JPH08115047A - イメージビームを生成する装置およびその方法 - Google Patents

イメージビームを生成する装置およびその方法

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JPH08115047A
JPH08115047A JP27210095A JP27210095A JPH08115047A JP H08115047 A JPH08115047 A JP H08115047A JP 27210095 A JP27210095 A JP 27210095A JP 27210095 A JP27210095 A JP 27210095A JP H08115047 A JPH08115047 A JP H08115047A
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phase grating
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image
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JP27210095A
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Fred A Beisser
エー．ベイッサー フレッド
Harvey Knox Wayne
ハーヴェイ ノックス ワイン
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AT&T Corp
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    • G02B27/20—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical projection, e.g. combination of mirror and condenser and objective for imaging minute objects, e.g. light-pointer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/22—Processes or apparatus for obtaining an optical image from holograms

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Overhead Projectors And Projection Screens (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ハンドヘルドレーザポインタの使用に適した
ホログラフィイメージの生成および表示のための方法お
よび装置を提供する。 【解決手段】 選択イメージを表示するためにイメージ
ビームを生成する装置は、コヒーレント放射ビームを発
生するハンドヘルド装置および位相マスクを含む。第１
の面および第２の面を有する位相マスクは、位相格子を
含み、生成されたコヒーレント放射ビームが位相マスク
の第１の面と交差し、イメージビームを生成するために
位相格子を照射するように位置される。選択イメージを
表示するためのイメージビームを生成する方法は、第１
の場所に第１の位相格子を含む基板を位置させるステッ
プと、ハンドヘルド装置によりコヒーレント放射ビーム
を生成するステップと、イメージビームを生成するため
に第１の位相格子を生成されたコヒーレント放射ビーム
により照射するステップとからなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ技術および
ホログラフィに係り、特に、レーザポインタを使用して
ホログラフィイメージを生成し表示するための方法およ
び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の商業的レーザポインタは、典型的
には目標物、展示物またはスクリーン上に投影されたイ
メージの上に単一の単純なドットを投影する。一般に
は、極めて小さいドットが、例えば目標物の上の特定の
領域を正確にねらうため、スクリーン上に投影された文
章中の特定の単語を際立たせるため、または展示された
図表中の特定の構成部分に注意を引くために使用され
る。
【０００３】このドットは、光の短時間のパルスを発す
ることまたは連続的なビームを形成することのいずれか
によって、非常に明るい光の幅の狭いビームを生成して
