。
雰囲気を所定の低酸素濃度に制御する場合は、酸素濃度
計と不活性ガスの注入量を制御する自動制御装置とを組
合せて、酸素濃度の制御を行っている。
【０００３】また、本発明の出願人は、特願平５−１３
５８６６号の明細書および図面にて、リフロー炉内の雰
囲気中の酸素濃度を測定しながら、所望の酸素濃度に近
付けるために、不活性ガスの注入量をコントロールする
とともに、必要に応じて雰囲気中に空気を強制的に供給
するエアミックス法による酸素濃度制御方法およびその
装置を提案している。この提案済みの酸素濃度制御装置
は、酸素濃度計と制御装置とが分離したものである。
５８６６号の明細書および図面にて、リフロー炉内の雰
囲気中の酸素濃度を測定しながら、所望の酸素濃度に近
付けるために、不活性ガスの注入量をコントロールする
とともに、必要に応じて雰囲気中に空気を強制的に供給
するエアミックス法による酸素濃度制御方法およびその
装置を提案している。この提案済みの酸素濃度制御装置
は、酸素濃度計と制御装置とが分離したものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このように酸素濃度計
と制御装置とが分離したものは、酸素濃度計および制御
装置が汎用目的で作られているため、リフロー炉内の酸
素濃度制御を行うのに、濃度測定レンジの切換時の検出
や、制御定数の決定およびエアミックス制御を自動化す
ることが難しいという問題があった。
と制御装置とが分離したものは、酸素濃度計および制御
装置が汎用目的で作られているため、リフロー炉内の酸
素濃度制御を行うのに、濃度測定レンジの切換時の検出
や、制御定数の決定およびエアミックス制御を自動化す
ることが難しいという問題があった。
【０００５】例えば、濃度測定レンジが切換ると別のパ
ラメータを設定する必要があるにもかかわらず、従来は
酸素濃度計が測定レンジを変えたときに、制御装置がそ
れに追従できなかった。
ラメータを設定する必要があるにもかかわらず、従来は
酸素濃度計が測定レンジを変えたときに、制御装置がそ
れに追従できなかった。
【０００６】本発明は、このような点に鑑みなされたも
ので、濃度測定レンジの切換時の検出や、制御定数の決
定や、エアミックス制御の自動化などを容易に行える不
活性雰囲気リフロー炉専用の酸素濃度自動制御装置を提
供することを目的とするものである。
ので、濃度測定レンジの切換時の検出や、制御定数の決
定や、エアミックス制御の自動化などを容易に行える不
活性雰囲気リフロー炉専用の酸素濃度自動制御装置を提
供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、不活性ガスお
よび空気を注入して所定の低酸素濃度雰囲気を形成した
リフロー用の炉体内より炉体内雰囲気を取出し、その雰
囲気中の酸素濃度を測定して炉体内に注入される不活性
ガスおよび空気の流量を制御する不活性雰囲気リフロー
炉用の酸素濃度自動制御装置であって、制御装置本体内
に、炉体内雰囲気をサンプリングして雰囲気中の酸素濃
度を測定する酸素濃度計と、この酸素濃度計から得られ
た酸素濃度情報に基づき炉体内に供給される不活性ガス
および空気の流量を制御する酸素濃度制御回路とを、一
体的に設けた構成の不活性雰囲気リフロー炉用の酸素濃
度自動制御装置である。
よび空気を注入して所定の低酸素濃度雰囲気を形成した
リフロー用の炉体内より炉体内雰囲気を取出し、その雰
囲気中の酸素濃度を測定して炉体内に注入される不活性
ガスおよび空気の流量を制御する不活性雰囲気リフロー
炉用の酸素濃度自動制御装置であって、制御装置本体内
に、炉体内雰囲気をサンプリングして雰囲気中の酸素濃
度を測定する酸素濃度計と、この酸素濃度計から得られ
た酸素濃度情報に基づき炉体内に供給される不活性ガス
