JPH08126035A - Detector for defect of image pickup element - Google Patents

Detector for defect of image pickup element

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JPH08126035A
JPH08126035A JP6259979A JP25997994A JPH08126035A JP H08126035 A JPH08126035 A JP H08126035A JP 6259979 A JP6259979 A JP 6259979A JP 25997994 A JP25997994 A JP 25997994A JP H08126035 A JPH08126035 A JP H08126035A
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image pickup
defect
signal
defect detection
unit
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Masayuki Shimura
雅之 志村
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Sony Corp
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Abstract

PURPOSE: To surely and easily check the state of a defective picture element in an image pickup pattern forming section in the case that a solid-state image pickup element whose image pickup face forming section may possibly include a defective picture element is actually shipped as a product or the like. CONSTITUTION: The detector is provided with an element mount section 2 on which a solid-state image pickup element 11 is mounted, a drive signal generating section 25 driving the solid-state image pickup element 11, a defect detection section 33 detecting a defect included in an output signal from the solid-state image pickup element 11 and providing a defect detection output corresponding to the detected defect, a display signal generating section 36 generating a display signal based on the received defect detection output from the defect detection section 33 and a display section 37 displaying the defect picture element as to the mounted solid-state image pickup element 11 onto the element mount section 2 corresponding to the display signal obtained from the display signal generating section 36.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、複数の画素が配列配置
されて成る撮像面形成部を備えた撮像素子について、そ
の撮像面形成部における欠陥画素の検出を行う撮像素子
欠陥検出装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image pickup device defect detection apparatus for detecting defective pixels in an image pickup device having an image pickup surface forming unit having a plurality of pixels arranged in an array.

【0002】[0002]

【従来の技術】映像信号を形成するビデオカメラ等を構
成すべく用いられる固体撮像素子は、半導体基体に、光
電変換を行う多数の画素が多数の並行列を形成して配列
形成されるとともに、各画素で得られた信号電荷を転送
する電荷結合素子(CCD)等で形成された電荷転送領
域が設けられて成る撮像面形成部を備えたものとされ
る。このような固体撮像素子における撮像面形成部は、
その製造過程において極めて多数の画素の全てが適正に
機能するものとなるようにされることは容易ではなく、
例えば、半導体の局部的な結晶欠陥等に起因して異常な
動作を行うことになる欠陥画素が含まれるものとなり易
い。
2. Description of the Related Art In a solid-state image pickup device used to form a video camera or the like for forming a video signal, a large number of pixels for photoelectric conversion are formed in a parallel array on a semiconductor substrate. The image pickup surface forming unit is provided with a charge transfer region formed of a charge coupled device (CCD) or the like for transferring the signal charge obtained in each pixel. The imaging surface forming unit in such a solid-state imaging device is
In the manufacturing process, it is not easy for all of a large number of pixels to function properly.
For example, defective pixels are likely to be included that cause abnormal operation due to local crystal defects in the semiconductor.

【0003】そして、欠陥画素を含む撮像面形成部を備
えるものとされた固体撮像素子が使用される場合には、
その撮像面形成部における画素の各々からの出力信号に
ついての、画素が形成する多数の並行列のうちの選択さ
れたものとされる読出列に従ったサンプリング読出しが
行われ、それにより順次得られる撮像信号中に、欠陥画
素からの出力信号がノイズ成分として混入して、撮像信
号の欠陥部分を形成することになるので、固体撮像素子
からの撮像信号が供給されてそれに基づく撮像出力信号
を形成する信号処理回路部において、斯かる欠陥画素に
起因する撮像信号の欠陥部分に対する処置、即ち、欠陥
補正が行われることが要求される。
When a solid-state image pickup device having an image pickup surface forming portion including defective pixels is used,
The output signal from each of the pixels in the imaging surface forming section is sampled and read according to the selected read column of the multiple parallel columns formed by the pixel, and is sequentially obtained. Since the output signal from the defective pixel is mixed in the image pickup signal as a noise component to form a defective portion of the image pickup signal, the image pickup signal is supplied from the solid-state image pickup element to form an image pickup output signal based on it. In the signal processing circuit section, it is required that the defective portion of the image pickup signal caused by the defective pixel be treated, that is, the defect should be corrected.

【0004】それゆえ、固体撮像素子に備えられる撮像
面形成部にあっては、その製造工程中における、各画素
が適正に作動すべき状態とされた段階において、それに
含まれる欠陥画素を検出してその位置を特定するための
テストが行われ、そのテストにより判明した欠陥画素の
撮像面形成部における位置を、例えば、撮像面形成部上
において多数の画素により形成される並行列の夫々を特
定する垂直方向アドレス及び並行列の各々における画素
の夫々を特定する水平方向アドレスをもってあらわす欠
陥画素データが格納されたリード・オンリー・メモリ
(ROM)が用意され、その欠陥画素データが格納され
たROMを伴うものとされるようになすことが提案され
ている。このように、欠陥画素データが格納されたRO
Mを伴うものとされた撮像面形成部は、実際の使用に供
されるにあたっては、それにおける画素の各々からの出
力信号に基づいて得られる、欠陥画素に起因する欠陥部
分を含んだ撮像信号に対して、ROMから読み出された
欠陥画素データに基づいて得られる欠陥補正指示信号に
応じた欠陥補正が施され、それにより、撮像信号におけ
る欠陥部分の除去あるいは低減が図られるものとされる
ことになる。
Therefore, in the image pickup surface forming portion provided in the solid-state image pickup device, a defective pixel included in the image pickup surface forming portion is detected at a stage in which each pixel is in a state in which it should properly operate during the manufacturing process. A test for identifying the position is performed, and the position of the defective pixel found in the test in the imaging surface forming unit, for example, each of the parallel rows formed by a large number of pixels on the imaging surface forming unit is specified. A read-only memory (ROM) that stores defective pixel data that has a vertical address and a horizontal address that identifies each pixel in each of the parallel columns is prepared, and the ROM that stores the defective pixel data is stored in the ROM. It has been proposed to do so. As described above, the RO in which the defective pixel data is stored
When the image pickup surface forming unit is assumed to be accompanied by M, the image pickup signal including the defective portion due to the defective pixel, which is obtained based on the output signal from each of the pixels in the actual use, is provided. On the other hand, the defect correction is performed according to the defect correction instruction signal obtained based on the defective pixel data read from the ROM, whereby the defective portion in the image pickup signal can be removed or reduced. It will be.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
如くの固体撮像素子にあっては、それが製造過程を経た
後に受けるストレスにより、撮像面形成部が部分的に欠
陥画素を含むものとされてしまう虞がある。従って、例
えば、製造工程中に行われたテストにより撮像面形成部
における欠陥画素が検出され、その検出結果に基づく欠
陥画素データが格納されたROMを伴うものとされる固
体撮像素子にあっても、それが製品とされて実際に出荷
されるとき、あるいは、使用者により受け入れられると
きには、製造工程中に行われたテスト時の状態とは異な
ったものとされてしまう事態が生じ得ることになる。
However, in the solid-state image pickup device as described above, it is considered that the image pickup surface forming portion partially includes defective pixels due to the stress received after the manufacturing process. There is a risk that it will end up. Therefore, for example, even in a solid-state image sensor including a ROM in which a defective pixel in the imaging surface forming unit is detected by a test performed during the manufacturing process and defective pixel data based on the detection result is stored. , When it is actually shipped as a product, or when it is accepted by the user, it may occur that it is different from the state at the time of the test performed during the manufacturing process. .

【0006】それゆえ、固体撮像素子について、例え
ば、それが製品とされて実際に出荷される際、もしく
は、使用者により受け入れられる際において、撮像面形
成部における欠陥画素の状況を的確に点検することがで
きる装置が望まれるところであるが、従来にあっては、
このような装置は見当たらない。
Therefore, with respect to the solid-state image pickup device, for example, when the product is actually shipped as a product or is accepted by the user, the situation of defective pixels in the image pickup surface forming portion is accurately inspected. A device that can do is desired, but in the past,
No such device is found.

【0007】斯かる点に鑑み、本発明は、複数の画素が
配列配置されて成る撮像面形成部を有し、その撮像面形
成部が欠陥画素を含むものとされる可能性がある撮像素
子について、それが製品とされて実際に出荷される際あ
るいは使用者により受け入れられる際等において、撮像
面形成部における欠陥画素の状況に関する点検を、的確
かつ容易に行うことができるものとされる、撮像素子欠
陥検出装置を提供することを目的とする。
In view of the above point, the present invention has an image pickup plane forming section in which a plurality of pixels are arranged and arranged, and the image pickup plane forming section may include defective pixels. With regard to the above, when it is actually shipped as a product, or when it is accepted by the user, it is possible to accurately and easily inspect the status of defective pixels in the imaging surface forming unit. An object is to provide an image sensor defect detection device.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成すべ
く、本発明に係る撮像素子欠陥検出装置は、撮像素子が
装着される素子装着部と、素子装着部に装着された撮像
素子を駆動する素子駆動部と、素子駆動部により駆動さ
れた撮像素子からの出力信号に含まれる、その撮像素子
の撮像面形成部における欠陥画素に起因する欠陥部分を
検出し、検出された欠陥部分に応じた欠陥検出出力を送
出する欠陥検出部と、欠陥検出部から送出される欠陥検
出出力に基づいて表示用信号を形成する表示用信号形成
部と、表示用信号形成部から得られる表示用信号に応じ
て、素子装着部に装着された撮像素子についての欠陥画
素に関する表示を行う表示部とを備えて構成される。
In order to achieve the above object, an image pickup device defect detecting apparatus according to the present invention drives an image pickup device mounted on the device mounting portion to which the image pickup device is mounted. Detecting a defective portion due to a defective pixel in the image pickup surface forming portion of the image pickup element included in the output signal from the element drive portion and the image pickup element driven by the element drive portion, and depending on the detected defective portion A defect detection section for transmitting a defect detection output, a display signal forming section for forming a display signal based on the defect detection output transmitted from the defect detection section, and a display signal obtained from the display signal forming section. Accordingly, it is configured to include a display unit that performs a display regarding a defective pixel of the image pickup device mounted in the device mounting unit.

【0009】[0009]

【作用】このように構成される本発明に係る撮像素子欠
陥検出装置にあっては、撮像素子が、素子装着部に装着
されて、素子駆動部により駆動されるもとにおいて、欠
陥検出部が、撮像素子からの出力信号に含まれる欠陥部
分が検出されるとき、例えば、その欠陥部分の検出がな
されたことをあらわす欠陥データ,検出された欠陥部分
の原因をなす撮像面形成部における欠陥画素を特定する
欠陥アドレスデータ,検出された欠陥部分のレベルをあ
らわす欠陥レベルデータ等を、欠陥検出出力として送出
する。そして、表示部が、表示用信号形成部により欠陥
検出部からの欠陥検出出力に基づいて形成される表示用
信号に応じて、例えば、素子装着部に装着された撮像素
子についての撮像面形成部における欠陥画素の数,撮像
面形成部における欠陥画素の位置,欠陥検出部により検
出された欠陥部分のレベル等を表示する。
In the image pickup device defect detection apparatus according to the present invention having the above-described structure, the image pickup device is mounted on the device mounting portion and is driven by the device driving portion. , When a defective portion included in an output signal from the image pickup device is detected, for example, defective data indicating that the defective portion is detected, defective pixel in the image pickup plane forming portion that causes the detected defective portion Defect address data for identifying the defect level, defect level data indicating the level of the detected defect portion, and the like are transmitted as defect detection outputs. Then, the display unit, for example, the image pickup surface forming unit for the image pickup device mounted in the device mounting unit according to the display signal formed based on the defect detection output from the defect detection unit by the display signal formation unit. The number of defective pixels, the position of the defective pixel in the imaging surface forming portion, the level of the defective portion detected by the defect detecting portion, and the like are displayed.

【0010】従って、撮像素子が製品とされて実際に出
荷される際、あるいは、使用者により受け入れられる際
等において、その撮像素子が素子装着部に装着され、素
子駆動部により駆動される状態とされるだけの極めて容
易な手順のもとに、当該撮像素子の撮像面形成部におけ
る欠陥画素の状況が、表示部による表示に基づいて的確
に点検されることになる。
Therefore, when the image pickup device is actually shipped as a product, or when it is received by the user, the image pickup device is mounted on the device mounting portion and driven by the device driving portion. The situation of defective pixels in the image pickup surface forming portion of the image pickup device can be accurately checked based on the display by the display portion by a very easy procedure.

