JPH0792422B2 - 偏波面保存型光ファイバと半導体レーザとの組立工程における消光比測定方法 - Google Patents
偏波面保存型光ファイバと半導体レーザとの組立工程における消光比測定方法Info
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- JPH0792422B2 JPH0792422B2 JP10580093A JP10580093A JPH0792422B2 JP H0792422 B2 JPH0792422 B2 JP H0792422B2 JP 10580093 A JP10580093 A JP 10580093A JP 10580093 A JP10580093 A JP 10580093A JP H0792422 B2 JPH0792422 B2 JP H0792422B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、消光比測定方法に関
し、特に回転機構を有する偏光プリズムを利用した消光
比測定方法に関する。
し、特に回転機構を有する偏光プリズムを利用した消光
比測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の消光比測定装置について図面を参
照して説明する。
照して説明する。
【０００３】図６は消光比測定方法を説明するための装
置の平面図である。
置の平面図である。
【０００４】この消光比測定装置は、光源である半導体
レーザ５０ａに接続された偏波面保存型光ファイバ５０
と、その出力端側に置かれた偏光プリズム５１と、偏光
プリズム５１の透過光出力を測定する光パワーメータ５
２と、偏光プリズム５１を回転する回転機構５３とから
構成されている。
レーザ５０ａに接続された偏波面保存型光ファイバ５０
と、その出力端側に置かれた偏光プリズム５１と、偏光
プリズム５１の透過光出力を測定する光パワーメータ５
２と、偏光プリズム５１を回転する回転機構５３とから
構成されている。
【０００５】図７は図６に示した装置で従来例の消光比
測定方法を説明するためのグラフである。
測定方法を説明するためのグラフである。
【０００６】偏光プリズム５１を回転機構５３により設
定されたステップ角で回転させながら各光出力を測定
し、１８０度領域における最小値５６及び最大値５７か
ら消光比を求めることができる。この測定方法は、局所
的な光出力の凹凸に影響されずに確実に消光比を求める
ことができる反面１８０度／（ステップ角）分の測定が
必要であり時間がかかる。
定されたステップ角で回転させながら各光出力を測定
し、１８０度領域における最小値５６及び最大値５７か
ら消光比を求めることができる。この測定方法は、局所
的な光出力の凹凸に影響されずに確実に消光比を求める
ことができる反面１８０度／（ステップ角）分の測定が
必要であり時間がかかる。
【０００７】図８は図６に示した装置で従来例の別の消
光比測定方法を説明するためのグラフである。
光比測定方法を説明するためのグラフである。
【０００８】この測定方法は山登り法により最小値また
は最大値を求める方法であり、光出力が単調増加・減少
傾向を示す場合は非常に有効である。しかし実際は図９
に示すような局所的な凹凸があるため、例えば探索開始
点５８から最小値探索を行った場合極小値５９を最小値
と誤検出してしまう。９０度回転した位置における最大
値６０も実際の最大値とは大きく異なり正確に消光比を
測定できない。また山登り法においてもステップ角を小
さくするとそれに反比例して測定回数が増えるため測定
時間は長くなる。
は最大値を求める方法であり、光出力が単調増加・減少
傾向を示す場合は非常に有効である。しかし実際は図９
に示すような局所的な凹凸があるため、例えば探索開始
点５８から最小値探索を行った場合極小値５９を最小値
と誤検出してしまう。９０度回転した位置における最大
値６０も実際の最大値とは大きく異なり正確に消光比を
測定できない。また山登り法においてもステップ角を小
さくするとそれに反比例して測定回数が増えるため測定
時間は長くなる。
【０００９】さらに、上記いずれの方法においても測定
時間を短くするためにスッテプ幅を段階的に小さくする
手法もあるが最終分解能を上げるためにはかなりの測定
回数が必要である。
時間を短くするためにスッテプ幅を段階的に小さくする
手法もあるが最終分解能を上げるためにはかなりの測定
回数が必要である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の消光比
測定方法は、偏光プリズムを一定のスッテプ角で回転さ
せ、１８０度全領域で光出力を測定したり、山登り法で
最小値または最小値の探索を行っているため、分解能を
上げると測定時間がかかる上、山登り法については局所
的な凹凸で最小値・最大値を誤検出してしまうという欠
点があった。
測定方法は、偏光プリズムを一定のスッテプ角で回転さ
せ、１８０度全領域で光出力を測定したり、山登り法で
最小値または最小値の探索を行っているため、分解能を
上げると測定時間がかかる上、山登り法については局所
的な凹凸で最小値・最大値を誤検出してしまうという欠
点があった。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の消光比測定方法
は、偏波面保存型光ファイバと偏波面保存型光ファイバ
への光源である半導体レーザとの組立工程で、偏波面保
存型光ファイバの透過光出力を偏光プリズムを介して測
定し、偏光プリズムを回転した時の最大値および最小値
から消光比を測定する消光比測定方法において、偏光プ
リズムの任意の２つの回転位置で透過光出力を測定して
次の測定を行う場合に、２箇所の偏光プリズム回転位置
の中心で行い、出力される３つの光出力を比較し、小さ
い方の２つを選択し、その選択された２つの偏光プリズ