つくられる。ビームは、ドット、すなわちビームが通る
断面が目に見えるように目標物と交差する。ドットは、
商業的には赤または緑のもののみが入手可能である。レ
ーザ光はコヒーレント光である。コヒーレントとは、全
ての光線が同じ波長を有し、同位相であり、一緒に振動
することを意味し、単一の高い強度の光ビームをつく
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし従来のレーザポ
インタは、典型的には、生成されたドットのサイズを小
さくすることも大きくすることもできず、焦点合わせを
することもできないので、視覚的な調節はできない。ビ
ームで作られるドットは、機能的にも、関係のある領域
を指し示すか、際立たせるかのいずれかに限定される。
このドットは、関係する特定の領域に観客の注意を引く
こと以外には、いかなる情報も格納できず、移送できな
い。そのサイズが典型的には１０セント硬貨よりも小さ
いので、ドットを見ることおよび知覚することに困難が
ある。さらに、ドットは長い時間の間観客の注意を捕ま
えておくことおよび保つことはできない。さらに、ある
時間注意をドットの上に集中させることは、非常な不快
感、苦痛、目の緊張を引き起こす。この困難さは、レー
ザポインタがハンドヘルドである場合に複合される。こ
れは、ユーザがレーザポインタをある固定された位置に
持ち、維持することは一般に不可能であり、小さいドッ
トを不規則にバウンドさせることになるからである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】特別に設計された位相格
子をレーザポインタ技術と組み合わせる本発明の原理に
よれば、従来のレーザポインタにおけるように単一のド
ットを単に投影するのではなく、ハンドヘルドレーザポ
インタから選択イメージを投影することが容易となる。
ホログラムとしても知られている位相格子、すなわち表
面レリーフ格子は、好適なコンピュータ最適化プロセス
を利用することにより生成される。例えば、選択イメー
ジは、矢印または指し示す手のように単純であってもよ
いし、スローガン、フレーズ、コーポレートロゴ、また
は顔あるいは肖像のような絵のようにより複雑であって
もよい。
【０００６】選択イメージを表示するためにイメージビ
ームを生成するための本発明の原理による装置は、コヒ
ーレント放射ビームを発生するハンドヘルド装置および
位相マスクを含む。第１の面および第２の面を有する位
相マスクは、位相格子を含み、生成されたコヒーレント
放射ビームが位相マスクの第１の面と交差し、イメージ
ビームを生成するために位相格子を照射するように位置
される。
【０００７】選択イメージを表示するためにイメージビ
ームを生成するための本発明の原理による他の装置は、
ハンドヘルドレーザポインタ、基板およびハウジングを
含む。ハンドヘルドレーザポインタは、レーザビームを
生成し、送信する。基板は、少なくとも１つの位相格子
を含み、その基板が送信されたレーザビームにより交差
されるようにハウジング内に位置される。この送信され
たレーザビームは、イメージビームを生成するために、
位相格子と交差しこれを照射する。
【０００８】本発明の原理による選択イメージを表示す
るためのイメージビームを生成するための方法は、第１
の場所に第１の位相格子を含む第１の基板を位置させる
ステップと、ハンドヘルド装置によりコヒーレント放射
ビームを生成するステップと、イメージビームを生成す
るために、第１の位相格子を生成されたコヒーレント放
射ビームにより照射するステップとからなる。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施形態によ
るホログラフィイメージを表示するためのハンドヘルド
レーザポインタ１００を示す。ハンドヘルドレーザポイ
ンタ１００は、図３に示すように中空の孔を有する細長
いハウジング１０１、キャップ１０２、基板ハウジング
１０３およびボタンスイッチ１０７をからなる。キャッ
プ１０２および基板ハウジング１０３は細長いハウジン
グ１０１の反対側の端部に結合されている。キャップ１
０２は、細長いハウジング１０１の中空の孔の中に納め
られる取り出し可能な電源を収容するための手段を提供
する。好適な電源については、図３を参照して、より詳
細に説明する。
【００１０】好適なハンドヘルドレーザポインタ１００
は、パワーテクノロジーズ社の「OEM Diode Laser Syst
em PM package」である。基板ハウジング１０３は、ホ
ログラフィイメージ１０６を表示するためにイメージビ
ーム１０５が通過する細長い孔１０４を有する。イメー
