JPH08148629A - Semiconductor device, its manufacture and substrate for semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device, its manufacture and substrate for semiconductor device

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JPH08148629A
JPH08148629A JP18292095A JP18292095A JPH08148629A JP H08148629 A JPH08148629 A JP H08148629A JP 18292095 A JP18292095 A JP 18292095A JP 18292095 A JP18292095 A JP 18292095A JP H08148629 A JPH08148629 A JP H08148629A
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JP
Japan
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semiconductor device
substrate
lead
semiconductor
base portion
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JP18292095A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Seki
正明 関
Rikuro Sono
陸郎 薗
Ichiro Yamaguchi
一郎 山口
Kazuhiko Mitobe
一彦 水戸部
Kiyomi Hayashi
清海 林
Koki Otake
幸喜 大竹
Susumu Abe
進 阿部
Junichi Kasai
純一 河西
Masao Sakuma
正夫 佐久間
Yoshimi Suzuki
義美 鈴木
Yasuhiro Niima
康弘 新間
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Miyachi Systems Co Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Miyachi Systems Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched

Abstract

PURPOSE: To improve the reliability and heat dissipation characteristics and to make it possible to perform mounting inspection after mounting with respect to a semiconductor device having a substrate mounting a semiconductor element, and its production method and the substrate for the semiconductor device. CONSTITUTION: This semiconductor device has a semiconductor element 21, a substrate 24 for semiconductor device having an element mounting portion 32, solder bumps 22 arranged on the substrate 24 for semiconductor device and connected to the semiconductor element 21 and also to external electrodes during mounting, and a sealing resin 23 for sealing the semiconductor element 21. Therefore, the substrate 24 for semiconductor device comprises a bendable base portion 26 and a substrate consisting of a lead portion 28 for connecting the semiconductor element 21 to the solder bumps 22, and the substrate is bent and formed to a bend 29 for locating the lead portion 28 on the outer side at the peripheral edge portion.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置及びその
製造方法及び半導体装置用基板に係り、特に半導体素子
を搭載する基板を有した半導体装置及びその製造方法及
び半導体装置用基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, a method for manufacturing the same, and a substrate for a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device having a substrate on which a semiconductor element is mounted, a method for manufacturing the same, and a substrate for a semiconductor device.

【0002】近年、高集積化,高速化及びハイパワー化
に対応でき、しかも低コストであるパッケージ構造を有
した半導体装置が求められている。これらの要求に対応
すべく、BGAタイプのパッケージ構造が開発され、各
種電子機器に採用されて注目されるようになってきてい
る。
In recent years, there has been a demand for a semiconductor device having a package structure which can cope with high integration, high speed and high power, and which is low in cost. In order to meet these demands, a BGA type package structure has been developed, has been adopted in various electronic devices, and has been attracting attention.

【0003】[0003]

【従来の技術】図23は従来における半導体装置の一例
を示す断面図である。この半導体装置11は、プラスチ
ックBGA(以下、PBGAという)タイプのパッケー
ジ構造を有するものである。
2. Description of the Related Art FIG. 23 is a sectional view showing an example of a conventional semiconductor device. The semiconductor device 11 has a plastic BGA (hereinafter referred to as PBGA) type package structure.

【0004】同図において、12はプリント基板であ
り、その上面である搭載面12aには1個の半導体素子
13がダイボンディング等により固定されている。ま
た、プリント基板12の搭載面12aと反対側に位置す
る実装面12bには、複数の半田バンプ14が配設され
ている。この半田バンプ14は外部接続端子として機能
する。
In the figure, reference numeral 12 is a printed circuit board, and one semiconductor element 13 is fixed to the mounting surface 12a, which is the upper surface, by die bonding or the like. A plurality of solder bumps 14 are provided on the mounting surface 12b located on the opposite side of the mounting surface 12a of the printed board 12. The solder bump 14 functions as an external connection terminal.

【0005】また、プリント基板12の搭載面12a及
び内層部には所定の電極パターン(図示せず)がプリン
ト形成されており、搭載面12aに形成された所定の電
極パターンと半導体素子13との間にはワイヤ15が配
設され、このワイヤ15により電極パターンと半導体素
子13は電気的に接続される。
A predetermined electrode pattern (not shown) is printed on the mounting surface 12a and the inner layer portion of the printed circuit board 12, and the predetermined electrode pattern formed on the mounting surface 12a and the semiconductor element 13 are formed. A wire 15 is disposed between the electrodes, and the wire 15 electrically connects the electrode pattern and the semiconductor element 13.

【0006】更に、プリント基板12には複数のスルー
ホール16が形成されており、このスルーホール16を
介して半導体素子13と電気的に接続された電極パター
ンはプリント基板12の実装面12bに引き出され、半
田バンプ14と電気的に接続する構成となっている。
Further, a plurality of through holes 16 are formed in the printed board 12, and the electrode pattern electrically connected to the semiconductor element 13 through the through holes 16 is drawn out to the mounting surface 12b of the printed board 12. The solder bumps 14 are electrically connected to each other.

【0007】一方、プリント基板12の搭載面12aの
上部には、半導体素子13を封止する封止樹脂17がポ
ッティング(トランスファーモールドでも可能)により
形成されている。この封止樹脂17は、半導体素子13
を保護するために形成されるものであり、封止樹脂17
が形成されることにより半導体素子13は封止樹脂17
内に埋設された構成となる。
On the other hand, an encapsulation resin 17 for encapsulating the semiconductor element 13 is formed on the mounting surface 12a of the printed circuit board 12 by potting (transfer molding is also possible). The sealing resin 17 is used for the semiconductor element 13
Is formed to protect the sealing resin 17
Is formed, the semiconductor element 13 is sealed with the sealing resin 17
It will be embedded inside.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかるに、上記した従
来構成のPBGAタイプの半導体装置11では、半導体
素子13を搭載する基板としてプリント基板12が用い
られており、また半導体素子13を封止する封止樹脂1
7はプリント基板12の上面にポッティング或いは子ト
ランスファーモールドにより形成されていたため、封止
樹脂17がプリント基板12から剥離し易く半導体装置
11の信頼性が低いという問題点があった。
However, in the above-mentioned PBGA type semiconductor device 11 having the conventional structure, the printed circuit board 12 is used as a substrate on which the semiconductor element 13 is mounted, and a sealing element for sealing the semiconductor element 13 is used. Stop resin 1
Since No. 7 is formed on the upper surface of the printed circuit board 12 by potting or child transfer molding, the sealing resin 17 is easily peeled off from the printed circuit board 12 and the reliability of the semiconductor device 11 is low.

【0009】これは、プリント基板12と封止樹脂17
との接合性が悪いこと、また封止樹脂17がプリント基
板12の搭載面12aのみにポッティング或いは子トラ
ンスファーモールドされた構成ではプリント基板12と
封止樹脂17との機械的接合強度が弱いことに起因して
いる。
This is the printed circuit board 12 and the sealing resin 17.
And the sealing resin 17 is potted only on the mounting surface 12a of the printed circuit board 12 or is transfer-molded by the child transfer molding, the mechanical bonding strength between the printed circuit board 12 and the sealing resin 17 is weak. It is due.

【0010】また、プリント基板12は熱伝導性が低い
ため、半導体素子13が発熱してもこの熱を効率的に外
部に放熱することができないという問題点があった。ま
た、プリント基板12は耐湿性に劣り、特に熱ストレス
に対しては信頼性が低いという問題点がある。
Further, since the printed board 12 has low thermal conductivity, there is a problem that even if the semiconductor element 13 generates heat, this heat cannot be efficiently radiated to the outside. Further, the printed circuit board 12 has poor moisture resistance, and has a problem that reliability is low particularly against heat stress.

【0011】更に、従来構成のPBGAタイプの半導体
装置11では、プリント基板12に半田バンプ14が適
正に実装基板に電気的に接続されたかどうかを確認する
ための電極(リード)が設けられていないため、半導体
装置11を実装基板に実装した後に半田バンプ14が適
正に実装基板に電気的に接続されたかどうかを確認する
検査(実装検査)を行うことができないという問題点が
あった。
Further, in the conventional PBGA type semiconductor device 11, the printed board 12 is not provided with electrodes (leads) for confirming whether the solder bumps 14 are properly electrically connected to the mounting board. Therefore, there is a problem in that after mounting the semiconductor device 11 on the mounting substrate, an inspection (mounting inspection) for confirming whether or not the solder bumps 14 are properly electrically connected to the mounting substrate cannot be performed.

【0012】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、信頼性,放熱特性の向上を図ると共に実装後にお
ける実装検査を可能とした半導体装置及びその製造方法
及び半導体装置用基板を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and provides a semiconductor device, a manufacturing method thereof, and a semiconductor device substrate, which are capable of improving reliability and heat dissipation characteristics and enabling mounting inspection after mounting. The purpose is to do.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記の課題は下記の各手
段を講じることにより解決することができる。請求項1
記載の発明では、半導体素子と、この半導体素子が搭載
される素子搭載部を有する半導体装置用基板と、この半
導体装置用基板に形成されており該半導体素子に電気的
に接続されると共に実装時に外部電極と接続される外部
接続端子と、上記半導体素子を封止する封止樹脂とを具
備する半導体装置において、上記半導体装置用基板を、
折り曲げ可能なベース部と、このベース部に形成されて
おり上記半導体素子と外部接続端子を電気的に接続する
リード部とよりなる基板により構成すると共に、上記基
板周縁部に、上記リード部が外側に位置するよう基板を
折曲形成し折曲部を形成したことを特徴とするものであ
る。
[Means for Solving the Problems] The above problems can be solved by taking the following means. Claim 1
In the described invention, a semiconductor element, a semiconductor device substrate having an element mounting portion on which the semiconductor element is mounted, and a semiconductor device substrate, which is formed on the semiconductor device substrate and is electrically connected to the semiconductor element and at the time of mounting. In a semiconductor device including an external connection terminal connected to an external electrode and a sealing resin that seals the semiconductor element, the semiconductor device substrate,
The substrate is composed of a foldable base portion and a lead portion formed on the base portion and electrically connecting the semiconductor element and an external connection terminal, and the lead portion is provided outside the peripheral portion of the substrate. It is characterized in that the substrate is bent so as to be located at, and the bent portion is formed.

【0014】また、請求項2記載の発明では、上記折曲
部と素子搭載部との間に間隙が形成されるよう構成した
ことを特徴とするものである。また、請求項3記載の発
明では、上記ベース部を高熱伝導性材料により形成した
ことを特徴とするものである。
The invention according to claim 2 is characterized in that a gap is formed between the bent portion and the element mounting portion. The invention according to claim 3 is characterized in that the base portion is formed of a material having high thermal conductivity.

【0015】また、請求項4記載の発明では、上記ベー
ス部を導電性材料により形成すると共に、このベース部
と上記リード部との間に絶縁層を形成し、上記半導体素
子とベース部とを電気的に接続したことを特徴とするも
のである。
In the invention according to claim 4, the base portion is formed of a conductive material, and an insulating layer is formed between the base portion and the lead portion to connect the semiconductor element and the base portion. It is characterized by being electrically connected.

【0016】また、請求項5記載の発明では、上記ベー
ス部のリード部が配設される面と異なる面に凹凸部を形
成したことを特徴とするものである。また、請求項6記
載の発明では、上記ベース部を金属材料により形成した
ことを特徴とするものである。
The invention according to claim 5 is characterized in that an uneven portion is formed on a surface of the base portion different from the surface on which the lead portion is arranged. The invention according to claim 6 is characterized in that the base portion is formed of a metal material.

【0017】また、請求項7記載の発明では、上記半導
体素子と折曲部に位置するリード部とをワイヤにより接
続したことを特徴とするものである。また、請求項8記
載の発明では、上記ベース部の外周縁部に凸部を形成
し、基板を折曲形成した状態で、この凸部が上記素子搭
載部と当接する構成としたことを特徴とするものであ
る。
Further, the invention according to claim 7 is characterized in that the semiconductor element and the lead portion located at the bent portion are connected by a wire. In the invention according to claim 8, a convex portion is formed on the outer peripheral edge portion of the base portion, and the convex portion abuts the element mounting portion in a state where the substrate is bent and formed. It is what

【0018】また、請求項9記載の発明では、上記半導
体素子と折曲部に位置するリード部とをTAB(Tape Au
tomated Bonding)ワイヤにより接続したことを特徴とす
るものである。また、請求項10記載の発明では、上記
外部接続端子としてバンプを用いたことを特徴とするも
のである。
According to the invention of claim 9, the semiconductor element and the lead portion located at the bent portion are connected to a TAB (Tape Au).
It is characterized by being connected by a tomated bonding wire. Further, the invention according to claim 10 is characterized in that a bump is used as the external connection terminal.

【0019】また、請求項11記載の発明では、折り曲
げ可能なベース部にリード部を形成することにより基板
を形成する基板形成工程と、上記基板形成工程により形
成された基板の周縁部を、上記リード部が外側に位置す
るよう内側に折曲形成することにより素子搭載部と折曲
部を形成し半導体装置用基板を形成する基板折曲工程
と、上記半導体装置用基板の素子搭載部に半導体チップ
を搭載する素子搭載工程と、上記素子搭載部に搭載され
た半導体チップと上記折曲部に位置するリード部とを電
気的に接続する接続工程と、上記半導体装置用基板上に
封止樹脂を充填することにより半導体素子を樹脂封止す
る樹脂封止工程と上記半導体装置用基板に形成されたリ
ード部に、外部接続端子を形成する外部接続端子形成工
程とを具備することを特徴とするものである。
In the invention according to claim 11, the substrate forming step of forming the substrate by forming the lead portion on the bendable base portion, and the peripheral portion of the substrate formed by the substrate forming step are A substrate bending step of forming an element mounting portion and a bent portion to form a semiconductor device substrate by bending the lead portion so that the lead portion is located outside, and a semiconductor is formed on the element mounting portion of the semiconductor device substrate. An element mounting step of mounting a chip, a connecting step of electrically connecting a semiconductor chip mounted on the element mounting section and a lead section located at the bent section, and a sealing resin on the semiconductor device substrate. A resin encapsulation step of encapsulating the semiconductor element with a resin by filling with an external connection terminal and an external connection terminal forming step of forming an external connection terminal on the lead portion formed on the semiconductor device substrate. It is an feature.

【0020】また、請求項12記載の発明では、上記基
板折曲工程において、上記基板をプレス加工により折曲
することを特徴とするものである。また、請求項13記
載の発明では、上記基板形成工程を実施後、基板折曲工
程実施前に、上記リード部を所定のパターンに整形する
リード整形工程を実施することを特徴とするものであ
る。
Further, the invention according to claim 12 is characterized in that, in the substrate bending step, the substrate is bent by press working. Further, the invention according to claim 13 is characterized in that a lead shaping step of shaping the lead portion into a predetermined pattern is performed after the substrate forming step and before the substrate bending step. .

