JPH08122052A - プロフィル測定装置 - Google Patents

プロフィル測定装置

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Publication number
JPH08122052A
JPH08122052A JP26415794A JP26415794A JPH08122052A JP H08122052 A JPH08122052 A JP H08122052A JP 26415794 A JP26415794 A JP 26415794A JP 26415794 A JP26415794 A JP 26415794A JP H08122052 A JPH08122052 A JP H08122052A
Authority
JP
Japan
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thickness
measured
thickness gauge
measuring
profile
Prior art date
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Pending
Application number
JP26415794A
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English (en)
Inventor
Shigeyuki Okuma
熊 茂 幸 大
Tatsu Hiraga
賀 龍 平
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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  • A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 プロフィルデータを正確にかつ効率的に測定
しうるプロフィル測定装置を提供すること。 【構成】 各厚み計(1,2)が一定時間の間、被測定
物(20)の同一箇所の厚みを測定した測定データを入
力し、その測定データから各厚み計(1,2)相互間の
測定機差を求める測定機差演算部(51)と、一定時間
経過後、各厚み計(1,2)が被測定物(20)の所定
の位置の厚みを測定した測定データを入力し、その測定
データから測定機差を補正してクラウン量を演算する演
算補正部(52)とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば圧延工程におい
て、鋼板等の被圧延物の断面形状(プロフィル)を測定
するプロフィル測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば鋼板等の圧延材を圧延する工程に
おいて、圧延材の断面形状(プロフィル)が測定されて
いる。図5はこのような測定に用いられる従来のプロフ
ィル測定装置のブロック図である。
【0003】図示するように、従来のプロフィル測定装
置は、高速で走行する圧延材すなわち被測定物20の中
央部21の厚みを測定する固定形厚み計1と、被測定物
20の幅方向に走査して被測定物20の幅方向の厚みを
測定する走査形厚み計2と、固定形厚み計1及び走査形
厚み計2をそれぞれ制御する固定形厚み計制御部3及び
走査形厚み計制御部4と、固定形厚み計制御部3及び走
査形厚み計制御部4を介して入力した中央部21及び幅
方向の厚みの測定データを演算し被測定物20のプロフ
ィルデータを求めるプロフィル演算部5と、そのプロフ
ィルデータを表示する表示部6とから構成される。
【0004】まず、被測定物20の全幅を走査しその断
面全体の形状を求める動作(全幅測定モード)について
説明する。
【0005】まず、固定形厚み計1は被測定物20の中
央部21の厚みを測定し、その測定データを固定形厚み
計制御部3に出力する。他方、走査形厚み計2は、被測
定物20の幅方向に(図の矢印方向)走査することによ
って、各走査地点毎の厚みを測定し、その測定データを
走査形厚み計制御部4に出力する。プロフィル演算部5
は、固定形厚み計制御部3及び走査形厚み計制御部4を
介して中央部の測定データ及び幅方向の測定データを入
力し、それら両者のデータの差を求め、この差を例えば
幅1mm毎のプロフィルデータに変換し、この変換した
プロフィルデータを線形補間し、表示部6に送る。この
ように、走査形厚み計2が被測定物20の全幅を走査す
る毎に例えば1分間に1回の割合で、新しく走査された
被測定物20の断面(プロフィル)が表示される。
