JPH08127100A - Reflector - Google Patents
ReflectorInfo
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- JPH08127100A JPH08127100A JP6269506A JP26950694A JPH08127100A JP H08127100 A JPH08127100 A JP H08127100A JP 6269506 A JP6269506 A JP 6269506A JP 26950694 A JP26950694 A JP 26950694A JP H08127100 A JPH08127100 A JP H08127100A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、本発明は、反射率の高
い銀の反射体に関し、さらに、絞り加工可能な反射体に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a highly reflective silver reflector, and more particularly to a drawable reflector.
【0002】[0002]
【従来の技術】蛍光灯や白熱灯用の反射体としては、し
ばしば鏡面研磨したアルミニウム板が用いられている。
しかしながら、アルミニウムでは反射率が十分でないと
いう問題があったため、アルミニウムに代えて銀を透明
高分子フィルム上に薄膜層として形成せしめた反射フィ
ルムがある。該反射フィルムを例えばアルミニウム板に
対して、銀面に接着剤を塗布しラミネートした反射板
は、反射率が90%以上でしかも優れた曲げ加工性や打
ち抜き加工性を有する(特開平1−299029、特開
平5ー162227)。しかしながら、反射体には、集
光する目的のため曲面をもったものが多く用いられてい
るところ、産業上曲面もつ反射体は極めて有用であり、
具体的には、SR50mm程度の曲面加工が可能である
ことが好ましい。そこで、本発明者らは、当該反射板用
いて曲面をもつ反射体を得るために絞り加工を行ったと
ころ、フィルムに亀裂が入り、意図した反射体を得るこ
とができないという新規な問題に遭遇した。2. Description of the Related Art Mirror-polished aluminum plates are often used as reflectors for fluorescent lamps and incandescent lamps.
However, since aluminum has a problem that the reflectance is not sufficient, there is a reflective film in which silver is formed as a thin film layer on a transparent polymer film instead of aluminum. A reflection plate obtained by applying an adhesive to a silver surface and laminating the reflection film on, for example, an aluminum plate has a reflectance of 90% or more and has excellent bending workability and punching workability (Japanese Patent Laid-Open No. 1-299029). , JP-A-5-162227). However, since many reflectors having a curved surface are used for the purpose of focusing light, a reflector having a curved surface is industrially very useful.
Specifically, it is preferable that curved surface processing of SR 50 mm is possible. Then, the inventors of the present invention encountered a new problem that, when performing a drawing process to obtain a reflector having a curved surface using the reflector, a crack was formed in the film and the intended reflector could not be obtained. did.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、かかる
問題を解決するために、鋭意研究を重ねた結果、透明高
分子フィルムに亀裂が入るのは絞り加工したときにフィ
ルムに応力がかかることが原因であることを見いだし、
さらに研究を重ねた結果、高分子フィルムが適当な引張
伸び特性ならびに適当な引張強度を有するものを用いる
ことにより解決できることを見いだし、本発明に到達し
た。DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that cracks in a transparent polymer film cause stress when the film is drawn. Found that
As a result of further research, they have found that the polymer film can be solved by using a polymer film having an appropriate tensile elongation property and an appropriate tensile strength, and arrived at the present invention.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、上
記の問題を解決するためになされたものであって、その
要旨とするところは、透明高分子フィルム(A)、厚さ
100及至300nmの銀薄膜層(B)、接着層
(C)、板状成形体(D)の少なくともAとBとCとD
とが、ABCDの構成で形成された反射体にして、該透
明高分子フィルムの引張伸びが150%乃至450%で
あり、かつ、引張強さが200乃至1500kg/cm
2 以上である反射体であり、特に、透明高分子フィルム
の、波長550nmの光に対する透過率が85%以上で
ある反射体である反射体であり、また、板状成形体がア
ルミニウムもしくはアルミニウム合金である反射体であ
る。That is, the present invention has been made to solve the above problems, and the gist thereof is a transparent polymer film (A) having a thickness of 100 to 300 nm. At least A, B, C and D of the silver thin film layer (B), the adhesive layer (C) and the plate-shaped molded body (D) of
Is a reflector formed of ABCD, and the transparent polymer film has a tensile elongation of 150% to 450% and a tensile strength of 200 to 1500 kg / cm.
