JPH08117544A - 合成ガスの精製分離方法 - Google Patents
合成ガスの精製分離方法Info
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- JPH08117544A JPH08117544A JP27984294A JP27984294A JPH08117544A JP H08117544 A JPH08117544 A JP H08117544A JP 27984294 A JP27984294 A JP 27984294A JP 27984294 A JP27984294 A JP 27984294A JP H08117544 A JPH08117544 A JP H08117544A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 酸性ガス又は水分の除去設備にかかる負荷を
軽減すると共に、低い生産コストで操業することのでき
る合成ガスの精製分離方法を提供する。 【構成】 石炭又は重質油のガス化によって得られる合
成ガスの精製分離方法において、ＣＯ、Ｈ2 等を主成分
として、Ｈ2 Ｓ、ＣＯＳ、ＣＯ2 等の酸性ガス及び水分
を副成分として含む合成ガスを、ガス分離膜に透過させ
てＨ2 を主成分とする透過ガスと、ＣＯ又はＣＯとＨ2
を主成分とする非透過ガスとに分離した後、ＣＯ又はＣ
ＯとＨ2 を主成分とする非透過ガス中に含まれる酸性ガ
ス及び水分を除去する。
軽減すると共に、低い生産コストで操業することのでき
る合成ガスの精製分離方法を提供する。 【構成】 石炭又は重質油のガス化によって得られる合
成ガスの精製分離方法において、ＣＯ、Ｈ2 等を主成分
として、Ｈ2 Ｓ、ＣＯＳ、ＣＯ2 等の酸性ガス及び水分
を副成分として含む合成ガスを、ガス分離膜に透過させ
てＨ2 を主成分とする透過ガスと、ＣＯ又はＣＯとＨ2
を主成分とする非透過ガスとに分離した後、ＣＯ又はＣ
ＯとＨ2 を主成分とする非透過ガス中に含まれる酸性ガ
ス及び水分を除去する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｃ１化学の分野で中心
的な原料ガスである一酸化炭素（ＣＯ）と水素（Ｈ2 ）
とを、石炭又は重質油等のガス化で生成したガスからガ
ス分離膜法により精製する合成ガスの精製分離方法に関
する。
的な原料ガスである一酸化炭素（ＣＯ）と水素（Ｈ2 ）
とを、石炭又は重質油等のガス化で生成したガスからガ
ス分離膜法により精製する合成ガスの精製分離方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】水素（Ｈ2 ）、一酸化炭素（ＣＯ）等の
目的とするガスを混合ガス中から分離回収するためのガ
ス分離技術として吸収法、深冷分離法、ＰＳＡ法及びガ
ス分離膜法が知られている。このうちガス分離膜法は、
高分子樹脂等からなるガス透過膜に加圧した原料ガスを
透過させて、透過膜を通過するガスの透過速度がガス種
によって異なることを利用したガス分離方法である。即
ち、Ｈ2 とＣＯを主成分とした合成ガスの場合には、Ｈ
2 等の小さい分子は透過速度が大きく、極性の大きいＣ
Ｏ等は透過速度が小さいために、Ｈ2 は透過ガスとな
り、ＣＯは非透過ガスとなってガス分離を行うことがで
きる。このガス分離膜法は、その他のガス分離方法が分
離の阻害要因となる酸性ガス及び水分等を処理前に除去
しておかなければならないのに対して、酸性ガス及び水
分等の不純物による影響を受けにくい利点を有してい
る。前記ガス分離膜法による石炭ガス化ガスの分離精製
技術としては、予め原料ガス中の酸性ガス等を除去した
後に、ガス分離膜法を適用する方法が特開昭６１−１３
６４２３号公報に記載されている。
目的とするガスを混合ガス中から分離回収するためのガ
ス分離技術として吸収法、深冷分離法、ＰＳＡ法及びガ
ス分離膜法が知られている。このうちガス分離膜法は、
高分子樹脂等からなるガス透過膜に加圧した原料ガスを
透過させて、透過膜を通過するガスの透過速度がガス種
