JPH08160200A - 照明光学系 - Google Patents
照明光学系Info
- Publication number
- JPH08160200A JPH08160200A JP6298177A JP29817794A JPH08160200A JP H08160200 A JPH08160200 A JP H08160200A JP 6298177 A JP6298177 A JP 6298177A JP 29817794 A JP29817794 A JP 29817794A JP H08160200 A JPH08160200 A JP H08160200A
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- JP
- Japan
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- soft
- mask
- light
- reflector
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 小型にでき、しかもコヒーレンス度を低下さ
せて照明できる照明光学系を提供する。 【構成】 発光面積の小さい発散型の光源１１と、異な
る角度で配列された複数の鏡面を有し、光源１１からの
光を反射させる反射鏡１３とを有し、これにより単一の
光源１１から複数の光源が存在する状態を作り出すよう
にする。
せて照明できる照明光学系を提供する。 【構成】 発光面積の小さい発散型の光源１１と、異な
る角度で配列された複数の鏡面を有し、光源１１からの
光を反射させる反射鏡１３とを有し、これにより単一の
光源１１から複数の光源が存在する状態を作り出すよう
にする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば、リソグラフ
ィー装置や軟Ｘ線顕微鏡に用いるに好適な照明光学系に
関するものである。
ィー装置や軟Ｘ線顕微鏡に用いるに好適な照明光学系に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、リソグラフィー装置に用いられ
る照明光学系として、エキシマレーザを光源として用い
るものが知られている。かかる装置では、空間コヒーレ
ンスを低減するため、エキシマレーザからのレーザ光
を、図３に示すように、フライアイレンズ１、開口絞り
２およびコンデンサレンズ３を経てレチクル４に導くよ
うにしている。すなわち、レーザのように等価的に点光
源である光源を用いて照明すると、コヒーレント照明と
なって光学系による像が劣化するため、フライアイレン
ズ１を用いて、あたかも複数の光源が存在する状態を作
り出し、これにより光源面積を増加させてコヒーレンス
度を低下させている。
る照明光学系として、エキシマレーザを光源として用い
るものが知られている。かかる装置では、空間コヒーレ
ンスを低減するため、エキシマレーザからのレーザ光
を、図３に示すように、フライアイレンズ１、開口絞り
２およびコンデンサレンズ３を経てレチクル４に導くよ
うにしている。すなわち、レーザのように等価的に点光
源である光源を用いて照明すると、コヒーレント照明と
なって光学系による像が劣化するため、フライアイレン
ズ１を用いて、あたかも複数の光源が存在する状態を作
り出し、これにより光源面積を増加させてコヒーレンス
度を低下させている。
【０００３】また、軟Ｘ線を用いるリソグラフィー装置
や軟Ｘ線顕微鏡に用いられる照明光学系として、レーザ
プラズマを光源として用いるものも提案されている。
や軟Ｘ線顕微鏡に用いられる照明光学系として、レーザ
プラズマを光源として用いるものも提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、レーザ
プラズマ光源を用いるものにあっては、レーザプラズマ
光源が、有限距離にある光源面積の小さい点光源と見な
せるため、コヒーレント照明となって像が劣化するとい
う問題があると共に、光の利用効率も低いという問題が
ある。このような問題を解決する方法として、図３に示
したようなフライアイレンズを用いてコヒーレンス度を
低下させることが考えられるが、軟Ｘ線領域では物質に
よる吸収が大きいため、フライアイレンズのような屈折