A reflector having a number of 2 or more, in particular, a reflector having a transmittance of 85% or more for a light having a wavelength of 550 nm of a transparent polymer film, and a plate-shaped molded body made of aluminum or an aluminum alloy. Is a reflector.
【0005】以下、本発明の構成要件を説明する。ま
ず、添付図面について説明するに、図1は、本発明にか
かる反射体の層構成を示すものであって、10は透明高
分子フィルム、20は銀薄膜層、30は接着層、および
40は板状成形体である。本発明における高分子フィル
ム(A)の材料は、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポ
リエステル、ポリアミド、ポリエーテルスルフォン、ポ
リカーボネート、弗素系フィルムが等が使用できるが、
必ずしもこれらの種類に限定されるわけではなく、要
は、引張伸びが150%乃至450%であり、より好ま
しくは200%乃至400%であり、さらにより好まし
くは250%ないし400%であり、かつ、引張強さが
200乃至1500kg/cm2 であり、より好ましく
は、300乃至1000kg/cm2 であり、ある程度
ガラス転移温度が高いものであれば使用できる。The constitutional requirements of the present invention will be described below. First, referring to the attached drawings, FIG. 1 shows a layer structure of a reflector according to the present invention, in which 10 is a transparent polymer film, 20 is a silver thin film layer, 30 is an adhesive layer, and 40 is It is a plate-shaped molded body. As the material of the polymer film (A) in the present invention, polypropylene, polyethylene, polyester, polyamide, polyether sulfone, polycarbonate, fluorine film and the like can be used.
It is not necessarily limited to these types, but the point is that the tensile elongation is 150% to 450%, more preferably 200% to 400%, even more preferably 250% to 400%, and The tensile strength is 200 to 1500 kg / cm 2 , more preferably 300 to 1000 kg / cm 2 , and any glass having a glass transition temperature that is high to some extent can be used.
【0006】伸びがこれ未満では、絞り加工時にフィル
ムに亀裂が入りやすく、これを越えると、フィルムに皺
がよってしまう。また、引張強さがこれより小さいと加
工時にやはりフィルムに亀裂が入り、これを越えるとフ
ィルムに皺がよってしまう。なお、フィルムの引張強さ
および引張伸びの測定には、ASTM D−882法を
用いて測定すればよい。If the elongation is less than this, the film is likely to be cracked at the time of drawing, and if it exceeds this, the film is wrinkled. Further, if the tensile strength is smaller than this, the film also cracks during processing, and if it exceeds this, the film becomes wrinkled. The tensile strength and the tensile elongation of the film may be measured by using the ASTM D-882 method.
【0007】フィルムの厚みには限定的に値はないが、
25〜150μm程度が好ましく用いられる。使用する
高分子フィルムの光学特性は、波長550nmの光の線
透過率が85%以上であり、かつ、曇価が7%以下であ
ることが好ましい。より好ましくは、波長500〜70
0nmの範囲の光に対して、光線透過率が85%以上で
あり、曇価が7%以下である。光線透過率がこれよりも
低いと、反射フィルムとした時の全反射率が所望の値に
達しなくなる。また、適当な拡散反射率を有する反射板
を得るためには、上記透明高分子フィルムの曇価を調整
すれば良い。Although the film thickness has no limit value,
About 25 to 150 μm is preferably used. Regarding the optical properties of the polymer film used, it is preferable that the linear transmittance of light having a wavelength of 550 nm is 85% or more and the haze value is 7% or less. More preferably, the wavelength is 500 to 70.
With respect to light in the range of 0 nm, the light transmittance is 85% or more and the haze value is 7% or less. If the light transmittance is lower than this, the total reflectance of the reflective film will not reach the desired value. Further, in order to obtain a reflector having an appropriate diffuse reflectance, the haze value of the transparent polymer film may be adjusted.
【0008】なお、銀の耐光性を向上させるために高分
子フィルムが紫外線を吸収する特性を有することが好ま
しいことは、当業者が理解するところである。銀薄膜層
(B)の形成法は、湿式法および乾式法がある。湿式法
とはメッキ法の総称であり、溶液から銀を析出さて膜を
形成する方法である。具体例を挙げるとすれば、銀鏡反
応等がある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であ
り、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着
法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、インビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等が
ある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツ
ロール方式が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。It will be understood by those skilled in the art that the polymer film preferably has the property of absorbing ultraviolet rays in order to improve the light resistance of silver. The method of forming the silver thin film layer (B) includes a wet method and a dry method. The wet method is a general term for plating methods, and is a method of depositing silver from a solution to form a film. Specific examples include silver mirror reaction and the like. On the other hand, the dry method is a general term for a vacuum film forming method, and if it is specifically exemplified, a resistance heating vacuum evaporation method, an electron beam heating vacuum evaporation method, an ion plating method, an in-beam assisted vacuum evaporation method. , The sputtering method, etc. In particular, a vacuum film forming method capable of a roll-to-roll method of continuously forming a film is preferably used in the present invention.
