JPH08126821A - 排ガス脱硝装置 - Google Patents
排ガス脱硝装置Info
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- JPH08126821A JPH08126821A JP6267101A JP26710194A JPH08126821A JP H08126821 A JPH08126821 A JP H08126821A JP 6267101 A JP6267101 A JP 6267101A JP 26710194 A JP26710194 A JP 26710194A JP H08126821 A JPH08126821 A JP H08126821A
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- reducing agent
- aqueous solution
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 還元剤水溶液の濃度を低下させなくともノズ
ル等の閉塞を起こすことなく、還元剤を効率的に気化・
分解してアンモニアに転化可能に構成した排ガス脱硝装
置を提供する。 【構成】 脱硝すべき排ガス１の通路２内に直交して蒸
発筒１０が設けられている。蒸発筒１０には、その内部
と排ガス通路２を連通する分配孔１２が設けられてい
る。また、蒸発筒１０の上端には還元剤水溶液注入ノズ
ル１１が設けられている。この注入ノズル１１から蒸発
筒１０内に噴射された還元剤水溶液は蒸発筒１０内で蒸
発・分解されＮＨ3 を生成し分配孔１２から排ガス１中
に効率的に分散され、脱硝反応器３で排ガスを脱硝す
る。
ル等の閉塞を起こすことなく、還元剤を効率的に気化・
分解してアンモニアに転化可能に構成した排ガス脱硝装
置を提供する。 【構成】 脱硝すべき排ガス１の通路２内に直交して蒸
発筒１０が設けられている。蒸発筒１０には、その内部
と排ガス通路２を連通する分配孔１２が設けられてい
る。また、蒸発筒１０の上端には還元剤水溶液注入ノズ
ル１１が設けられている。この注入ノズル１１から蒸発
筒１０内に噴射された還元剤水溶液は蒸発筒１０内で蒸
発・分解されＮＨ3 を生成し分配孔１２から排ガス１中
に効率的に分散され、脱硝反応器３で排ガスを脱硝す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、排ガスに還元剤を注入
して脱硝する排ガス脱硝装置に関する。
して脱硝する排ガス脱硝装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図６〜図８によって従来技術の代表例を
説明する。脱硝のために排ガス中に注入する還元剤水溶
液としてはアンモニア水の他、尿素水・重炭酸アンモニ
ウム水溶液が有効であることは良く知られているが、尿
素水使用の場合について詳述する。まず、図６に示す脱
硝装置では、各種の原動機又は炉である排ガス源から排
出される排ガス１は脱硝反応器３に導かれ、その反応器
３の内部に収納されている触媒４によって人体に有害な
窒素酸化物（ＮＯx)を無害な窒素（Ｎ2)と水蒸気（Ｈ 2
Ｏ）に分解する。
説明する。脱硝のために排ガス中に注入する還元剤水溶
液としてはアンモニア水の他、尿素水・重炭酸アンモニ
ウム水溶液が有効であることは良く知られているが、尿
素水使用の場合について詳述する。まず、図６に示す脱
硝装置では、各種の原動機又は炉である排ガス源から排
出される排ガス１は脱硝反応器３に導かれ、その反応器
３の内部に収納されている触媒４によって人体に有害な
窒素酸化物（ＮＯx)を無害な窒素（Ｎ2)と水蒸気（Ｈ 2
Ｏ）に分解する。
【０００３】この際、脱硝反応器３の上流にＮＯx を還
元分解するための還元剤を注入する必要がある。この
為、注入ノズル５を設け、還元剤水溶液６と空気又は蒸
気７を注入し、排ガス通路２内に噴霧８させている。こ
の還元剤水溶液（尿素水）６を排ガス通路に注入するに
当っては、注入ノズル５又は導管内において還元剤水溶
液の水分が蒸発し、還元剤の再結晶又は重合による注入
ノズル５又は導管内の閉塞を生ずる問題がある。
元分解するための還元剤を注入する必要がある。この
為、注入ノズル５を設け、還元剤水溶液６と空気又は蒸
気７を注入し、排ガス通路２内に噴霧８させている。こ
の還元剤水溶液（尿素水）６を排ガス通路に注入するに
当っては、注入ノズル５又は導管内において還元剤水溶
液の水分が蒸発し、還元剤の再結晶又は重合による注入
