JPH08157234A - Composition for sealing - Google Patents

Composition for sealing

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JPH08157234A
JPH08157234A JP32173794A JP32173794A JPH08157234A JP H08157234 A JPH08157234 A JP H08157234A JP 32173794 A JP32173794 A JP 32173794A JP 32173794 A JP32173794 A JP 32173794A JP H08157234 A JPH08157234 A JP H08157234A
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JP
Japan
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glass
sealing
plating
composition
powder
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Pending
Application number
JP32173794A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hajime Hikata
元 日方
Yoshitaka Chimura
悦貴 地村
Hisami Tanaka
久美 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Electric Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Electric Glass Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Electric Glass Co Ltd filed Critical Nippon Electric Glass Co Ltd
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Publication of JPH08157234A publication Critical patent/JPH08157234A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/24Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders

Abstract

PURPOSE: To obtain a compsn. satisfying various conditions required by the sealing material of a ceramic package for IC, a display device, etc., and hardly causing a plating bridge because the compsn. is almost independent of plating conditions. CONSTITUTION: This compsn. for sealing consists of 45-85vol.% glass powder and 15-55vol.% refractory filler powder. The glass powder has a compsn. consisting of, by weight, 25-88% PbO, 1-20% B2 O3 , 0 1-20% GeO2 , 0-70% Bi2 O3 , 0.1-10% in total, of 0-5% V2 O5 , 0-5% Fe2 O3 and 0-5% CuO, 0-20% ZnO, 0-3% TiO2 , 0-5% Al2 O3 and 0-9% F2 .

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は封着用組成物に関し、よ
り具体的にはIC用セラミックパッケージや表示デバイ
ス等の電子部品を封着するのに好適な封着用組成物に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sealing composition, and more particularly to a sealing composition suitable for sealing electronic parts such as IC ceramic packages and display devices.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、IC用セラミックパッケージや表
示デバイス等の電子部品の封着材として、PbO−B2
3 −SiO2 系ガラス粉末を使用した封着材が知られ
ている。
2. Description of the Related Art Conventionally, PbO-B 2 has been used as a sealing material for electronic parts such as ceramic packages for ICs and display devices.
A sealing material using O 3 —SiO 2 glass powder is known.

【0003】ところでIC用セラミックパッケージや表
示デバイス等の電子部品は鉛錫合金半田によって配線基
板上に実装されるが、リード等の金属表面に酸化膜が形
成されていると半田濡れ性が悪くなるため、配線基板と
電子部品の電気的接続や接着強度が悪化し、半田実装の
接続信頼性が低下する。しかしこれらの電子部品を前記
した封着材で封着する場合、封着の際の加熱により、信
号又は電源リードの金属表面が酸化するという問題があ
る。そこで電子部品を実装する前に、リードの酸化膜を
除去し、錫メッキを施しておくことが一般に行われてい
る。
Electronic components such as ceramic packages for ICs and display devices are mounted on a wiring board with lead-tin alloy solder. However, if an oxide film is formed on a metal surface such as leads, solder wettability deteriorates. Therefore, the electrical connection between the wiring board and the electronic component and the adhesive strength are deteriorated, and the connection reliability of the solder mounting is lowered. However, when these electronic components are sealed with the above-mentioned sealing material, there is a problem that the metal surface of the signal or power supply lead is oxidized by heating during sealing. Therefore, it is common practice to remove the oxide film of the leads and perform tin plating before mounting the electronic component.

【0004】このような事情から、封着材には錫メッキ
浴に対する安定性、即ちメッキしても錫金属が付着せ
ず、リード間の絶縁性を良好に保持できることが求めら
れる。
Under these circumstances, the sealing material is required to have stability in a tin plating bath, that is, tin metal does not adhere to the sealing material even when plated, and good insulation between leads can be maintained.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】電子部品を錫メッキす
る方法として、錫メッキ浴中でリ−ドに電流をかける方
法が行われている。一般的に使用されているクルモ錫メ
ッキ浴は、硫酸10%水溶液に3%の硫酸錫と光沢剤を
含んだものであり、電流密度2A/dm2 でメッキされ
る。この方法によれば、封着材であるガラスは絶縁物で
あるため金属リードの上のみに選択的にメッキされる。
As a method of tin-plating electronic parts, a method of applying a current to a lead in a tin-plating bath has been used. A commonly used curmo tin plating bath is a 10% aqueous solution of sulfuric acid containing 3% tin sulfate and a brightening agent and is plated at a current density of 2 A / dm 2 . According to this method, since the glass as the sealing material is an insulator, it is selectively plated only on the metal leads.

【0006】しかしながらリ−ドと接したガラス上にも
錫金属が付着し、ガラスによって絶縁性が保持されてい
なければならないリ−ド間がショ−トするという問題が
発生することがある。このガラス上に錫金属が付着する
という現象はメッキブリッジと呼ばれ、電子部品の信頼
性を低下させるものとして問題視されている。
However, tin metal may adhere to the glass in contact with the leads, causing a problem of shorting between the leads, which must maintain the insulating property by the glass. The phenomenon in which tin metal adheres to the glass is called a plating bridge and is regarded as a problem that reduces the reliability of electronic components.

【0007】メッキブリッジが生じる原因は次のように
考えられている。つまり、所定のメッキ条件ではメッキ
ブリッジが起こらず、一般に使用されている封着材は十
分に高い信頼性を有している。しかしながら実際の製造
ラインでは、リードに付着した前処理工程での洗浄水が
メッキ浴に混入して硫酸濃度を低下させることがあり、
必ずしも所定の硫酸濃度でメッキされなくなる。また、
電流密度が高いほどメッキ効率が上がるため標準よりも
高い電流密度でメッキされることもある。このように所
定のメッキ条件から外れた条件でメッキされることが、
メッキブリッジ現象が発生する原因と考えられる。
The cause of the plating bridge is considered as follows. That is, a plating bridge does not occur under a predetermined plating condition, and a commonly used sealing material has sufficiently high reliability. However, in the actual production line, the cleaning water from the pretreatment process that adheres to the leads may mix into the plating bath and reduce the sulfuric acid concentration.
It is not always possible to plate with a predetermined sulfuric acid concentration. Also,
Since the higher the current density is, the higher the plating efficiency is, the plating may be performed at a higher current density than the standard. In this way, plating under conditions other than the prescribed plating conditions
This is considered to be the cause of the plating bridge phenomenon.