によって異なることを利用したガス分離方法である。即
ち、Ｈ2 とＣＯを主成分とした合成ガスの場合には、Ｈ
2 等の小さい分子は透過速度が大きく、極性の大きいＣ
Ｏ等は透過速度が小さいために、Ｈ2 は透過ガスとな
り、ＣＯは非透過ガスとなってガス分離を行うことがで
きる。このガス分離膜法は、その他のガス分離方法が分
離の阻害要因となる酸性ガス及び水分等を処理前に除去
しておかなければならないのに対して、酸性ガス及び水
分等の不純物による影響を受けにくい利点を有してい
る。前記ガス分離膜法による石炭ガス化ガスの分離精製
技術としては、予め原料ガス中の酸性ガス等を除去した
後に、ガス分離膜法を適用する方法が特開昭６１−１３
６４２３号公報に記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記特
開昭６１−１３６４２３号公報に記載された石炭ガス化
により生成するガスの分離方法では、予め原料ガス中の
酸性ガスを除去した後にガス分離膜法を適用するため
に、酸性ガス等の除去設備において処理するガス量が多
くなってランニングコストが増大する他に、ＣＯのみを
目的成分として分離する場合には、処理設備が過剰とな
り目的とするＣＯの生産コストが高くなるという欠点が
あった。本発明はこのような事情に鑑みてなされたもの
で、酸性ガス又は水分の除去設備にかかる負荷を軽減す
ると共に、低い生産コストで操業することのできる合成
ガスの精製分離方法を提供することを目的とする。
開昭６１−１３６４２３号公報に記載された石炭ガス化
により生成するガスの分離方法では、予め原料ガス中の
酸性ガスを除去した後にガス分離膜法を適用するため
に、酸性ガス等の除去設備において処理するガス量が多
くなってランニングコストが増大する他に、ＣＯのみを
目的成分として分離する場合には、処理設備が過剰とな
り目的とするＣＯの生産コストが高くなるという欠点が
あった。本発明はこのような事情に鑑みてなされたもの
で、酸性ガス又は水分の除去設備にかかる負荷を軽減す
ると共に、低い生産コストで操業することのできる合成
ガスの精製分離方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記目的に沿う請求項１
記載の合成ガスの精製分離方法は、石炭又は重質油のガ
ス化によって得られる合成ガスの精製分離方法におい
て、ＣＯ、Ｈ2 等を主成分として、Ｈ2 Ｓ、ＣＯＳ、Ｃ
Ｏ2 等の酸性ガス及び水分を副成分として含む合成ガス
を、ガス分離膜に透過させてＨ2 を主成分とする透過ガ
スと、ＣＯ又はＣＯとＨ2 を主成分とする非透過ガスと
に分離した後、ＣＯ又はＣＯとＨ2 を主成分とする前記
非透過ガス中に含まれる酸性ガス及び水分を除去するよ
うに構成されている。
記載の合成ガスの精製分離方法は、石炭又は重質油のガ
ス化によって得られる合成ガスの精製分離方法におい
て、ＣＯ、Ｈ2 等を主成分として、Ｈ2 Ｓ、ＣＯＳ、Ｃ
Ｏ2 等の酸性ガス及び水分を副成分として含む合成ガス
を、ガス分離膜に透過させてＨ2 を主成分とする透過ガ
スと、ＣＯ又はＣＯとＨ2 を主成分とする非透過ガスと
に分離した後、ＣＯ又はＣＯとＨ2 を主成分とする前記
非透過ガス中に含まれる酸性ガス及び水分を除去するよ
うに構成されている。
【０００５】ここで石炭又は重質油のガス化によって得
られる合成ガスとは、石炭又はアスファルト等の重質油
を部分酸化、改質して得られる、ＣＯ、Ｈ2 、メタン等
を主成分として、その他の副成分を含む精製前の原料ガ
スである。酸性ガスにはＨ2 Ｓ、ＣＯＳ、ＣＯ2 の他
に、硫黄化合物等も含む。またガス分離膜とは、高分子
樹脂等を主に中空糸膜状として形成し、これら中空糸膜
の外側に混合ガスを圧入して、該中空糸膜の膜面を分離
膜として、Ｈ2 を選択的に該中空糸膜の内側に透過させ
るように調整したガス分離機能を有するもの等である。
られる合成ガスとは、石炭又はアスファルト等の重質油
を部分酸化、改質して得られる、ＣＯ、Ｈ2 、メタン等
を主成分として、その他の副成分を含む精製前の原料ガ