および空気の流量を制御する酸素濃度制御回路とを、一
体的に設けた構成の不活性雰囲気リフロー炉用の酸素濃
度自動制御装置である。
【０００８】
【作用】本発明は、酸素濃度制御回路によって、酸素濃
度計に対する濃度測定レンジの切換指示や、制御定数の
決定や、不活性ガスおよび空気の自動供給に係るエアミ
ックス制御を行う。
度計に対する濃度測定レンジの切換指示や、制御定数の
決定や、不活性ガスおよび空気の自動供給に係るエアミ
ックス制御を行う。
【０００９】
【実施例】以下、本発明を図１および図２に示される一
実施例を参照しながら詳細に説明する。
実施例を参照しながら詳細に説明する。
【００１０】図２は、本発明に係る不活性雰囲気はんだ
付け用のリフロー炉および酸素濃度制御系を示す。
付け用のリフロー炉および酸素濃度制御系を示す。
【００１１】11はリフロー用の炉体であり、この炉体11
の一側および他側に開口部12が設けられ、この一側およ
び他側の開口部12を経て、ワーク（部品実装基板）Ｗを
炉体内に搬入し炉体外に搬出する搬送コンベヤ13が設け
られている。
の一側および他側に開口部12が設けられ、この一側およ
び他側の開口部12を経て、ワーク（部品実装基板）Ｗを
炉体内に搬入し炉体外に搬出する搬送コンベヤ13が設け
られている。
【００１２】前記炉体11は、仕切板11a により内部を区
画されて、複数の予加熱室およびリフロー室が形成され
ている。その各室にはヒータ14、ブロワ15および図示し
ない案内板が設けられ、高温の不活性雰囲気を循環する
雰囲気循環系が形成されている。
画されて、複数の予加熱室およびリフロー室が形成され
ている。その各室にはヒータ14、ブロワ15および図示し
ない案内板が設けられ、高温の不活性雰囲気を循環する
雰囲気循環系が形成されている。
【００１３】この炉体11内で、ヒータ14により加熱され
た雰囲気がブロワ15に吸引される経路中を横断する形
で、前記ワーク搬送用のコンベヤ13が設けられ、この搬
送コンベヤ13により炉体11内に搬入されたワークＷを、
高温の雰囲気によりリフローはんだ付けするようにして
いる。
た雰囲気がブロワ15に吸引される経路中を横断する形
で、前記ワーク搬送用のコンベヤ13が設けられ、この搬
送コンベヤ13により炉体11内に搬入されたワークＷを、
高温の雰囲気によりリフローはんだ付けするようにして
いる。
【００１４】前記炉体11の少なくともリフロー室に対
し、炉内酸素濃度を制御する自動制御系が設けられてい
る。このリフロー室には、炉内の雰囲気をサンプリング
して外部制御装置に取込むための雰囲気取込管16がワー
ク搬送部近傍まで挿入され、さらに、窒素ガスなどの不
活性ガスを炉内に供給するための不活性ガス供給管17
と、空気を炉内に供給するための空気供給管18とがそれ
ぞれ下部より挿入されている。
し、炉内酸素濃度を制御する自動制御系が設けられてい
る。このリフロー室には、炉内の雰囲気をサンプリング
して外部制御装置に取込むための雰囲気取込管16がワー
ク搬送部近傍まで挿入され、さらに、窒素ガスなどの不
活性ガスを炉内に供給するための不活性ガス供給管17
と、空気を炉内に供給するための空気供給管18とがそれ
ぞれ下部より挿入されている。
【００１５】すなわち、この酸素濃度自動制御系は、炉
内に不活性ガス（窒素ガス）を強制的に注入する不活性
ガス供給系と、炉内に空気を強制的に混入する空気供給
系とを併設してなるエアミックス制御系である。
内に不活性ガス（窒素ガス）を強制的に注入する不活性
ガス供給系と、炉内に空気を強制的に混入する空気供給
系とを併設してなるエアミックス制御系である。
【００１６】不活性ガス供給系は、窒素タンクまたは窒
素発生装置などの不活性ガス供給源21から炉体11内に至
る不活性ガス供給管17中に減圧弁22および流量調整弁23
が設けられている。この流量調整弁23は外部信号により