ノズル５又は導管内の閉塞を生ずる問題がある。
【０００４】図７と図８に示すものでは、そのようなノ
ズル閉塞防止のための尿素水濃度低下要求を出来るだけ
緩和するために、注入ノズル５内部に於ける尿素水の温
度上昇を防止する目的でノズル全体を冷却水９で冷やす
（図７）か、ノズル全体を排ガス通路２の外に設置する
ようにしたものである（図８）。但し、図８に示すもの
では排ガス通路２に直角に注入ノズル５を設け噴霧して
いるため、排ガス流れに対する還元剤の噴霧８の偏流が
生じ排ガス中への均一分散性を欠き好ましくない。
ズル閉塞防止のための尿素水濃度低下要求を出来るだけ
緩和するために、注入ノズル５内部に於ける尿素水の温
度上昇を防止する目的でノズル全体を冷却水９で冷やす
（図７）か、ノズル全体を排ガス通路２の外に設置する
ようにしたものである（図８）。但し、図８に示すもの
では排ガス通路２に直角に注入ノズル５を設け噴霧して
いるため、排ガス流れに対する還元剤の噴霧８の偏流が
生じ排ガス中への均一分散性を欠き好ましくない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前記したように、還元
剤水溶液（尿素水）を排ガス通路に注入するに当って
は、先ず注入ノズル又は導管内においてその水溶液の水
分が蒸発し、還元剤の再結晶又は重合によって生ずるノ
ズル又は導管内の閉塞を防止しなければならない。そし
て、注入された還元剤水溶液を良好に気化・分解させ、
触媒へ到達するまでに効率よくアンモニア（ＮＨ3)に転
化させる必要がある。注入ノズルから触媒までの必要距
離は１０ｍ以上とするのが望ましいが、そのプラント全
体の配置上の制約からこの長さを満足させるのが困難な
場合が多い。
剤水溶液（尿素水）を排ガス通路に注入するに当って
は、先ず注入ノズル又は導管内においてその水溶液の水
分が蒸発し、還元剤の再結晶又は重合によって生ずるノ
ズル又は導管内の閉塞を防止しなければならない。そし
て、注入された還元剤水溶液を良好に気化・分解させ、
触媒へ到達するまでに効率よくアンモニア（ＮＨ3)に転
化させる必要がある。注入ノズルから触媒までの必要距
離は１０ｍ以上とするのが望ましいが、そのプラント全
体の配置上の制約からこの長さを満足させるのが困難な
場合が多い。
【０００６】そこで、先ず、上記の還元剤の再結晶又は
重合によるノズルの閉塞を防止するためには、還元剤水
溶液の濃度をかなり低くする（水分を多くする）ことに
より解決出来るが、濃度を低下させると注入する還元剤
水溶液の量が格段に増加してその注入装置（配管・弁・
ポンプ等）の容量増加が要求され不経済となる。
重合によるノズルの閉塞を防止するためには、還元剤水
溶液の濃度をかなり低くする（水分を多くする）ことに
より解決出来るが、濃度を低下させると注入する還元剤
水溶液の量が格段に増加してその注入装置（配管・弁・
ポンプ等）の容量増加が要求され不経済となる。
【０００７】一方、注入ノズルから触媒までの必要距離
を最小限にしてプラント配置を容易にするためには注入
される還元剤水溶液の液滴を細かく（通常液滴直径１０
０ミクロン以下）してやる必要があり、微噴霧を形成出
来るノズルの採用と更には空気又は蒸気を補助手段とし
て用いる二流体ノズルを使用するのが望ましい。
を最小限にしてプラント配置を容易にするためには注入
される還元剤水溶液の液滴を細かく（通常液滴直径１０
０ミクロン以下）してやる必要があり、微噴霧を形成出
来るノズルの採用と更には空気又は蒸気を補助手段とし
て用いる二流体ノズルを使用するのが望ましい。
【０００８】尿素水がＮＨ3 に分解する反応は、３００
〜３５０℃以上で次式に従って加水分解することが一般
に知られている。これ以下の温度の場合は、水分のみ蒸
発することによる尿素の再結晶化又はシアヌル酸等の固
体重合物が生成する。
〜３５０℃以上で次式に従って加水分解することが一般
に知られている。これ以下の温度の場合は、水分のみ蒸
発することによる尿素の再結晶化又はシアヌル酸等の固
体重合物が生成する。
【０００９】
【数１】
【００１０】更に、ノズルの閉塞を回避するために尿素
水の濃度を下げる（水分量を増やす）ことは排ガス温度
を表１の通り下げることとなり不都合を生ずる。すなわ
ち、脱硝装置の使用下限温度は通常約３００℃であり、
一方、排ガス源から排出される排ガス温度は３００〜３
５０℃程度であるため濃度調整品は下限温度を確保出来
ないため使えなくなる。
水の濃度を下げる（水分量を増やす）ことは排ガス温度
を表１の通り下げることとなり不都合を生ずる。すなわ