型のレンズを用いることができない。
プラズマ光源を用いるものにあっては、レーザプラズマ
光源が、有限距離にある光源面積の小さい点光源と見な
せるため、コヒーレント照明となって像が劣化するとい
う問題があると共に、光の利用効率も低いという問題が
ある。このような問題を解決する方法として、図３に示
したようなフライアイレンズを用いてコヒーレンス度を
低下させることが考えられるが、軟Ｘ線領域では物質に
よる吸収が大きいため、フライアイレンズのような屈折
型のレンズを用いることができない。
【０００５】また、上記のレーザプラズマ光源を用いる
場合の問題を解決し得るものとして、Applied Optics V
ol.32,No.34,p6926 に記載されているように、光源とし
てシンクロトロン（ＳＲ）を用い、それによって発生さ
れる軟Ｘ線を、図４に示すように、異なる角度で配列さ
れた複数の鏡面を有する反射鏡５で反射させた後、マス
ク６を経て取り出すようにしたものがある。
場合の問題を解決し得るものとして、Applied Optics V
ol.32,No.34,p6926 に記載されているように、光源とし
てシンクロトロン（ＳＲ）を用い、それによって発生さ
れる軟Ｘ線を、図４に示すように、異なる角度で配列さ
れた複数の鏡面を有する反射鏡５で反射させた後、マス
ク６を経て取り出すようにしたものがある。
【０００６】しかし、図４に示す照明光学系は、光源と
してＳＲを用いるため、装置が非常に大型となり、実用
的でないという問題がある。
してＳＲを用いるため、装置が非常に大型となり、実用
的でないという問題がある。
【０００７】この発明は、このような従来の問題点に着
目してなされたもので、小型にでき、しかもコヒーレン
ス度を低下させて照明できるよう適切に構成した照明光
学系を提供することを目的とするものである。
目してなされたもので、小型にでき、しかもコヒーレン
ス度を低下させて照明できるよう適切に構成した照明光
学系を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明は、発光面積の小さい発散型の光源と、異
なる角度で配列された複数の鏡面を有し、前記光源から
の光を反射させる反射鏡とを有することを特徴とするも
のである。
め、この発明は、発光面積の小さい発散型の光源と、異
なる角度で配列された複数の鏡面を有し、前記光源から
の光を反射させる反射鏡とを有することを特徴とするも
のである。
【０００９】前記光源と前記反射鏡との間に、前記光源
からの発散光を平行光束に変換する放物面反射鏡を設け
るのが、効率良く照明する点で好ましい。
からの発散光を平行光束に変換する放物面反射鏡を設け
るのが、効率良く照明する点で好ましい。
【００１０】前記複数の鏡面の各々を、前記光源からの
発散光を平行光束に変換する放物面反射鏡をもって構成
するのが、効率良く照明する点で好ましい。
発散光を平行光束に変換する放物面反射鏡をもって構成
するのが、効率良く照明する点で好ましい。
【００１１】
【作用】この発明において、光源からの発散光は、異な
る角度で配列された複数の鏡面を有する反射鏡で反射さ
れて被照明物体に導かれることになる。ここで、反射鏡
は、斜入射にすると軟Ｘ線領域でも全反射が生じるの
で、光源の発光面積が小さくても、反射鏡を構成する複
数の鏡面の反射角を僅かに変えることにより、フライア
イレンズと同様の効果を得ることができる。すなわち、
単一の光源からの光を、複数の鏡面を用いて異なる角度
で光学系の入射瞳に導入することにより、複数の光源が
存在する状態を作り出すことができ、これにより光源面
積を増加させてコヒーレンス度を低下させることが可能
となる。
る角度で配列された複数の鏡面を有する反射鏡で反射さ
れて被照明物体に導かれることになる。ここで、反射鏡
は、斜入射にすると軟Ｘ線領域でも全反射が生じるの
で、光源の発光面積が小さくても、反射鏡を構成する複
数の鏡面の反射角を僅かに変えることにより、フライア
イレンズと同様の効果を得ることができる。すなわち、
単一の光源からの光を、複数の鏡面を用いて異なる角度
で光学系の入射瞳に導入することにより、複数の光源が
存在する状態を作り出すことができ、これにより光源面
積を増加させてコヒーレンス度を低下させることが可能
