JPH0798706B2 - Surface treatment method for non-oxide ceramics - Google Patents

Surface treatment method for non-oxide ceramics

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JPH0798706B2
JPH0798706B2 JP15591292A JP15591292A JPH0798706B2 JP H0798706 B2 JPH0798706 B2 JP H0798706B2 JP 15591292 A JP15591292 A JP 15591292A JP 15591292 A JP15591292 A JP 15591292A JP H0798706 B2 JPH0798706 B2 JP H0798706B2
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oxide ceramics
oxide
ceramics
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fine particles
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正人 川原
徹 野口
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Mitsuboshi Belting Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
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    • C04B41/45Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/50Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
    • C04B41/51Metallising, e.g. infiltration of sintered ceramic preforms with molten metal
    • C04B41/5127Cu, e.g. Cu-CuO eutectic

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は非酸化物セラミックスの
表面処理方法に係り、詳しくは非酸化物セラミックスを
接合剤あるいはメタライジング剤と強固に接着させる上
で非酸化物セラミックスの表面に例えばCuAl2 4
あるいはCuAlO2 の酸化物層を形成する非酸化物セ
ラミックスの表面処理方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface treatment method for non-oxide ceramics, and more specifically, for strongly adhering non-oxide ceramics to a bonding agent or a metallizing agent, for example, CuAl on the surface of non-oxide ceramics. 2 O 4
Alternatively, it relates to a surface treatment method for non-oxide ceramics which forms an oxide layer of CuAlO 2 .

【0002】[0002]

【従来の技術】セラミックスは高耐熱性、高硬度という
特徴を有しているが、その反面、機械的・熱的衝撃に弱
い欠点がある。これを補うのに金属と組み合わせたり、
あるいは同じセラミックスでも特性の異なるものを組み
合わせると用途が拡大する。このようにセラミックス
と、セラミックスまたは金属との複合化技術(接合技
術)はセラミックス加工技術の重要な要素技術の1つに
なっている。
2. Description of the Related Art Ceramics have the characteristics of high heat resistance and high hardness, but on the other hand, they have the drawback of being weak against mechanical and thermal shocks. To supplement this, combine with metal,
Or if the same ceramics with different characteristics are combined, the application will be expanded. As described above, the technique of combining ceramics with ceramics or metal (joining technique) is one of the important elemental techniques of the ceramics processing technique.

【0003】ところで、セラミックス同志、セラミック
スと金属との接合方法としては、PbO、CaO、Al
2 3 、MgOなどの金属酸化物を含むペースト物を接
合剤として用いる方法、あるいはTi系、Zr系、Be
系、Ni系などの活性金属を含んだペースト状の接合剤
を用いる方法、またMo−Mn系、Mo系、W系等の高
融点金属を被接合材表面でメタライジングし、その表面
にNiメッキ、そして金属ろうを付着し、更にもう一方
の被接合材表面にNiメッキした後、高温度で接合する
方法が使用されている。
By the way, as a method for joining ceramics to each other and ceramics and metals, PbO, CaO, Al
A method of using a paste containing a metal oxide such as 2 O 3 or MgO as a bonding agent, or Ti-based, Zr-based, Be
System, a method using a paste-like bonding agent containing an active metal such as Ni system, or metallizing a refractory metal such as Mo-Mn system, Mo system, W system on the surface of the material to be bonded, and Ni A method is used in which plating, metal brazing is adhered, Ni is plated on the surface of the other material to be bonded, and then bonding is performed at a high temperature.