【0006】次に、被測定物の全幅でなくエッジ部を連
続的に測定し(定点測定モード)、クラウン量を求める
動作について図5及び図6を基に説明する。図6は、被
測定物20が矢印方向に運ばれていく時の固定形厚み計
1及び走査形厚み計2の走査位置を説明するためのもの
である。
【0007】まず、図示してしない上位計算機から定点
測定モードでクラウン量を求めるように指令を受けたプ
ロフィル演算部5は、走査形厚み計制御部4に走査形厚
み計2が被測定物20のエッジ23から一定距離だけ外
側の地点201に移動するように指令を発する。指令を
受けた走査形厚み計制御部4は走査形厚み計2を地点2
01に移動させる。次に、予め被測定物20の中央部2
1の延長線上に位置している固定形厚み計1が被測定物
20の存在を検出し、このことを固定形厚み計制御部3
を介してプロフィル演算部5に通知する。プロフィル演
算部5は被測定物20を検出した後、一定時間経過する
と走査形厚み計制御部4を起動し、走査形厚み計2を地
点201から被測定物20のエッジ部22に移動させる
(地点202)。エッジ部22の位置は、予め被測定物
20のエッジ23から内側へ所定の距離だけずれた地点
として、プロフィル演算部5に記憶されている。
【0008】走査形厚み計2はエッジ部22に移動した
後、その地点の厚みを測定しその測定データを走査形厚
み計制御部4を介してプロフィル演算部5に送る。他
方、固定形厚み計1は引き続き被測定物20の中央部2
1の厚みを測定し、その測定データを固定形厚み計制御
部3を介してプロフィル演算部5に送る。プロフィル演
算部5は、入力した両者の測定データから以下の式
(1)に示すように演算し、クラウン量Cを求める。
【0009】 C = Xc − Xe (1) ここで、Xcは固定形厚み計1の測定データを示し、X
eは走査形厚み計2の測定データを示す。
【0010】次に、被測定物の全幅でなくエッジ部を連
続的に測定し(定点測定モード)、ウエッジ量を求める
動作について図7及び図8を基に説明する。図7は、ウ
エッジ量を求めるための従来のプロフィル測定装置のブ
ロック図であり、図8は被測定物20が矢印方向に運ば
れていく時の固定形厚み計1、第1の走査形厚み計2
a、及び第2の走査形厚み計2bの走査位置を説明する
ためのものである。
【0011】ウエッジ量を求めるために被測定物20の
幅方向の両端部(エッジ部22a,22b)で厚みを測
定する必要があるため、第1の走査形厚み計2a及び第
2の走査形厚み計2bが設けられ、更にそれらを制御す
るために第1の走査形厚み計制御部4a及び第2の走査
形厚み計制御部4bが設けられ、第1及び第2の走査形
厚み計制御部4a,4bはそれぞれプロフィル演算部5
に接続されている。
【0012】図7に示すように、第1の走査形厚み計2
aは被測定物20のドライブサイドのエッジ部22aの
厚みを測定し、第2の走査形厚み計2bは被測定物20
のオペレータサイドのエッジ部22bの厚みを測定す
る。
【0013】以下ウエッジ量を求めるための動作を具体
的に説明する。
【0014】図示してしない上位計算機から定点測定モ
ードでウェッジ量を求めるように指令を受けたプロフィ
ル演算部5は、第1の走査形厚み計制御部4aを起動
し、第1の走査形厚み計2aを被測定物20のドライブ
サイドのエッジ23aから一定距離だけ外側の地点20
1aに移動させ、また第2の走査形厚み計制御部4bを
起動し、第2の走査形厚み計2bを被測定物20のオペ
レータサイドのエッジ23bから一定距離外側の地点2
01bに移動させるように制御する。次に、予め被測定
物20の中央部21の延長線上に位置していた固定形厚
み計1が被測定物20の存在を検出し、このことを固定
形厚み計制御部3を介してプロフィル演算部5に通知す
る。プロフィル演算部5は被測定物20を検出した後一
定時間経過すると、第1の走査形厚み計制御部4aを起
動し,第1の走査形厚み計制御部4aは第1の走査形厚
み計2aを被測定物20のドライブサイドのエッジ部2
2aに移動させ(地点202a)、また第2の走査形厚
み計制御部4bを起動し,第2の走査形厚み計制御部4
bは第2の走査形厚み計2bを被測定物20のオペレー
タサイドのエッジ部22bに移動させる(地点202
b)。2つのエッジ部22a,22bの位置は、予め被
測定物20のエッジ23a,23bから内側へ所定の距
離だけずれた地点として、プロフィル演算部5に記憶さ
れている。
【0015】第1及び第2の走査形厚み計2a,2bは
それぞれエッジ部22a,22bに到達後その地点の厚
みを測定し,それぞれの測定データを第1及び第2の走
査形厚み計制御部4a,4bを介してプロフィル演算部
5に送る。プロフィル演算部5は、入力した2つの測定
