JPH08159633A - Cryogenic device - Google Patents
Cryogenic deviceInfo
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- JPH08159633A JPH08159633A JP6302454A JP30245494A JPH08159633A JP H08159633 A JPH08159633 A JP H08159633A JP 6302454 A JP6302454 A JP 6302454A JP 30245494 A JP30245494 A JP 30245494A JP H08159633 A JPH08159633 A JP H08159633A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、たとえば超電導マグ
ネットなどを収納して冷却を行う極低温装置に関するも
のである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cryogenic device for containing a superconducting magnet or the like for cooling.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の極低温装置としては、特開平5−
275231号公報に超伝導マグネットの構造として開
示されている。図13は、従来の円筒状に形成された極
低温装置の構成を示す断面図(円筒の軸方向に切断した
場合を示す)である。図において、1は被冷却体である
超電導コイル、2は極低温冷媒である液体ヘリウム3が
満たされている極低温冷媒槽であるヘリウム槽、4は真
空槽、5は第1輻射シールド、6は第2輻射シールド、
7は極低温装置本体の脚、8は支持部材、10は第1段
ヒートステージ、11は第2段ヒートステージ、12は
第3段ヒートステージ、15は可撓導体、20は3段式
冷凍機である。2. Description of the Related Art A conventional cryogenic device is disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No.
This is disclosed in Japanese Patent No. 275231 as a structure of a superconducting magnet. FIG. 13 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional cryogenic device formed in a cylindrical shape (shown when cut in the axial direction of the cylinder). In the figure, 1 is a superconducting coil which is an object to be cooled, 2 is a helium tank which is a cryogenic refrigerant tank filled with liquid helium 3 which is an cryogenic refrigerant, 4 is a vacuum tank, 5 is a first radiation shield, 6 Is the second radiation shield,
7 is a leg of the cryogenic apparatus main body, 8 is a supporting member, 10 is a first stage heat stage, 11 is a second stage heat stage, 12 is a third stage heat stage, 15 is a flexible conductor, and 20 is a three-stage refrigeration system. It is a machine.
【0003】次に動作について説明する。なおここで
は、極低温冷媒として液体ヘリウムを使用し、磁気共鳴
イメージング装置(以下、MRI装置という)に使用す
る超電導マグネットの場合について説明する。超電導コ
イル1はヘリウム槽2の内部に収納され液体ヘリウム3
によって超電導状態に冷却されている。ヘリウム槽2は
それぞれ後述する規定の温度に冷却された第1輻射シー
ルド5および第2輻射シールド6により包囲されてお
り、常温部から侵入する輻射熱量を減らす。複数の支持
部材8はヘリウム槽2、第1輻射シールド5および第2
輻射シールド6等を断熱的に支持するものであり、真空
槽4はヘリウム槽2との間の空間を高真空に保持してい
る。また、真空槽4の端面上部に取り付けられた3段式
冷凍機20には第1段ヒートステージ10、第2段ヒー
トステージ11、第3段ヒートステージ12があり、夫
々可撓導体15により第1輻射シールド5、第2輻射シ
ールド6、ヘリウム槽2の上部の液体ヘリウム3がガス
化している場所と熱的に接続され、第1輻射シールド5
の温度を80K程度、また第2輻射シールド6の温度を
20K程度に冷却すると共に、ヘリウム槽2から蒸発し
ようとするヘリウムガスを再液化する。Next, the operation will be described. It should be noted that a case of a superconducting magnet used in a magnetic resonance imaging apparatus (hereinafter referred to as an MRI apparatus) using liquid helium as a cryogenic refrigerant will be described here. The superconducting coil 1 is housed inside a helium tank 2 and liquid helium 3
It is cooled to the superconducting state by. The helium tank 2 is surrounded by a first radiation shield 5 and a second radiation shield 6, which are cooled to a specified temperature, which will be described later, to reduce the amount of radiant heat that enters from the room temperature portion. The plurality of support members 8 are the helium tank 2, the first radiation shield 5 and the second
The radiation shield 6 and the like are supported adiabatically, and the vacuum chamber 4 maintains a high vacuum in the space between the vacuum chamber 4 and the helium chamber 2. Further, the three-stage refrigerator 20 attached to the upper end surface of the vacuum chamber 4 includes a first-stage heat stage 10, a second-stage heat stage 11, and a third-stage heat stage 12, each of which is provided with a flexible conductor 15. The first radiation shield 5, the second radiation shield 6, and the first radiation shield 5 are thermally connected to the upper part of the helium tank 2 where the liquid helium 3 is gasified.
Is cooled to about 80K and the temperature of the second radiation shield 6 is cooled to about 20K, and the helium gas to be evaporated from the helium tank 2 is reliquefied.
【0004】以上のように構成された従来の極低温装置
の一般的な超電導マグネットの真空槽4の寸法は外径が
2メートル程度であり、これを床に設置した場合は脚7
が取り付けられて真空槽4の上端は高さが約2.5メー
トルに、3段式冷凍機20の取り付け位置の高さは2メ
ートル程度になる。The vacuum chamber 4 of a general superconducting magnet of the conventional cryogenic device constructed as described above has an outer diameter of about 2 meters, and when it is installed on the floor, the legs 7 are used.
The height of the upper end of the vacuum chamber 4 is about 2.5 meters, and the height of the mounting position of the three-stage refrigerator 20 is about 2 meters.
【0005】一方、3段式冷凍機20は連続して運転さ
れているが、消耗部品の交換や内部の洗浄などのため定
期的に運転を停止させ、内部の部品を取り外してのメン
テナンス作業が必要である。On the other hand, although the three-stage refrigerator 20 is continuously operated, the operation is periodically stopped to replace consumable parts and clean the inside, and maintenance work is performed by removing the internal parts. is necessary.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】従来の極低温装置は以
上のように構成されているので、第1輻射シールド5お
よび第2輻射シールド6はそれぞれ可撓導体15により
伝導熱によって冷却されるため、熱的な接続点から離れ
た場所の温度はかなり上昇し、ヘリウム槽2への熱侵入
量が増加するという問題点があった。Since the conventional cryogenic device is constructed as described above, the first radiation shield 5 and the second radiation shield 6 are cooled by the conductive heat by the flexible conductors 15, respectively. However, there has been a problem that the temperature at a place away from the thermal connection point rises considerably, and the amount of heat entering the helium tank 2 increases.
【0007】さらに、3段式冷凍機の停止時にはそのシ
リンダーを介しての伝導熱や被冷却物の熱容量が小さい
ため輻射シールドの温度が急速に上昇し、ヘリウム槽2
への熱侵入量の増加が急激であるという問題点があっ
た。Further, when the three-stage refrigerator is stopped, the temperature of the radiation shield rises rapidly because the heat conduction through the cylinder and the heat capacity of the object to be cooled are small, and the helium tank 2
However, there is a problem that the amount of heat invading into the space increases rapidly.
【0008】また、3段式冷凍機20の取り付け位置が
2メートルと高く、内部の部品の取り外しや取り付けな
どのメンテナンス作業は踏み台や足場の上で行う必要が
生じ、またこれらの作業のためのスペースが広く必要で
あるなど作業性が良くないなどの問題点があった。Further, since the mounting position of the three-stage refrigerator 20 is as high as 2 meters, it is necessary to perform maintenance work such as removal and mounting of internal parts on a step and a scaffold, and for these works. There was a problem that the workability was not good and the space was large.
【0009】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、多段式冷凍機の取り付け位置の
制約をなくすと共に、極低温冷媒槽内のガス化した冷媒
を効率良く冷却し液化することのできる極低温装置を得
ることを目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and eliminates the restriction on the mounting position of the multistage refrigerator, and efficiently cools the gasified refrigerant in the cryogenic refrigerant tank. The purpose is to obtain a cryogenic device that can be liquefied.
【0010】さらにこの発明は、多段式冷凍機の取り付
け位置の制約をなくすことで多段式冷凍機のメンテナン
ス作業などを行う際の作業性を向上させることの出来る
極低温装置を得ることを目的とする。A further object of the present invention is to obtain a cryogenic device capable of improving workability when performing maintenance work on a multistage refrigerator by eliminating restrictions on the mounting position of the multistage refrigerator. To do.
【0011】また、この発明は、輻射シールドの冷却を
均一化して極低温冷媒槽への熱侵入量の増加を抑制でき
る極低温装置を得ることを目的とする。Another object of the present invention is to obtain a cryogenic device capable of uniformizing the cooling of the radiation shield and suppressing an increase in the amount of heat entering the cryogenic refrigerant tank.
【0012】また、この発明は、冷凍機の内部の部品の
取り外しや取り付けなどのメンテナンス作業を常温で実
施できる極低温装置を得ることを目的とする。Another object of the present invention is to obtain a cryogenic device capable of performing maintenance work such as removal and installation of internal parts of a refrigerator at room temperature.
【0013】また、この発明は、多段式冷凍機の停止時
の多段式冷凍機の温度を徐々に常温まで上昇させて、多
段式冷凍機の部品交換などのメンテナンス作業などを常
温で容易に行うことの出来る極低温装置を得ることを目
的とする。Further, according to the present invention, the temperature of the multistage refrigerator is gradually raised to normal temperature when the multistage refrigerator is stopped, and maintenance work such as parts replacement of the multistage refrigerator is easily performed at room temperature. The purpose is to obtain a cryogenic device that can be used.
【0014】さらにまた、この発明は、多段式冷凍機の
停止時に輻射シールドの温度上昇を緩やかにすることの
できる極低温装置を得ることを目的とする。Still another object of the present invention is to obtain a cryogenic device capable of slowing the temperature rise of the radiation shield when the multistage refrigerator is stopped.
【0015】また、この発明は、冷媒循環機構を複数設
ける場合に、前記冷媒循環機構を簡略化し、前記冷媒循
環機構から侵入する熱量を抑制できる極低温装置を得る
ことを目的とする。It is another object of the present invention to provide a cryogenic device capable of simplifying the refrigerant circulation mechanism and suppressing the amount of heat entering from the refrigerant circulation mechanism when a plurality of refrigerant circulation mechanisms are provided.
【0016】また、この発明は、冷媒循環機構を駆動す
るための電力消費を抑制し、輻射シールドの冷却を均一
化して極低温冷媒槽への熱侵入量の増加を抑制できる極
低温装置を得ることを目的とする。Further, according to the present invention, there is obtained a cryogenic device capable of suppressing electric power consumption for driving the refrigerant circulation mechanism, uniformizing the cooling of the radiation shield, and suppressing an increase in the amount of heat entering the cryogenic refrigerant tank. The purpose is to
【0017】[0017]
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る極
低温装置は、極低温冷媒槽内で蒸発した極低温冷媒ガス
を冷媒用供給配管を経由して多段式冷凍機のヒートステ
ージに送り液化し、冷媒用供給配管を経由して再び前記
極低温冷媒槽に環流させる真空槽内に配置された冷媒循
環機構を備えたものである。A cryogenic apparatus according to the invention of claim 1 uses a cryogenic refrigerant gas evaporated in a cryogenic refrigerant tank as a heat stage of a multi-stage refrigerator via a refrigerant supply pipe. It is provided with a refrigerant circulating mechanism arranged in a vacuum tank for liquefying and liquefying, and then recirculating to the cryogenic refrigerant tank via the refrigerant supply pipe.
【0018】請求項2の発明に係る極低温装置は、極低
温装置本体の設置床面上1メートル以下の高さ位置に略
水平に多段式冷凍機を取り付けたものである。In the cryogenic apparatus according to the invention of claim 2, a multistage refrigerator is installed substantially horizontally at a height position of 1 m or less on the floor surface where the cryogenic apparatus body is installed.
【0019】請求項3の発明に係る極低温装置は、極低
温装置本体の設置床面上1メートル以下の高さ位置に略
垂直に多段式冷凍機を取り付けたものである。In the cryogenic apparatus according to the third aspect of the present invention, a multistage refrigerator is installed substantially vertically at a height position of 1 m or less on the floor surface where the cryogenic apparatus body is installed.
【0020】請求項4の発明に係る極低温装置は、極低
温冷媒槽に敷設された凝縮熱交換器および冷媒循環用配
管を経由し多段式冷凍機のヒートステージで冷却した第
2の冷媒を循環させ、ガス化した前記極低温冷媒を再液
化する冷媒循環機構とを備えたものである。In the cryogenic apparatus according to the invention of claim 4, the second refrigerant cooled in the heat stage of the multistage refrigerator is passed through the condensation heat exchanger and the refrigerant circulation pipe laid in the cryogenic refrigerant tank. And a refrigerant circulation mechanism that circulates and reliquefies the gasified cryogenic refrigerant.
【0021】請求項5の発明に係る極低温装置は、凝縮
熱交換器を極低温冷媒槽内に設けるようにしたものであ
る。In the cryogenic apparatus according to the fifth aspect of the present invention, the condensing heat exchanger is provided inside the cryogenic refrigerant tank.
【0022】請求項6の発明に係る極低温装置は、凝縮
熱交換器を極低温冷媒槽外周面上に配置するようにした
ものである。In the cryogenic apparatus according to the invention of claim 6, the condensing heat exchanger is arranged on the outer peripheral surface of the cryogenic refrigerant tank.
【0023】請求項7の発明に係る極低温装置は、極低
温冷媒槽に敷設された凝縮熱交換器と、冷媒循環用配管
と、前記凝縮熱交換器および前記冷媒循環用配管とを経
由し多段式冷凍機のヒートステージで冷却させた第2の
冷媒を循環させ、前記ガス化した前記極低温冷媒を再液
化する冷媒循環機構とを備えた極低温装置において、前
記多段式冷凍機を極低温装置本体の設置床面上1メート
ル以下の高さ位置に略水平に取り付けるようにしたもの
である。A cryogenic apparatus according to a seventh aspect of the present invention passes through a condensing heat exchanger laid in a cryogenic refrigerant tank, a refrigerant circulating pipe, the condensing heat exchanger and the refrigerant circulating pipe. In a cryogenic device including a refrigerant circulation mechanism that circulates a second refrigerant cooled in a heat stage of a multistage refrigerator and reliquefies the gasified cryogenic refrigerant, the multistage refrigerator is a polar The installation of the low temperature device body is to be installed substantially horizontally at a height position of 1 m or less above the floor surface.
