JPH08129058A - Magnetic field sensor - Google Patents

Magnetic field sensor

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JPH08129058A
JPH08129058A JP6290704A JP29070494A JPH08129058A JP H08129058 A JPH08129058 A JP H08129058A JP 6290704 A JP6290704 A JP 6290704A JP 29070494 A JP29070494 A JP 29070494A JP H08129058 A JPH08129058 A JP H08129058A
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magnetic field
conductor
microstrip line
microstrip
induced voltage
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Masahiro Yamaguchi
正洋 山口
Kenichi Arai
賢一 荒井
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RYOWA DENSHI KK
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RYOWA DENSHI KK
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Abstract

PURPOSE: To obtain a magnetic field sensor capable of detecting even a high frequency magnetic field in the GHz band, by forming a microstrip conductor at the front surface of a dielectric substrate having a grounded conductor formed at the rear surface thereof. CONSTITUTION: A grounded conductor 2 is formed at the rear surface of a dielectric substrate 3. A microstrip conductor 4 is formed one turn on the front surface of the dielectric conductor 3. A chip resistor 5 of an approximately equal resistance value to a value of the characteristic impedance of a microstrip line 40 is formed at the side of a terminal end of the conductor 4. One end of the chip resistor 5 is electrically connected to the conductor 4. The other end of the chip resistor 5 defines a slight gap from the conductor 4, and at the same time is electrically connected to the grounded conductor 2 through the substrate 3. The conductor 4 is thus terminated at the chip resistor 5. In a magnetic field sensor 1, a high frequency magnetic field is detected on the basis of an induced voltage in the microstrip line 40 induced when a magnetic field is interlinked with a coil formed of the microstrip line 40.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はパーミアンス測定装置の
検出コイルなどに利用することができる磁界センサに関
し、さらに言えばマイクロストリップ線路を用いた磁界
センサに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic field sensor that can be used as a detection coil of a permeance measuring device, and more particularly to a magnetic field sensor using a microstrip line.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の磁界センサとしては、磁気抵抗素
子やホール素子が一般的に知られている。
2. Description of the Related Art As a conventional magnetic field sensor, a magnetoresistive element and a Hall element are generally known.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
上記した磁界センサは、使用周波数帯域が低く、例えば
ホール素子の場合100kHz程度の高周波磁界の検出
が限度であって、GHz帯域の高周波磁界の検出はでき
ず、GHz帯域の高周波磁界の検出可能な磁界センサは
なかった。
However, the above-mentioned conventional magnetic field sensor has a low use frequency band, and for example, in the case of a Hall element, detection of a high frequency magnetic field of about 100 kHz is a limit, and detection of a high frequency magnetic field of the GHz band is performed. There was no magnetic field sensor capable of detecting a high frequency magnetic field in the GHz band.

【0004】本発明は、GHz帯域の高周波磁界の検出
も可能な磁界センサを提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a magnetic field sensor capable of detecting a high frequency magnetic field in the GHz band.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、本発明の磁界センサは、裏面に接地導体が形成さ
れた誘電体基板と、前記誘電体基板の表面に形成したほ
ぼ1ターンのマイクロストリップ導体と、マイクロスト
リップ線路の特性インピーダンスの抵抗値とほぼ等しい
抵抗値を有し、かつ前記マイクロスットリップ導体の先
端部と前記接地導体とを電気的に接続する抵抗とを備え
たことを特徴とする。
In order to achieve the above-mentioned object, a magnetic field sensor of the present invention comprises a dielectric substrate having a ground conductor formed on the back surface thereof, and approximately one turn formed on the surface of the dielectric substrate. And a resistor having a resistance value substantially equal to the resistance value of the characteristic impedance of the microstrip line and electrically connecting the tip end of the microstrip conductor to the ground conductor. Is characterized by.

【0006】[0006]

【作用】本発明の磁界センサは、マイクロストリップ線
路によって形成されるコイルに磁界を鎖交させることに
より誘起するマイクロストリップ線路の誘起電圧に基づ
いて高周波磁界を検出することができる。
The magnetic field sensor of the present invention can detect a high frequency magnetic field based on the induced voltage of the microstrip line induced by interlinking the magnetic field with the coil formed by the microstrip line.

【0007】[0007]

【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.

【0008】図1は本発明にかかる磁界センサの一実施
例の斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of an embodiment of a magnetic field sensor according to the present invention.

【0009】本実施例の磁界センサ1は、裏面に接地導
体2が形成された誘電体基板3の表面に、1ターンのマ
イクロストリップ導体4を形成し、マイクロストリップ
導体4の終端側に、マイクロストリップ線路40の特性
インピーダンスの値にほぼ等しい抵抗値のチップ抵抗5
を形成して、チップ抵抗5の一端とマイクロストリップ
導体4と電気的に接続し、チップ抵抗5の他端はマイク
ロストリップ導体4との間に僅かの間隙を有するように
形成するとともに、誘電体基板3を貫通して接地導体2
と電気的に接続して、マイクロストリップ導体4をチッ
プ抵抗5によって終端してある。
In the magnetic field sensor 1 of this embodiment, a microstrip conductor 4 of one turn is formed on the front surface of a dielectric substrate 3 having a ground conductor 2 formed on the back surface, and a microstrip conductor 4 is formed on the end side of the microstrip conductor 4. A chip resistor 5 having a resistance value substantially equal to the characteristic impedance value of the strip line 40.
To electrically connect one end of the chip resistor 5 to the microstrip conductor 4 and to form a small gap between the other end of the chip resistor 5 and the microstrip conductor 4 and to form a dielectric. Ground conductor 2 penetrating substrate 3
The microstrip conductor 4 is electrically connected to the microstrip conductor 4 and terminated by a chip resistor 5.

【0010】マイクロストリップ導体4は誘電体基板3
上に形成した導体をいう。マイクロストリップ線路40
はマイクロストリップ導体4と、マイクロストリップ導
体4と同心状にマイクロストリップ導体4の導体幅の数
倍の幅を持った誘電体基板3の部分と、誘電体基板3の
前記部分を投影した位置にある接地導体2の部分とを含
む総称である。
The microstrip conductor 4 is a dielectric substrate 3
The conductor formed above. Microstrip line 40
Is a microstrip conductor 4, a portion of the dielectric substrate 3 which is concentric with the microstrip conductor 4 and has a width several times the conductor width of the microstrip conductor 4, and a position where the portion of the dielectric substrate 3 is projected. It is a general term including a part of a certain ground conductor 2.

【0011】一般にマイクロストリップ線路の特性イン
ピーダンスZ0 を求める近似式は、Wheelerによ
って(1)〜(4)式で与えられている。
Generally, an approximate expression for obtaining the characteristic impedance Z 0 of the microstrip line is given by Wheeler in the expressions (1) to (4).

【0012】[0012]

【数1】 [Equation 1]

【0013】[0013]

【数2】 [Equation 2]

【0014】[0014]

【数3】 (Equation 3)

【0015】[0015]

【数4】 [Equation 4]

【0016】(1)〜(4)式において、εrは誘電体
基板3の比誘電率、tdは誘電体基板3の膜厚、tcは
導体の膜厚、すなわちマイクロストリップ線路40の膜
厚、wcは導体の幅、すなわちマイクロストリップ導体
4の幅である。
In the equations (1) to (4), εr is the relative permittivity of the dielectric substrate 3, td is the film thickness of the dielectric substrate 3, tc is the film thickness of the conductor, that is, the film thickness of the microstrip line 40, wc is the width of the conductor, that is, the width of the microstrip conductor 4.

【0017】マイクロストリップ導体4の幅は、マイク
ロストリップ線路40の特性インピーダンスが50Ωと
なるように(1)〜(4)式より決定し、エッチングに
より1ターン形状に加工した。
The width of the microstrip conductor 4 is determined by the equations (1) to (4) so that the characteristic impedance of the microstrip line 40 is 50Ω, and is processed into one turn shape by etching.

【0018】さらにいえば、磁界センサ1は、接地導体
2の面上に誘電体基板3を密着させ、その上に特性イン
ピーダンスが50Ωとなるような幅のマイクロストリッ
プ導体4を1ターン形状に加工したものである。本実施
例のマイクロストリップ導体4では、1ターン形状を図
1に示すように窓幅x、窓高y、dはコイル終端部分、
すなわちチップ抵抗5と近接線路との空隙長dに形成し
てある。マイクロストリップ線路40の形状例は、表1
に示すごとくである。
Further, in the magnetic field sensor 1, the dielectric substrate 3 is brought into close contact with the surface of the ground conductor 2, and the microstrip conductor 4 having a width such that the characteristic impedance is 50Ω is processed into one turn shape. It was done. In the microstrip conductor 4 of the present embodiment, the one-turn shape has a window width x, a window height y, and a coil end portion as shown in FIG.
That is, the gap length d between the chip resistor 5 and the adjacent line is formed. An example of the shape of the microstrip line 40 is shown in Table 1.
As shown in FIG.