スである。酸性ガスにはＨ2 Ｓ、ＣＯＳ、ＣＯ2 の他
に、硫黄化合物等も含む。またガス分離膜とは、高分子
樹脂等を主に中空糸膜状として形成し、これら中空糸膜
の外側に混合ガスを圧入して、該中空糸膜の膜面を分離
膜として、Ｈ2 を選択的に該中空糸膜の内側に透過させ
るように調整したガス分離機能を有するもの等である。
【０００６】
【作用】請求項１記載の合成ガスの精製分離方法におい
ては、石炭又は重質油のガス化によって得られる合成ガ
スの精製分離方法において、ＣＯ、Ｈ2 等を主成分とし
て、Ｈ2 Ｓ、ＣＯＳ、ＣＯ2 等の酸性ガス及び水分を副
成分として含む合成ガスを、ガス分離膜に透過させてＨ
2 を主成分とする透過ガスとＣＯ又はＣＯとＨ2を主成
分とする非透過ガスとに分離した後、ＣＯ又はＣＯとＨ
2 を主成分とする前記非透過ガス中に含まれる酸性ガス
及び水分を吸収剤に吸着させる方法等により除去するよ
うに構成されているので、酸性ガス又は水分の除去装置
が処理するガス量及び酸性ガスの濃度を低減することが
できる。
ては、石炭又は重質油のガス化によって得られる合成ガ
スの精製分離方法において、ＣＯ、Ｈ2 等を主成分とし
て、Ｈ2 Ｓ、ＣＯＳ、ＣＯ2 等の酸性ガス及び水分を副
成分として含む合成ガスを、ガス分離膜に透過させてＨ
2 を主成分とする透過ガスとＣＯ又はＣＯとＨ2を主成
分とする非透過ガスとに分離した後、ＣＯ又はＣＯとＨ
2 を主成分とする前記非透過ガス中に含まれる酸性ガス
及び水分を吸収剤に吸着させる方法等により除去するよ
うに構成されているので、酸性ガス又は水分の除去装置
が処理するガス量及び酸性ガスの濃度を低減することが
できる。
【０００７】
【実施例】続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明
を具体化した実施例につき説明し、本発明の理解に供す
る。ここに図１は本発明の一実施例に係る合成ガスの精
製分離方法を適用した設備の構成図、図２は本発明の一
実施例に係る合成ガスの精製分離方法及びその比較例を
説明するフロー図である。
を具体化した実施例につき説明し、本発明の理解に供す
る。ここに図１は本発明の一実施例に係る合成ガスの精
製分離方法を適用した設備の構成図、図２は本発明の一
実施例に係る合成ガスの精製分離方法及びその比較例を
説明するフロー図である。
【０００８】まず、図１に示した本発明の一実施例に係
る合成ガスの精製分離方法を適用した設備について説明
する。前記設備は膜分離設備、酸性ガス除去設備及び脱
湿設備の３つの部分で構成されている。そして前記膜分
離設備はミストエリミネーター１１、プレヒーター１
２、圧縮機１３及び複数基の膜モジュール１０とからな
る。膜モジュール１０内にはプリズムセパレーターと称
されるポリスルホン系の中空糸膜がガス分離膜として機
能するように配置されており、前記中空糸膜の外側に高
圧の合成ガスを流して、前記中空糸膜の内側から中空糸
膜を透過する透過ガスが取り出せるようにしている、一
方、非透過ガスは膜モジュール１０の上部から排出でき
るように全体が構成されている。そして前段の複数基の
膜モジュール１０の下部から取り出される透過ガスは、
オフガスとして排出できるよう配管され、また後段の複
数基の膜モジュール１０の下部から取り出される透過ガ
スは、圧縮機１３を介して前段の膜モジュール１０の原
料ガス入口にリサイクルできるように配管等が配置され
ている。前記酸性ガス除去設備は、ＣＯＳを加水分解し
てＨ2 Ｓに転化するＣｒ系触媒が充填された反応塔１４
と、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）水溶液等の吸収液
によってガスを吸収させる吸収塔１５と、活性炭もしく
は酸化鉄を充填した乾式脱硫塔１６からなる。そして、
前記脱湿設備はガス温度を昇降温させることによりガス
中の湿分を除去する温度スイング吸着（ＴＳＡ）方式の
脱湿塔１７からなる。
る合成ガスの精製分離方法を適用した設備について説明
する。前記設備は膜分離設備、酸性ガス除去設備及び脱