制御可能の制御モータなどにより流量を可変調整でき
る。
素発生装置などの不活性ガス供給源21から炉体11内に至
る不活性ガス供給管17中に減圧弁22および流量調整弁23
が設けられている。この流量調整弁23は外部信号により
制御可能の制御モータなどにより流量を可変調整でき
る。
【００１７】空気供給系は、コンプレッサなどの空圧源
24から炉体11内に至る空気供給管18中に減圧弁25および
流量調整弁26が設けられている。この流量調整弁26も外
部信号により制御可能の制御モータなどにより流量を可
変調整できる。
24から炉体11内に至る空気供給管18中に減圧弁25および
流量調整弁26が設けられている。この流量調整弁26も外
部信号により制御可能の制御モータなどにより流量を可
変調整できる。
【００１８】前記雰囲気取込管16は酸素濃度自動制御装
置本体27に接続され、この制御装置本体27の出力端子
は、不活性ガス量制御ライン28および空気量制御ライン
29を経て、不活性ガス用流量調整弁23および空気用流量
調整弁26の各制御モータ部にそれぞれ接続されている。
置本体27に接続され、この制御装置本体27の出力端子
は、不活性ガス量制御ライン28および空気量制御ライン
29を経て、不活性ガス用流量調整弁23および空気用流量
調整弁26の各制御モータ部にそれぞれ接続されている。
【００１９】次に、この図２に示されるリフロー炉およ
び酸素濃度制御系の動作を説明すると、炉体11の内部に
不活性ガス供給管17および空気供給管18から窒素ガスお
よび空気をそれぞれ送込み、ブロワ15により撹拌する。
び酸素濃度制御系の動作を説明すると、炉体11の内部に
不活性ガス供給管17および空気供給管18から窒素ガスお
よび空気をそれぞれ送込み、ブロワ15により撹拌する。
【００２０】この炉体内に供給された気体と炉体外部か
らの影響がバランスした状態で酸素濃度が平衡状態とな
る。一方、コンベヤ13により外部から搬入されるワーク
Ｗによって外部から炉体内に酸素が持込まれ、平衡状態
が乱される。
らの影響がバランスした状態で酸素濃度が平衡状態とな
る。一方、コンベヤ13により外部から搬入されるワーク
Ｗによって外部から炉体内に酸素が持込まれ、平衡状態
が乱される。
【００２１】そこで、炉体内雰囲気を雰囲気取込管16に
よりサンプリングして、酸素濃度自動制御装置本体27に
取込み、酸素濃度を測定し、その結果から演算を行って
適切な流量の不活性ガスおよび空気を炉体11内へ注入す
るための制御を行う。すなわち、流量調整弁23を制御し
て炉体内に供給される窒素ガスなどの不活性ガスを流量
制御するとともに、流量調整弁26を制御して炉体内に供
給される空気を流量制御する。
よりサンプリングして、酸素濃度自動制御装置本体27に
取込み、酸素濃度を測定し、その結果から演算を行って
適切な流量の不活性ガスおよび空気を炉体11内へ注入す
るための制御を行う。すなわち、流量調整弁23を制御し
て炉体内に供給される窒素ガスなどの不活性ガスを流量
制御するとともに、流量調整弁26を制御して炉体内に供
給される空気を流量制御する。
【００２２】次に、図１を参照して前記酸素濃度自動制
御装置本体27の構成を説明する。
御装置本体27の構成を説明する。
【００２３】酸素濃度自動制御装置本体27の内部にバイ
パスアウト管路31、サンプリングイン管路32およびサン
プリングアウト管路33が配管されている。バイパスアウ
ト管路31にはバルブ34が設けられている。
パスアウト管路31、サンプリングイン管路32およびサン
プリングアウト管路33が配管されている。バイパスアウ
ト管路31にはバルブ34が設けられている。
【００２４】前記サンプリングイン管路32には前記雰囲
気取込管16が接続され、このサンプリングイン管路32中