【0009】真空蒸着法では銀の原材料を電子ビーム、
抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸気圧を上昇させ、
好ましくは0.1mTorr(約0.01Pa)以下で
基材表面に蒸着させる。この際に、アルゴン等のガスを
0.1mTorr(約0.01Pa)以上導入させ、高
周波もしくは直流のグロー放電を起こしてもよい。スパ
ッタ法では、DCマグネトロンスパッタ法、rfマグネ
トロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、ECRス
パッタ法、コンベンショナルrfスパッタ法、コンベン
ショナルDCスパッタ法等を使用し得る。スパッタ法に
おいては、原材料は銀の板状のターゲットを用いればよ
く、スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、
クリプトン、キセノン等を使用し得るが、好ましくはア
ルゴンが用いられる。ガスの純度は、99%以上が好ま
しいが、より好ましくは99.5%以上である。In the vacuum deposition method, the silver raw material is an electron beam,
Melt by resistance heating, induction heating, etc. to raise the vapor pressure,
Preferably, it is vapor-deposited on the surface of the substrate at 0.1 mTorr (about 0.01 Pa) or less. At this time, a gas such as argon may be introduced at 0.1 mTorr (about 0.01 Pa) or more to cause high frequency or direct current glow discharge. As the sputtering method, a DC magnetron sputtering method, an rf magnetron sputtering method, an ion beam sputtering method, an ECR sputtering method, a conventional rf sputtering method, a conventional DC sputtering method or the like can be used. In the sputtering method, a silver plate-shaped target may be used as the raw material, and the sputtering gas may be helium, neon, argon,
Although krypton, xenon and the like can be used, argon is preferably used. The purity of the gas is preferably 99% or more, more preferably 99.5% or more.
【0010】銀薄膜層の厚さは、100nm〜300n
mが好ましく、より好ましくは100nm〜200nm
である。これ未満でも、通常は70nm以上であれば銀
の膜厚が十分であり、透過する光はほとんど存在せず、
充分な反射率が得られるが、絞り加工したときに銀膜厚
が薄くなり、透過光が存在するようになる。そのため、
銀の薄膜は100nm以上であることが好ましい。一
方、膜厚を300nmより厚くしても反射率はそれ以上
上昇せず、飽和傾向を示す上に、銀層の高分子フィルム
に対する密着性が低下するので好ましくない。また、資
源の有効な利用という観点からも300nmを越える膜
厚にすることは好ましくない。もっとも別の目的からこ
れより敢えて薄くしたり厚くしたりすることは自由であ
る。The thickness of the silver thin film layer is 100 nm to 300 n.
m is preferable, and more preferably 100 nm to 200 nm.
Is. If it is less than this, the thickness of silver is usually sufficient if it is 70 nm or more, and there is almost no transmitted light.
Sufficient reflectance can be obtained, but when drawn, the silver film thickness becomes thin and transmitted light comes to exist. for that reason,
The silver thin film is preferably 100 nm or more. On the other hand, even if the film thickness is made thicker than 300 nm, the reflectance does not increase any more, and it tends to be saturated, and the adhesiveness of the silver layer to the polymer film is lowered, which is not preferable. Further, from the viewpoint of effective utilization of resources, it is not preferable to set the film thickness to more than 300 nm. For other purposes, you are free to make it thinner or thicker than this.
【0011】膜厚の測定は、触針粗さ計、繰り返し反射
干渉計、マイクロバランス、水晶振動子法等があるが、
水晶振動子法では成膜中に膜厚が測定可能なので所望の
膜厚を得るのに適している。また、前もって成膜の条件
を定めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜
厚の関係を調べた上で、成膜時間により膜を制御する方
法もある。なお、銀薄膜層には、性能に害を及ぼさない
程度の、金、銅、ニッケル、鉄、、コバルト、タングス
テン、モリブデン、タンタル、クロム、インジュウム、
マンガン、チタン等の金属不純物が含まれてもよい。The film thickness can be measured by a stylus roughness meter, a repeated reflection interferometer, a microbalance, a crystal oscillator method, etc.