【0019】[0019]

【表1】 [Table 1]

【0020】誘電体基板3としてテフロンのプリント基
板およびガラス基板を用い、テフロン基板の場合は空隙
長dを1mmに一定として窓幅xを4〜32mmと変化
させた場合、および窓幅xを8mmに一定として空隙長
dを1〜8mmと変化させたものを示している。ここ
で、導体幅は隣接する線路の影響を無視して決定した。
A Teflon printed circuit board and a glass substrate are used as the dielectric substrate 3, and in the case of the Teflon substrate, when the window width x is varied from 4 to 32 mm while the gap length d is kept constant at 1 mm, and the window width x is 8 mm. It is shown that the air gap length d is changed to 1 to 8 mm while maintaining a constant value. Here, the conductor width was determined by ignoring the influence of adjacent lines.

【0021】マイクロストリップ線路40の基礎的特性
の測定において、マイクロストリップ導体4の一端をH
P8752A(ヒューレットパッカード社製)ネットワ
ークアナライザ(入力インピーダンス50Ω)へ接続
し、反射法により特性を計測した。
In measuring the basic characteristics of the microstrip line 40, one end of the microstrip conductor 4 is set to H.
P8572A (manufactured by Hewlett-Packard Co.) network analyzer (input impedance 50 Ω) was connected, and the characteristics were measured by the reflection method.

【0022】マイクロストリップ線路40の特性インピ
ーダンスZ0 はマイクロストリップ導体4の終端を短
絡、開放した場合の入力インピーダンスをそれぞれをZ
short、Zopenとすると、(5)式により算出される。
The characteristic impedance Z 0 of the microstrip line 40 is the input impedance when the end of the microstrip conductor 4 is short-circuited and opened, respectively.
If short and Zopen, it is calculated by the equation (5).

【0023】 Z0 =√(Zshort ×Zopen) ……(5) 本実施例におけるマイクロストリップ線路40の特性イ
ンピーダンスの測定時にはチップ抵抗5を除去して、終
端を開放、短絡して入力インピーダンスZshort 、Zop
enをそれぞれ測定し、上記(5)式による演算によって
求めた。この場合、マイクロストリップ線路40の特性
インピーダンスは50Ωであった。
Z 0 = √ (Zshort × Zopen) (5) When measuring the characteristic impedance of the microstrip line 40 in the present embodiment, the chip resistor 5 is removed, and the termination is opened and shorted to input impedance Zshort, Zop
Each en was measured and calculated by the equation (5). In this case, the characteristic impedance of the microstrip line 40 was 50Ω.

【0024】磁界センサ1による磁界検出の説明に先立
って、まず、誘電体基板3にテフロン基板を用いた場合
のマイクロストリップ線路40の基礎的特性について説
明する。
Before explaining the magnetic field detection by the magnetic field sensor 1, first, the basic characteristics of the microstrip line 40 when a Teflon substrate is used as the dielectric substrate 3 will be described.

【0025】一般に、マイクロストリップ線路40にお
ける電磁界の存在範囲は導体幅の7倍程度であると言わ
れている。マイクロストリップ線路40においては図1
に示したようにマイクロストリップ導体4の終端部にお
いてマイクロストリップ導体4同士の近接した領域が存
在するので、この部分における電磁界の振舞いについて
説明する。
Generally, it is said that the existence range of the electromagnetic field in the microstrip line 40 is about seven times the conductor width. In the microstrip line 40, FIG.
As shown in FIG. 3, there is a region where the microstrip conductors 4 are close to each other at the end portion of the microstrip conductor 4. Therefore, the behavior of the electromagnetic field in this portion will be described.

【0026】図2はマイクロストリップ導体4の終端部
分の様子を説明したものである。マイクロストリップ導
体4の終端部分にホールを開けてチップ抵抗5を設け
た。いま、マイクロストリップ導体4の窓高yが8mm
であるため、空隙長dが1〜7mmの場合は図2(a)
に示すようにチップ抵抗5の電極が図2(a)の図面上
において上下方向に向いているのに対し、空隙長dが8
mmで3辺構造の場合は図2(b)のようにチップ抵抗
5の電極は図2(b)の図面上において左右方向を向い
ている。
FIG. 2 illustrates the appearance of the terminal portion of the microstrip conductor 4. A hole was opened at the end of the microstrip conductor 4 to provide a chip resistor 5. Now, the window height y of the microstrip conductor 4 is 8 mm.
Therefore, when the void length d is 1 to 7 mm, it is as shown in FIG.
2A, the electrodes of the chip resistor 5 are oriented vertically in the drawing of FIG. 2A, while the gap length d is 8
In the case of 3 mm structure with mm, the electrodes of the chip resistor 5 are oriented in the left-right direction in the drawing of FIG. 2B as shown in FIG.

【0027】窓幅10mm、窓高6mmのマイクロスト
リップ導体4において、空隙長dを変化させた場合、図
3に示したようにマイクロストリップ線路40の特性イ
ンピーダンスZ0Cは増加し、直線状のストリップ線路4
0の特性インピーダンスZ0より大きくなるが、変化は
高々10%程度である。空隙長dが8mmの場合、すな
わち、図2(b)のように3辺構造となっている場合は
特性インピーダンスZ0Cが直線状のストリップ線路40
の特性インピーダンスZ0 の値とほぼ等しかった。この
場合、マイクロストリップ線路40の面内における上下
の線路(マイクロストリップ線路40の終端部とマイク
ロストリップ線路40と)の結合がきわめて小さいた
め、特性インピーダンスは直線状のマイクロストリップ
線路と等しかったと推察される。
In the microstrip conductor 4 having a window width of 10 mm and a window height of 6 mm, when the air gap length d is changed, the characteristic impedance Z 0C of the microstrip line 40 increases as shown in FIG. Track 4
Although it is larger than the characteristic impedance Z 0 of 0 , the change is about 10% at most. When the air gap length d is 8 mm, that is, when the structure has a three-sided structure as shown in FIG. 2B, the characteristic impedance Z 0C has a linear strip line 40.
Was almost equal to the value of the characteristic impedance Z 0 . In this case, since the coupling between the upper and lower lines (the end portion of the microstrip line 40 and the microstrip line 40) in the plane of the microstrip line 40 is extremely small, it is presumed that the characteristic impedance was equal to that of the linear microstrip line. It

【0028】空隙長dが8mmの場合と1〜7mmの場
合とで特性インピーダンスの傾向が異なる理由として
は、図2(a)、(b)に示すように、マイクロストリ
ップ線路40の終端部のホールを開ける方向が図2
(a)の場合と図2(b)の場合とで異なっていること
が影響していると考えられる。
The reason why the tendency of the characteristic impedance is different between the case where the gap length d is 8 mm and the case where it is 1 to 7 mm is as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). Figure 2 shows the direction to open the hole
It is considered that the difference between the case of (a) and the case of FIG. 2 (b) has an influence.

【0029】図4は窓幅xとマイクロストリップ線路4
0の特性インピーダンスとの関係を示したものである。
図4は窓高yが6mm、空隙長dが0.5mmの場合の
例である。窓幅xの増加とともに特性インピーダンスは
増加している。図3の場合と同様に、直線状線路の場合
に対して特性インピーダンスの変化は高々10%程度で
ある。
FIG. 4 shows the window width x and the microstrip line 4.
It shows the relationship with the characteristic impedance of 0.
FIG. 4 shows an example in which the window height y is 6 mm and the gap length d is 0.5 mm. The characteristic impedance increases as the window width x increases. Similar to the case of FIG. 3, the change in the characteristic impedance is about 10% at most in the case of the straight line.