【0021】また、請求項14記載の発明では、上記樹
脂封止工程において、上記封止樹脂をポッティングまた
はトランスファーモールドにより半導体装置用基板上に
装填することを特徴とするものである。また、請求項1
5記載の発明では、半導体装置用基板を、折り曲げ可能
なベース部と、このベース部に形成されており搭載され
る半導体素子と電気的に接続されるリード部とよりなる
基板により構成し、かつ、上記リード部が外側に位置す
るよう基板を折曲形成することにより、周縁部に折曲部
を形成してなる構成としたことを特徴とするものであ
る。
The invention according to claim 14 is characterized in that, in the resin encapsulating step, the encapsulating resin is loaded on the substrate for a semiconductor device by potting or transfer molding. In addition, claim 1
In the invention described in 5, the semiconductor device substrate is configured by a substrate having a foldable base portion and a lead portion formed on the base portion and electrically connected to a mounted semiconductor element, and It is characterized in that the substrate is bent so that the lead portion is located on the outer side, so that the bent portion is formed at the peripheral edge portion.

【0022】また、請求項16記載の発明では、請求項
15記載の発明において、ベース部を高熱伝導性材料に
より形成したことを特徴とするものである。また、請求
項17記載の発明では、請求項15記載の発明におい
て、ベース部を導電性材料により形成すると共にこのベ
ース部とリード部との間に絶縁層を形成したことを特徴
とするものである。
According to the sixteenth aspect of the invention, in the fifteenth aspect of the invention, the base portion is formed of a highly heat conductive material. The invention according to claim 17 is characterized in that, in the invention according to claim 15, the base portion is formed of a conductive material and an insulating layer is formed between the base portion and the lead portion. is there.

【0023】更に、請求項18記載の発明では、請求項
15記載の発明において、ベース部のリード部が配設さ
れる面と異なる面に凹凸部を形成したことを特徴とする
ものである。上記した各手段は下記のように作用する。
Further, the invention according to claim 18 is characterized in that, in the invention according to claim 15, an uneven portion is formed on a surface of the base portion different from a surface on which the lead portion is arranged. Each of the above means operates as follows.

【0024】請求項1記載の発明によれば、半導体装置
用基板として折り曲げ可能なベース部と、このベース部
に形成され半導体素子と外部接続端子とを電気的に接続
するリード部とよりなる基板を用い、かつ半導体装置用
基板は基板の周縁部にリード部が外側に位置するよう基
板を折曲形成し折曲部を形成した構成とされている。
According to the first aspect of the present invention, the substrate is composed of a base portion which can be bent as a substrate for a semiconductor device, and a lead portion which is formed on the base portion and electrically connects a semiconductor element and an external connection terminal. In addition, the semiconductor device substrate is formed by bending the substrate so that the lead portions are located outside in the peripheral portion of the substrate.

【0025】従って、折曲部においてはリード部が上面
に位置し、また半導体装置用基板の素子搭載部において
は素子搭載部の背面側にリード部が位置する構成とな
る。これにより、多層配線プリント基板等の高価なプリ
ント基板を用いることなく、またスルーホール等の形成
が面倒な電極を用いることなく、単に基板を折曲形成す
るのみでリード部材を半導体素子との接続位置から外部
接続端子の形成位置まで引き出すことが可能となる。
Therefore, in the bent portion, the lead portion is located on the upper surface, and in the element mounting portion of the semiconductor device substrate, the lead portion is positioned on the back side of the element mounting portion. As a result, the lead member can be connected to the semiconductor element simply by bending the substrate without using an expensive printed circuit board such as a multilayer wiring printed circuit board and without using an electrode which is troublesome to form a through hole. It is possible to pull out from the position to the position where the external connection terminal is formed.

【0026】また、基板が折曲形成された状態で、リー
ド部は素子搭載部に対して立設した側部にも位置する。
よって、半導体装置を実装基板に実装し、外部接続端子
を実装基板の電極部に接続した状態において、上記の側
部或いは折曲部に形成されているリード部と実装基板の
電極部との間で実装検査を行うことが可能となる。
Further, in the state where the substrate is bent, the lead portion is also located on the side portion erected with respect to the element mounting portion.
Therefore, in the state where the semiconductor device is mounted on the mounting board and the external connection terminals are connected to the electrode section of the mounting board, between the lead section formed on the side portion or the bent section and the electrode section of the mounting board. It becomes possible to carry out a mounting inspection.

【0027】また、請求項2記載の発明によれば、折曲
部と素子搭載部との間に間隙が形成されるよう構成した
ことにより、封止樹脂はこの折曲部と素子搭載部との間
に形成された間隙内にも装填される。従って、間隙に入
り込んだ封止樹脂はアンカー効果を発生し、封止樹脂と
半導体装置用基板との機械的接合強度は向上し、封止樹
脂が半導体装置用基板から剥離することを防止できる。
これにより、半導体装置の信頼性を向上させることがで
きる。
Further, according to the second aspect of the invention, since the gap is formed between the bent portion and the element mounting portion, the sealing resin is formed between the bent portion and the element mounting portion. It is also loaded in the gap formed between the two. Therefore, the sealing resin that has entered the gap generates an anchor effect, the mechanical bonding strength between the sealing resin and the semiconductor device substrate is improved, and the sealing resin can be prevented from peeling from the semiconductor device substrate.
Thereby, the reliability of the semiconductor device can be improved.

【0028】また、請求項3記載及び請求項16の発明
によれば、ベース部を高熱伝導性材料により形成するこ
とにより、半導体素子で発生した熱は高熱伝導性材料よ
りなるベース部を具備する半導体装置用基材を介して効
率よく外部に放熱される。即ち、半導体装置用基板を放
熱板としても用いることができるため、半導体素子の冷
却効率を向上させることができる。
Further, according to the inventions of claims 3 and 16, the heat generated in the semiconductor element is provided with the base portion made of the high heat conductive material by forming the base portion with the high heat conductive material. Heat is efficiently radiated to the outside via the semiconductor device base material. That is, since the semiconductor device substrate can also be used as a heat dissipation plate, the cooling efficiency of the semiconductor element can be improved.

【0029】また、請求項4記載の発明によれば、ベー
ス部を導電性材料により形成すると共に、ベース部とリ
ード部との間に絶縁層を形成し、かつ半導体素子とベー
ス部とを電気的に接続することにより、ベース部をリー
ド部として用いることが可能となる。従って、リード部
に加えベース部を配線として用いることができるため、
半導体素子から外部接続端子に至る配線の引回しの自由
度を向上させることができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the base portion is formed of a conductive material, an insulating layer is formed between the base portion and the lead portion, and the semiconductor element and the base portion are electrically connected. It is possible to use the base portion as a lead portion by electrically connecting them. Therefore, in addition to the lead portion, the base portion can be used as wiring,
The degree of freedom in routing the wiring from the semiconductor element to the external connection terminal can be improved.

【0030】また、ベース部は比較的大きな厚さを有し
半導体装置用基板の全体にわたり配設されているため、
その抵抗値は小さい。従って、ベース部をグラウンド配
線或いは電源配線として用いれば、より特性の良い半導
体装置を得ることができる。また、請求項5記載及び請
求項18の発明によれば、ベース部のリード部が配設さ
れる面と異なる面、即ち半導体素子が搭載される面及び
封止樹脂と接触する面に凹凸部を形成することにより、
半導体素子が搭載される面及び封止樹脂と接触する面の
表面積を増大させることができる。従って、半導体素子
とベース部との接合性及び封止樹脂とベース部との接合
性を向上させることができ、半導体素子を確実に半導体
装置用基板に固定できると共に、封止樹脂が半導体装置
用基板から剥離することを防止することができる。
Further, since the base portion has a relatively large thickness and is disposed over the entire semiconductor device substrate,
Its resistance is small. Therefore, if the base portion is used as a ground wiring or a power wiring, a semiconductor device with better characteristics can be obtained. Further, according to the invention of claims 5 and 18, the uneven portion is formed on the surface of the base portion different from the surface on which the lead portion is arranged, that is, the surface on which the semiconductor element is mounted and the surface in contact with the sealing resin. By forming
The surface area of the surface on which the semiconductor element is mounted and the surface in contact with the sealing resin can be increased. Therefore, the bondability between the semiconductor element and the base part and the bondability between the sealing resin and the base part can be improved, the semiconductor element can be reliably fixed to the semiconductor device substrate, and the sealant resin is used for the semiconductor device. It is possible to prevent peeling from the substrate.

【0031】また、請求項6記載の発明によれば、ベー
ス部を金属材料により形成したことによりベース部の吸
湿率を低下させることができ、例えば実装時に印加され
る熱により発生する水蒸気に起因した封止樹脂内におけ
るクラック発生や、また封止樹脂の半導体装置用基板か
らの剥離を防止することができ、半導体装置の信頼性を
向上させることができる。
According to the sixth aspect of the present invention, the moisture absorption rate of the base portion can be reduced by forming the base portion with a metal material. For example, it is caused by water vapor generated by heat applied during mounting. It is possible to prevent the occurrence of cracks in the encapsulating resin and the peeling of the encapsulating resin from the semiconductor device substrate, thus improving the reliability of the semiconductor device.

【0032】また、請求項7記載の発明によれば、半導
体素子と折曲部に位置するリード部とをワイヤにより接
続することにより、一般に用いられているワイヤボンデ
ィング装置を用いて半導体素子とリード部との接続を容
易に行うことができる。また、リード部は折曲部の上面
に形成されているため、半導体素子とリード部の高さの
差は小さくなっている。従って、ワイヤボンディング装
置のキャピラリの移動量を小さくでき、効率よくワイヤ
ボンディング処理を行うことができる。
Further, according to the invention of claim 7, the semiconductor element and the lead are located by using a wire bonding device which is generally used by connecting the semiconductor element and the lead portion located at the bent portion with a wire. The connection with the parts can be easily performed. Further, since the lead portion is formed on the upper surface of the bent portion, the difference in height between the semiconductor element and the lead portion is small. Therefore, the movement amount of the capillary of the wire bonding apparatus can be reduced, and the wire bonding process can be performed efficiently.

【0033】また、請求項8記載の発明によれば、基板
を折曲形成した状態で、ベース部の外周縁部に形成され
た凸部が素子搭載部と当接するよう構成したことによ
り、折曲部は凸部により素子搭載部に支持された構成と
なる。従って、ワイヤボンディング処理として超音波溶
接法を用いても、折曲部が不要な振動を発生することは
なく、確実に超音波ボンディングを行うことが可能とな
り、ワイヤボンディング処理の信頼性を向上させること
ができる。
Further, according to the invention of claim 8, since the convex portion formed on the outer peripheral edge portion of the base portion is in contact with the element mounting portion in a state where the substrate is bent and formed, The curved portion is supported by the element mounting portion by the convex portion. Therefore, even if the ultrasonic welding method is used as the wire bonding process, the bending portion does not generate unnecessary vibration, and the ultrasonic bonding can be reliably performed, thereby improving the reliability of the wire bonding process. be able to.

【0034】また、請求項9記載の発明によれば、半導
体素子と折曲部に位置するリード部とをTAB(Tape Au
tomated Bonding)ワイヤにより接続することにより、熱
圧着等の簡単な処理で半導体素子とリード部とを接続す
ることができる。また、請求項10記載の発明によれ
ば、外部接続端子としてバンプを用いることにより、本
発明に係る半導体装置をBGAタイプの半導体装置と等
価の状態で使用することが可能となる。従って、外部接
続端子の変形を考慮することなく多端子化を図ることが
でき、かつ実装性を向上させることができる。
According to the ninth aspect of the invention, the semiconductor element and the lead portion located at the bent portion are provided with TAB (Tape Au).
By connecting with a tomated bonding wire, the semiconductor element and the lead portion can be connected by a simple process such as thermocompression bonding. According to the invention of claim 10, by using the bumps as the external connection terminals, the semiconductor device according to the present invention can be used in a state equivalent to that of the BGA type semiconductor device. Therefore, the number of terminals can be increased without considering the deformation of the external connection terminals, and the mountability can be improved.

【0035】また、請求項11記載の発明によれば、基
板形成工程において折り曲げ可能なベース部にリード部
を形成することにより基板を形成し、続く基板折曲工程
において基板の周縁部をリード部が外側に位置するよう
内側に折曲形成することにより素子搭載部と折曲部とを
具備する半導体装置用基板を形成し、その後に素子搭載
工程,接続工程,樹脂封止工程,外部接続端子形成工程
を実施することにより半導体装置を製造する。
According to the eleventh aspect of the present invention, the substrate is formed by forming the lead portion on the foldable base portion in the substrate forming step, and the peripheral portion of the substrate is formed into the lead portion in the subsequent substrate bending step. Is formed so as to be located on the outside so that a semiconductor device substrate having an element mounting portion and a bending portion is formed, and thereafter, an element mounting step, a connecting step, a resin sealing step, and an external connecting terminal. A semiconductor device is manufactured by performing the forming process.

【0036】従って、基板形成工程においては、従来の
BGAタイプの半導体装置のプリント基板形成工程で必
要とされるスルーホールの形成工程,複数の基板の積層
工程等は不要となり、基板の形成を容易に行うことがで
きる。また、基板折曲工程で実施されるのは、単に基板
の周縁部をリード部材が外側に位置するよう内側に折曲
するだけの作業であるため、この基板折曲作業も容易に
行うことができる。
Therefore, in the substrate forming process, the through hole forming process, the laminating process of a plurality of substrates and the like which are required in the conventional printed circuit board forming process of the BGA type semiconductor device are not necessary, and the substrate formation is easy. Can be done. Further, since the board bending step is simply an operation of bending the peripheral portion of the board inward so that the lead member is located outside, the board bending operation can be easily performed. it can.

【0037】また、請求項12記載の発明によれば、上
記基板折曲工程において、基板をプレス加工により折曲
することにより、容易にかつ精度よく半導体装置用基板
を加工できると共に、自動化を図ることも可能で基板折
曲処理の効率化を図ることができる。
According to the twelfth aspect of the invention, in the substrate bending step, the substrate is bent by press working, so that the semiconductor device substrate can be easily and accurately processed, and automation is achieved. It is also possible to improve the efficiency of substrate bending processing.

【0038】また、請求項13記載の発明によれば、上
記基板形成工程を実施後、基板折曲工程実施前に、リー
ド整形工程を実施しリード部を所定のパターンに整形す
ることにより、基板を折曲する前の平板状状態でリード
部のパターン整形ができる。このため、パターニングを
行うためのレジスト材の配設やエッチング処理を容易に
行うことができる。
According to the thirteenth aspect of the present invention, after the substrate forming step is performed and before the substrate bending step is performed, a lead shaping step is performed to shape the lead portion into a predetermined pattern. It is possible to shape the pattern of the lead part in the flat plate state before bending. Therefore, the resist material for patterning and the etching process can be easily performed.