The crystal oscillator method is suitable for obtaining a desired film thickness because the film thickness can be measured during film formation. Further, there is also a method in which conditions for film formation are determined in advance, film formation is performed on a sample substrate, the relationship between film formation time and film thickness is investigated, and then the film is controlled by the film formation time. Incidentally, the silver thin film layer, gold, copper, nickel, iron, cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum, chromium, indium, to the extent that the performance is not impaired,
Metal impurities such as manganese and titanium may be included.
【0012】銀薄膜層を形成した後、銀層の保護やフィ
ルムの滑り性の向上の目的のため、さらにインコネル、
クロム、ニッケル、チタン、アルミニウム、モリブデ
ン、タングステン等の単金属もしくは合金を10nm〜
30nm積層することが有効であることは、当業者が理
解しているところであろう。銀層の耐候性を向上させる
目的で、金、白金、パラジウムを数〜数10原子%添加
することは当業者の設計の範囲であろう。銀薄膜層を透
明高分子フィルム上に設ける際に、高分子フィルム表面
に、コロナ放電処理、グロー放電処理、表面化学処理、
粗面化処理等を行うことが銀薄膜層と高分子フィルムの
密着性を向上させる上で効果があることは当業者が理解
しているところである。After forming the silver thin film layer, for the purpose of protecting the silver layer and improving the slipperiness of the film, Inconel,
Single metal or alloy such as chromium, nickel, titanium, aluminum, molybdenum, and tungsten is 10 nm-
Those skilled in the art will understand that stacking 30 nm is effective. It will be within the design of those skilled in the art to add gold, platinum, or palladium in the range of several to several tens of atomic% for the purpose of improving the weather resistance of the silver layer. When providing the silver thin film layer on the transparent polymer film, the polymer film surface, corona discharge treatment, glow discharge treatment, surface chemical treatment,
It is understood by those skilled in the art that the surface roughening treatment is effective in improving the adhesion between the silver thin film layer and the polymer film.
【0013】本発明で用いられる接着剤(C)は、熱ま
たは触媒の助けにより接着される接着剤であり具体的に
は、シリコン系接着剤、ポリエステル系接着剤、エポキ
シ系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、アクリル系
接着剤など一般的な接着剤を用いることができる。シリ
コン系接着剤、及びポリエステル系接着剤は耐熱性、電
気特性に優れているためトリガを印加するストロボ用反
射体用に好適に利用できる。エポキシ系接着剤は強度、
耐熱性に優れているため、これもまた好適に利用でき
る。The adhesive (C) used in the present invention is an adhesive which is adhered with the aid of heat or a catalyst, and specifically, silicone adhesive, polyester adhesive, epoxy adhesive, cyanoacrylate. A general adhesive such as a system adhesive or an acrylic adhesive can be used. Since the silicone-based adhesive and the polyester-based adhesive have excellent heat resistance and electrical characteristics, they can be suitably used for a reflector for stroboscope that applies a trigger. Epoxy adhesive is strong,
Since it has excellent heat resistance, it can also be suitably used.
【0014】シアノアクリレート系接着剤は、速攻性と
強度に優れているため、効率的な反射体作製に利用でき
る。これらの接着剤は、接着方法によって熱硬化型、ホ
ットメルト型、二液混合型に大別されるが、好ましくは
連続生産が可能な熱硬化型あるいはホットメルト型が使
用される。熱接着剤の厚みには、特に限定はないが、通
常0.5μm〜50μm、好ましくは1μm〜20μm
程度である。The cyanoacrylate-based adhesive has excellent quick attack property and strength, and therefore can be used for efficient production of a reflector. These adhesives are roughly classified into a thermosetting type, a hot-melt type, and a two-liquid mixed type depending on the bonding method, but a thermosetting type or a hot-melt type capable of continuous production is preferably used. The thickness of the thermal adhesive is not particularly limited, but is usually 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 20 μm.
It is a degree.