【0008】またIC用セラミックパッケージや表示テ
バイス等の封着に使用される封着材は、上記したメッキ
ブリッジを起こし難いことの他にも、IC等に悪影響を
及ぼさないように低温で封着できること、熱膨張係数が
セラミックや窓板ガラスのそれに適合していること、耐
水性等の耐侯性が良いことが要求される。また特にIC
パッケージ用の封着材には、これらの条件の他に機械的
強度が高いこと、信号電流がリークしないように絶縁特
性が良好であること、IC素子にα線が照射されるとソ
フトエラーが発生するため、α線を放出する物質を極力
含まないこと等の条件を満たす必要がある。
Further, the sealing material used for sealing ceramic packages for ICs, display devices, etc. is not likely to cause the above-mentioned plating bridge, and is sealed at a low temperature so as not to adversely affect the ICs. It is required that the thermal expansion coefficient be compatible with that of ceramics and window glass, and that weather resistance such as water resistance be good. Also especially IC
In addition to these conditions, the sealing material for the package has high mechanical strength, good insulation characteristics so that the signal current does not leak, and soft error occurs when the IC element is irradiated with α-rays. Since it is generated, it is necessary to satisfy the condition that the substance that emits α rays is not included as much as possible.

【0009】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
IC用セラミックパッケージや表示デバイス等の封着材
に要求される諸条件を満足し、特にメッキ条件に影響さ
れ難いためにメッキブリッジを起こし難い封着用組成物
を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances.
It is an object of the present invention to provide a sealing composition that satisfies various conditions required for a sealing material such as a ceramic package for IC and a display device, and is particularly hard to be influenced by a plating condition and thus is unlikely to cause a plating bridge.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者等は種々の実験
を行った結果、ガラス組成中にSiO2 が存在している
とメッキブリッジが発生し易いこと、及びSiO2 の代
わりにGeO2 を含有させるとメッキブリッジが発生し
難くなることを見いだし、本発明として提案するもので
ある。
The present inventors have SUMMARY OF THE INVENTION As a result of various experiments, the plating bridge SiO 2 is present to be likely to occur in the glass composition, and GeO 2 instead of SiO 2 It has been found that the inclusion of the compound makes it difficult for plating bridges to occur, and is proposed as the present invention.

【0011】即ち、本発明の封着用組成物は、重量百分
率でPbO 25〜88%、B23 1〜20%、Ge
2 0.1〜20%、Bi23 0〜70%、V25
0〜5%、Fe23 0〜5%、CuO 0〜5%、V
25 +Fe23 +CuO0.1〜10%、ZnO
0〜20%、TiO2 0〜3%、Al23 0〜5%、
2 0〜9%の組成を有するガラス粉末からなることを
特徴とする。
That is, the sealing composition of the present invention contains PbO 25-88%, B 2 O 3 1-20%, Ge by weight percentage.
O 2 0.1 to 20%, Bi 2 O 3 0 to 70%, V 2 O 5
0~5%, Fe 2 O 3 0~5 %, 0~5% CuO, V
2 O 5 + Fe 2 O 3 + CuO 0.1-10%, ZnO
0~20%, TiO 2 0~3%, Al 2 O 3 0~5%,
It is characterized by comprising glass powder having a composition of F 2 0 to 9%.

【0012】また本発明の封着用組成物は、重量百分率
でPbO 25〜88%、B231〜20%、GeO2
0.1〜20%、Bi23 0〜70%、V25
〜5%、Fe23 0〜5%、CuO 0〜5%、V2
5 +Fe23 +CuO0.1〜10%、ZnO 0
〜20%、TiO2 0〜3%、Al23 0〜5%、F
2 0〜9%の組成を有するガラス粉末45〜85体積%
と、耐火性フィラー粉末15〜55体積%とからなるこ
とを特徴とする。
The composition for sealing of the present invention has a weight percentage of PbO 25-88%, B 2 O 3 1-20% and GeO 2.
0.1~20%, Bi 2 O 3 0~70 %, V 2 O 5 0
~5%, Fe 2 O 3 0~5 %, 0~5% CuO, V 2
O 5 + Fe 2 O 3 + CuO 0.1-10%, ZnO 0
~20%, TiO 2 0~3%, Al 2 O 3 0~5%, F
2 glass powder 45-85 vol% with 0-9% of the composition
And a refractory filler powder of 15 to 55% by volume.

【0013】[0013]

【作用】ガラス組成中にSiO2 が存在しているとメッ
キブリッジが発生し易くなる。ところがPbO−B2
3 −SiO2 系のガラスにおいて、SiO2 の含有量を
極端に低下させると、封着の際に組成物中に結晶が析出
して流動性が悪くなり、封着材として要求される低温封
着ができなくなる。これに対して、本発明ではSiO2
の代わりにGeO2 を含有しているために、ガラスの安
定性が大幅に改善されて結晶が析出し難くなる。このよ
うな理由から、本発明の封着用組成物はメッキブリッジ
を起こすことなく、しかも従来のSiO2 含有ガラスと
同等以下の温度で封着できる。
When the SiO 2 is present in the glass composition, a plating bridge is likely to occur. However, PbO-B 2 O
In a 3- SiO 2 type glass, if the content of SiO 2 is extremely reduced, crystals are precipitated in the composition during sealing and the fluidity deteriorates, and low temperature sealing required as a sealing material. I can't wear it. On the other hand, in the present invention, SiO 2
Since it contains GeO 2 instead of, the stability of the glass is greatly improved and it becomes difficult for crystals to precipitate. For this reason, the sealing composition of the present invention can be sealed without causing a plating bridge and at a temperature equal to or lower than that of the conventional SiO 2 -containing glass.