【0039】また、請求項14記載の発明によれば、上
記樹脂封止工程において、封止樹脂をポッティングによ
り半導体装置用基板上に装填することにより、複雑な金
型を必要とすることなく封止樹脂の充填を行うことがで
きる。また、折曲部は封止樹脂の流れ止めとしての機能
を有するため、半導体素子を確実に樹脂封止することが
できる。また、トランスファーモールドにより半導体装
置用基板上に装填することにより、生産性を向上させる
ことができる。尚、トランスファーモールドを用いる場
合においても複雑な金型を必要とするようなことはな
い。
According to the fourteenth aspect of the present invention, in the resin encapsulating step, the encapsulating resin is loaded on the semiconductor device substrate by potting, so that the encapsulating resin is sealed without requiring a complicated mold. Filling with the stop resin can be performed. Further, since the bent portion has a function as a flow stop for the sealing resin, the semiconductor element can be reliably resin-sealed. In addition, productivity can be improved by loading the semiconductor device substrate by transfer molding. Even when the transfer mold is used, a complicated mold is not required.

【0040】また、請求項15記載の発明によれば、半
導体装置用基板を折り曲げ可能なベース部と、このベー
ス部に形成されており搭載される半導体素子と電気的に
接続されるリード部とよりなる基板により構成し、かつ
周縁部にリード部が外側に位置するよう基材を折曲形成
することにより折曲部を形成した構成とすることによ
り、単に基板を折曲形成するのみでリード部を半導体素
子との接続位置より外部接続端子の形成位置まで引き出
すことが可能となる。よって、従来用いられていた多層
配線プリント基板等に比べて製品コストを低減すること
ができ、またスルーホール等の形成が面倒な電極を設け
る必要がないため容易に半導体装置用基板を製造するこ
とができる。
Further, according to the invention of claim 15, a base portion on which the semiconductor device substrate can be bent, and a lead portion formed on the base portion and electrically connected to a mounted semiconductor element are provided. The substrate is formed by bending the base material so that the lead portion is located on the outer side of the peripheral portion, and the bent portion is formed. It is possible to pull out the portion from the connection position with the semiconductor element to the formation position of the external connection terminal. Therefore, it is possible to reduce the product cost as compared with the conventionally used multilayer wiring printed circuit board and the like, and it is not necessary to provide an electrode which is troublesome to form a through hole, etc., so that a semiconductor device substrate can be easily manufactured. You can

【0041】更に、請求項17記載の発明によれば、ベ
ース部を導電性材料により形成すると共にベース部とリ
ード部との間に絶縁層を形成したことにより、ベース部
をリード部として用いることが可能となる。従って、リ
ード部に加えベース部を配線として用いることができる
ため、半導体素子から外部接続端子に至る配線の引回し
の自由度を向上させることができる。
According to the seventeenth aspect of the invention, the base portion is used as the lead portion because the base portion is made of a conductive material and the insulating layer is formed between the base portion and the lead portion. Is possible. Therefore, since the base portion can be used as the wiring in addition to the lead portion, the degree of freedom in routing the wiring from the semiconductor element to the external connection terminal can be improved.

【0042】[0042]

【発明の実施の形態】次に本発明の実施例について図面
と共に説明する。図1は本発明の第1実施例である半導
体装置20を示す断面図である。本実施例に係る半導体
装置20は、大略すると半導体素子21,外部接続端子
となる半田バンプ22,封止樹脂23(梨地で示す),
及び本発明の要部となる半導体装置用基板24等により
構成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing a semiconductor device 20 which is a first embodiment of the present invention. The semiconductor device 20 according to the present embodiment roughly includes a semiconductor element 21, a solder bump 22 that serves as an external connection terminal, a sealing resin 23 (shown by a satin finish),
And a semiconductor device substrate 24 and the like, which are essential parts of the present invention.

【0043】半導体装置用基板24は、図10及び図1
1に示される基板25を折り曲げ加工することにより形
成されるものである。また、図12及び図13は半導体
装置20に組み込まれる前の半導体装置用基板24を示
している。尚、図10は図11におけるA−A線に沿う
断面図であり、図12は図13におけるB−B線に沿う
断面図である。
The semiconductor device substrate 24 is shown in FIGS.
It is formed by bending the substrate 25 shown in FIG. 12 and 13 show a semiconductor device substrate 24 before being incorporated in the semiconductor device 20. 10 is a sectional view taken along the line AA in FIG. 11, and FIG. 12 is a sectional view taken along the line BB in FIG.

【0044】図10及び図11に示されるように、基板
25は3層構造とされており、上部よりベース部26,
絶縁層27,リード部28を順次積層した構造とされて
いる。ベース部26は、例えば熱伝導性及び折り曲げ加
工性が共に良好な銅(Cu)により形成されている。こ
のベース部26の下部に位置する絶縁層27は、例えば
ポリイミド樹脂により構成されている。また、絶縁層2
7の下部にはリード部28が形成されており、このリー
ド部28はベース部26と同様に銅(Cu)により形成
されると共に、エッチング処理を行うことにより予め所
定のパターンにパターン形成されている。
As shown in FIGS. 10 and 11, the substrate 25 has a three-layer structure, and the base portion 26,
The insulating layer 27 and the lead portion 28 are sequentially laminated. The base portion 26 is formed of, for example, copper (Cu) which has good thermal conductivity and bending workability. The insulating layer 27 located under the base portion 26 is made of, for example, a polyimide resin. In addition, the insulating layer 2
A lead portion 28 is formed in a lower portion of the lead wire 7. The lead portion 28 is formed of copper (Cu) like the base portion 26, and is patterned in advance in a predetermined pattern by performing an etching process. There is.

【0045】ベース部26の厚さは比較的厚く形成され
ており、半導体装置用基板24として必要とされる機械
的強度をこのベース部26により得る構成とされてい
る。また、リード部28は後述するように半導体素子2
1と半田バンプ22とを電気的に接続する配線として機
能するものであり、ベース部26に比べてその厚さは薄
く選定されている。また、共に導電性金属であるベース
部26とリード部28との間には絶縁部材であるポリイ
ミド樹脂よりなる絶縁層27が介装されており、この絶
縁層27によりベース部26とリード部28とは互いに
絶縁された構成となっている。また、この絶縁層27
は、ベース部26とリード部28とを接合する接合材と
しての機能も奏している。
The base portion 26 is formed to have a relatively large thickness, and the base portion 26 has a mechanical strength required for the semiconductor device substrate 24. Also, the lead portion 28 is used for the semiconductor element 2 as described later.
1 functions as a wiring that electrically connects the solder bumps 22 to each other, and the thickness thereof is selected to be smaller than that of the base portion 26. In addition, an insulating layer 27 made of a polyimide resin, which is an insulating member, is interposed between the base portion 26 and the lead portion 28, both of which are conductive metals, and the insulating layer 27 allows the base portion 26 and the lead portion 28 to be connected. And are insulated from each other. In addition, this insulating layer 27
Also functions as a joining material that joins the base portion 26 and the lead portion 28.

【0046】上記構成の基板25は、折り曲げ加工を行
う前の状態においては、図11に示されるように十字形
状となっており、四方に延出した延出部25a〜25d
を折り曲げ加工し折曲することにより図1及び図12に
示される半導体装置用基板24が形成される。この延出
部25a〜25dを折り曲げ加工するに際し、基板25
は図10に示されるように下側にリード部28が、上側
にベース部26が位置するようプレス装置に装着され、
各延出部25a〜25dを内側に(即ち、図10に矢印
Cで示す方向に)折り曲げ加工することにより折曲部2
9を形成する。
The substrate 25 having the above-described structure has a cross shape as shown in FIG. 11 before being bent, and the extending portions 25a to 25d extending in four directions are formed.
By bending and bending, the semiconductor device substrate 24 shown in FIGS. 1 and 12 is formed. When the extension portions 25a to 25d are bent, the substrate 25
Is attached to the press device so that the lead portion 28 is located on the lower side and the base portion 26 is located on the upper side, as shown in FIG.
The bent portion 2 is formed by bending the extending portions 25a to 25d inward (that is, in the direction indicated by the arrow C in FIG. 10).
9 is formed.

【0047】この折曲部29は、図1及び図12に示さ
れるように、側断面的にみて略コ字形状となるよう折曲
加工されており、よって上部30,側部31を有した構
成となっている。また、基板25の折曲加工が行われな
かった部分は、半導体素子21を搭載する素子搭載部3
2となる。
As shown in FIGS. 1 and 12, the bent portion 29 is bent so as to have a substantially U-shape when viewed from the side, and thus has an upper portion 30 and a side portion 31. It is composed. The portion of the substrate 25 where the bending process is not performed is the element mounting portion 3 on which the semiconductor element 21 is mounted.
It becomes 2.

【0048】上記の上部30は素子搭載部32と略平行
に延在する構成とされており、また側部31は素子搭載
部32に対して立設した構成とされいる。また、上記の
ように折曲部29は略コ字形状となるよう折曲加工され
ることにより、素子搭載部32と上部30との間には間
隙33が形成される。
The upper portion 30 is configured to extend substantially parallel to the element mounting portion 32, and the side portion 31 is erected on the element mounting portion 32. Further, as described above, the bending portion 29 is bent so as to have a substantially U-shape, so that a gap 33 is formed between the element mounting portion 32 and the upper portion 30.

【0049】更に、上記のように下側にリード部28
が、上側にベース部26が位置するよう基板25を配置
しその周縁部を内側に折曲加工することにより、自ずか
らリード部28は半導体装置用基板24の外周部に位置
することとなる。即ち、上記のように折曲加工を行うこ
とにより、リード部28は半導体素子21と電気的に接
続される部位となる折曲部29の上部30の上面部に位
置し、また半田バンプ22が形成される部位となる素子
搭載部32の背面(以下、実装面34という)にも位置
する構成となる。
Further, as described above, the lead portion 28 is provided on the lower side.
However, the lead portion 28 is naturally positioned on the outer peripheral portion of the semiconductor device substrate 24 by disposing the substrate 25 so that the base portion 26 is positioned on the upper side and bending the peripheral edge portion inward. That is, by performing the bending process as described above, the lead portion 28 is located on the upper surface of the upper portion 30 of the bent portion 29 which is a portion electrically connected to the semiconductor element 21, and the solder bump 22 is formed. The structure is also located on the back surface of the element mounting portion 32 (hereinafter referred to as the mounting surface 34) which is a portion to be formed.

【0050】このように、単に基板25を折曲加工する
のみで、半導体素子21と電気的に接続される部位から
半田バンプ22が形成される部位までリード部28を引
き出すことができる。従来のBGAタイプの半導体装置
11(図23参照)では、半導体素子13と半田バンプ
14とを電気的に接続するために、プリント基板12に
スルーホール16や、図23には図示されないプリント
配線を基板表面に形成する必要があった。
As described above, by simply bending the substrate 25, the lead portion 28 can be pulled out from a portion electrically connected to the semiconductor element 21 to a portion where the solder bump 22 is formed. In the conventional BGA type semiconductor device 11 (see FIG. 23), in order to electrically connect the semiconductor element 13 and the solder bump 14, a through hole 16 or a printed wiring not shown in FIG. 23 is provided in the printed circuit board 12. It had to be formed on the surface of the substrate.

【0051】しかるに、本実施例に係る半導体装置用基
板24では、多層配線プリント基板等の高価なプリント
基板を用いることなく、またスルーホール等の形成が面
倒な電極を用いることなく、単に基板25に対して折曲
加工を行うことにより半導体素子21と電気的に接続さ
れる部位から半田バンプ22が形成される部位までリー
ド部28を引き出すことができるため、容易かつ安価コ
ストで半導体装置用基板24を形成することができる。
However, in the semiconductor device substrate 24 according to the present embodiment, the substrate 25 is simply used without using an expensive printed circuit board such as a multilayer wiring printed circuit board and without using an electrode which is troublesome to form a through hole. Since the lead portion 28 can be drawn from the portion electrically connected to the semiconductor element 21 to the portion where the solder bump 22 is formed by bending the semiconductor substrate 21, the semiconductor device substrate can be easily and inexpensively manufactured. 24 can be formed.

【0052】図1に戻り、半導体装置20の構成説明を
続ける。上記構成とされた半導体装置用基板24の素子
搭載部32の上部には半導体素子21が搭載される。具
体的には、半導体素子21は例えばダイ付け材35とし
てストレスバッファー効果に優れた半田を用いて素子搭
載部32に固定されている。尚、ダイ付け材35として
は、導電性ペースト,テープ材料を用いることも可能で
ある。
Returning to FIG. 1, the description of the structure of the semiconductor device 20 will be continued. The semiconductor element 21 is mounted on the element mounting portion 32 of the semiconductor device substrate 24 configured as described above. Specifically, the semiconductor element 21 is fixed to the element mounting portion 32 by using, for example, the die attaching material 35 with solder having an excellent stress buffer effect. It is also possible to use a conductive paste or a tape material as the die attaching material 35.

【0053】素子搭載部32に搭載された半導体素子2
1と折曲部29に形成されているリード部28は、ワイ
ヤ36により電気的に接続されている。このように、半
導体素子21と折曲部29に位置するリード部28とを
ワイヤ36により接続することにより、一般に用いられ
ているワイヤボンディング装置を用いることができ、半
導体素子21とリード部28との接続を容易に行うこと
ができる。
Semiconductor element 2 mounted on element mounting portion 32
1 and the lead portion 28 formed on the bent portion 29 are electrically connected by a wire 36. In this way, by connecting the semiconductor element 21 and the lead portion 28 located at the bent portion 29 with the wire 36, a commonly used wire bonding apparatus can be used, and the semiconductor element 21 and the lead portion 28 can be connected. Can be easily connected.

【0054】また、上記のようにリード部28は折曲部
29の上面に形成されているため、半導体素子21とリ
ード部28の高さは略等しくなっており、従ってワイヤ
ボンディング装置のキャピラリの移動量を小さくでき効
率よくワイヤボンディング処理を行うことができる。
Further, since the lead portion 28 is formed on the upper surface of the bent portion 29 as described above, the heights of the semiconductor element 21 and the lead portion 28 are substantially equal to each other, and therefore the capillary of the wire bonding apparatus is The amount of movement can be reduced and the wire bonding process can be performed efficiently.

【0055】半田バンプ22は、半導体装置用基板24
の実装面34に多数個配設されている。この半田バンプ
22は、実装面34にパターン形成されているリード部
28に夫々接続されており、よって半導体素子21はワ
イヤ36及びリード部28を介して半田バンプ22に電
気的に接続された構成となる。
The solder bumps 22 are formed on the semiconductor device substrate 24.
A large number of them are arranged on the mounting surface 34. The solder bumps 22 are respectively connected to the lead portions 28 that are patterned on the mounting surface 34, so that the semiconductor element 21 is electrically connected to the solder bumps 22 through the wires 36 and the lead portions 28. Becomes

【0056】封止樹脂23は、半導体素子21を封止
し、外界に対して保護するために設けられる。この封止
樹脂23は、後述するように、ポッティング(またはト
ランスファーモールド)により半導体装置用基板24の
上面に充填される。前記したように、半導体装置用基板
24には折曲部29を形成することにより上部30と素
子搭載部32との間に間隙33が形成されている。従っ
て、封止樹脂23はポッティングされることにより、こ
の間隙33内にも充填される。
The sealing resin 23 is provided to seal the semiconductor element 21 and protect it from the outside. The sealing resin 23 is filled on the upper surface of the semiconductor device substrate 24 by potting (or transfer molding) as described later. As described above, by forming the bent portion 29 on the semiconductor device substrate 24, the gap 33 is formed between the upper portion 30 and the element mounting portion 32. Therefore, the sealing resin 23 is also filled in the gap 33 by potting.