【0024】請求項8の発明に係る極低温装置は、極低
温冷媒槽に敷設された凝縮熱交換器と、冷媒循環用配管
と、前記凝縮熱交換器および前記冷媒循環用配管とを経
由し多段式冷凍機のヒートステージで冷却させた第2の
冷媒を循環させ、前記ガス化した前記極低温冷媒を再液
化する冷媒循環機構とを備えた極低温装置において、極
低温装置本体の設置床面上1メートル以下の高さ位置に
略垂直に多段式冷凍機を取り付けるようにしたものであ
る。According to the eighth aspect of the present invention, there is provided a cryogenic device which includes a condensation heat exchanger laid in a cryogenic refrigerant tank, a refrigerant circulation pipe, the condensation heat exchanger and the refrigerant circulation pipe. A cryogenic device including a refrigerant circulation mechanism that circulates a second refrigerant cooled in a heat stage of a multi-stage refrigerator and reliquefies the gasified cryogenic refrigerant in a cryogenic device main body installation floor A multi-stage refrigerator is mounted substantially vertically at a height of 1 meter or less on the surface.
【0025】請求項9の発明に係る極低温装置は、第2
の冷媒用供給配管と輻射シールドを冷却するための輻射
シールド冷却管とを有し、多段式冷凍機のヒートステー
ジを経由する第3の冷媒を第3の冷媒循環機構により前
記第2の冷媒用供給配管と前記輻射シールド冷却管とを
循環させることで前記輻射シールドや支持部材の中間部
分が冷却されるようにしたものである。The cryogenic apparatus according to the invention of claim 9 is the second
For the second refrigerant by means of a third refrigerant circulation mechanism having a refrigerant supply pipe and a radiation shield cooling tube for cooling the radiation shield, the third refrigerant passing through a heat stage of a multistage refrigerator. By circulating a supply pipe and the radiation shield cooling pipe, an intermediate portion of the radiation shield and the support member is cooled.
【0026】請求項10の発明に係る極低温装置は、冷
媒用供給配管を熱伝導率の小さい材質により構成したも
のである。In the cryogenic apparatus according to the tenth aspect of the present invention, the refrigerant supply pipe is made of a material having a small thermal conductivity.
【0027】請求項11の発明に係る極低温装置は、冷
媒循環用配管または第2の冷媒用供給配管あるいは輻射
シールド冷却管の内部をメンテナンス時に真空にするた
めの締切弁を備えたものである。The cryogenic apparatus according to the invention of claim 11 comprises a shutoff valve for evacuating the interior of the refrigerant circulation pipe, the second refrigerant supply pipe or the radiation shield cooling pipe during maintenance. .
【0028】請求項12の発明に係る極低温装置は、ガ
ス化した極低温冷媒を再液化するための冷凍機とは異な
る第3の冷媒のみを冷却するための冷凍機を別に設けた
ものである。The cryogenic apparatus according to the twelfth aspect of the present invention is provided with a separate refrigerator for cooling only the third refrigerant different from the refrigerator for reliquefying the gasified cryogenic refrigerant. is there.
【0029】請求項13の発明に係る極低温装置は、極
低温冷媒は略大気圧のヘリウムガスもしくは水素ガスも
しくはネオンガスもしくはこれらの混合されたガスであ
り、第2の冷媒は略大気圧のヘリウムガスもしくは水素
ガスもしくはネオンガスもしくはこれらの混合されたガ
スであり、第3の冷媒は大気圧以上に加圧されたヘリウ
ムガスもしくは水素ガスもしくはネオンガスもしくはこ
れらの混合されたガスにしたものである。In the cryogenic apparatus according to the thirteenth aspect of the present invention, the cryogenic refrigerant is helium gas at approximately atmospheric pressure, hydrogen gas, neon gas, or a mixture thereof, and the second refrigerant is helium at approximately atmospheric pressure. Gas, hydrogen gas, neon gas or a mixed gas thereof, and the third refrigerant is helium gas, hydrogen gas, neon gas or a mixed gas thereof pressurized to atmospheric pressure or higher.
【0030】請求項14の発明に係る極低温装置は、ブ
ロワーの夫々が共通した駆動軸で駆動される冷媒循環機
構を備えたものである。According to the fourteenth aspect of the invention, the cryogenic device is provided with a refrigerant circulation mechanism in which the blowers are driven by a common drive shaft.
【0031】請求項15の発明に係る極低温装置は、多
段式冷凍機のヒートステージに取り付けられた冷媒貯蔵
用タンクと、第2の冷媒用供給配管に取り付けられた逆
止弁および放出弁とを有し、前記多段式冷凍機の停止時
には第3の冷媒が前記放出弁を経由して大気へ放出され
るようにしたものである。A cryogenic apparatus according to a fifteenth aspect of the present invention is a cryogenic storage tank mounted on a heat stage of a multi-stage refrigerator, a check valve and a discharge valve mounted on a second refrigerant supply pipe. When the multistage refrigerator is stopped, the third refrigerant is released to the atmosphere via the release valve.
【0032】請求項16の発明に係る極低温装置は、多
段式冷凍機あるいは第2の冷媒用供給配管あるいは輻射
シールド冷却管と熱的に接触できる任意の場所に設置し
た冷媒タンクと、前記第2の冷媒用供給配管と併設され
た第3の冷媒用供給配管と、第4の冷媒用の輻射シール
ド冷却管と、放出弁とを設け、前記多段式冷凍機の停止
時には前記冷媒タンク内の第4の冷媒ガスが前記第3の
冷媒用供給配管と前記第4の冷媒用の輻射シールド冷却
管と前記放出弁とを経由して大気に放出されるようにし
たものである。A cryogenic apparatus according to a sixteenth aspect of the present invention is a cryogenic tank installed at an arbitrary place capable of being in thermal contact with a multistage refrigerator or a second refrigerant supply pipe or a radiation shield cooling pipe; The third refrigerant supply pipe provided in parallel with the second refrigerant supply pipe, the fourth radiation shield cooling pipe for the fourth refrigerant, and the discharge valve are provided, and when the multi-stage refrigerator is stopped, the inside of the refrigerant tank The fourth refrigerant gas is discharged to the atmosphere via the third refrigerant supply pipe, the fourth radiation shield cooling pipe for the fourth refrigerant, and the discharge valve.
【0033】請求項17の発明に係る極低温装置は、第
4の冷媒を大気圧以上に加圧された酸素ガスもしくは窒
素ガスもしくは乾燥空気にしたものである。In the cryogenic apparatus according to the seventeenth aspect of the present invention, the fourth refrigerant is oxygen gas or nitrogen gas pressurized to atmospheric pressure or higher, or dry air.
【0034】請求項18の発明に係る極低温装置は、温
度が80K以上100K以下で磁気転移現象を起こす磁
性材料を多段式冷凍機あるいは第3の冷媒用供給配管あ
るいは輻射シールド冷却管と熱的に接触できる任意の場
所に設置したものである。In the cryogenic apparatus according to the eighteenth aspect of the present invention, a magnetic material that causes a magnetic transition phenomenon at a temperature of 80K or more and 100K or less is thermally treated with a multistage refrigerator, a third refrigerant supply pipe or a radiation shield cooling pipe. It is installed in any place that can be contacted with.
【0035】請求項19の発明に係る極低温装置は、輻
射シールド冷却管を複数の並列流路で構成すると共に、
各流路の出口付近に流量制御弁を備えるようにしたもの
である。In the cryogenic apparatus according to the invention of claim 19, the radiation shield cooling pipe is composed of a plurality of parallel flow paths, and
A flow control valve is provided near the outlet of each flow path.
【0036】請求項20の発明に係る極低温装置は、輻
射シールド冷却管を複数の並列流路で構成したときに、
その並列流路の各流路の出口付近に設けた流量制御弁
が、流路の内部を流れる冷媒の温度変化に従って夫々開
度が変化するようにしたものである。In the cryogenic apparatus according to the invention of claim 20, when the radiation shield cooling pipe is composed of a plurality of parallel flow paths,
The flow rate control valve provided near the outlet of each flow path of the parallel flow path is such that the opening degree of the flow path control valve changes according to the temperature change of the refrigerant flowing inside the flow path.
【0037】[0037]
【作用】請求項1の発明における極低温装置の真空槽内
に配置された冷媒循環機構は、極低温冷媒槽内で蒸発し
た極低温冷媒ガスを冷媒用供給配管を経由して多段式冷
凍機のヒートステージに循環させて液化し、さらに冷媒
用供給配管を経由して再び前記極低温冷媒槽に戻し、多
段式冷凍機の取り付け場所の制約をなくし、多段式冷凍
機の取り付け場所を柔軟に選択できるようにすると共
に、極低温冷媒槽内のガス化した冷媒を効率良く液化す
ることを可能にする。In the refrigerant circulating mechanism arranged in the vacuum tank of the cryogenic apparatus according to the first aspect of the invention, the cryogenic refrigerant gas evaporated in the cryogenic refrigerant tank is supplied to the multi-stage refrigerator via the refrigerant supply pipe. Liquefied by circulating it to the heat stage, and then returned to the cryogenic refrigerant tank again via the refrigerant supply pipe, eliminating the restriction on the installation location of the multi-stage refrigerator, and flexibly installing the multi-stage refrigerator. This makes it possible to select and also to efficiently liquefy the gasified refrigerant in the cryogenic refrigerant tank.
【0038】請求項2の発明における極低温装置の多段
式冷凍機は、極低温装置本体が設置されている床面上1
メートル以下の高さ位置に前記極低温装置本体に略水平
に取り付けられているので、多段式冷凍機のメンテナン
スなどの作業を作業員は腰の高さ位置で行うことが出
来、メンテナンス作業などを行う際の作業性が向上す
る。The multistage refrigerator of the cryogenic apparatus according to the second aspect of the present invention is provided on the floor 1 on which the cryogenic apparatus main body is installed.
Since it is attached to the cryogenic device main body at a height position of less than or equal to a meter substantially horizontally, the worker can perform maintenance work such as maintenance of the multi-stage refrigerator at a waist height position and perform maintenance work. Workability when performing is improved.
【0039】請求項3の発明における極低温装置の多段
式冷凍機は、極低温装置本体が設置されている床面上1
メートル以下の高さ位置に前記極低温装置本体に略垂直
に取り付けられているので、多段式冷凍機のメンテナン
スなどの作業を作業員は腰の高さ位置で行うと共に、上
方から作業を行うことが出来、メンテナンス作業などを
行う際の作業性が向上する。In the multistage refrigerator of the cryogenic device according to the invention of claim 3, the cryogenic device main body is installed on the floor 1
Since it is installed almost vertically to the cryogenic device body at a height position of less than a meter, the worker should perform work such as maintenance of the multistage refrigerator at a waist height position and work from above. The workability when performing maintenance work is improved.
【0040】請求項4の発明における極低温装置は、冷
媒循環機構により極低温冷媒槽に敷設された凝縮熱交換
器と冷媒循環用配管とを経由して多段式冷凍機のヒート
ステージで冷却させた第2の冷媒を循環させ、前記極低
温冷媒槽に敷設された凝縮熱交換器によりガス化した極
低温冷媒を間接的に冷却し再液化し、多段式冷凍機の取
り付け場所の柔軟な選択を可能にすると共に、極低温冷
媒槽内のガス化した冷媒を効率良く液化する。According to a fourth aspect of the invention, the cryogenic device cools the heat stage of the multistage refrigerator via the condenser heat exchanger and the refrigerant circulation pipe laid in the cryogenic tank by the refrigerant circulation mechanism. The second refrigerant is circulated, and the cryogenic refrigerant gasified by the condensation heat exchanger laid in the cryogenic refrigerant tank is indirectly cooled and reliquefied to flexibly select the installation location of the multistage refrigerator. It is possible to efficiently liquefy the gasified refrigerant in the cryogenic refrigerant tank.
【0041】請求項5の発明における極低温装置は、冷
媒循環機構により極低温冷媒槽内に設けられている凝縮
熱交換器と冷媒循環用配管とを経由して多段式冷凍機の
ヒートステージで冷却させた第2の冷媒を循環させ、前
記極低温冷媒槽内に設けられている凝縮熱交換器により
ガス化した極低温冷媒を間接的に冷却し再液化し、多段
式冷凍機の取り付け場所の選択を可能にすると共に、極
低温冷媒槽内のガス化した冷媒を効率良く液化する。The cryogenic apparatus of the fifth aspect of the present invention is a heat stage of a multistage refrigerator, wherein the refrigerant circulation mechanism passes through a condensation heat exchanger and a refrigerant circulation pipe provided in the cryogenic refrigerant tank. The cooling second refrigerant is circulated, and the cryogenic refrigerant gasified by the condensation heat exchanger provided in the cryogenic refrigerant tank is indirectly cooled and reliquefied, and the multistage refrigerator is installed at the location. And the gasified refrigerant in the cryogenic refrigerant tank is efficiently liquefied.
【0042】請求項6の発明における極低温装置は、冷
媒循環機構により極低温冷媒槽外周面上に配置されてい
る凝縮熱交換器と冷媒循環用配管とを経由して多段式冷
凍機のヒートステージで冷却させた第2の冷媒を循環さ
せ、前記極低温冷媒槽外周面上に配置されている凝縮熱
交換器によりガス化した極低温冷媒を間接的に冷却し再
液化し、多段式冷凍機の取り付け場所の柔軟な選択を可
能にすると共に、極低温冷媒槽内のガス化した冷媒を効
率良く液化する。According to the sixth aspect of the present invention, in the cryogenic device, the heat of the multistage refrigerator is passed through the condensing heat exchanger and the refrigerant circulation pipe arranged on the outer peripheral surface of the cryogenic refrigerant tank by the refrigerant circulation mechanism. The second refrigerant cooled in the stage is circulated, and the cryogenic refrigerant gasified by the condensation heat exchanger arranged on the outer peripheral surface of the cryogenic refrigerant tank is indirectly cooled and reliquefied, and the multistage freezing is performed. It enables flexible selection of machine installation location and efficiently liquefies the gasified refrigerant in the cryogenic refrigerant tank.
【0043】請求項7の発明における極低温装置の多段
式冷凍機は、極低温装置本体が設置されている床面上か
ら1メートル以下の高さ位置に前記極低温装置本体に略
水平に取り付けられているので、多段式冷凍機のメンテ
ナンスなどの作業を作業員は腰の高さ位置で行うことが
出来、メンテナンス作業などを行う際の作業性が向上す
る。In the multistage refrigerator of the cryogenic device according to the invention of claim 7, the cryogenic device is mounted substantially horizontally on the cryogenic device body at a height of 1 meter or less from the floor on which the cryogenic device body is installed. Therefore, the worker can perform work such as maintenance of the multi-stage refrigerator at a waist height position, and workability at the time of performing maintenance work is improved.
【0044】請求項8の発明における極低温装置の多段
式冷凍機は、極低温装置本体が設置されている床面上か
ら1メートル以下の高さ位置に前記極低温装置本体に略
垂直に取り付けられているので、多段式冷凍機のメンテ
ナンスなどの作業を作業員は腰の高さ位置で行うことが
出来、メンテナンス作業などを行う際の作業性が向上す
る。According to the eighth aspect of the present invention, in the multistage refrigerator of a cryogenic device, the cryogenic device is mounted substantially vertically to the cryogenic device body at a height of 1 meter or less from the floor on which the cryogenic device body is installed. Therefore, the worker can perform work such as maintenance of the multi-stage refrigerator at a waist height position, and workability at the time of performing maintenance work is improved.