ジビーム１０５は、位相マスクまたは少なくとも１つの
位相格子を有する他の基板を照射することにより生成さ
れる。位相格子は、好ましくは、レーザビームのような
コヒーレント放射ビームを使用して照射される。これに
ついては、図２および図３を参照して詳しく説明する。
【００１１】レーザビームは、より詳細に定義すると、
コヒーレントかつほとんど単色の幅の狭い電磁放射ビー
ムである。ボタンスイッチ１０７は、細長いハウジング
１０１の孔を通って垂直に延びており、ハンドヘルドレ
ーザポインタ１００にレーザビームを生成させる時間の
間、選択的に押し下げられる。他の一実施形態におい
て、ボタンスイッチ１０７はラッチとして機能し、これ
が押し下げられる毎にその状態を反転させ維持する。図
示した実施形態においてはボタンスイッチ１０７が使用
されているが、ボタンスイッチ１０７に追加してまたは
これに変えて、選択的にエネルギーを与える構成または
スイッチングするいかなる適切な構成も容易に使用する
ことができる。
【００１２】図２は、基板ハウジング１０３および単一
の基板２００を示す。図示された基板２００は、ビーム
スプリッタとも呼ばれる４個の位相格子２０１ａないし
２０１ｄを含む。位相格子２０１ａないし２０１ｄのそ
れぞれは、例えば上述したような矢印、手、スローガン
などのような選択物に関連づけられた独特の波妨害物を
表す。基板２００は、好ましくは基板ハウジング１０３
の中に垂直に配置され、レーザビームの前の位相格子２
０１ａないし２０１ｄを交換するために上向きおよび下
向きにスライドして動くことができるようになってい
る。
【００１３】他の一実施形態において、基板２００は水
平に配置され、両側にスライドして動かされる。基板２
００は、選択物を表現する独特の波妨害物の振幅および
位相の分布を記録し、再生するために使用される。波妨
害物の振幅および位相の分布は、選択イメージの光学的
形成に使用される。ここでは単一の基板２００が使用さ
れているが、それぞれが１つまたは２つ以上の独特の位
相格子２０１を含む複数の基板を使用できることが理解
できるであろう。さらに、２つまたはそれ以上の基板２
００を重ね合わせて、レーザビームが少なくとも２つの
基板２００上の少なくとも２つの位相格子２０１の部分
と交差し、イメージビーム１０５を生成させるようにす
ることができる。図示された実施形態において、少なく
とも１つの位相格子２０１ａないし２０１ｄがレーザビ
ームと交差すると、その位相格子は照射され、表すイメ
ージ１０６が作り出される。選択物１０６のイメージを
得るためおよび位相マスク２００を作るための好適な技
術については、図６を参照して詳細に説明する。
【００１４】図３は、図１に示されたハンドヘルドレー
ザポインタ１００の線１０８に沿った断面図である。細
長いハウジング１０１は、キャップ１０２、基板ハウジ
ング１０３およびボタンスイッチ１０７を含む。さら
に、細長いハウジング１０１の中空の孔の中に、電源３
０１、スイッチング回路３０２およびレーザダイオード
システム３０３が設けられている。この図示された実施
形態において、電源３０１は、直列に配置された２個の
ＡＡＡバッテリ（３Ｖ）を含むが、このＡＡＡバッテリ
に追加してまたはこれに代えて、いかなる適切に構成さ
れた電源も使用することができる。ボタンスイッチ１０
７の押し下げに応答するスイッチング回路３０２は、レ
ーザダイオードシステム３０３への電力の供給を制御す
る。
【００１５】レーザダイオードシステム３０３は、好ま
しくはパワーテクノロジー社の「model PM 10 (635-1
5)」である。「ＰＭ１０」レーザダイオードは、６３５
ｎｍにおいて、１５ｍＷのパワーを供給する。図示され
た実施形態において、電源３０１は、正極および負極を
有し、正極は接点３０４によりスイッチング回路３０２
に結合されており、キャップ１０２および配線３０５に
付随する図示されていない導電手段によりレーザダイオ
ードシステム３０３に結合されている。
【００１６】図４は、図１に示されたハンドヘルドレー
ザポインタ１００の他の一実施形態を示す。この実施形
態において、基板ハウジング１０３は単一の基板２００
を含むフェルールであり、基板２００は、これに固定さ
れた少なくとも１つの位相格子２０１を有する。ペン形
のレーザポインタ１００は、フェルール１０３の中に挿
入されており、エネルギーが与えられ、選択物１０６の
イメージを表示するためにイメージビーム１０５を生成
する。フェルールの実施形態を使用することは、他の適
切に構成された基板ハウジング１０３の中に位置された
いかなる数の利用可能な基板２００および位相格子２０
１を迅速かつ好都合に切り換え、または交替させること