【0057】このように、間隙33内にも封止樹脂23
が充填されることにより、間隙33内の封止樹脂23は
アンカー効果を発生し、封止樹脂23と半導体装置用基
板24との機械的接合強度は向上する。このため、封止
樹脂23が半導体装置用基板24から剥離することを防
止でき、よって半導体装置20の信頼性を向上させるこ
とができる。また、折曲部29は樹脂の流れ止めとして
の機能も有しているため、半導体素子21を半導体装置
用基板24内に確実に樹脂封止することができる。
As described above, the sealing resin 23 is also provided in the gap 33.
Is filled, the sealing resin 23 in the gap 33 produces an anchor effect, and the mechanical bonding strength between the sealing resin 23 and the semiconductor device substrate 24 is improved. Therefore, the sealing resin 23 can be prevented from peeling off from the semiconductor device substrate 24, and thus the reliability of the semiconductor device 20 can be improved. Further, since the bent portion 29 also has a function as a resin flow stop, the semiconductor element 21 can be reliably resin-sealed in the semiconductor device substrate 24.

【0058】上記構成とされた半導体装置20は、半導
体装置用基板24の大なる部分を占めるベース部26が
金属材料である銅(Cu)により形成されているため、
ベース部26(換言すれば半導体装置用基板24)の吸
湿率を低下させることができる。
In the semiconductor device 20 having the above structure, the base portion 26 occupying most of the semiconductor device substrate 24 is formed of copper (Cu) which is a metal material.
The moisture absorption rate of the base portion 26 (in other words, the semiconductor device substrate 24) can be reduced.

【0059】よって、半導体装置20を実装基板37
(図9参照)に実装する際、半田バンプ22を実装基板
37に形成された電極部38に接続するために加熱処理
を行った場合においても、半導体装置用基板24は吸湿
率が低いため、この熱により水蒸気が発生するようなこ
とはない。これにより、封止樹脂23内におけるクラッ
ク発生や、また封止樹脂23の半導体装置用基板24か
らの剥離を防止することができ、半導体装置20の信頼
性を向上させることができる。
Therefore, the semiconductor device 20 is mounted on the mounting substrate 37.
Since the semiconductor device substrate 24 has a low moisture absorption rate even when a heat treatment is performed to connect the solder bumps 22 to the electrode portions 38 formed on the mounting substrate 37 during mounting (see FIG. 9), This heat does not generate steam. Accordingly, it is possible to prevent cracks in the sealing resin 23 and peeling of the sealing resin 23 from the semiconductor device substrate 24, and it is possible to improve the reliability of the semiconductor device 20.

【0060】また、上記のようにベース部26は熱伝導
性の良好な銅(Cu)により形成されているため、半導
体素子21で発生した熱は高熱伝導性材料よりなるベー
ス部26を具備する半導体装置用基材24を介して効率
よく外部に放熱される。また、半導体装置用基材24は
封止樹脂23が配設された部位を除き、他の部分は外部
に露出した構成とされている。従って、半導体装置用基
材24の放熱効率は高く、半導体装置用基板24を放熱
板としても用いることができるため、半導体素子21の
冷却を効率よく行うことができる。
Since the base portion 26 is formed of copper (Cu) having good thermal conductivity as described above, the heat generated in the semiconductor element 21 is provided with the base portion 26 made of a highly heat conductive material. Heat is efficiently radiated to the outside through the semiconductor device base material 24. Further, the semiconductor device base material 24 is configured to be exposed to the outside except for the portion where the sealing resin 23 is provided. Therefore, the heat dissipation efficiency of the semiconductor device base material 24 is high and the semiconductor device substrate 24 can be used as a heat dissipation plate, so that the semiconductor element 21 can be efficiently cooled.

【0061】また、半導体装置20は、基板25の周縁
部を内側に折曲加工して折曲部29を形成した構成であ
るため、折曲部29と素子搭載部32に搭載された半導
体素子21とは近接した構成となっている。即ち、半導
体装置用基材24の形状を半導体素子21の形状に近づ
けることができ、よって半導体装置20の小型化を図る
こともできる。
Further, since the semiconductor device 20 has a configuration in which the peripheral portion of the substrate 25 is bent inward to form the bent portion 29, the semiconductor element mounted on the bent portion 29 and the element mounting portion 32 is formed. It has a structure close to 21. That is, the shape of the semiconductor device base material 24 can be made close to the shape of the semiconductor element 21, so that the size of the semiconductor device 20 can be reduced.

【0062】更に、上記構成とされた半導体装置20
は、外部接続端子として半田バンプ22を用いており、
この半田バンプ22は半導体装置用基板24の底部に位
置する実装面34に配設されているため、半導体装置2
0をBGAタイプの半導体装置と等価の状態で使用する
ことが可能となる。従って、外部接続端子の変形を考慮
することなく多端子化を図ることができると共に、実装
性を向上させることができる。
Further, the semiconductor device 20 having the above structure
Uses solder bumps 22 as external connection terminals,
Since the solder bumps 22 are disposed on the mounting surface 34 located at the bottom of the semiconductor device substrate 24, the semiconductor device 2
It is possible to use 0 in a state equivalent to that of a BGA type semiconductor device. Therefore, the number of terminals can be increased without considering the deformation of the external connection terminals, and the mountability can be improved.

【0063】図9は、上記構成とされた半導体装置20
を実装基板37に実装した状態を示す概略構成図であ
る。前記したように、実装基板37の表面には多数の電
極部38が形成されており、この電極部38に半導体装
置20の半田バンプ22は接合される。
FIG. 9 shows a semiconductor device 20 having the above structure.
It is a schematic block diagram which shows the state which mounted on the mounting substrate 37. As described above, many electrode parts 38 are formed on the surface of the mounting substrate 37, and the solder bumps 22 of the semiconductor device 20 are bonded to the electrode parts 38.

【0064】半田バンプ22は、半導体装置用基材24
の実装面34に二次元的に多数配設されるものであり、
従って半導体装置20を実装基板37に実装した状態で
は、実装面34の中央位置(内側に入り込んだ位置)に
設けられた半田バンプ22については、この半田バンプ
22が実装基板37の電極部38に確実に接続されたか
どうかを検査(実装検査)するのは困難である。
The solder bumps 22 are used as the semiconductor device base material 24.
A large number of two-dimensionally arranged on the mounting surface 34 of
Therefore, in the state where the semiconductor device 20 is mounted on the mounting board 37, the solder bumps 22 provided at the central positions (positions inside the mounting surface) of the mounting surface 34 are attached to the electrode parts 38 of the mounting board 37. It is difficult to inspect whether the connection has been made surely (mounting inspection).

【0065】しかるに、本実施例に係る半導体装置20
では、半導体装置用基材24に形成された折曲部29の
側部31にリード部28が配設されており、この側部3
1に位置するリード部28は外部に露出した構成となっ
ている。また、この側部31に位置するリード部28は
半田バンプ22と電気的に接続している。
However, the semiconductor device 20 according to the present embodiment.
Then, the lead portion 28 is disposed on the side portion 31 of the bent portion 29 formed on the semiconductor device base material 24.
The lead portion 28 located at 1 is exposed to the outside. The lead portion 28 located on the side portion 31 is electrically connected to the solder bump 22.

【0066】従って、半田バンプ22が適正に実装基板
37の電極部38と接続されている場合には、当然にリ
ード部28も電極部38と電気的に接続されているはず
である。よって、折曲部29の側部31に位置するリー
ド部28と、実装基板37の電極部38とが導通してい
るかどうかを検査することにより実装検査を行うことが
できる。
Therefore, when the solder bumps 22 are properly connected to the electrode portions 38 of the mounting substrate 37, the lead portions 28 should be electrically connected to the electrode portions 38 as a matter of course. Therefore, the mounting inspection can be performed by inspecting whether the lead portion 28 located on the side portion 31 of the bent portion 29 and the electrode portion 38 of the mounting substrate 37 are electrically connected.

【0067】具体的には、図9における半田バンプ22
-1(図では半田バンプ22-1は外側に位置しているが、
内側に位置する半田バンプ22についても同様である)
が実装基板37の電極部38-1と接続されるものと仮定
すると、半田バンプ22-1と電極部38-1とが適正に接
続されているかどうかを検査するには、半田バンプ22
-1に接続されているリード部28-1と電極部38-1とに
夫々検査用プローブを接続し、リード部28-1と電極部
38-1とが導通されているかどうかをテスター等を用い
て検査する。
Specifically, the solder bump 22 shown in FIG.
-1 (in the figure, the solder bump 22-1 is located outside,
The same applies to the solder bumps 22 located inside).
Assuming that the solder bumps 22-1 and the electrode portions 38-1 are properly connected, the solder bumps 22-1 and
-1 is connected to each of the lead portion 28-1 and the electrode portion 38-1 with an inspection probe, and a tester or the like is used to check whether or not the lead portion 28-1 and the electrode portion 38-1 are electrically connected. To inspect.

【0068】図9に示されるように、リード部28-1と
電極部38-1とは、共に外部に露出した状態となってい
るため、容易に検査用プローブを接続することができ
る。よって、半導体装置20を実装基板37に実装し半
田バンプ22を実装基板37の電極部38に接続した状
態において実装検査を行うことが可能となり、この試験
結果に基づき補修処理を行うことができるため、実装の
歩留り及び信頼性を向上させることができる。
As shown in FIG. 9, since the lead portion 28-1 and the electrode portion 38-1 are both exposed to the outside, the inspection probe can be easily connected. Therefore, the mounting inspection can be performed in a state where the semiconductor device 20 is mounted on the mounting substrate 37 and the solder bumps 22 are connected to the electrode portions 38 of the mounting substrate 37, and the repair process can be performed based on the test result. The mounting yield and reliability can be improved.

【0069】また、図9に示される例においては、折曲
部29の側部31に位置するリード部28は上下にわた
り同一幅寸法とされており、検査用プローブを接続しに
くい構成であった。しかるに、図16に示される半導体
装置20Aのように、リード部28に幅広のランド部3
9を設けることにより、実装検査を容易に行うことがで
きる。また、ランド部39を千鳥状に配設することによ
り、リード部28の配設ピッチを狭く維持しつつランド
部39を形成することができる。
Further, in the example shown in FIG. 9, the lead portion 28 located on the side portion 31 of the bent portion 29 has the same width dimension in the vertical direction, which makes it difficult to connect the inspection probe. . However, as in the semiconductor device 20A shown in FIG. 16, the wide land portion 3 is formed on the lead portion 28.
By providing 9, the mounting inspection can be easily performed. Further, by arranging the land portions 39 in a zigzag manner, it is possible to form the land portions 39 while keeping the arrangement pitch of the lead portions 28 narrow.

【0070】図17及び図18は、上記した半導体装置
20の変形例である半導体装置20B,20Cを示して
いる。尚、図17及び図18において、図1に示した構
成と同一構成については同一符号を附してその説明を省
略する。図17に示す第1変形例に係る半導体装置20
Bは、半導体装置用基板24Aの折曲部29Aを湾曲状
に折曲形成すると共に、封止樹脂23Aを半導体装置用
基板24Aの外側位置まで配設する構成としたことを特
徴とするものである。
17 and 18 show semiconductor devices 20B and 20C which are modified examples of the semiconductor device 20 described above. 17 and 18, the same components as those shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. A semiconductor device 20 according to the first modification shown in FIG.
B is characterized in that the bent portion 29A of the semiconductor device substrate 24A is bent and formed, and the sealing resin 23A is disposed up to the outside position of the semiconductor device substrate 24A. is there.

【0071】前記した図1に示す半導体装置20では、
半導体装置用基板24Aの折曲部29を直角に2回折曲
形成した構成とされていた。しかるに、折曲部29にあ
るリード28を直角に形成したことにより、伸び率の限
界を越えて亀裂,断線をする可能性がある。そこで、本
変形例のように折曲部29Aを伸び率の限界を越えない
程度の湾曲状に形成し、また半導体装置の厚さを薄くす
る為に折曲部29に直線部を設けず1回で180度形成
した構成とし加工性を向上させたものである。
In the semiconductor device 20 shown in FIG.
The bent portion 29 of the semiconductor device substrate 24A is formed to be bent twice at a right angle. However, since the lead 28 in the bent portion 29 is formed at a right angle, there is a possibility of cracking or disconnection beyond the limit of elongation. Therefore, as in this modification, the bent portion 29A is formed in a curved shape that does not exceed the limit of the elongation rate, and the bent portion 29 is not provided with a straight line portion in order to reduce the thickness of the semiconductor device. It has a structure in which it is formed 180 degrees at one time to improve workability.

【0072】また、封止樹脂23Aを半導体装置用基板
24Aの外側位置まで配設する構成とすることにより、
封止樹脂23Aをモールドする際に、半導体装置用基板
24Aを直接モールド金型に当接させる必要がなくな
る。半導体装置用基板24Aを直接モールド金型に当接
させ封止樹脂23Aをモールドする図1に示す構成で
は、モールド時における加熱により半導体装置用基板2
4Aが熱膨張し、これに起因して相対的に折り曲げ部2
9がモールド金型に押圧されて変形し、半導体装置20
の製造歩留りが悪化してしまうことが考えられる。
Further, the sealing resin 23A is arranged up to the outer side position of the semiconductor device substrate 24A.
It is not necessary to directly contact the semiconductor device substrate 24A with the molding die when molding the sealing resin 23A. In the configuration shown in FIG. 1 in which the semiconductor device substrate 24A is brought into direct contact with the molding die and the sealing resin 23A is molded, the semiconductor device substrate 2 is heated by heating during molding.
4A thermally expands, and due to this, the bent portion 2 relatively
9 is pressed by the molding die to be deformed, and the semiconductor device 20
It is conceivable that the manufacturing yield of will deteriorate.

【0073】しかるに、本変形例のように半導体装置用
基板24Aを直接モールド金型に当接させることなく封
止樹脂23Aをモールドする構成とすることにより、モ
ールド時における半導体装置用基板24Aの変形を抑制
することができ、よって半導体装置20Bの製造歩留り
を向上させることができる。また、側部においてリード
部28は完全に封止樹脂23A内に埋設された状態とな
るため、側部位置におけるリード部28の損傷を防止す
ることもできる。
However, the semiconductor device substrate 24A is deformed at the time of molding by molding the sealing resin 23A without directly contacting the semiconductor device substrate 24A with the molding die as in this modification. Therefore, the manufacturing yield of the semiconductor device 20B can be improved. Further, since the lead portion 28 is completely embedded in the sealing resin 23A at the side portion, it is possible to prevent the lead portion 28 from being damaged at the side portion.