となる。
【００１２】
【実施例】図１は、この発明の第１実施例を示すもので
ある。この実施例は、リソグラフィー装置に適用したも
ので、光源１１として、点光源であるレーザプラズマ光
源を用いる。このレーザプラズマ光源１１で発生した軟
Ｘ線は、絞り１７を経て放物面反射鏡１２に入射させ、
ここで反射させて平行光束に変換して複合反射鏡１３に
斜入射させる。複合反射鏡１３は、異なる角度で二次元
的に配置した多数の平面反射鏡をもって構成し、この複
合反射鏡１３で平行光束の軟Ｘ線を反射されてマスク１
４を照明し、その縮小像をシュヴァルツシルト型の縮小
露光光学系１５を経てウエハ１６上に投影する。
ある。この実施例は、リソグラフィー装置に適用したも
ので、光源１１として、点光源であるレーザプラズマ光
源を用いる。このレーザプラズマ光源１１で発生した軟
Ｘ線は、絞り１７を経て放物面反射鏡１２に入射させ、
ここで反射させて平行光束に変換して複合反射鏡１３に
斜入射させる。複合反射鏡１３は、異なる角度で二次元
的に配置した多数の平面反射鏡をもって構成し、この複
合反射鏡１３で平行光束の軟Ｘ線を反射されてマスク１
４を照明し、その縮小像をシュヴァルツシルト型の縮小
露光光学系１５を経てウエハ１６上に投影する。
【００１３】この実施例では、レーザプラズマ光源１１
で発生した軟Ｘ線を、放物面反射鏡１２に直入射に近い
角度で入射させるようにしているので、この放物面反射
鏡１２の表面には多層膜を設ける。この多層膜は、例え
ば、軟Ｘ線の波長が１３ｎｍ付近の場合には、好適には
ＭｏとＳｉとを交互に積層して形成する。また、複合反
射鏡１３を構成する各平面反射鏡の表面にも、同様の多
層膜を設ける。
で発生した軟Ｘ線を、放物面反射鏡１２に直入射に近い
角度で入射させるようにしているので、この放物面反射
鏡１２の表面には多層膜を設ける。この多層膜は、例え
ば、軟Ｘ線の波長が１３ｎｍ付近の場合には、好適には
ＭｏとＳｉとを交互に積層して形成する。また、複合反
射鏡１３を構成する各平面反射鏡の表面にも、同様の多
層膜を設ける。
【００１４】この実施例によれば、レーザプラズマ光源
１１で発生した軟Ｘ線を、放物面反射鏡１２で平行光束
とした後、この平行光束の軟Ｘ線を、異なる角度で二次
元的に配置した多数の平面反射鏡をもって構成した複合
反射鏡１３で反射させてマスク１４を照明するようにし
たので、マスク１４には、複合反射鏡１３の各平面反射
鏡から反射される軟Ｘ線が種々の角度で入射することに
なる。したがって、マスク１４から光源側を見ると、あ
たかも多数の点光源で照明されることになるので、コヒ
ーレンス度を低下させることができ、像劣化のないマス
ク１４の縮小像をウエハ１６上に投影することができ
る。
１１で発生した軟Ｘ線を、放物面反射鏡１２で平行光束
とした後、この平行光束の軟Ｘ線を、異なる角度で二次
元的に配置した多数の平面反射鏡をもって構成した複合
反射鏡１３で反射させてマスク１４を照明するようにし
たので、マスク１４には、複合反射鏡１３の各平面反射
鏡から反射される軟Ｘ線が種々の角度で入射することに
なる。したがって、マスク１４から光源側を見ると、あ
たかも多数の点光源で照明されることになるので、コヒ
ーレンス度を低下させることができ、像劣化のないマス
ク１４の縮小像をウエハ１６上に投影することができ
る。
【００１５】また、絞り１７を設けているので、これに
より照明光のコヒーレンス度を、マスク１４に描かれた
図形に最適なものに制御することができ、その結果、明
瞭な縮小転写を行うことができる。
より照明光のコヒーレンス度を、マスク１４に描かれた
図形に最適なものに制御することができ、その結果、明
瞭な縮小転写を行うことができる。
【００１６】なお、絞り１７は、輪帯形状とすることも
できる。このようにすれば、解像力を向上できると共
に、焦点深度を拡大することができるので、マスク１４
の平面性に対する要求精度を緩和することができる。ま
た、絞り１７は、レーザプラズマ光源１と放物面反射鏡
１２との間に限らず、放物面反射鏡１２と複合反射鏡１
３との間、あるいは複合反射鏡１３とマスク１４との間
に配置することもできると共に、コヒーレンス度を容易
に制御できるようにするために、これを可変絞りとする
こともできる。また、絞り１７は、独立に設ける代わり