【0045】請求項9の発明における極低温装置は、第
2の冷媒循環機構により第3の冷媒を第2の冷媒用供給
配管と輻射シールド冷却管とを循環させ、輻射シールド
や支持部材の中間部分の冷却を行い、極低温冷媒槽への
熱侵入量の増加を抑制する。In the cryogenic apparatus according to the invention of claim 9, the second refrigerant circulating mechanism circulates the third refrigerant through the second refrigerant supply pipe and the radiation shield cooling pipe, and the intermediate of the radiation shield and the support member. The part is cooled to prevent an increase in the amount of heat entering the cryogenic refrigerant tank.
【0046】請求項10の発明における極低温装置は、
冷媒用供給配管を熱伝導率の小さい材質により構成し、
前記冷媒用供給配管を介しての冷凍機と低温部との熱的
な結合を断ち、停止させた冷凍機の温度上昇を容易にし
て冷凍機の部品の取り外しや取り付けなどのメンテナン
ス作業を常温で実施することを可能にする。The cryogenic device according to the invention of claim 10 is
The refrigerant supply pipe is made of a material having a small thermal conductivity,
Disconnect the thermal coupling between the refrigerator and the low temperature part via the refrigerant supply pipe, facilitate the temperature rise of the stopped refrigerator, and perform maintenance work such as removal and installation of refrigerator parts at room temperature. It is possible to carry out.
【0047】請求項11の発明における極低温装置は、
冷媒循環用配管または第2の冷媒用供給配管あるいは輻
射シールド冷却管に対し締切弁を介しメンテナンス時に
外部からバキュームを行うことで、前記冷媒循環用配管
の内部または前記第2の冷媒用供給配管あるいは前記輻
射シールド冷却管の内部を真空にして、多段式冷凍機の
停止時の前記冷媒循環用配管および前記第2の冷媒用供
給配管あるいは前記輻射シールド冷却管内のガスの対流
などを介しての冷凍機と低温部との熱的な結合を断ち、
停止させた冷凍機の温度上昇を容易にして冷凍機の部品
の取り外しや取り付けなどのメンテナンス作業を常温で
実施することを可能にする。The cryogenic device according to the invention of claim 11 is
By vacuuming the refrigerant circulation pipe, the second refrigerant supply pipe, or the radiation shield cooling pipe from outside during maintenance via a shutoff valve, the inside of the refrigerant circulation pipe or the second refrigerant supply pipe or The inside of the radiation shield cooling pipe is evacuated, and refrigeration is performed via the refrigerant circulation pipe and the second refrigerant supply pipe when the multistage refrigerator is stopped, or the gas convection in the radiation shield cooling pipe. Break the thermal coupling between the machine and the low temperature part,
This makes it possible to easily raise the temperature of the stopped refrigerator and perform maintenance work such as removal and installation of the refrigerator parts at room temperature.
【0048】請求項12の発明における極低温装置は、
ガス化した極低温冷媒を再液化するための冷凍機とは別
に、第3の冷媒のみを冷却する冷凍機を設け、前記極低
温冷媒と第3の冷媒とを夫々別の冷凍機により冷却し、
極低温冷媒槽内のガス化した冷媒を効率良く液化する。The cryogenic device according to the invention of claim 12 is
In addition to the refrigerator for reliquefying the gasified cryogenic refrigerant, a refrigerator for cooling only the third refrigerant is provided, and the cryogenic refrigerant and the third refrigerant are cooled by separate refrigerators. ,
Efficiently liquefy the gasified refrigerant in the cryogenic refrigerant tank.
【0049】請求項13の発明における極低温装置は、
極低温冷媒および第2の冷媒として略大気圧のヘリウム
ガスもしくは水素ガスもしくはネオンガスもしくはこれ
らの混合されたガスを使用し、また第3の冷媒として大
気圧以上に加圧されたヘリウムガスもしくは水素ガスも
しくはネオンガスもしくはこれらの混合されたガスを使
用して、極低温冷媒槽内のガス化した冷媒を効率的に液
化する。The cryogenic device according to the invention of claim 13 is
Helium gas, hydrogen gas, neon gas or a mixed gas thereof having substantially atmospheric pressure is used as the cryogenic refrigerant and the second refrigerant, and helium gas or hydrogen gas pressurized to above the atmospheric pressure is used as the third refrigerant. Alternatively, neon gas or a mixed gas thereof is used to efficiently liquefy the gasified refrigerant in the cryogenic refrigerant tank.
【0050】請求項14の発明における極低温装置は、
ブロワーにより構成した冷媒循環機構を複数設けたとき
に、前記各ブロワーの駆動軸を共通した駆動軸にして、
前記冷媒循環機構の駆動機構を簡略化し、前記駆動軸か
らの熱侵入量を抑制する。The cryogenic device according to the invention of claim 14 is
When a plurality of refrigerant circulation mechanisms configured by blowers are provided, the drive shaft of each blower is a common drive shaft,
The drive mechanism of the refrigerant circulation mechanism is simplified, and the amount of heat penetration from the drive shaft is suppressed.
【0051】請求項15の発明における極低温装置は、
多段式冷凍機の停止時には冷媒貯蔵用タンク内の第3の
冷媒を放出弁を経由して大気へ放出させることが可能で
あるので、前記放出弁からの第3の冷媒の大気への放出
により多段式冷凍機の停止時の輻射シールドの温度上昇
の増加の度合いを緩やかにすることが可能となる。The cryogenic device according to the invention of claim 15 is
When the multistage refrigerator is stopped, it is possible to release the third refrigerant in the refrigerant storage tank to the atmosphere via the release valve. Therefore, the release valve releases the third refrigerant to the atmosphere. It is possible to moderate the degree of increase in the temperature rise of the radiation shield when the multistage refrigerator is stopped.
【0052】請求項16の発明における極低温装置は、
多段式冷凍機の停止時に、多段式冷凍機あるいは第2の
冷媒用供給配管あるいは輻射シールド冷却管と熱的に接
触できる任意の場所に設置した第4の冷媒タンク内の第
4の冷媒ガスを、第2の冷媒用供給配管と併設された第
3の冷媒用供給配管と第4の冷媒用の輻射シールド冷却
管と放出弁とを経由して大気へ放出させることが可能で
あるから、前記放出弁からの前記第4の冷媒ガスの大気
への放出により多段式冷凍機の停止時の輻射シールドの
温度上昇の増加の度合いを緩やかにすることが可能とな
る。The cryogenic apparatus according to the invention of claim 16 is
When the multistage refrigerator is stopped, the fourth refrigerant gas in the fourth refrigerant tank installed in an arbitrary place where it can be in thermal contact with the multistage refrigerator, the second refrigerant supply pipe, or the radiation shield cooling pipe is supplied. Since it is possible to discharge to the atmosphere via the third refrigerant supply pipe provided in parallel with the second refrigerant supply pipe, the fourth radiation shield cooling pipe for the fourth refrigerant, and the discharge valve, The release of the fourth refrigerant gas from the release valve to the atmosphere makes it possible to moderate the increase in the temperature rise of the radiation shield when the multistage refrigerator is stopped.
【0053】請求項17の発明における極低温装置は、
第4の冷媒として大気圧以上に加圧された酸素ガスもし
くは窒素ガスもしくは乾燥空気を用いるので、放出弁か
らの前記第4の冷媒の大気への放出により多段式冷凍機
の停止時の輻射シールドの温度上昇の度合いを緩やかに
することが可能となる。。The cryogenic device according to the invention of claim 17 is
Since oxygen gas, nitrogen gas, or dry air pressurized to atmospheric pressure or higher is used as the fourth refrigerant, the radiation shield when the multistage refrigerator is stopped by discharging the fourth refrigerant to the atmosphere from the discharge valve. It is possible to moderate the degree of temperature rise. .
【0054】請求項18の発明における極低温装置は、
多段式冷凍機あるいは第2の冷媒用供給配管あるいは輻
射シールド冷却管と熱的に接触できる任意の場所に設置
されて、温度が80K以上100K以下で磁気転移現象
を起こし比熱が増大している磁性材料のバッファ作用に
より、多段式冷凍機の停止時の輻射シールドの温度上昇
の度合いを緩やかにする。The cryogenic apparatus according to the invention of claim 18 is
It is installed in any place that can be in thermal contact with the multistage refrigerator or the second refrigerant supply pipe or the radiation shield cooling pipe, and the magnetic transition phenomenon occurs at a temperature of 80K or more and 100K or less to increase the specific heat. The buffer action of the material moderates the temperature rise of the radiation shield when the multistage refrigerator is stopped.
【0055】請求項19の発明における極低温装置は、
輻射シールド冷却管を複数の並列流路により構成し、前
記輻射シールド冷却管における流路抵抗を小さくして冷
媒循環機構を駆動するための電力消費を抑制する。The cryogenic device according to the invention of claim 19 is
The radiation shield cooling pipe is configured by a plurality of parallel flow passages, and the flow passage resistance in the radiation shield cooling pipe is reduced to suppress power consumption for driving the refrigerant circulation mechanism.
【0056】請求項20の発明における極低温装置は、
並列流路で構成された輻射シールド冷却管の各流路の出
口付近に設けられた流量制御弁が流路内部を流れる冷媒
の温度変化に従って夫々弁開度を変化させ、並列流路の
各輻射シールド冷却管の間の温度差を少なくし、輻射シ
ールドをさらに均一化して冷却する。The cryogenic device according to the invention of claim 20 is
A radiation control valve provided in the vicinity of the outlet of each flow path of the radiation shield cooling pipe configured with parallel flow paths changes the valve opening according to the temperature change of the refrigerant flowing inside the flow path, and the radiation of each parallel flow path is increased. The temperature difference between the shield cooling pipes is reduced to make the radiation shield more uniform and cool.
【0057】[0057]
実施例1.以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図1は実施例1の極低温装置の構成を示す断面図
である。図1において図13と同一部分については同一
符号を付し説明を省略する。本実施例では、MRI装置
用の超電導マグネットを冷却する極低温装置を例として
説明する。この極低温装置は3段式冷凍機が極低温装置
本体の端面下部に水平に設置される構成である。図にお
いて、21はガス化した液体ヘリウム(極低温冷媒)を
循環させるためのブロワー(冷媒循環機構)、22は第
3段ヒートステージ(ヒートステージ)12に熱接触し
た状態で取り付けられている熱交換器、23は蒸発した
ヘリウムガスを直接、熱交換器22へ送り出すための冷
媒用供給配管、24は熱交換器22で冷却されたヘリウ
ムを直接ヘリウム槽(極低温冷媒槽)2へ戻すための冷
媒用供給配管である。冷媒用供給配管23,24はヘリ
ウム槽2の上部ガス相のある場所に開口している。ま
た、冷媒用供給配管23,24は、円筒の円周に沿うよ
うに配管される。Example 1. An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing the configuration of the cryogenic device of the first embodiment. In FIG. 1, the same parts as those in FIG. 13 are designated by the same reference numerals and the description thereof is omitted. In this embodiment, a cryogenic device for cooling a superconducting magnet for an MRI device will be described as an example. This cryogenic device has a configuration in which a three-stage refrigerator is installed horizontally below the end surface of the cryogenic device body. In the figure, 21 is a blower (refrigerant circulation mechanism) for circulating gasified liquid helium (cryogenic refrigerant), and 22 is heat attached to the third heat stage (heat stage) 12 in thermal contact therewith. An exchanger, 23 is a refrigerant supply pipe for sending the evaporated helium gas directly to the heat exchanger 22, and 24 is for returning the helium cooled in the heat exchanger 22 directly to the helium tank (cryogenic refrigerant tank) 2. 3 is a refrigerant supply pipe. The refrigerant supply pipes 23 and 24 are opened at the place where the upper gas phase of the helium tank 2 is located. The refrigerant supply pipes 23 and 24 are arranged along the circumference of the cylinder.
【0058】次に、この実施例の動作について説明す
る。超電導コイル(被冷却体)1はヘリウム槽2の内部
に収納され液体ヘリウム(極低温冷媒)3によって超電
導状態に冷却されている。ヘリウム槽2は、それぞれ規
定の温度に冷却された第1輻射シールド5および第2輻
射シールド6によって包囲されており常温部から侵入す
る輻射熱量は少ない。複数の支持部材8はヘリウム槽
2、第1輻射シールド(輻射シールド)5および第2輻
射シールド(輻射シールド)6などを断熱的に支持する
ものであり、真空槽4はヘリウム槽2との間の空間を高
真空に保持している。Next, the operation of this embodiment will be described. The superconducting coil (object to be cooled) 1 is housed inside a helium tank 2 and cooled to a superconducting state by liquid helium (cryogenic refrigerant) 3. The helium tank 2 is surrounded by the first radiation shield 5 and the second radiation shield 6, which are cooled to the specified temperatures, respectively, and the amount of radiant heat entering from the room temperature portion is small. The plurality of supporting members 8 adiabatically support the helium tank 2, the first radiation shield (radiation shield) 5, the second radiation shield (radiation shield) 6 and the like, and the vacuum tank 4 is provided between the helium tank 2 and the helium tank 2. The space is maintained at high vacuum.
【0059】真空槽4の端面下部に取り付けられた3段
式冷凍機(多段式冷却機)20では、可撓導体15によ
り第1段ヒートステージ(ヒートステージ)10が第1
輻射シールド5に、第2段ヒートステージ(ヒートステ
ージ)11が第2輻射シールド6に熱的に接続され、第
1輻射シールド5の温度を80K程度、また第2輻射シ
ールド6の温度を20K程度に冷却する。また第3段ヒ
ートステージ12に取り付けられた熱交換器22は温度
4K程度のヘリウム液化温度以下に冷却されているの
で、ヘリウム槽2の液体ヘリウムの蒸発ガスはブロワー
21により冷媒用供給配管23,24と第3段ヒートス
テージ12に取り付けられた熱交換器22とを経由して
液体となってヘリウム槽2に循環し戻される。In the three-stage refrigerator (multistage cooler) 20 attached to the lower part of the end surface of the vacuum chamber 4, the first heat stage (heat stage) 10 is the first due to the flexible conductor 15.
The second heat stage (heat stage) 11 is thermally connected to the second radiation shield 6 on the radiation shield 5, and the temperature of the first radiation shield 5 is about 80K and the temperature of the second radiation shield 6 is about 20K. Cool to. Further, since the heat exchanger 22 attached to the third heat stage 12 is cooled to a helium liquefaction temperature of about 4K or less, the vaporized gas of liquid helium in the helium tank 2 is supplied by the blower 21 to the refrigerant supply pipe 23, After passing through 24 and the heat exchanger 22 attached to the third heat stage 12, it becomes liquid and circulates back to the helium tank 2.