データから以下の式(2)に示すように演算し、ウェッ
ジ量Wを求める。
【0016】 W = Xo − Xd (2) ここで、Xoは第1の走査形厚み計2aの測定データで
あり、Xdは第2の走査形厚み計2bの測定データであ
る。
【0017】ところで、上述した固定形厚み計1、走査
形厚み計2、及び第1及び第2の走査形厚み計2a,2
bは、それぞれ固有の測定誤差を有している。そこで、
それぞれ固有の測定誤差を補正をするために、オフライ
ン時に被測定物と同一のサンプル材料を測定し予め各厚
み計に固有の測定誤差をそれぞれ測定しておき、オンラ
イン時にプロフィル演算部5でそれぞれの測定誤差を補
正している。
【0018】しかし、測定誤差を測定した後で被測定物
の厚みをオンラインで測定しても、各厚み計は被測定物
の厚みの±0.1%以内の測定誤差を生じる。従って、
上式(1),(2)によって求められるクラウン量及び
ウェッジ量はそれぞれ±0.2%以内の誤差が含まれう
ることになる。このことは、例えば圧延材の厚みが10
mmであるとすれば、最大20μmの誤差が生じうるこ
とを示し、この大きさの誤差は無視しえない。
【0019】これに対処するために、従来は予めオフラ
インで各厚み計相互間の測定誤差(以下、測定機差とい
う)を求めておき、オフライン時にプロフィル演算部で
その測定機差を補正していた。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この方式では
各厚み計相互間の測定機差が被測定物の厚さにより異な
るため、オンラインで被測定物の測定範囲が全域に渡る
場合、予めオフライン時でも全域に渡り測定機差を測定
する必要があり、時間がかかるという問題を有してい
た。さらに、各厚み計自体が、機械的な磨耗等により劣
化するため、プロフィル演算部に記憶させる測定機差を
定期的に更新する必要があり、効率的でない。
【0021】そこで本発明の目的は、被測定物のプロフ
ィルデータを正確にかつ効率的に測定しうるプロフィル
測定装置を提供することにある。
【0022】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の
プロフィル測定装置は、被測定物の中央部の厚みを測定
する第1の厚み計と、被測定物のエッジ部の厚みを測定
する第2の厚み計とを有し、この第1及び第2の厚み計
の測定データに基いて前記被測定物のプロフィルを測定
するものであって、第1の厚み計及び第2の厚み計に一
定時間の間被測定物の同一箇所の厚みを測定させ、一定
時間経過後は第1の厚み計に被測定物の中央部の厚みを
測定させ、第2の厚み計に被測定物のエッジ部の厚みを
測定させるように制御する制御手段と、一定時間の間に
第1の厚み計及び第2の厚み計によって測定された測定
データから、第1の厚み計及び第2の厚み計相互間の測
定機差を求める測定機差演算部と、一定時間経過後に第
1の厚み計及び第2の厚み計によって測定された測定デ
ータから測定機差を補正してクラウン量を演算する演算
補正部とを有するプロフィル演算手段とを備えたもので
ある。
【0023】本発明の請求項2記載のプロフィル測定装
置は、被測定物の中央部の厚みを測定する第1の厚み計
と、被測定物の両サイドのエッジ部の厚みをそれぞれ測
定する第2及び第3の厚み計とを有し、この第1ないし
至第3の厚み計の測定データに基いて被測定物のプロフ
ィルを測定するプロフィル測定装置において、第1、第
2、及び第3の厚み計に被測定物の同一箇所の厚みを一
定時間測定させ、一定時間経過後は第1の厚み計に被測
定物の中央部を測定させ、第2及び第3の厚み計に被測
定物の両サイドのエッジ部をそれぞれ測定させるように
制御する制御手段と、第1、第2、及び第3の厚み計に
よって一定時間測定された測定データから、第1の厚み
計及び第2の厚み計相互間の第1の測定機差と第1の厚
み計及び第3の厚み計相互間の第2の測定機差とを求め
る測定機差演算部と、一定時間経過後に第1、第2、及
び第3の厚み計によって測定された測定データから第1
及び第2の測定機差を補正してクラウン量及びウェッジ
量を演算する演算補正部とを有するプロフィル演算手段
とを備えたものである。
【0024】
【作用】本発明の請求項1記載のプロフィル測定装置
は、まず第1の厚み計及び第2の厚み計が一定時間の間
被測定物の同一箇所の厚みを測定し、それぞれの測定デ
ータをプロフィル演算部の測定機差演算部に送る。測定
機差演算部は、この測定データから各厚み計相互間の測
定機差を求める。一定時間が経過すると、クラウン量を
求めるために第1の厚み計は被測定物の中央部に移動
し、第2の厚み計は被測定物のエッジ部に移動し、それ