【0011】[0011]

【実施例】図2は、本発明に係る撮像素子欠陥検出装置
の一例の外観を示す。この図2に示される例は、光電変
換を行う多数の画素が多数の並行列を形成して配列形成
されるとともに、各画素で得られた信号電荷を転送する
CCDにより形成された電荷転送領域が設けられて成る
撮像面形成部を備えるものとされる固体撮像素子につい
て、その撮像面形成部における欠陥画素を検出する欠陥
検出、及び、欠陥検出の結果に基づく欠陥画素に関して
の表示を行うものとされている。
FIG. 2 shows the appearance of an example of an image sensor defect detection apparatus according to the present invention. In the example shown in FIG. 2, a large number of pixels that perform photoelectric conversion are formed in an array by forming a large number of parallel columns, and a charge transfer region formed by a CCD that transfers the signal charges obtained in each pixel. A solid-state image sensor including an image pickup surface forming section, which is provided with a defect detection for detecting a defective pixel in the image pickup surface forming section, and a display regarding the defective pixel based on the result of the defect detection. It is said that.

【0012】そして、図2に示される例にあっては、欠
陥検出部,表示信号形成部等を形成する回路構成部分を
内蔵した匣体1が備えられており、匣体1の上面部に、
固体撮像素子が装着される素子装着部2,操作部3、及
び、第1,第2及び第3の表示部4,5及び6が設けら
れている。さらに、匣体1の上面部には、素子装着部2
を覆う状態を選択的にとるものとされる可動蓋体8が、
ヒンジ部7を介して取り付けられている。
In the example shown in FIG. 2, the casing 1 containing the circuit components for forming the defect detecting portion, the display signal forming portion, etc. is provided, and the upper surface of the casing 1 is covered with the casing 1. ,
An element mounting section 2 on which a solid-state image sensor is mounted, an operation section 3, and first, second and third display sections 4, 5 and 6 are provided. Furthermore, the element mounting portion 2 is provided on the upper surface of the box 1.
The movable lid body 8 that selectively takes the state of covering
It is attached via the hinge portion 7.

【0013】素子装着部2は、望ましくは、それに固体
撮像素子が装着されたとき、その固体撮像素子を周囲温
度の如何にかかわらず略一定の温度に維持すべく作動す
る、恒温装置としての機能も果たすものとされる。ま
た、可動蓋体8は、素子装着部2に固体撮像素子が装着
されて、欠陥検出が行われるとき、素子装着部2の全体
及び素子装着部2により保持された固体撮像素子をそれ
らの上方から覆い、固体撮像素子を遮光状態に維持する
ものとされる。
The element mounting portion 2 desirably functions as a thermostatic device that operates to maintain the solid-state image pickup element at a substantially constant temperature regardless of the ambient temperature when the solid-state image pickup element is attached thereto. Will also be fulfilled. Further, the movable lid 8 has the solid-state image pickup device mounted on the device mounting portion 2 and detects a defect, the whole of the device mounting portion 2 and the solid-state image pickup device held by the device mounting portion 2 are arranged above them. To keep the solid-state image sensor in a light-shielded state.

【0014】さらに、第1,第2及び第3の表示部4,
5及び6は、匣体1に内蔵された回路構成部分からの信
号に応じて、素子装着部2に装着された固体撮像素子に
関し、第1の表示部4が、撮像面形成部における欠陥画
素の数を表示し、第2の表示部5が、撮像面形成部にお
ける欠陥画素の位置を、その欠陥画素を特定する欠陥ア
ドレスをもって表示し、さらに、第3の表示部6が、撮
像面形成部における欠陥画素に起因する固体撮像素子か
らの出力信号における欠陥部分のレベルを表示するもの
とされる。
Further, the first, second and third display portions 4,
Reference numerals 5 and 6 relate to the solid-state image pickup device mounted on the device mounting portion 2 in accordance with a signal from a circuit configuration portion built in the casing 1, and the first display portion 4 is a defective pixel in the image pickup surface forming portion. , The second display unit 5 displays the position of the defective pixel in the imaging surface forming unit with a defective address that identifies the defective pixel, and the third display unit 6 displays the imaging surface forming unit. The level of the defective portion in the output signal from the solid-state image pickup device due to the defective pixel in the area is displayed.

【0015】図1は、匣体1に内蔵された回路構成部分
の一例を、固体撮像素子11が装着される素子装着部
2、及び、第1の表示部4,第2の表示部5及び第3の
表示部6を含んで成る表示部37と共に示す。
FIG. 1 shows an example of a circuit component portion built in the box 1, an element mounting portion 2 on which a solid-state image sensor 11 is mounted, a first display portion 4, a second display portion 5 and It is shown with a display unit 37 comprising a third display unit 6.

【0016】素子装着部2に装着される固体撮像素子1
1は、例えば、図3に示される如くの撮像面形成部を有
した、インターライン転送型のものとなされる。図3に
示される撮像面形成部においては、半導体基体13上
に、各々が個々の画素を構成する多数の光電変換素子部
15が、多数の水平方向(矢印hの方向)に伸びる並行
列(画素水平列)を形成するものとされて配列配置され
ている。多数の画素水平列の夫々を形成する光電変換素
子部15は、また、多数の垂直方向(矢印vの方向)に
伸びる並行列(画素垂直列)をも形成しており、このよ
うな光電変換素子部15が形成する各画素垂直列に沿っ
て、CCD群により形成された垂直電荷転送部16が配
されている。各垂直電荷転送部16は、例えば、2相の
垂直転送駆動信号φV1及びφV2により駆動されて電
荷転送動作を行う。
Solid-state image pickup device 1 mounted on the device mounting portion 2
1 is of an interline transfer type having an image pickup surface forming portion as shown in FIG. 3, for example. In the image pickup surface forming unit shown in FIG. 3, a large number of photoelectric conversion element units 15 each of which constitutes an individual pixel are arranged in parallel rows (horizontal rows (direction of arrow h)) on the semiconductor substrate 13. Pixel horizontal columns) are arranged and arranged. The photoelectric conversion element portion 15 forming each of a large number of pixel horizontal columns also forms a large number of parallel columns (pixel vertical columns) extending in the vertical direction (direction of arrow v). A vertical charge transfer unit 16 formed of a CCD group is arranged along each pixel vertical column formed by the element unit 15. Each vertical charge transfer unit 16 is driven by, for example, two-phase vertical transfer drive signals φV1 and φV2 to perform a charge transfer operation.

【0017】各画素垂直列を形成する複数の光電変換素
子部15の夫々とその垂直列に対応する垂直電荷転送部
16との間には、電荷読出ゲート部17が設けられてい
る。そして、電荷読出ゲート部17は、画素水平列のう
ちの奇数番目のもの(奇数画素水平列)を形成する光電
変換素子部15に関わるものが、読出ゲート駆動信号φ
GOによって電荷読出状態をとるものとされ、また、画
素水平列のうちの偶数番目のもの(偶数画素水平列)を
形成する光電変換素子部15に関わるものが、読出ゲー
ト駆動信号φGEによって電荷読出状態をとるものとさ
れる。
A charge read gate section 17 is provided between each of the plurality of photoelectric conversion element sections 15 forming a vertical column of each pixel and the vertical charge transfer section 16 corresponding to the vertical column. In the charge read gate section 17, the read gate drive signal φ is associated with the photoelectric conversion element section 15 forming an odd-numbered pixel horizontal row (an odd pixel horizontal row).
The charge read state is set by GO, and the charge conversion is performed by the read gate drive signal φGE for the photoelectric conversion element portion 15 forming an even-numbered pixel horizontal column (even pixel horizontal column). It is assumed to be in a state.

【0018】複数の垂直電荷転送部16の夫々の一端部
側は、半導体基体13の端縁部において、CCD群によ
り形成されて水平方向に伸びるものとされた水平電荷転
送部18に連結されている。水平電荷転送部18は、例
えば、2相の水平転送駆動信号φH1及びφH2により
駆動されて電荷転送動作を行う。そして、水平電荷転送
部18には、電荷出力部19が設けられており、電荷出
力部19からは出力端子20が導出されている。
One end side of each of the plurality of vertical charge transfer units 16 is connected to a horizontal charge transfer unit 18 which is formed of a CCD group and extends in the horizontal direction at the edge of the semiconductor substrate 13. There is. The horizontal charge transfer unit 18 is driven by, for example, two-phase horizontal transfer drive signals φH1 and φH2 to perform a charge transfer operation. Further, the horizontal charge transfer section 18 is provided with a charge output section 19, and an output terminal 20 is derived from the charge output section 19.

【0019】このような図3に示される撮像面形成部を
有した固体撮像素子11において、実際に撮像動作が行
われる際には、先ず、所定の受光期間が設定され、その
受光期間において、各々が画素を構成する複数の光電変
換素子部15の夫々が、撮像対象像に応じた光電変換を
行って電荷を蓄積する。その後、第1の電荷読出期間に
おいて、読出ゲート駆動信号φGOによって、奇数画素
水平列を形成する光電変換素子部15に関わる電荷読出
ゲート部17の夫々が電荷読出状態をとるものとされ、
電荷読出状態をとる電荷読出ゲート部17の夫々を通じ
て、それに対応する光電変換素子部15に蓄積された電
荷が対応する垂直電荷転送部16に読み出される。続い
て、第1の電荷読出期間に続く第1の電荷転送期間にお
いて、各垂直電荷転送部16に読み出された電荷が、2
相の垂直転送駆動信号φV1及びφV2によって駆動さ
れる各垂直電荷転送部16の電荷転送動作により、各奇
数画素水平列を形成する複数の光電変換素子部15によ
り得られた分宛、順次、水平電荷転送部18に向けて転
送されていく。
In the solid-state image pickup device 11 having the image pickup surface forming portion shown in FIG. 3, when an image pickup operation is actually performed, first, a predetermined light receiving period is set, and during the light receiving period, Each of the plurality of photoelectric conversion element units 15 each forming a pixel performs photoelectric conversion according to the image to be captured and accumulates charges. After that, in the first charge read period, the charge read gate drive signal φGO causes each of the charge read gate sections 17 related to the photoelectric conversion element section 15 forming the odd pixel horizontal column to be in the charge read state,
Through each of the charge read gate sections 17 in the charge read state, the charges accumulated in the corresponding photoelectric conversion element section 15 are read out to the corresponding vertical charge transfer section 16. Then, in the first charge transfer period subsequent to the first charge read period, the charges read out to each vertical charge transfer unit 16 become 2
By the charge transfer operation of each vertical charge transfer unit 16 driven by the phase vertical transfer drive signals φV1 and φV2, the portions obtained by the plurality of photoelectric conversion element units 15 forming each odd pixel horizontal column are sequentially and horizontally output. The charge is transferred toward the charge transfer unit 18.

【0020】そして、水平電荷転送部18においては、
2相の水平転送駆動信号φH1及びφH2によって駆動
されることにより行われる電荷転送動作により、水平電
荷転送部18に順次転送される、奇数画素水平列の一つ
を形成する複数の光電変換素子部15で得られた分の電
荷が、電荷出力部19へと転送される。電荷出力部19
においては、水平電荷転送部18により転送されてくる
電荷が順次信号化されて出力端子20に導出される。
In the horizontal charge transfer section 18,
A plurality of photoelectric conversion element units forming one of odd pixel horizontal columns are sequentially transferred to the horizontal charge transfer unit 18 by the charge transfer operation performed by being driven by the two-phase horizontal transfer drive signals φH1 and φH2. The charge obtained in 15 is transferred to the charge output unit 19. Charge output unit 19
In, the charges transferred by the horizontal charge transfer unit 18 are sequentially converted into a signal and led to the output terminal 20.

【0021】次に、第1の電荷転送期間に続く第2の電
荷読出期間において、読出ゲート駆動信号φGEによっ
て、偶数画素水平列を形成する光電変換素子部15に関
わる電荷読出ゲート部17の夫々が電荷読出状態をとる
ものとされ、電荷読出状態をとる電荷読出ゲート部17
の夫々を通じて、それに対応する光電変換素子部15に
蓄積された電荷が対応する垂直電荷転送部16に読み出
される。続いて、第2の電荷読出期間に続く第2の電荷
転送期間において、各垂直電荷転送部16に読み出され
た電荷が、2相の垂直転送駆動信号φV1及びφV2に
よって駆動される各垂直電荷転送部16の電荷転送動作
により、各偶数画素水平列を形成する複数の光電変換素
子部15により得られた分宛、順次、水平電荷転送部1
8に向けて転送されていく。
Next, in the second charge read period subsequent to the first charge transfer period, the charge read gate unit 17 related to the photoelectric conversion element unit 15 forming the even pixel horizontal column is generated by the read gate drive signal φGE. Is in the charge read state, and the charge read gate section 17 is in the charge read state.
Through each of the above, the electric charge accumulated in the photoelectric conversion element unit 15 corresponding to the above is read out to the corresponding vertical charge transfer unit 16. Subsequently, in the second charge transfer period subsequent to the second charge read period, the charges read to the vertical charge transfer units 16 are the vertical charges driven by the two-phase vertical transfer drive signals φV1 and φV2. By the charge transfer operation of the transfer unit 16, the horizontal charge transfer unit 1 is sequentially delivered to the portions obtained by the plurality of photoelectric conversion element units 15 forming each even pixel horizontal column.
Transferred to 8.