ち、脱硝装置の使用下限温度は通常約３００℃であり、
一方、排ガス源から排出される排ガス温度は３００〜３
５０℃程度であるため濃度調整品は下限温度を確保出来
ないため使えなくなる。
【００１１】
【表１】
【００１２】本発明は、還元剤水溶液の濃度を低下させ
なくともノズル等の閉塞を起こすことなく、還元剤を効
率的に気化・分解してアンモニアに転化可能に構成した
排ガス脱硝装置を提供することを課題としている。
なくともノズル等の閉塞を起こすことなく、還元剤を効
率的に気化・分解してアンモニアに転化可能に構成した
排ガス脱硝装置を提供することを課題としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明は、排ガ
スに還元剤水溶液を添加したのち触媒に接触させて同排
ガス中の窒素酸化物を還元する排ガス脱硝装置における
前記課題を解決するため、排ガス通路内に直交して設け
られると共に、一方の端に還元剤水溶液注入ノズルが取
付けられ、その注入ノズルから注入された還元剤水溶液
を蒸発気化させるチャンバーを設ける。そしてそのチャ
ンバーには、排ガス通路部に同チャンバーの内部と排ガ
ス通路を連通する流路を設ける。
スに還元剤水溶液を添加したのち触媒に接触させて同排
ガス中の窒素酸化物を還元する排ガス脱硝装置における
前記課題を解決するため、排ガス通路内に直交して設け
られると共に、一方の端に還元剤水溶液注入ノズルが取
付けられ、その注入ノズルから注入された還元剤水溶液
を蒸発気化させるチャンバーを設ける。そしてそのチャ
ンバーには、排ガス通路部に同チャンバーの内部と排ガ
ス通路を連通する流路を設ける。
【００１４】このように構成することによって、排ガス
通路から離れた位置にある還元剤水溶液注入ノズルか
ら、排ガス通路内にあるチャンバー内に還元剤水溶液を
注入又は噴射し、そのチャンバー内で還元剤水溶液を充
分気化したのち、そのチャンバーに設けた分配孔などの
流路より気化ガスを排ガス流の中に良好に分散混合させ
ることができる。
通路から離れた位置にある還元剤水溶液注入ノズルか
ら、排ガス通路内にあるチャンバー内に還元剤水溶液を
注入又は噴射し、そのチャンバー内で還元剤水溶液を充
分気化したのち、そのチャンバーに設けた分配孔などの
流路より気化ガスを排ガス流の中に良好に分散混合させ
ることができる。
【００１５】また、本発明による脱硝装置では、排ガス
通路に設ける前記したチャンバーの外周に排ガスの熱量
の吸収を促進するフィンを設けるのが好ましい。このよ
うにフィンを取付けたチャンバーを採用することにより
還元剤注入ノズルからチャンバー内に注入、又は噴射さ
れた還元剤水溶液には排ガスの熱量が良く伝えられその
気化・分解を促進する。
通路に設ける前記したチャンバーの外周に排ガスの熱量
の吸収を促進するフィンを設けるのが好ましい。このよ
うにフィンを取付けたチャンバーを採用することにより
還元剤注入ノズルからチャンバー内に注入、又は噴射さ
れた還元剤水溶液には排ガスの熱量が良く伝えられその
気化・分解を促進する。
【００１６】このようにして本発明の脱硝装置によれば
還元剤水溶液の濃度を低下させなくとも注入ノズル等の
閉塞を起こすことなく還元剤は効率的に気化・分解され
るので良好な脱硝が行われる。
還元剤水溶液の濃度を低下させなくとも注入ノズル等の
閉塞を起こすことなく還元剤は効率的に気化・分解され
るので良好な脱硝が行われる。
【００１７】すなわち、従来の装置では、二流体式の微
噴霧ノズルを使用していて噴霧される液滴平均粒径は１
００ミクロン程度であり、一方、排ガス流速は一般に２
０〜３０m/s で搬送されるので、完全なる気化を排ガス
中へ拡散のためにはその直管必要長さは１０ｍ程度以上
であり、実プラントの配置上支障がある場合が多かった
が、本発明による脱硝装置では、尿素等の還元剤の飽和
濃度に近い高濃度の水溶液の使用を可能とし、その還元
剤水溶液の注入量を少くして注入装置の大容量化を防ぐ
と共に排ガス温度の低下を最小限とすることができる。
また、注入ノズルから触媒までの排ガス通路の必要長さ
を格段と短縮することが可能となる。
噴霧ノズルを使用していて噴霧される液滴平均粒径は１
００ミクロン程度であり、一方、排ガス流速は一般に２
０〜３０m/s で搬送されるので、完全なる気化を排ガス
中へ拡散のためにはその直管必要長さは１０ｍ程度以上
であり、実プラントの配置上支障がある場合が多かった
が、本発明による脱硝装置では、尿素等の還元剤の飽和
濃度に近い高濃度の水溶液の使用を可能とし、その還元
剤水溶液の注入量を少くして注入装置の大容量化を防ぐ