【0015】銀薄膜層(B)を形成した高分子フィルム
(A)と板状成形体(D)との接着は、銀薄膜層への接
着剤のコーティング、乾燥、ローラーによる板状成形体
とのラミネート、の手順により行われる。接着剤のコー
ティング方法は、基材や接着剤の種類によって多くの方
法があるが、広く使用されているのはグラビアコーター
方式及びリバースコーター方式である。グラビアコータ
ー方式では、接着剤に一部分が浸されているグラビアロ
ールを回転させ、バックアップロールによって送られる
フィルムを接着剤の付着したグラビアロールに接触させ
ることでコーティングする。コーティング量はロールの
回転数、接着剤の粘度を制御することで調整できる。リ
バースコーター方式も、グラビアロール方式に類似した
方法であるが、コーティングロールに付着する接着剤の
量を、それに接して設置されているメタリングロールに
よって調整する。コーティングされた接着剤の乾燥温
度、及びラミネート温度は接着剤の種類によってまちま
ちであるが、上記に掲げた一般的な接着剤を用いる場合
は100℃前後である。The polymer film (A) having the silver thin film layer (B) formed thereon and the plate-like molded body (D) are bonded to each other by coating the silver thin film layer with an adhesive, drying, and rolling the plate-shaped molded body with a roller. Laminating, is performed. There are many adhesive coating methods depending on the type of base material and adhesive agent, but the widely used are the gravure coater method and the reverse coater method. In the gravure coater method, a gravure roll, a part of which is immersed in an adhesive, is rotated, and a film fed by a backup roll is brought into contact with the gravure roll to which the adhesive is attached to perform coating. The coating amount can be adjusted by controlling the rotation speed of the roll and the viscosity of the adhesive. The reverse coater method is also a method similar to the gravure roll method, but the amount of the adhesive attached to the coating roll is adjusted by the metering roll installed in contact with the coating roll. The drying temperature and the laminating temperature of the coated adhesive vary depending on the kind of the adhesive, but when the general adhesive listed above is used, it is around 100 ° C.
【0016】この接着剤による銀薄膜層を形成した透明
高分子フィルムと板状成形体との密着強度は、180度
ピール強度で測定して100g/cm以上程度であるこ
とが望ましい。この密着強度に達しない場合には、スト
ロボ用反射体として板金加工した際、銀薄膜層を形成し
た透明高分子フィルムの板状成形体からの剥がれ等が生
じやすくなる。The adhesive strength between the transparent polymer film having a silver thin film layer formed by this adhesive and the plate-like molded article is preferably about 100 g / cm or more as measured by 180 degree peel strength. If the adhesion strength is not reached, the transparent polymer film on which the silver thin film layer is formed is likely to be peeled off from the plate-shaped body when processed as a reflector for a strobe.
【0017】本発明における板状成形体には、アルミニ
ウム、アルミ合金、ステンレス鋼、鋼亜鉛合金等が使用
されるが、これらの金属にはそれぞれ長所があり次のよ
うに使い分けることができるとは当業者の設計条件の範
囲である。アルミニウムは軽量かつ加工性に優れ、ま
た、熱伝導率が高くそれにかかる熱を効果的に大気中に
逃がすことができるため、ランプ発光によって反射体が
加熱される場合に好適に利用できる。アルミ合金は軽量
かつ機械的強度が強いため、強度が要求される反射体に
好適に利用できる。ステンレス鋼は機械的強度が適度に
あり、また耐蝕性にすぐれているため、耐触性が要求さ
れるストロボ用反射傘に好適に利用できる。ステンレス
綱の場合は、例えばクロムを10及至19重量%および
ニッケルを6及至10重量%含有するオーステナイ系ス
テンレス鋼である。鋼亜鉛合金すなわち黄銅またはしん
ちゅうは、機械的強度の強いことに加え、はんだづけが
容易なため電気的な端子をとり必要がある反射体に好適
に利用できる。黄銅の場合は、例えば銅を58及至72
重量%含有する黄銅である。なお、云うまでもないが、
プラスチックの板を用いることができるのは勿論のこと
である。Aluminum, aluminum alloy, stainless steel, steel-zinc alloy and the like are used for the plate-shaped molded product in the present invention, and these metals have advantages and can be used as follows. It is within the range of design conditions of those skilled in the art. Aluminum is lightweight and excellent in workability, has high thermal conductivity, and can effectively dissipate heat to the atmosphere. Therefore, aluminum can be suitably used when the reflector is heated by light emission from a lamp. Since aluminum alloy is lightweight and has high mechanical strength, it can be suitably used for a reflector that requires strength. Since stainless steel has an appropriate mechanical strength and excellent corrosion resistance, it can be suitably used for a reflector for a strobe that requires touch resistance. In the case of stainless steel, for example, it is an austenitic stainless steel containing 10 to 19% by weight of chromium and 6 to 10% by weight of nickel. Steel-zinc alloy, that is, brass or brass, has a high mechanical strength and is easy to solder, so that it can be suitably used for a reflector that requires electrical terminals. In the case of brass, for example, copper 58 to 72
It is brass containing wt%. Needless to say,
Of course, a plastic plate can be used.