【0022】そして、水平電荷転送部18においては、
2相の水平転送駆動信号φH1及びφH2によって駆動
されることにより行われる電荷転送動作により、水平電
荷転送部18に順次転送される、偶数画素水平列の一つ
を形成する複数の光電変換素子部15で得られた分の電
荷が、電荷出力部19へと転送される。電荷出力部19
においては、水平電荷転送部18により転送されてくる
電荷が順次信号化されて出力端子20に導出される。
Then, in the horizontal charge transfer section 18,
A plurality of photoelectric conversion element units forming one of even pixel horizontal columns, which are sequentially transferred to the horizontal charge transfer unit 18 by the charge transfer operation performed by being driven by the two-phase horizontal transfer drive signals φH1 and φH2. The charge obtained in 15 is transferred to the charge output unit 19. Charge output unit 19
In, the charges transferred by the horizontal charge transfer unit 18 are sequentially converted into a signal and led to the output terminal 20.

【0023】以下、上述の第1の電荷読出期間における
電荷読出し、第1の電荷転送期間における電荷転送、第
2の電荷読出期間における電荷読出し、及び、第2の電
荷転送期間における電荷転送が順次繰り返される。そし
て、出力端子20に、複数の光電変換素子部15に蓄積
された電荷に基づく出力信号IPが得られる。
Hereinafter, the charge reading in the first charge reading period, the charge transfer in the first charge transfer period, the charge reading in the second charge reading period, and the charge transfer in the second charge transfer period are sequentially performed. Repeated. Then, the output signal IP based on the charges accumulated in the plurality of photoelectric conversion element units 15 is obtained at the output terminal 20.

【0024】斯かる場合、固体撮像素子11を構成する
撮像面形成部における、奇数画素水平列の夫々を形成す
る複数の光電変換素子部15で得られた電荷についての
1画素水平列分宛の、各垂直電荷転送部16による水平
電荷転送部18への転送が、奇数フィールド期間内にお
いて終了するとともに、偶数画素水平列の夫々を形成す
る複数の光電変換素子部15で得られた電荷についての
1画素水平列分宛の、各垂直電荷転送部16による水平
電荷転送部18への転送が、偶数フィールド期間内にお
いて終了し、また、水平電荷転送部18の夫々に順次転
送される1画素水平列を形成する複数の光電変換素子部
15で得られた分の電荷の、水平電荷転送部18による
電荷出力部19への供給は、各ライン期間内において終
了するものとされるように、2相の垂直転送駆動信号φ
V1及びφV2及び2相の水平転送駆動信号φH1及び
φH2の夫々が設定される。それゆえ、固体撮像素子1
1を構成する撮像面形成部の出力端子20に導出される
出力信号IPは、ライン期間分を単位とするものが連な
って形成されることになる奇数フィールド期間分及び偶
数フィールド期間分が順次繰り返されるものとされるこ
とになる。
In such a case, in the image pickup surface forming portion which constitutes the solid-state image pickup device 11, the charges obtained by the plurality of photoelectric conversion element portions 15 forming each of the odd pixel horizontal columns are addressed to one pixel horizontal column. , The transfer to the horizontal charge transfer unit 18 by each vertical charge transfer unit 16 is completed within the odd field period, and the charges obtained in the plurality of photoelectric conversion element units 15 forming each of the even pixel horizontal columns are The transfer to the horizontal charge transfer unit 18 by each vertical charge transfer unit 16 for one pixel horizontal column is completed within the even field period, and one pixel horizontal line is sequentially transferred to each horizontal charge transfer unit 18. The supply of the charges obtained by the plurality of photoelectric conversion element units 15 forming the column to the charge output unit 19 by the horizontal charge transfer unit 18 is supposed to be completed within each line period. As such, the two-phase vertical transfer driving signals φ
V1 and φV2 and two-phase horizontal transfer drive signals φH1 and φH2 are set, respectively. Therefore, the solid-state image sensor 1
The output signal IP derived to the output terminal 20 of the image pickup surface forming unit which constitutes 1 is sequentially formed by the odd field period and the even field period which are successively formed in units of the line period. Will be done.

【0025】従って、撮像面形成部からは、奇数フィー
ルド期間において、奇数画素水平列の夫々を形成する複
数の光電変換素子部15で得られた電荷に基づくライン
期間分の撮像信号が奇数画素水平列の数だけ連なって形
成される、1フィールド期間分の出力信号IPが得ら
れ、また、偶数フィールド期間において、偶数画素水平
列の夫々を形成する複数の光電変換素子部15で得られ
た電荷に基づくライン期間分の撮像信号が偶数画素水平
列の数だけ連なって形成される、1フィールド期間分の
出力信号IPが得られる。
Therefore, in the odd field period, the imaging signal for the line period based on the charges obtained by the plurality of photoelectric conversion element units 15 forming each of the odd pixel horizontal columns is supplied from the imaging surface forming unit to the odd pixel horizontal. An output signal IP for one field period, which is formed continuously by the number of columns, is obtained, and in the even field period, charges obtained by the plurality of photoelectric conversion element units 15 forming each of the even pixel horizontal columns are obtained. Based on the above, the output signal IP for one field period in which the image pickup signals for the line period are continuously formed by the number of even pixel horizontal columns is obtained.

【0026】図4及び図5は、固体撮像素子11におい
て実際に撮像動作が行われる際に、その撮像面形成部か
ら得られる出力信号IPの状態を示す。図4は、主とし
て奇数フィールド期間における様子を示し、図4のAに
示される如くの、図4のBに示される垂直同期信号SV
の前縁部から始まる奇数フィールド期間O−Fにおいて
は、例えば、図4のCに示される水平同期信号SHの奇
数フィールド期間O−Fの開始時点から数えて13番目
のもの以降において、図4のDに示される如く、奇数画
素水平列の夫々を形成する光電変換素子部15で得られ
た分の電荷に基づくライン期間分の出力信号が連なって
形成される出力信号IPが得られる。出力信号IPにお
ける各ライン期間分に付された奇数数字は、当該ライン
期間分の出力信号を形成する電荷が得られた撮像面形成
部における奇数画素水平列の水平電荷転送部18側から
の番号をあらわす。なお、この例にあっては、当該奇数
フィールド期間O−Fの開始時点より3ライン期間だけ
先立つ時点から当該奇数フィールド期間O−Fの開始時
点から17ライン期間だけ経過するまでの20ライン期
間に相当する期間は、実際には垂直ブランキング期間T
BLKとされる。
FIG. 4 and FIG. 5 show the state of the output signal IP obtained from the image pickup surface forming section when the image pickup operation is actually performed in the solid-state image pickup device 11. FIG. 4 mainly shows a state in an odd field period, and as shown in FIG. 4A, the vertical synchronization signal SV shown in FIG. 4B.
4 in the odd-numbered field period OF starting from the leading edge of the horizontal sync signal SH shown in FIG. 4C from the start time of the odd-numbered field period OF in FIG. As indicated by D, an output signal IP is obtained in which the output signals for the line period based on the charges obtained by the photoelectric conversion element portions 15 forming each of the odd-numbered pixel horizontal columns are formed in series. The odd number given to each line period in the output signal IP is the number from the horizontal charge transfer unit 18 side of the odd pixel horizontal column in the imaging plane forming unit where the charges forming the output signal for the line period are obtained. Represents In this example, a 20-line period from a time point three lines ahead of the start time of the odd field period OF to a 17-line period elapsed from the start time of the odd field period OF. The corresponding period is actually the vertical blanking period T
BLK.

【0027】同様に、図5は、主として偶数フィールド
期間における様子を示し、図5のAに示される如くの、
図5のBに示される垂直同期信号SVの前縁部から始ま
る偶数フィールド期間E−Fにおいては、例えば、図5
のCに示される水平同期信号SH(奇数フィールド期間
O−Fの場合に比して0.5ライン期間分のズレを生じ
ている)の偶数フィールド期間E−Fの開始時点から数
えて14番目のもの以降において、図5のDに示される
如く、偶数画素水平列の夫々を形成する光電変換素子部
15で得られた分の電荷に基づくライン期間分の出力信
号が連なって形成される出力信号IPが得られる。出力
信号IPにおける各ライン期間分に付された偶数数字
は、当該ライン期間分の出力信号を形成する電荷が得ら
れた撮像面形成部における偶数画素水平列の水平電荷転
送部18側からの番号をあらわす。なお、ここにおいて
も、当該偶数フィールド期間E−Fの開始時点より3ラ
イン期間だけ先立つ時点から当該偶数フィールド期間E
−Fの開始時点から17ライン期間だけ経過するまでの
20ライン期間に相当する期間は、実際には垂直ブラン
キング期間TBLKとされる。
Similarly, FIG. 5 mainly shows a state in the even field period, and as shown in A of FIG.
In the even field period EF starting from the leading edge of the vertical synchronizing signal SV shown in FIG. 5B, for example, as shown in FIG.
14th from the start point of the even field period E-F of the horizontal synchronization signal SH shown in C (having a shift of 0.5 line period compared to the case of the odd field period OF). After that, as shown in D of FIG. 5, an output formed by a series of output signals for a line period based on the charges obtained by the photoelectric conversion element units 15 forming each of the even pixel horizontal columns. The signal IP is obtained. The even number given to each line period in the output signal IP is the number from the horizontal charge transfer unit 18 side of the even pixel horizontal column in the imaging plane forming unit where the charges forming the output signal for the line period are obtained. Represents Note that, even in this case, the even field period E is started from a time point preceding the start time of the even field period E-F by three line periods.
The period corresponding to the 20-line period until the 17-line period elapses from the start of -F is actually the vertical blanking period TBLK.

【0028】素子装着部2には、それに装着された固体
撮像素子11を駆動するための駆動信号形成部25が、
素子駆動部を形成するものとされて接続されている。駆
動信号形成部25は、タイミング信号形成部26からの
垂直方向クロック信号CLV,水平方向クロック信号C
LH、及び、読出指令信号CRO及びCREが供給さ
れ、読出ゲート駆動信号φGOを読出指令信号CROに
応じて形成するとともに、読出ゲート駆動信号φGEを
読出指令信号CREに応じて形成し、また、2相の垂直
転送駆動信号φV1及びφV2の夫々を垂直方向クロッ
ク信号CLVに基づいて形成し、さらに、2相の水平転
送駆動信号φH1及びφH2の夫々を水平方向クロック
信号CLHに基づいて形成する。そして、駆動信号形成
部25は、読出ゲート駆動信号φGO,垂直転送駆動信
号φV1及びφV2、及び、水平転送駆動信号φH1及
びφH2を読出指令信号CROに応じて、また、読出ゲ
ート駆動信号φGE,垂直転送駆動信号φV1及びφV
2、及び、水平転送駆動信号φH1及びφH2を読出指
令信号CREに応じて、夫々、素子装着部2に装着され
た固体撮像素子11における撮像面形成部に供給し、固
体撮像素子11を駆動する。
The element mounting portion 2 is provided with a drive signal forming portion 25 for driving the solid-state image pickup element 11 mounted on the element mounting portion 2.
They are connected to form an element driving unit. The drive signal forming unit 25 includes a vertical clock signal CLV and a horizontal clock signal C from the timing signal forming unit 26.
LH and the read command signals CRO and CRE are supplied to form the read gate drive signal φGO according to the read command signal CRO and the read gate drive signal φGE according to the read command signal CRE. Each of the phase vertical transfer drive signals φV1 and φV2 is formed based on the vertical clock signal CLV, and each of the two-phase horizontal transfer drive signals φH1 and φH2 is formed based on the horizontal clock signal CLH. Then, the drive signal forming unit 25 outputs the read gate drive signal φGO, the vertical transfer drive signals φV1 and φV2, and the horizontal transfer drive signals φH1 and φH2 according to the read command signal CRO, and the read gate drive signal φGE, vertical. Transfer drive signals φV1 and φV
2, and the horizontal transfer drive signals φH1 and φH2 are supplied to the image pickup surface forming unit of the solid-state image pickup device 11 mounted on the device mounting unit 2 according to the read command signal CRE, and the solid-state image pickup device 11 is driven. .