に設けられたポンプ35により、炉体11内の不活性雰囲気
がサンプリング吸引される。
気取込管16が接続され、このサンプリングイン管路32中
に設けられたポンプ35により、炉体11内の不活性雰囲気
がサンプリング吸引される。
【００２５】このポンプ35の吐出管路は、前記バイパス
アウト管路31への分岐用管継手36を経て流量計37に連通
され、さらにこの流量計37を経て検出セル38a に連通さ
れ、さらにこの検出セル38a を経て前記サンプリングア
ウト管路33に連通されている。
アウト管路31への分岐用管継手36を経て流量計37に連通
され、さらにこの流量計37を経て検出セル38a に連通さ
れ、さらにこの検出セル38a を経て前記サンプリングア
ウト管路33に連通されている。
【００２６】前記流量計37は、前記検出セル38a に取込
まれる炉体内雰囲気の流量を検出するための流量センサ
であり、バルブ34を経て排気される雰囲気流量を調整す
ることにより、流量計37を経て検出セル38a に供給され
る炉体内雰囲気流量を設定された値に保つことができ
る。
まれる炉体内雰囲気の流量を検出するための流量センサ
であり、バルブ34を経て排気される雰囲気流量を調整す
ることにより、流量計37を経て検出セル38a に供給され
る炉体内雰囲気流量を設定された値に保つことができ
る。
【００２７】前記検出セル38a は、内蔵ヒータにより約
800 ℃に加熱されるジルコニア素子を主要構成としたジ
ルコニアセンサであり、加熱された状態では雰囲気中の
酸素濃度に応じた起電力を発生するから、その起電力を
検出信号ラインを経て酸素濃度測定回路38b に導き、測
定する。この検出セル38a および酸素濃度測定回路38b
により、炉体内雰囲気中の酸素濃度を測定する酸素濃度
計38を構成している。
800 ℃に加熱されるジルコニア素子を主要構成としたジ
ルコニアセンサであり、加熱された状態では雰囲気中の
酸素濃度に応じた起電力を発生するから、その起電力を
検出信号ラインを経て酸素濃度測定回路38b に導き、測
定する。この検出セル38a および酸素濃度測定回路38b
により、炉体内雰囲気中の酸素濃度を測定する酸素濃度
計38を構成している。
【００２８】前記酸素濃度測定回路38b は、測定信号ラ
インを経て酸素濃度制御回路41に接続されている。この
酸素濃度制御回路41には操作指示パネル42が接続され、
さらに不活性ガス量制御ライン43および空気量制御ライ
ン44が接続されている。
インを経て酸素濃度制御回路41に接続されている。この
酸素濃度制御回路41には操作指示パネル42が接続され、
さらに不活性ガス量制御ライン43および空気量制御ライ
ン44が接続されている。
【００２９】この酸素濃度制御回路41は、操作指示パネ
ル42により設定された制御指令値（酸素濃度設定値）と
前記測定回路38b から得られた信号との偏差を比例・積
分・微分演算して、必要な不活性ガス供給流量および空
気供給流量を制御し得る電気信号を出力するＰＩＤ制御
回路を有し、この制御回路41から引出された不活性ガス
量制御ライン43は、前記不活性ガス量制御ライン28に接
続され、空気量制御ライン44は前記空気量制御ライン29
に接続されている。
ル42により設定された制御指令値（酸素濃度設定値）と
前記測定回路38b から得られた信号との偏差を比例・積
分・微分演算して、必要な不活性ガス供給流量および空
気供給流量を制御し得る電気信号を出力するＰＩＤ制御
回路を有し、この制御回路41から引出された不活性ガス
量制御ライン43は、前記不活性ガス量制御ライン28に接
続され、空気量制御ライン44は前記空気量制御ライン29
に接続されている。
【００３０】次に、図１に示された酸素濃度自動制御装
置本体27の動作例を説明する。
置本体27の動作例を説明する。