【0060】以上のように構成された極低温装置では、
ヘリウム槽2内で蒸発したヘリウムガスは冷媒用供給配
管23とブロワー21とにより第3段ヒートステージ1
2に取り付けられた熱交換器22に送られて再度液化さ
れ、冷媒用供給配管24によりヘリウム槽2に戻される
ため、冷媒用供給配管23,24の配置構成により3段
式冷凍機20の取付け場所は自由に選択でき、3段式冷
凍機20の取付け場所はヘリウム槽2の上部ガス相のあ
る場所と熱的に接触される場所でなくても良いことにな
る。In the cryogenic device constructed as described above,
The helium gas evaporated in the helium tank 2 is supplied to the third heat stage 1 by the refrigerant supply pipe 23 and the blower 21.
2 is liquefied again by being sent to the heat exchanger 22 attached to the heat exchanger 22, and returned to the helium tank 2 by the refrigerant supply pipe 24. Therefore, the three-stage refrigerator 20 is attached by the arrangement configuration of the refrigerant supply pipes 23 and 24. The location can be freely selected, and the installation location of the three-stage refrigerator 20 does not have to be the location in thermal contact with the location of the upper gas phase of the helium tank 2.
【0061】従って、本実施例の極低温装置では3段式
冷凍機20の取付け場所は床からの取り付け位置の高さ
を60cm程度にしており、作業員の腰の高さとなって
いる。このため3段式冷凍機20の内部の部品の取り外
しや取り付けなどのメンテナンス作業に踏み台や足場の
設置が不要であり、これらの作業のためのスペースを広
く必要としない極低温装置となっている。Therefore, in the cryogenic apparatus of this embodiment, the mounting position of the three-stage refrigerator 20 is about 60 cm in height from the floor, which is the waist of the worker. For this reason, it is not necessary to install a step or scaffold for maintenance work such as removal and installation of parts inside the three-stage refrigerator 20, and the cryogenic device does not require a large space for these works. .
【0062】実施例2.図2はこの発明の実施例2の極
低温装置の構成を示す断面図である。図2において図1
と同一部分については同一符号を付し説明を省略する。
本実施例の極低温装置では、3段式冷凍機20を極低温
装置本体の端面下部に垂直に設置する。動作等は前記実
施例1における3段式冷凍機20を水平に設置した場合
と同様であるが、3段式冷凍機の内部の部品の取り外し
や取り付けなどの作業は上下方向に行うことが可能とな
るのでメンテナンス作業はより容易になる。Example 2. Second Embodiment FIG. 2 is a sectional view showing the structure of a cryogenic device according to a second embodiment of the present invention. In FIG. 2, FIG.
The same parts as those of are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
In the cryogenic apparatus of this embodiment, the three-stage refrigerator 20 is installed vertically below the end surface of the cryogenic apparatus body. The operation and the like are the same as in the case where the three-stage refrigerator 20 is horizontally installed in the first embodiment, but the work such as the removal and installation of the parts inside the three-stage refrigerator can be performed in the vertical direction. Therefore, the maintenance work becomes easier.
【0063】実施例3.図3はこの発明の実施例3の極
低温装置の構成を示す断面図である。図3において図1
と同一部分については同一符号を付し説明を省略する。
本実施例の極低温装置では、3段式冷凍機20は極低温
装置本体の端面下部に水平に設置されると共に、ヘリウ
ム槽2内で蒸発したヘリウムガスはヘリウム槽2内の凝
縮熱交換器により間接的に冷却され再度液体に戻され
る。Example 3. Third Embodiment FIG. 3 is a sectional view showing the structure of a cryogenic device according to a third embodiment of the present invention. In FIG.
The same parts as those of are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
In the cryogenic apparatus of the present embodiment, the three-stage refrigerator 20 is installed horizontally below the end surface of the cryogenic apparatus main body, and the helium gas evaporated in the helium tank 2 is condensed in the helium tank 2. Is indirectly cooled by and returned to liquid again.
【0064】図において、26,27は冷媒用供給配管
(冷媒循環用配管)、28はブロワー(冷媒循環機
構)、31はヘリウム槽2の上部ガス相のある場所に設
けられている凝縮熱交換器である。また、ブロワー28
と熱交換器22と冷媒用供給配管26,27と凝縮熱交
換器31とは相互に接続された閉流路であり、内部に大
気圧程度でヘリウム槽2の圧力よりわずかに低い圧力の
ヘリウムガスが封入されている。In the figure, reference numerals 26 and 27 are refrigerant supply pipes (refrigerant circulation pipes), 28 is a blower (refrigerant circulation mechanism), and 31 is condensation heat exchange provided at a place where the upper gas phase of the helium tank 2 is present. It is a vessel. Also, the blower 28
The heat exchanger 22, the refrigerant supply pipes 26 and 27, and the condensing heat exchanger 31 are closed flow paths interconnected with each other, and the inside of the helium has a pressure slightly lower than the pressure of the helium tank 2 at about atmospheric pressure. Gas is enclosed.
【0065】この実施例では、第3段ヒートステージ1
2に取り付けられた熱交換器22は温度4K程度のヘリ
ウム液化温度以下に冷却されており、ブロワー28によ
り冷媒用供給配管26,27と凝縮熱交換器31とを経
由して内部に封入されたヘリウムガスを循環させること
で、ヘリウム槽2の蒸発ガスは再び液体に戻される。In this embodiment, the third stage heat stage 1
The heat exchanger 22 attached to No. 2 is cooled to a helium liquefaction temperature of about 4K or less, and is enclosed inside by the blower 28 via the refrigerant supply pipes 26 and 27 and the condensing heat exchanger 31. By circulating the helium gas, the vaporized gas in the helium tank 2 is returned to the liquid again.
【0066】本実施例の極低温装置は以上のように構成
されているので、閉流路に封入されたヘリウムガスを循
環させ、ヘリウム槽2内で蒸発したしたヘリウムガスを
間接的に冷却して再液化するため、ヘリウム槽2の蒸発
ガスを直接循環させる場合に比べてゴミ等の不純物の混
入の恐れがなく、冷媒用供給配管26,27内の詰りな
どの故障の発生がなくなり信頼性が向上し、より取り扱
いが容易になる。Since the cryogenic apparatus of this embodiment is configured as described above, the helium gas sealed in the closed flow path is circulated to indirectly cool the helium gas evaporated in the helium tank 2. Since it is re-liquefied as compared with the case where the evaporated gas in the helium tank 2 is directly circulated, there is no fear that impurities such as dust are mixed in, and troubles such as clogging in the refrigerant supply pipes 26 and 27 do not occur and reliability is eliminated. Is improved and handling becomes easier.
【0067】なお、この実施例では3段式冷凍機20を
極低温装置本体の端面下部に水平に設置した場合を示し
たが、3段式冷凍機20を極低温装置本体の端面下部に
垂直に設置しても良い。In this embodiment, the case where the three-stage refrigerator 20 is installed horizontally below the end face of the cryogenic device main body is shown. However, the three-stage refrigerator 20 is perpendicular to the bottom end face of the cryogenic device main body. It may be installed in.
【0068】実施例4.図4はこの発明の実施例4の極
低温装置の構成を示す断面図である。図4において図3
と同一部分については同一符号を付し説明を省略する。
本実施例の極低温装置では、3段式冷凍機20は極低温
装置本体の端面下部に水平に設置されると共に、3段式
冷凍機20の第3段ヒートステージ12に設けられてい
る熱交換器22により冷却された第2の冷媒によりヘリ
ウム槽2自体が間接的に冷却されることで、ヘリウム槽
2内で蒸発したヘリウムガスはヘリウム槽2内で再度液
体に戻される。Example 4. Fourth Embodiment FIG. 4 is a sectional view showing the structure of a cryogenic device according to a fourth embodiment of the present invention. In FIG.
The same parts as those of are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
In the cryogenic apparatus of the present embodiment, the three-stage refrigerator 20 is installed horizontally under the end surface of the cryogenic apparatus main body and the heat provided in the third heat stage 12 of the three-stage refrigerator 20. The helium tank 2 itself is indirectly cooled by the second refrigerant cooled by the exchanger 22, so that the helium gas evaporated in the helium tank 2 is returned to the liquid again in the helium tank 2.
【0069】図において、41はヘリウム槽2の外周面
上に配置され取り付けられている凝縮熱交換器である。
この実施例の極低温装置の動作は前記実施例3における
ヘリウム槽2の内部に凝縮熱交換器31を配置した場合
と同様である。In the figure, reference numeral 41 denotes a condensing heat exchanger arranged and attached on the outer peripheral surface of the helium tank 2.
The operation of the cryogenic apparatus of this embodiment is the same as that of the case where the condensation heat exchanger 31 is arranged inside the helium tank 2 in the third embodiment.
【0070】なお、この実施例では3段式冷凍機20を
極低温装置本体の端面下部に水平に設置した場合を示し
たが、3段式冷凍機20を極低温装置本体の端面下部に
垂直に設置しても良い。In this embodiment, the case where the three-stage refrigerator 20 is installed horizontally below the end face of the cryogenic device main body is shown. However, the three-stage refrigerator 20 is placed vertically below the end face of the cryogenic device main body. It may be installed in.
【0071】実施例5.図5はこの発明の実施例5の極
低温装置の構成を示す断面図である。図5において図1
と同一部分については同一符号を付し説明を省略する。
本実施例の極低温装置では、3段式冷凍機20は極低温
装置本体の端面下部に水平に設置されると共に、ヘリウ
ム槽2内で蒸発したヘリウムガスは直接、3段式冷凍機
20の第3段ヒートステージに設けられた熱交換器22
に送られて冷却され液体ヘリウムに戻されてヘリウム槽
2に循環する。Example 5. FIG. 5 is a sectional view showing the structure of a cryogenic device according to a fifth embodiment of the present invention. In FIG.
The same parts as those of are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
In the cryogenic apparatus of the present embodiment, the three-stage refrigerator 20 is installed horizontally below the end surface of the cryogenic apparatus main body, and the helium gas evaporated in the helium tank 2 is directly stored in the three-stage refrigerator 20. Heat exchanger 22 provided in the third heat stage
And is cooled to be returned to liquid helium and circulated in the helium tank 2.
【0072】図において、51は第2のブロワー(第2
の冷媒循環機構)、52は第3のブロワー(第2の冷媒
循環機構)、53は第1段ヒートステージ(ヒートステ
ージ)10に取り付けられている熱交換器、54は第2
段ヒートステージ(ヒートステージ)11に取り付けら
れている熱交換器、55は第1輻射シールド5を冷却す
る冷媒を循環させるための第1輻射シールド冷媒用供給
配管(第2の冷媒用供給配管)、56は第2輻射シール
ド6を冷却する冷媒を循環させるための第2輻射シール
ド冷媒用供給配管(第2の冷媒用供給配管)、57は第
1輻射シールド5の外周面上に配置され取り付けられて
いる第1輻射シールド冷却管(輻射シールド冷却管)、
58は第2輻射シールド6の外周面上に配置され取り付
けられている第2輻射シールド冷却管(輻射シールド冷
却管)である。In the figure, 51 is a second blower (second blower).
Refrigerant circulation mechanism), 52 is a third blower (second refrigerant circulation mechanism), 53 is a heat exchanger attached to the first heat stage (heat stage) 10, and 54 is a second heat exchanger.
A heat exchanger attached to the multi-stage heat stage (heat stage) 11, 55 is a first radiation shield refrigerant supply pipe (second refrigerant supply pipe) for circulating a refrigerant that cools the first radiation shield 5. , 56 is a second radiation shield refrigerant supply pipe (second refrigerant supply pipe) for circulating a refrigerant for cooling the second radiation shield 6, and 57 is arranged and attached on the outer peripheral surface of the first radiation shield 5. The first radiation shield cooling pipe (radiation shield cooling pipe),
Reference numeral 58 denotes a second radiation shield cooling pipe (radiation shield cooling pipe) arranged and attached on the outer peripheral surface of the second radiation shield 6.
【0073】また、第1輻射シールド5の外周面上に配
置取り付けられた輻射シールド冷却管57は、第1輻射
シールド冷媒用供給配管55と第3のブロワー52と熱
交換器53と相互に接続され閉流路を構成し、内部に大
気圧以上に加圧されたヘリウムガスが封入されている。
同様に、第2輻射シールド6の外周面上に配置取り付け
られた輻射シールド冷却管58は、第2輻射シールド冷
媒用供給配管56と第2のブロワー51と熱交換器54
と相互に接続され閉流路を構成し、内部に大気圧以上に
加圧されたヘリウムガスが封入されている。The radiation shield cooling pipe 57 arranged and attached on the outer peripheral surface of the first radiation shield 5 is connected to the first radiation shield refrigerant supply pipe 55, the third blower 52, and the heat exchanger 53. A closed flow path is formed, and helium gas pressurized above atmospheric pressure is enclosed inside.
Similarly, the radiation shield cooling pipe 58 disposed and attached on the outer peripheral surface of the second radiation shield 6 includes a second radiation shield refrigerant supply pipe 56, a second blower 51, and a heat exchanger 54.
Are connected to each other to form a closed flow path, and helium gas pressurized above atmospheric pressure is sealed inside.
【0074】以上の構成により、第1輻射シールド5は
全域にわたり温度が冷凍機の第1段ヒートステージ10
の温度80Kに維持できる。また、第2輻射シールド6
も同様に全域にわたり冷凍機の第2段ヒートステージ1
1の温度20Kに維持できる。これはヘリウム槽2への
熱侵入量をより抑制する効果がある。また第3段ヒート
ステージ12に取り付けられた熱交換器22は温度4K
程度のヘリウム液化温度以下に冷却されているので、ヘ
リウム槽2内の蒸発ガスは第1のブロワー21によって
冷媒用供給配管23,24を経由して液体となってヘリ
ウム槽2に循環する。With the above construction, the temperature of the first radiation shield 5 over the entire area is the first heat stage 10 of the refrigerator.
The temperature can be maintained at 80K. In addition, the second radiation shield 6
Similarly, the second stage heat stage 1 of the refrigerator over the entire area
The temperature of 1 can be maintained at 20K. This has the effect of further suppressing the amount of heat entering the helium tank 2. The heat exchanger 22 attached to the third heat stage 12 has a temperature of 4K.
Since the helium liquefaction temperature is cooled to a certain level or lower, the evaporative gas in the helium tank 2 is circulated to the helium tank 2 as a liquid by the first blower 21 via the refrigerant supply pipes 23 and 24.