【0018】かくして、作製された反射板の反射率は典
型的には550nmの波長の光に対して93%以上であ
り、より詳しくは500nm〜750nmの範囲で93
%以上である。かくして形成された本発明にかかる反射
体は、好適に絞り加工可能なものである。絞り加工は、
熱間加工および冷間加工で行うことができる。熱間加工
は高分子フィルムの融点よりも低い温度で行うことが好
ましい。また、より好ましくは冷間加工であり、特に、
アルミニウムもしくは、アルミ合金は冷間加工が好まし
い。また、いわゆる超塑性合金なども加工上の利点を活
かして好ましく使用されることは勿論である。以下、実
施例により本発明の実施の態様の一例を説明する。Thus, the reflectance of the produced reflector is typically 93% or more with respect to light having a wavelength of 550 nm, and more specifically, 93 in the range of 500 nm to 750 nm.
% Or more. The reflector according to the present invention thus formed can be suitably drawn. The drawing process is
It can be performed by hot working and cold working. The hot working is preferably performed at a temperature lower than the melting point of the polymer film. Further, more preferably cold working, in particular,
Aluminum or an aluminum alloy is preferably cold worked. Also, it goes without saying that so-called superplastic alloys are preferably used by taking advantage of processing. Hereinafter, an example of an embodiment of the present invention will be described with reference to examples.
【0019】[0019]
【実施例】以下において、フィルムの引張強さおよび伸
びは、ASTM D−882に基づいて測定した。ま
た、反射率は、分光光度計(日立U−3400)により
測定した。EXAMPLES In the following, the tensile strength and elongation of the film were measured according to ASTM D-882. The reflectance was measured with a spectrophotometer (Hitachi U-3400).
【0020】〔実施例1〕未延伸のポリプロピレンフィ
ルム(厚さ50μm、引張強さ1300kg/cm2 、
伸び400%)に真空蒸着法で、120nmの銀薄膜を
形成した。銀を蒸着した面に、ポリエステル系のホット
メルト接着剤(綜研化学SDダイン5273)を5μm
厚に塗布し、厚さ0.2mmのアルミ板に熱ラミネーシ
ョンにより接着した。得られた試料の反射率、波長55
0nmで95.6%であった。Example 1 An unstretched polypropylene film (thickness 50 μm, tensile strength 1300 kg / cm 2 ,
A silver thin film having a thickness of 120 nm was formed by a vacuum vapor deposition method at an elongation of 400%. 5μm of polyester hot melt adhesive (Souken Kagaku SD Dyne 5273) on the silver deposited surface
It was applied thickly and adhered to a 0.2 mm thick aluminum plate by thermal lamination. The reflectance of the obtained sample, wavelength 55
It was 95.6% at 0 nm.
【0021】〔実施例2〕テトラフルオロエチレン−エ
チレン共重合体(ETFE)フィルム(厚さ、25μm
引張強さ450kg/cm2 、伸び330%)に、純銀
のターゲットを用いたマグネトロンスパッタ法で130
nmの厚さの銀薄膜を形成した。銀を形成した面に、ポ
リエステル系のホットメルト接着剤(綜研化学SKダイ
ン5276)を5μm厚に塗布し、厚さ0.3mmのア
ルミ板に熱ラミネーションにより接着した。得られた資
料の反射率は、波長550nmで96.2%であった。Example 2 Tetrafluoroethylene-ethylene copolymer (ETFE) film (thickness, 25 μm
A tensile strength of 450 kg / cm 2 and an elongation of 330%) was obtained by a magnetron sputtering method using a pure silver target.