【００３１】炉体11内の雰囲気（酸素濃度）をサンプリ
ングイン管路32からポンプ35によって取込む。流量計37
によって検出セル38a への流量をセル形状と大きさから
例えば500 cc／分に調整し、酸素濃度測定回路38b によ
り炉体内雰囲気中の酸素濃度を測定する。
ングイン管路32からポンプ35によって取込む。流量計37
によって検出セル38a への流量をセル形状と大きさから
例えば500 cc／分に調整し、酸素濃度測定回路38b によ
り炉体内雰囲気中の酸素濃度を測定する。
【００３２】この測定された酸素濃度を酸素濃度制御回
路41で演算処理して、不活性ガス量制御ライン43および
空気量制御ライン44に０〜１０ボルトの制御電圧をそれ
ぞれ出力する。
路41で演算処理して、不活性ガス量制御ライン43および
空気量制御ライン44に０〜１０ボルトの制御電圧をそれ
ぞれ出力する。
【００３３】前記炉体11内から取込管16を経て制御装置
本体27に取込まれる雰囲気の総流量は例えば1000cc／分
に制御して、濃度測定の遅れ時間を調整する。すなわ
ち、前記総流量を大きくすることにより配管による遅れ
が小さくなるので炉体内の低酸素濃度ガスを短い時間で
検出セル38a に取込むことができる。この検出遅れ時間
は、ＰＩＤ制御にとって一次遅れとなるのであまり遅れ
時間が長いと制御不可能になる。
本体27に取込まれる雰囲気の総流量は例えば1000cc／分
に制御して、濃度測定の遅れ時間を調整する。すなわ
ち、前記総流量を大きくすることにより配管による遅れ
が小さくなるので炉体内の低酸素濃度ガスを短い時間で
検出セル38a に取込むことができる。この検出遅れ時間
は、ＰＩＤ制御にとって一次遅れとなるのであまり遅れ
時間が長いと制御不可能になる。
【００３４】このとき、総流量1000cc／分のうち検出セ
ル38a で必要としない500 cc／分の雰囲気は、バイパス
アウト管路31中のバルブ34で流量調整して制御装置本体
27の外部に排気する。
ル38a で必要としない500 cc／分の雰囲気は、バイパス
アウト管路31中のバルブ34で流量調整して制御装置本体
27の外部に排気する。
【００３５】さらに、炉内でリフローはんだ付けに使用
された雰囲気中には腐食性ガス、被毒物性ガスが混在し
ているが、これらのガスを直接検出セル38a に入れると
濃度測定不良やセルの故障の原因となるため、実際の使
用に際しては酸素濃度自動制御装置本体27の手前の管路
中に活性炭フィルタを挿入することにより不純物の除去
を行うとよい。
された雰囲気中には腐食性ガス、被毒物性ガスが混在し
ているが、これらのガスを直接検出セル38a に入れると
濃度測定不良やセルの故障の原因となるため、実際の使
用に際しては酸素濃度自動制御装置本体27の手前の管路
中に活性炭フィルタを挿入することにより不純物の除去
を行うとよい。
【００３６】また、酸素濃度制御回路41は、酸素濃度測
定回路38b をも制御する。例えば、自らの受入準備が整
った段階で、酸素濃度測定回路38b に対し濃度測定レン
ジの切換を指示する。
定回路38b をも制御する。例えば、自らの受入準備が整
った段階で、酸素濃度測定回路38b に対し濃度測定レン
ジの切換を指示する。
【００３７】このように、酸素濃度制御回路41は、酸素
濃度測定、不活性ガス供給および空気供給の全てを制御
でき、前記濃度測定レンジの切換時の検出や、炉体11の
構造、炉体内温度、ブロワ15の駆動速度および配管系な
どに対応する制御定数の決定や、不活性ガスおよび空気
の絶対的供給量または相対的供給量を制御するエアミッ
クス制御を、酸素濃度制御回路41により自動化できる。
濃度測定、不活性ガス供給および空気供給の全てを制御
でき、前記濃度測定レンジの切換時の検出や、炉体11の
構造、炉体内温度、ブロワ15の駆動速度および配管系な