をユーザに可能にする。
【００１７】他の一実施形態において、フェルール１０
３は、単一の基板２００上の複数の位相格子２０１を含
み、２つの位相格子２０１がレーザビームに対して交換
できるようにこのフェルールはハンドヘルドレーザポイ
ンタ１００に対して回転可能である。このような実施形
態において、１つまたは２つ以上の所望の位相格子２０
１を照射するための中心からそれたレーザビームを使用
することができる。この中心からそれたレーザビームを
生成するための他の好適な実施形態を、図５ｂおよび図
５ｃを参照して説明する。
【００１８】図５ａは、図１に示したハンドヘルドレー
ザポインタ１００のさらに他の実施形態を示す。この実
施形態において、ペン形として図示したハンドヘルドレ
ーザポインタ１００は回転可能なリング５０１を有する
円筒状基板ハウジング１０３と結合される。１つまたは
２つ以上の位相格子２０１を有する円形の基板２００
は、リング５０１の回転により中心からそれたイメージ
ビーム１０５を生成するためのレーザビームが位相格子
２０１を通り越すように、円筒上のハウジング１０３の
中に配置される。リング５０１がこの実施形態において
使用されているが、複数の基板２００および／または複
数の位相格子２０１を交換し交替させ、重ね合わせるた
めのいかなる適切に構成された機械的、電気的または電
子機械的構成も、リング５０１および／または基板ハウ
ジング１０３に追加してまたはこれに代えて使用するこ
とができる。
【００１９】図５ｂは、図５ａに示されたハンドヘルド
レーザポインタにより中心をはずれたイメージビーム１
０５を生成するための一実施形態を示す。中心を外れた
レーザビーム５００は、生成されたレーザビーム５００
がプリズム５０２および５０３と交差しこれにより反射
され、レーザビーム５００がステップ状に中心から外れ
るように１対のプリズム５０２および５０３を位置させ
ることにより生成される。中心から外れたレーザビーム
５００は、図５ａ中の１つまたは２つ以上の円形の基板
２００上の１つまたは２つ以上の選択された位相格子２
０１と交差しこれを照射し、中心から外れたイメージビ
ーム１０５を生成する。
【００２０】図５ｃは、図５ａに示されたハンドヘルド
レーザポインタにより中心から外れたイメージビーム１
０５を生成するための他の一実施形態を示す。中心から
外れたレーザビーム５００は、生成されたレーザビーム
５００が鏡５０４および５０５により反射され、レーザ
ビーム５００がステップ状に中心から外れるように１対
の鏡５０４および５０５を位置させることにより生成さ
れる。中心から外れたレーザビーム５００は、図５ａ中
の１つまたは２つ以上の円形の基板２００上の１つまた
は２つ以上の選択された位相格子２０１と交差し、これ
を照射し、中心から外れたイメージビーム１０５を生成
する。
【００２１】図５ｄは、図５ａに示したハンドヘルドレ
ーザポインタによる回転リング５０１の一実施形態を示
す。中心を外れたレーザビーム５００は、図５ａ中で円
筒上の基板ハウジング１０３内に配置された円形の基板
２００に固定された位相格子２０１ａとステップ状に中
心を外れるように交差する。他の一実施形態において、
複数の回転リング５０１は、１つまたは２つ以上の特定
の位相格子２０１が他の１つと入れ換えられ、交換され
または重ね合わせられるように、レーザポインタ１００
と結合可能である。
【００２２】図６は、本発明の一実施形態によるハンド
ヘルドレーザポインタ１００および基板２００を組立
て、使用するためのフローチャートである。ステップ６
０１において、位相格子２０１は、好ましくはコンピュ
ータ最適化プロセスによりスカラ回折理論を使用して設
計される。コンピュータ最適化プロセスは、基板２００
に固定されるべき所望の位相格子２０１、すなわちビー
ムアレイジェネレータを表現するデータセットを生成す
る。ここで、「固定される」という用語は、取り付けら
れる、焼き付けられる、接着される、エッチングされ
る、マウントされる、挿入される、スクラッチされる、
またはその他描かれるまたは位置させられることの１つ
または２つ以上を意味するが、これに限定されるもので
はない。位相格子は、その高い回折効率のために光学シ
ステムにおいて必要とされる。
【００２３】回折位相格子は、J.Jahns, M.M. Downs,
M.E. Prise, N. Streibl および S.J.Walker による「"
Dammann Gratings for Laser Beam Shaping," Optical
Engineering, vol. 28, no. 12, pp. 1267-1275, Dec.