【0030】図5(a)、(b)はマイクロストリップ
導体4を50Ωで終端した場合の入力インピーダンスを
測定し、その抵抗分およびリアクタンス分を示したもの
である。図5はマイクロストリップ導体4の窓幅xが8
mm、窓高yが8mm、空隙長dが1mmの場合の例で
ある。比較のためマイクロストリップ導体4によるコイ
ルと寸法が等しい2端子コイルについても測定して比較
できるように表示した。図5(a)から2端子コイルの
抵抗は共振の影響で12Ω〜210Ωの範囲で大きく変
化するのに対し、マイクロストリップ線路40の抵抗は
1MHz〜3GHzの周波数において42〜59Ωの小
さな変化にとどまっている。これに加え、図5(b)か
ら線路のリアクタンスは2端子コイルの場合よりも小さ
く、LC共振によって急増することもない。これよりマ
イクロストリップ線路40のインピーダンスは抵抗分に
よってほぼ決定され、共振の影響が少なく、高周波特性
が優れていることがわかる。
FIGS. 5A and 5B show the resistance and reactance of the measured input impedance when the microstrip conductor 4 is terminated with 50Ω. In FIG. 5, the window width x of the microstrip conductor 4 is 8
mm, the window height y is 8 mm, and the gap length d is 1 mm. For comparison, a two-terminal coil having the same dimensions as the coil made of the microstrip conductor 4 is also shown so that it can be measured and compared. From FIG. 5 (a), the resistance of the two-terminal coil changes greatly in the range of 12Ω to 210Ω due to the influence of resonance, whereas the resistance of the microstrip line 40 changes only 42 to 59Ω at a frequency of 1 MHz to 3 GHz. ing. In addition to this, the reactance of the line is smaller than that in the case of the two-terminal coil from FIG. 5B, and does not increase sharply due to LC resonance. From this, it can be seen that the impedance of the microstrip line 40 is substantially determined by the resistance component, the influence of resonance is small, and the high frequency characteristics are excellent.

【0031】次に、磁界センサ1による磁界検出につい
て説明する。
Next, the magnetic field detection by the magnetic field sensor 1 will be described.

【0032】図6に示すように、磁界発生のための厚さ
2mm、長さ70mmの板状導体を20mm×40mm
の断面矩形状に巻き回し、かつ巻き回された板状導体の
対向する端部間は電気的に絶縁するべく間隙部11が設
けてある断面矩形状の中空矩形筒を形成して励磁コイル
10とし、励磁コイル10を形成する中空矩形筒内に磁
界センサ1を突出して設け、通電することにより励磁コ
イル10によって発生する磁界の方向とマイクロストリ
ップ線路40によるコイル面とが直交するように磁界セ
ンサ1を取り付け、ネットワークアナライザ12(前記
HP8752A)から同軸ケーブル13を介して励磁コ
イル10を励磁し、マイクロストリップ線路40のコイ
ル面と垂直な外部磁界を印加し、マイクロストリップ線
路40からの誘起電圧を同軸ケーブル14を介してネッ
トワークアナライザ12に導いて測定した。
As shown in FIG. 6, a plate conductor having a thickness of 2 mm and a length of 70 mm for generating a magnetic field is 20 mm × 40 mm.
Of the exciting coil 10 having a rectangular cross section and a gap 11 is provided between the opposite ends of the rolled plate conductor so as to electrically insulate each other. The magnetic field sensor 1 is provided so as to project in a hollow rectangular tube forming the exciting coil 10 and the direction of the magnetic field generated by the exciting coil 10 and the coil surface of the microstrip line 40 are orthogonal to each other when energized. 1 is attached, the exciting coil 10 is excited from the network analyzer 12 (HP8752A) via the coaxial cable 13, an external magnetic field perpendicular to the coil surface of the microstrip line 40 is applied, and the induced voltage from the microstrip line 40 is applied. The measurement was conducted by introducing it to the network analyzer 12 via the coaxial cable 14.

【0033】この磁界検出の場合における電気的等価回
路は図7に示すごとくである。磁界検出において、検出
コイルとしてのマイクロストリップ線路40を除去した
バックグランド電圧も測定し、マイクロストリップ線路
40の誘起電圧からバックグランド電圧を差し引いて誘
起電圧とした。
The electrical equivalent circuit in the case of this magnetic field detection is as shown in FIG. In the magnetic field detection, the background voltage obtained by removing the microstrip line 40 as the detection coil was also measured, and the background voltage was subtracted from the induced voltage of the microstrip line 40 to obtain the induced voltage.

【0034】この場合、励磁コイル10の共振周波数は
700MHzであり、接地導体2の面を含めて、励磁コ
イル10によって生じた磁界の均一性は±8.9%以内
であった。
In this case, the resonance frequency of the exciting coil 10 was 700 MHz, and the uniformity of the magnetic field generated by the exciting coil 10 including the surface of the ground conductor 2 was within ± 8.9%.

【0035】ネットワークアナライザ12から励磁コイ
ル10へ印加した電圧とマイクロストリップ線路40に
おいて誘起された電圧とのS21を測定した。S21の
ゲインより誘起電圧の振幅を求め、S21の位相から磁
界に対する誘起電圧の位相差を求めた。100MHz以
下であれば同軸ケーブル13、14中の位相変化が無視
できるため、S21の位相が磁界と誘起電圧との位相差
と考えることができる。
The S21 of the voltage applied from the network analyzer 12 to the exciting coil 10 and the voltage induced in the microstrip line 40 was measured. The amplitude of the induced voltage was obtained from the gain of S21, and the phase difference of the induced voltage with respect to the magnetic field was obtained from the phase of S21. If the frequency is 100 MHz or less, the phase change in the coaxial cables 13 and 14 can be ignored, so that the phase of S21 can be considered as the phase difference between the magnetic field and the induced voltage.

【0036】図8はマイクロストリップ導体4の窓幅x
を変化させた場合の励磁コイル10への印加電圧と誘起
電圧との関係を表している。図8は窓幅xが8mm、空
隙長dが1mm、印加電圧の周波数が100MHzの場
合を例示している。図8から印加電圧と誘起電圧はほぼ
比例していることから、この場合も磁界検出が可能であ
ることが明らかである。また、マイクロストリップ導体
4の窓幅xと誘起電圧とはほぼ比例している。窓高yは
一定であるから、コイルの断面積と誘起電圧は比例して
いることになる。このような意味ではマイクロストリッ
プ線路40は2端子磁界検出コイルと共通の性質を有し
ていることがわかる。
FIG. 8 shows the window width x of the microstrip conductor 4.
5 shows the relationship between the applied voltage to the exciting coil 10 and the induced voltage when is changed. FIG. 8 illustrates the case where the window width x is 8 mm, the gap length d is 1 mm, and the frequency of the applied voltage is 100 MHz. Since the applied voltage and the induced voltage are almost proportional from FIG. 8, it is apparent that the magnetic field can be detected in this case as well. Further, the window width x of the microstrip conductor 4 and the induced voltage are substantially proportional to each other. Since the window height y is constant, the cross-sectional area of the coil and the induced voltage are proportional. In this sense, the microstrip line 40 has the same properties as the two-terminal magnetic field detection coil.

【0037】さらに、入力電圧に対する誘起電圧の位相
変化は十分小さかった。以上の結果より、マイクロスト
リップ線路40は磁界検出特性に関しては通常の2端子
コイルと同様の特性を有していることがわかった。
Furthermore, the phase change of the induced voltage with respect to the input voltage was sufficiently small. From the above results, it was found that the microstrip line 40 has the same magnetic field detection characteristics as those of a normal two-terminal coil.

【0038】一方、図9はマイクロストリップ線路40
と2端子コイルとで誘起電圧を比較したものである。図
9はマイクロストリップ線路40の窓幅xが8mm、窓
高yが8mm、空隙長dが1mm、印加電圧の周波数が
100MHzの場合の例である。図9は窓幅xが導体線
路の形状、寸法は同一であり、2端子コイルはマイクロ
ストリップ線路40から接地導体面を除去した構造であ
る。マイクロストリップ線路40の誘起電圧は2端子コ
イルの場合の約10%に減少する。すなわちマイクロス
トリップ線路40は入力インピーダンスが共振の影響を
ほとんど受けずにGHz帯域の周波数まで安定である一
方で、2端子コイルに比較して交番磁界による誘起電圧
が小さい点が特徴である。
On the other hand, FIG. 9 shows a microstrip line 40.
And a two-terminal coil. FIG. 9 shows an example in which the window width x of the microstrip line 40 is 8 mm, the window height y is 8 mm, the gap length d is 1 mm, and the frequency of the applied voltage is 100 MHz. In FIG. 9, the window width x has the same shape and size of the conductor line, and the two-terminal coil has a structure in which the ground conductor surface is removed from the microstrip line 40. The induced voltage of the microstrip line 40 is reduced to about 10% of that of the two-terminal coil. That is, the microstrip line 40 is characterized in that the input impedance is almost unaffected by resonance and is stable up to the frequency in the GHz band, while the induced voltage due to the alternating magnetic field is smaller than that of the two-terminal coil.