【0029】タイミング信号形成部26は、同期信号発
生部27からの垂直同期信号SV及び水平同期信号SH
が供給され、さらに、後述される欠陥検出部33からの
蓄積指令信号CCO及びCCEが供給されるもとで、垂
直方向クロック信号CLVを水平同期信号SHに基づい
て形成し、また、水平方向クロック信号CLHを、水平
同期信号SHより著しく高い周波数を有するが、水平同
期信号SHに同期したものとして形成するとともに、読
出指令信号CRO及びCREを、夫々、蓄積指令信号C
CO及びCCEに基づき、奇数フィールド期間及び偶数
フィールド期間に対応するものとして形成し、それらを
駆動信号形成部25に供給するものとされている。
The timing signal forming section 26 includes a vertical synchronizing signal SV and a horizontal synchronizing signal SH from the synchronizing signal generating section 27.
Is supplied, and further storage command signals CCO and CCE are supplied from the defect detection section 33 described later, the vertical clock signal CLV is formed based on the horizontal synchronization signal SH, and the horizontal clock signal CLV is generated. The signal CLH is formed as a signal having a frequency significantly higher than that of the horizontal synchronizing signal SH, but synchronized with the horizontal synchronizing signal SH, and the read command signals CRO and CRE are respectively set to the storage command signal C.
Based on CO and CCE, they are formed to correspond to the odd field period and the even field period, and they are supplied to the drive signal forming unit 25.

【0030】素子装着部2に装着された固体撮像素子1
1が、駆動信号形成部25によって駆動されることによ
り、固体撮像素子11における撮像面形成部から得られ
る出力信号IPは、素子装着部2の出力端子2Aを通じ
て、サンプリング・ホールド部30に供給される。サン
プリング・ホールド部30においては、出力信号IPに
対する所定の短周期毎のレベル・サンプリング及びサン
プル・レベルの保持が行われてサンプリング・ホールド
信号SIが得られ、それがアナログ/ディジタル(A/
D)変換部31に供給される。A/D変換部31におい
ては、サンプリング・ホールド信号SIに基づいての出
力信号IPのディジタル化が図られ、A/D変換部31
から、出力信号IPに対応するディジタル出力信号DI
が得られて、それが出力端子32に導出されるととも
に、欠陥検出部33に供給される。
Solid-state image pickup device 1 mounted on the device mounting portion 2
1 is driven by the drive signal forming unit 25, so that the output signal IP obtained from the image pickup surface forming unit of the solid-state image pickup device 11 is supplied to the sampling and holding unit 30 through the output terminal 2A of the device mounting unit 2. It In the sampling and holding unit 30, the sampling and holding signal SI is obtained by performing level sampling and holding of the sampling level for each predetermined short cycle with respect to the output signal IP, which is analog / digital (A /
D) It is supplied to the conversion unit 31. In the A / D converter 31, the output signal IP is digitized based on the sampling and holding signal SI, and the A / D converter 31
From the digital output signal DI corresponding to the output signal IP
Is obtained, and it is led to the output terminal 32 and is supplied to the defect detecting section 33.

【0031】欠陥検出部33には、タイミング信号形成
部26からの垂直方向クロック信号CLV,水平方向ク
ロック信号CLH,読出指令信号CRO及び読出指令信
号CRE,同期信号発生部27からの垂直同期信号S
V、及び、制御ユニット34からのリセット信号CRS
及び欠陥検出指令信号CSTが供給される。そして、欠
陥検出部33は、ディジタル出力信号DIに含まれる、
固体撮像素子11の撮像面形成部における欠陥画素に起
因してもたらされる欠陥部分についての検出を行い、そ
の検出の結果に基づく欠陥検出出力を送出する。
In the defect detecting section 33, the vertical clock signal CLV from the timing signal forming section 26, the horizontal clock signal CLH, the read command signal CRO and the read command signal CRE, and the vertical synchronizing signal S from the synchronizing signal generating section 27.
V and reset signal CRS from control unit 34
And the defect detection command signal CST are supplied. The defect detection unit 33 is included in the digital output signal DI,
The defect portion caused by the defective pixel in the image pickup surface forming portion of the solid-state image pickup device 11 is detected, and the defect detection output based on the detection result is sent out.

【0032】制御ユニット34には、欠陥検出部33
に、ディジタル出力信号DIにおける欠陥部分について
の検出、及び、その検出の結果に基づく欠陥検出出力の
送出を行わせるべく操作される、欠陥検出スイッチ35
が、図2に示される操作部3の一部を成すものとして設
けられている。この欠陥検出スイッチ35は、素子装着
部2に固体撮像素子11が装着され、素子装着部2の全
体及び素子装着部2により保持された固体撮像素子11
が可動蓋体8により覆われて、固体撮像素子11が遮光
状態に維持され、さらに、素子装着部2が固体撮像素子
11に対して恒温装置として機能するものとされた状態
のもとで、一時的にオン状態とされるべく操作される。
The control unit 34 includes a defect detection section 33.
A defect detection switch 35 that is operated to detect a defective portion in the digital output signal DI and to output a defect detection output based on the detection result.
Are provided as a part of the operation unit 3 shown in FIG. In this defect detection switch 35, the solid-state imaging device 11 is mounted on the device mounting portion 2, and the solid-state imaging device 11 held by the entire device mounting portion 2 and the device mounting portion 2 is mounted.
Is covered with the movable lid 8, the solid-state image sensor 11 is maintained in a light-shielded state, and further, the element mounting portion 2 is assumed to function as a thermostatic device for the solid-state image sensor 11, It is operated to be turned on temporarily.

【0033】そして、素子装着部2に装着された固体撮
像素子11が可動蓋体8により覆われて遮光状態に維持
され、さらに、素子装着部2が固体撮像素子11に対し
て恒温装置として機能する状態のもとで、欠陥検出スイ
ッチ35が操作されて一時的にオン状態とされると、制
御ユニット34は、先ず、リセット信号CRSを欠陥検
出部33に供給し、続いて、欠陥検出指令信号CST
を、その後欠陥検出部33から検出終了信号CEが到来
する時点あるいはその後の時点まで、欠陥検出部33に
供給する。
Then, the solid-state image pickup device 11 mounted on the device mounting portion 2 is covered with the movable lid 8 and kept in a light-shielding state, and the device mounting portion 2 functions as a thermostatic device for the solid-state image pickup device 11. When the defect detection switch 35 is operated to be temporarily turned on under such a state, the control unit 34 first supplies the reset signal CRS to the defect detection unit 33, and subsequently, the defect detection command. Signal CST
Is supplied to the defect detection unit 33 until the detection end signal CE arrives from the defect detection unit 33 or after that.

【0034】欠陥検出部33は、制御ユニット34から
のリセット信号CRSが供給されると、それに応じて、
内蔵するデータメモリ部をクリアー状態として、その後
の新たなデータの書込みに備える。そして、続いて制御
ユニット34から到来する欠陥検出指令信号CSTに応
じ、素子装着部2に装着された固体撮像素子11が可動
蓋体8により覆われて遮光状態に維持され、さらに、素
子装着部2が固体撮像素子11に対して恒温装置として
機能する状態のもとにおいて、A/D変換部31から得
られるディジタル出力信号DIにおける欠陥部分につい
ての検出を行う。
When the reset signal CRS from the control unit 34 is supplied, the defect detection section 33 responds to the reset signal CRS.
The built-in data memory section is cleared to prepare for writing new data thereafter. Then, subsequently, according to the defect detection command signal CST coming from the control unit 34, the solid-state image pickup device 11 mounted on the device mounting portion 2 is covered with the movable lid 8 to be kept in a light-shielded state, and further, the device mounting portion. Under the condition that 2 functions as a thermostatic device for the solid-state imaging device 11, the defective portion in the digital output signal DI obtained from the A / D conversion unit 31 is detected.

【0035】ディジタル出力信号DIにおける欠陥部分
を検出する状態におかれた欠陥検出部33は、ディジタ
ル出力信号DIにおける欠陥部分が検出されると、欠陥
部分が検出されたことをあらわす欠陥データDDを第1
の欠陥検出出力として表示用信号形成部36に送出す
る。また、それとともに、検出された欠陥部分の原因を
なしている固体撮像素子11の撮像面形成部における欠
陥画素を、撮像面形成部における垂直方向アドレスAV
及び水平方向アドレスAHをもって特定し、撮像面形成
部における欠陥画素が属する画素水平列を特定する垂直
方向アドレスAVと、その垂直方向アドレスAVによっ
て特定された画素水平列内における欠陥画素の位置を特
定する水平方向アドレスAHとを含むアドレスを示す欠
陥アドレスデータ、即ち、検出された欠陥部分に対応す
る欠陥アドレスデータDAVD及びDAHDを、内蔵す
るデータメモリ部に格納するとともに、検出された欠陥
部分のレベルをあらわす欠陥レベルデータDEDを内蔵
するデータメモリ部に格納し、さらに、その後、データ
メモリ部に格納された欠陥アドレスデータDAVD及び
DAHD及び欠陥レベルデータDEDを、適切なタイミ
ングをもってデータメモリ部から読み出し、データメモ
リ部から読み出された欠陥アドレスデータDAVD及び
DAHDを第2の欠陥検出出力として、また、データメ
モリ部から読み出された欠陥レベルデータDEDを第3
の欠陥検出出力として、夫々、表示用信号形成部36に
送出する。
The defect detecting section 33 placed in the state of detecting the defective portion in the digital output signal DI, when the defective portion in the digital output signal DI is detected, outputs the defect data DD indicating that the defective portion is detected. First
Is sent to the display signal forming section 36 as the defect detection output of At the same time, the defective pixel in the image pickup surface forming portion of the solid-state image pickup device 11 which is the cause of the detected defective portion is set to the vertical address AV in the image pickup surface forming portion.
And a horizontal direction address AH to specify the pixel horizontal column to which the defective pixel belongs in the imaging plane forming unit, and the position of the defective pixel in the pixel horizontal column specified by the vertical address AV. The defective address data indicating the address including the horizontal address AH, that is, the defective address data DAVD and DAHD corresponding to the detected defective portion are stored in the built-in data memory unit and the level of the detected defective portion is stored. Is stored in a data memory unit having a built-in defect level data DED, and thereafter, the defect address data DAVD and DAHD and the defect level data DED stored in the data memory unit are read from the data memory unit at an appropriate timing, Read from data memory And the defective address data DAVD and DAHD as second defect detection output, also a defect level data DED read from the data memory unit 3
Are output to the display signal forming unit 36 as the defect detection outputs of the above.

【0036】そして、欠陥検出部33にあっては、この
ような動作を通じて、タイミング信号形成部26に対す
る蓄積指令信号CCO及びCCEの供給が行われるとと
もに、ディジタル出力信号DIにおける欠陥部分を検出
し、検出された欠陥部分に対応する欠陥データDDを第
1の欠陥検出出力として送出する動作、及び、欠陥アド
レスデータDAVD及びDAHD及び欠陥レベルデータ
DEDをデータメモリ部に格納する動作が行われる期間
が終了したとき、検出終了信号CEの制御ユニット34
への送出が行われる。
In the defect detecting section 33, the storage command signals CCO and CCE are supplied to the timing signal forming section 26 through such an operation, and the defective portion in the digital output signal DI is detected. The period in which the operation of sending the defect data DD corresponding to the detected defective portion as the first defect detection output and the operation of storing the defect address data DAVD and DAHD and the defect level data DED in the data memory unit is completed. Control unit 34 for the detection end signal CE
Is sent to.

【0037】欠陥検出部33から、欠陥データDD,欠
陥アドレスデータDAVD及びDAHD、及び、欠陥レ
ベルデータDEDが、夫々、第1,第2及び第3の欠陥
検出出力として供給される表示用信号形成部36にあっ
ては、欠陥データDDに基づいて、固体撮像素子11の
撮像面形成部における欠陥画素の数を表示するための表
示用信号SDPが形成され、また、欠陥アドレスデータ
DAVD及びDAHDに基づいて、固体撮像素子11の
撮像面形成部における欠陥画素の位置を表示するための
表示用信号SAPが形成され、さらに、欠陥レベルデー
タDEDに基づいて、欠陥検出部33により検出された
ディジタル出力信号DIにおける欠陥部分のレベルを表
示するための表示用信号SLPが形成される。そして、
これらの表示用信号SDP,SAP及びSLPは、第
1,第2及び第3の表示部4,5及び6を含む表示部3
7に供給される。
Defect data DD, defect address data DAVD and DAHD, and defect level data DED are supplied from the defect detection section 33 as first, second, and third defect detection outputs, respectively, to form a display signal. In the portion 36, a display signal SDP for displaying the number of defective pixels in the image pickup surface forming portion of the solid-state image pickup device 11 is formed based on the defect data DD, and the defect address data DAVD and DAHD are added. Based on this, a display signal SAP for displaying the position of the defective pixel in the image pickup surface forming portion of the solid-state image pickup device 11 is formed, and further, based on the defect level data DED, the digital output detected by the defect detecting portion 33. A display signal SLP for displaying the level of the defective portion in the signal DI is formed. And
These display signals SDP, SAP and SLP are displayed on the display unit 3 including the first, second and third display units 4, 5 and 6.
7 is supplied.