と共に排ガス温度の低下を最小限とすることができる。
また、注入ノズルから触媒までの排ガス通路の必要長さ
を格段と短縮することが可能となる。
【００１８】
【実施例】以下、本発明による脱硝装置について図１〜
図５に示した実施例に基づいて具体的に説明する。な
お、以下の実施例において、図６〜図８に示した従来の
装置と同じ構成の部分には説明を簡潔にするため同じ符
号を付してある。
図５に示した実施例に基づいて具体的に説明する。な
お、以下の実施例において、図６〜図８に示した従来の
装置と同じ構成の部分には説明を簡潔にするため同じ符
号を付してある。
【００１９】先ず、図１により説明する。脱硝反応器３
の上流に排ガス流れと直交する、本発明にいうチャンバ
ーに相当する蒸発筒１０を有し、その一方の端に還元剤
水溶液注入ノズル１１を取付けて、蒸発筒１０に還元剤
水溶液６を注入する。蒸発筒１０の内部で分解されたＮ
Ｈ3 ガスとＣＯ2 ガスは蒸発筒１０に設けられた分配孔
１２から排ガス中に放出されて拡散・混合する。更に詳
細には、各種の原動機又は炉等の排ガス源から排出され
る排ガス１は排ガス通路２内を通り途中に設けられた触
媒４が充填された脱硝反応器３内へ流入する。
の上流に排ガス流れと直交する、本発明にいうチャンバ
ーに相当する蒸発筒１０を有し、その一方の端に還元剤
水溶液注入ノズル１１を取付けて、蒸発筒１０に還元剤
水溶液６を注入する。蒸発筒１０の内部で分解されたＮ
Ｈ3 ガスとＣＯ2 ガスは蒸発筒１０に設けられた分配孔
１２から排ガス中に放出されて拡散・混合する。更に詳
細には、各種の原動機又は炉等の排ガス源から排出され
る排ガス１は排ガス通路２内を通り途中に設けられた触
媒４が充填された脱硝反応器３内へ流入する。
【００２０】脱硝反応器３の上流側の排ガス通路２に
は、適宜の断面形状の蒸発筒１０を排ガス流れに直交す
るように配置し、その１端側（上部側）に還元剤水溶液
注入ノズル１１を取付けて還元剤水溶液の注入装置を構
成している。この注入ノズル１１には還元剤水溶液６の
みが導かれるように接続されていて、蒸発筒１０は図４
に示すように断面が丸形、四角形、三角形等の管であっ
て排ガス下流側に蒸発筒１０の内部と排ガス通路を連通
する分配孔１２が設けられている。
は、適宜の断面形状の蒸発筒１０を排ガス流れに直交す
るように配置し、その１端側（上部側）に還元剤水溶液
注入ノズル１１を取付けて還元剤水溶液の注入装置を構
成している。この注入ノズル１１には還元剤水溶液６の
みが導かれるように接続されていて、蒸発筒１０は図４
に示すように断面が丸形、四角形、三角形等の管であっ
て排ガス下流側に蒸発筒１０の内部と排ガス通路を連通
する分配孔１２が設けられている。
【００２１】図５に示すように蒸発筒１０は排ガス通路
２の側壁より更に外側に延長し、この部分に還元剤水溶
液注入ノズル１１を取付けた構成としている。更に蒸発
筒１０の外周部に熱交換（排ガスの熱量を吸収する）を
促進するためフィン１４を設けてもよい（図５の
（ｂ））。
２の側壁より更に外側に延長し、この部分に還元剤水溶
液注入ノズル１１を取付けた構成としている。更に蒸発
筒１０の外周部に熱交換（排ガスの熱量を吸収する）を
促進するためフィン１４を設けてもよい（図５の
（ｂ））。
【００２２】このように構成された注入ノズル１１は、
排ガス１に直接接触することはないので比較的、低温が
保たれることとなる。この為に還元剤水溶液６は注入ノ
ズル１１で水分の蒸発がなく、還元剤の再結晶又は重合
によるノズル又は導管内での閉塞がなくなるので、飽和
状態の水溶液を使用することが可能となる。
排ガス１に直接接触することはないので比較的、低温が
保たれることとなる。この為に還元剤水溶液６は注入ノ
ズル１１で水分の蒸発がなく、還元剤の再結晶又は重合
によるノズル又は導管内での閉塞がなくなるので、飽和
状態の水溶液を使用することが可能となる。
【００２３】注入ノズル１１より噴霧された還元剤水溶
液６は、蒸発筒１０内で加水分解し、均一な濃度となっ
て分配孔１２より、排ガス通路２内へ流出する。このよ
うにして還元剤は排ガス１と混合し、脱硝反応器３内へ
流れ触媒４にて、窒素酸化物が還元分解することとな
る。
液６は、蒸発筒１０内で加水分解し、均一な濃度となっ
て分配孔１２より、排ガス通路２内へ流出する。このよ
うにして還元剤は排ガス１と混合し、脱硝反応器３内へ
流れ触媒４にて、窒素酸化物が還元分解することとな
る。
【００２４】次に、図２は、その他の実施例を示してい
る。図２の実施例の場合は還元剤水溶液注入ノズル１１
に冷却水９を導入するように冷却水系を連結したもの