A silver thin film having a thickness of nm was formed. A polyester hot melt adhesive (Souken Kagaku SK Dyne 5276) was applied to the silver-formed surface in a thickness of 5 μm and adhered to an aluminum plate having a thickness of 0.3 mm by thermal lamination. The reflectance of the obtained material was 96.2% at a wavelength of 550 nm.
【0022】〔実施例3〕ポリクロロトリフルオロエチ
レン(PCTFE)フィルム(厚さ、25μm、引張強
さ410kg/cm2 、伸び170%)に、純銀のター
ゲットを用いたマグネトロンスパッタ法で130nmの
厚さの銀薄膜を形成した。銀を形成した面に、ポリエス
テル系のホットメルト接着剤(綜研化学SKダイン52
73)を5μm厚に塗布し、厚さ0.3mmの黄銅板
(JIS2種)に熱ラミネーションにより接着した。得
られた試料の反射率は、波長550nmで96.5%で
あった。Example 3 A polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) film (thickness: 25 μm, tensile strength: 410 kg / cm 2 , elongation: 170%) was used, and a thickness of 130 nm was obtained by a magnetron sputtering method using a pure silver target. A silver thin film was formed. Polyester hot melt adhesive (Souken Kagaku SK Dyne 52
73) was applied to a thickness of 5 μm and adhered to a brass plate (JIS type 2) having a thickness of 0.3 mm by thermal lamination. The reflectance of the obtained sample was 96.5% at a wavelength of 550 nm.
【0023】〔実施例4〕未延伸のポリエステルフィル
ム(厚さ50μm、引張強さ700kg/cm2、伸び
440%)に真空蒸着法で、126nmの銀薄膜を形成
した。銀を蒸着した面に、ポリエステル系のホットメル
ト接着剤(綜研化学SDダイン5273)を5μm厚に
塗布し、厚さ0.2mmのアルミ板に熱ラミネーション
により接着した。得られた試料の反射率は、波長550
nmで94.3%であった。Example 4 A 126 nm silver thin film was formed on a non-stretched polyester film (thickness: 50 μm, tensile strength: 700 kg / cm 2 , elongation: 440%) by a vacuum deposition method. A polyester hot melt adhesive (Souken Kagaku SD Dyne 5273) was applied on the silver vapor-deposited surface to a thickness of 5 μm and adhered to a 0.2 mm thick aluminum plate by thermal lamination. The reflectance of the obtained sample has a wavelength of 550.
It was 94.3% in nm.
【0024】〔比較例1〕実施例1において、未延伸の
ポリプロピレンフィルムの代わりに、延伸したポリプロ
ピレンフィルム(厚さ25μm、引張強さ1300kg
/cm2 、伸び120%)用いて試料を作成した。Comparative Example 1 In Example 1, instead of the unstretched polypropylene film, a stretched polypropylene film (thickness: 25 μm, tensile strength: 1300 kg) was used.
/ Cm 2 , elongation 120%) to prepare a sample.
【0025】〔比較例2〕実施例1において、未延伸の
ポリプロピレンフィルムの代わりに、延伸したポリエス
テルフィルム(厚さ25μm、引張強さ2500kg/
cm2 、伸び130%)用いて試料を作成した。Comparative Example 2 In Example 1, instead of the unstretched polypropylene film, a stretched polyester film (thickness 25 μm, tensile strength 2500 kg /
cm 2 and elongation 130%) to prepare a sample.
【0026】〔比較例3〕実施例1において、未延伸の
ポリプロピレンフィルムの代わりに、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合ポリマーフィルム(厚さ50μm、引張強さ
1900kg/cm2 、伸び500%)用いて試料を作
成した。Comparative Example 3 A sample was prepared by using an ethylene-vinyl acetate copolymer polymer film (thickness 50 μm, tensile strength 1900 kg / cm 2 , elongation 500%) instead of the unstretched polypropylene film in Example 1. It was created.
【0027】〔比較例4〕実施例1において、未延伸の
ポリプロピレンフィルムの代わりに、低密度ポリエチレ
ンフィルム(厚さ50μm、引張強さ150kg/cm
2 、伸び400%)用いて試料を作成した。Comparative Example 4 In Example 1, a low density polyethylene film (thickness: 50 μm, tensile strength: 150 kg / cm) was used instead of the unstretched polypropylene film.
2 , elongation 400%) was used to prepare a sample.