【0014】本発明の封着用組成物において、ガラス粉
末の組成を上記のように限定した理由を以下に述べる。
The reason why the composition of the glass powder in the sealing composition of the present invention is limited as described above will be described below.

【0015】PbOの含有量は25〜88%、好ましく
は30〜85.5%である。PbOが30%より少ない
と粘性が高くなる傾向があり、25%より少なくなると
粘性が高くなり過ぎて低温ではガラスが十分に流動しな
くなる。一方、85.5%より多いと結晶化傾向が現
れ、88%を超えると結晶析出が著しくなって低温封着
が困難になる。
The content of PbO is 25 to 88%, preferably 30 to 85.5%. If PbO is less than 30%, the viscosity tends to be high, and if it is less than 25%, the viscosity becomes too high and the glass does not flow sufficiently at low temperature. On the other hand, if it exceeds 85.5%, a crystallization tendency appears, and if it exceeds 88%, crystal precipitation becomes remarkable and low-temperature sealing becomes difficult.

【0016】B23 の含有量は1〜20%、好ましく
は1〜15.5%である。B23はガラスを安定化さ
せる効果がある。B23 の含有量が1%より少ないと
結晶が析出して低温封着ができなくなる。一方、15.
5%より多いとガラスの粘性が高くなる傾向があり、2
0%を越えると低温での封着が困難となる。
The content of B 2 O 3 is 1 to 20%, preferably 1 to 15.5%. B 2 O 3 has the effect of stabilizing the glass. When the content of B 2 O 3 is less than 1%, crystals are deposited and low temperature sealing becomes impossible. On the other hand, 15.
If it exceeds 5%, the viscosity of the glass tends to be high, and 2
If it exceeds 0%, sealing at low temperature becomes difficult.

【0017】GeO2 の含有量は0.1〜20%、好ま
しくは0.1〜10%である。GeO2 はSiO2 と同
様にガラス形成成分として知られており、この成分を含
有させることにより安定性に優れたガラスを得ることが
できる。しかもSiO2 に比べて少ない含有量でもガラ
スが安定し、同じ含有量では低融点化できる。GeO2
の含有量が0.1%よりも少ないとガラスの結晶化傾向
が強くなって十分低温で封着できない。一方、10%よ
りも多くなるとガラスの粘性が高くなる傾向があり、2
0%を越えると低温での封着できなくなる。
The content of GeO 2 is 0.1 to 20%, preferably 0.1 to 10%. GeO 2 is known as a glass-forming component like SiO 2, and by incorporating this component, a glass having excellent stability can be obtained. Moreover, the glass is stable with a smaller content than SiO 2 , and the melting point can be lowered with the same content. GeO 2
If the content is less than 0.1%, the glass tends to be more likely to crystallize and cannot be sealed at a sufficiently low temperature. On the other hand, if it exceeds 10%, the viscosity of the glass tends to be high, and
If it exceeds 0%, sealing cannot be performed at low temperatures.

【0018】Bi23 の含有量は0〜70%、好まし
くは0.1〜55%である。Bi23は粘性を上げずに
ガラスを安定化させ、ガラス化範囲を拡大する効果があ
る。Bi23 は必須成分ではないが、0.1%以上含
有させるとその効果が現れる。一方、55%よりも多い
とガラスの粘性が高くなる傾向があり、70%を越える
とガラスの粘性がさらに高くなって十分に低温で封着で
きない。
The Bi 2 O 3 content is 0 to 70%, preferably 0.1 to 55%. Bi 2 O 3 has the effect of stabilizing the glass without increasing the viscosity and expanding the vitrification range. Bi 2 O 3 is not an essential component, but its effect appears when it is contained in an amount of 0.1% or more. On the other hand, if it exceeds 55%, the viscosity of the glass tends to be high, and if it exceeds 70%, the viscosity of the glass is further increased, and sealing cannot be performed at a sufficiently low temperature.

【0019】V25 の含有量は0〜5%、好ましくは
0.1%〜5%である。V25 はガラスを安定化させ
るとともにガラスの表面張力を下げて低融点化する効果
がある。V25 は必須成分ではないが、0.1%以上
含有させると低融点化効果が現れる。一方、5%よりも
多くなると結晶化して低温で封着できなくなる。
The content of V 2 O 5 is 0 to 5%, preferably 0.1% to 5%. V 2 O 5 has the effects of stabilizing the glass and lowering the surface tension of the glass to lower the melting point. V 2 O 5 is not an essential component, but when it is contained in an amount of 0.1% or more, the effect of lowering the melting point appears. On the other hand, if it exceeds 5%, it will be crystallized and cannot be sealed at a low temperature.

【0020】Fe23 とCuOの含有量は各々0〜5
%、好ましくは各々0〜3%である。これらの成分はガ
ラスを安定化させる効果があるが、3%より多いとガラ
スの粘性が高くなる傾向が現れ、5%を越えると低温で
流動しなくなる。
The contents of Fe 2 O 3 and CuO are 0 to 5 respectively.
%, Preferably 0 to 3% each. These components have the effect of stabilizing the glass, but if they are more than 3%, the viscosity of the glass tends to be high, and if they exceed 5%, they do not flow at a low temperature.