に、複合反射鏡１３を構成する各平面反射鏡を輪帯形状
に配置する等により、複合反射鏡１３に絞りの作用をも
持たせることもできる。
できる。このようにすれば、解像力を向上できると共
に、焦点深度を拡大することができるので、マスク１４
の平面性に対する要求精度を緩和することができる。ま
た、絞り１７は、レーザプラズマ光源１と放物面反射鏡
１２との間に限らず、放物面反射鏡１２と複合反射鏡１
３との間、あるいは複合反射鏡１３とマスク１４との間
に配置することもできると共に、コヒーレンス度を容易
に制御できるようにするために、これを可変絞りとする
こともできる。また、絞り１７は、独立に設ける代わり
に、複合反射鏡１３を構成する各平面反射鏡を輪帯形状
に配置する等により、複合反射鏡１３に絞りの作用をも
持たせることもできる。
【００１７】さらに、この実施例では、レーザプラズマ
光源１１で発生した軟Ｘ線を、放物面反射鏡１２に直入
射に近い角度で入射させるようにしたが、放物面反射鏡
１２を斜入射全反射鏡として、これに軟Ｘ線を斜入射さ
せるよう構成することもできる。また、この実施例の照
明光学系は、リソグラフィー装置に限らず、例えば、軟
Ｘ線顕微鏡等の他の装置にも有効に適用することができ
る。
光源１１で発生した軟Ｘ線を、放物面反射鏡１２に直入
射に近い角度で入射させるようにしたが、放物面反射鏡
１２を斜入射全反射鏡として、これに軟Ｘ線を斜入射さ
せるよう構成することもできる。また、この実施例の照
明光学系は、リソグラフィー装置に限らず、例えば、軟
Ｘ線顕微鏡等の他の装置にも有効に適用することができ
る。
【００１８】図２は、この発明の第２実施例を示すもの
である。この実施例は、軟Ｘ線顕微鏡に適用したもの
で、光源２０として、点光源であるレーザプラズマ光源
を用いる。このレーザプラズマ光源２０で発生した発散
光束の軟Ｘ線は、複合反射鏡２１に入射させる。複合反
射鏡２１は、異なる角度で二次元的に配置した多数の放
物面反射鏡をもって構成し、これによりレーザプラズマ
光源２０から発生する発散光束の軟Ｘ線をそれぞれ平行
光束として反射させて、絞り２５を経て顕微鏡試料２２
を照明し、その拡大像をシュヴァルツシルト型の対物レ
ンズ２３を経て軟Ｘ線画像検出器２４上に投影する。
である。この実施例は、軟Ｘ線顕微鏡に適用したもの
で、光源２０として、点光源であるレーザプラズマ光源
を用いる。このレーザプラズマ光源２０で発生した発散
光束の軟Ｘ線は、複合反射鏡２１に入射させる。複合反
射鏡２１は、異なる角度で二次元的に配置した多数の放
物面反射鏡をもって構成し、これによりレーザプラズマ
光源２０から発生する発散光束の軟Ｘ線をそれぞれ平行
光束として反射させて、絞り２５を経て顕微鏡試料２２
を照明し、その拡大像をシュヴァルツシルト型の対物レ
ンズ２３を経て軟Ｘ線画像検出器２４上に投影する。
【００１９】この実施例では、レーザプラズマ光源２０
で発生した軟Ｘ線を、複合反射鏡２１に直入射に近い角
度で入射させるようにしているので、この複合反射鏡２
１の表面には多層膜を設ける。この多層膜は、例えば、
軟Ｘ線の波長が１３ｎｍ付近の場合には、好適にはＭｏ
とＳｉとを交互に積層して形成し、また波長が４ｎｍ付
近の場合には、ＮｉＣｒとＴｉ、ＮｉＣｒとＢＮ、Ｗと
Ｂ４Ｃ、ＷとＣ、ＲｅＷとＢ４Ｃ、またはＮｉＣｒとＳ
ｃ等を交互に積層して形成する。
で発生した軟Ｘ線を、複合反射鏡２１に直入射に近い角
度で入射させるようにしているので、この複合反射鏡２
１の表面には多層膜を設ける。この多層膜は、例えば、
軟Ｘ線の波長が１３ｎｍ付近の場合には、好適にはＭｏ
とＳｉとを交互に積層して形成し、また波長が４ｎｍ付
近の場合には、ＮｉＣｒとＴｉ、ＮｉＣｒとＢＮ、Ｗと
Ｂ４Ｃ、ＷとＣ、ＲｅＷとＢ４Ｃ、またはＮｉＣｒとＳ
ｃ等を交互に積層して形成する。
【００２０】この実施例によれば、レーザプラズマ光源
２０で発生した発散軟Ｘ線を、異なる角度で二次元的に
配置した多数の放物面反射鏡をもって構成した複合反射
鏡２１で、多数の平行光束に変換して顕微鏡試料２２を
照明するようにしたので、顕微鏡試料２２には、複合反
射鏡２１の各放物面反射鏡から反射される平行光束の軟
Ｘ線が種々の角度で入射することになる。したがって、
顕微鏡試料２２から光源側を見ると、あたかも多数の点