【0039】次に、マイクロストリップ線路40の磁界
検出のときの誘起電圧、直線状マイクロストリップ線路
との比較、接地導体面の影響について説明する。
Next, the induced voltage when the magnetic field of the microstrip line 40 is detected, comparison with the linear microstrip line, and the influence of the ground conductor surface will be described.

【0040】この場合、マイクロストリップ線路40の
基本寸法として、窓幅xを10mm、窓高yを6.0m
m、空隙長dを0.5mm、接地導体2の高さygを1
2mmとし、それぞれ表2に示す範囲で変化させた。前
記表1に示した例の場合と同様に、(1)式〜(4)式
および(5)式に基づき、マイクロストリップ導体4の
線路幅wcはマイクロストリップ線路40の特性インピ
ーダンスが50Ωとなるように0.8mmとした。
In this case, the basic dimensions of the microstrip line 40 are a window width x of 10 mm and a window height y of 6.0 m.
m, the gap length d is 0.5 mm, the height yg of the ground conductor 2 is 1
It was set to 2 mm and changed within the range shown in Table 2. As in the case of the example shown in Table 1, the line width wc of the microstrip conductor 4 is based on the formulas (1) to (4) and (5), and the characteristic impedance of the microstrip line 40 is 50Ω. So that it is 0.8 mm.

【0041】[0041]

【表2】 [Table 2]

【0042】磁界センサ1、すなわち、マイクロストリ
ップ線路40の誘起電圧について説明する。
The induced voltage of the magnetic field sensor 1, that is, the microstrip line 40 will be described.

【0043】図10はマイクロストリップ線路40の誘
起電圧と周波数との関係を示したもので、同一寸法の2
端子コイルと比較している。図10はマイクロストリッ
プ線路40の窓幅xが10mm、窓高yが6mm、空隙
長dが0.5mm、誘電体基板3(εr=5.0、基板
厚さtd=0.5mmのテフロン)の高さygが12m
m、印加電圧0.5Vの場合の例である。図10(a)
はその振幅、図10(b)は位相差を表している。図1
0(a)から誘起電圧の振幅は周波数に比例して増加
し、かつマイクロストリップ線路40の場合、誘起電圧
の振幅は2端子コイルよりおよそ1桁小さいことがわか
る。また、図10(b)から誘起電圧の位相は印加磁界
よりおよそ90°進んでいることがわかる。ただし、マ
イクロストリップ線路40において1MHz〜10MH
zにおいて位相差が90°より小さくなっている点につ
いては、接地導体面が影響していると考えられる。
FIG. 10 shows the relationship between the induced voltage of the microstrip line 40 and the frequency.
Compared with terminal coil. FIG. 10 shows the microstrip line 40 having a window width x of 10 mm, a window height y of 6 mm, a gap length d of 0.5 mm, and a dielectric substrate 3 (εr = 5.0, substrate thickness td = 0.5 mm Teflon). Height of yg is 12m
This is an example in the case of m and an applied voltage of 0.5V. Figure 10 (a)
Represents the amplitude thereof, and FIG. 10 (b) represents the phase difference. FIG.
From 0 (a), the amplitude of the induced voltage increases in proportion to the frequency, and in the case of the microstrip line 40, the amplitude of the induced voltage is smaller than that of the two-terminal coil by about one digit. Further, it can be seen from FIG. 10 (b) that the phase of the induced voltage leads the applied magnetic field by about 90 °. However, in the microstrip line 40, 1 MHz to 10 MH
It is considered that the ground conductor surface has an effect on the point where the phase difference is smaller than 90 ° in z.

【0044】次に、マイクロストリップ導体4の寸法を
変えて誘起電圧との関係から電圧発生機構について説明
する。変数はマイクロストリップ導体4の窓幅x、窓高
y、空隙長dとした。図6の測定系において接地導体面
の高さygを12mmに固定し、マイクロストリップ線
路40の寸法を変化させて磁界検出を行った。図11
(a)はマイクロストリップ導体4の窓高yを一定とし
て、窓幅xと誘起電圧の振幅との関係を示したものであ
り、両者は比例する。また、図11(b)は窓幅xを一
定として、窓高yと誘起電圧の振幅との関係を示したも
のであり、両者はほぼ比例する。ただし、隣接した導体
の間隔が小さくなって結合線路の影響が強まる場合は比
例傾向からややずれており、磁界検出の機構が複雑化し
ていると考えられる。
Next, the voltage generating mechanism will be described in relation to the induced voltage by changing the size of the microstrip conductor 4. The variables were the window width x, window height y, and gap length d of the microstrip conductor 4. In the measurement system of FIG. 6, the height yg of the ground conductor surface was fixed to 12 mm, and the dimensions of the microstrip line 40 were changed to detect the magnetic field. Figure 11
(A) shows the relationship between the window width x and the amplitude of the induced voltage with the window height y of the microstrip conductor 4 being constant, and both are proportional. Further, FIG. 11B shows the relationship between the window height y and the amplitude of the induced voltage with the window width x kept constant, and both are substantially proportional. However, when the distance between adjacent conductors becomes smaller and the influence of the coupled line becomes stronger, the proportional tendency is slightly deviated, and the magnetic field detection mechanism is considered to be complicated.

【0045】また、マイクロストリップ線路40の場
合、マイクロストリップ線路40の終端部分と近接する
線路との間には必ず空隙が存在するため、この影響につ
いて説明する。図11(c)に空隙長dと誘起電圧の振
幅との関係を示す。空隙長dに関してマイクロストリッ
プ導体4の4辺のうち1辺を除去するところまでdを増
加させても、誘起電圧は変化しない。
Further, in the case of the microstrip line 40, since there is always a gap between the end portion of the microstrip line 40 and the adjacent line, this effect will be described. FIG. 11C shows the relationship between the gap length d and the amplitude of the induced voltage. With respect to the void length d, even if d is increased to the point where one of the four sides of the microstrip conductor 4 is removed, the induced voltage does not change.

【0046】以上のマイクロストリップ線路40の寸法
を変えた場合における測定結果から誘起電圧の振幅はマ
イクロストリップ導体4で囲まれる面積にほぼ比例して
いることがわかる。これから誘起電圧の振幅が2端子コ
イルに比較して約1桁小さくなる点を除けば、誘起電圧
はファラデーの電磁誘導則によって説明できる。さら
に、図11(c)に示した結果は誘起電圧発生時の電流
経路が1ターンのマイクロストリップ導体4が切れた終
端部分では接地導体面内を通っていることを示してい
る。
From the measurement results when the dimensions of the microstrip line 40 are changed, it can be seen that the amplitude of the induced voltage is almost proportional to the area surrounded by the microstrip conductor 4. Except for the fact that the amplitude of the induced voltage is about one digit smaller than that of the two-terminal coil, the induced voltage can be explained by Faraday's electromagnetic induction law. Further, the result shown in FIG. 11C shows that the current path when the induced voltage is generated passes through the ground conductor plane at the end portion where the one-turn microstrip conductor 4 is cut off.

【0047】次に、マイクロストリップ線路40の形状
と誘起電圧との関係を明らかにするとともに、1ターン
ループ以外の形状における誘起電圧の有無について説明
する。
Next, the relationship between the shape of the microstrip line 40 and the induced voltage will be clarified, and the presence or absence of the induced voltage in shapes other than the one-turn loop will be described.

【0048】図12は直線状マイクロストリップ線路2
0の概観図であり、誘電体基板22の表面上に直線状マ
イクロストリップ線路20を形成し、直線状マイクロス
トリップ線路20の一端をチップ抵抗21に接続し、チ
ップ抵抗21の他端を誘電体基板22の裏面に形成した
接地導体23に接続して、直線状マイクロストリップ線
路20をチップ抵抗21により終端する。この場合、直
線状マイクロストリップ線路20の特性インピーダンス
は50Ωであり、チップ抵抗21は50Ωの抵抗であ
る。磁界は図12に示すように直線状マイクロストリッ
プ線路20の面に直角な方向に印加した。
FIG. 12 shows a linear microstrip line 2
0 is a schematic view of 0, in which a linear microstrip line 20 is formed on the surface of a dielectric substrate 22, one end of the linear microstrip line 20 is connected to a chip resistor 21, and the other end of the chip resistor 21 is a dielectric. The linear microstrip line 20 is terminated by a chip resistor 21 by connecting to a ground conductor 23 formed on the back surface of the substrate 22. In this case, the characteristic impedance of the linear microstrip line 20 is 50Ω, and the chip resistor 21 is a resistor of 50Ω. The magnetic field was applied in a direction perpendicular to the surface of the linear microstrip line 20 as shown in FIG.