ぞれ移動場所で被測定物の厚みを測定する。プロフィル
演算部の演算補正部はそれらの測定データを入力し、測
定機差演算部で求めた測定機差を補正してクラウン量を
演算する。
【0025】これによって、クラウン量を正確にかつ効
率的に測定することができる。
【0026】本発明の請求項2記載のプロフィル測定装
置は、まず第1の厚み計、第2の厚み計、及び第3の厚
み計が一定時間の間被測定物の同一箇所の厚みを測定
し、それぞれの測定データをプロフィル演算部の測定機
差演算部に送る。測定機差演算部は、この測定データか
ら第1の厚み計及び第2の厚み計相互間の第1の測定機
差と第1の厚み計及び第3の厚み計相互間の第2の測定
機差を求める。一定時間が経過すると、クラウン量及び
ウェッジ量を求めるために第1の厚み計は被測定物の中
央部に移動し、第2の厚み計及び第3の厚み計は被測定
物の両サイドのエッジ部にそれぞれ移動し、それぞれ移
動場所で被測定物の厚みを測定する。プロフィル演算部
の演算補正部はそれらの測定データを入力し、測定機差
演算部で求めた第1及び第2の測定機差を補正してクラ
ウン量及びウェッジ量を演算する。
【0027】これによって、クラウン量及びウェッジ量
を正確にかつ効率的に測定することができる。
【0028】
【実施例】本発明のプロフィル測定装置による一実施例
を図1及び図2を基に説明する。図1は本実施例を示す
ブロック図であり、図2は被測定物20が矢印方向に運
ばれていく時の本実施例の固定形厚み計1及び走査形厚
み計2の走査位置を説明するためのものである。本実施
例は、クラウン量を求めるためのものであり、その構成
は従来のプロフィル測定装置(図5参照)に比較してプ
ロフィル演算部5の中に、測定機差演算部51と演算補
正部52とが新たに備えられている。
【0029】図2において、固定形厚み計1は被測定物
20の中央部21を測定するため従来通り常時中央部2
1の延長線上にすなわち圧延ラインの中央に位置する。
他方、走査形厚み計2も測定前は固定形厚み計1と同じ
ように圧延ラインの中央に位置する(地点100)。
【0030】この状態で被測定物20が地点101に突
入すると、固定形厚み計1は被測定物20を検出し、こ
のことを固定形厚み計制御部3を介してプロフィル演算
部5に通知する。それと同時に固定形厚み計1は被測定
物20の中央部21の厚みを測定し、その測定データを
固定形厚み計制御部3を介してプロフィル演算部5の測
定機差演算部51に送信する。また走査形厚み計2も固
定形厚み計1と同様に被測定物20の中央部21の厚み
を測定し、その測定データを走査形厚み計制御部4を介
してプロフィル演算部5の測定機差演算部51に送信す
る。測定機差演算部51は、固定形厚み計1から被測定
物20を検出したとの通知を受けてから一定時間経過す
るまで、すなわち被測定物20が図2の区間dにある間
は、固定形厚み計1及び走査形厚み計2から測定データ
を受信し続ける。測定機差演算部51は、それらの測定
データを平均化して以下の式(3)に示すように固定形
厚み計1及び走査形厚み計2の測定機差dXを演算し記
憶しておく。
【0031】 dX = Xs − Xf (3) ここで、Xsは、走査形厚み計2の測定データを平均化
したもので、Xfの固定形厚み計1の測定データを平均
化したものである。
【0032】次にプロフィル演算部5はその一定時間が
経過した時点で(図2の地点103)、走査形厚み計制
御部4を起動し、走査形厚み計2を被測定物20のエッ
ジ部22に移動させる(地点104)。走査形厚み計2
は地点104から被測定物20のエッジ部22の厚みを
測定を開始する。固定形厚み計1は、そのまま被測定物
20の中央部21の厚みを測定し続ける。
【0033】プロフィル演算部5の演算補正部52は、
走査形厚み計2による中央部21の測定データ、固定形
厚み計1によるエッジ部22の測定データ、及び先に求
めておいた測定機差演算部51の測定機差から以下の式
(4)に示すようにしてクラウン量Cを求める。
【0034】 C = Xc − Xe − dX (4) ここで、Xcは走査形厚み計2の中央部21の測定デー
タであり、Xeは固定形厚み計1のエッジ部22の測定
データであり、dXは測定機差演算部51で求めた測定
機差である。
【0035】以上のようにして求めたクラウン量Cは、
固定形厚み計1及び走査形厚み計2相互間の測定機差が
補正されているため、精度の高い値となっている。
【0036】このように、まず移動中の被測定物の同一
箇所の厚みを各厚み計に測定させて各厚み計相互間の測
定機差を求めておき、それから各厚み計に所定の箇所の
厚みを測定させ、その測定データから先に求めておいた