【0021】また本発明においてはガラスを安定化させ
るためにV25 、Fe23 及びCuOを合量で0.
1〜10%、好ましくは0.4〜6%含有する。これら
の成分の合量が0.4%より少ないと結晶化傾向が現
れ、0.1%より少なくなると結晶の析出が著しくな
り、低温封着が困難になる。一方、これらの合量が6%
より多いとガラスの粘性が高くなる傾向が現れ、10%
を越えると粘性が高くなり過ぎて低温封着が困難にな
る。
Further, in the present invention, in order to stabilize the glass, V 2 O 5 , Fe 2 O 3 and CuO are added in a total amount of 0.
1 to 10%, preferably 0.4 to 6%. If the total amount of these components is less than 0.4%, a crystallization tendency appears, and if it is less than 0.1%, precipitation of crystals becomes remarkable and low-temperature sealing becomes difficult. On the other hand, the total amount of these is 6%
If it is more than 10%, the viscosity of the glass tends to be high, and 10%.
If it exceeds, the viscosity becomes too high and it becomes difficult to seal at low temperature.

【0022】ZnOの含有量は0〜20%、好ましくは
0〜10%である。ZnOはガラスを安定化させ、且つ
耐水性を向上させる効果があるが、10%より多いとガ
ラス化範囲が狭くなり、20%よりも多いとガラスが結
晶化して十分流動しなくなる。
The content of ZnO is 0 to 20%, preferably 0 to 10%. ZnO has the effect of stabilizing the glass and improving the water resistance, but if it exceeds 10%, the vitrification range becomes narrow, and if it exceeds 20%, the glass crystallizes and does not flow sufficiently.

【0023】TiO2 の含有量は0〜3%、好ましくは
0〜2%である。TiO2 はガラスを安定化させる効果
があるが、2%より多くなると結晶化傾向が現れ、3%
を越えると結晶化傾向が著しくなって、流動しなくな
る。
The content of TiO 2 is 0 to 3%, preferably 0 to 2%. TiO 2 has the effect of stabilizing the glass, but if it exceeds 2%, it tends to crystallize, and 3%.
If it exceeds, the tendency of crystallization becomes remarkable and the fluidization is stopped.

【0024】Al23 の含有量は0〜5%、好ましく
は0〜2%である。Al23 はガラスを安定化させる
効果がある。Al23 が2%よりも多いとガラスの粘
性が高くなる傾向があり、5%を越えると結晶が析出し
て流動しなくなる。
The content of Al 2 O 3 is 0 to 5%, preferably 0 to 2%. Al 2 O 3 has the effect of stabilizing the glass. If Al 2 O 3 is more than 2%, the viscosity of the glass tends to be high, and if it exceeds 5%, crystals precipitate and do not flow.

【0025】F2 の含有量は0〜9%、好ましくは0〜
8%である。F2 はBi23 の多い組成系に添加する
とガラスの粘性をさげるとともに、結晶化傾向を抑える
効果が得られる。F2 が8%より多いと結晶化傾向が現
れ、9%を越えるとガラスの安定性が崩れ、結晶化が著
しくなって流動しなくなる。
The content of F 2 is 0 to 9%, preferably 0 to
8%. When F 2 is added to a composition system containing a large amount of Bi 2 O 3, the effect of reducing the viscosity of glass and suppressing the tendency of crystallization can be obtained. If F 2 is more than 8%, crystallization tends to occur, and if it exceeds 9%, the stability of the glass is impaired, and crystallization becomes remarkable and the glass does not flow.

【0026】本発明において、SiO2 はメッキブリッ
ジを起こし易くする成分であるため、基本的には含有し
ないことが好ましいが、0.5%未満の含有量であれば
所望の特性が維持できるため差し支えない。
In the present invention, since SiO 2 is a component that easily causes plating bridge, it is basically preferable not to contain it, but if the content is less than 0.5%, desired characteristics can be maintained. It doesn't matter.

【0027】なお、上記成分以外にも5%以下のAg
O、SrO、P25 、Co23 、TeO2 、及び3
%以下のMo23 、Rb2 O、Cs2 O、Nb2
5 、Ta23 、CeO2 、NiO、Cr23 、As
23 、Sb23 、SnO2 、La23 等の希土類
を他成分として含有させることができる。但しTl2
O、CdO等の非常に毒性の強い成分の添加は環境上好
ましくなく、避けるべきである。
In addition to the above components, Ag of 5% or less
O, SrO, P 2 O 5 , Co 2 O 3 , TeO 2 , and 3
% Or less of Mo 2 O 3 , Rb 2 O, Cs 2 O, Nb 2 O
5 , Ta 2 O 3 , CeO 2 , NiO, Cr 2 O 3 , As
Rare earths such as 2 O 3 , Sb 2 O 3 , SnO 2 and La 2 O 3 can be contained as other components. However, Tl 2
The addition of highly toxic components such as O and CdO is environmentally unfavorable and should be avoided.

【0028】以上の組成を有するガラスは非晶質であ
り、封着時に結晶を析出し難いために流動性が良い。し
かもガラス転移点が320℃以下と低く、ガラスの粘性
も低いため、低温封着に適した封着用組成物である。ま
た30〜250℃における熱膨張係数が110×10-7
/℃以上であり、これと適合する高膨張材料を封着する
ことが可能である。
The glass having the above composition is amorphous and has good flowability because it is difficult for crystals to precipitate during sealing. Moreover, the glass transition point is as low as 320 ° C. or lower, and the viscosity of the glass is also low, so that it is a sealing composition suitable for low temperature sealing. Further, the thermal expansion coefficient at 30 to 250 ° C. is 110 × 10 −7.
/ ° C or higher, and it is possible to seal a high expansion material compatible therewith.