【0038】表示部37においては、第1の表示部4に
より、表示用信号SDPに基づいて、固体撮像素子11
の撮像面形成部における欠陥画素の数についての表示が
行われ、また、第2の表示部5により、表示用信号SA
Pに基づいて、固体撮像素子11の撮像面形成部におけ
る欠陥画素の位置が、撮像面形成部における垂直方向ア
ドレスAV及び水平方向アドレスAHをもってあらわさ
れる表示が行われ、さらに、第3の表示部6により、表
示用信号SLPに基づいて、欠陥検出部33により検出
されたディジタル出力信号DIにおける欠陥部分のレベ
ルについての表示が行われる。それにより、素子装着部
2に装着された固体撮像素子11の撮像面形成部におけ
る欠陥画素の状況を、第1,第2及び第3の表示部4,
5及び6による表示に基づいて的確に点検できることに
なる。
In the display unit 37, the solid-state image pickup device 11 is displayed by the first display unit 4 based on the display signal SDP.
The display of the number of defective pixels in the image pickup surface forming unit is performed, and the display signal SA is displayed by the second display unit 5.
Based on P, display is performed in which the position of the defective pixel in the image pickup surface forming portion of the solid-state image pickup device 11 is represented by the vertical address AV and the horizontal address AH in the image pickup surface forming portion, and further, the third display portion. 6 displays the level of the defective portion in the digital output signal DI detected by the defect detecting section 33 based on the display signal SLP. As a result, the state of defective pixels in the image pickup surface forming portion of the solid-state image pickup device 11 mounted on the device mounting portion 2 is displayed in the first, second and third display portions 4, 4.
It is possible to perform an accurate inspection based on the indications of 5 and 6.

【0039】図6は、欠陥検出部33の具体構成につい
ての一例を示す。この図6に示される例においては、信
号入力端子40に、同期信号発生部27からの垂直同期
信号SVが供給される。垂直同期信号SVは、図7のA
に示される如く、その各周期をもって、図7のBに示さ
れる如くに、奇数フィールド期間O−Fと偶数フィール
ド期間E−Fとが交互に設定されるものとされる。ま
た、信号入力端子41及び42には、タイミング信号形
成部26からの垂直方向クロック信号CLV及び水平方
向クロック信号CLHが夫々供給される。
FIG. 6 shows an example of a specific structure of the defect detecting section 33. In the example shown in FIG. 6, the signal input terminal 40 is supplied with the vertical synchronizing signal SV from the synchronizing signal generator 27. The vertical synchronization signal SV is A in FIG.
7, the odd-numbered field period OF and the even-numbered field period E-F are alternately set in each cycle as shown in FIG. 7B. Further, the vertical clock signal CLV and the horizontal clock signal CRH from the timing signal forming unit 26 are supplied to the signal input terminals 41 and 42, respectively.

【0040】制御ユニット34に設けられた欠陥検出ス
イッチ35が操作されて一時的にオン状態とされるとき
には、それに応じて、制御ユニット34からリセット信
号CRS及びそれに続く欠陥検出指令信号CSTが送出
され、その欠陥検出指令信号CSTが、信号入力端子4
3に、例えば、図7のCに示される如くのタイミングを
もって供給される。図7のCに示される如くにして欠陥
検出指令信号CSTが信号入力端子43に供給される場
合には、欠陥検出指令信号CSTの供給開始時点は、素
子装着部2に装着された固体撮像素子11における撮像
面形成部から得られた出力信号IPに基づくディジタル
出力信号DIが形成され、そのディジタル出力信号DI
が出力端子32に導出される動作が行われる期間であ
る、信号出力期間TCO内にあるものとされる。斯かる
信号出力期間TCOにおいては、信号入力端子44に、
ディジタル出力信号DIが、図7のGに示される如くに
供給される。
When the defect detection switch 35 provided in the control unit 34 is operated and temporarily turned on, the reset signal CRS and the subsequent defect detection command signal CST are sent from the control unit 34 accordingly. , The defect detection command signal CST is input to the signal input terminal 4
3 is supplied at a timing as shown in C of FIG. 7, for example. When the defect detection command signal CST is supplied to the signal input terminal 43 as shown in C of FIG. 7, the supply start time of the defect detection command signal CST is at the solid-state imaging device mounted on the device mounting portion 2. A digital output signal DI based on the output signal IP obtained from the image pickup surface forming unit 11 is formed, and the digital output signal DI is formed.
Is within a signal output period TCO, which is a period during which the operation led to the output terminal 32 is performed. During such a signal output period TCO, the signal input terminal 44
Digital output signal DI is provided as shown at G in FIG.

【0041】信号入力端子44に供給されるディジタル
出力信号DIは、奇数フィールド期間O−Fにおいて
は、固体撮像素子11の撮像面形成部における奇数画素
水平列の夫々を形成する光電変換素子部15で得られた
電荷に基づく、ライン期間分の撮像信号が連なって形成
された奇数ラインフィールド期間信号 O.L.F. とされ、
また、偶数フィールド期間E−Fにおいては、撮像面形
成部における偶数画素水平列の夫々を形成する光電変換
素子部15で得られた電荷に基づく、ライン期間分の撮
像信号が連なって形成された偶数ラインフィールド期間
信号 E.L.F. とされる。
In the odd field period OF, the digital output signal DI supplied to the signal input terminal 44 receives the photoelectric conversion element portion 15 forming each of the odd pixel horizontal columns in the image pickup surface forming portion of the solid-state image pickup element 11. It is an odd line field period signal OLF formed by a series of imaging signals for line periods based on the electric charge obtained in
Further, in the even field period E-F, the image pickup signals for the line period based on the charges obtained in the photoelectric conversion element portion 15 forming each of the even pixel horizontal columns in the image pickup surface forming portion are formed in series. Even line field period signal ELF.

【0042】さらに、信号出力期間TCOにおける欠陥
検出指令信号CSTの供給前にあっては、信号入力端子
40を通じて垂直同期信号SVが供給される蓄積指令信
号発生部45に、信号入力端子43を通じての欠陥検出
指令信号CSTの供給がなされず、それにより、蓄積指
令信号発生部45から得られる蓄積指令信号CCO及び
CCEが、図7のD及びEに夫々示される如くに、各々
が垂直同期信号SVの周期の2倍の周期を有し、垂直同
期信号SVに同期して交互にあらわれるパルス信号とさ
れる。
Further, before the defect detection command signal CST is supplied in the signal output period TCO, the accumulation command signal generation unit 45 to which the vertical synchronizing signal SV is supplied through the signal input terminal 40 is supplied to the storage command signal generation unit 45 through the signal input terminal 43. Since the defect detection command signal CST is not supplied, the storage command signals CCO and CCE obtained from the storage command signal generator 45 are respectively supplied to the vertical synchronization signal SV as shown in D and E of FIG. The pulse signal has a cycle twice as long as that of the pulse sync signal and appears alternately in synchronization with the vertical sync signal SV.

【0043】そして、蓄積指令信号発生部45に、信号
入力端子43を通じた欠陥検出指令信号CSTが供給さ
れると、蓄積指令信号発生部45は、それ以降、欠陥検
出指令信号CSTの供給開始時点後3個目の垂直同期信
号SVに同期したパルス信号として蓄積指令信号CCO
を発生させた後、予め設定された、例えば、nフィール
ド期間(n≧6)に相当する期間TCGOが経過するま
で、蓄積指令信号CCOを発生させず、その後、期間T
CGOが経過したとき、蓄積指令信号CCOを、垂直同
期信号SVの周期の2倍の周期を有して垂直同期信号S
Vに同期するパルス信号として発生させ、また、欠陥検
出指令信号CSTの供給開始時点の直前に、垂直同期信
号SVに同期したパルス信号として蓄積指令信号CCE
を発生させた後、予め設定された、例えば、nフィール
ド期間に相当する期間TCGEが経過するまで、蓄積指
令信号CCEを発生させず、その後、期間TCGEが経
過したとき、蓄積指令信号CCEを、垂直同期信号SV
に同期させて発生させ、さらに、その後6フィールド期
間に相当する期間をおいて、それ以後、再び、蓄積指令
信号CCEを垂直同期信号SVの周期の2倍の周期を有
して垂直同期信号SVに同期するパルス信号として発生
させる。
When the defect detection command signal CST is supplied to the accumulation command signal generation unit 45 through the signal input terminal 43, the accumulation command signal generation unit 45 thereafter starts supplying the defect detection command signal CST. The storage command signal CCO is provided as a pulse signal synchronized with the third vertical synchronization signal SV.
Is generated, the storage command signal CCO is not generated until a preset period TCGO corresponding to, for example, n field periods (n ≧ 6) elapses, and then the period T
When CGO elapses, the accumulation command signal CCO has a cycle that is twice as long as that of the vertical synchronization signal SV.
The storage command signal CCE is generated as a pulse signal synchronized with V, and immediately before the start of supply of the defect detection command signal CST, as a pulse signal synchronized with the vertical synchronization signal SV.
After the generation of, the storage command signal CCE is not generated until a preset time, for example, a period TCGE corresponding to the n-field period has elapsed, and thereafter, when the period TCGE has elapsed, the storage command signal CCE is changed to Vertical sync signal SV
, And after a period corresponding to 6 field periods, the storage command signal CCE has a period twice that of the vertical synchronization signal SV and then the vertical synchronization signal SV. It is generated as a pulse signal synchronized with.

【0044】図7のD及びEに示される如くに、期間T
CGOにおいてはあらわれないものとされる蓄積指令信
号CCO及び期間TCGEにおいてはあらわれないもの
とされる蓄積指令信号CCEは、書込制御信号発生部4
6に供給されるとともにタイミング信号形成部26に供
給される。タイミング信号形成部26は、読出指令信号
CRO及びCREを、夫々、蓄積指令信号CCO及びC
CEに同期して発せられるパルス列信号として送出す
る。それゆえ、期間TCGO内においては、駆動信号形
成部25から固体撮像素子11における撮像面形成部へ
の読出ゲート駆動信号φGOの供給がなされず、撮像面
形成部における奇数画素水平列の夫々を形成する光電変
換素子部15で得られた電荷の垂直電荷転送部16への
読出しは行われない。また、期間TCGE内において
は、駆動信号形成部25から固体撮像素子11における
撮像面形成部への、読出ゲート駆動信号φGEの供給が
なされず、撮像面形成部における偶数画素水平列の夫々
を形成する光電変換素子部15で得られた電荷の垂直電
荷転送部16への読出しは行われない。
As shown in D and E of FIG. 7, the period T
The storage command signal CCO that does not appear in the CGO and the storage command signal CCE that does not appear in the period TCGE are the write control signal generator 4.
6 and the timing signal forming unit 26. The timing signal forming unit 26 outputs the read command signals CRO and CRE to the storage command signals CCO and C, respectively.
It is sent out as a pulse train signal that is issued in synchronization with CE. Therefore, in the period TCGO, the read gate drive signal φGO is not supplied from the drive signal forming unit 25 to the image pickup surface forming unit in the solid-state image pickup device 11, and each odd pixel horizontal column is formed in the image pickup surface forming unit. The charges obtained in the photoelectric conversion element section 15 are not read out to the vertical charge transfer section 16. Further, within the period TCGE, the read gate drive signal φGE is not supplied from the drive signal forming section 25 to the image pickup surface forming section of the solid-state image pickup device 11, and each even pixel horizontal column is formed in the image pickup surface forming section. The charges obtained in the photoelectric conversion element section 15 are not read out to the vertical charge transfer section 16.