で、ノズルを冷却することで、ノズル閉塞を防止するも
のである。
る。図２の実施例の場合は還元剤水溶液注入ノズル１１
に冷却水９を導入するように冷却水系を連結したもの
で、ノズルを冷却することで、ノズル閉塞を防止するも
のである。
【００２５】図３は、更に他の実施例を示したもので、
この図３の場合は、還元剤水溶液６の噴霧媒体として、
空気又は蒸気７を接続してある。図２，図３に示した装
置のその他の構成と作用は図１に示した装置と同様であ
る。
この図３の場合は、還元剤水溶液６の噴霧媒体として、
空気又は蒸気７を接続してある。図２，図３に示した装
置のその他の構成と作用は図１に示した装置と同様であ
る。
【００２６】以上、本発明を図示した実施例に基づいて
具体的に説明したが、本発明がこれらの実施例に限定さ
れず特許請求の範囲に示す本発明の範囲内で、その具体
的構造に種々の変更を加えてよいことはいうまでもな
い。
具体的に説明したが、本発明がこれらの実施例に限定さ
れず特許請求の範囲に示す本発明の範囲内で、その具体
的構造に種々の変更を加えてよいことはいうまでもな
い。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の脱硝装置
によれば、還元剤水溶液（尿素水）の濃度を低下させる
ことなく、飽和水溶液に近い濃度を使用出来るので、当
該水溶液供給装置の能力を小さく出来る。また、前述の
理由により水の使用量を節約出来て経済的である。ま
た、本発明の脱硝装置によれば注入される還元剤水溶液
の量は少くてよいので排ガス温度が低下するのを抑制
し、脱硝反応に必要な下限温度を確保できる。
によれば、還元剤水溶液（尿素水）の濃度を低下させる
ことなく、飽和水溶液に近い濃度を使用出来るので、当
該水溶液供給装置の能力を小さく出来る。また、前述の
理由により水の使用量を節約出来て経済的である。ま
た、本発明の脱硝装置によれば注入される還元剤水溶液
の量は少くてよいので排ガス温度が低下するのを抑制
し、脱硝反応に必要な下限温度を確保できる。
【００２８】また、本発明による脱硝装置では、還元剤
水溶液注入ノズルから噴射された尿素水などの還元剤水
溶液は、排ガス流れの影響を受けることなく蒸発筒など
のチャンバー内で蒸発・分解されＮＨ3 を効率的に生成
することができ、生成したＮＨ3 は、チャンバーに設け
られた分配孔などの流路から排ガス中に効率的に拡散さ
れる。これは還元剤水溶液としてアンモニア水を使った
ときも同様である。
水溶液注入ノズルから噴射された尿素水などの還元剤水
溶液は、排ガス流れの影響を受けることなく蒸発筒など
のチャンバー内で蒸発・分解されＮＨ3 を効率的に生成
することができ、生成したＮＨ3 は、チャンバーに設け
られた分配孔などの流路から排ガス中に効率的に拡散さ
れる。これは還元剤水溶液としてアンモニア水を使った
ときも同様である。
【００２９】従って、本発明の脱硝装置では還元剤水溶
液注入ノズルから脱硝反応器（厳密には触媒）までの排
ガス流路の長さ（必要長さ）を格段に短かく出来、プラ
ント配置上有利となる。
液注入ノズルから脱硝反応器（厳密には触媒）までの排
ガス流路の長さ（必要長さ）を格段に短かく出来、プラ
ント配置上有利となる。
【図１】本発明の第１実施例による排ガス脱硝装置の構
成を示す系統図。
成を示す系統図。
【図２】本発明の第２実施例による排ガス脱硝装置の構
成を示す系統図。
成を示す系統図。
【図３】本発明の第３実施例による排ガス脱硝装置の構
成を示す系統図。
成を示す系統図。
【図４】本発明の排ガス脱硝装置で用いるチャンバーの
構成を示す断面図で、（ａ），（ｂ），（ｃ）３つの異
る構成例を示している。
構成を示す断面図で、（ａ），（ｂ），（ｃ）３つの異
る構成例を示している。
【図５】本発明の排ガス脱硝装置で用いるチャンバーの
構成を示す側面図で、（ａ），（ｂ）は、それぞれ異る
構成例を示している。
構成を示す側面図で、（ａ），（ｂ）は、それぞれ異る
構成例を示している。
【図６】従来の排ガス脱硝装置の構成を示す系統図。
【図７】他の従来の排ガス脱硝装置の構成を示す系統
図。
図。
【図８】更に他の従来の排ガス脱硝装置の構成を示す系
統図。
統図。
１ 排ガス ２ 排ガス通路 ３ 脱硝反応器 ４ 触媒 ６ 還元剤水溶液 ７ 空気又は蒸気 １０ 蒸発筒 １１ 注入ノズル １２ 分配孔 １４ フィン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 53/56 53/86 ＺＡＢ Ｂ０１Ｄ 53/34 １２９ Ｂ 53/36 ＺＡＢ (72)発明者 徳永 喜久男 長崎市深堀町５丁目717番１号 三菱重工 業株式会社長崎研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 排ガスに還元剤水溶液を添加したのち触