【0029】一方アルミナ(70×10-7/℃)、窒化
アルミニウム(45×10-7/℃)、窓板ガラス(85
×10-7/℃)等の熱膨張係数の適合しない材料からな
るICパッケージや表示デバイスの封着を行う場合、被
封着物との膨張差を是正する目的で耐火性フィラー粉末
を混合して使用することが可能である。
On the other hand, alumina (70 × 10 −7 / ° C.), aluminum nitride (45 × 10 −7 / ° C.), window glass (85
When sealing an IC package or display device made of a material that does not conform to the thermal expansion coefficient, such as × 10 -7 / ° C), mix refractory filler powder for the purpose of correcting the expansion difference with the adherend. It is possible to use.

【0030】耐火性フィラー粉末を混合する場合、その
混合割合はガラス粉末45〜85体積%と耐火性フィラ
ー粉末15〜55体積%であることが好ましい。両者の
割合をこのように限定した理由は、耐火性フィラー粉末
が15体積%より少ないとその効果がなく、55体積%
より多くなると流動性が悪くなって封着が困難になるこ
とによる。
When the refractory filler powder is mixed, the mixing ratio is preferably 45 to 85% by volume of glass powder and 15 to 55% by volume of refractory filler powder. The reason why the ratio of the two is limited in this way is that when the content of the refractory filler powder is less than 15% by volume, the effect is not exhibited, and 55% by volume.
This is because if the amount is larger, the fluidity becomes poor and the sealing becomes difficult.

【0031】耐火性フィラー粉末としては、チタン酸鉛
系セラミックス、ウイレマイト系セラミックス、コーデ
ィエライト、ジルコン系セラミックス、酸化錫固溶体、
アルミナが特に適しており、これらを単独、或は組み合
わせて使用することが好ましい。またこれら以外にも酸
化チタン、五酸化ニオブ、ムライト等を使用することが
できる。なお、β−ユークリプタイトは、ガラスとの相
性が悪く、流動性を著しく低下させる。また構成成分に
アルカリ金属元素(Li)を含み、絶縁抵抗を低下させ
るため使用しない方がよい。
As the refractory filler powder, lead titanate-based ceramics, willemite-based ceramics, cordierite, zircon-based ceramics, tin oxide solid solution,
Alumina is particularly suitable, and it is preferable to use these alone or in combination. Other than these, titanium oxide, niobium pentoxide, mullite and the like can be used. Note that β-eucryptite has a poor compatibility with glass and significantly reduces the fluidity. Further, it is preferable not to use it because it contains an alkali metal element (Li) as a constituent component and reduces the insulation resistance.

【0032】[0032]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明の封着用組成
物を説明する。
EXAMPLES The sealing composition of the present invention will be described below based on examples.

【0033】(実施例1)表1は、SiO2 とGeO2
のメッキブリッジに対する効果を説明するものであり、
試料aはPbO−B23 −Bi23 −SiO2 系ガ
ラスの一例であり、試料bは試料aの組成からSiO2
を除いたPbO−B23 −Bi23 系ガラス、試料
cは試料bに1%のGeO2 を添加した本発明の封着用
組成物をそれぞれ示している。
Example 1 Table 1 shows SiO 2 and GeO 2
Of the effect on the plating bridge,
Sample a is an example of PbO—B 2 O 3 —Bi 2 O 3 —SiO 2 -based glass, and sample b is SiO 2 based on the composition of sample a.
PbO-B 2 O 3 -Bi 2 O 3 based glass, excluding the sample c shows the sealing composition of the present invention with the addition of GeO 2 in 1% sample b, respectively.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】表1の試料は次のようにして調製した。The samples in Table 1 were prepared as follows.

【0036】表中の組成になるように原料粉末を調合、
混合し、白金坩堝に入れて900℃で1時間溶融し、薄
板状に成形した後、粉砕し、350メッシュのステンレ
ス製篩を通過させて平均粒径が4μmのガラス粉末試料
を得た。
The raw material powders are blended so as to have the composition shown in the table,
The mixture was mixed, put in a platinum crucible, melted at 900 ° C. for 1 hour, molded into a thin plate, crushed, and passed through a 350-mesh stainless sieve to obtain a glass powder sample having an average particle diameter of 4 μm.

【0037】次に得られたガラス粉末試料についてガラ
ス転移点、流動性、ガラスの安定性及び錫メッキ浴に対
する安定性(以下、錫メッキ性と略す)を評価した。な
お錫メッキ性の評価については、ガラス粉末60体積%
とウイレマイト系セラミックス粉末40体積%を混合し
て、30〜250℃における熱膨張係数をアルミナの熱
膨張係数70×10-7/℃に適合するように69〜70
×10-7/℃に調整したものを用いた。結果を表1に示
す。
The glass powder samples obtained were evaluated for glass transition point, fluidity, glass stability, and stability in tin plating bath (hereinafter abbreviated as tin plating property). Regarding the tin plating property, 60% by volume of glass powder was used.
And 40% by volume of willemite-based ceramic powder are mixed, and the coefficient of thermal expansion at 30 to 250 ° C. is adjusted to 69 × 70 −7 / ° C. of alumina so as to be 69 to 70
The one adjusted to × 10 -7 / ° C was used. The results are shown in Table 1.

【0038】表1から明らかなように、試料aはガラス
転移点が315℃であり、流動性及び安定性も良好であ
ったが、錫メッキ性の評価ではメッキブリッジが発生し
た。また試料aの組成からSiO2 を除いた試料bは、
錫メッキ性について改善が認められ、またガラス転移点
は305℃と試料aに比べて低かった。しかしながら結
晶析出が著しく、流動性及び安定性が悪かった。一方、
GeO2 を添加した試料cは、ガラス転移点が307℃
と試料aに比べて低い値を示し、しかもメッキブリッジ
の発生が認められなかった。また流動性及び安定性も良
好であった。
As is clear from Table 1, sample a had a glass transition point of 315 ° C. and was excellent in fluidity and stability, but a plating bridge was generated in the tin plating property evaluation. Further, the sample b obtained by removing SiO 2 from the composition of the sample a is
The tin plating property was improved, and the glass transition point was 305 ° C., which was lower than that of the sample a. However, crystal precipitation was remarkable, and the fluidity and stability were poor. on the other hand,
Sample c containing GeO 2 has a glass transition point of 307 ° C.
And a lower value than Sample a, and no generation of plating bridge was observed. The fluidity and stability were also good.