【0049】図13(a)に励磁周波数と誘起電圧の振
幅との関係を、図13(b)に励磁周波数と磁界に対す
る誘起電圧の位相差との関係を示す。
FIG. 13A shows the relationship between the excitation frequency and the amplitude of the induced voltage, and FIG. 13B shows the relationship between the excitation frequency and the phase difference of the induced voltage with respect to the magnetic field.

【0050】マイクロストリップ線路40の場合と比較
すると、誘起電圧の振幅が周波数に対して比例していな
いこと、および磁界と誘起電圧との位相差が0〜30°
であり、マイクロストリップ線路40の場合の90°と
異なっていること等から磁界検出原理が異なっているこ
とが明らかである。
Compared with the case of the microstrip line 40, the amplitude of the induced voltage is not proportional to the frequency, and the phase difference between the magnetic field and the induced voltage is 0 to 30 °.
It is clear that the principle of magnetic field detection is different because it is different from 90 ° in the case of the microstrip line 40.

【0051】次に、マイクロストリップ線路40の広帯
域性について説明する。
Next, the wide band property of the microstrip line 40 will be described.

【0052】マイクロストリップ線路40を広帯域で使
用するには、特性インピーダンスを50Ω付近に保持す
ることが望ましい。ここではマイクロストリップ線路4
0の寸法を変えた時の特性インピーダンスの変化を説明
する。図14は窓高yの異なるマイクロストリップ線路
40の特性インピーダンスZ0Cを測定により求め、直線
状マイクロストリップ線路20の特性インピーダンスZ
C で基準化して示したものである。図14はマイクロス
トリップ線路40の窓幅xが10mm、空隙長dが0.
5mm、接地導体2の高さygを12mmとした場合の
例である。隣接する導体の間隔が3mm未満となると線
路の結合が起こり、特性インピーダンスが減少する。特
性インピーダンスは無損失線路を仮定すると線路の一次
定数としてのインダクタンスLa、静電容量Caによっ
て、Z0 =√(La/Ca)となる。ここで逆方向の電
流が流れている平行な線路が接近すると負の相互インダ
クタンスが増加するためにLaが減少し、Caが増加す
るため、図14の結果は定性的に妥当である。上記の特
性インピーダンスのずれは結合線路の影響を考慮した上
で特性インピーダンスが50Ωとなる線路幅とすること
で解決できる。
In order to use the microstrip line 40 in a wide band, it is desirable to keep the characteristic impedance near 50Ω. Here, microstrip line 4
The change in the characteristic impedance when the dimension of 0 is changed will be described. In FIG. 14, the characteristic impedance Z 0C of the microstrip line 40 having different window heights y is obtained by measurement, and the characteristic impedance Z 0 of the linear microstrip line 20 is obtained.
It is shown standardized by C. In FIG. 14, the window width x of the microstrip line 40 is 10 mm and the gap length d is 0.
This is an example in which the height yg of the ground conductor 2 is 5 mm and the height yg is 12 mm. If the distance between adjacent conductors is less than 3 mm, line coupling occurs and the characteristic impedance decreases. Assuming a lossless line, the characteristic impedance is Z 0 = √ (La / Ca) due to the inductance La and the capacitance Ca as the linear constant of the line. Here, when parallel lines in which current flows in the opposite direction approaches, negative mutual inductance increases, La decreases, and Ca increases, so the result of FIG. 14 is qualitatively valid. The deviation of the characteristic impedance can be solved by setting the line width such that the characteristic impedance becomes 50Ω in consideration of the influence of the coupled line.

【0053】また、図示していないが、平行なストリッ
プ導体の間隔が3mm以上の場合、および空隙長dを
0.3mmからコイルの4辺のうち1辺を切り取った3
辺構造とするまで変化させたいずれの場合についても特
性インピーダンスはほぼ一定であった。
Although not shown, when the distance between the parallel strip conductors is 3 mm or more, and when one of the four sides of the coil is cut out from the gap length d of 0.3 mm, 3
The characteristic impedance was almost constant in all cases where the edge structure was changed.

【0054】図15はマイクロストリップ線路40と通
常の2端子コイルとの入力インピーダンスを比較したも
のである。マイクロストリップ導体4の窓幅xと窓高y
とはそれぞれ10.0mmと6.0mmであって、2端
子コイルの寸法は10.0mm×6.0mmで、2端子
コイルには50Ωの抵抗を直列に接続した。図15
(a)は抵抗分を示し、2端子コイルが共振の影響で2
0Ω〜180Ωの範囲で大きく変動しているのに対し
て、マイクロストリップ線路40の場合は40Ω〜60
Ωに保たれている。また、図15(b)はリアクタンス
分を示し、マイクロストリップ線路40のリアクタンス
分は抵抗分に比べて1/10以下であるため入力インピ
ーダンスはほぼ純抵抗とみなせる。
FIG. 15 compares the input impedances of the microstrip line 40 and a normal two-terminal coil. Window width x and window height y of the microstrip conductor 4
Are 10.0 mm and 6.0 mm, respectively, the size of the two-terminal coil is 10.0 mm × 6.0 mm, and a resistance of 50Ω is connected in series to the two-terminal coil. FIG.
(A) shows the resistance component, and the two-terminal coil is
While it fluctuates greatly in the range of 0Ω to 180Ω, it is 40Ω to 60 in the case of the microstrip line 40.
It is kept at Ω. Further, FIG. 15B shows the reactance component. Since the reactance component of the microstrip line 40 is 1/10 or less of the resistance component, the input impedance can be regarded as almost pure resistance.

【0055】入力インピーダンスがほぼ50Ωの純抵抗
であることによって広帯域性が得られることは伝送線路
の回路理論ではよく知られており、次の通り説明されて
いる。磁界検出の測定系の回路図を示した図7におい
て、Vcは交番磁界によって発生する電圧、Vrはネッ
トワークアナライザ12の内部で観測される50Ω抵抗
の端子電圧である。マイクロストリップ線路40の場
合、マイクロストリップ線路40を見た入力インピーダ
ンスZinが伝送性の特性インピーダンスZ0 に整合され
ているため、高周波にわたって観測される電圧VrはV
r≒Vc/2となる。これが広帯域に誘起電圧を測定す
る上での利点である。
It is well known in the circuit theory of transmission lines that wide bandwidth can be obtained by the input resistance being a pure resistance of about 50Ω, and it is explained as follows. In FIG. 7, which shows a circuit diagram of a measurement system for magnetic field detection, Vc is a voltage generated by an alternating magnetic field, and Vr is a terminal voltage of a 50Ω resistance observed inside the network analyzer 12. In the case of the microstrip line 40, since the input impedance Z in looking at the microstrip line 40 is matched with the transmission characteristic impedance Z 0 , the voltage Vr observed over a high frequency is V
r≈Vc / 2. This is an advantage in measuring the induced voltage in a wide band.

【0056】次に、接地導体面の影響について説明す
る。
Next, the influence of the ground conductor surface will be described.