【0045】このようにして、期間TCGOにあって
は、撮像面形成部における奇数画素水平列の夫々を形成
する光電変換素子部15が電荷蓄積状態におかれ、ま
た、期間TCGEにあっては、撮像面形成部における偶
数画素水平列の夫々を形成する光電変換素子部15が電
荷蓄積状態におかれることになるが、このとき、素子装
着部2に装着された固体撮像素子11は、可動蓋体8に
より覆われて遮光状態に維持されているので、その撮像
面形成部は実質的に外光が入射しない状態におかれてお
り、光電変換素子部15における外光による電荷の蓄積
はなされない。
As described above, in the period TCGO, the photoelectric conversion element portions 15 forming each of the odd-numbered pixel horizontal columns in the imaging surface forming portion are in the charge accumulation state, and in the period TCGE. The photoelectric conversion element portions 15 forming each of the even-numbered pixel horizontal columns in the image pickup surface forming portion are placed in the charge accumulation state. At this time, the solid-state image pickup element 11 attached to the element attachment portion 2 is movable. Since it is covered with the lid 8 and is kept in a light-shielded state, the image pickup surface forming portion thereof is substantially in a state where external light does not enter, and the photoelectric conversion element portion 15 does not accumulate charges due to external light. Not done.

【0046】そして、期間TCGOの終端時点が到来す
ると、蓄積指令信号発生部45から蓄積指令信号CCO
が垂直同期信号SVに同期してあらわれるパルス信号と
して発生せしめられ、それがタイミング信号形成部26
に供給される。それにより、タイミング信号形成部26
は、期間TCGOの終端時点において読出指令信号CR
Oを、蓄積指令信号CCOに同期して発せられるパルス
列信号として送出する。その結果、駆動信号形成部25
から固体撮像素子11における撮像面形成部への、読出
ゲート駆動信号φGO,垂直転送駆動信号φV1及びφ
V2、及び、水平転送駆動信号φH1及びφH2の供給
が、期間TCGOの終端時点において開始され、撮像面
形成部における奇数画素水平列の夫々を形成する光電変
換素子部15で得られた電荷の垂直電荷転送部16への
読出し、及び、読み出された電荷の垂直電荷転送部16
による転送及び水平電荷転送部18による転送が、期間
TCGOの終端時点において開始される。
When the end time of the period TCGO arrives, the storage command signal generator 45 outputs the storage command signal CCO.
Is generated as a pulse signal that appears in synchronism with the vertical synchronizing signal SV, which is generated by the timing signal forming unit 26.
Is supplied to. As a result, the timing signal forming unit 26
Is the read command signal CR at the end of the period TCGO.
O is sent as a pulse train signal that is issued in synchronization with the storage command signal CCO. As a result, the drive signal forming unit 25
To the image pickup surface forming portion of the solid-state image pickup device 11 from the read gate drive signal φGO and the vertical transfer drive signals φV1 and φ
The supply of V2 and the horizontal transfer drive signals φH1 and φH2 is started at the end of the period TCGO, and the vertical of the charges obtained in the photoelectric conversion element unit 15 forming each of the odd-numbered pixel horizontal columns in the imaging surface forming unit. Readout to the charge transfer unit 16 and vertical charge transfer unit 16 of the read charges
And the transfer by the horizontal charge transfer unit 18 are started at the end of the period TCGO.

【0047】同様に、期間TCGEの終端時点が到来す
ると、蓄積指令信号発生部45から蓄積指令信号CCE
が垂直同期信号SVに同期してあらわれるパルス信号と
して発生せしめられ、それがタイミング信号形成部26
に供給される。それにより、タイミング信号形成部26
は、期間TCGEの終端時点において読出指令信号CR
Eを、蓄積指令信号CCEに同期して発せられるパルス
列信号として送出する。その結果、駆動信号形成部25
から固体撮像素子11における撮像面形成部への、読出
ゲート駆動信号φGE,垂直転送駆動信号φV1及びφ
V2、及び、水平転送駆動信号φH1及びφH2の供給
が、期間TCGEの終端時点において開始され、撮像面
形成部における偶数画素水平列の夫々を形成する光電変
換素子部15で得られた電荷の垂直電荷転送部16への
読出し、及び、読み出された電荷の垂直電荷転送部16
による転送及び水平電荷転送部18による転送が、期間
TCGEの終端時点において開始される。
Similarly, when the end point of the period TCGE arrives, the accumulation command signal generator 45 outputs the accumulation command signal CCE.
Is generated as a pulse signal that appears in synchronism with the vertical synchronizing signal SV, which is generated by the timing signal forming unit 26.
Is supplied to. As a result, the timing signal forming unit 26
Is the read command signal CR at the end of the period TCGE.
E is sent as a pulse train signal that is issued in synchronization with the storage command signal CCE. As a result, the drive signal forming unit 25
To the image pickup surface forming portion of the solid-state image pickup device 11, the read gate drive signal φGE, the vertical transfer drive signals φV1 and φ.
The supply of V2 and the horizontal transfer drive signals φH1 and φH2 is started at the end of the period TCGE, and the vertical of the charges obtained in the photoelectric conversion element unit 15 forming each of the even pixel horizontal columns in the imaging surface forming unit. Readout to the charge transfer unit 16 and vertical charge transfer unit 16 of the read charges
And the transfer by the horizontal charge transfer unit 18 are started at the end of the period TCGE.

【0048】斯かる際における撮像面形成部に設けられ
た光電変換素子部15で得られた電荷の垂直電荷転送部
16への読出し、及び、読み出された電荷の垂直電荷転
送部16による転送及び水平電荷転送部18による転送
は、撮像面形成部における出力信号IPの形成に直接的
に寄与しない領域からの電荷の読出し及び転送をも含む
ものとされ、通常の1フィールド期間より長い期間に亙
って行われる。それにより、撮像面形成部から、それら
が実質的に外光が入射しない状態におかれたもとで、期
間TCGOが経過したときにおける奇数画素水平列の夫
々を形成する光電変換素子部15の電荷状態をあらわす
出力信号IPが得られ、また、同様にして、撮像面形成
部から、それらが実質的に外光が入射しない状態におか
れたもとで、期間TCGEが経過したときにおける偶数
画素水平列の夫々を形成する光電変換素子部15の電荷
状態をあらわす出力信号IPが得られる。
At this time, the charges obtained by the photoelectric conversion element section 15 provided in the imaging surface forming section are read out to the vertical charge transfer section 16, and the read charges are transferred by the vertical charge transfer section 16. Also, the transfer by the horizontal charge transfer unit 18 includes reading and transfer of charges from a region that does not directly contribute to the formation of the output signal IP in the imaging surface forming unit, and is performed in a period longer than a normal one field period. It takes place over time. As a result, the charge state of the photoelectric conversion element unit 15 forming each of the odd-numbered pixel horizontal columns when the period TCGO elapses under the condition that the outside light does not substantially enter from the imaging surface forming unit. Of the even pixel horizontal row when the period TCGE elapses under the condition that the outside light does not substantially enter from the imaging surface forming unit. An output signal IP representing the charge state of the photoelectric conversion element portions 15 forming each is obtained.

【0049】それに伴い、信号入力端子44に、そのと
きの出力信号IPに基づくディジタル出力信号DIが、
図7のGに示される如くに、期間TCGOの終端時点か
ら開始される1フィールド期間より長い期間である期間
TDDOにおいて供給され、さらに、期間TCGEの終
端時点から開始される1フィールド期間より長い期間で
ある期間TDDEにおいて供給される。
Accordingly, the digital output signal DI based on the output signal IP at that time is supplied to the signal input terminal 44.
As shown in G of FIG. 7, a period longer than one field period starting from the end point of the period TCGO is supplied in the period TDDO, and a period longer than one field period starting from the end point of the period TCGE. For a period of time TDDE.

【0050】蓄積指令信号発生部45から発せられる蓄
積指令信号CCO及びCCEが供給される書込制御信号
発生部46からは、期間TCGEの終端時点において供
給される蓄積指令信号CCE、及び、期間TCGOの終
端時点において供給される蓄積指令信号CCOに応じ
て、図7のFに示される如くの、期間TCGEの終端時
点から2フィールド期間に亙って、及び、期間TCGO
の終端時点から2フィールド期間に亙って、夫々、高レ
ベルをとる書込制御信号CWCが送出されて、それが後
述される欠陥データが格納されるデータメモリ部47に
おける制御端子に供給される。
From the write control signal generator 46 to which the storage command signals CCO and CCE issued from the storage command signal generator 45 are supplied, the storage command signal CCE supplied at the end of the period TCGE and the period TCGO. In response to the storage command signal CCO supplied at the end point of the period TCGE, as shown in F of FIG. 7, over the two-field period from the end point of the period TCGE and the period TCGO.
The write control signal CWC, which takes a high level, is sent over the two-field period from the end of each of the two, and the write control signal CWC is supplied to the control terminal in the data memory unit 47 in which defective data described later is stored. .

【0051】データメモリ部47は、書込制御信号発生
部46から供給される書込制御信号CWCが、高レベル
をとるときのみデータの書込みが可能とされ、それ以外
のときには、データの読出し、あるいは、データの消去
が可能とされる。従って、信号入力端子44に、ディジ
タル出力信号DIが、図7のGに示される如くに、期間
TDDE及び期間TDDOにおいて供給されるもとにあ
っては、データメモリ部47がデータの書込みが可能な
状態におかれる。
In the data memory section 47, data can be written only when the write control signal CWC supplied from the write control signal generating section 46 takes a high level, and in other cases, data read, Alternatively, the data can be erased. Therefore, when the digital output signal DI is supplied to the signal input terminal 44 in the period TDDE and the period TDDO as shown in G of FIG. 7, the data memory unit 47 can write data. Be put into a state.

【0052】期間TDDE及び期間TDDOにおいて信
号入力端子44に供給されるディジタル出力信号DI
は、クランプ部50において黒レベルが固定され、さら
に、ブランキング部51において、固体撮像素子11の
撮像面形成部における各画素水平列を形成する光電変換
素子部15からの電荷に基づいて得られた部分以外の部
分にブランキングがかけられる処理が施されて、ディジ
タル出力信号DI’とされる。そして、ディジタル出力
信号DI’は、レベル比較部52及びレベルデータ形成
部57の夫々に供給される。
The digital output signal DI supplied to the signal input terminal 44 in the periods TDDE and TDDO.
The black level is fixed in the clamp section 50, and further, in the blanking section 51, the black level is obtained based on the charges from the photoelectric conversion element section 15 forming each horizontal row of pixels in the image pickup surface forming section of the solid-state image pickup element 11. The portion other than the above portion is subjected to blanking processing to be a digital output signal DI '. Then, the digital output signal DI ′ is supplied to the level comparing section 52 and the level data forming section 57, respectively.

【0053】ディジタル出力信号DI’は、素子装着部
2に装着された固体撮像素子11が可動蓋体8により覆
われて遮光状態に維持され、その撮像面形成部が実質的
に外光が入射しない状態におかれたもとで得られた出力
信号IPに基づくものであるので、撮像面形成部の夫々
における画素、即ち、光電変換素子部15が適正に動作
するもとでは小なるレベルをあらわすはずである。換言
すれば、ディジタル出力信号DI’において、比較的大
なるレベルをあらわす部分があれば、その部分は、撮像
面形成部における欠陥画素に起因する欠陥部分であるこ
とになる。
With respect to the digital output signal DI ', the solid-state image pickup device 11 mounted on the device mounting portion 2 is covered with the movable lid 8 and kept in a light-shielded state, and the image pickup surface forming portion thereof is substantially exposed to external light. Since it is based on the output signal IP obtained under the non-operating state, it should represent a small level under the proper operation of the pixels in each imaging surface forming unit, that is, the photoelectric conversion element unit 15. Is. In other words, in the digital output signal DI ′, if there is a portion representing a relatively large level, that portion is a defective portion due to a defective pixel in the imaging surface forming portion.

【0054】レベル比較部52には、基準レベル発生部
53からの予め設定された正極性の基準レベルをあらわ
すディジタル基準レベル信号DRが供給される。そし
て、レベル比較部52において、ディジタル出力信号D
I’とディジタル基準レベル信号DRがあらわす基準レ
ベルとが比較され、レベル比較部52から、ディジタル
出力信号DI’があらわすレベルが基準レベル以下であ
るとき低レベルをあらわし、ディジタル出力信号DI’
があらわすレベルが基準レベルを越えているとき高レベ
ルをあらわす欠陥データDDが得られる。
The level comparing section 52 is supplied with a digital reference level signal DR from the reference level generating section 53, which represents a preset positive reference level. Then, in the level comparing section 52, the digital output signal D
I'is compared with the reference level represented by the digital reference level signal DR, and the level comparing section 52 indicates a low level when the level represented by the digital output signal DI 'is less than or equal to the reference level, and the digital output signal DI'.
When the level represented by the above exceeds the reference level, the defect data DD representing the high level is obtained.