湿設備の３つの部分で構成されている。そして前記膜分
離設備はミストエリミネーター１１、プレヒーター１
２、圧縮機１３及び複数基の膜モジュール１０とからな
る。膜モジュール１０内にはプリズムセパレーターと称
されるポリスルホン系の中空糸膜がガス分離膜として機
能するように配置されており、前記中空糸膜の外側に高
圧の合成ガスを流して、前記中空糸膜の内側から中空糸
膜を透過する透過ガスが取り出せるようにしている、一
方、非透過ガスは膜モジュール１０の上部から排出でき
るように全体が構成されている。そして前段の複数基の
膜モジュール１０の下部から取り出される透過ガスは、
オフガスとして排出できるよう配管され、また後段の複
数基の膜モジュール１０の下部から取り出される透過ガ
スは、圧縮機１３を介して前段の膜モジュール１０の原
料ガス入口にリサイクルできるように配管等が配置され
ている。前記酸性ガス除去設備は、ＣＯＳを加水分解し
てＨ2 Ｓに転化するＣｒ系触媒が充填された反応塔１４
と、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）水溶液等の吸収液
によってガスを吸収させる吸収塔１５と、活性炭もしく
は酸化鉄を充填した乾式脱硫塔１６からなる。そして、
前記脱湿設備はガス温度を昇降温させることによりガス
中の湿分を除去する温度スイング吸着（ＴＳＡ）方式の
脱湿塔１７からなる。
【０００９】実施例として、表１のに示す組成の合成
ガスをミストエリミネーター１１及びプレヒーター１２
に送入して、ガス温度を４０℃、ガス圧力を４２ｋｇ／
ｃｍ2 Ｇに調整することにより、合成ガス中の凝縮成分
を完全に気化した。そして、前段複数基の最上流側の膜
モジュール１０に前記合成ガスを送入して、透過ガスと
非透過ガスとに分離した。ここで合成ガス中の透過速度
の速いＨ2 は容易に前記中空糸膜を透過して透過ガスと
なり、一方、透過速度の遅いＣＯ等は非透過ガスとなっ
て膜モジュール１０の上部より排出される。ここで得ら
れる高Ｈ2 濃度の前記透過ガスはオフガスラインに供給
され、ＣＯ濃度が９０ｖｏｌ％以上である前記非透過ガ
スは更にＣＯ濃度を上げるために、続く前段複数基の膜
モジュール１０に送入される。
ガスをミストエリミネーター１１及びプレヒーター１２
に送入して、ガス温度を４０℃、ガス圧力を４２ｋｇ／
ｃｍ2 Ｇに調整することにより、合成ガス中の凝縮成分
を完全に気化した。そして、前段複数基の最上流側の膜
モジュール１０に前記合成ガスを送入して、透過ガスと
非透過ガスとに分離した。ここで合成ガス中の透過速度
の速いＨ2 は容易に前記中空糸膜を透過して透過ガスと
なり、一方、透過速度の遅いＣＯ等は非透過ガスとなっ
て膜モジュール１０の上部より排出される。ここで得ら
れる高Ｈ2 濃度の前記透過ガスはオフガスラインに供給
され、ＣＯ濃度が９０ｖｏｌ％以上である前記非透過ガ
スは更にＣＯ濃度を上げるために、続く前段複数基の膜
モジュール１０に送入される。
【００１０】
【表１】
【００１１】上記のようにして、後段の膜モジュール１
０により分離された非透過ガスの組成を表１のに示
す。ここで非透過ガス中のＣＯ濃度は９７．０３ｖｏｌ
％であるが、酸性ガス（ＣＯＳ、ＣＯ2 、Ｈ2 Ｓ等）の
濃度は、原料ガス中の濃度（表１の）に較べて約１／
３から１／５の割合で減少しているものの無視できない
量である。一方、後段の膜モジュール１０により分離さ
れた透過ガスはＣＯを７０ｖｏｌ％近く含有しており、
ＣＯ回収率を向上させるために、圧縮機１３を介して、
前記透過ガスを前段の膜モジュール１０の原料ガス送入
側に戻すことにより膜分離設備内を循環させた。このよ
うに透過ガスをリサイクルさせることにより、ＣＯ回収
率は約７０％から８５％まで上昇し、ＣＯガスの濃度は
約９５ｖｏｌ％から９７．０３ｖｏｌ％に改善すること
ができた。
０により分離された非透過ガスの組成を表１のに示
す。ここで非透過ガス中のＣＯ濃度は９７．０３ｖｏｌ
％であるが、酸性ガス（ＣＯＳ、ＣＯ2 、Ｈ2 Ｓ等）の
濃度は、原料ガス中の濃度（表１の）に較べて約１／