【0057】マイクロストリップ導体4の寸法を、窓幅
xを10.0mm、窓高yを3.0mm、空隙長dを
0.5mmに固定し、接地導体面の寸法を変化させたと
きにおける誘起電圧および入力インピーダンスについて
説明する。図16は接地導体面の寸法の説明図である。
図16(a)はマイクロストリップ線路40側の表面で
あり、図16(b)は接地導体面側である。ygは接地
導体面の高さであり、hはマイクロストリップ導体4の
パターンの内側に設けた開口部30の高さである。開口
部30の横幅は10.0mmとマイクロストリップ導体
4の窓幅xと等しくした。これはパーミアンス測定装置
用の検出コイルにおける開口部30の影響を調べるため
である。さらに、図16(b)のwgは開口部30があ
る場合における接地導体面の幅を表している。測定では
接地導体面の寸法を次の3段階にわたって順次小さくし
た。 (イ) 接地導体面の高さygを12.0mmから5.
0mmまで小さくした。 (ロ) マイクロストリップ導体4の内側に幅が10.
0mm、高さがhの開口部30を作り、開口部30の高
さhを0mmから3.0mmまで大きくした。 (ハ) マイクロストリップ導体4の幅wc0.8mm
に対して接地導体面の幅wgを1mmから0.3mmま
で小さくした。この手順により変化させた寸法の範囲を
表3に示した。
Induction of the dimensions of the microstrip conductor 4 when the window width x is 10.0 mm, the window height y is 3.0 mm, the gap length d is 0.5 mm, and the dimensions of the ground conductor surface are changed. The voltage and the input impedance will be described. FIG. 16 is an explanatory diagram of the dimensions of the ground conductor surface.
16A is the surface on the microstrip line 40 side, and FIG. 16B is the ground conductor surface side. yg is the height of the ground conductor surface, and h is the height of the opening 30 provided inside the pattern of the microstrip conductor 4. The width of the opening 30 was 10.0 mm, which was equal to the window width x of the microstrip conductor 4. This is to investigate the influence of the opening 30 in the detection coil for the permeance measuring device. Further, wg in FIG. 16B represents the width of the ground conductor surface when there is the opening 30. In the measurement, the dimensions of the ground conductor surface were successively reduced in the following three steps. (A) The height yg of the ground conductor surface is from 12.0 mm to 5.
It was reduced to 0 mm. (B) The width of the inside of the microstrip conductor 4 is 10.
The opening 30 having a height of 0 mm and a height of 0 mm was made, and the height h of the opening 30 was increased from 0 mm to 3.0 mm. (C) Width wc 0.8 mm of the microstrip conductor 4
On the other hand, the width wg of the ground conductor surface was reduced from 1 mm to 0.3 mm. Table 3 shows the range of dimensions changed by this procedure.

【0058】[0058]

【表3】 [Table 3]

【0059】(イ) 接地導体面の高さygの影響につ
いて説明する。
(B) The influence of the height yg of the ground conductor surface will be described.

【0060】図17は地導体面の高さygとマイクロス
トリップ線路40の誘起電圧の振幅との関係を示したも
ので、電圧の値はマイクロストリップ導体4と同一寸法
の2端子コイルによる誘起電圧の値V0 で基準化して示
した。図17は励磁コイル10に印加した電圧の周波数
が10MHz、5MHz、1MHzの場合の例である。
図17から接地導体面の高さygが減少するとマイクロ
ストリップ線路40の誘起電圧はほぼ反比例して増大す
る。これは接地導体面の高さygを減少させると接地導
体面の内部を環流する渦電流が減少することを示唆して
いる。
FIG. 17 shows the relationship between the height yg of the ground conductor surface and the amplitude of the induced voltage in the microstrip line 40. The value of the voltage is the induced voltage due to the two-terminal coil having the same size as the microstrip conductor 4. The value V 0 was standardized and shown. FIG. 17 shows an example in which the frequency of the voltage applied to the exciting coil 10 is 10 MHz, 5 MHz, and 1 MHz.
As shown in FIG. 17, when the height yg of the ground conductor surface decreases, the induced voltage in the microstrip line 40 increases almost inversely. This suggests that reducing the height yg of the ground conductor surface reduces the eddy current circulating in the ground conductor surface.

【0061】この考察に基づきマイクロストリップ導体
4によるコイルパターンに鎖交する磁束量をT−Ω法に
よる3次元の電磁界解析から求め、誘起電圧VC をVC
=(dφ/dt)/2により計算した結果を図17に示
した。dφ/dtを2で除したのは、終端のチップ抵抗
5(50Ω)とネットワークアナライザ12の入力抵抗
とで分圧するためである。図17によって示した接地導
体面の高さygとマイクロストリップ線路40の誘起電
圧の振幅の関係は測定結果とよく一致し、解析結果より
接地導体面で渦電流が発生し、かつ導体部分の端部に局
在化されていることが判った。これより交番磁界の印加
により渦電流が生じて、マイクロストリップ導体4を鎖
交する磁界強度が減少することが定量的に明らかになっ
た。一方、図17に対応する入力インピーダンスは、図
18に示すように、抵抗分が支配的であり接地導体面の
高さygによる変化は40Ω〜60Ωの範囲にとどまり
インピーダンス整合上問題は少ないことが判る。 (ロ) 開口部の高さhの影響について説明する。
Based on this consideration, the amount of magnetic flux interlinking with the coil pattern of the microstrip conductor 4 is obtained from the three-dimensional electromagnetic field analysis by the T-Ω method, and the induced voltage V C is V C.
The result calculated by = (dφ / dt) / 2 is shown in FIG. The reason why dφ / dt is divided by 2 is to divide the voltage by the terminal resistance 5 (50Ω) and the input resistance of the network analyzer 12. The relationship between the height yg of the ground conductor surface and the amplitude of the induced voltage in the microstrip line 40 shown in FIG. 17 is in good agreement with the measurement result, and the analysis result shows that an eddy current is generated on the ground conductor surface and the end of the conductor portion. It was found to be localized in the area. From this, it was quantitatively clarified that an eddy current is generated by the application of the alternating magnetic field, and the magnetic field strength interlinking the microstrip conductor 4 is reduced. On the other hand, in the input impedance corresponding to FIG. 17, as shown in FIG. 18, the resistance component is dominant, and the change due to the height yg of the ground conductor surface remains within the range of 40Ω to 60Ω, and there are few problems in impedance matching. I understand. (B) The influence of the height h of the opening will be described.

【0062】図19は接地導体面の開口部30の高さh
とマイクロストリップ線路40の誘起電圧の振幅とを示
したもので、開口部30の高さhを変えてもマイクロス
トリップ線路40の誘起電圧の振幅は変化しない。これ
は渦電流が接地導体面内の端部に集中しているためであ
る。
FIG. 19 shows the height h of the opening 30 on the ground conductor surface.
And the amplitude of the induced voltage in the microstrip line 40 are shown. Even if the height h of the opening 30 is changed, the amplitude of the induced voltage in the microstrip line 40 does not change. This is because the eddy current is concentrated on the end portion in the ground conductor surface.

【0063】図20は開口部30の高さhを変化させた
ときの磁界センサ1、すなわち、マイクロストリップ線
路40の入力インピーダンスの周波数依存性を示したも
ので、開口部30の高さhを大きくするにしたがって入
力インピーダンスの変化は大きくなる。開口部30の高
さhが3mmの場合、すなわち図16(b)のように接
地導体面の幅wgがマイクロストリップ導体4の幅wc
とほぼ等しい1mmの場合、入力抵抗は35Ω〜70Ω
の範囲で大きく変化する。 (ハ) 接地導体面の幅wgの影響について説明する。
FIG. 20 shows the frequency dependency of the input impedance of the magnetic field sensor 1, that is, the microstrip line 40 when the height h of the opening 30 is changed. The change in input impedance increases as the value increases. When the height h of the opening 30 is 3 mm, that is, the width wg of the ground conductor surface is the width wc of the microstrip conductor 4 as shown in FIG.
In case of 1mm which is almost equal to, the input resistance is 35Ω ~ 70Ω
Changes greatly in the range of. (C) The influence of the width wg of the ground conductor surface will be described.

【0064】図21は接地導体面の幅wgとマイクロス
トリップ線路40の誘起電圧の振幅との関係を示したも
のであり、接地導体面の幅wgを小さくするとマイクロ
ストリップ線路40の誘起電圧は増加する。接地導体面
の幅wgが0mmの値は2端子コイルの場合のマイクロ
ストリップ線路40の誘起電圧を示している。
FIG. 21 shows the relationship between the width wg of the ground conductor surface and the amplitude of the induced voltage in the microstrip line 40. When the width wg of the ground conductor surface is reduced, the induced voltage in the microstrip line 40 increases. To do. The value in which the width wg of the ground conductor surface is 0 mm indicates the induced voltage of the microstrip line 40 in the case of the two-terminal coil.