【0055】従って、レベル比較部52にあっては、デ
ィジタル出力信号DI’に含まれる欠陥部分が、欠陥デ
ータDDが高レベルをあらわすものとされることにより
検出される。そして、レベル比較部52から得られる欠
陥データDDは、第1の欠陥検出出力として表示用信号
形成部36へと送出されるとともに、欠陥データ格納制
御部54に供給される。
Therefore, in the level comparing section 52, the defective portion included in the digital output signal DI 'is detected by the defective data DD representing the high level. Then, the defect data DD obtained from the level comparing section 52 is sent to the display signal forming section 36 as a first defect detection output, and is also supplied to the defect data storage control section 54.

【0056】このようなもとで、クランプ部50,ブラ
ンキング部51,レベル比較部52及び基準レベル発生
部53が含まれる部分によって、固体撮像素子11にお
ける撮像面形成部からの出力信号IPに基づいて得られ
るディジタル出力信号DIに含まれる、撮像面形成部に
おける欠陥画素からの出力に基づく欠陥部分を検出する
信号欠陥検出部が形成されている。
Under such a condition, the output signal IP from the image pickup surface forming unit in the solid-state image pickup device 11 is output by the portion including the clamp unit 50, the blanking unit 51, the level comparing unit 52 and the reference level generating unit 53. A signal defect detection unit for detecting a defective portion included in the digital output signal DI obtained based on the output from the defective pixel in the imaging surface forming unit is formed.

【0057】また、レベルデータ形成部57において
は、ブランキング部51からのディジタル出力信号D
I’のレベルをあらわすレベルデータDEが形成され、
それが欠陥データ格納制御部54及びデータメモリ部4
7に供給される。
Further, in the level data forming section 57, the digital output signal D from the blanking section 51 is outputted.
Level data DE representing the level of I'is formed,
That is, the defective data storage control unit 54 and the data memory unit 4
7 is supplied.

【0058】欠陥データ格納制御部54は、レベル比較
部54から得られる欠陥データDDが高レベルをあらわ
すとき、レベルデータ形成部57からのレベルデータD
Eにおける、それがあらわすレベルが最大であるものか
らレベル順に所定数までのものの各々に応じて、データ
メモリ部47に書込み状態をとらせる書込制御信号CM
を供給する。
The defect data storage control unit 54, when the defect data DD obtained from the level comparison unit 54 indicates a high level, receives the level data D from the level data formation unit 57.
A write control signal CM that causes the data memory unit 47 to take a write state in accordance with each of the maximum level represented by E to the predetermined number in level order.
Supply.

【0059】データメモリ部47においては、欠陥デー
タ格納制御部54からの書込制御信号CMが供給されて
書込み状態がとられるとき、そのときレベルデータ形成
部57から供給されているレベルデータDEが、ディジ
タル出力信号DI’に含まれる欠陥部分のレベルをあら
わす欠陥レベルデータDEDとして格納される。
In the data memory section 47, when the write control signal CM from the defective data storage control section 54 is supplied and the write state is established, the level data DE supplied from the level data forming section 57 at that time is supplied. , And is stored as defect level data DED representing the level of the defective portion included in the digital output signal DI ′.

【0060】また、斯かる際、信号入力端子41を通じ
た垂直方向クロック信号CLVが垂直方向アドレスカウ
ンタ(V−アドレスカウンタ)61に供給され、また、
信号入力端子42を通じた水平方向クロック信号CLH
が水平方向アドレスカウンタ(H−アドレスカウンタ)
62に供給される。さらに、V−アドレスカウンタ61
には、信号入力端子63及び64に夫々供給される、タ
イミング信号形成部26により蓄積指令信号CCO及び
CCEに基づいて形成された読出指令信号CRO及びC
REが、加算部65を通じてリセット信号として供給さ
れ、また、H−アドレスカウンタ62には、垂直方向ク
ロック信号CLVがリセット信号として供給される。
At this time, the vertical clock signal CLV from the signal input terminal 41 is supplied to the vertical address counter (V-address counter) 61, and
Horizontal clock signal CLH through the signal input terminal 42
Is a horizontal address counter (H-address counter)
62. Further, the V-address counter 61
Of the read command signals CRO and C, which are supplied to the signal input terminals 63 and 64 by the timing signal forming unit 26, based on the storage command signals CCO and CCE.
RE is supplied as a reset signal through the adder 65, and the vertical clock signal CLV is supplied to the H-address counter 62 as a reset signal.

【0061】それにより、V−アドレスカウンタ61
は、読出指令信号CRO及びCREの到来毎に計数値が
リセットされるもとで、奇数フィールド期間及び偶数フ
ィールド期間の夫々において垂直方向クロック信号CL
Vを計数し、計数データDAVを送出する。また、H−
アドレスカウンタ62は、垂直方向クロック信号CLV
の到来毎に計数値がリセットされるもとで、水平方向ク
ロック信号CLHを計数して、計数データDAHを送出
する。従って、V−アドレスカウンタ61から得られる
計数データDAVの内容は、固体撮像素子11の撮像面
形成部における垂直電荷転送部16による電荷転送に同
期して変化し、また、H−アドレスカウンタ62から得
られる計数データDAHの内容は、固体撮像素子11の
撮像面形成部における水平電荷転送部18による電荷転
送に同期して変化するものとされる。
As a result, the V-address counter 61
The vertical direction clock signal CL is generated in each of the odd field period and the even field period while the count value is reset each time the read command signals CRO and CRE arrive.
V is counted and count data DAV is sent out. Also, H-
The address counter 62 has a vertical clock signal CLV.
, The horizontal direction clock signal CLH is counted and the count data DAH is transmitted. Therefore, the content of the count data DAV obtained from the V-address counter 61 changes in synchronization with the charge transfer by the vertical charge transfer unit 16 in the image pickup surface forming unit of the solid-state image pickup device 11, and from the H-address counter 62. The content of the obtained count data DAH is supposed to change in synchronization with the charge transfer by the horizontal charge transfer section 18 in the image pickup surface forming section of the solid-state image pickup device 11.

【0062】それゆえ、V−アドレスカウンタ61から
得られる計数データDAVの内容は、固体撮像素子11
の撮像面形成部から出力信号IPが得られるとき、撮像
面形成部における、そのとき得られている出力信号IP
を形成するものとされた電荷を提供した画素、即ち、光
電変換素子部15が属する画素水平列を特定する垂直方
向アドレスAVをあらわし、また、H−アドレスカウン
タ62から得られる計数データDAHの内容は、固体撮
像素子11の撮像面形成部から出力信号IPが得られる
とき、撮像面形成部における、そのとき得られている撮
像信号IPを形成するものとされた電荷を提供した画
素、即ち、光電変換素子部15のそれが属する画素水平
列内における位置を特定する水平方向アドレスAHをあ
らわすものとされる。
Therefore, the content of the count data DAV obtained from the V-address counter 61 is as follows.
When the output signal IP is obtained from the image pickup surface forming unit, the output signal IP obtained at that time in the image pickup surface forming unit
Represents the vertical address AV that specifies the pixel that has provided the electric charge that has been formed, that is, the pixel horizontal column to which the photoelectric conversion element unit 15 belongs, and the content of the count data DAH obtained from the H-address counter 62. When an output signal IP is obtained from the image pickup surface forming unit of the solid-state image pickup device 11, a pixel in the image pickup surface forming unit that has provided a charge determined to form the image pickup signal IP obtained at that time, that is, It represents a horizontal address AH that specifies the position of the photoelectric conversion element unit 15 in the horizontal pixel column to which it belongs.

【0063】従って、期間TDDE及び期間TDDOに
おいて、レベル比較部52からの欠陥データDDが高レ
ベルをあらわすものとされて、ディジタル出力信号D
I’に含まれた欠陥部分が検出されたときには、そのと
きV−アドレスカウンタ61から得られている計数デー
タDAVがあらわす垂直方向アドレスAVが、検出され
た欠陥部分の原因をなす撮像面形成部における欠陥画
素、もしくは、検出された擬似欠陥部分に対応する撮像
面形成部における擬似欠陥画素が属する画素水平列を特
定しており、また、そのときH−アドレスカウンタ62
から得られている計数データDAHがあらわす水平方向
アドレスAHが、検出された欠陥部分の原因をなす撮像
面形成部における欠陥画素のそれが属する画素水平列内
における位置を特定している。
Therefore, in the period TDDE and the period TDDO, the defect data DD from the level comparing section 52 is assumed to represent a high level, and the digital output signal D
When a defective portion included in I'is detected, the vertical direction address AV represented by the count data DAV obtained from the V-address counter 61 at that time causes the detected defective portion. Of the defective pixel, or the horizontal row of pixels to which the pseudo defective pixel in the imaging surface forming section corresponding to the detected pseudo defective portion belongs is specified, and at that time, the H-address counter 62
The horizontal address AH represented by the count data DAH obtained from the above specifies the position of the defective pixel in the imaging plane forming portion that causes the detected defective portion in the pixel horizontal column to which it belongs.

【0064】このようにしてV−アドレスカウンタ61
から送出される計数データDAV及びH−アドレスカウ
ンタ62から送出される計数データDAHは、データメ
モリ部47に供給される。そして、データメモリ部47
においては、V−アドレスカウンタ61から送出される
計数データDAV及びH−アドレスカウンタ62から送
出される計数データDAHが、欠陥データ格納制御部5
4から供給される書込制御信号CMに応じて、欠陥アド
レスデータDAVD及びDAHDとして書き込まれて格
納される。
In this way, the V-address counter 61
The count data DAV sent from the H-address counter 62 and the count data DAV sent from the H-address counter 62 are supplied to the data memory unit 47. Then, the data memory unit 47
, The count data DAV sent from the V-address counter 61 and the count data DAH sent from the H-address counter 62 are the defective data storage control unit 5.
The defective address data DAVD and DAHD are written and stored in accordance with the write control signal CM supplied from No. 4.

【0065】欠陥データ格納制御部54からデータメモ
リ部47への書込制御信号CMの供給は、レベル比較部
52から得られる欠陥データDDが高レベルをあらわす
もとで、レベルデータ形成部57からのレベルデータD
Eにおける、それがあらわすレベルが最大であるものか
らレベル順に所定数までのものの各々に応じてなされる
ので、データメモリ部47には、ディジタル出力信号D
I’における欠陥部分であってそのレベルが最大である
ものからレベル順に所定数までのものの原因をなす、撮
像面形成部における欠陥画素の夫々を特定する垂直方向
アドレスAV及び水平方向アドレスAHをあらわす計数
データDAV及び計数データDAHが、欠陥アドレスデ
ータDAVD及びDAHDとして格納されることにな
る。
The write data control signal CM is supplied from the defect data storage control unit 54 to the data memory unit 47 from the level data forming unit 57 while the defect data DD obtained from the level comparison unit 52 indicates a high level. Level data D
In the data memory section 47, the digital output signal D
The vertical address AV and the horizontal address AH that specify each defective pixel in the imaging surface forming unit, which causes the defective portion in I'from the maximum level to the predetermined number in the level order, are represented. The count data DAV and the count data DAH are stored as the defective address data DAVD and DAHD.

【0066】期間TDDE及び期間TDDOが経過する
と、書込制御信号発生部46からの書込制御信号CWC
が供給される検出終了信号発生部69から、図7のHに
示される如くの、書込制御信号CWCの後縁時点に応じ
て形成される検出終了信号CEが得られ、その検出終了
信号CEが制御ユニット34に供給される。それによ
り、制御ユニット34は、図7のCに示される如くに、
欠陥検出指令信号CSTの送出を検出終了信号CEの前
縁の時点において停止させる。そして、検出終了信号C
Eの前縁時点において、欠陥検出部33による欠陥検出
動作、即ち、ディジタル出力信号DI’における欠陥部
分を検出し、欠陥データDDを第1の欠陥検出出力とし
て表示用信号形成部36へと送出する動作、及び、検出
された欠陥部分の原因をなしている固体撮像素子11の
撮像面形成部における欠陥画素を特定する欠陥アドレス
データDAVD及びDAHDと、検出された欠陥部分の
レベルをあらわす欠陥レベルデータDEDとを、データ
メモリ部47に格納する動作が完了し、信号出力期間T
COに戻る。
When the period TDDE and the period TDDO have elapsed, the write control signal CWC from the write control signal generator 46 is generated.
From the detection end signal generating section 69 to which is supplied the detection end signal CE, which is formed in accordance with the trailing edge of the write control signal CWC, as shown in H of FIG. 7, is obtained. Are supplied to the control unit 34. Thereby, the control unit 34, as shown in FIG.
The transmission of the defect detection command signal CST is stopped at the leading edge of the detection end signal CE. Then, the detection end signal C
At the time of the leading edge of E, the defect detection operation by the defect detection unit 33, that is, the defect portion in the digital output signal DI ′ is detected, and the defect data DD is sent to the display signal formation unit 36 as the first defect detection output. And defect address data DAVD and DAHD that specify defective pixels in the imaging surface forming portion of the solid-state imaging device 11 that cause the detected defective portion, and a defect level that indicates the level of the detected defective portion. The operation of storing the data DED in the data memory unit 47 is completed, and the signal output period T
Return to CO.