【0004】また、他の方法として非酸化物セラミック
スの表面に酸化物層を形成し、該セラミックスと接合剤
との接着性を改善する試みがなされている。例えば、特
公昭64−4668によると、非酸化物セラミックスを
酸化雰囲気中で1000〜1300°Cの温度で数時間
加熱することにより、非酸化物セラミックス表面にAl
2 3 のような酸化物層を形成することが開示されてい
る。
As another method, an attempt has been made to form an oxide layer on the surface of non-oxide ceramics to improve the adhesion between the ceramics and the bonding agent. For example, according to Japanese Examined Patent Publication No. 64-4668, by heating non-oxide ceramics in an oxidizing atmosphere at a temperature of 1000 to 1300 ° C. for several hours, Al is applied to the surface of the non-oxide ceramics.
Forming an oxide layer such as 2 O 3 is disclosed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の非酸化
物セラミックスの表面に酸化物層を形成する方法では、
高温雰囲気下で長時間放置して酸化物層を形成しなけれ
ばならず、またセラミックスに損傷を与えやすく、経済
的にも不利な方法であった。本発明はこのような諸問題
を解決するものであり、比較的低い温度で、また短時間
で、しかも任意の場所に酸化物層を形成して接合剤ある
いはメタライジン剤との接着力を向上してなる非酸化物
セラミックスの表面処理方法を提供することを目的とす
る。
However, in the conventional method for forming the oxide layer on the surface of the non-oxide ceramics,
This is an economically disadvantageous method because it is necessary to leave the oxide layer for a long time in a high temperature atmosphere to form an oxide layer, and ceramics are easily damaged. The present invention solves these problems, and improves the adhesive strength with a bonding agent or a metallizing agent by forming an oxide layer at an arbitrary location at a relatively low temperature for a short time. An object of the present invention is to provide a surface treatment method for the non-oxide ceramics.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】即ち、本発明の非酸化物
セラミックスの表面処理方法では、Cu,Cu2 Oもし
くはCuOから選ばれた粒径0.1μm以下の微粒子を
非酸化物セラミックスの表面に付着させた後、酸化雰囲
気下で熱処理を行うことにより非酸化物セラミックスの
表面に酸化物層を設けた点にある。粒径0.1μm以下
のCu,Cu2 OもしくはCuOから選ばれた微粒子
は、溶剤に溶けた高分子のペースト物中に分散してい
る。また、上記酸化物層は主としてCuAl2 4 ある
いはCuAlO2 である。
That is, in the surface treatment method for non-oxide ceramics according to the present invention, fine particles having a particle size of 0.1 μm or less selected from Cu, Cu 2 O or CuO are added to the surface of non-oxide ceramics. This is because the oxide layer is formed on the surface of the non-oxide ceramics by performing a heat treatment in an oxidizing atmosphere after the deposition. Fine particles selected from Cu, Cu 2 O or CuO having a particle size of 0.1 μm or less are dispersed in a polymer paste dissolved in a solvent. The oxide layer is mainly CuAl 2 O 4 or CuAlO 2 .

【0007】 本発明で使用するCuもしくはCu2
から選ばれた微粒子は、以下の方法によって得ることが
できる。即ち、まず高分子材料を融解後、これにより生
じた蒸発物を基材面の上で急速固化して熱力学的に非平
衡化した高分子層を形成し、この高分子層の表面に銅膜
を密着させた後、高分子が平衡状態になるまで緩和さ
せ、該銅膜から微粒子化したCuもしくはCu2 Oを高
分子層内に浸透させると共に分散させ、これをm−クレ
ゾール、12−ジクロロエタン、アセトン等の溶剤に
溶かしてペースト物にしたものである。この微粒子を分
散した高分子複合物は、微粒子が凝集せずに独立した状
態で分離分散し、しかも微粒子が高分子層に安定した状
態で分散しているので、経時安定性に優れている。
Cu or Cu 2 O used in the present invention
The fine particles selected from can be obtained by the following method. That is, first, after melting the polymer material, the vaporized material generated thereby is rapidly solidified on the surface of the base material to form a thermodynamically non-equilibrium polymer layer, and a copper layer is formed on the surface of the polymer layer. After the film was brought into close contact, the polymer was relaxed until it reached an equilibrium state, finely divided Cu or Cu 2 O was permeated from the copper film into the polymer layer and dispersed therein, and m-cresol, 1 , 2 , It is made into a paste by dissolving it in a solvent such as 2-dichloroethane or acetone. The polymer composite in which the fine particles are dispersed is excellent in stability over time because the fine particles are not dispersed but aggregated and dispersed independently, and the fine particles are stably dispersed in the polymer layer.

【0008】ここで使用する高分子材料としては、熱可
塑性高分子であり、例えばナイロン6、ナイロン66、
ナイロン11、ナイロン12、ナイロン69、高密度ポ
リエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LDP
E)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリ塩化ビ
ニル、ポリオキシメチレンなどが挙げられ、特に限定さ
れない。
The polymer material used here is a thermoplastic polymer such as nylon 6, nylon 66,
Nylon 11, Nylon 12, Nylon 69, High Density Polyethylene (HDPE), Low Density Polyethylene (LDP)
E), polyvinylidene fluoride (PVDF), polyvinyl chloride, polyoxymethylene and the like are mentioned, but not particularly limited.