【0039】これらの事実は、SiO2 の代わりにGe
2 を添加すると、メッキブリッジの発生を防止でき、
しかも流動性及び安定性が良好で低温封着が可能な封着
用組成物が得られることを示している。
These facts indicate that Ge 2 instead of SiO 2
Addition of O 2 can prevent the occurrence of plating bridges,
Moreover, it is shown that a sealing composition having good fluidity and stability and capable of low-temperature sealing can be obtained.

【0040】なお、ガラス転移点は示差熱分析計(DT
A)により求めた。また流動性は、試料から外径20m
m、高さ5mmのボタンを作製した後、420℃、10
分の条件で加熱し、このときのボタンの直径が23mm
を超えるものを良、20〜23mmのものを可、20m
m未満のものを不可とした。安定性は、流動性試験後の
試料表面を目視で観察し、結晶が全く認められなかった
ものを良、認められたものを不可とした。錫メッキ性は
次のようにして評価した。まず熱膨張係数を調整した各
試料を用いてアルミナパッケージ(28L C−DI
P)を封着した後、リードの酸化膜を除去し、錫メッキ
を施す。その後、リ−ドと封着組成物の界面を50倍の
顕微鏡で観察し、封着材に金属錫の付着がないものを
良、金属錫が付着しており、その付着部分の大きさが1
00μm未満のものを可、それ以上付着したものを不可
とした。なお錫メッキは、メッキブリッジが発生し易い
条件(5容量%の硫酸濃度の浴、電流密度5A/dm
2 、メッキ時間20分)で行った。
The glass transition point is measured by a differential thermal analyzer (DT
Determined according to A). Moreover, the fluidity is 20m from the sample.
After making a button of m, height 5mm, 420 ℃, 10
Heated under the condition of minutes, the diameter of the button at this time is 23 mm
20m is acceptable, 20 to 23mm is acceptable.
Those less than m were disqualified. The stability was evaluated by visually observing the surface of the sample after the fluidity test, in which no crystals were observed at all, and when it was observed, it was judged as unsatisfactory. The tin plating property was evaluated as follows. First, an alumina package (28L C-DI was used by using each sample whose thermal expansion coefficient was adjusted.
After P) is sealed, the lead oxide film is removed and tin plating is performed. Then, the interface between the lead and the sealing composition was observed under a microscope of 50 times, and the sealing material having no metal tin adhered was good, the metal tin adhered, and the size of the adhered portion was 1
Those with a size of less than 00 μm were acceptable, and those with more than 100 μm were not acceptable. Note that tin plating is performed under conditions in which a plating bridge is likely to occur (a bath having a sulfuric acid concentration of 5% by volume, a current density of 5 A / dm
2 , the plating time was 20 minutes).

【0041】(実施例2)表2及び表3は、本発明にお
けるガラス粉末からなる封着用組成物の実施例を示すも
のである。
(Example 2) Tables 2 and 3 show examples of a sealing composition made of glass powder according to the present invention.

【0042】[0042]

【表2】 [Table 2]

【0043】[0043]

【表3】 [Table 3]

【0044】表2及び表3から明らかなように、試料A
〜Iはガラス転移点が214〜312℃、30〜250
℃における熱膨張係数が106〜162×10-7/℃で
あり、流動性、安定性ともすべて良好であった。
As is clear from Tables 2 and 3, sample A
~ I has a glass transition point of 214 to 312 ° C, 30 to 250
The coefficient of thermal expansion at 10 ° C was 106 to 162 × 10 -7 / ° C, and both the fluidity and the stability were good.

【0045】なお、表中の各試料は、実施例1と同様に
して調製し、評価した。熱膨張係数については押棒式熱
膨張測定装置を用いて測定した。
Each sample in the table was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The thermal expansion coefficient was measured using a push rod thermal expansion measuring device.

【0046】(実施例3)表4乃至表6は、表2及び表
3の各試料に耐火性フィラー粉末を混合して作製したI
Cパッケージの封着用組成物の実施例(試料No.1〜
12)を示すものである。
(Example 3) Tables 4 to 6 are prepared by mixing refractory filler powder with each sample of Tables 2 and I.
Examples of compositions for sealing C packages (Sample Nos. 1 to 1
12).

【0047】[0047]

【表4】 [Table 4]

【0048】[0048]

【表5】 [Table 5]

【0049】[0049]

【表6】 [Table 6]

【0050】表4乃至表6から明らかなように、試料N
o.1〜12は、封着温度が430℃以下、パッケージ
強度が230lbf・in以上、α線放出量が0.18
count/cm2 ・hr以下であり、しかも錫メッキ
性及び絶縁性に優れていた。また30〜250℃におけ
る熱膨張係数は、試料No.1〜9が65〜78×10
-7/℃、試料No.10〜12が52〜53×10-7
℃であり、それぞれアルミナ(70×10-7/℃)、窒
化アルミニウム(45×10-7/℃)に適合する値を示
した。
As is clear from Tables 4 to 6, sample N
o. 1 to 12 have a sealing temperature of 430 ° C. or less, a package strength of 230 lbf · in or more, and an α-ray emission amount of 0.18.
It was less than count / cm 2 · hr and was excellent in tin plating property and insulation property. The coefficient of thermal expansion at 30 to 250 ° C. is the same as that of Sample No. 1 to 9 is 65 to 78 × 10
-7 / ° C, sample No. 10-12 is 52-53 × 10 -7 /
The temperature was 0 ° C, and values corresponding to alumina (70 x 10 -7 / ° C) and aluminum nitride (45 x 10 -7 / ° C) were shown.