1989」に詳しく説明されている。好適な最適化プロセス
は、本出願人による日本への特許出願（整理番号９５０
２１８）および R.L. Morrison および M.J. Wojcik に
よる論文「"A Selective Cell-based Algorithm for De
signing High Efficiency Beam Array Generators," Di
ffractive Optics, vol. 1, pp. 76-79, OSA Technical
Digest Series, 1994」に詳しく説明されている。デー
タセットは、好ましくは振幅マスクを生成し、この振幅
マスクに存在するパターンを感光性レジストに転写し、
位相マスク、位相格子２０１および基板２００の組み合
わせを生成するために反応イオンエッチングを行うため
に従来のプロセスにより使用される。
【００２４】ステップ６０２において、位相マスクは、
好ましくはレーザポインタ１００とレーザビーム発生端
において結合される基板ハウジング１０３の中に位置さ
れる。考慮中の実施形態が２つ以上の位相格子２０１を
有する基板２００を含み、第２の位相格子２０１が第１
の位相格子２０１と交換されるべきであるか交代される
べきである場合、すなわち決定ステップ６０３の「イエ
ス」ブランチである場合、ステップ６０４において、第
２の位相格子２０１がレーザポインタ１００により照射
されるように基板２００または基板ハウジング１０３の
いずれかが再配置される。他の一実施形態において、第
２の位相格子２０１が第２の基板２００に存在すること
ができ、この第２の位相格子２０１が第１の基板２００
の第１の位相格子２０１と交換、交代、重ね合わせられ
るように、第１および第２の基板２００を操作すること
が望ましい。このような実施形態において、第１および
／または第２の基板２００および／または基板ハウジン
グ１０３は、所望のイメージが生成されるように再配置
される。基板ハウジング１０３は図１および図３中のボ
タンスイッチ１０７を押し下げることにより選択的にエ
ネルギーを与えられ、ステップ６０５において、所望の
イメージ１０６を生成する。
【００２５】図７は、図１および図３ないし図５中のハ
ンドヘルドレーザポインタとともに使用するための好適
なコンピュータ最適化プロセスにしたがって設計された
位相格子２０１を示す。この位相格子２０１は、下にあ
る基板２００の上の表面の高さを表す明るい領域および
暗い領域の両方を含む。例えば、位相格子が基板中にエ
ッチングされたと仮定すると、明るい領域はエッチング
されていない部分を表し、暗い領域はエッチングされた
部分を表す。基板がガラスである場合、好ましいエッチ
ングは約０．６ミクロンのレーザ波長で行われ、位相格
子は約１ｍ2 またはそれ以下であり、基板２００上に何
度も複製される。この図には、２レベルのホログラムが
示されているが、これは単に説明のためである。多レベ
ル設計は上述の２レベル位相格子よりも高い回折効率を
有する。しかし、厳密なサブミクロンのアライメント許
容差が、ビームアレイ強度中の可能性のある大きな変動
を除去するために、多レベル設計の多段階製造プロセス
の間中維持されなければならない。したがって、２レベ
ル設計が非常に好ましいが、多レベル設計もまた適して
いる。図８において、図７中の位相格子を照射するため
に図１および図３ないし図５中のハンドヘルドレーザポ
インタ１００を使用して生成されるホログラフィイメー
ジが示されている。
【００２６】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、ハ
ンドヘルドレーザポインタの使用に適したホログラフィ
イメージの生成および表示のための方法および装置を提
供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態によるホログラフィイメー
ジを表示するためのハンドヘルドレーザポインタを示す
図である。
【図２】図１中に示された基板ハウジングおよび基板ハ
ウジング中に配置されるべき単一の基板を示す図であ