【0028】〔比較例5〕厚さが0.3mmの高輝度ア
ルミ板(住友軽金属、型番SL)の反射率を測定したと
ころ波長550nmでは、89.2%であった。[Comparative Example 5] The reflectance of a high-brightness aluminum plate (Sumitomo Light Metal, model SL) having a thickness of 0.3 mm was measured and found to be 89.2% at a wavelength of 550 nm.
【0029】上記実施例ならびに比較例にて作製した試
料を用いて、白熱球用の反射板を冷間の絞り加工により
作製した。作製したランプ反射板の形状寸法は、SR=
50mmの球形とし、反射面を絞りの内側とした半球状
の形状を持つものである。作製後、反射面を目視検査に
より、亀裂、しわ等実用使用上問題になる欠陥が有るか
どうかを調べた。以上、実施例、比較例の結果を〔表
1〕に示す。Using the samples prepared in the above Examples and Comparative Examples, a reflecting plate for an incandescent bulb was prepared by cold drawing. The shape of the manufactured lamp reflector is SR =
It has a hemispherical shape with a spherical shape of 50 mm and a reflecting surface inside the diaphragm. After the fabrication, the reflective surface was visually inspected to see if there were any defects such as cracks and wrinkles that pose a problem in practical use. The results of the above examples and comparative examples are shown in [Table 1].
【0030】[0030]
【表1】 上記実施例および比較例から、本発明により、絞り加工
が可能であり、反射率の高い反射体を得ることができる
ことがわかる。[Table 1] From the above Examples and Comparative Examples, it is understood that the present invention makes it possible to obtain a reflector that can be drawn and has a high reflectance.
【0031】[0031]
【発明の効果】上記実施例および比較例から、本発明に
より、絞り加工が可能であり、反射率の高い反射体を得
ることができることがわかる。From the above Examples and Comparative Examples, it is understood that the present invention makes it possible to obtain a reflector which can be drawn and has a high reflectance.
【図1】本発明になる反射体の層構成FIG. 1 is a layer structure of a reflector according to the present invention.
10 透明高分子フィルム 20 銀薄膜層 30 接着層 40 板状成形体 10 Transparent polymer film 20 Silver thin film layer 30 Adhesive layer 40 Plate-shaped molded body
Claims (3)
及至300nmの銀薄膜層(B)、接着層(C)、板状
成形体(D)の少なくともAとBとCとDとが、ABC
Dの構成で形成された反射体にして、該透明高分子フィ
ルムの引張伸びが150%乃至450%であり、かつ、
引張強さが200乃至1500kg/cm2 以上である
反射体。1. A transparent polymer film (A), having a thickness of 100.
At least A, B, C, and D of the silver thin film layer (B), the adhesive layer (C), and the plate-shaped molded body (D) having a thickness of up to 300 nm are ABC.
A transparent polymer film having a tensile elongation of 150% to 450%, and
A reflector having a tensile strength of 200 to 1500 kg / cm 2 or more.
の光に対する透過率が85%以上である請求項1に記載
の反射体。2. A transparent polymer film having a wavelength of 550 nm.
The reflector according to claim 1, having a light transmittance of 85% or more.
ミニウム合金である請求項1に記載の反射体。3. The reflector according to claim 1, wherein the plate-shaped molded body is aluminum or an aluminum alloy.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6269506A JPH08127100A (en) | 1994-11-02 | 1994-11-02 | Reflector |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6269506A JPH08127100A (en) | 1994-11-02 | 1994-11-02 | Reflector |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08127100A true JPH08127100A (en) | 1996-05-21 |
Family
ID=17473374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6269506A Pending JPH08127100A (en) | 1994-11-02 | 1994-11-02 | Reflector |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08127100A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005072949A1 (en) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Mitsui Chemicals, Inc. | Base material for light reflector and light reflector |
US7476870B2 (en) | 2005-09-07 | 2009-01-13 | Access Business Group Llc | Methods of fluid irradiation using ultraviolet reflecting compositions |
-
1994
- 1994-11-02 JP JP6269506A patent/JPH08127100A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005072949A1 (en) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Mitsui Chemicals, Inc. | Base material for light reflector and light reflector |
KR100804340B1 (en) * | 2004-01-29 | 2008-02-15 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | Base material for light reflector and light reflector |
US7476870B2 (en) | 2005-09-07 | 2009-01-13 | Access Business Group Llc | Methods of fluid irradiation using ultraviolet reflecting compositions |
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