【0075】この実施例の極低温装置は以上のように構
成されているので、第1輻射シールド5、第2輻射シー
ルド6に対する3段式冷凍機20の取付場所も自由に選
択できるようになり、実施例1の場合より3段式冷凍機
20の取付け場所の自由度がさらに広がる。このため3
段式冷凍機20の内部部品の取り外しや取り付けなどの
メンテナンス作業に踏み台や足場の設置が不要であり、
またこれらの作業のためのスペースを広く必要とせず、
熱侵入量の少ない極低温装置となる。Since the cryogenic apparatus of this embodiment is constructed as described above, it is possible to freely select the mounting location of the three-stage refrigerator 20 for the first radiation shield 5 and the second radiation shield 6. The degree of freedom of the mounting location of the three-stage refrigerator 20 is further expanded as compared with the case of the first embodiment. For this reason 3
It is not necessary to install a step or scaffold for maintenance work such as removal and installation of internal parts of the multi-stage refrigerator 20.
Also, it does not require a large space for these tasks,
It becomes a cryogenic device with a small amount of heat penetration.
【0076】なお、この実施例では3段式冷凍機20を
極低温装置本体の端面下部に水平に設置した場合を示し
たが、3段式冷凍機20を極低温装置本体の端面下部に
垂直に設置しても良い。In this embodiment, the case where the three-stage refrigerator 20 is installed horizontally below the end surface of the cryogenic device main body is shown, but the three-stage refrigerator 20 is perpendicular to the lower end face of the cryogenic device main body. It may be installed in.
【0077】また、冷媒用供給配管23,24,第1輻
射シールド冷媒用供給配管55,第2輻射シールド冷媒
用供給配管56を熱伝導率の小さい材料で構成すること
で、3段式冷凍機20の停止時でもその3段式冷凍機2
0のシリンダーを介しての伝導熱を少なくすることが出
来る。この結果、3段式冷凍機20の内部の部品の取り
外しや取り付けなどのメンテナンス作業に際しては、3
段式冷凍機20の停止時に3段式冷凍機20の温度は容
易に常温に上昇し、シリンダーを含め全体の温度を常温
で実施できるので作業が容易になる。Further, the refrigerant supply pipes 23 and 24, the first radiation shield refrigerant supply pipe 55, and the second radiation shield refrigerant supply pipe 56 are made of a material having a small thermal conductivity, so that the three-stage refrigerator is provided. Even when 20 is stopped, the three-stage refrigerator 2
It is possible to reduce the conduction heat through the 0 cylinder. As a result, when performing maintenance work such as removal and installation of parts inside the three-stage refrigerator 20,
When the multistage refrigerator 20 is stopped, the temperature of the three-stage refrigerator 20 easily rises to room temperature, and the entire temperature including the cylinder can be carried out at room temperature, which facilitates the work.
【0078】実施例6.図6はこの発明の実施例6の極
低温装置の構成を示す断面図である。図6において図5
と同一部分については同一符号を付し説明を省略する。
本実施例の極低温装置では、凝縮熱交換器をヘリウム槽
2内の上部ガス相部分に設置している。また図示してい
ないが、凝縮熱交換器をヘリウム槽2の外周面上に設置
した場合でも動作および効果等は同様である。Example 6. 6 is a sectional view showing the structure of a cryogenic device according to a sixth embodiment of the present invention. In FIG.
The same parts as those of are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
In the cryogenic apparatus of this embodiment, the condensation heat exchanger is installed in the upper gas phase portion in the helium tank 2. Although not shown, the operation and effects are the same even when the condensation heat exchanger is installed on the outer peripheral surface of the helium tank 2.
【0079】図において、62は冷媒用供給配管24か
ら分岐した配管に設けられた締切弁、63は第1輻射シ
ールド冷媒用供給配管55から分岐した配管に設けられ
た締切弁、64は第2輻射シールド冷媒用供給配管56
から分岐した配管に設けられた締切弁である。In the figure, 62 is a shutoff valve provided in a pipe branched from the refrigerant supply pipe 24, 63 is a shutoff valve provided in a pipe branched from the first radiation shield refrigerant supply pipe 55, and 64 is a second shutoff valve. Radiation Shield Refrigerant Supply Pipe 56
It is a shutoff valve provided in a pipe branched from.
【0080】この実施例では、メンテナンス作業の際に
はこれらの締切弁62,63,64を介して、冷媒用供
給配管23,第1輻射シールド冷媒用供給配管55,第
2輻射シールド冷媒用供給配管56の内部を真空に引く
ことができる。この結果、配管内のガスによる熱の移動
がなくなり、3段式冷凍機20のシリンダー部の温度を
常温まで容易に上げることができる。In this embodiment, during maintenance work, the refrigerant supply pipe 23, the first radiation shield refrigerant supply pipe 55, and the second radiation shield refrigerant supply are supplied through the shutoff valves 62, 63, 64. The inside of the pipe 56 can be evacuated. As a result, there is no heat transfer due to the gas in the pipe, and the temperature of the cylinder portion of the three-stage refrigerator 20 can be easily raised to room temperature.
【0081】また、3段式冷凍機の内部部品の取り外し
や取り付けなどのメンテナンス作業を常温の3段式冷凍
機に対し行うことが出来、さらにこれらの作業のための
スペースを広く必要としない極低温装置となる。また、
循環させるヘリウムガスは封入されており、ヘリウム槽
2内の蒸発ガスと異なりゴミ等の不純物の混入の恐れが
なく、より取り扱いが容易になる。Further, maintenance work such as removal and installation of internal parts of the three-stage refrigerator can be performed on the three-stage refrigerator at room temperature, and a space for these operations is not required so much. It becomes a low temperature device. Also,
The helium gas to be circulated is enclosed, and unlike the evaporative gas in the helium tank 2, there is no fear of inclusion of impurities such as dust, and the handling becomes easier.
【0082】実施例7.図7はこの発明の実施例7の極
低温装置の構成を示す断面図である。図7において図5
と同一部分については同一符号を付し説明を省略する。
本実施例の極低温装置では、2段式冷凍機と3段式冷凍
機を極低温装置本体の端面下部で水平に併設している。Example 7. 7 is a sectional view showing the structure of a cryogenic device according to a seventh embodiment of the present invention. In FIG.
The same parts as those of are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
In the cryogenic device of the present embodiment, the two-stage refrigerator and the three-stage refrigerator are horizontally provided below the end surface of the cryogenic device body.
【0083】図において、71は極低温装置本体の端面
下部に設けられた2段式冷凍機(多段式冷凍機)、72
は2段式冷凍機71の第1段ヒートステージに取り付け
られた熱交換器、73は2段式冷凍機71の第2段ヒー
トステージに取り付けられた熱交換器である。In the figure, 71 is a two-stage refrigerator (multistage refrigerator) provided below the end surface of the cryogenic apparatus main body, and 72.
Is a heat exchanger attached to the first heat stage of the two-stage refrigerator 71, and 73 is a heat exchanger attached to the second heat stage of the two-stage refrigerator 71.
【0084】この実施例では、2段式冷凍機71の第1
段ヒートステージに取り付けられた熱交換器72が第1
輻射シールド5を冷却し、第2段ヒートステージに取り
付けられた熱交換器73が第2輻射シールド6を冷却す
る。また、3段式冷凍機20の第3段ヒートステージ1
2に取り付けられた熱交換器22がヘリウム槽2内で蒸
発したヘリウムガスを再液化する。In this embodiment, the first of the two-stage refrigerator 71 is used.
The heat exchanger 72 attached to the multi-stage heat stage is the first
The radiation shield 5 is cooled, and the heat exchanger 73 attached to the second heat stage cools the second radiation shield 6. In addition, the third heat stage 1 of the three-stage refrigerator 20
The heat exchanger 22 attached to 2 reliquefies the helium gas evaporated in the helium tank 2.
【0085】このように3段式冷凍機20および2段式
冷凍機71を夫々取り付ける場所の自由度がさらに広が
り、本実施例では3段式冷凍機20および2段式冷凍機
71を極低温装置本体の端面下部に水平に併設したが、
それぞれ異なった場所、例えばお互いに反対側でメンテ
ナンス作業がより実施しやすい場所に取り付けても良
い。また垂直に取り付けても良い。このため3段式冷凍
機20の内部部品の取り外しや取り付けなどのメンテナ
ンス作業に踏み台や足場の設置が不要であり、またこれ
らの作業のためのスペースを広く必要とせず、熱侵入量
の少ない極低温装置となる。As described above, the degree of freedom of the places where the three-stage refrigerator 20 and the two-stage refrigerator 71 are respectively attached is further expanded, and in the present embodiment, the three-stage refrigerator 20 and the two-stage refrigerator 71 are kept at an extremely low temperature. It was installed horizontally at the bottom of the end of the device,
They may be attached to different places, for example, on opposite sides of each other, where it is easier to perform maintenance work. It may also be mounted vertically. Therefore, maintenance work such as removal and installation of internal parts of the three-stage refrigerator 20 does not require a step or scaffolding, and does not require a large space for these works, and the amount of heat penetration is small. It becomes a low temperature device.
【0086】実施例8.また、以上説明した実施例で
は、極低温冷媒として液体ヘリウム、極低温冷媒槽とし
てヘリウム槽、第2,第3の冷媒としてヘリウムガスを
例にしたが、超電導マグネットの動作温度によっては、
水素ガスもしくはネオンガスもしくはこれらの混合ガス
も使用することが可能である。Example 8. Further, in the embodiments described above, liquid helium is used as the cryogenic refrigerant, helium tank is used as the cryogenic refrigerant tank, and helium gas is used as the second and third refrigerants, but depending on the operating temperature of the superconducting magnet,
It is also possible to use hydrogen gas or neon gas or a mixed gas thereof.
【0087】実施例9.図8は本発明の極低温装置を超
電導リニアモータに適用したときの一実施例であり、リ
ニアモータ用超電導マグネットの断面図である。81は
レーストラック形状の超電導コイル、82はヘリウム
槽、85は第1輻射シールド、86,87は冷媒用供給
配管、88は2段式冷凍機、89は第1段ヒートステー
ジに取り付けられた熱交換器、90は第2段ヒートステ
ージに取り付けられた熱交換器、91は第1輻射シール
ドを冷却するための冷媒用供給配管93に設けられた第
1輻射シールド冷却用ブロワー、92は冷媒用供給配管
86に設けられ、ヘリウム槽82内で蒸発したヘリウム
ガスを熱交換器90に送り込むブロワー、94は第1輻
射シールドを冷却するための第1輻射シールド冷却用配
管、95は支持部材であり、構成が若干異なるが前記実
施例5の極低温装置と同様に機能する。Example 9. FIG. 8 is a cross-sectional view of a superconducting magnet for a linear motor, which is an embodiment when the cryogenic device of the present invention is applied to the superconducting linear motor. Reference numeral 81 is a racetrack-shaped superconducting coil, 82 is a helium tank, 85 is a first radiation shield, 86 and 87 are refrigerant supply pipes, 88 is a two-stage refrigerator, and 89 is heat attached to the first heat stage. An exchanger, 90 is a heat exchanger attached to the second heat stage, 91 is a first radiation shield cooling blower provided in a refrigerant supply pipe 93 for cooling the first radiation shield, and 92 is a refrigerant A blower that is provided in the supply pipe 86 and sends the helium gas evaporated in the helium tank 82 to the heat exchanger 90, 94 is a first radiation shield cooling pipe for cooling the first radiation shield, and 95 is a support member. The configuration is slightly different, but functions similarly to the cryogenic device of the fifth embodiment.
【0088】実施例10.図9はこの発明の実施例10
の極低温装置の3段式冷凍機20付近の構成を示す部分
断面図である。図10において図5,図6,図7と同一
部分については同一符号を付し説明を省略する。本実施
例の極低温装置では、3段式冷凍機20を極低温装置本
体の端面下部に水平に設け、また第1のブロワー21,
第2のブロワー51,第3のブロワー52も極低温装置
本体の端面下部に水平に併設する。Example 10. FIG. 9 shows a tenth embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing the configuration near the three-stage refrigerator 20 of the cryogenic device. 10, the same parts as those in FIGS. 5, 6 and 7 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. In the cryogenic apparatus of the present embodiment, the three-stage refrigerator 20 is provided horizontally below the end surface of the cryogenic apparatus main body, and the first blower 21,
The second blower 51 and the third blower 52 are also provided horizontally below the end surface of the cryogenic device body.
【0089】図において、101は第1のブロワー2
1,第2のブロワー51,第3のブロワー52の共通駆
動軸(駆動軸)、102は駆動軸モータである。3個の
第1のブロワー21,第2のブロワー51,第3のブロ
ワー52は共通駆動軸101で駆動されるのでこの共通
駆動軸を介して外部から侵入する熱は順次ブロワーで吸
収され、最低温度部の第1のブロワー21では侵入する
熱は僅少となる。In the figure, 101 is the first blower 2
1, a common drive shaft (drive shaft) for the second blower 51 and the third blower 52, and a drive shaft motor 102. Since the three first blower 21, the second blower 51, and the third blower 52 are driven by the common drive shaft 101, the heat that enters from the outside via this common drive shaft is sequentially absorbed by the blower, In the first blower 21 in the temperature section, the amount of heat that penetrates is small.
【0090】実施例11.図10はこの発明の実施例1
1の極低温装置の構成を示す断面図であり、3段式冷凍
機20の第1段ヒートステージと第1輻射シールド5と
を模式的に展開して示している。図において、111は
大気圧以上に加圧されたヘリウムガスの入った冷媒貯蔵
用タンクである。112は第1輻射シールド5に取り付
けられた磁性材料であり、輻射シールド冷却管113で
80Kに冷却されているときには磁気転移により比熱が
増大している。114は放出弁、115は逆止弁、11
6は前記ヘリウムガスを循環させるためのブロワー、1
17は冷媒用供給配管(第2の冷媒用供給配管)であ
る。Example 11. FIG. 10 is a first embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows the structure of the 1st cryogenic apparatus, and expand | deploys the 1st heat stage and the 1st radiation shield 5 of the 3-stage refrigerator 20, and shows it typically. In the figure, 111 is a refrigerant storage tank containing helium gas pressurized to atmospheric pressure or higher. Reference numeral 112 denotes a magnetic material attached to the first radiation shield 5, and when it is cooled to 80 K by the radiation shield cooling pipe 113, the specific heat increases due to magnetic transition. 114 is a discharge valve, 115 is a check valve, 11
6 is a blower for circulating the helium gas, 1
Reference numeral 17 is a refrigerant supply pipe (second refrigerant supply pipe).