【0065】図22は磁界センサ1の入力インピーダン
スの周波数依存性を示したものであり、接地導体面の幅
wgが1mm、0.8mm、0.6mm、0.3mmの
場合と2端子コイルの場合の例である。接地導体面の幅
wgが小さくなると磁界センサ1の入力インピーダンス
の変化が大きくなる。接地導体面の幅wgを0.3mm
まで小さくすると、磁界センサ1の誘起電圧は2端子コ
イルの約50%まで増加する一方で、入力インピーダン
スの変化は30Ω〜100Ωの範囲で大きく変化する。
FIG. 22 shows the frequency dependence of the input impedance of the magnetic field sensor 1. The width wg of the ground conductor surface is 1 mm, 0.8 mm, 0.6 mm, 0.3 mm and the two terminal coil. This is an example of the case. When the width wg of the ground conductor surface decreases, the change in the input impedance of the magnetic field sensor 1 increases. The width wg of the ground conductor surface is 0.3 mm
If it is made smaller, the induced voltage of the magnetic field sensor 1 increases to about 50% of that of the two-terminal coil, while the change of the input impedance greatly changes in the range of 30Ω to 100Ω.

【0066】以上、(イ)〜(ハ)から接地導体面を渦
電流が環流することによって、マイクロストリップ導体
4によるループを鎖交する磁界強度が2端子コイルの場
合より減少し、誘起電圧が減少する。渦電流が接地導体
面の端部に集中するため、誘起電圧は接地導体面に開口
部を設けても変化しない。入力インピーダンスの変化は
接地導体面の幅による影響が大きい。入力インピーダン
スが50Ωに対して±20%の範囲までの変化を許容す
るならば、誘起電圧の振幅が2端子コイルの場合の約3
7%まで増加させることができる。このときの接地導体
面の寸法は接地導体面の高さygがマイクロストリップ
導体4のループ外形と同程度の大きさである。
As described above, due to the eddy current circulating in the ground conductor surface from (a) to (c), the magnetic field strength interlinking the loop formed by the microstrip conductor 4 is reduced as compared with the two-terminal coil, and the induced voltage is reduced. Decrease. Since the eddy current concentrates on the end portion of the ground conductor surface, the induced voltage does not change even if the opening portion is provided on the ground conductor surface. The change in input impedance is greatly affected by the width of the ground conductor surface. If the input impedance is allowed to change within a range of ± 20% with respect to 50Ω, the amplitude of the induced voltage is approximately 3 when the amplitude of the two-terminal coil is
It can be increased up to 7%. The dimension of the ground conductor surface at this time is such that the height yg of the ground conductor surface is approximately the same as the loop outer shape of the microstrip conductor 4.

【0067】次に、薄膜によるマイクロストリップ線路
の場合について説明する。
Next, the case of a microstrip line made of a thin film will be described.

【0068】150μm厚のカバーガラス基板上に銅を
膜厚1μmスパッタし、イオントリミングにより1ター
ン形状に加工してマイクロストリップ線路40とした。
マイクロストリップ導体4の幅はマイクロストリップ線
路40の特性インピーダンスが50Ωとなるように
(1)式〜(4)式より求め、0.31mmとした。
Copper was sputtered to a thickness of 1 μm on a cover glass substrate having a thickness of 150 μm and processed into one turn shape by ion trimming to form a microstrip line 40.
The width of the microstrip conductor 4 was 0.31 mm, which was obtained from the equations (1) to (4) so that the characteristic impedance of the microstrip line 40 was 50Ω.

【0069】図23は、図2(a)に示した4辺構造で
あり、マイクロストリップ導体4の窓幅x、窓高yがと
もに3mmのマイクロストリップ線路40の磁界検出特
性を表している。励磁周波数はテフロン基板の場合と同
様に100MHzとした。励磁コイル10への印加電圧
とマイクロストリップ線路40の誘起電圧はほぼ比例し
ており、薄膜で作成したマイクロストリップ線路40に
ついても磁界検出が可能であることが判る。また、単位
面積当たりの誘起電圧は4辺構造のテフロン基板を用い
た場合と比較すると、約30%に低下していた。
FIG. 23 shows the magnetic field detection characteristic of the microstrip line 40 having the four-sided structure shown in FIG. 2A, in which both the window width x and the window height y of the microstrip conductor 4 are 3 mm. The excitation frequency was 100 MHz as in the case of the Teflon substrate. The applied voltage to the exciting coil 10 and the induced voltage of the microstrip line 40 are almost proportional to each other, and it can be seen that the magnetic field can be detected also in the microstrip line 40 made of a thin film. In addition, the induced voltage per unit area was reduced to about 30% as compared with the case where a Teflon substrate having a four-sided structure was used.

【0070】しかし、上記の結果(図17参照)をもと
に、接地導体面の高さygと誘起電圧の振幅が反比例す
ることを仮定すると、接地導体面の寸法を縮小すること
で、広帯域性を損なわずに誘起電圧を少なくとも4倍以
上に大きくできると考えられる。
However, based on the above results (see FIG. 17), assuming that the height yg of the ground conductor surface and the amplitude of the induced voltage are in inverse proportion to each other, the size of the ground conductor surface can be reduced to obtain a wide band. It is considered that the induced voltage can be increased at least four times or more without impairing the property.

【0071】[0071]

【発明の効果】以上説明したように本発明の磁界センサ
によれば、裏面に接地導体が形成された誘電体基板の表
面にほぼ1ターンのマクロストリップ導体を形成し、マ
イクロストリップ線路の特性インピーダンスの抵抗値と
ほぼ等しい抵抗値を有する抵抗によってマイクロストリ
ップ導体の先端部と接地導体とを電気的に接続してマイ
クロストリップ導体の先端部を終端して構成したため、
マイクロストリップ導体によって囲まれる面に鎖交する
磁界によってマイクロストリップ線路に誘起電圧を発生
し、この誘起電圧によって磁界の検出ができる効果があ
る。
As described above, according to the magnetic field sensor of the present invention, a macrostrip conductor of approximately one turn is formed on the surface of a dielectric substrate having a ground conductor formed on the back surface, and the characteristic impedance of the microstrip line is formed. Since the tip end of the microstrip conductor is electrically connected to the tip end of the microstrip conductor by a resistor having a resistance value substantially equal to that of the microstrip conductor,
An induced voltage is generated in the microstrip line by the magnetic field interlinking with the surface surrounded by the microstrip conductor, and this induced voltage has an effect of detecting the magnetic field.

【0072】さらに本発明によれば、マイクロストリッ
プ導体が囲む面積にほぼ比例した誘起電圧を得ることが
できて磁界を検出することができる効果が得られる。
Further, according to the present invention, it is possible to obtain the effect that the induced voltage substantially proportional to the area surrounded by the microstrip conductor can be obtained and the magnetic field can be detected.

【0073】また、本発明の磁界センサによれば、マイ
クロストリップ導体を薄膜またはプリント基板で形成し
た場合も同様に磁界の検出ができる効果がある。
According to the magnetic field sensor of the present invention, the magnetic field can be similarly detected even when the microstrip conductor is formed of a thin film or a printed board.

【0074】また、本発明の磁界センサによれば、マイ
クロストリップ線路の終端部と対向するマイクロストリ
ップ線路との間の空隙長を変化させてもほぼ一定の誘起
電圧が得られる効果がある。
Further, according to the magnetic field sensor of the present invention, there is an effect that a substantially constant induced voltage can be obtained even if the gap length between the end portion of the microstrip line and the opposing microstrip line is changed.

【0075】本発明によれば、接地導体面はマイクロス
トリップ線路の特性インピーダンスを一定値(50Ω)
に保つ役割を果たしており、このためにGHz帯までの
高周波の磁界センサとして使用できる。
According to the present invention, the ground conductor surface has a constant characteristic impedance (50Ω) of the microstrip line.
, And can be used as a high frequency magnetic field sensor up to GHz band.

【0076】また、本発明の磁界センサによれば、接地
導体面の幅、高さを小さくするとマイクロストリップ線
路によるコイルパターンの磁界強度が増大するため、大
振幅の誘起電圧が得られる効果がある。
Further, according to the magnetic field sensor of the present invention, when the width and height of the ground conductor surface are reduced, the magnetic field strength of the coil pattern by the microstrip line increases, so that an induced voltage with a large amplitude can be obtained. .

【0077】本発明によれば、接地導体面は特性インピ
ーダンスを上述のように指定値(実施例では(50Ω)
に保つ効果(望ましい効果)と同面内の渦電流によりマ
イクロストリップ線路に誘起される電圧を減少させる効
果(望ましくない効果)の双方の役割を有する。したが
って、特性インピーダンスを指定値に保ちつつ、接地導
体面の寸法を最適化する(幅と高さを小さくする)こと
を最適設計の指針とする。
According to the present invention, the characteristic impedance of the ground conductor surface is specified as described above ((50Ω in the embodiment).
Has the role of both the effect (desired effect) and the effect of reducing the voltage induced in the microstrip line by the in-plane eddy current (undesirable effect). Therefore, the optimum design guideline is to optimize the dimensions of the ground conductor surface (to reduce the width and height) while keeping the characteristic impedance at the specified value.