【0009】また、本発明で使用する非酸化物セラミッ
クスは、窒化アルミニウム(AlN)、窒化珪素(Si
3 4 )、炭化珪素(SiC)からなる。
The non-oxide ceramics used in the present invention are aluminum nitride (AlN) and silicon nitride (Si).
3 N 4 ) and silicon carbide (SiC).

【0010】しかして、本発明方法では、まず非酸化物
セラミックスの粉体とCu,Cu2OもしくはCuOの
微粒子を含む高分子複合物を混合し、700〜900°
Cの酸化雰囲気中で、約1分〜60分間焼成する。また
他の方法としては非酸化物セラミックスの板体の上にC
u,Cu2 OもしくはCuOの微粒子を含むペースト物
を塗布し、700〜900°Cの酸化雰囲気中で、約1
分〜60分間焼成する。更に、他の方法としては非酸化
物セラミックスの板体の上にCuを真空蒸着、スパッタ
リングあるいは溶融噴霧によって付着し、700〜90
0°Cの酸化雰囲気中で、約1分〜60分間焼成する。
この結果、非酸化物セラミックスの表面、特にCu,C
2 OもしくはCuOから選ばれた微粒子を付着したと
ころのみに、酸化物層が形成される。とりわけ、非酸化
物セラミックスの表面に形成されたCuAl2 4 ある
いはCuAlO2 の酸化物層は、接合剤との接着力を向
上することができる。
In the method of the present invention, however, first, a non-oxide ceramic powder and a polymer composite containing Cu, Cu 2 O or CuO particles are mixed, and the temperature is 700 to 900 °.
Baking is performed in an oxidizing atmosphere of C for about 1 to 60 minutes. As another method, C on a non-oxide ceramic plate is used.
Apply a paste containing fine particles of u, Cu 2 O or CuO, and apply in an oxidizing atmosphere at 700 to 900 ° C for about 1
Bake for minutes to 60 minutes. Further, as another method, Cu is deposited on the plate body of non-oxide ceramics by vacuum deposition, sputtering, or melt spraying, and the temperature is 700 to 90.
Baking is performed in an oxidizing atmosphere at 0 ° C. for about 1 to 60 minutes.
As a result, the surface of non-oxide ceramics, especially Cu, C
The oxide layer is formed only where the fine particles selected from u 2 O or CuO are attached. In particular, the CuAl 2 O 4 or CuAlO 2 oxide layer formed on the surface of the non-oxide ceramics can improve the adhesive force with the bonding agent.

【0011】[0011]

【作用】即ち、本発明によると、非酸化物セラミックス
の表面にCu,Cu2 OもしくはCuOの粒径0.1μ
mの微粒子を付着させた後、比較的低温でかつ短時間で
焼成しても、微粒子の粒径が小さいために該セラミック
スの表面には例えばCuAl2 4 あるいはCuAlO
2 の酸化物層が形成される。そして、この酸化物層の表
面に、例えばCuあるいはCu2 Oの粉体とバインダー
からなるメタライジング剤を塗布して焼成すると、本発
明により得られたCuAl2 4 あるいはCuAlO2
の酸化物層が非酸化物セラミックスとメタライズ膜の両
方に化学的に結合するため、非酸化物セラミックスとメ
タライズ膜との接着力が向上する。また、比較的低温で
かつ短時間で焼成して非酸化物セラミックスの表面に酸
化物層を形成することができるため、被接合材である非
酸化物セラミックスの基板の熱劣化を避けることもでき
る。
According to the present invention, the particle size of Cu, Cu 2 O or CuO is 0.1 μm on the surface of the non-oxide ceramics.
Even if the fine particles of m are adhered and then fired at a relatively low temperature for a short time, the particle diameter of the fine particles is small, so that, for example, CuAl 2 O 4 or CuAlO is formed on the surface of the ceramic.
Two oxide layers are formed. Then, a metallizing agent composed of, for example, Cu or Cu 2 O powder and a binder is applied to the surface of the oxide layer and fired to obtain CuAl 2 O 4 or CuAlO 2 obtained by the present invention.
Since the oxide layer is chemically bonded to both the non-oxide ceramics and the metallized film, the adhesive force between the non-oxide ceramics and the metallized film is improved. Further, since the oxide layer can be formed on the surface of the non-oxide ceramics by firing at a relatively low temperature for a short time, it is possible to avoid thermal deterioration of the substrate of the non-oxide ceramics which is the material to be joined. .