【0091】この実施例では、大気圧以上に加圧された
ヘリウムガスの入った冷媒貯蔵用タンク111を3段式
冷凍機20の第1段ヒートステージで冷却しておく。3
段式冷凍機20の停止時には、冷媒貯蔵用タンク111
内の圧が上昇し、冷媒貯蔵用タンク111のヘリウムガ
スは逆止弁115の作用で輻射シールド冷却管113を
経由して放出弁114から大気へ放出される。In this embodiment, the refrigerant storage tank 111 containing the helium gas pressurized to atmospheric pressure or higher is cooled by the first heat stage of the three-stage refrigerator 20. Three
When the multistage refrigerator 20 is stopped, the refrigerant storage tank 111
The internal pressure rises, and the helium gas in the refrigerant storage tank 111 is released to the atmosphere from the release valve 114 via the radiation shield cooling pipe 113 by the action of the check valve 115.
【0092】また第1輻射シールド5に取り付けられた
磁性材料112は、温度が80K以上100K以下で磁
気転移現象を起こす物質、例えばGdMn2などであ
り、輻射シールド冷却管113で80Kに冷却されて磁
気転移により比熱が増大している。3段式冷凍機20の
停止時には熱容量の大きい磁性材料112のバッファー
作用で第1輻射シールド5の温度は緩やかに上昇する。The magnetic material 112 attached to the first radiation shield 5 is a substance that causes a magnetic transition phenomenon at a temperature of 80 K or more and 100 K or less, such as GdMn2, and is cooled to 80 K by the radiation shield cooling pipe 113 and magnetic. The specific heat is increasing due to the transition. When the three-stage refrigerator 20 is stopped, the temperature of the first radiation shield 5 gradually rises due to the buffer action of the magnetic material 112 having a large heat capacity.
【0093】実施例12.図11はこの発明の実施例1
2の極低温装置の構成を示す断面図であり、図10と同
様に3段式冷凍機20の第1段ヒートステージと第1輻
射シールド5とを模式的に展開して示している。図にお
いて、120は磁性材料であり、80Kに冷却されてい
るときには磁気転移により比熱が増大している。121
はブロワーであり、輻射シールド冷却管124に設けら
れている。122は3段式冷凍機20のヒートステージ
に取り付けられた熱交換器、輻射シールド冷却管(第4
の冷媒用の輻射シールド冷却管)125は輻射シールド
冷却管124と併設されている。126は輻射シールド
冷却管125に設けられた放出弁、127は酸素ガスの
入った冷媒タンク、128は冷媒用供給配管(第2の冷
媒用供給配管)129と併設された冷媒用供給配管(第
3の冷媒用供給配管)である。Example 12. FIG. 11 is a first embodiment of the present invention.
FIG. 11 is a cross-sectional view showing the configuration of the cryogenic device of No. 2, and schematically shows the first heat stage and the first radiation shield 5 of the three-stage refrigerator 20 as in the case of FIG. 10. In the figure, 120 is a magnetic material, and when it is cooled to 80 K, the specific heat increases due to magnetic transition. 121
Is a blower and is provided in the radiation shield cooling pipe 124. 122 is a heat exchanger attached to the heat stage of the three-stage refrigerator 20 and a radiation shield cooling pipe (4th
The radiation shield cooling pipe 125 for the refrigerant is installed together with the radiation shield cooling pipe 124. Reference numeral 126 is a release valve provided in the radiation shield cooling pipe 125, 127 is a refrigerant tank containing oxygen gas, 128 is a refrigerant supply pipe (second refrigerant supply pipe) 129 and a refrigerant supply pipe (first) 3 is a refrigerant supply pipe).
【0094】この実施例では、大気圧以上に加圧された
酸素ガスの入った冷媒タンク127は3段式冷凍機20
の第1段ヒートステージで冷却されているので内部の酸
素ガスは液体状態である。3段式冷凍機20の停止時に
は冷媒タンク127内の酸素ガスの温度が上昇して冷媒
用供給配管128と輻射シールド冷却管125と放出弁
126とを経由して大気に放出される。このとき液体状
態からガス化への潜熱も利用できるので第1輻射シール
ド5の温度上昇が緩やかになる。なお、冷媒タンク12
7への酸素ガスの注入は、3段式冷凍機の運転中に大気
に連通した図示していない放出孔から放出弁126を経
由して行う。In this embodiment, the refrigerant tank 127 containing the oxygen gas pressurized to atmospheric pressure or above is the three-stage refrigerator 20.
The internal oxygen gas is in a liquid state because it is cooled in the first heat stage. When the three-stage refrigerator 20 is stopped, the temperature of oxygen gas in the refrigerant tank 127 rises and is released to the atmosphere via the refrigerant supply pipe 128, the radiation shield cooling pipe 125, and the discharge valve 126. At this time, the latent heat from the liquid state to the gasification can also be utilized, so that the temperature rise of the first radiation shield 5 becomes gentle. The refrigerant tank 12
The oxygen gas is injected into 7 through a discharge valve 126 from a discharge hole (not shown) communicating with the atmosphere during operation of the three-stage refrigerator.
【0095】この実施例では冷媒タンク127には酸素
ガスが注入される場合について説明したが、窒素ガスや
乾燥空気でも同様の効果がある。また熱容量の大きい磁
性材料120のバッファー作用との併用で3段式冷凍機
20の停止時の輻射シールドの温度上昇がより緩やかに
なる。Although the case where oxygen gas is injected into the refrigerant tank 127 has been described in this embodiment, the same effect can be obtained with nitrogen gas or dry air. In addition, the temperature increase of the radiation shield when the three-stage refrigerator 20 is stopped is further moderated by using the magnetic material 120 having a large heat capacity together with the buffer action.
【0096】実施例13.図12はこの発明の実施例1
3の極低温装置の構成を示す模式図であり、MRI装置
用の超電導マグネットの軸方向の断面であり、3段式冷
凍機20の第1段ヒートステージと第1輻射シールド5
とを模式に展開して示してある。図12において図11
と同一部分については同一符号を付し説明を省略する。
この実施例では、輻射シールド冷却管が複数の並列流路
輻射シールド冷却管132で構成され、各流路の出口付
近には流量制御弁133が設けられている。Example 13 FIG. 12 is a first embodiment of the present invention.
3 is a schematic view showing the configuration of a cryogenic device of No. 3, which is an axial cross section of a superconducting magnet for an MRI device, and shows a first heat stage and a first radiation shield 5 of a three-stage refrigerator 20.
And are schematically expanded and shown. In FIG. 12, FIG.
The same parts as those of are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
In this embodiment, the radiation shield cooling pipe is composed of a plurality of parallel flow passage radiation shield cooling pipes 132, and a flow rate control valve 133 is provided near the outlet of each flow passage.
【0097】並列流路輻射シールド冷却管132は輻射
シールド冷却管の並列流路として複数設けられているの
で、輻射シールド冷却管の内径が実質的に大きくなるの
で全体の流路抵抗が少なくなりブロワー駆動モータへ供
給する電力が少なくて済み、第1輻射シールド5の温度
分布がより均一になる。また流量制御弁133は内部を
流れる冷媒の温度変化に従って弁開度が変化するため、
並列流路輻射シールド冷却管132間の温度差がなくな
る。Parallel Flow Path Since the plurality of radiation shield cooling pipes 132 are provided as parallel flow paths of the radiation shield cooling pipe, the inner diameter of the radiation shield cooling pipe is substantially increased, so that the overall flow passage resistance is reduced and the blower is reduced. The power supplied to the drive motor is small, and the temperature distribution of the first radiation shield 5 becomes more uniform. Further, since the flow control valve 133 changes its valve opening degree according to the temperature change of the refrigerant flowing inside,
The temperature difference between the parallel flow path radiation shield cooling pipes 132 is eliminated.
【0098】ところで上記説明では、MRI装置用超電
導マグネットの場合について述べたが、その他超電導マ
グネットを利用する極低温装置例えば、超電導リニアモ
ータ、超電導電磁推進船などに利用できることは言うま
でもない。In the above description, the case of a superconducting magnet for an MRI apparatus has been described, but it goes without saying that it can also be used for a cryogenic device using a superconducting magnet, for example, a superconducting linear motor, a superconducting electromagnetism propulsion ship, or the like.
【0099】[0099]
【発明の効果】以上のように、請求項1の発明によれ
ば、極低温冷媒槽と多段式冷凍機とを冷媒用供給配管に
より接続するように構成したので、極低温冷媒槽内で蒸
発した極低温冷媒ガスが冷媒用供給配管を経由して多段
式冷凍機のヒートステージに循環し液化され前記極低温
冷媒槽に戻されるので、前記多段式冷凍機の取り付け場
所を柔軟に選択でき、極低温冷媒槽内で蒸発した極低温
冷媒ガスは冷媒用供給配管を経由して多段式冷凍機のヒ
ートステージで直接冷却され、極低温冷媒槽内のガス化
した冷媒を効率的に液化できる極低温装置が得られる効
果がある。As described above, according to the invention of claim 1, since the cryogenic refrigerant tank and the multistage refrigerator are connected by the refrigerant supply pipe, the evaporation in the cryogenic refrigerant tank is achieved. Since the cryogenic refrigerant gas is liquefied by being circulated to the heat stage of the multi-stage refrigerator via the refrigerant supply pipe and returned to the cryogenic refrigerant tank, the installation location of the multi-stage refrigerator can be flexibly selected, The cryogenic refrigerant gas evaporated in the cryogenic refrigerant tank is directly cooled in the heat stage of the multi-stage refrigerator via the refrigerant supply pipe, and the cryogenic refrigerant tank can efficiently liquefy the gasified refrigerant. There is an effect that a low temperature device can be obtained.
【0100】請求項2の発明によれば、多段式冷凍機を
極低温装置本体の設置される床面上1メートル以下の高
さ位置に略水平に取り付けるように構成したので、メン
テナンス作業などを行う作業員の腰の高さより低い位置
に多段式冷凍機が取り付けられることになり、多段式冷
凍機のメンテナンス作業などを行う際の作業性を向上さ
せた極低温装置が得られる効果がある。According to the second aspect of the invention, since the multistage refrigerator is configured to be mounted substantially horizontally at a height of 1 m or less above the floor where the cryogenic device body is installed, maintenance work and the like can be performed. Since the multistage refrigerator is attached to a position lower than the waist height of the worker who performs the operation, there is an effect that a cryogenic device with improved workability when performing maintenance work of the multistage refrigerator can be obtained.
【0101】請求項3の発明によれば、多段式冷凍機を
極低温装置本体の設置される床面上1メートル以下の高
さ位置に略垂直に取り付けるように構成したので、メン
テナンス作業などを行う作業員の腰の高さより低い位置
に多段式冷凍機が上下に取り付けられることになり、多
段式冷凍機のメンテナンス作業などを行う際の作業性を
向上させた極低温装置が得られる効果がある。According to the third aspect of the present invention, the multi-stage refrigerator is configured to be installed substantially vertically at a height position of 1 m or less above the floor where the cryogenic device body is installed. The multi-stage refrigerator will be installed vertically at a position lower than the waist height of the worker who performs it, and the cryogenic device with improved workability when performing maintenance work of the multi-stage refrigerator will be obtained. is there.
【0102】請求項4の発明によれば、極低温冷媒槽に
敷設された凝縮熱交換器と多段式冷凍機とを冷媒循環用
配管により接続するようにして、冷媒循環機構により多
段式冷凍機のヒートステージに送られて冷却された第2
の冷媒により極低温冷媒槽内で蒸発した極低温冷媒ガス
が間接的に冷却され液化されるように構成したので、前
記多段式冷凍機の取り付け場所を柔軟に選択でき、極低
温冷媒槽内で蒸発した極低温冷媒ガスを効率的に液化で
きる極低温装置が得られる効果がある。According to the invention of claim 4, the condensing heat exchanger laid in the cryogenic refrigerant tank and the multistage refrigerator are connected by the refrigerant circulation pipe, and the multistage refrigerator is constituted by the refrigerant circulation mechanism. No. 2 sent to the heat stage of
Since the cryogenic refrigerant gas evaporated in the cryogenic refrigerant tank is indirectly cooled and liquefied by the refrigerant, it is possible to flexibly select the installation location of the multi-stage refrigerator, and in the cryogenic refrigerant tank There is an effect that a cryogenic device capable of efficiently liquefying the vaporized cryogenic refrigerant gas can be obtained.
【0103】請求項5の発明によれば、極低温冷媒槽内
に設けられた凝縮熱交換器および第2の冷媒循環用配管
とを経由し多段式冷凍機のヒートステージで冷却させた
第2の冷媒を循環させ、ガス化した前記極低温冷媒を極
低温冷媒槽内の凝縮熱交換器で冷却して再液化する冷媒
循環機構を備えるように構成したので、前記多段式冷凍
機の取り付け場所を柔軟に選択でき、極低温冷媒槽内で
蒸発した極低温冷媒ガスを前記極低温冷媒槽内で効率的
に液化できる極低温装置が得られる効果がある。According to the fifth aspect of the present invention, the second cooling is performed in the heat stage of the multi-stage refrigerator via the condensation heat exchanger and the second refrigerant circulation pipe provided in the cryogenic refrigerant tank. Since it is configured to have a refrigerant circulation mechanism that circulates the refrigerant and cools the gasified cryogenic refrigerant with the condensation heat exchanger in the cryogenic refrigerant tank to reliquefy, the installation location of the multi-stage refrigerator Can be flexibly selected, and a cryogenic device can be obtained in which the cryogenic refrigerant gas evaporated in the cryogenic refrigerant tank can be efficiently liquefied in the cryogenic refrigerant tank.
【0104】請求項6の発明によれば、極低温冷媒槽の
外周面上に配置された凝縮熱交換器および冷媒循環用配
管とを経由し多段式冷凍機のヒートステージで冷却させ
た第2の冷媒を循環させ、前記ガス化した前記極低温冷
媒を冷却して再液化する冷媒循環機構を備えるように構
成したので、前記多段式冷凍機の取り付け場所を柔軟に
選択でき、極低温冷媒槽内で蒸発した極低温冷媒ガスを
前記極低温冷媒槽外周面上から効率的に冷却して液化で
きる極低温装置が得られる効果がある。According to the sixth aspect of the present invention, the second stage is cooled by the heat stage of the multistage refrigerator via the condensation heat exchanger and the refrigerant circulation pipe arranged on the outer peripheral surface of the cryogenic refrigerant tank. Since it is configured to have a refrigerant circulation mechanism that circulates the refrigerant and cools and reliquefyes the gasified cryogenic refrigerant, the installation location of the multi-stage refrigerator can be flexibly selected, and the cryogenic refrigerant tank There is an effect of obtaining a cryogenic device capable of efficiently cooling and liquefying the cryogenic refrigerant gas evaporated inside from the outer peripheral surface of the cryogenic refrigerant tank.