媒に接触させて同排ガス中の窒素酸化物を還元する排ガ
ス脱硝装置において、排ガス通路内に直交して設けられ
ると共に、一方の端に還元剤水溶液注入ノズルが取付け
られ、同注入ノズルから注入された還元剤水溶液を蒸発
気化させるチャンバーを有し、同チャンバーは、排ガス
通路部に同チャンバーの内部と排ガス通路を連通する流
路を有することを特徴とする排ガス脱硝装置。 - 【請求項２】 前記チャンバーの排ガス通路部における
チャンバー外周に排ガスの熱量の吸収を促進するファン
を設けてなる請求項１記載の排ガス脱硝装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26710194A JP3316319B2 (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | 排ガス脱硝装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26710194A JP3316319B2 (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | 排ガス脱硝装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08126821A true JPH08126821A (ja) | 1996-05-21 |
| JP3316319B2 JP3316319B2 (ja) | 2002-08-19 |
Family
ID=17440076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26710194A Expired - Fee Related JP3316319B2 (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | 排ガス脱硝装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3316319B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018048636A (ja) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | エーバーシュペッヒャー・エグゾースト・テクノロジー・ゲーエムベーハー・ウント・コンパニー・カーゲー | 内燃機関の排気流内に反応剤を投入するための反応剤投入ユニット |
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1994
- 1994-10-31 JP JP26710194A patent/JP3316319B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2018048636A (ja) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | エーバーシュペッヒャー・エグゾースト・テクノロジー・ゲーエムベーハー・ウント・コンパニー・カーゲー | 内燃機関の排気流内に反応剤を投入するための反応剤投入ユニット |
| CN107859551A (zh) * | 2016-09-21 | 2018-03-30 | 埃贝斯佩歇排气技术有限责任两合公司 | 用于将反应剂馈入内燃机排气流中的反应剂馈入设备 |
| US10570796B2 (en) | 2016-09-21 | 2020-02-25 | Eberspächer Exhaust Technology GmbH & Co. KG | Reactant introduction device for introducing reactant into the exhaust gas stream of an internal combustion engine |
| CN107859551B (zh) * | 2016-09-21 | 2022-11-08 | 普瑞姆有限公司 | 用于将反应剂馈入内燃机排气流中的反应剂馈入设备 |
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