る。
【図３】図１中のハンドヘルドレーザポインタの断面図
である。
【図４】図１に示されたハンドヘルドレーザポインタお
よび基板ハウジングの他の一実施形態を示す図である。
【図５】ａは、図１に示されたハンドヘルドレーザポイ
ンタおよび基板ハウジングのさらに他の１実施形態を示
す図、ｂは、ａに示したハンドヘルドレーザポインタに
よる中心から外れたイメージビームを生成するための一
実施形態を示す図、ｃは、ａに示したハンドヘルドレー
ザポインタにより中心から外れたイメージビームを生成
するための他の一実施形態を示す図、ｄは、ａに示した
ハンドヘルドレーザポインタによる回転リングの一実施
形態を示す図である。
【図６】図１に示されたホログラフィイメージを表示す
るためのハンドヘルドレーザポインタを製造し使用する
ためのフローチャートである。
【図７】図１および図３〜図５中のハンドヘルドレーザ
ポインタとともに使用される本発明の一実施形態により
設計された位相格子を示す図である。
【図８】図７の位相格子を照射するために図１および図
３〜図５中のハンドヘルドレーザポインタを使用して生
成されたホログラフィイメージを示す図である。
【符号の説明】
１００ ハンドヘルドレーザポインタ １０１ 細長いハウジング １０２ キャップ １０３ 基板ハウジング １０４ 細長い孔 １０５ イメージビーム １０６ ホログラフィイメージ １０７ ボタンスイッチ ２００ 基板 ２０１ 位相格子 ３０１ 電源 ３０２ スイッチング回路 ３０３ レーザダイオードシステム ３０４ 接点 ３０５ 配線 ５００ レーザビーム ５０１ リング ５０２，５０３ プリズム ５０４，５０５ 鏡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ワイン ハーヴェイ ノックス アメリカ合衆国，07760 ニュージャージ ー，ラムソン，パーク アヴェニュー 15

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 コヒーレント放射ビームを生成するハン
    ドヘルド装置と、 第１の面および第２の面を有する第１の位相マスクとを
    有し、前記第１の位相マスクは、 前記生成されたコヒーレント放射ビームが前記第１の位
    相マスクの第１の面と交差し、イメージビームを生成す
    るように配置されていることを特徴とする、選択イメー
    ジを表示するためのイメージビームを生成する装置。
  2. 【請求項２】 前記コヒーレント放射ビームを生成する
    ために前記ハンドヘルド装置に選択的にエネルギーを与
    える手段をさらに含むことを特徴とする請求項１の装
    置。
  3. 【請求項３】 前記ハンドヘルド装置は、コヒーレント
    ビームを選択的に生成可能にするスイッチを含むことを
    特徴とする請求項１の装置。
  4. 【請求項４】 前記ハンドヘルド装置と結合されたハウ
    ジングをさらに含み、前記第１の位相マスクは、前記ハ
    ウジング内に配置されていることを特徴とする請求項１
    の装置。
  5. 【請求項５】 前記ハウジングは、前記ハウジング内の
    前記第１の位相マスクを動かす手段を含むことを特徴と
    する請求項４の装置。
  6. 【請求項６】 前記第１の位相マスクが、複数の位相格
    子を含み、 第１の位相格子を第２の位相格子と交換する手段をさら
    に含むことを特徴とする請求項４の装置。
  7. 【請求項７】 第２の位相マスクをさらに含み、 前記第２の位相マスクは、前記第１の位相マスクおよび
    前記第２の位相マスクのそれぞれの少なくとも１部がイ
    メージビームを生成するためにコヒーレント放射ビーム
    と交差するように前記ハウジング内に配置されているこ
    とを特徴とする請求項４の装置。
  8. 【請求項８】 ビーム出力端およびこのビーム出力端に
    結合されたハウジングからなり、レーザビームを生成し
    送信するハンドヘルドレーザポインタと、 イメージビームを生成するために、前記送信されるレー