光源で照明されることになるので、コヒーレンス度を低
下させることができ、像劣化のない顕微鏡試料２２の拡
大像を軟Ｘ線画像検出器２４上に投影することができ
る。
２０で発生した発散軟Ｘ線を、異なる角度で二次元的に
配置した多数の放物面反射鏡をもって構成した複合反射
鏡２１で、多数の平行光束に変換して顕微鏡試料２２を
照明するようにしたので、顕微鏡試料２２には、複合反
射鏡２１の各放物面反射鏡から反射される平行光束の軟
Ｘ線が種々の角度で入射することになる。したがって、
顕微鏡試料２２から光源側を見ると、あたかも多数の点
光源で照明されることになるので、コヒーレンス度を低
下させることができ、像劣化のない顕微鏡試料２２の拡
大像を軟Ｘ線画像検出器２４上に投影することができ
る。
【００２１】また、絞り２５を設けているので、これに
より照明光のコヒーレンス度を、顕微鏡試料２２の観察
に最適なものに制御することができ、その結果、明瞭な
顕微鏡観察を行うことができる。
より照明光のコヒーレンス度を、顕微鏡試料２２の観察
に最適なものに制御することができ、その結果、明瞭な
顕微鏡観察を行うことができる。
【００２２】なお、絞り２５は、第１実施例と同様に、
輪帯形状とすることもでき、これにより解像力を向上で
きると共に、焦点深度を拡大することができるので、顕
微鏡試料２２の平面性に対する要求精度を緩和すること
ができる。また、絞り２５は、複合反射鏡２１と顕微鏡
試料２２との間に限らず、レーザプラズマ光源２０と複
合反射鏡２１との間に配置することもできると共に、コ
ヒーレンス度を容易に制御できるようにするために、こ
れを可変絞りとすることもできる。また、絞り２５は、
独立に設ける代わりに、複合反射鏡２１を構成する各放
物面反射鏡を輪帯形状に配置する等により、複合反射鏡
２１に絞りの作用をも持たせることもできる。
輪帯形状とすることもでき、これにより解像力を向上で
きると共に、焦点深度を拡大することができるので、顕
微鏡試料２２の平面性に対する要求精度を緩和すること
ができる。また、絞り２５は、複合反射鏡２１と顕微鏡
試料２２との間に限らず、レーザプラズマ光源２０と複
合反射鏡２１との間に配置することもできると共に、コ
ヒーレンス度を容易に制御できるようにするために、こ
れを可変絞りとすることもできる。また、絞り２５は、
独立に設ける代わりに、複合反射鏡２１を構成する各放
物面反射鏡を輪帯形状に配置する等により、複合反射鏡
２１に絞りの作用をも持たせることもできる。
【００２３】さらに、この実施例では、レーザプラズマ
光源１１で発生した軟Ｘ線を、複合反射鏡２１に直入射
に近い角度で入射させるようにしたが、複合反射鏡２１
を斜入射全反射鏡として、これに軟Ｘ線を斜入射させる
よう構成することもできる。また、この実施例の照明光
学系は、軟Ｘ線顕微鏡に限らず、例えば、軟Ｘ線縮小露
光リソグラフィー装置等の他の装置にも有効に適用する
ことができる。
光源１１で発生した軟Ｘ線を、複合反射鏡２１に直入射
に近い角度で入射させるようにしたが、複合反射鏡２１
を斜入射全反射鏡として、これに軟Ｘ線を斜入射させる
よう構成することもできる。また、この実施例の照明光
学系は、軟Ｘ線顕微鏡に限らず、例えば、軟Ｘ線縮小露
光リソグラフィー装置等の他の装置にも有効に適用する
ことができる。
【００２４】
【発明の効果】この発明によれば、レーザプラズマ光源
等の発光面積の小さい発散型の光源からの光を、異なる
角度で配列された複数の鏡面を有する反射鏡で反射させ
るようにしたので、小型にできると共に、単一の光源か
ら複数の光源が存在する状態を作り出すことができ、こ
れにより光源面積を増加させてコヒーレンス度を低下さ
せることができる。
等の発光面積の小さい発散型の光源からの光を、異なる
角度で配列された複数の鏡面を有する反射鏡で反射させ
るようにしたので、小型にできると共に、単一の光源か
ら複数の光源が存在する状態を作り出すことができ、こ
れにより光源面積を増加させてコヒーレンス度を低下さ
せることができる。
【図１】この発明の第１実施例を示す図である。
【図２】同じく、第２実施例を示す図である。
【図３】従来の技術を説明するための図である。
【図４】同じく、従来の技術を説明するための図であ
る。
る。