３から１／５の割合で減少しているものの無視できない
量である。一方、後段の膜モジュール１０により分離さ
れた透過ガスはＣＯを７０ｖｏｌ％近く含有しており、
ＣＯ回収率を向上させるために、圧縮機１３を介して、
前記透過ガスを前段の膜モジュール１０の原料ガス送入
側に戻すことにより膜分離設備内を循環させた。このよ
うに透過ガスをリサイクルさせることにより、ＣＯ回収
率は約７０％から８５％まで上昇し、ＣＯガスの濃度は
約９５ｖｏｌ％から９７．０３ｖｏｌ％に改善すること
ができた。
【００１２】続いて前記酸性ガスを含有する表１の組
成の非透過ガスを酸性ガス除去設備に送入して、酸性ガ
スの除去処理を行った。該酸性ガス除去設備において
は、ＣＯＳをＣｒ系触媒が充填された反応塔１４中で加
水分解し（ ＣＯＳ ＋ Ｈ2Ｏ → ＣＯ2 ＋ Ｈ
2 Ｓ ）、ＣＯ2 、Ｈ2 Ｓをモノエタノールアミン（Ｍ
ＥＡ）水溶液等を吸収剤として気液接触させることによ
り、吸収塔１５出側で各濃度をＣＯ2 ＜１００ｐｐｍ、
Ｈ2 Ｓ＜１ｐｐｍ、ＣＯＳ＜５ｐｐｍのレベルまで湿式
除去を行った。ここで合成ガス中の硫黄（Ｓ）分の規制
がより厳しい場合には、続く乾式脱硫塔１６において、
硫黄（Ｓ）分を活性炭もしくは酸化鉄に吸着させて更に
高純度化を図ることもできる。続く脱湿設備において
は、脱湿塔１７内の温度を昇降温させる温度スイング吸
着法（ＴＳＡ）によりガス中の水分を除いて最終的な合
成ガスの精製分離工程を終了した。上述のようにして処
理された非透過ガス中の最終のＣＯ濃度は９８〜９９ｖ
ｏｌ％となって、酢酸製造等の化学原料として充分使用
可能なレベルであった。
成の非透過ガスを酸性ガス除去設備に送入して、酸性ガ
スの除去処理を行った。該酸性ガス除去設備において
は、ＣＯＳをＣｒ系触媒が充填された反応塔１４中で加
水分解し（ ＣＯＳ ＋ Ｈ2Ｏ → ＣＯ2 ＋ Ｈ
2 Ｓ ）、ＣＯ2 、Ｈ2 Ｓをモノエタノールアミン（Ｍ
ＥＡ）水溶液等を吸収剤として気液接触させることによ
り、吸収塔１５出側で各濃度をＣＯ2 ＜１００ｐｐｍ、
Ｈ2 Ｓ＜１ｐｐｍ、ＣＯＳ＜５ｐｐｍのレベルまで湿式
除去を行った。ここで合成ガス中の硫黄（Ｓ）分の規制
がより厳しい場合には、続く乾式脱硫塔１６において、
硫黄（Ｓ）分を活性炭もしくは酸化鉄に吸着させて更に
高純度化を図ることもできる。続く脱湿設備において
は、脱湿塔１７内の温度を昇降温させる温度スイング吸
着法（ＴＳＡ）によりガス中の水分を除いて最終的な合
成ガスの精製分離工程を終了した。上述のようにして処
理された非透過ガス中の最終のＣＯ濃度は９８〜９９ｖ
ｏｌ％となって、酢酸製造等の化学原料として充分使用
可能なレベルであった。
【００１３】ここで、酸性ガス除去工程を膜分離工程の
前に行う従来例（図２（ｂ））と、酸性ガス除去工程を
膜分離工程の後に行う前記実施例（図２（ａ））とを比
較することにより本実施例について得られる効果を説明
する。表２は、図２（ａ）に示される実施例の各工程間
で処理されるガスの流量を、原料として送入される合成
ガス量を１００とする流量比率で表示したものである。
表１、表２は図２（ａ）に示されるフロー図の各工程で
送入または排出されるガス〜に対応する各ガス中の
成分及び流量比率をそれぞれ示したものである。は膜
分離、酸性ガス除去及び脱湿がなされた製品ガスであ
り、その組成及び流量比率が表１と表２とに示して
ある。または膜分離工程のみがなされた後のオフガス
に対応している。
前に行う従来例（図２（ｂ））と、酸性ガス除去工程を
膜分離工程の後に行う前記実施例（図２（ａ））とを比
較することにより本実施例について得られる効果を説明
する。表２は、図２（ａ）に示される実施例の各工程間
で処理されるガスの流量を、原料として送入される合成
ガス量を１００とする流量比率で表示したものである。
表１、表２は図２（ａ）に示されるフロー図の各工程で
送入または排出されるガス〜に対応する各ガス中の
成分及び流量比率をそれぞれ示したものである。は膜
分離、酸性ガス除去及び脱湿がなされた製品ガスであ
り、その組成及び流量比率が表１と表２とに示して