測定機差を補正してクラウン量を演算することによっ
て、定期的にオフライン時に測定機差を測定したりその
機差を登録したりする手間が省けかつ精度の高いクラウ
ン量Cを求めることができる。
【0037】本発明による別の実施例を図3及び図4を
説明する。図3は本実施例を示すブロック図であり、図
4は被測定物20が矢印方向に運ばれていく時の本実施
例の固定形厚み計1と第1及び第2の走査形厚み計2
a,2bとの走査位置を説明するためのものである。
【0038】本実施例は、クラウン量とウェッジ量とを
求めるためのものであり、その構成は従来のプロフィル
測定装置(図7参照)で説明したものに比較して、プロ
フィル演算器5Aの中に新たに測定機差演算部51Aと
演算補正部52Aが備えられている。
【0039】本実施例の固定形厚み計制御部3と第1及
び第2の走査形厚み計2a,2bとは、測定前は被測定
物20の中央部21の延長線上にすなわち圧延ラインの
中央(地点105)に位置している。ここに移動中の被
測定物20が突入すると(地点106)、固定形厚み計
1が被測定物20の存在を検出し、このことを固定形厚
み計制御部3を介してプロフィル演算部5Aに通知す
る。それと同時に固定形厚み計制御部3は被測定物20
の中央部21の厚みを測定し、その測定データを固定形
厚み計制御部3を介してプロフィル演算部5Aの測定機
差演算部51Aに送信する。また第1及び第2の走査形
厚み計2a,2bも、被測定物20の中央部21の厚み
を測定し、その測定データをそれぞれ第1及び第2の走
査形厚み計制御部4a,4bを介してプロフィル演算部
5Aの測定機差演算部51Aに送信する。
【0040】プロフィル演算部5Aの測定機差演算部5
1Aは、固定形厚み計1から被測定物20を検出したと
の通知を受けてから一定時間経過するまで、すなわち被
測定物20が図4の区間dにある間は、固定形厚み計1
と第1及び第2の走査形厚み計2a,2bとから測定デ
ータを受信し続ける。プロフィル演算部5Aの測定機差
演算部51Aはこれらのデータを平均化する処理を行
い、以下の式から固定形厚み計1及び第1の走査形厚み
計2aの測定機差dX1と、固定形厚み計1及び第2の
走査形厚み計2bの測定機差dX2とを求め、記憶して
おく。
【0041】 dX1 = Xs1 − Xf (5) dX2 = Xs2 − Xf (6) ここでXs1は、第1の走査形厚み計2aの測定データ
であり、Xs2は、第2の走査形厚み計2bの測定デー
タであり、Xfは固定形厚み計1の測定データである。
【0042】プロフィル演算部5Aは、その一定時間が
経過した時点で(図4の地点107)、第1の走査形厚
み計制御部4aを起動し、第1の走査形厚み計2aを被
測定物20のドライブサイドのエッジ23aから一定距
離内側の地点108aに移動させ、また第2の走査形厚
み計制御部4bを起動し、第2の走査形厚み計2bを被
測定物20のオペレータサイドのエッジ23bから地点
108bに移動させる。第1及び第2の走査形厚み計2
a,2bはそれぞれ地点108a,108bに移動した
後、被測定物20のエッジ部22a,22bの厚みを測
定し,それぞれの測定データXd,Xoを、第1及び第
2の走査形厚み計制御部4a,4bを介してプロフィル
演算部5Aの演算補正部52Aに送る。固定形厚み計1
は、引き続き被測定物20の中央部21の厚みを測定
し、その測定データXcを固定形厚み計制御部3を介し
てプロフィル演算部5Aの演算補正部52Aに送る。
【0043】プロフィル演算部5Aの演算補正部52A
は、これらの測定データと先に求めた測定機差演算51
Aの各測定機差dX1,dX2を基に以下の式(7),
(8)に示すようにクラウン量C及びウェッジ量Wを求
める。
【0044】 C=Xc−{(Xd−dX1)+(Xo−dX2)}/2 (7) W=(Xo−dX2)−(Xd−dX1) (8) 以上のようにして求めたクラウン量C及びウェッジ量W
は、固定形厚み計1と第1及び第2の走査形厚み計2
a,2bとのそれぞれの測定機差も、第1の走査形厚み
計2aと第2の走査形厚み計2bとの測定機差も補正さ
れているため、それぞれ精度の高い値となっている。
【0045】このように、まず移動中の被測定物の同一
箇所の厚みを各厚み計に測定させて各厚み計の測定機差
を求めておき、それから各厚み計に所定の箇所の厚みを
測定させ、その測定データから先に求めておいた測定機
差を考慮してクラウン量及びウェッジ量を求めることに
よって、定期的にオフライン時に測定機差を測定し、そ
の測定機差を登録しておく手間が省けかつ精度の高いク
ラウン量及びウェッジ量を求めることができる。
【0046】
【発明の効果】本発明により、被測定物のプロフィルデ