【0074】また、図18に示す第2変形例に係る半導
体装置20Cは、半導体装置用基板24Aの折曲部29
Aを湾曲状に折曲形成すると共に、封止樹脂23Aを半
導体装置用基板24Aの上部30(上記のように折曲部
29Aの一部を構成する)の途中位置まで配設する構成
としたことを特徴とするものである。
The semiconductor device 20C according to the second modification shown in FIG. 18 has a bent portion 29 of the semiconductor device substrate 24A.
A is bent in a curved shape, and the sealing resin 23A is arranged up to an intermediate position of the upper portion 30 of the semiconductor device substrate 24A (which constitutes a part of the bent portion 29A as described above). It is characterized by that.

【0075】本変形例においても、折曲部29Aは湾曲
状に折曲形成されているため折曲工程を容易に行うこと
ができる。また、封止樹脂23Aを半導体装置用基板2
4Aの上部30途中位置まで配設する構成としたことに
より、モールド工程において半導体装置用基板24Aを
装着するモールド金型は、折曲部29Aが装着する凹部
を有したキャビティ構造となる。即ち、半導体装置用基
板24Aをモールド金型に装着した状態において、折曲
部29はモールド金型に形成された凹部に保持された構
成となる。
Also in this modification, since the bent portion 29A is bent in a curved shape, the bending process can be easily performed. In addition, the sealing resin 23A is applied to the semiconductor device substrate 2
By arranging the upper part 30 of 4A up to an intermediate position, the molding die for mounting the semiconductor device substrate 24A in the molding step has a cavity structure having a concave portion for mounting the bent portion 29A. That is, when the semiconductor device substrate 24A is mounted on the molding die, the bent portion 29 is held in the recess formed in the molding die.

【0076】従って、モールド工程において樹脂封止が
行われ、これに伴い熱が半導体装置用基板24Aに印加
されても、折曲部29はその全体が上記した凹部に保持
された構成であるためその形状が変形することはない。
よって、本変形例の構成とすることによっても半導体装
置用基板24Aの変形を抑制することができ、よって半
導体装置20Cの製造歩留りを向上させることができ
る。また、本変形例に係る半導体装置20Cでは、使用
する封止樹脂23Bの量が低減するため、製品コストの
低減を図ることも可能となる。更に、半導体装置20C
は、半導体装置20Bに対し、平面的寸法を小さくでき
る、放熱性がよい、また折曲部29Aに形成されている
リード部と実装基板の電極部との間で実装検査が可能と
なる等の利点を有する。
Therefore, even if heat is applied to the semiconductor device substrate 24A along with resin sealing in the molding process, the entire bent portion 29 is held in the above-mentioned recess. Its shape does not change.
Therefore, by adopting the configuration of this modification, the deformation of the semiconductor device substrate 24A can be suppressed, and thus the manufacturing yield of the semiconductor device 20C can be improved. Further, in the semiconductor device 20C according to the present modification, the amount of the sealing resin 23B used is reduced, so that it is possible to reduce the product cost. Furthermore, the semiconductor device 20C
Is smaller than the semiconductor device 20B in plan view, has good heat dissipation, and enables mounting inspection between the lead portion formed in the bent portion 29A and the electrode portion of the mounting substrate. Have advantages.

【0077】図2は本発明の第2実施例である半導体装
置40を示している。尚、以下説明する各実施例におい
て、図1に示した第1実施例に係る半導体装置20と同
一構成については同一符号を付してその説明を省略す
る。本実施例に係る半導体装置40は、半導体素子21
と折曲部29に位置するリード部28とをTAB(Tape
Automated Bonding)ワイヤ41により接続したことを特
徴とするものである。TABワイヤ41は樹脂フィルム
に配線パターンを形成した構成とされており、半導体素
子21及びリード部28にバンプ42を用いて接続され
ることにより半導体素子21とリード部28とを電気的
に接続する。
FIG. 2 shows a semiconductor device 40 which is a second embodiment of the present invention. In each embodiment described below, the same components as those of the semiconductor device 20 according to the first embodiment shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. The semiconductor device 40 according to the present embodiment includes the semiconductor element 21.
And the lead portion 28 located at the bent portion 29 with TAB (Tape
Automated Bonding) Wire 41 is used for connection. The TAB wire 41 has a structure in which a wiring pattern is formed on a resin film, and is electrically connected to the semiconductor element 21 and the lead portion 28 by being connected to the semiconductor element 21 and the lead portion 28 using bumps 42. .

【0078】このように、半導体素子21と折曲部29
に位置するリード部28とをTABワイヤ41により接
続することにより、熱圧着等の簡単な処理で半導体素子
21とリード部28とを接続することができる。また、
TAB方式は、自動化に適しており、また樹脂フィルム
に配設される配線パターンを狭ピッチ化できるため、特
に高密度化され端子数が多い半導体素子21に用いて効
果が大である。
Thus, the semiconductor element 21 and the bent portion 29 are
By connecting the lead portion 28 located at the position 1 with the TAB wire 41, the semiconductor element 21 and the lead portion 28 can be connected by a simple process such as thermocompression bonding. Also,
The TAB method is suitable for automation and can reduce the pitch of the wiring pattern arranged on the resin film. Therefore, the TAB method is particularly effective when used for the semiconductor element 21 having a high density and a large number of terminals.

【0079】図19及び図20は、上記した半導体装置
40の変形例である半導体装置40A,40Bを示して
いる。尚、図19及び図20において、前記した図2及
び図17及び図18に示した構成と同一構成については
同一符号を附してその説明を省略する。
19 and 20 show semiconductor devices 40A and 40B which are modified examples of the semiconductor device 40 described above. 19 and 20, the same components as those shown in FIGS. 2 and 17 and 18 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0080】図19に示す第1変形例に係る半導体装置
40Aは、図17に示した半導体装置20Bと同様に、
半導体装置用基板24Aの折曲部29Aを湾曲状に折曲
形成すると共に、封止樹脂23Aを半導体装置用基板2
4Aの外側位置まで配設する構成としたことを特徴とす
るものである。
The semiconductor device 40A according to the first modification shown in FIG. 19 is similar to the semiconductor device 20B shown in FIG.
The bent portion 29A of the semiconductor device substrate 24A is bent and formed, and the sealing resin 23A is applied to the semiconductor device substrate 2
It is characterized in that it is arranged up to an outer position of 4A.

【0081】よって、本変形例に係る半導体装置40A
によっても、折曲部29Aの折曲工程を容易に行うこと
ができる。また、封止樹脂23Aを半導体装置用基板2
4Aの外側位置まで配設する構成とすることにより、モ
ールド時における半導体装置用基板24Aの変形を抑制
することができ、よって半導体装置40Aの製造歩留り
を向上させることができる。また、側部位置におけるリ
ード部28の損傷を防止することもできる。
Therefore, the semiconductor device 40A according to the present modification.
Also, the bending process of the bent portion 29A can be easily performed. In addition, the sealing resin 23A is applied to the semiconductor device substrate 2
By arranging up to the position outside 4A, it is possible to suppress deformation of the semiconductor device substrate 24A during molding, and thus it is possible to improve the manufacturing yield of the semiconductor device 40A. Further, it is possible to prevent the lead portion 28 from being damaged at the side position.

【0082】また、図20に示す第2変形例に係る半導
体装置40Bは、図18に示した半導体装置20Cと同
様に、半導体装置用基板24Aの折曲部29Aを湾曲状
に折曲形成すると共に、封止樹脂23Aを半導体装置用
基板24Aの上部30途中位置まで配設する構成とした
ことを特徴とするものである。
In the semiconductor device 40B according to the second modification shown in FIG. 20, the bent portion 29A of the semiconductor device substrate 24A is bent and formed in the same manner as the semiconductor device 20C shown in FIG. At the same time, the sealing resin 23A is arranged up to the middle of the upper portion 30 of the semiconductor device substrate 24A.

【0083】よって、本変形例においても折曲部29A
は湾曲状に折曲形成されているため折曲工程を容易に行
うことができる。また、封止樹脂23Aを半導体装置用
基板24Aの上部30途中位置まで配設する構成とした
ことにより、半導体装置用基板24Aの変形を抑制する
ことができ、よって半導体装置40Bの製造歩留りを向
上させることができる。また、使用する封止樹脂23B
の量が低減するため、製品コストの低減を図ることも可
能となる。
Therefore, the bent portion 29A is also used in this modification.
Since it is bent in a curved shape, the bending process can be easily performed. In addition, by disposing the sealing resin 23A up to an intermediate position of the upper portion 30 of the semiconductor device substrate 24A, it is possible to suppress the deformation of the semiconductor device substrate 24A, thus improving the manufacturing yield of the semiconductor device 40B. Can be made. Also, the sealing resin 23B used
Since the amount of the product is reduced, it is possible to reduce the product cost.

【0084】図3は本発明の第3実施例である半導体装
置50を示している。本実施例に係る半導体装置50
は、折曲部29の上部30と素子搭載部32との間にベ
ース部26と一体化された凸部51を形成し、この凸部
51により折曲部29の上部30が素子搭載部32上に
支持される構成とした半導体装置用基板52を用いたこ
とを特徴とするものである。
FIG. 3 shows a semiconductor device 50 which is a third embodiment of the present invention. Semiconductor device 50 according to the present embodiment
Forms a convex portion 51 integrated with the base portion 26 between the upper portion 30 of the bent portion 29 and the element mounting portion 32, and the convex portion 51 causes the upper portion 30 of the bent portion 29 to move to the element mounting portion 32. The semiconductor device substrate 52 configured to be supported above is used.

【0085】本実施例に用いられる半導体装置用基板5
2は、図4に示される基板53を折曲加工することによ
り形成される。基板53の外周縁部には上方に向け突出
した凸部51が形成されている。この凸部51が形成さ
れた構成の基板53の周縁部を略コ字状に折曲加工する
ことにより、図3に示される半導体装置用基板52を形
成することができる。
Semiconductor device substrate 5 used in this embodiment
2 is formed by bending the substrate 53 shown in FIG. A convex portion 51 protruding upward is formed on the outer peripheral edge portion of the substrate 53. The semiconductor device substrate 52 shown in FIG. 3 can be formed by bending the peripheral portion of the substrate 53 having the protrusions 51 formed into a substantially U-shape.

【0086】上記構成とされた半導体装置50では、基
板53を折曲形成した状態でベース部26の外周縁部に
形成された凸部51が素子搭載部32と当接するよう構
成されており、よって折曲部29(特に上部30)は凸
部51により素子搭載部32に支持された構成となる。
In the semiconductor device 50 having the above structure, the convex portion 51 formed on the outer peripheral edge of the base portion 26 is in contact with the element mounting portion 32 in a state where the substrate 53 is bent and formed. Therefore, the bent portion 29 (particularly the upper portion 30) is supported by the element mounting portion 32 by the convex portion 51.

【0087】従って、ワイヤ36を半導体素子21及び
リード部28に接続するワイヤボンディング処理法とし
て超音波溶接法を用いても、折曲部29が印加される超
音波により振動することを防止できる。第1実施例で示
した構成の半導体装置20では、折曲部29の上部30
は片持ち梁状態となっており、ワイヤ6の接続位置にワ
イヤ溶接のために超音波振動子を当接しても折曲部29
は振動してしまい超音波溶接ができなくなってしまう。
Therefore, even if the ultrasonic welding method is used as the wire bonding processing method for connecting the wire 36 to the semiconductor element 21 and the lead portion 28, it is possible to prevent the bent portion 29 from vibrating due to the ultrasonic waves applied. In the semiconductor device 20 having the configuration shown in the first embodiment, the upper portion 30 of the bent portion 29 is
Is in a cantilever state, and even if an ultrasonic transducer is brought into contact with the connecting position of the wire 6 for wire welding, the bent portion 29
Will vibrate and ultrasonic welding will not be possible.

【0088】しかるに、本実施例のように凸部51を設
けることにより、折曲部29(特に上部30)は凸部5
1により素子搭載部32に支持されるため、折曲部29
に振動が発生するのを防止でき、確実に超音波ボンディ
ングを行うことが可能となる。よって、ワイヤボンディ
ング処理の信頼性を向上させることができる。
However, by providing the convex portion 51 as in the present embodiment, the bent portion 29 (particularly the upper portion 30) has the convex portion 5.
The bent portion 29 is supported by the element mounting portion 32 by 1.
It is possible to prevent the occurrence of vibrations on the surface and reliably perform ultrasonic bonding. Therefore, the reliability of the wire bonding process can be improved.

【0089】図5は本発明の第4実施例である半導体装
置60を示している。同図に示す半導体装置60は、半
導体装置用基板61 を構成するベース部26のリード部
28が配設される面と異なる面、即ち半導体素子21が
搭載される素子搭載部32及び封止樹脂23が接触する
面に凹凸部(以下、ディンプルという)62を形成した
ことを特徴とするものである。このディンプル62は、
基板25の折曲加工時に一括的にプレスにより形成して
もよく、また基板25が平板状の時にポンチ,エッチン
グ等を用いて形成してもよい。尚、本実施例において
は、ディンプル62として半球状の凹部を形成した例を
示しているが、ディンプル62の形状はこれに限定され
るものではない。
FIG. 5 shows a semiconductor device 60 which is a fourth embodiment of the present invention. The semiconductor device 60 shown in the figure has a surface different from the surface on which the lead portion 28 of the base portion 26 constituting the semiconductor device substrate 61 is arranged, that is, the element mounting portion 32 on which the semiconductor element 21 is mounted and the sealing resin. An uneven portion (hereinafter referred to as dimple) 62 is formed on the surface with which 23 contacts. This dimple 62 is
When the substrate 25 is bent, it may be collectively formed by pressing, or when the substrate 25 is flat, it may be formed by punching, etching, or the like. In addition, in this embodiment, an example in which a hemispherical concave portion is formed as the dimple 62 is shown, but the shape of the dimple 62 is not limited to this.