【0105】請求項7の発明によれば、冷媒循環機構に
より循環される第2の冷媒を冷却するためのヒートステ
ージを有した多段式冷凍機を、極低温装置本体の設置さ
れる床面上1メートル以下の高さ位置に略水平に取り付
けるように構成したので、メンテナンス作業などを行う
作業員の腰の高さより低い位置に多段式冷凍機が取り付
けられることになり、多段式冷凍機のメンテナンス作業
などを行う際の作業性を向上させた極低温装置が得られ
る効果がある。According to the invention of claim 7, a multistage refrigerator having a heat stage for cooling the second refrigerant circulated by the refrigerant circulation mechanism is provided on the floor surface on which the cryogenic device body is installed. Since it is configured to be installed substantially horizontally at a height position of 1 meter or less, the multistage refrigerator will be installed at a position lower than the waist height of the worker who performs maintenance work, etc., and maintenance of the multistage refrigerator There is an effect that a cryogenic device with improved workability when performing work is obtained.
【0106】請求項8の発明によれば、冷媒循環機構に
より循環される第2の冷媒を冷却するためのヒートステ
ージを有した多段式冷凍機を、極低温装置本体の設置さ
れる床面上1メートル以下の高さ位置に略垂直に取り付
けるように構成したので、メンテナンス作業などを行う
作業員の腰の高さより低い位置に多段式冷凍機が上下に
取り付けられることになり、多段式冷凍機のメンテナン
ス作業などを行う際の作業性を向上させた極低温装置が
得られる効果がある。According to the eighth aspect of the present invention, a multistage refrigerator having a heat stage for cooling the second refrigerant circulated by the refrigerant circulation mechanism is provided on the floor on which the cryogenic apparatus main body is installed. Since it is configured to be installed substantially vertically at a height position of 1 meter or less, the multi-stage refrigerator will be installed vertically at a position lower than the waist height of a worker who performs maintenance work, etc. There is an effect that a cryogenic device with improved workability when performing the maintenance work of is obtained.
【0107】請求項9の発明によれば、多段式冷凍機の
ヒートステージを経由する第3の冷媒を第2の冷媒循環
機構により第2の冷媒用供給配管と輻射シールド冷却管
とを循環させることで輻射シールドや支持部材の中間部
分が冷却されるように構成したので、輻射シールドを均
一に冷却することができ、極低温冷媒槽への熱侵入量の
増加を抑制できる極低温装置が得られる効果がある。According to the invention of claim 9, the third refrigerant passing through the heat stage of the multi-stage refrigerator is circulated through the second refrigerant supply pipe and the radiation shield cooling pipe by the second refrigerant circulation mechanism. By doing so, the radiation shield and the intermediate part of the support member are configured to be cooled, so that the radiation shield can be uniformly cooled, and a cryogenic device capable of suppressing an increase in the amount of heat entering the cryogenic refrigerant tank can be obtained. It is effective.
【0108】請求項10の発明によれば、多段式冷凍機
のヒートステージを経由する第3の冷媒を、第2の冷媒
循環機構により熱伝導率の小さい材質で構成した第2の
冷媒用供給配管と輻射シールド冷却管とを循環させ、輻
射シールドや支持部材の中間部分を冷却するように構成
したので、第2の冷媒用供給配管と輻射シールド冷却管
とを介して侵入する熱を抑制することができ、輻射シー
ルドや支持部材の中間部分の冷却を効率的に行うことが
でき、また、多段式冷凍機の停止時には多段式冷凍機の
温度は容易に常温に上昇するので多段式冷凍機の内部の
部品の取り外しや取り付けなどのメンテナンス作業を常
温で実施できる極低温装置が得られる効果がある。According to the tenth aspect of the present invention, the second refrigerant supply in which the third refrigerant passing through the heat stage of the multi-stage refrigerator is made of a material having a small thermal conductivity by the second refrigerant circulation mechanism. Since the pipe and the radiation shield cooling pipe are circulated to cool the radiation shield and the intermediate portion of the support member, heat entering through the second refrigerant supply pipe and the radiation shield cooling pipe is suppressed. It is possible to efficiently cool the radiation shield and the intermediate portion of the support member, and the temperature of the multi-stage refrigerator can easily rise to room temperature when the multi-stage refrigerator is stopped. It is possible to obtain a cryogenic device capable of performing maintenance work such as removal and installation of internal components at room temperature.
【0109】請求項11の発明によれば、冷媒循環用配
管および第2の冷媒用供給配管あるいは輻射シールド冷
却管の内部をメンテナンス時に真空にするための締切弁
を備えるように構成したので、多段式冷凍機の停止時の
多段式冷凍機の温度を容易に常温まで上昇させることが
できる極低温装置が得られる効果がある。According to the eleventh aspect of the present invention, the refrigerant circulation pipe and the second refrigerant supply pipe or the radiation shield cooling pipe are provided with a shut-off valve for evacuating the inside of the multi-stage. There is an effect that a cryogenic device can be obtained that can easily raise the temperature of the multi-stage refrigerator to normal temperature when the refrigerator is stopped.
【0110】請求項12の発明によれば、第3の冷媒の
みを冷却する冷凍機を、極低温冷媒槽内でガス化した極
低温冷媒を再液化するための冷凍機とは別に設けるよう
に構成したので、冷凍機夫々の取付け位置を柔軟に選択
でき、また極低温冷媒槽内で蒸発した極低温冷媒ガスは
専用の冷凍機により冷却されるため、極低温冷媒槽内の
ガス化した冷媒を効率的に液化できる極低温装置が得ら
れる効果がある。According to the twelfth aspect of the present invention, the refrigerator for cooling only the third refrigerant is provided separately from the refrigerator for reliquefying the cryogenic refrigerant gasified in the cryogenic tank. Since it is configured, it is possible to flexibly select the mounting position of each refrigerator, and since the cryogenic refrigerant gas evaporated in the cryogenic refrigerant tank is cooled by a dedicated refrigerator, the gasified refrigerant in the cryogenic refrigerant tank is cooled. There is an effect that a cryogenic device capable of efficiently liquefying is obtained.
【0111】請求項13の発明によれば、極低温冷媒と
して略大気圧のヘリウムガスもしくは水素ガスもしくは
ネオンガスもしくはこれらの混合されたガスを使用し、
また第2の冷媒として略大気圧のヘリウムガスもしくは
水素ガスもしくはネオンガスもしくはこれらの混合され
たガスを使用し、また第3の冷媒として大気圧以上に加
圧されたヘリウムガスもしくは水素ガスもしくはネオン
ガスもしくはこれらの混合されたガスを使用するように
構成したので、極低温冷媒槽内のガス化した冷媒を効率
的に冷却できる極低温装置画得られる効果がある。According to the thirteenth aspect of the present invention, helium gas, hydrogen gas, neon gas, or a mixed gas thereof having a substantially atmospheric pressure is used as the cryogenic refrigerant,
Further, as the second refrigerant, helium gas, hydrogen gas, neon gas, or a mixture thereof of approximately atmospheric pressure is used, and as the third refrigerant, helium gas, hydrogen gas, neon gas, or a gas pressurized to atmospheric pressure or more is used. Since the mixed gas is used, there is an effect of obtaining a cryogenic device capable of efficiently cooling the gasified refrigerant in the cryogenic refrigerant tank.
【0112】請求項14の発明によれば、冷媒循環機構
をブロワーにより構成したときに、該ブロワーの夫々を
共通した駆動軸で駆動するように構成したので、冷媒循
環機構を簡略化でき、前記冷媒循環機構からの熱侵入量
を抑制できる極低温装置が得られる効果がある。According to the fourteenth aspect of the invention, when the refrigerant circulation mechanism is constituted by the blower, each of the blowers is driven by the common drive shaft, so that the refrigerant circulation mechanism can be simplified, There is an effect that a cryogenic device capable of suppressing the amount of heat entering from the refrigerant circulation mechanism can be obtained.
【0113】請求項15の発明によれば、多段式冷凍機
の停止時には、多段式冷凍機のヒートステージに取り付
けられた冷媒貯蔵用タンク内の第3の冷媒が第2の冷媒
用供給配管に取り付けられた放出弁を経由して大気へ放
出できるように構成したので、多段式冷凍機の停止時に
輻射シールドの温度上昇の度合いを緩やかにできる極低
温装置が得られる効果がある。According to the fifteenth aspect of the present invention, when the multistage refrigerator is stopped, the third refrigerant in the refrigerant storage tank attached to the heat stage of the multistage refrigerator is connected to the second refrigerant supply pipe. Since it is configured such that it can be released to the atmosphere via the attached release valve, there is an effect that a cryogenic device can be obtained which can moderate the temperature rise of the radiation shield when the multistage refrigerator is stopped.
【0114】請求項16の発明によれば、多段式冷凍機
の停止時に、多段式冷凍機あるいは第2の冷媒用供給配
管あるいは輻射シールド冷却管と熱的に接触できる任意
の場所に設置した冷媒タンク内の第4の冷媒ガスを、前
記第2の冷媒用供給配管と併設させた第3の冷媒用供給
配管と第4の冷媒用の輻射シールド冷却管と放出弁とを
経由して大気に放出するように構成したので、多段式冷
凍機の停止時に輻射シールドの温度上昇の度合いを緩や
かにすることのできる極低温装置が得られる効果があ
る。According to the sixteenth aspect of the present invention, when the multistage refrigerator is stopped, the refrigerant installed in any place that can be in thermal contact with the multistage refrigerator, the second refrigerant supply pipe, or the radiation shield cooling pipe. The fourth refrigerant gas in the tank is released to the atmosphere via the third refrigerant supply pipe provided in parallel with the second refrigerant supply pipe, the fourth refrigerant radiation shield cooling pipe, and the discharge valve. Since it is configured to release the gas, there is an effect that a cryogenic device can be obtained which can moderate the degree of temperature rise of the radiation shield when the multistage refrigerator is stopped.
【0115】請求項17の発明によれば、第4の冷媒と
して大気圧以上に加圧された酸素ガスもしくは窒素ガス
もしくは乾燥空気を使用するように構成したので、多段
式冷凍機の停止時に輻射シールドの温度上昇の度合いを
緩やかにすることのできる極低温装置が得られる効果が
ある。According to the seventeenth aspect of the present invention, since oxygen gas or nitrogen gas pressurized to atmospheric pressure or dry air or dry air is used as the fourth refrigerant, radiation occurs when the multistage refrigerator is stopped. There is an effect that a cryogenic device capable of moderately increasing the temperature rise of the shield can be obtained.
【0116】請求項18の発明によれば、温度が80K
以上100K以下で磁気転移現象を起こす磁性材料を多
段式冷凍機あるいは第2の冷媒用供給配管あるいは輻射
シールド冷却管と熱的に接触できる任意の場所に設置す
るように構成したので、多段式冷凍機の停止時に輻射シ
ールドの温度上昇の度合をさらに緩やかにすることので
きる極低温装置が得られる効果がある。According to the eighteenth invention, the temperature is 80K.
Since the magnetic material that causes the magnetic transition phenomenon at 100 K or less is installed in any place that can be in thermal contact with the multistage refrigerator, the second refrigerant supply pipe, or the radiation shield cooling pipe, the multistage refrigeration There is an effect that a cryogenic device can be obtained which can further moderate the temperature rise of the radiation shield when the machine is stopped.
【0117】請求項19の発明によれば、第2の冷媒用
供給配管および輻射シールド冷却管の複数の並列流路の
各流路の出口付近に流量制御弁を備えるように構成した
ので、流路抵抗が小さくなり、冷媒循環機構を駆動する
ための電力消費を抑制することができる極低温装置が得
られる効果がある。According to the nineteenth aspect of the invention, since the flow control valve is provided near the outlet of each of the plurality of parallel flow passages of the second refrigerant supply pipe and the radiation shield cooling pipe, The road resistance is reduced, and the cryogenic device capable of suppressing the power consumption for driving the refrigerant circulation mechanism can be obtained.
【0118】請求項20の発明によれば、第2の冷媒用
供給配管および輻射シールド冷却管の複数の並列流路の
各流路の出口付近に、流路の内部を流れる第3の冷媒の
温度変化に従って夫々開度が変化する流量制御弁を備え
るように構成したので、冷媒循環機構を駆動するための
電力消費を抑制すると共に、輻射シールドの冷却を均一
化して極低温冷媒槽への熱侵入量の増加を抑制できる極
低温装置が得られる効果がある。According to the twentieth aspect of the invention, in the vicinity of the outlet of each flow path of the plurality of parallel flow paths of the second refrigerant supply pipe and the radiation shield cooling pipe, the third refrigerant flowing inside the flow path is provided. Since it is equipped with a flow control valve whose opening changes according to the temperature change, it suppresses the power consumption for driving the refrigerant circulation mechanism and evens out the cooling of the radiation shield to heat the cryogenic refrigerant tank. There is an effect that a cryogenic device capable of suppressing an increase in the amount of penetration can be obtained.
【図1】 この発明の実施例1の極低温装置の構成を示
す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing the configuration of a cryogenic device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】 この発明の実施例2の極低温装置の構成を示
す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of a cryogenic device according to a second embodiment of the present invention.
【図3】 この発明の実施例3の極低温装置の構成を示
す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing the configuration of a cryogenic device according to Example 3 of the present invention.
【図4】 この発明の実施例4の極低温装置の構成を示
す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing the configuration of a cryogenic device according to a fourth embodiment of the present invention.
【図5】 この発明の実施例5の極低温装置の構成を示
す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing the structure of a cryogenic device according to a fifth embodiment of the present invention.
【図6】 この発明の実施例6の極低温装置の構成を示
す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing the structure of a cryogenic device according to Example 6 of the present invention.
【図7】 この発明の実施例7の極低温装置の構成を示
す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing the configuration of a cryogenic device of Example 7 of the present invention.
【図8】 この発明の実施例9の極低温装置の構成を示
す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing the structure of a cryogenic device according to Example 9 of the present invention.
【図9】 この発明の実施例10の極低温装置の3段式
冷凍機付近の構成を示す部分断面図である。FIG. 9 is a partial cross-sectional view showing the structure around a three-stage refrigerator of a cryogenic device of Embodiment 10 of the present invention.
【図10】 この発明の実施例11の極低温装置の構成
を示す断面図である。FIG. 10 is a sectional view showing the structure of a cryogenic device according to Example 11 of the present invention.
【図11】 この発明の実施例12の極低温装置の構成
を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing the structure of a cryogenic device of Example 12 of the present invention.
【図12】 この発明の実施例13の極低温装置の構成
を示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view showing the structure of a cryogenic device of Example 13 of the present invention.
【図13】 従来の極低温装置の構成を示す断面図であ
る。FIG. 13 is a cross-sectional view showing the configuration of a conventional cryogenic device.