【0051】表7は、表2の試料に耐火性フィラー粉末
を混合して作製した蛍光表示管用の封着用組成物の実施
例(試料No.13〜15)を示すものである。
Table 7 shows examples (Sample Nos. 13 to 15) of sealing compositions for fluorescent display tubes, which were prepared by mixing the samples of Table 2 with refractory filler powder.

【0052】[0052]

【表7】 [Table 7]

【0053】表7から明らかなように、試料No.13
〜15は、封着温度が400℃以下であり、錫メッキ性
及び絶縁性に優れていた。また30〜250℃における
熱膨張係数は何れも76×10-7/℃であり、窓板ガラ
スのそれ(85×10-7/℃)に適合する値を示した。
As is clear from Table 7, the sample No. Thirteen
In Nos. 15 to 15, the sealing temperature was 400 ° C. or lower, and the tin plating property and the insulating property were excellent. Further, the coefficient of thermal expansion at 30 to 250 ° C. was 76 × 10 −7 / ° C., which was a value suitable for that of window glass (85 × 10 −7 / ° C.).

【0054】これらの事実は、本発明の封着用組成物が
ICパッケージや表示デバイスの封着材に求められる諸
条件を満足し、特にメッキブリッジを起こし難いこと、
また耐火性フィラー粉末を適当量含有することにより、
熱膨張係数をアルミナ、窒化アルミニウム、窓板ガラス
等の被封着材に適合するように調節できることを示して
いる。
These facts indicate that the sealing composition of the present invention satisfies various conditions required for a sealing material for IC packages and display devices, and in particular, it is difficult for plating bridges to occur.
Also, by containing an appropriate amount of refractory filler powder,
It is shown that the coefficient of thermal expansion can be adjusted so as to be compatible with the material to be sealed such as alumina, aluminum nitride and window glass.

【0055】なお封着温度は、各試料にビヒクルを加え
て作製したペ−ストを、各パッケージパーツに印刷、グ
レ−ズした後、これらを種々の温度で焼成し、封着可能
な最低温度を求めた。パッケージ強度は、28リ−ド
LSI C−DIPパッケ−ジのトルクテストで求め
た。トルクテストは、C−DIPのベースセラミックと
キャップセラミックとに回転力を加え、封着材部分が破
壊するの強度をトルクメーターで測定したものである。
α線放出量は、ZnSシンチレーションカウンターを用
いて測定した。絶縁性は、メガオ−ムメ−タ−を用いて
電子部品のリ−ド間の抵抗値を測定し、抵抗値が1×1
9 Ω以上あるものを良、それ未満のものを不良とし
た。錫メッキ性は、実施例1と同様にして評価した。な
お試料No.10〜12については窒化アルミニウム、
試料No.13〜15については窓ガラスからなるパッ
ケージを用いて評価した。
The sealing temperature is the minimum temperature at which the paste prepared by adding a vehicle to each sample is printed on each package part and then graded, and then baked at various temperatures to achieve sealing. I asked. Package strength is 28 leads
It was determined by the torque test of the LSI C-DIP package. In the torque test, a rotational force is applied to the C-DIP base ceramic and the cap ceramic, and the strength at which the sealing material portion breaks is measured with a torque meter.
The α-ray emission amount was measured using a ZnS scintillation counter. For insulation, the resistance value between the leads of the electronic component is measured using a mega ohm meter, and the resistance value is 1 × 1.
Those having a resistance of more than 0 9 Ω were evaluated as good, and those having a resistance of less than 9 Ω were evaluated as defective. The tin plating property was evaluated in the same manner as in Example 1. Sample No. Aluminum nitride for 10-12,
Sample No. For 13 to 15, evaluation was performed using a package made of window glass.

【0056】また表4乃至表7に示した耐火性フィラー
粉末は次のようにして作製した。
The refractory filler powders shown in Tables 4 to 7 were prepared as follows.

【0057】チタン酸鉛系セラミックス粉末は、PbT
iO3 結晶中にCaOを固溶したものであり、リサー
ジ、酸化チタン、炭酸カルシウムを重量%でPbO70
%、TiO2 20%、CaO10%の組成になるように
調合し、混合後、1100℃で5時間焼成し、次いでこ
の焼成物をアルミナボールにて粉砕し、350メッシュ
のステンレス製篩を通過させ、平均粒径が4μmの粉末
状としたものを用いた。
Lead titanate-based ceramic powder is PbT
It is a solid solution of CaO in iO 3 crystal and contains litharge, titanium oxide, and calcium carbonate in a weight percentage of PbO70.
%, TiO 2 20%, CaO 10%, and after mixing, calcination is performed at 1100 ° C. for 5 hours, and the calcination product is crushed with alumina balls and passed through a 350-mesh stainless sieve. A powder having an average particle size of 4 μm was used.

【0058】ウイレマイト系セラミックス粉末は、亜鉛
華、光学石粉、酸化アルミニウムを重量%でZnO 7
0%、SiO2 25%、Al23 5%の組成になるよ
うに調合し、混合後、1440℃で15時間焼成し、次
いでこの焼成物を粉砕し、250メッシュのステンレス
製篩を通過させ、平均粒径が5μmの粉末状としたもの
を用いた。
The willemite-based ceramic powder includes zinc white, optical stone powder, and aluminum oxide in a weight percentage of ZnO 7.
It was prepared to have a composition of 0%, SiO 2 25%, and Al 2 O 3 5%, and after mixing, it was fired at 1440 ° C. for 15 hours, then this fired product was crushed and passed through a 250 mesh stainless sieve. Then, a powder having an average particle diameter of 5 μm was used.