【0012】[0012]

【実施例】次に、本発明を具体的な実施例により更に詳
細に説明する。 (Cu2 O微粒子を含んだ高分子複合物の作成)真空蒸
着装置により、ナイロン11ペレットをタングステンボ
ード中に入れ、10-6Torrに減圧する。次いで、電
極間に電圧を印加してタングステンボードを真空中で加
熱して、ポリマーを融解させ、取り付け台の上部に設置
した基材(ガラス板)上に、10-4〜10-6Torrの
真空度で約1μm/分の速度で厚さ約5μmの蒸着膜で
ある高分子層を得た。更に、銅をタングステン線に巻き
付け加熱融解して10-4〜10-6Torrの真空下で蒸
着を行い、高分子層の上に銅蒸着膜を付着し、この積層
膜が付着したガラス板を真空蒸着装置から取り出し、1
20℃に保持した恒温槽中に10分間放置して複合物を
得た。その結果、膜表面の赤色が無くなり、膜全体が透
明黄緑色に変化した。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. (Preparation of Polymer Composite Containing Cu 2 O Fine Particles) Nylon 11 pellets are put into a tungsten board and decompressed to 10 −6 Torr by a vacuum vapor deposition apparatus. Next, a voltage is applied between the electrodes to heat the tungsten board in a vacuum to melt the polymer, and 10 -4 to 10 -6 Torr of the polymer is melted on the base material (glass plate) placed on the upper part of the mounting table. A polymer layer as a vapor-deposited film having a thickness of about 5 μm was obtained at a rate of vacuum of about 1 μm / min. Further, copper is wrapped around a tungsten wire, heated and melted, and vapor-deposited under a vacuum of 10 −4 to 10 −6 Torr. Take out from the vacuum vapor deposition device, 1
The composite was obtained by leaving it in a constant temperature bath kept at 20 ° C. for 10 minutes. As a result, the red color on the surface of the film disappeared and the entire film changed to transparent yellow-green.

【0013】このように得られた試料を入射角0.5°
の薄膜X線回折装置(理学電気社製RINT1200)
を用いて、同試料のX線回折パターンを測定した。この
X線回折パターンでは、銅はCu2 O(酸化銅)に変化
し、この微粒子がナイロン11中に分散していることが
判った。
The sample obtained in this manner was used for the incident angle of 0.5 °.
Thin film X-ray diffractometer (RINT1200 manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd.)
Was used to measure the X-ray diffraction pattern of the same sample. In this X-ray diffraction pattern, it was found that copper changed to Cu 2 O (copper oxide), and the fine particles were dispersed in nylon 11.

【0014】また、Cu2 Oの微粒子の粒子径を透過型
電子顕微鏡写真から観察すると、その平均粒子径は約1
0nmであり、また添加量は18vol%であった。ナ
イロン11中にCu2 Oを18vol%微粒化分散させ
た高分子複合物をm−クレゾールに重量比1:1で溶か
したペースト物にした。
When the particle size of Cu 2 O particles is observed from a transmission electron micrograph, the average particle size is about 1
It was 0 nm, and the added amount was 18 vol%. A polymer composite having 18 vol% Cu 2 O atomized and dispersed in nylon 11 was dissolved in m-cresol at a weight ratio of 1: 1 to obtain a paste.