1 超電導コイル(被冷却体)、2 ヘリウム槽(極低
温冷媒槽)、3 液体ヘリウム(極低温冷媒)、4 真
空槽、5 第1輻射シールド(輻射シールド)、6 第
2輻射シールド(輻射シールド)、8 支持部材、10
第1段ヒートステージ(ヒートステージ)、11 第
2段ヒートステージ(ヒートステージ)、12 第3段
ヒートステージ(ヒートステージ)、20 3段式冷凍
機(多段式冷凍機)、21 ブロワー(冷媒循環機
構)、23,24 冷媒用供給配管、26,27 冷媒
用供給配管(冷媒循環用配管)、28 ブロワー(冷媒
循環機構)、31,41 凝縮熱交換器、51 第2の
ブロワー(第2の冷媒循環機構)、52 第3のブロワ
ー(第2の冷媒循環機構)、55 第1輻射シールド冷
媒用供給配管(第2の冷媒用供給配管)、56 第2輻
射シールド冷媒用供給配管(第2の冷媒用供給配管)、
57 第1輻射シールド冷却管(輻射シールド冷却
管)、58 第2輻射シールド冷却管(輻射シールド冷
却管)、62,63,64 締切弁、71 2段式冷凍
器(多段式冷凍機)、101 共通駆動軸(駆動軸)、
111 冷媒貯蔵用タンク、112,120 磁性材
料、113,124 輻射シールド冷却管、114,1
26 放出弁、115 逆止弁、117冷媒用供給配管
(第2の冷媒用供給配管)、121 ブロワー、125
輻射シールド冷却管(第4の冷媒用の輻射シールド冷
却管)、127 冷媒タンク、128 冷媒用供給配管
(第3の冷媒用供給配管)、129 冷媒用供給配管
(第2の冷媒用供給配管)、133 流量制御弁。1 superconducting coil (cooled object), 2 helium tank (cryogenic refrigerant tank), 3 liquid helium (cryogenic refrigerant), 4 vacuum tank, 5 first radiation shield (radiation shield), 6 2nd radiation shield (radiation shield) ), 8 support members, 10
1st stage heat stage (heat stage), 11 2nd stage heat stage (heat stage), 12 3rd stage heat stage (heat stage), 20 3 stage type refrigerator (multistage refrigerator), 21 blower (refrigerant circulation) Mechanism), 23, 24 Refrigerant supply pipe, 26, 27 Refrigerant supply pipe (refrigerant circulation pipe), 28 Blower (refrigerant circulation mechanism), 31, 41 Condensation heat exchanger, 51 Second blower (second Refrigerant circulation mechanism), 52 Third blower (second refrigerant circulation mechanism), 55 First radiation shield refrigerant supply pipe (second refrigerant supply pipe), 56 Second radiation shield refrigerant supply pipe (second) Refrigerant supply pipe),
57 first radiation shield cooling pipe (radiation shield cooling pipe), 58 second radiation shield cooling pipe (radiation shield cooling pipe), 62, 63, 64 shutoff valve, 71 two-stage refrigerator (multistage refrigerator), 101 Common drive axis (drive axis),
111 Refrigerant storage tank, 112, 120 Magnetic material, 113, 124 Radiation shield cooling pipe, 114, 1
26 release valve, 115 check valve, 117 refrigerant supply pipe (second refrigerant supply pipe), 121 blower, 125
Radiation shield cooling pipe (radiation shield cooling pipe for fourth refrigerant) 127 refrigerant tank, 128 refrigerant supply pipe (third refrigerant supply pipe), 129 refrigerant supply pipe (second refrigerant supply pipe) 133 Flow control valve.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長尾 政志 尼崎市塚口本町八丁目1番1号 三菱電機 株式会社中央研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Masashi Nagao 8-1-1 Tsukaguchihonmachi, Amagasaki City Mitsubishi Electric Corporation Central Research Laboratory
Claims (20)
する極低温冷媒を貯液した極低温冷媒槽と、該極低温冷
媒槽を包囲する輻射シールドと、前記極低温冷媒槽およ
び前記輻射シールドを包囲する真空槽と、前記極低温冷
媒槽を保持するための支持部材と、前記輻射シールドを
冷却すると共にガス化した前記極低温冷媒を再液化する
多段式冷凍機とを備えた極低温装置において、前記極低
温冷媒槽内で蒸発した極低温冷媒ガスを冷媒用供給配管
を経由して前記多段式冷凍機のヒートステージに送り液
化し、冷媒用供給配管を経由して再び前記極低温冷媒槽
に環流させる前記真空槽内に配置された冷媒循環機構を
備えたことを特徴とする極低温装置。1. A cryogenic refrigerant tank containing a cooled object and storing a cryogenic refrigerant for cooling the cooled object, a radiation shield surrounding the cryogenic refrigerant tank, the cryogenic refrigerant tank, and A vacuum tank surrounding the radiation shield, a support member for holding the cryogenic refrigerant tank, and a multistage refrigerator for cooling the radiation shield and reliquefying the gasified cryogenic refrigerant are provided. In the cryogenic device, the cryogenic refrigerant gas evaporated in the cryogenic refrigerant tank is sent to the heat stage of the multistage refrigerator via the refrigerant supply pipe to be liquefied, and again via the refrigerant supply pipe. A cryogenic device comprising a refrigerant circulation mechanism arranged in the vacuum tank for circulating the cryogenic refrigerant tank.
設置床面上1メートル以下の高さ位置に略水平に取り付
けられていることを特徴とする請求項1に記載の極低温
装置。2. The cryogenic apparatus according to claim 1, wherein the multi-stage refrigerator is installed substantially horizontally at a height position of 1 m or less on a floor surface where the cryogenic apparatus body is installed. .
前記設置床面上1メートル以下の高さ位置に略垂直に取
り付けられていることを特徴とする請求項1に記載の極
低温装置。3. The cryogenic temperature according to claim 1, wherein the multi-stage refrigerator is installed substantially vertically at a height position of 1 m or less on the installation floor surface of the cryogenic device body. apparatus.
する極低温冷媒を貯液した極低温冷媒槽と、該極低温冷
媒槽を包囲する輻射シールドと、前記極低温冷媒槽およ
び前記輻射シールドを包囲する真空槽と、前記極低温冷
媒槽を保持するための支持部材と、前記輻射シールドを
冷却すると共にガス化した前記極低温冷媒を再液化する
ための多段式冷凍機を備えた極低温装置において、前記
極低温冷媒槽に敷設された凝縮熱交換器および冷媒循環
用配管を経由し前記多段式冷凍機のヒートステージで冷
却した第2の冷媒を循環させ、前記ガス化した前記極低
温冷媒を再液化する冷媒循環機構とを備えたことを特徴
とする極低温装置。4. A cryogenic refrigerant tank containing a cooled object and storing a cryogenic refrigerant for cooling the cooled object, a radiation shield surrounding the cryogenic refrigerant tank, the cryogenic refrigerant tank, and A vacuum tank surrounding the radiation shield, a supporting member for holding the cryogenic refrigerant tank, and a multistage refrigerator for cooling the radiation shield and reliquefying the gasified cryogenic refrigerant. In the cryogenic device, the second refrigerant cooled in the heat stage of the multistage refrigerator is circulated through the condensation heat exchanger and the refrigerant circulation pipe laid in the cryogenic refrigerant tank to be gasified. A cryogenic device comprising a refrigerant circulation mechanism for reliquefying the cryogenic refrigerant.
内に設けられていることを特徴とする請求項4に記載の
極低温装置。5. The cryogenic apparatus according to claim 4, wherein the condensation heat exchanger is provided inside the cryogenic refrigerant tank.
外周面上に配置されていることを特徴とする請求項4に
記載の極低温装置。6. The cryogenic apparatus according to claim 4, wherein the condensation heat exchanger is arranged on an outer peripheral surface of the cryogenic refrigerant tank.
設置床面上1メートル以下の高さ位置に略水平に取り付
けられていることを特徴とする請求項4から請求項6の
いずれか1項に記載の極低温装置。7. The multistage refrigerator according to claim 4, wherein the multistage refrigerator is mounted substantially horizontally at a height of 1 m or less above the floor of the cryogenic device body. The cryogenic device according to item 1.
設置床面上1メートル以下の高さ位置に略垂直に取り付
けられていることを特徴とする請求項4から請求項6い
ずれか1項に記載の極低温装置。8. The multistage refrigerator is mounted substantially vertically at a height of 1 meter or less on the floor surface of the installation of the cryogenic device body, according to any one of claims 4 to 6. The cryogenic device according to item 1.
ドを冷却するための輻射シールド冷却管とを有し、前記
多段式冷凍機のヒートステージを経由する第3の冷媒を
第2の冷媒循環機構により前記第2の冷媒用供給配管と
前記輻射シールド冷却管とを循環させることで前記輻射
シールドや前記支持部材の中間部分が冷却されることを
特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載
の極低温装置。9. A third refrigerant having a second refrigerant supply pipe and a radiation shield cooling pipe for cooling the radiation shield, wherein the third refrigerant passing through the heat stage of the multistage refrigerator is the second refrigerant. The intermediate part of the said radiation shield and the said support member is cooled by circulating the said 2nd refrigerant | coolant supply pipe and the said radiation shield cooling pipe by a circulation mechanism. The cryogenic device according to any one of items.
用供給配管を構成したことを特徴とする請求項9に記載
の極低温装置。10. The cryogenic apparatus according to claim 9, wherein the refrigerant supply pipe is made of a material having a low thermal conductivity.
冷媒用供給配管あるいは前記輻射シールド冷却管の内部
をメンテナンス時に真空にするための締切弁を備えたこ
とを特徴とする請求項4から請求項9のいずれか1項に
記載の極低温装置。11. A shutoff valve for vacuuming the inside of the refrigerant circulation pipe, the second refrigerant supply pipe, or the radiation shield cooling pipe during maintenance. Item 10. The cryogenic device according to any one of items 9.
ガス化した前記極低温冷媒を再液化するための冷凍機と
は別に設けたことを特徴とする請求項9または請求項1
0に記載の極低温装置。12. A refrigerator for cooling only the third refrigerant,
10. The cooling machine for reliquefying the gasified cryogenic refrigerant is provided separately from the refrigerator.
The cryogenic device described in 0.
もしくは水素ガスもしくはネオンガスもしくはこれらの
混合されたガスであり、第2の冷媒は略大気圧のヘリウ
ムガスもしくは水素ガスもしくはネオンガスもしくはこ
れらの混合されたガスであり、第3の冷媒は大気圧以上
に加圧されたヘリウムガスもしくは水素ガスもしくはネ
オンガスもしくはこれらの混合されたガスであることを
特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記
載の極低温装置。13. The cryogenic refrigerant is helium gas, hydrogen gas, neon gas, or a mixture thereof of approximately atmospheric pressure, and the second refrigerant is helium gas, hydrogen gas, neon gas, or a mixture thereof, which is approximately atmospheric pressure. 13. The gas according to claim 1, wherein the third refrigerant is helium gas, hydrogen gas, neon gas, or a mixed gas thereof, which is pressurized to atmospheric pressure or higher. The cryogenic device according to item 1.
成すると共に、該ブロワーの夫々を共通した駆動軸で駆
動することを特徴とする請求項9に記載の極低温装置。14. The cryogenic apparatus according to claim 9, wherein the refrigerant circulation mechanism is configured by a blower, and each of the blowers is driven by a common drive shaft.
取り付けられた冷媒貯蔵用タンクと、第2の冷媒用供給
配管に取り付けられた逆止弁および放出弁とを有し、前
記多段式冷凍機の停止時には前記第3の冷媒が前記放出
弁を経由して大気へ放出されることを特徴とする請求項
9または請求項10に記載の極低温装置。15. A multi-stage refrigerator having a refrigerant storage tank attached to a heat stage of the multi-stage refrigerator, and a check valve and a discharge valve attached to a second refrigerant supply pipe. 11. The cryogenic apparatus according to claim 9 or 10, wherein the third refrigerant is released to the atmosphere via the release valve when stopped.
冷媒用供給配管あるいは前記輻射シールド冷却管と熱的
に接触できる任意の場所に設置した冷媒タンクと、前記
第3の冷媒用供給配管と併設された第3の冷媒用供給配
管と、第4の冷媒用の輻射シールド冷却管と、放出弁と
を設け、前記多段式冷凍機の停止時には前記冷媒タンク
内の第4の冷媒ガスが前記第3の冷媒用供給配管と前記
第4の冷媒用の輻射シールド冷却管と前記放出弁とを経
由して大気に放出されることを特徴とする請求項9から
請求項15のいずれか1項に記載の極低温装置。16. A refrigerant tank installed at an arbitrary location where it can be in thermal contact with the multistage refrigerator, the second refrigerant supply pipe, or the radiation shield cooling pipe, and the third refrigerant supply pipe. A third refrigerant supply pipe, a fourth radiation shield cooling pipe for the fourth refrigerant, and a discharge valve provided side by side are provided, and when the multistage refrigerator is stopped, the fourth refrigerant gas in the refrigerant tank is 16. The air is discharged to the atmosphere via a third refrigerant supply pipe, the fourth radiation shield cooling pipe for the fourth refrigerant, and the discharge valve. Cryogenic device described in.
酸素ガスもしくは窒素ガスもしくは乾燥空気であること
を特徴とする請求項16に記載の極低温装置。17. The cryogenic apparatus according to claim 16, wherein the fourth refrigerant is oxygen gas or nitrogen gas pressurized to atmospheric pressure or higher, or dry air.
転移現象を起こす磁性材料を前記多段式冷凍機あるいは
前記第2の冷媒用供給配管あるいは前記輻射シールド冷
却管と熱的に接触できる任意の場所に設置したことを特
徴とする請求項9から請求項17のいずれか1項に記載
の極低温装置。18. A magnetic material that causes a magnetic transition phenomenon at a temperature of 80 K or more and 100 K or less is placed at any place where it can be thermally contacted with the multistage refrigerator, the second refrigerant supply pipe, or the radiation shield cooling pipe. The cryogenic apparatus according to any one of claims 9 to 17, which is installed.
流路で構成され、各流路の出口付近に流量制御弁を備え
ていることを特徴とする請求項9から請求項18のいず
れか1項に記載の極低温装置。19. The radiation shield cooling pipe is composed of a plurality of parallel flow passages, and a flow control valve is provided near the outlet of each flow passage. Cryogenic device according to item.
流れる冷媒の温度変化に従って夫々開度が変化すること
を特徴とした請求項19に記載の極低温装置。20. The cryogenic apparatus according to claim 19, wherein each of the flow rate control valves changes its opening degree according to a temperature change of the refrigerant flowing inside the flow passage.
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