    ザビームと交差するように前記ハウジング内に配置され
    た少なくとも第１の位相格子を含む第１の基板とを有す
    ることを特徴とする、選択イメージを表示するためのイ
    メージビームを生成する装置。
  9. 【請求項９】 前記基板は、第２の位相格子を含み、 前記ハウジングは、イメージビームを生成するために、
    レーザビームと交差するように前記第２の位相格子を位
    置させるために前記基板を移動させる手段をさらに含む
    ことを特徴とする請求項８の装置。
  10. 【請求項１０】 前記移動手段が、前記第１および第２
    の位相格子のうちの一方が前記レーザビームと交差する
    第１の位置と前記第１および第２の位相格子のうちの他
    方が前記レーザビームと交差する第２の位置との間で前
    記基板を移動させることを特徴とする請求項９の装置。
  11. 【請求項１１】 前記基板が、第２の位相格子を含むこ
    とを特徴とするイメージビームを生成する装置であっ
    て、 前記第１の位相格子を前記第２の位相格子と交換する手
    段をさらに含むことを特徴とする請求項８の装置。
  12. 【請求項１２】 少なくとも１つの位相格子を含む第２
    の基板をさらに有することを特徴とする請求項８の装
    置。
  13. 【請求項１３】 前記第２の基板が、第２の位相格子を
    含むことを特徴とするイメージビームを生成する装置で
    あって、 前記第１の位相格子および前記第２の位相格子のそれぞ
    れの少なくとも一部が前記送信されるレーザビームと交
    差し、前記イメージビームを生成するために前記送信さ
    れるレーザビームが前記第１の位相格子および前記第２
    の位相格子の少なくとも一部を照射するように前記第２
    の基板を前記第１の基板と重ね合わせる手段をさらに含
    むことを特徴とする請求項１２の装置。
  14. 【請求項１４】 第１の位相格子を含む第１の基板を第
    １の場所に位置させるステップと、 コヒーレント放射ビームをハンドヘルド装置で作るステ
    ップと、イメージビームを生成するために前記第１の位
    相格子を前記生成されたコヒーレント放射ビームで照射
    するステップとからなることを特徴とする、選択イメー
    ジを表示するためのイメージビームを生成する方法。
  15. 【請求項１５】 第１の基板が、第２の位相格子を含
    み、 前記位置させるステップは、前記第２の位相格子が前記
    第１の場所において前記コヒーレント放射ビームと交差
    し、前記コヒーレント放射ビームが前記イメージビーム
    を生成するために前記第２の位相格子と交差し、これを
    照射する位置に、前記第１の基板を移動させるステップ
    を含むことを特徴とする請求項１４の方法。
  16. 【請求項１６】 前記第１の基板は、前記ハンドヘルド
    装置と結合された基板ハウジング中に配置され、 前記位置させるステップは、基板ハウジングを前記ハン
    ドヘルド装置から取り外すステップを含むことを特徴と
    する請求項１４の方法。
  17. 【請求項１７】 第１の基板が第２の位相格子を含み、 前記第１の位相格子を前記第２の位相格子と交換し、前
    記選択イメージを前記第２の位相格子からつくるステッ
    プをさらに含むことを特徴とする請求項１４の方法。
  18. 【請求項１８】 第１の位相格子および第２の位相格子
    のそれぞれの少なくとも一部分がコヒーレント放射ビー
    ムと交差し、前記イメージビームを生成するために前記
    コヒーレント放射ビームが前記第１の位相格子および前
    記第２の位相格子の前記部分を照射するように、第２の
    位相格子を含む第２の基板を第１の基板と重ね合わせる
    ステップをさらに含むことを特徴とする請求項１４の方
    法。
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