【0090】上記のように、素子搭載部32及び封止樹
脂23が接触する面にディンプル62を形成することに
より、素子搭載部32及び封止樹脂23が接触する面の
表面積を増大させることができる。従って、半導体素子
21と素子搭載部32(ベース部26)との接合性、及
び封止樹脂23とベース部26との接合性を共に向上さ
せることができ、半導体素子21を確実に半導体装置用
基板61に固定できると共に、封止樹脂23が半導体装
置用基板61から剥離することを防止することができ、
半導体装置60の信頼性を向上させることができる。図
21及び図22は、上記した半導体装置60の変形例で
ある半導体装置60A,60Bを示している。尚、図2
1及び図22において、前記した図5及び図17及び図
18に示した構成と同一構成については同一符号を附し
てその説明を省略する。
As described above, by forming the dimples 62 on the surface where the element mounting portion 32 and the sealing resin 23 contact, it is possible to increase the surface area of the surface where the element mounting portion 32 and the sealing resin 23 contact. it can. Therefore, the bondability between the semiconductor element 21 and the element mounting portion 32 (base portion 26) and the bondability between the sealing resin 23 and the base portion 26 can both be improved, and the semiconductor element 21 can be reliably used for semiconductor devices. It can be fixed to the substrate 61, and at the same time, the sealing resin 23 can be prevented from peeling from the semiconductor device substrate 61.
The reliability of the semiconductor device 60 can be improved. 21 and 22 show semiconductor devices 60A and 60B which are modified examples of the semiconductor device 60 described above. Incidentally, FIG.
1 and FIG. 22, the same components as those shown in FIG. 5, FIG. 17, and FIG.

【0091】図21に示す第1変形例に係る半導体装置
60Aは、図17に示した半導体装置20Bと同様に、
半導体装置用基板61Aの折曲部29Aを湾曲状に折曲
形成すると共に、封止樹脂23Aを半導体装置用基板6
1Aの外側位置まで配設する構成としたことを特徴とす
るものである。
The semiconductor device 60A according to the first modification shown in FIG. 21 is similar to the semiconductor device 20B shown in FIG.
The bent portion 29A of the semiconductor device substrate 61A is bent and formed, and the sealing resin 23A is applied to the semiconductor device substrate 6 as well.
It is characterized in that it is arranged up to an outer position of 1A.

【0092】よって、本変形例に係る半導体装置60A
によっても、折曲部29Aの折曲工程を容易に行うこと
ができる。また、封止樹脂23Aを半導体装置用基板6
1Aの外側位置まで配設する構成とすることにより、モ
ールド時における半導体装置用基板61Aの変形を抑制
することができ、よって半導体装置60Aの製造歩留り
を向上させることができる。また、側部位置におけるリ
ード部28の損傷を防止することもできる。
Therefore, the semiconductor device 60A according to the present modification.
Also, the bending process of the bent portion 29A can be easily performed. In addition, the sealing resin 23A is applied to the semiconductor device substrate 6
By disposing the semiconductor device substrate 61A up to the outer side position of 1A, deformation of the semiconductor device substrate 61A during molding can be suppressed, and thus the manufacturing yield of the semiconductor device 60A can be improved. Further, it is possible to prevent the lead portion 28 from being damaged at the side position.

【0093】また、図22に示す第2変形例に係る半導
体装置60Bは、図18に示した半導体装置20Cと同
様に、半導体装置用基板61Aの折曲部29Aを湾曲状
に折曲形成すると共に、封止樹脂23Aを半導体装置用
基板61Aの上部30途中位置まで配設する構成とした
ことを特徴とするものである。
In the semiconductor device 60B according to the second modification shown in FIG. 22, the bent portion 29A of the semiconductor device substrate 61A is bent and formed in the same manner as the semiconductor device 20C shown in FIG. At the same time, the sealing resin 23A is arranged up to a midway position of the upper portion 30 of the semiconductor device substrate 61A.

【0094】よって、本変形例においても折曲部29A
は湾曲状に折曲形成されているため折曲工程を容易に行
うことができる。また、封止樹脂23Aを半導体装置用
基板61Aの上部30途中位置まで配設する構成とした
ことにより、半導体装置用基板61Aの変形を抑制する
ことができ、よって半導体装置60Bの製造歩留りを向
上させることができる。また、使用する封止樹脂23B
の量が低減するため、製品コストの低減を図ることも可
能となる。
Therefore, also in this modification, the bent portion 29A is formed.
Since it is bent in a curved shape, the bending process can be easily performed. In addition, by disposing the sealing resin 23A up to the middle of the upper portion 30 of the semiconductor device substrate 61A, it is possible to suppress the deformation of the semiconductor device substrate 61A, thereby improving the manufacturing yield of the semiconductor device 60B. Can be made. Also, the sealing resin 23B used
Since the amount of the product is reduced, it is possible to reduce the product cost.

【0095】図6は本発明の第5実施例である半導体装
置70を示している。本実施例に係る半導体装置70
は、半導体装置用基板71に設けられている銅(Cu)
により形成されたベース部26を、リード部材として積
極的に利用したことを特徴とするものである。このた
め、折曲部29の一部分は絶縁層27及びリード部28
が取り除かれてベース接続部72,73が形成されてい
る。ベース接続部72においてはベース部26とリード
28との間にワイヤ74が配設されており、ベース接続
部72においては半導体素子21とベース部26との間
にワイヤ75が配設されている。
FIG. 6 shows a semiconductor device 70 which is a fifth embodiment of the present invention. Semiconductor device 70 according to the present embodiment
Is copper (Cu) provided on the semiconductor device substrate 71.
The base portion 26 formed by the above is positively used as a lead member. Therefore, a part of the bent portion 29 is partially covered with the insulating layer 27 and the lead portion 28.
Are removed to form base connecting portions 72 and 73. A wire 74 is disposed between the base portion 26 and the lead 28 in the base connecting portion 72, and a wire 75 is disposed between the semiconductor element 21 and the base portion 26 in the base connecting portion 72. .

【0096】上記のように、ベース部26を導電性材料
(本実施例では銅)により形成し、ベース部26とリー
ド部28との間に絶縁層27を形成することによりベー
ス部26とリード部28とを絶縁した上で、半導体素子
21とベース部26とを電気的に接続することにより、
ベース部26をリード部材として用いることが可能とな
る。従って、リード部28に加えベース部26を配線と
して用いることができるため、半導体素子21から半田
バンプ22に至る配線の引回しの自由度を向上させるこ
とができる。
As described above, the base portion 26 is formed of a conductive material (copper in this embodiment), and the insulating layer 27 is formed between the base portion 26 and the lead portion 28. By electrically connecting the semiconductor element 21 and the base portion 26 after insulating the portion 28,
The base portion 26 can be used as a lead member. Therefore, in addition to the lead portion 28, the base portion 26 can be used as a wiring, so that the degree of freedom in routing the wiring from the semiconductor element 21 to the solder bump 22 can be improved.

【0097】また、ベース部26は比較的大きな厚さを
有し半導体装置用基板71の全体にわたり配設されてい
るため、その抵抗値は小さい。従って、ベース部26を
グラウンド配線或いは電源配線として用いることによ
り、半導体装置70の電気特性をより向上させることが
できる。
Since the base portion 26 has a relatively large thickness and is disposed over the entire semiconductor device substrate 71, its resistance value is small. Therefore, by using the base portion 26 as the ground wiring or the power wiring, the electrical characteristics of the semiconductor device 70 can be further improved.

【0098】図7は本発明の第6実施例である半導体装
置80を示している。本実施例に係る半導体装置80
は、図8に示される基板82を折曲加工することにより
半導体装置用基板81を形成した構成とされている。基
板82は、絶縁部材よりなるベース部83と、このベー
ス部83に直接配設されたリード部28とにより構成さ
れている。
FIG. 7 shows a semiconductor device 80 which is a sixth embodiment of the present invention. Semiconductor device 80 according to the present embodiment
Has a structure in which the semiconductor device substrate 81 is formed by bending the substrate 82 shown in FIG. The substrate 82 is composed of a base portion 83 made of an insulating member and a lead portion 28 directly arranged on the base portion 83.

【0099】ベース部83は絶縁性耐熱樹脂(プラスチ
ック)により形成されており、熱軟化性を有した樹脂と
されている。リード部28はベース部83に接着或いは
メッキ法により形成されている。図8に示される基板8
2の折曲加工は、絶縁性樹脂が軟化する高温環境下で実
施される。これにより、基板82の折曲加工を容易に行
うことができる。
The base portion 83 is formed of an insulating heat resistant resin (plastic) and is a resin having a heat softening property. The lead portion 28 is formed on the base portion 83 by adhesion or plating. Substrate 8 shown in FIG.
The bending process of 2 is performed in a high temperature environment in which the insulating resin is softened. This allows the substrate 82 to be bent easily.

【0100】上記のように、ベース部83として絶縁部
材を用いることにより、基板82の構成を簡単化できる
と共に、基板82の加工性を向上することができる。ま
た、ベース部83として樹脂を用いることにより、封止
樹脂23とベース部83との接合性を向上させることが
でき、封止樹脂23の剥離を防止することができる。よ
って、半導体装置80の信頼性を向上させることができ
る。
As described above, by using the insulating member as the base portion 83, the structure of the substrate 82 can be simplified and the workability of the substrate 82 can be improved. Further, by using a resin as the base portion 83, it is possible to improve the bondability between the sealing resin 23 and the base portion 83 and prevent the sealing resin 23 from peeling off. Therefore, the reliability of the semiconductor device 80 can be improved.

【0101】続いて、本発明の一実施例である半導体装
置の製造方法について図10乃至図15を用いて説明す
る。尚、以下の説明においては、図1に示した第1実施
例に係る半導体装置20の製造方法を例に挙げて説明す
る。また、図10乃至図15において、図1に示した第
1実施例に係る半導体装置20と同一構成については同
一符号を付して説明する。
Next, a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the following description, a method for manufacturing the semiconductor device 20 according to the first embodiment shown in FIG. 1 will be described as an example. Further, in FIGS. 10 to 15, the same components as those of the semiconductor device 20 according to the first embodiment shown in FIG.

【0102】本実施例に係る半導体装置の製造方法で
は、基板形成工程,リード整形工程,基板折曲工程,素
子搭載工程,接続工程,樹脂封止工程,及び外部接続端
子形成工程の各工程を実施することにより半導体装置2
0を製造する。図10及び図11は基板形成工程を示し
ている。基板形成工程では、先ずベース部26,絶縁層
27,及びリード部28が上部より三層に積層された板
状部材を形成し、これをプレス打ち抜き加工することに
より、図11に示されるように平面的に見て十字形状の
基板25を形成する。また、基板25の形成後、銅の酸
化防止及び後述するワイヤボンディング処理におけるワ
イヤ接合性を向上させるために、基板25の表面には例
えばニッケル(Ni)−金(Au)メッキ処理が行われ
る。
In the method of manufacturing a semiconductor device according to this embodiment, the substrate forming step, the lead shaping step, the substrate bending step, the element mounting step, the connecting step, the resin sealing step, and the external connecting terminal forming step are performed. By implementing the semiconductor device 2
0 is produced. 10 and 11 show a substrate forming process. In the substrate forming step, first, a plate-shaped member in which the base portion 26, the insulating layer 27, and the lead portion 28 are laminated in three layers from the upper side is formed, and this is punched by press to form a plate-shaped member, as shown in FIG. A cross-shaped substrate 25 is formed when seen in a plan view. Further, after the substrate 25 is formed, for example, nickel (Ni) -gold (Au) plating treatment is performed on the surface of the substrate 25 in order to prevent oxidation of copper and improve wire bondability in the wire bonding treatment described later.

【0103】この基板25の形成は、従来のBGAタイ
プの半導体装置11(図23参照)のプリント基板形成
工程で必要とされていたスルーホールの形成工程,複数
の基板の積層工程等は不要となり、従来に比べて基板2
5の形成を容易に行うことができる。また、上記のよう
に基板25をプレス加工により打ち抜き加工することに
より、複数の基板25を一括的に形成することができ、
高い効率で基板25を形成することができる。
The formation of the substrate 25 does not require the through hole forming process and the laminating process of a plurality of substrates which are required in the conventional printed circuit board forming process of the BGA type semiconductor device 11 (see FIG. 23). , Substrate 2 compared to conventional
5 can be easily formed. Further, by punching the substrates 25 by pressing as described above, it is possible to collectively form a plurality of substrates 25,
The substrate 25 can be formed with high efficiency.

【0104】尚、本実施例では、図11に示されるよう
に、各基板25はサポートバー90によりフレーム91
に複数個支持された構成としているが、プレス打ち抜き
加工時に個々の基板25に分離する構成としてもよい。
上記の基板形成工程において、ベース部26,絶縁層2
7,リード部28が積層され、かつ十字形状に整形され
た基板25が形成されると、続いてリード整形工程が実
施される。図示されていないが、このリード整形工程で
は、基板25に配設されているリード部28を所定のパ
ターンに整形する処理が実施される。具体的には、基板
25の全面に配設されているリード部28に対しリード
部28として残したい部分にレジストを例えばホトリソ
グラフィ技術を用いて配設し、続いてエッチング処理を
行うことにより不要部分を除去する。これにより、図9
に示されるような所定パターンのリード部28が形成さ
れる。
In this embodiment, as shown in FIG. 11, each substrate 25 is supported by a support bar 90 to form a frame 91.
Although a plurality of substrates are supported by the above, they may be separated into individual substrates 25 during press punching.
In the above substrate forming process, the base portion 26, the insulating layer 2
7. When the lead portion 28 is laminated and the substrate 25 shaped in a cross shape is formed, the lead shaping step is subsequently performed. Although not shown, in this lead shaping step, the lead portion 28 provided on the substrate 25 is shaped into a predetermined pattern. Specifically, for the lead portion 28 provided on the entire surface of the substrate 25, a resist is provided on a portion to be left as the lead portion 28 by using, for example, a photolithography technique, and then unnecessary by performing an etching process. Remove the part. As a result, FIG.
The lead portion 28 having a predetermined pattern as shown in FIG.

【0105】リード整形工程が終了すると、続いて基板
25に対して基板折曲工程が実施される。図12及び図
13は基板折曲工程が実施されることにより形成された
半導体装置用基板24を示している。基板折曲工程で
は、基板形成工程により形成された基板25の周縁部
(十字形状の各周縁部)を、リード部28が外側に位置
するよう内側に折曲形成する(折り曲げ方向を図10に
矢印Cで示す)ことにより素子搭載部32と折曲部29
を形成する。これだけの簡単な作業により半導体装置用
基板24は形成され、よって基板折曲工程も容易にかつ
効率的に行うことができる。
When the lead shaping process is completed, a substrate bending process is subsequently performed on the substrate 25. 12 and 13 show a semiconductor device substrate 24 formed by performing the substrate bending step. In the substrate bending step, the peripheral edge portions (each cross-shaped peripheral edge portion) of the substrate 25 formed in the substrate forming step are bent and formed inward so that the lead portions 28 are located outside (the bending direction is shown in FIG. 10). (Shown by arrow C)
To form. The semiconductor device substrate 24 is formed by such a simple operation, so that the substrate bending step can be performed easily and efficiently.

【0106】また、本実施例においては基板25の折曲
加工はプレス加工により行われる。基板25の折曲加工
としてプレス加工を用いることにより、容易にかつ精度
よく半導体装置用基板24を形成できると共に、上記の
基板形成工程で実施される打ち抜き加工と基板折曲工程
で実施される折曲加工とを同一のプレス装置で行うこと
も可能であり、よって半導体装置用基板24の形成処理
の効率化を図ることができる。
Further, in the present embodiment, the bending process of the substrate 25 is performed by the press process. By using the pressing process as the bending process of the substrate 25, the semiconductor device substrate 24 can be easily and accurately formed, and the punching process and the bending process performed in the substrate forming process described above can be performed. It is also possible to perform the bending process with the same press device, and thus the efficiency of the forming process of the semiconductor device substrate 24 can be improved.