１１ レーザプラズマ光源 １２ 放物面反射鏡 １３ 複合反射鏡 １４ マスク １５ 縮小露光光学系 １６ ウエハ １７ 絞り ２０ レーザプラズマ光源 ２１ 複合反射鏡 ２２ 顕微鏡試料 ２３ 対物レンズ ２４ 軟Ｘ線画像検出器 ２５ 絞り
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ２１Ｋ 1/06 Ｍ 7/00 Ｈ０１Ｌ 21/027
Claims (3)
- 【請求項１】 発光面積の小さい発散型の光源と、異な
る角度で配列された複数の鏡面を有し、前記光源からの
光を反射させる反射鏡とを有することを特徴とする照明
光学系。 - 【請求項２】 前記光源と前記反射鏡との間に、前記光
源からの発散光を平行光束に変換する放物面反射鏡を設
けたことを特徴とする請求項１記載の照明光学系。 - 【請求項３】 前記複数の鏡面の各々を、前記光源から
の発散光を平行光束に変換する放物面反射鏡をもって構
成したことを特徴とする請求項１記載の照明光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6298177A JPH08160200A (ja) | 1994-12-01 | 1994-12-01 | 照明光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6298177A JPH08160200A (ja) | 1994-12-01 | 1994-12-01 | 照明光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08160200A true JPH08160200A (ja) | 1996-06-21 |
Family
ID=17856214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6298177A Withdrawn JPH08160200A (ja) | 1994-12-01 | 1994-12-01 | 照明光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08160200A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6526118B2 (en) | 1998-09-08 | 2003-02-25 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method, and illumination optical system thereof |
| JP2010526334A (ja) * | 2007-04-26 | 2010-07-29 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 極端紫外線顕微鏡 |
| JP4820377B2 (ja) * | 2005-02-09 | 2011-11-24 | コヒーレント・インク | シュワルツシルト対物鏡を使用してフォトマスクの縮写像を投影する装置 |
-
1994
- 1994-12-01 JP JP6298177A patent/JPH08160200A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6526118B2 (en) | 1998-09-08 | 2003-02-25 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method, and illumination optical system thereof |
| JP4820377B2 (ja) * | 2005-02-09 | 2011-11-24 | コヒーレント・インク | シュワルツシルト対物鏡を使用してフォトマスクの縮写像を投影する装置 |
| JP2010526334A (ja) * | 2007-04-26 | 2010-07-29 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 極端紫外線顕微鏡 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020205 |