【0015】実施例1〜7 表1に示した焼成条件にしたがって窒化アルミニウム粉
(粒径1μm)とCu2 O微粒子(粒径10nm)を分
散させた高分子複合物の混合物を焼成した。窒化アルミ
ニウム粉とCu2 O微粒子の重量比は20/1である。
焼成後の試料を前述と同じ入射角0.5°の薄膜X線回
折装置を用いて、これらの試料のX線回折パターンを測
定した結果を図1、図2に示す。これによると、800
°C以上の温度では焼成時間10分という短時間にCu
Al2 4 が生成する。特に、1000°Cでは酸化反
応が急激に進行し、窒化アルミニウムおよびCuOが全
てCuAl2 4 およびAl2 3 に変化している。ま
た、焼成温度700°Cの場合、10分間の焼成時間で
はCuAl2 4 が認められなかったが、焼成時間を3
0分まで増加させるとCuAl2 4 が生成することが
判る。
Examples 1 to 7 According to the firing conditions shown in Table 1, a mixture of polymer composites in which aluminum nitride powder (particle diameter 1 μm) and Cu 2 O fine particles (particle diameter 10 nm) were dispersed was fired. The weight ratio of aluminum nitride powder to Cu 2 O fine particles is 20/1.
1 and 2 show the results of measuring the X-ray diffraction patterns of the samples after firing using the thin film X-ray diffractometer having the same incident angle of 0.5 ° as described above. According to this, 800
At temperatures above ° C, Cu was burned in a short time of 10 minutes.
Al 2 O 4 is produced. Particularly, at 1000 ° C., the oxidation reaction rapidly progresses, and aluminum nitride and CuO are all changed to CuAl 2 O 4 and Al 2 O 3 . Further, when the firing temperature was 700 ° C., CuAl 2 O 4 was not observed in the firing time of 10 minutes, but the firing time was 3
It can be seen that CuAl 2 O 4 is produced when the content is increased to 0 minutes.

【0016】[0016]

【表1】 [Table 1]

【0017】実施例8〜9、比較例1〜2 表2の内容にしたがって窒化アルミニウム焼結体基板の
表面にCu2 O微粒子を塗布し焼成した。塗布方法はC
2 O微粒子を分散した高分子複合物のペースト物をナ
イフを用いて窒化アルミニウム焼結体基板の表面に塗布
した。焼成後の試料表面に、Cu粉/Cu2 O粉/ナイ
ロン11の有機バインダーからなる導体路形成ペースト
を塗布し、10-3Torrの減圧下、800°C、5分
間、空気中で焼成を行ってメタライズ膜を形成した。得
られたメタライズ膜と窒化アルミニウム焼結体との接着
強度を表2に示す。この接着強度の測定方法において
は、まず窒化アルミニウム焼結体基板の表面にに2×2
mmのメタライズ膜を作り、このメタライズ膜にハンダ
付けによってL字型に曲げた直径0.8mmの銅線を接
着し、この銅線を引っ張ることによってメタライズ膜の
接着強度を測定した。
Examples 8-9, Comparative Examples 1-2 According to the contents of Table 2, Cu 2 O fine particles were applied to the surface of the aluminum nitride sintered substrate and baked. The coating method is C
The paste of the polymer composite in which the u 2 O particles were dispersed was applied to the surface of the aluminum nitride sintered body substrate using a knife. A conductor path forming paste made of an organic binder of Cu powder / Cu 2 O powder / nylon 11 is applied to the surface of the sample after baking, and baking is performed in air at 800 ° C. for 5 minutes under a reduced pressure of 10 −3 Torr. Then, a metallized film was formed. Table 2 shows the adhesive strength between the obtained metallized film and the aluminum nitride sintered body. In this method of measuring the adhesive strength, first, 2 × 2 is formed on the surface of the aluminum nitride sintered body substrate.
A metallized film having a diameter of 0.8 mm was formed, a copper wire having a diameter of 0.8 mm which was bent into an L shape by soldering was adhered to the metallized film, and the adhesive strength of the metallized film was measured by pulling the copper wire.

【0018】[0018]

【表2】 [Table 2]

【0019】この結果、窒化アルミニウム焼結体基板の
表面の目的とする位置に酸化物層を形成することによっ
て、窒化アルミニウム焼結体基板とメタライズ膜の接着
強度が向上していることが判る。
As a result, it is understood that the adhesion strength between the aluminum nitride sintered body substrate and the metallized film is improved by forming the oxide layer at the desired position on the surface of the aluminum nitride sintered body substrate.