【0107】上記のように半導体装置用基板24が形成
されると、続いて素子搭載工程が実施される。この素子
搭載工程では、半導体装置用基板24の素子搭載部32
にダイ付け材35(例えば半田)を用いて半導体素子2
1を搭載し固定する。図14は半導体素子21が半導体
装置用基板24の素子搭載部32に搭載された状態を示
している。
After the semiconductor device substrate 24 is formed as described above, an element mounting process is subsequently performed. In this element mounting process, the element mounting portion 32 of the semiconductor device substrate 24 is used.
Using the die attachment material 35 (for example, solder) on the semiconductor element 2
Mount and fix 1. FIG. 14 shows a state in which the semiconductor element 21 is mounted on the element mounting portion 32 of the semiconductor device substrate 24.

【0108】上記のように半導体素子21が半導体装置
用基板24の素子搭載部32に搭載されると、続いて接
続工程が実施され、ワイヤボンディング装置を用いて半
導体素子21とリード部28との間にワイヤ36が配設
される。この際、半導体装置用基板24は基板25を折
り曲げ加工することにより自ずから折曲部29の上面に
リード部28位置する構成となっている。従って、基板
25を折り曲げ加工することにより形成された半導体装
置用基板24であっても、何ら不都合なくワイヤ36の
配設処理を行うことができる。尚、図15は半導体素子
21とリード部28との間にワイヤ36が配設された状
態を示している。
When the semiconductor element 21 is mounted on the element mounting portion 32 of the semiconductor device substrate 24 as described above, a connection step is subsequently performed, and the semiconductor element 21 and the lead portion 28 are connected using a wire bonding device. A wire 36 is arranged in between. At this time, the semiconductor device substrate 24 is naturally positioned on the upper surface of the bent portion 29 by bending the substrate 25. Therefore, even if the semiconductor device substrate 24 is formed by bending the substrate 25, the wire 36 can be disposed without any inconvenience. Note that FIG. 15 shows a state in which the wire 36 is arranged between the semiconductor element 21 and the lead portion 28.

【0109】上記のように接続工程が実施されると、続
いて樹脂封止工程が実施され、半導体装置用基板24の
上部から封止樹脂23がポッティング或いはトランスフ
ァーモールド(本実施例ではポッティングを採用した例
を示している)されて半導体素子21を封止する。この
際、封止樹脂23は折曲部29と素子搭載部32との間
に形成されている間隙33内にも充填されアンカー効果
を奏することは前述した通りである。
After the connection step is performed as described above, the resin sealing step is subsequently performed, and the sealing resin 23 is potted or transferred from the upper portion of the semiconductor device substrate 24 by transfer molding (potting is adopted in this embodiment). The semiconductor element 21 is sealed. At this time, the sealing resin 23 is also filled in the gap 33 formed between the bent portion 29 and the element mounting portion 32 to exert the anchor effect, as described above.

【0110】樹脂封止工程が終了すると、続いて外部接
続端子形成工程が実施され、外部接続端子となる半田バ
ンプ22が半導体装置用基板24の実装面34の所定位
置に配設される。この半田バンプ22の配設は、例えば
均一の粒径を有する半田ボールを用い、実装面34の半
田バンプ形成位置に予めペースト等を塗布しておき、こ
のペーストに半田ボールを付着された上で加熱し半田バ
ンプ22を形成する方法を採用してもよい。
When the resin sealing step is completed, the external connection terminal forming step is subsequently performed, and the solder bumps 22 which will be the external connection terminals are arranged at predetermined positions on the mounting surface 34 of the semiconductor device substrate 24. To arrange the solder bumps 22, for example, solder balls having a uniform particle size are used, and a paste or the like is applied in advance to the solder bump forming positions on the mounting surface 34, and the solder balls are attached to the paste. A method of heating to form the solder bumps 22 may be adopted.

【0111】そして、最終的にサポートバー90から各
半導体装置用基板24を分離させることにより、半導体
装置20が製造される。尚、上記した各実施例(第6実
施例を除く)において、ベース部26の材質として銅
(Cu)を用いた構成例を説明したが、ベース部26の
材質は銅に限定されるものではなく、例えばアルミニウ
ム,銅合金,鉄合金等を用いることも可能である。
Finally, the semiconductor device 20 is manufactured by separating each semiconductor device substrate 24 from the support bar 90. In each of the above-described embodiments (excluding the sixth embodiment), the configuration example using copper (Cu) as the material of the base portion 26 has been described, but the material of the base portion 26 is not limited to copper. Alternatively, for example, aluminum, copper alloy, iron alloy, etc. can be used.

【0112】[0112]

【発明の効果】上述の如く本発明によれば、下記の種々
の効果を実現することができる。請求項1記載の発明に
よれば、折曲部においてはリード部が上面に位置し、ま
た半導体装置用基板の素子搭載部においては素子搭載部
の背面側にリード部が位置する構成となり、これにより
多層配線プリント基板等の高価なプリント基板を用いる
ことなく、またスルーホール等の形成が面倒な電極を用
いることなく、単に基板を折曲形成するのみでリード部
材を半導体素子との接続位置から外部接続端子の形成位
置まで引き出すことが可能となる。
As described above, according to the present invention, the following various effects can be realized. According to the invention of claim 1, the lead portion is located on the upper surface in the bent portion, and the lead portion is located on the rear surface side of the element mounting portion in the element mounting portion of the semiconductor device substrate. Therefore, without using an expensive printed circuit board such as a multilayer wiring printed circuit board, and without using an electrode which is troublesome to form a through hole, simply by bending the circuit board, the lead member can be connected from the connection position with the semiconductor element. It is possible to pull out to the formation position of the external connection terminal.

【0113】また、基板が折曲形成された状態で、リー
ド部は素子搭載部に対して立設した側部にも位置するた
め、半導体装置を実装基板に実装し外部接続端子を実装
基板の電極部に接続した状態において、上記の側部或い
は折曲部に形成されているリード部と実装基板の電極部
との間で実装検査を行うことが可能となる。
Further, since the lead portion is also located on the side portion erected with respect to the element mounting portion when the board is bent, the semiconductor device is mounted on the mounting board and the external connection terminals are mounted on the mounting board. In the state of being connected to the electrode portion, the mounting inspection can be performed between the lead portion formed on the side portion or the bent portion and the electrode portion of the mounting substrate.

【0114】また、請求項2記載の発明によれば、封止
樹脂は折曲部と素子搭載部との間に形成された間隙内に
も装填されるため、間隙に入り込んだ封止樹脂はアンカ
ー効果を発生する。よって、封止樹脂と半導体装置用基
板との機械的接合強度は向上し、封止樹脂が半導体装置
用基板から剥離することを防止でき、これにより半導体
装置の信頼性を向上させることができる。
According to the second aspect of the invention, the sealing resin is also loaded in the gap formed between the bent portion and the element mounting portion, so that the sealing resin that has entered the gap is Anchor effect occurs. Therefore, the mechanical bonding strength between the encapsulating resin and the semiconductor device substrate is improved, and the encapsulating resin can be prevented from peeling off from the semiconductor device substrate, thereby improving the reliability of the semiconductor device.

【0115】また、請求項3記載及び請求項16の発明
によれば、半導体素子で発生した熱は高熱伝導性材料よ
りなるベース部を具備する半導体装置用基材を介して効
率よく外部に放熱されるため、半導体装置用基板を放熱
板としても用いることができ、よって半導体素子の冷却
効率を向上させることができる。
Further, according to the inventions of claims 3 and 16, the heat generated in the semiconductor element is efficiently radiated to the outside through the base material for the semiconductor device having the base portion made of the high thermal conductive material. Therefore, the substrate for a semiconductor device can be used also as a heat dissipation plate, so that the cooling efficiency of the semiconductor element can be improved.

【0116】また、請求項4記載の発明によれば、ベー
ス部をリード部として用いることが可能となり、リード
部に加えベース部を配線として用いることができるた
め、半導体素子から外部接続端子に至る配線の引回しの
自由度を向上させることができる。
According to the fourth aspect of the invention, the base portion can be used as the lead portion, and the base portion can be used as the wiring in addition to the lead portion, so that the semiconductor element to the external connection terminal can be connected. The degree of freedom in wiring can be improved.

【0117】また、ベース部は比較的大きな厚さを有し
半導体装置用基板の全体にわたり配設されているためそ
の抵抗値は小さいため、ベース部をグラウンド配線或い
は電源配線として用いることにより、特性の良い半導体
装置を得ることができる。また、請求項5記載及び請求
項18の発明によれば、半導体素子が搭載される面及び
封止樹脂と接触する面の表面積を増大させることがで
き、従って半導体素子とベース部との接合性及び封止樹
脂とベース部との接合性を向上させることができる。よ
って、半導体素子を確実に半導体装置用基板に固定でき
ると共に、封止樹脂が半導体装置用基板から剥離するこ
とを防止することができる。
Since the base portion has a relatively large thickness and is disposed over the entire semiconductor device substrate, its resistance value is small. Therefore, by using the base portion as a ground wiring or a power supply wiring, the characteristics can be improved. A good semiconductor device can be obtained. Further, according to the fifth and the eighteenth aspects of the present invention, the surface area of the surface on which the semiconductor element is mounted and the surface in contact with the sealing resin can be increased, and therefore, the bondability between the semiconductor element and the base portion Also, the bondability between the sealing resin and the base portion can be improved. Therefore, the semiconductor element can be reliably fixed to the semiconductor device substrate, and the sealing resin can be prevented from peeling off from the semiconductor device substrate.

【0118】また、請求項6記載の発明によれば、ベー
ス部を金属材料により形成したことによりベース部の吸
湿率を低下させることができ、例えば実装時に印加され
る熱により発生する水蒸気に起因した封止樹脂内におけ
るクラック発生や、また封止樹脂の半導体装置用基板か
らの剥離を防止することができ、半導体装置の信頼性を
向上させることができる。
Further, according to the invention of claim 6, since the base portion is made of a metal material, the moisture absorption rate of the base portion can be lowered, and for example, it is caused by water vapor generated by heat applied at the time of mounting. It is possible to prevent the occurrence of cracks in the encapsulating resin and the peeling of the encapsulating resin from the semiconductor device substrate, thus improving the reliability of the semiconductor device.

【0119】また、請求項7記載の発明によれば、半導
体素子と折曲部に位置するリード部とをワイヤにより接
続することにより、一般に用いられているワイヤボンデ
ィング装置を用いて半導体素子とリード部との接続を容
易に行うことができる。また、リード部は折曲部の上面
に形成されているため、半導体素子とリード部の高さの
差は小さくなっており、従ってワイヤボンディング装置
のキャピラリの移動量を小さくでき、効率よくワイヤボ
ンディング処理を行うことができる。
According to the invention of claim 7, the semiconductor element and the lead are located by using a wire bonding device which is generally used by connecting the semiconductor element and the lead located at the bent portion with a wire. The connection with the parts can be easily performed. In addition, since the lead portion is formed on the upper surface of the bent portion, the difference in height between the semiconductor element and the lead portion is small. Therefore, the movement amount of the capillary of the wire bonding apparatus can be reduced and the wire bonding can be performed efficiently. Processing can be performed.

【0120】また、請求項8記載の発明によれば、折曲
部は凸部により素子搭載部に支持された構成となるた
め、ワイヤボンディング処理として超音波溶接法を用い
ても、折曲部が不要な振動を発生することはなく、確実
に超音波ボンディングを行うことが可能となり、ワイヤ
ボンディング処理の信頼性を向上させることができる。
Further, according to the invention of claim 8, since the bent portion is supported by the element mounting portion by the convex portion, even if the ultrasonic welding method is used as the wire bonding process, the bent portion is However, it is possible to reliably perform ultrasonic bonding without generating unnecessary vibration, and it is possible to improve the reliability of the wire bonding process.

【0121】また、請求項9記載の発明によれば、半導
体素子と折曲部に位置するリード部とをTABワイヤに
より接続することにより、熱圧着等の簡単な処理で半導
体素子とリード部とを接続することができる。また、請
求項10記載の発明によれば、外部接続端子としてバン
プを用いることにより、本発明に係る半導体装置をBG
Aタイプの半導体装置と等価の状態で使用することが可
能となり、従って外部接続端子の変形を考慮することな
く多端子化を図ることができ、かつ実装性を向上させる
ことができる。
According to the ninth aspect of the invention, the semiconductor element and the lead section are connected by a simple process such as thermocompression bonding by connecting the semiconductor element and the lead section located at the bent section with a TAB wire. Can be connected. According to the tenth aspect of the present invention, the semiconductor device according to the present invention is provided with the BG by using the bump as the external connection terminal.
The semiconductor device can be used in a state equivalent to that of the A type semiconductor device. Therefore, the number of terminals can be increased without considering the deformation of the external connection terminals, and the mountability can be improved.

【0122】また、請求項11記載の発明によれば、基
板形成工程においては、従来のBGAタイプの半導体装
置のプリント基板形成工程で必要とされるスルーホール
の形成工程,複数の基板の積層工程等は不要となり、基
板の形成を容易に行うことができる。また、基板折曲工
程で実施されるのは、単に基板の周縁部をリード部材が
外側に位置するよう内側に折曲するだけの作業であるた
め、この基板折曲作業も容易に行うことができる。
According to the eleventh aspect of the present invention, in the board forming step, the through hole forming step and the step of laminating a plurality of boards required in the conventional printed board forming step of the BGA type semiconductor device are performed. Etc. are unnecessary, and the substrate can be easily formed. Further, since the board bending step is simply an operation of bending the peripheral portion of the board inward so that the lead member is located outside, the board bending operation can be easily performed. it can.

【0123】また、請求項12記載の発明によれば、上
記基板折曲工程において、基板をプレス加工により折曲
することにより、容易にかつ精度よく半導体装置用基板
を加工できると共に、自動化を図ることも可能で基板折
曲処理の効率化を図ることができる。
According to the twelfth aspect of the invention, in the substrate bending step, the substrate is bent by press working, so that the semiconductor device substrate can be easily and accurately processed, and automation is achieved. It is also possible to improve the efficiency of substrate bending processing.

【0124】また、請求項13記載の発明によれば、上
記基板形成工程を実施後、基板折曲工程実施前に、リー
ド整形工程を実施しリード部を所定のパターンに整形す
るることにより、基板を折曲する前の平板状状態でリー
ド部のパターン整形ができるため、パターニングを行う
ためのレジスト材の配設やエッチング処理を容易に行う
ことができる。
According to the invention described in claim 13, the lead shaping step is performed after the board forming step and before the board bending step to shape the lead portion into a predetermined pattern. Since the patterning of the lead portion can be performed in the flat plate state before the substrate is bent, the resist material for patterning and the etching process can be easily performed.