ある。または膜分離工程のみがなされた後のオフガス
に対応している。
【００１４】
【表２】
【００１５】これにより従来例においては、原料として
送入される石炭ガス化ガスまたは重質油ガス化ガスの全
量について酸性ガスの除去を行わなければならなかった
が、一方、実施例においては、酸性ガス除去が必要なガ
ス量（表２）が原料として送入されるガス量の半分以
下の４３．３ｖｏｌ％となることが分かる。しかも、実
施例において、膜分離により酸性ガスの一部が除かれて
いるので、表１（と）に示されるように送入処理す
べきガス中の酸性ガス濃度は送入する原料ガス中の濃度
の１／３から１／５に低減していることが分かる。従っ
て、本実施例により酸性ガス除去設備及び脱湿設備での
負荷を大幅に軽減すると共に、ＣＯガスの生産性が向上
して、低い生産コストでの操業を可能とすることができ
る。
送入される石炭ガス化ガスまたは重質油ガス化ガスの全
量について酸性ガスの除去を行わなければならなかった
が、一方、実施例においては、酸性ガス除去が必要なガ
ス量（表２）が原料として送入されるガス量の半分以
下の４３．３ｖｏｌ％となることが分かる。しかも、実
施例において、膜分離により酸性ガスの一部が除かれて
いるので、表１（と）に示されるように送入処理す
べきガス中の酸性ガス濃度は送入する原料ガス中の濃度
の１／３から１／５に低減していることが分かる。従っ
て、本実施例により酸性ガス除去設備及び脱湿設備での
負荷を大幅に軽減すると共に、ＣＯガスの生産性が向上
して、低い生産コストでの操業を可能とすることができ
る。
【００１６】以上、本発明の実施例を説明したが、本発
明はこれらの実施例に限定されるものではなく、要旨を
逸脱しない条件の変更等は全て本発明の適用範囲であ
る。例えば上記実施例においては、膜モジュール１０の
段数が２段の場合について述べたが、段数に限定される
ことなく本発明への適用が可能である。また、上記実施
例においては、ＣＯを製品とする場合について述べた
が、ＣＯとＨ2 との比を後で使用する化学反応に必要な
値に調節された混合ガスを製品とする場合にも、本発明
への適用が可能である。
明はこれらの実施例に限定されるものではなく、要旨を
逸脱しない条件の変更等は全て本発明の適用範囲であ
る。例えば上記実施例においては、膜モジュール１０の
段数が２段の場合について述べたが、段数に限定される
ことなく本発明への適用が可能である。また、上記実施
例においては、ＣＯを製品とする場合について述べた
が、ＣＯとＨ2 との比を後で使用する化学反応に必要な
値に調節された混合ガスを製品とする場合にも、本発明
への適用が可能である。
【００１７】
【発明の効果】請求項１記載の合成ガスの精製分離方法
においては、石炭又は重質油のガス化によって得られる
合成ガスの精製分離方法において、ＣＯ、Ｈ2 等を主成
分として、Ｈ2 Ｓ、ＣＯＳ、ＣＯ2 等の酸性ガス及び水
分を副成分として含む合成ガスを、ガス分離膜に透過さ
せてＨ2 を主成分とする透過ガスと、ＣＯ又はＣＯとＨ
2 を主成分とする非透過ガスとに分離した後、ＣＯ又は
ＣＯとＨ2 を主成分とする前記非透過ガス中に含まれる
酸性ガス及び水分を除去するように構成されているの
で、酸性ガス又は水分の除去設備で処理するガス量、及
び処理すべき酸性ガスの濃度を低減して、前記設備にか
かる負荷を軽減することにより、生産性の向上を図るこ
とができる。
においては、石炭又は重質油のガス化によって得られる
合成ガスの精製分離方法において、ＣＯ、Ｈ2 等を主成
分として、Ｈ2 Ｓ、ＣＯＳ、ＣＯ2 等の酸性ガス及び水
分を副成分として含む合成ガスを、ガス分離膜に透過さ
せてＨ2 を主成分とする透過ガスと、ＣＯ又はＣＯとＨ
2 を主成分とする非透過ガスとに分離した後、ＣＯ又は
ＣＯとＨ2 を主成分とする前記非透過ガス中に含まれる
酸性ガス及び水分を除去するように構成されているの
で、酸性ガス又は水分の除去設備で処理するガス量、及
び処理すべき酸性ガスの濃度を低減して、前記設備にか
かる負荷を軽減することにより、生産性の向上を図るこ
とができる。