ータを正確にかつ効率的に測定しうるプロフィル測定装
置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるプロフィル測定装置による一実施
例を示すブロック図。
【図2】本発明による一実施例の固定形厚み計及び走査
形厚み計の走査位置を説明するための図。
【図3】本発明による別の実施例を示すブロック図。
【図4】本発明による別の実施例の固定形厚み計と第1
及び第2の走査形厚み計との走査位置を説明するための
図。
【図5】従来技術によるプロフィル測定装置を示すブロ
ック図。
【図6】従来技術による固定形厚み計及び走査形厚み計
の走査位置を説明するための図。
【図7】従来技術による別のプロフィル測定装置を示す
ブロック図。
【図8】従来技術による固定形厚み計と第1及び第2の
走査形厚み計との走査位置を説明するための図。
【符号の説明】
1 固定形厚み計 2,2a,2b 走査形厚み計 3 固定形厚み計制御部 4,4a,4b 走査形厚み計制御部 5,5A プロフィル演算部 6 表示部 20 被測定物 21 被測定物の中央部 22,22a,22b 被測定物のエッジ部 23,23a,23b 被測定物のエッジ 51,51A 測定機差演算部 52,52A 演算補正部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被測定物の中央部の厚みを測定する第1の
    厚み計と、前記被測定物のエッジ部の厚みを測定する第
    2の厚み計とを有し、この第1及び第2の厚み計の測定
    データに基いて前記被測定物のプロフィルを測定するプ
    ロフィル測定装置において、 前記第1の厚み計及び前記第2の厚み計に一定時間の間
    前記被測定物の同一箇所の厚みを測定させ、前記一定時
    間経過後は前記第1の厚み計に前記被測定物の中央部の
    厚みを測定させ、前記第2の厚み計に前記被測定物のエ
    ッジ部の厚みを測定させるように制御する制御手段と、 前記一定時間の間に前記第1の厚み計及び第2の厚み計
    によって測定された測定データから、前記第1の厚み計
    及び第2の厚み計相互間の測定機差を求める測定機差演
    算部と、前記一定時間経過後に前記第1の厚み計及び第
    2の厚み計によって測定された測定データから前記測定
    機差を補正してクラウン量を演算する演算補正部とを有
    するプロフィル演算手段とを具備することを特徴とする
    プロフィル測定装置。
  2. 【請求項2】被測定物の中央部の厚みを測定する第1の
    厚み計と、前記被測定物の両サイドのエッジ部の厚みを
    それぞれ測定する第2及び第3の厚み計とを有し、この
    第1ないし至第3の厚み計の測定データに基いて前記被
    測定物のプロフィルを測定するプロフィル測定装置にお
    いて、 前記第1、第2、及び第3の厚み計に前記被測定物の同
    一箇所の厚みを一定時間測定させ、前記一定時間経過後
    は前記第1の厚み計に前記被測定物の中央部を測定さ
    せ、前記第2及び第3の厚み計に前記被測定物の両サイ
    ドのエッジ部をそれぞれ測定させるように制御する制御
    手段と、 前記第1、第2、及び第3の厚み計によって一定時間測
    定された測定データから、前記第1の厚み計及び前記第
    2の厚み計相互間の第1の測定機差と前記第1の厚み計
    及び第3の厚み計相互間の第2の測定機差とを求める測
    定機差演算部と、前記一定時間経過後に前記第1、第
    2、及び第3の厚み計によって測定された測定データか
    ら前記第1及び第2の測定機差を補正してクラウン量及
    びウェッジ量を演算する演算補正部とを有するプロフィ
    ル演算手段とを具備することを特徴とするプロフィル測
    定装置。
JP26415794A 1994-10-27 1994-10-27 プロフィル測定装置 Pending JPH08122052A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006153837A (ja) * 2004-10-29 2006-06-15 Hitachi High-Technologies Corp 走査型電子顕微鏡及びそれを用いたパターン計測方法並びに走査型電子顕微鏡の機差補正装置
CN102589392A (zh) * 2012-02-17 2012-07-18 哈尔滨建成集团有限公司 电动舵机输出轴零位检测装置及检测方法

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