【0020】実施例10〜11、比較例3〜4 表3の内容に従って窒化ケイ素(Si3 4 )焼結体、
炭化ケイ素(SiC)焼結体の焼成を行った。前述と同
じX線回折法による分析結果を図3、図4に示す。
Examples 10-11, Comparative Examples 3-4 Silicon nitride (Si 3 N 4 ) sintered bodies according to the contents of Table 3,
The silicon carbide (SiC) sintered body was fired. The results of analysis by the same X-ray diffraction method as described above are shown in FIGS.

【0021】[0021]

【表3】 [Table 3]

【0022】これによると、窒化アルミニウムに限ら
ず、窒化ケイ素、炭化ケイ素等の非酸化物セラミックス
もCu2 O微粒子を塗布、焼成することによって比較的
容易に酸化物層を形成することができる。
According to this method, not only aluminum nitride but also non-oxide ceramics such as silicon nitride and silicon carbide can form the oxide layer relatively easily by coating and firing Cu 2 O fine particles.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上のように本発明の非酸化物セラミッ
クスの表面処理方法では、非酸化物セラミックスの表面
に比較的低い温度で、しかも任意の場所に酸化物層を形
成することによって、接合剤との接着力を向上すること
ができる。また、比較的低温でかつ短時間で焼成して非
酸化物セラミックスの表面に酸化物層を形成することが
できるため、被接合材である非酸化物セラミックスの基
板の熱劣化を避けることもできる。
As described above, according to the surface treatment method for non-oxide ceramics of the present invention, bonding is performed by forming an oxide layer on the surface of non-oxide ceramics at a relatively low temperature and at an arbitrary position. The adhesive strength with the agent can be improved. In addition, since the oxide layer can be formed on the surface of the non-oxide ceramics by firing at a relatively low temperature for a short time, it is possible to avoid thermal deterioration of the substrate of the non-oxide ceramics as the material to be joined. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1〜実施例5における焼成後の試料のX
線回折パターンを示す図である。
FIG. 1 is X of a sample after firing in Examples 1 to 5.
It is a figure which shows a line diffraction pattern.

【図2】実施例2、実施例6そして実施例7における焼
成後の試料のX線回折パターンを示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing X-ray diffraction patterns of samples after firing in Examples 2, 6 and 7.

【図3】実施例10、比較例3における焼成後の試料の
X線回折パターンを示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an X-ray diffraction pattern of samples after firing in Example 10 and Comparative Example 3.

【図4】実施例11、比較例4における焼成後の試料の
X線回折パターンを示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing X-ray diffraction patterns of samples after firing in Example 11 and Comparative Example 4.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Cu,Cu2 OもしくはCuOから選ば
れた粒径0.1μm以下の微粒子を非酸化物セラミック
スの表面に付着させた後、酸化雰囲気下で熱処理を行う
ことにより非酸化物セラミックスの表面に酸化物層を設
けたことを特徴とする非酸化物セラミックスの表面処理
方法。
1. Non-oxide ceramics are prepared by depositing fine particles having a particle size of 0.1 μm or less selected from Cu, Cu 2 O or CuO on the surface of non-oxide ceramics, and then performing heat treatment in an oxidizing atmosphere. A method for surface treatment of non-oxide ceramics, characterized in that an oxide layer is provided on the surface of.
【請求項2】 粒径0.1μm以下のCu,Cu2 Oも
しくはCuOから選ばれた微粒子は、溶剤に溶けた高分
子のペースト物中に分散している請求項1記載の非酸化
物セラミックスの表面処理方法。
2. The non-oxide ceramics according to claim 1, wherein the fine particles selected from Cu, Cu 2 O or CuO having a particle diameter of 0.1 μm or less are dispersed in a polymer paste dissolved in a solvent. Surface treatment method.
【請求項3】 非酸化物セラミックスが窒化アルミニウ
ムである請求項1記載の非酸化物セラミックスの表面処
理方法。
3. The surface treatment method for non-oxide ceramics according to claim 1, wherein the non-oxide ceramics is aluminum nitride.
【請求項4】 非酸化物セラミックスの表面に形成され
る酸化物層が、主としてCuAl2 4 あるいはCuA
lO2 である請求項3記載の非酸化物セラミックスの表
面処理方法。
4. The oxide layer formed on the surface of the non-oxide ceramic is mainly CuAl 2 O 4 or CuA.
10. The method for surface treatment of non-oxide ceramics according to claim 3, which is 10 2 .
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