【図１】本発明の一実施例に係る合成ガスの精製分離方
法を適用した設備の構成図である。
法を適用した設備の構成図である。
【図２】本発明の一実施例に係る合成ガスの精製分離方
法及びその比較例を説明するフロー図である。
法及びその比較例を説明するフロー図である。
１０ 膜モジュール １１ ミストエリミネーター １２ プレヒーター １３ 圧縮機 １４ 反応塔 １５ 吸収塔 １６ 乾式脱硫塔 １７ 脱湿塔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 加藤 讓 福岡県北九州市戸畑区大字中原46−59 新 日本製鐵株式会社機械・プラント事業部内
Claims (1)
- 【請求項１】 石炭又は重質油のガス化によって得られ
る合成ガスの精製分離方法において、 ＣＯ、Ｈ2 等を主成分として、Ｈ2 Ｓ、ＣＯＳ、ＣＯ2
等の酸性ガス及び水分を副成分として含む合成ガスを、
ガス分離膜に透過させてＨ2 を主成分とする透過ガス
と、ＣＯ又はＣＯとＨ2 を主成分とする非透過ガスとに
分離した後、 ＣＯ又はＣＯとＨ2 を主成分とする前記非透過ガス中に
含まれる酸性ガス及び水分を除去することを特徴とする
合成ガスの精製分離方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27984294A JPH08117544A (ja) | 1994-10-18 | 1994-10-18 | 合成ガスの精製分離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27984294A JPH08117544A (ja) | 1994-10-18 | 1994-10-18 | 合成ガスの精製分離方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08117544A true JPH08117544A (ja) | 1996-05-14 |
Family
ID=17616697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27984294A Withdrawn JPH08117544A (ja) | 1994-10-18 | 1994-10-18 | 合成ガスの精製分離方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08117544A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007009068A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Hitachi Ltd | 改質ガスを利用するシステム及び方法 |
| JP2008132482A (ja) * | 2006-11-01 | 2008-06-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | ガスの分離方法 |
-
1994
- 1994-10-18 JP JP27984294A patent/JPH08117544A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007009068A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Hitachi Ltd | 改質ガスを利用するシステム及び方法 |
| JP4515975B2 (ja) * | 2005-06-30 | 2010-08-04 | 株式会社日立製作所 | 改質ガスを利用するシステム及び方法 |
| JP2008132482A (ja) * | 2006-11-01 | 2008-06-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | ガスの分離方法 |
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