【0078】また、本発明の磁界センサによれば、特性
インピーダンスを設計値に保持したままでマイクロスト
リップ導体と接地導体面との距離を大きくすれば、大振
幅の誘起電圧を得ることができる効果もある。
Further, according to the magnetic field sensor of the present invention, it is possible to obtain a large amplitude induced voltage by increasing the distance between the microstrip conductor and the ground conductor surface while maintaining the characteristic impedance at the design value. There is also.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明にかかる磁界センサの一実施例の構成を
示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of an embodiment of a magnetic field sensor according to the present invention.

【図2】本発明にかかる磁界センサの一実施例における
マイクロストリップ線路の終端部とチップ抵抗との位置
関係を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a positional relationship between a terminal end portion of a microstrip line and a chip resistor in an embodiment of a magnetic field sensor according to the present invention.

【図3】本発明にかかる磁界センサの一実施例における
空隙長とZ0C/Z0 との関係を示す特性図である。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing the relationship between the air gap length and Z 0C / Z 0 in one embodiment of the magnetic field sensor according to the present invention.

【図4】本発明にかかる磁界センサの一実施例における
窓幅とZ0C/Z0 との関係を示す特性図である。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing a relationship between a window width and Z 0C / Z 0 in an example of the magnetic field sensor according to the present invention.

【図5】本発明にかかる磁界センサの一実施例における
入力インピーダンスの周波数特性図である。
FIG. 5 is a frequency characteristic diagram of input impedance in one embodiment of the magnetic field sensor according to the present invention.

【図6】本発明にかかる磁界センサの一実施例による磁
界検出の測定系の概観図である。
FIG. 6 is a schematic view of a measurement system for magnetic field detection according to an embodiment of a magnetic field sensor according to the present invention.

【図7】本発明にかかる磁界センサの一実施例による磁
界検出の測定系の等価回路図である。
FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of a measurement system for magnetic field detection according to an embodiment of a magnetic field sensor according to the present invention.

【図8】本発明にかかる磁界センサの一実施例における
窓幅をパラメータとしたときの印加電圧対誘起電圧の特
性図である。
FIG. 8 is a characteristic diagram of an applied voltage versus an induced voltage when a window width is used as a parameter in one embodiment of the magnetic field sensor according to the present invention.

【図9】本発明にかかる磁界センサの一実施例における
マイクロストリップ線路と2端子コイルとの磁界検出特
性を示す印加電圧対誘起電圧の特性図である。
FIG. 9 is a characteristic diagram of applied voltage vs. induced voltage showing magnetic field detection characteristics of a microstrip line and a two-terminal coil in one embodiment of a magnetic field sensor according to the present invention.

【図10】本発明にかかる磁界センサの一実施例におけ
るマイクロストリップ線路と2端子コイルにおける誘起
電圧の比較図である。
FIG. 10 is a comparison diagram of induced voltages in a microstrip line and a two-terminal coil in one embodiment of the magnetic field sensor according to the present invention.

【図11】本発明にかかる磁界センサの一実施例におけ
るマイクロストリップ線路のサイズと誘起電圧の振幅と
の関係を示す特性図である。
FIG. 11 is a characteristic diagram showing the relationship between the size of the microstrip line and the amplitude of the induced voltage in one embodiment of the magnetic field sensor according to the present invention.

【図12】直線状マイクロストリップ線路の斜視図であ
る。
FIG. 12 is a perspective view of a linear microstrip line.

【図13】直線状マイクロストリップ線路の周波数対誘
起電圧特性図である。
FIG. 13 is a frequency vs. induced voltage characteristic diagram of a linear microstrip line.

【図14】本発明にかかる磁界センサの一実施例におけ
るマイクロストリップ線路の窓高と特性インピーダンス
との関係を示す特性図である。
FIG. 14 is a characteristic diagram showing the relationship between the window height of the microstrip line and the characteristic impedance in one embodiment of the magnetic field sensor according to the present invention.

【図15】本発明にかかる磁界センサの一実施例におけ
るマイクロストリップ線路の入力インピーダンスの周波
数特性図である。
FIG. 15 is a frequency characteristic diagram of input impedance of a microstrip line in an example of the magnetic field sensor according to the present invention.

【図16】本発明にかかる磁界センサの一実施例におけ
る接地導体面の形状の説明に供する平面図である。
FIG. 16 is a plan view for explaining the shape of a ground conductor surface in an embodiment of the magnetic field sensor according to the invention.

【図17】本発明にかかる磁界センサの一実施例におけ
る接地導体面の高さと誘起電圧の振幅との関係を示す特
性図である。
FIG. 17 is a characteristic diagram showing the relationship between the height of the ground conductor surface and the amplitude of the induced voltage in one embodiment of the magnetic field sensor according to the present invention.

【図18】本発明にかかる磁界センサの一実施例におけ
る接地導体面の高さと入力インピーダンスとの関係を示
す特性図である。
FIG. 18 is a characteristic diagram showing the relationship between the height of the ground conductor surface and the input impedance in one embodiment of the magnetic field sensor according to the present invention.

【図19】本発明にかかる磁界センサの一実施例におけ
る開口部の高さと誘起電圧の振幅との関係を示す特性図
である。
FIG. 19 is a characteristic diagram showing the relationship between the height of the opening and the amplitude of the induced voltage in one embodiment of the magnetic field sensor according to the present invention.

【図20】本発明にかかる磁界センサの一実施例におけ
る開口部の高さと入力インピーダンスとの関係を示す特
性図である。
FIG. 20 is a characteristic diagram showing the relationship between the height of the opening and the input impedance in one embodiment of the magnetic field sensor according to the present invention.

【図21】本発明にかかる磁界センサの一実施例におけ
る接地導体面の幅と誘起電圧の振幅との関係を示す特性
図である。
FIG. 21 is a characteristic diagram showing the relationship between the width of the ground conductor surface and the amplitude of the induced voltage in one embodiment of the magnetic field sensor according to the invention.

【図22】本発明にかかる磁界センサの一実施例におけ
る接地導体面と入力インピーダンスとの関係を示す特性
図である。
FIG. 22 is a characteristic diagram showing the relationship between the ground conductor surface and the input impedance in one embodiment of the magnetic field sensor according to the present invention.

【図23】本発明にかかる磁界センサの一実施例におけ
る薄膜マイクロストリップ線路の誘起電圧の振幅と印加
電圧との関係を示す特性図である。
FIG. 23 is a characteristic diagram showing the relationship between the amplitude of the induced voltage and the applied voltage of the thin film microstrip line in one embodiment of the magnetic field sensor according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……磁界センサ 2……接地導体 3……誘電体基板 4……マイクロストリップ導体 5……チップ抵抗 10…励磁コイル 40……マイクロストリップ線路 1 ... Magnetic field sensor 2 ... Ground conductor 3 ... Dielectric substrate 4 ... Microstrip conductor 5 ... Chip resistance 10 ... Excitation coil 40 ... Microstrip line

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】裏面に接地導体が形成された誘電体基板
と、前記誘電体基板の表面に形成したほぼ1ターンのマ
イクロストリップ導体と、マイクロストリップ線路の特
性インピーダンスの抵抗値とほぼ等しい抵抗値を有し、
かつ前記マイクロスットリップ導体の先端部と前記接地
導体とを電気的に接続する抵抗とを備えたことを特徴と
する磁界センサ。
1. A dielectric substrate having a ground conductor formed on the back surface thereof, a microstrip conductor having substantially one turn formed on the surface of the dielectric substrate, and a resistance value substantially equal to the resistance value of the characteristic impedance of the microstrip line. Have
A magnetic field sensor comprising a resistor electrically connecting the tip of the micro-strip conductor and the ground conductor.
【請求項2】請求項1記載の磁界センサにおいて、マイ
クロストリップ線路は薄膜またはプリント基板で形成し
たことを特徴とする磁界センサ。
2. The magnetic field sensor according to claim 1, wherein the microstrip line is formed of a thin film or a printed board.
【請求項3】請求項1記載の磁界センサにおいて、抵抗
は誘電体基板の表面に形成したチップ抵抗であることを
特徴とする磁界センサ。
3. The magnetic field sensor according to claim 1, wherein the resistor is a chip resistor formed on the surface of a dielectric substrate.
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