どに対応する制御定数の決定や、不活性ガスおよび空気
の絶対的供給量または相対的供給量を制御するエアミッ
クス制御を、酸素濃度制御回路41により自動化できる。
【００３８】そして、酸素濃度が上がった場合は不活性
ガスの流量を増やし、また、必要以上に酸素濃度が下が
ってしまった場合は空気を流量調整しながら加えること
により、不活性ガスの流量を極端に絞ることなく雰囲気
中の酸素濃度を迅速に上昇復帰させ、酸素濃度を一定の
範囲内で安定させるようにする。
ガスの流量を増やし、また、必要以上に酸素濃度が下が
ってしまった場合は空気を流量調整しながら加えること
により、不活性ガスの流量を極端に絞ることなく雰囲気
中の酸素濃度を迅速に上昇復帰させ、酸素濃度を一定の
範囲内で安定させるようにする。
【００３９】
【発明の効果】本発明によれば、炉体内雰囲気中の酸素
濃度を測定する酸素濃度計と、不活性ガスおよび空気を
流量制御する酸素濃度制御回路とを一体不可分に構成す
ることにより、濃度測定レンジの切換時の検出や、制御
定数の決定や、エアミックス制御の自動化を行うことが
容易にできる。
濃度を測定する酸素濃度計と、不活性ガスおよび空気を
流量制御する酸素濃度制御回路とを一体不可分に構成す
ることにより、濃度測定レンジの切換時の検出や、制御
定数の決定や、エアミックス制御の自動化を行うことが
容易にできる。
【図１】本発明に係る酸素濃度自動制御装置本体の内部
構造を示すブロック図である。
構造を示すブロック図である。
【図２】同上制御装置本体を不活性雰囲気リフロー炉に
適用した例を示す炉体断面図および流体回路図である。
適用した例を示す炉体断面図および流体回路図である。
11 炉体 27 制御装置本体 38 酸素濃度計 41 酸素濃度制御回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２３Ｋ 31/02 ３１０ Ｂ Ｇ０１Ｎ 27/26 ３６１ Ａ 27/409
Claims (1)
- 【請求項１】 不活性ガスおよび空気を注入して所定の
低酸素濃度雰囲気を形成したリフロー用の炉体内より炉
体内雰囲気を取出し、その雰囲気中の酸素濃度を測定し
て炉体内に注入される不活性ガスおよび空気の流量を制
御する不活性雰囲気リフロー炉用の酸素濃度自動制御装
置であって、 制御装置本体内に、炉体内雰囲気をサンプリングして雰
囲気中の酸素濃度を測定する酸素濃度計と、この酸素濃
度計から得られた酸素濃度情報に基づき炉体内に供給さ
れる不活性ガスおよび空気の流量を制御する酸素濃度制
御回路とを、一体的に設けたことを特徴とする不活性雰
囲気リフロー炉用の酸素濃度自動制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31350694A JP3563791B2 (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 不活性雰囲気リフロー炉用の酸素濃度自動制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31350694A JP3563791B2 (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 不活性雰囲気リフロー炉用の酸素濃度自動制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08172263A true JPH08172263A (ja) | 1996-07-02 |
| JP3563791B2 JP3563791B2 (ja) | 2004-09-08 |
Family
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