【0059】コーディエライト粉末は、酸化マグネシウ
ム、酸化アルミニウム、光学石粉を2MgO・2Al2
3 ・5SiO2 の割合になるように調合し、混合後、
1400℃で10時間焼成し、次いでこの焼成物を粉砕
し、250メッシュのステンレス製篩を通過したものを
使用した。
As the cordierite powder, magnesium oxide, aluminum oxide and optical stone powder are used as 2MgO.2Al 2
Prepare so that the ratio of O 3 · 5SiO 2 is, and after mixing,
It was fired at 1400 ° C. for 10 hours, then the fired product was crushed and passed through a 250-mesh stainless sieve.

【0060】ジルコン系セラミックス粉末は次のように
して作製した。まず、天然ジルコンサンドを一旦ソーダ
分解し、塩酸に溶解した後、濃縮結晶化を繰り返すこと
によって、α線放出物質であるU、Thの極めて少ない
オキシ塩化ジルコニウムにし、アルカリ中和後、加熱し
て精製ZrO2 を得た。さらにこの精製ZrO2 に高純
度珪石粉、酸化第二鉄を重量%でZrO2 66%、Si
2 32%、Fe2 3 2%の組成になるように調合
し、混合後、1400℃で16時間焼成し、次いでこの
焼成物を粉砕し、250メッシュのステンレス製篩を通
過したものを使用した。
The zircon ceramic powder was produced as follows. First, natural zircon sand is once decomposed with soda, dissolved in hydrochloric acid, and then repeatedly concentrated and crystallized to obtain zirconium oxychloride having extremely small amounts of U and Th which are α-ray emitting substances, neutralized with an alkali, and then heated. Purified ZrO 2 was obtained. Furthermore, high-purity silica stone powder and ferric oxide were added to this purified ZrO 2 in a weight percentage of ZrO 2 66%, Si
O 2 32% and Fe 2 O 3 2% were mixed and mixed, and after the mixture was fired at 1400 ° C. for 16 hours, the fired product was crushed and passed through a 250 mesh stainless sieve. used.

【0061】酸化錫固溶体粉末は、重量%でSnO2
9%、MnO2 1%の組成になるように酸化錫及び二酸
化マンガンを調合し、混合後、1400℃で16時間焼
成し、次いでこの焼成物を粉砕し、250メッシュのス
テンレス篩を通過したものを使用した。
The tin oxide solid solution powder was made of SnO 2 9 by weight%.
A mixture of tin oxide and manganese dioxide having a composition of 9% and MnO 2 1%, mixed and fired at 1400 ° C. for 16 hours, then the fired product was crushed and passed through a 250 mesh stainless sieve. It was used.

【0062】アルミナ粉末は、市販されている350メ
ッシュパス品を使用した。
As the alumina powder, a commercially available 350 mesh pass product was used.

【0063】[0063]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の封着用組
成物は、ICパッケージや表示デバイス等の封着材に要
求される諸特性を満足し、特にメッキ条件に影響され難
いためにメッキブリッジが起こり難いものである。それ
ゆえ信頼性が高く、電子部品の封着材として好適であ
る。
As described above, the sealing composition of the present invention satisfies various characteristics required for a sealing material such as an IC package and a display device, and is particularly hard to be influenced by plating conditions. Bridges are hard to happen. Therefore, it has high reliability and is suitable as a sealing material for electronic parts.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 重量百分率でPbO 25〜88%、B
23 1〜20%、GeO2 0.1〜20%、Bi2
3 0〜70%、V25 0〜5%、Fe23 0〜5
%、CuO 0〜5%、V25 +Fe23 +CuO
0.1〜10%、ZnO 0〜20%、TiO2 0〜
3%、Al23 0〜5%、F2 0〜9%の組成を有す
るガラス粉末からなることを特徴とする封着用組成物。
1. PbO 25-88%, B by weight percentage
2 O 3 1-20%, GeO 2 0.1-20%, Bi 2 O
3 0~70%, V 2 O 5 0~5%, Fe 2 O 3 0~5
%, CuO 0-5%, V 2 O 5 + Fe 2 O 3 + CuO
0.1~10%, 0~20% ZnO, TiO 2 0~
A sealing composition comprising a glass powder having a composition of 3%, Al 2 O 3 0 to 5%, and F 2 0 to 9%.
【請求項2】 重量百分率でPbO 25〜88%、B
23 1〜20%、GeO2 0.1〜20%、Bi2
3 0〜70%、V25 0〜5%、Fe23 0〜5
%、CuO 0〜5%、V25 +Fe23 +CuO
0.1〜10%、ZnO 0〜20%、TiO2 0〜
3%、Al23 0〜5%、F2 0〜9%の組成を有す
るガラス粉末45〜85体積%と、耐火性フィラー粉末
15〜55体積%とからなることを特徴とする封着用組
成物。
2. PbO 25-88%, B by weight percentage
2 O 3 1-20%, GeO 2 0.1-20%, Bi 2 O
3 0~70%, V 2 O 5 0~5%, Fe 2 O 3 0~5
%, CuO 0-5%, V 2 O 5 + Fe 2 O 3 + CuO
0.1~10%, 0~20% ZnO, TiO 2 0~
3%, Al 2 O 3 0-5%, F 2 0-9% 45-85% by volume of glass powder and 15-55% by volume of refractory filler powder for sealing. Composition.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6163106A (en) * 1997-09-09 2000-12-19 Asahi Glass Company Ltd. Color cathode ray tube and water resistant glass frit
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KR100318181B1 (en) * 1999-08-13 2001-12-22 손재익 Glass Composition for Joining
EP4129942A1 (en) 2021-08-03 2023-02-08 Corning Incorporated Borate and silicoborate optical glasses with high refractive index and low liquidus temperature

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