【0125】また、請求項14記載の発明によれば、上
記樹脂封止工程において、封止樹脂をポッティングによ
り半導体装置用基板上に装填することにより、複雑な金
型を必要とすることなく封止樹脂の充填を行うことがで
きる。また、折曲部は封止樹脂の流れ止めとしての機能
を有するため、半導体素子を確実に樹脂封止することが
できる。また、トランスファーモールドにより半導体装
置用基板上に装填することにより、生産性を向上させる
ことができる。尚、トランスファーモールドを用いる場
合においても複雑な金型を必要とするようなことはな
い。
According to the fourteenth aspect of the invention, in the resin encapsulation step, the encapsulation resin is loaded on the semiconductor device substrate by potting, so that the encapsulation is performed without the need for a complicated mold. Filling with the stop resin can be performed. Further, since the bent portion has a function as a flow stop for the sealing resin, the semiconductor element can be reliably resin-sealed. In addition, productivity can be improved by loading the semiconductor device substrate by transfer molding. Even when the transfer mold is used, a complicated mold is not required.

【0126】また、請求項15記載の発明によれば、単
に基板を折曲形成するのみでリード部を半導体素子との
接続位置より外部接続端子の形成位置まで引き出すこと
が可能となり、よって従来用いられていた多層配線プリ
ント基板等に比べて製品コストを低減することができ、
またスルーホール等の形成が面倒な電極を設ける必要が
ないため容易に半導体装置用基板を製造することができ
る。
According to the fifteenth aspect of the present invention, the lead portion can be pulled out from the connection position with the semiconductor element to the formation position of the external connection terminal by simply bending the substrate. Product cost can be reduced compared to conventional multi-layer wiring printed circuit boards,
Further, since it is not necessary to provide an electrode in which formation of a through hole or the like is troublesome, a semiconductor device substrate can be easily manufactured.

【0127】更に、請求項17記載の発明によれば、ベ
ース部をリード部として用いることが可能となり、従っ
てリード部に加えベース部を配線として用いることがで
きるため、半導体素子から外部接続端子に至る配線の引
回しの自由度を向上させることができる。
Further, according to the seventeenth aspect of the present invention, the base portion can be used as the lead portion. Therefore, the base portion can be used as the wiring in addition to the lead portion, so that the semiconductor element can be connected to the external connection terminal. It is possible to improve the degree of freedom in arranging all the wiring.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例である半導体装置の断面図
である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a semiconductor device that is a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施例である半導体装置の断面図
である。
FIG. 2 is a sectional view of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3実施例である半導体装置の断面図
である。
FIG. 3 is a sectional view of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3実施例である半導体装置に用いる
基板を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a substrate used in a semiconductor device which is a third embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第4実施例である半導体装置の断面図
である。
FIG. 5 is a sectional view of a semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第5実施例である半導体装置の断面図
である。
FIG. 6 is a sectional view of a semiconductor device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第6実施例である半導体装置の断面図
である。
FIG. 7 is a sectional view of a semiconductor device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第6実施例である半導体装置に用いる
基板を示す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing a substrate used for a semiconductor device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第1実施例である半導体装置を実装基
板に実装した状態を示す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing a state in which the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention is mounted on a mounting board.

【図10】基板形成工程を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a substrate forming step.

【図11】基板形成工程を説明するための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining a substrate forming process.

【図12】基板折曲工程を説明するための図である。FIG. 12 is a diagram for explaining a substrate bending step.

【図13】基板折曲工程を説明するための図である。FIG. 13 is a diagram for explaining a substrate bending step.

【図14】素子搭載工程を説明するための図である。FIG. 14 is a diagram illustrating an element mounting process.

【図15】接続工程を説明するための図である。FIG. 15 is a diagram for explaining a connecting step.

【図16】折曲部の側部にランド部を有したリード部が
配設された半導体装置を示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing a semiconductor device in which a lead portion having a land portion is arranged on a side portion of a bent portion.

【図17】本発明の第1実施例である半導体装置の第1
変形例を示す断面図である。
FIG. 17 is a first semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows a modification.

【図18】本発明の第1実施例である半導体装置の第2
変形例を示す断面図である。
FIG. 18 is a second semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows a modification.

【図19】本発明の第2実施例である半導体装置の第1
変形例を示す断面図である。
FIG. 19 is a first semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows a modification.

【図20】本発明の第2実施例である半導体装置の第2
変形例を示す断面図である。
FIG. 20 is a second semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows a modification.

【図21】本発明の第3実施例である半導体装置の第1
変形例を示す断面図である。
FIG. 21 is a first semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows a modification.

【図22】本発明の第3実施例である半導体装置の第2
変形例を示す断面図である。
FIG. 22 is a second semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows a modification.

【図23】従来の半導体装置の一例を示す図である。FIG. 23 is a diagram showing an example of a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20,20A,20B,20C,40,40A,40
B,50,60,60A,60B,70,80 半導体
装置 21 半導体素子 22 半田バンプ 23,23A,23B 封止樹脂 24,24A,52,61,61A,71,81 半導
体装置用基板 25,53,82 基板 26,83 ベース部 27 絶縁部 28 リード部 29,29A 折曲部 30 上部 31 側部 32 素子搭載部 33 間隙 36,74,75 ワイヤ 37 実装基板 38 電極部 39 ランド部 41 TABワイヤ 42 バンプ 51 凸部 62 ディンプル 72,73 ベース接続部
20, 20A, 20B, 20C, 40, 40A, 40
B, 50, 60, 60A, 60B, 70, 80 Semiconductor device 21 Semiconductor element 22 Solder bump 23, 23A, 23B Sealing resin 24, 24A, 52, 61, 61A, 71, 81 Semiconductor device substrate 25, 53, 82 substrate 26, 83 base portion 27 insulating portion 28 lead portion 29, 29A bent portion 30 upper portion 31 side portion 32 element mounting portion 33 gap 36, 74, 75 wire 37 mounting substrate 38 electrode portion 39 land portion 41 TAB wire 42 bump 51 convex part 62 dimple 72, 73 base connecting part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/36 (72)発明者 山口 一郎 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 水戸部 一彦 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 林 清海 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 大竹 幸喜 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 阿部 進 宮城県柴田郡村田町大字村田字西ケ丘1番 地の1 株式会社富士通宮城エレクトロニ クス内 (72)発明者 河西 純一 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 佐久間 正夫 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通オートメーション株式会社内 (72)発明者 鈴木 義美 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通オートメーション株式会社内 (72)発明者 新間 康弘 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通オートメーション株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical indication location H01L 23/36 (72) Inventor Ichiro Yamaguchi 1015 Ueodaanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Within Fujitsu Limited (72) Inventor Kazuhiko Mitobe 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture, Fujitsu Limited (72) Inventor, Kiyomi Hayashi, 1015, Kamikodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture, Fujitsu Limited (72) Inventor, Kouki Otake Kanagawa 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Japan Within Fujitsu Limited (72) Inventor Susumu Abe No. 1 Nishigaoka, Murata, Shibata-gun, Miyagi Prefecture In Miyagi Electronics Limited (72) Inventor Junichi Kasai 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture, Fujitsu Limited (72) Inventor Masao Sakuma Kanagawa 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Japan Within Fujitsu Automation Limited (72) Inventor Yoshimi Suzuki 1015 Kamiotanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Within Fujitsu Automation Limited (72) Inventor Yasuhiro Shinma Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 1015 Kamiodanaka, Fujitsu Automation Limited

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体素子と、 該半導体素子が搭載される素子搭載部を有する半導体装
置用基板と、 該半導体装置用基板に形成されており該半導体素子に電
気的に接続されると共に実装時に外部電極と接続される
外部接続端子と、 該半導体素子を封止する封止樹脂とを具備する半導体装
置において、 該半導体装置用基板を、折り曲げ可能なベース部と、該
ベース部に形成されており該半導体素子と該外部接続端
子を電気的に接続するリード部とよりなる基板により構
成すると共に、 該基板の周縁部に、該リード部が外側に位置するよう該
基板を折曲形成し折曲部を形成してなる構成としたこと
を特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor element, a semiconductor device substrate having an element mounting portion on which the semiconductor element is mounted, a semiconductor device substrate formed on the semiconductor device substrate, electrically connected to the semiconductor element, and mounted at the time of mounting. A semiconductor device comprising: an external connection terminal connected to an external electrode; and a sealing resin for sealing the semiconductor element, wherein the semiconductor device substrate is formed with a foldable base portion and the base portion. And a lead portion for electrically connecting the semiconductor element and the external connection terminal to each other, and at the periphery of the substrate, the substrate is bent and formed so that the lead portion is located outside. A semiconductor device having a structure in which a curved portion is formed.
【請求項2】 該折曲部と該素子搭載部との間に間隙が
形成されるよう構成したことを特徴とする請求項1記載
の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a gap is formed between the bent portion and the element mounting portion.
【請求項3】 該ベース部を高熱伝導性材料により形成
したことを特徴とする請求項1または2記載の半導体装
置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the base portion is made of a highly heat conductive material.
【請求項4】 該ベース部を導電性材料により形成する
と共に該ベース部と該リード部との間に絶縁層を形成
し、 該半導体素子と該ベース部とを電気的に接続したことを
特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体装
置。
4. The base portion is formed of a conductive material, an insulating layer is formed between the base portion and the lead portion, and the semiconductor element and the base portion are electrically connected. The semiconductor device according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】 該ベース部の該リード部が配設される面
と異なる面に凹凸部を形成したことを特徴とする請求項
1乃至4のいずれかに記載の半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein an uneven portion is formed on a surface of the base portion different from a surface on which the lead portion is arranged.
【請求項6】 該ベース部を金属材料により形成したこ
とを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の半導
体装置。
6. The semiconductor device according to claim 1, wherein the base portion is formed of a metal material.
【請求項7】 該半導体素子と該折曲部に位置する該リ
ード部とをワイヤにより接続したことを特徴とする請求
項1乃至6のいずれかに記載の半導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor element and the lead portion located at the bent portion are connected by a wire.
【請求項8】 該ベース部の外周縁部に凸部を形成し、
該基板を折曲形成した状態で、該凸部が該素子搭載部と
当接する構成としたことを特徴とする請求項7記載の半
導体装置。
8. A convex portion is formed on an outer peripheral edge portion of the base portion,
8. The semiconductor device according to claim 7, wherein the convex portion is in contact with the element mounting portion when the substrate is bent.
【請求項9】 該半導体素子と該折曲部に位置する該リ
ード部とをTAB(Tape Automated Bonding)ワイヤによ
り接続したことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか
に記載の半導体装置。
9. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor element and the lead portion located at the bent portion are connected by a TAB (Tape Automated Bonding) wire.
【請求項10】 該外部接続端子としてバンプを用いた
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の半
導体装置。
10. The semiconductor device according to claim 1, wherein a bump is used as the external connection terminal.
【請求項11】 折り曲げ可能なベース部にリード部を
形成することにより基板を形成する基板形成工程と、 該基板形成工程により形成された基板の周縁部を、該リ
ード部が外側に位置するよう内側に折曲形成することに
より素子搭載部と折曲部とを形成し半導体装置用基板を
形成する基板折曲工程と、 該半導体装置用基板の該素子搭載部に半導体チップを搭
載する素子搭載工程と、 該素子搭載部に搭載された半導体チップと該折曲部に位
置するリード部とを電気的に接続する接続工程と、 該半導体装置用基板上に封止樹脂を充填することにより
該半導体素子を樹脂封止する樹脂封止工程と該半導体装
置用基板に形成された該リード部に、外部接続端子を形
成する外部接続端子形成工程とを具備することを特徴と
する半導体装置の製造方法。
11. A substrate forming step of forming a substrate by forming a lead portion on a bendable base portion, and a peripheral portion of the substrate formed by the substrate forming step so that the lead portion is located outside. A substrate bending step of forming a semiconductor device substrate by forming an element mounting portion and a bent portion by forming a bending inside, and an element mounting for mounting a semiconductor chip on the element mounting portion of the semiconductor device substrate. A step of electrically connecting the semiconductor chip mounted on the element mounting portion and a lead portion located at the bent portion, and filling the semiconductor device substrate with a sealing resin. Manufacturing a semiconductor device, comprising: a resin sealing step of resin-sealing a semiconductor element; and an external connection terminal forming step of forming an external connection terminal on the lead portion formed on the semiconductor device substrate. Method
【請求項12】 該基板折曲工程において、該基板をプ
レス加工により折曲することを特徴とする請求項11記
載の半導体装置の製造方法。
12. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 11, wherein the substrate is bent by pressing in the substrate bending step.
【請求項13】 該基板形成工程を実施後、該基板折曲
工程実施前に、該リード部を所定のパターンに整形する
リード整形工程を実施することを特徴とする請求項11
または12記載の半導体装置の製造方法。
13. A lead shaping step of shaping the lead portion into a predetermined pattern after performing the substrate forming step and before performing the substrate bending step.
Or the method of manufacturing a semiconductor device according to item 12;
【請求項14】 該樹脂封止工程において、該封止樹脂
をポッティングまたはトランスファーモールドにより該
半導体装置用基板上に装填することを特徴とする請求項
11乃至13のいずれかに記載の半導体装置の製造方
法。
14. The semiconductor device according to claim 11, wherein in the resin encapsulating step, the encapsulating resin is loaded on the semiconductor device substrate by potting or transfer molding. Production method.
【請求項15】 折り曲げ可能なベース部と、該ベース
部に形成されており搭載される半導体素子と電気的に接
続されるリード部とよりなる基板により構成されてお
り、 該リード部が外側に位置するよう該基板を折曲形成する
ことにより、周縁部に折曲部を形成してなる構成の半導
体装置用基板。
15. A substrate comprising a foldable base portion and a lead portion formed on the base portion and electrically connected to a mounted semiconductor element, the lead portion being provided outside. A semiconductor device substrate having a structure in which a bent portion is formed at a peripheral edge portion by bending the substrate so as to be positioned.
【請求項16】 該ベース部を高熱伝導性材料により形
成したことを特徴とする請求項15記載の半導体装置用
基板。
16. The substrate for a semiconductor device according to claim 15, wherein the base portion is made of a highly heat conductive material.
【請求項17】 該ベース部を導電性材料により形成す
ると共に該ベース部と該リード部との間に絶縁層を形成
したことを特徴とする請求項15または16記載の半導
体装置用基板。
17. The substrate for a semiconductor device according to claim 15, wherein the base portion is formed of a conductive material and an insulating layer is formed between the base portion and the lead portion.
【請求項18】 該ベース部の該リード部が配設される
面と異なる面に凹凸部を形成したことを特徴とする請求
項14乃至17のいずれかに記載の半導体装置。
18. The semiconductor device according to claim 14, wherein an uneven portion is formed on a surface of the base portion different from a surface on which the lead portion is provided.
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