【0067】欠陥検出動作が完了した欠陥検出部33に
あっては、その後の信号出力期間TCOにおいて、デー
タメモリ部47から、そこに格納された欠陥アドレスデ
ータDAVD及びDAHDと欠陥レベルデータDEDと
が読み出され、読み出された欠陥アドレスデータDAV
D及びDAHDが第2の欠陥検出出力として、また、読
み出された欠陥レベルデータDEDが第3の欠陥検出出
力として、表示用信号形成部36へと送出される。
In the defect detecting section 33 having completed the defect detecting operation, in the subsequent signal output period TCO, the defect address data DAVD and DAHD and the defect level data DED stored therein are stored in the data memory section 47. Read and read defective address data DAV
D and DAHD are sent to the display signal forming unit 36 as the second defect detection output, and the read defect level data DED is sent as the third defect detection output.

【0068】[0068]

【発明の効果】以上の説明から明らかな如く、本発明に
係る撮像素子欠陥検出装置にあっては、撮像素子が、素
子装着部に装着されて、素子駆動部により駆動されるも
とで、欠陥検出部による撮像素子からの出力信号に含ま
れる欠陥部分の検出が行われ、欠陥部分が検出される
と、例えば、その欠陥部分の検出がなされたことをあら
わす欠陥データ,検出された欠陥部分の原因をなす撮像
面形成部における欠陥画素を特定する欠陥アドレスデー
タ,検出された欠陥部分のレベルをあらわす欠陥レベル
データ等が、欠陥検出出力として送出されて、表示部に
より、欠陥検出出力に基づいて形成される表示用信号に
応じた、例えば、素子装着部に装着された撮像素子につ
いての撮像面形成部における欠陥画素の数,撮像面形成
部における欠陥画素の位置,欠陥検出部により検出され
た欠陥部分のレベル等についての表示が成される。
As is apparent from the above description, in the image pickup device defect detection apparatus according to the present invention, the image pickup device is mounted on the device mounting portion and driven by the device driving portion. When a defect portion included in the output signal from the image sensor is detected by the defect detection unit and the defect portion is detected, for example, defect data indicating that the defect portion is detected, the detected defect portion The defect address data that specifies the defective pixel in the imaging surface forming unit that causes the above, the defect level data that represents the level of the detected defective portion, and the like are transmitted as the defect detection output, and the display unit is based on the defect detection output. The number of defective pixels in the image pickup surface forming section of the image pickup element mounted in the element mounting section, the defective pixel in the image pickup surface forming section, Position, the display of the level in the detected defective portion by the defect detection section is made.

【0069】従って、本発明に係る撮像素子欠陥検出装
置によれば、撮像素子が製品とされて実際に出荷される
際、あるいは、使用者により受け入れられる際等におい
て、その撮像素子が素子装着部に装着され、素子駆動部
により駆動される状態とされるだけの極めて容易な手順
をとるだけで、当該撮像素子の撮像面形成部における欠
陥画素の状況を、表示部による表示に基づいて的確に点
検することができることになる。
Therefore, according to the image pickup device defect detection apparatus of the present invention, when the image pickup device is actually shipped as a product, or when the image pickup device is accepted by the user, the image pickup device is mounted on the element mounting portion. The situation of defective pixels in the image pickup surface forming unit of the image pickup device can be accurately determined based on the display by the display unit by simply performing a very easy procedure of being mounted on the image pickup device and being driven by the element drive unit. You will be able to check.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る撮像素子欠陥検出装置の一例にお
ける要部を示すブロック構成図である。
FIG. 1 is a block configuration diagram showing a main part in an example of an image sensor defect detection device according to the present invention.

【図2】本発明に係る撮像素子欠陥検出装置の一例の外
観を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an appearance of an example of an image sensor defect detection device according to the present invention.

【図3】本発明に係る撮像素子欠陥検出装置の一例によ
る欠陥検出及び欠陥画素に関しての表示が行われるもの
とされる固体撮像素子の一例を示す概略構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing an example of a solid-state image sensor in which defect detection and display regarding defective pixels are performed by an example of the image sensor defect detection apparatus according to the present invention.

【図4】図3に示される固体撮像素子の動作説明に供さ
れるタイムーチャートである。
FIG. 4 is a time chart used to explain the operation of the solid-state imaging device shown in FIG.

【図5】図3に示される固体撮像素子の動作説明に供さ
れるタイムーチャートである。
5 is a time chart used for explaining the operation of the solid-state imaging device shown in FIG.

【図6】図1に示される要部における欠陥検出部の具体
構成についての一例を示すブロック構成図である。
6 is a block configuration diagram showing an example of a specific configuration of a defect detection unit in the main part shown in FIG. 1. FIG.

【図7】図6に示される欠陥検出部の具体構成について
の一例の動作説明に供されるタイムーチャートである。
7 is a time chart used for explaining an example of the operation of the specific configuration of the defect detection unit shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 匣体 2 素子装着部 3 操作部 4 第1の表示部 5 第2の表示部 6 第3の表示部 7 ヒンジ部 8 可動蓋体 11 固体撮像素子 13 半導体基体 15 光電変換素子部 16 垂直電荷転送部 17 電荷読出ゲート部 18 水平電荷転送部 19 電荷出力部 20 出力端子 25 駆動信号形成部 26 タイミング信号形成部 27 同期信号発生部 30 サンプリング・ホールド部 31 A/D変換部 32 出力端子 33 欠陥検出部 34 制御ユニット 35 欠陥検出スイッチ 36 表示用信号形成部 37 表示部 45 蓄積指令信号発生部 46 書込制御信号発生部 47 データメモリ部 50 クランプ部 51 ブランキング部 52 レベル比較部 53 基準レベル発生部 54 欠陥データ格納制御部 57 レベルデータ形成部 61 V−アドレスカウンタ 62 H−アドレスカウンタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Enclosure 2 Element mounting part 3 Operation part 4 1st display part 5 2nd display part 6 3rd display part 7 Hinge part 8 Movable lid body 11 Solid-state image sensor 13 Semiconductor substrate 15 Photoelectric conversion element part 16 Vertical charge Transfer unit 17 Charge read gate unit 18 Horizontal charge transfer unit 19 Charge output unit 20 Output terminal 25 Drive signal forming unit 26 Timing signal forming unit 27 Synchronous signal generating unit 30 Sampling and holding unit 31 A / D conversion unit 32 Output terminal 33 Defect Detection unit 34 Control unit 35 Defect detection switch 36 Display signal formation unit 37 Display unit 45 Storage command signal generation unit 46 Write control signal generation unit 47 Data memory unit 50 Clamp unit 51 Blanking unit 52 Level comparison unit 53 Reference level generation Part 54 Defect data storage control part 57 Level data forming part 61 V-address counter 6 H- address counter

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数の画素が配列配置されて成る撮像面形
成部を有した撮像素子が装着される素子装着部と、 該素子装着部に装着された撮像素子を駆動する素子駆動
部と、 該素子駆動部により駆動された上記撮像素子からの出力
信号に含まれる、上記撮像面形成部における欠陥画素に
起因する欠陥部分を検出し、検出された欠陥部分に応じ
た欠陥検出出力を送出する欠陥検出部と、 該欠陥検出部から送出される欠陥検出出力に基づいて表
示用信号を形成する表示用信号形成部と、 該表示用信号形成部から得られる表示用信号に応じて、
上記素子装着部に装着された撮像素子についての欠陥画
素に関する表示を行う表示部と、を備えて構成される撮
像素子欠陥検出装置。
1. An element mounting portion to which an image pickup element having an image pickup surface forming portion formed by arranging a plurality of pixels is mounted, and an element driving portion which drives the image pickup element mounted to the element mounting portion. Detecting a defective portion due to a defective pixel in the imaging surface forming unit, which is included in an output signal from the imaging device driven by the element driving unit, and outputs a defect detection output corresponding to the detected defective portion. A defect detection unit, a display signal formation unit that forms a display signal based on a defect detection output sent from the defect detection unit, and a display signal obtained from the display signal formation unit,
An image sensor defect detection device configured to include a display section that displays a defective pixel of the image sensor mounted on the element mounting section.
【請求項2】欠陥検出部が、欠陥部分が検出されると
き、素子装着部に装着された撮像素子の撮像面形成部に
おける各画素を特定するアドレスデータのうちの、上記
欠陥部分の原因をなす欠陥画素に対応するものとされる
欠陥アドレスデータを格納するとともに、格納された欠
陥アドレスデータを欠陥検出出力として送出するデータ
メモリ手段を備えることを特徴とする請求項1記載の撮
像素子欠陥検出装置。
2. When the defect detecting section detects a defective portion, the cause of the defective portion in the address data specifying each pixel in the image pickup surface forming portion of the image pickup device mounted in the element mounting portion is determined. 2. The image sensor defect detection according to claim 1, further comprising data memory means for storing the defect address data corresponding to the defective pixel to be formed and transmitting the stored defect address data as a defect detection output. apparatus.
【請求項3】欠陥検出部が、検出された欠陥部分のレベ
ルをあらわす欠陥レベルデータを格納するとともに、格
納された欠陥レベルデータを欠陥検出出力として送出す
るデータメモリ手段を備えることを特徴とする請求項1
記載の撮像素子欠陥検出装置。
3. A defect detecting section is provided with a data memory means for storing defect level data representing a level of a detected defective portion and sending the stored defect level data as a defect detection output. Claim 1
The image pickup device defect detection device described.
【請求項4】欠陥検出部が、欠陥部分が検出されると
き、素子装着部に装着された撮像素子の撮像面形成部に
おける各画素を特定するアドレスデータのうちの、上記
欠陥部分の原因をなす欠陥画素に対応するものとされる
欠陥アドレスデータ、及び、上記欠陥部分のレベルをあ
らわす欠陥レベルデータを格納するとともに、格納され
た欠陥アドレスデータ及び欠陥レベルデータの夫々を欠
陥検出出力として送出するデータメモリ手段を備えるこ
とを特徴とする請求項1記載の撮像素子欠陥検出装置。
4. When the defect detecting section detects a defective portion, the cause of the defective portion in the address data specifying each pixel in the image pickup surface forming portion of the image pickup device mounted in the element mounting portion is determined. The defect address data corresponding to the defective pixel to be formed and the defect level data representing the level of the defective portion are stored, and each of the stored defect address data and defect level data is sent as a defect detection output. The image sensor defect detection device according to claim 1, further comprising data memory means.
【請求項5】欠陥検出部が、欠陥部分が検出されると
き、上記欠陥部分の検出がなされたことをあらわす欠陥
データを第1の欠陥検出出力として送出するとともに、
データメモリ手段からの欠陥アドレスデータ及び欠陥レ
ベルデータを夫々第2及び第3の欠陥検出出力として送
出することを特徴とする請求項4記載の撮像素子欠陥検
出装置。
5. A defect detection section, when a defective portion is detected, sends defect data indicating that the defective portion has been detected as a first defect detection output, and
5. The image sensor defect detection device according to claim 4, wherein the defect address data and the defect level data from the data memory means are sent as second and third defect detection outputs, respectively.
【請求項6】表示部が、上記素子装着部に装着された撮
像素子についての撮像面形成部における欠陥画素の数,
該撮像面形成部における欠陥画素の位置、及び、欠陥検
出部により検出された欠陥部分のレベルを表示すること
を特徴とする請求項1記載の撮像素子欠陥検出装置。
6. The number of defective pixels in an image pickup surface forming portion of an image pickup device mounted on the device mounting portion,
2. The image sensor defect detection device according to claim 1, wherein the position of the defective pixel in the imaging surface forming unit and the level of the defective portion detected by the defect detection unit are displayed.
【請求項7】素子装着部が、該素子装着部に装着される
撮像素子に対し、恒温装置として機能することを特徴と
する請求項1記載の撮像素子欠陥検出装置。
7. The image sensor defect detection apparatus according to claim 1, wherein the element mounting section functions as a thermostatic device for the image sensor mounted on the element mounting section.
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