ム回転位置の中心で次の測定を繰り返して行うことを特
徴としている。
は、偏波面保存型光ファイバと偏波面保存型光ファイバ
への光源である半導体レーザとの組立工程で、偏波面保
存型光ファイバの透過光出力を偏光プリズムを介して測
定し、偏光プリズムを回転した時の最大値および最小値
から消光比を測定する消光比測定方法において、偏光プ
リズムの任意の２つの回転位置で透過光出力を測定して
次の測定を行う場合に、２箇所の偏光プリズム回転位置
の中心で行い、出力される３つの光出力を比較し、小さ
い方の２つを選択し、その選択された２つの偏光プリズ
ム回転位置の中心で次の測定を繰り返して行うことを特
徴としている。
【００１２】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００１３】図１は本発明による消光比測定方法の一実
施例を示すフローチャートである。
施例を示すフローチャートである。
【００１４】この消光比測定方法では、工程１でプリズ
ム回転位置０度、９０度で光出力を測定し、工程２によ
り工程１で測定された２つの出力を比較し小さい方の回
転位置から±４５度回転した位置で光出力を測定し、工
程３で３つの光出力を比較し小さい２つの光出力を選択
し、工程４により工程３で選択された２つのプリズム回
転位置の中心で光出力を測定し、工程５で設定回数測定
したか判断し設定回数に満たない場合は工程３に戻るよ
うにし、工程６で最後に残った３つの光出力を比較し最
小光出力を求め、工程７で最小光出力のプリズム回転位
置から９０度回転し最大光出力を測定し、工程８で最小
光出力と最大光出力から消光比を計算する。
ム回転位置０度、９０度で光出力を測定し、工程２によ
り工程１で測定された２つの出力を比較し小さい方の回
転位置から±４５度回転した位置で光出力を測定し、工
程３で３つの光出力を比較し小さい２つの光出力を選択
し、工程４により工程３で選択された２つのプリズム回
転位置の中心で光出力を測定し、工程５で設定回数測定
したか判断し設定回数に満たない場合は工程３に戻るよ
うにし、工程６で最後に残った３つの光出力を比較し最
小光出力を求め、工程７で最小光出力のプリズム回転位
置から９０度回転し最大光出力を測定し、工程８で最小
光出力と最大光出力から消光比を計算する。
【００１５】尚、この場合の測定する装置は、従来の技
術の項で説明した図６の装置と同じものである。
術の項で説明した図６の装置と同じものである。
【００１６】図２は図１に示した工程１および工程２を
説明するためのグラフである。
説明するためのグラフである。
【００１７】横軸はプリズムの回転角９、縦軸は光出力
１０を表している。一般的に偏波面保存型の光ファイバ
の場合出力は１８０度の周期関数となる。従って回転角
が９０度異なる二つの光出力を測定し小さい方の光出力
を選択すると選択された小さい側はハッチングされた領
域１１，１１’，１２，１２’，１３，１３’のいずれ
かに存在することになる。それ故選択された光出力の小
さいプリズム回転位置から±４５度以内の範囲に最小光
出力の得られる位置が必ず存在する。
１０を表している。一般的に偏波面保存型の光ファイバ
の場合出力は１８０度の周期関数となる。従って回転角
が９０度異なる二つの光出力を測定し小さい方の光出力
を選択すると選択された小さい側はハッチングされた領
域１１，１１’，１２，１２’，１３，１３’のいずれ
かに存在することになる。それ故選択された光出力の小
さいプリズム回転位置から±４５度以内の範囲に最小光
出力の得られる位置が必ず存在する。
【００１８】図３は図２に示したグラフの補足説明をす
るための４５度間隔で光出力を測定した場合を示すグラ
フである。
るための４５度間隔で光出力を測定した場合を示すグラ
フである。
【００１９】条件が良ければ図３（ａ）のように４回の
測定１４，１５，１６，１７で最小光出力の得られる領
域１９を探索できるが、図３（ｂ）の様な場合には領域
１９’の中に最小光出力がないため５回目の測定１８’
を行う必要がある。
測定１４，１５，１６，１７で最小光出力の得られる領
域１９を探索できるが、図３（ｂ）の様な場合には領域
１９’の中に最小光出力がないため５回目の測定１８’
を行う必要がある。
【００２０】図４は図１のフローチャートに従って最小
光出力および最大光出力を探索する手順を説明するため
のグラフである。
光出力および最大光出力を探索する手順を説明するため
のグラフである。
【００２１】図４（ａ）において、まず回転角０度およ
び９０度で光出力２０，２１を測定する。次に光出力の
小さい方２０から±４５度回転した位置で光出力２２，
２３を測定する。得られた三つの光出力２０，２２，２
３を比較し出力の小さい２点２０，２２の中心２４で次
の測定を行う。同様にして三つの出力２０，２２，２４
の中で出力の小さい２点２０，２４の中心２５でさらに
次の測定を行う。以下同様の手順で測定を繰り返すこと
により最小光出力の得られる領域を絞り込むことができ
る。ここでは繰り返し数を２回として最後に残った三つ
の出力２０，２４，２５を比較し最も出力の小さい２０
が最小光出力となる。一方最大光出力は最小光出力のプ
リズム回転位置が０度であるから９０度における光出力
２６が最大光出力となる。最後に求めた最小光出力２０
及び最大光出力２６を用いて消光比を算出する。
び９０度で光出力２０，２１を測定する。次に光出力の
小さい方２０から±４５度回転した位置で光出力２２，
２３を測定する。得られた三つの光出力２０，２２，２
３を比較し出力の小さい２点２０，２２の中心２４で次
の測定を行う。同様にして三つの出力２０，２２，２４
の中で出力の小さい２点２０，２４の中心２５でさらに
次の測定を行う。以下同様の手順で測定を繰り返すこと
により最小光出力の得られる領域を絞り込むことができ
る。ここでは繰り返し数を２回として最後に残った三つ
の出力２０，２４，２５を比較し最も出力の小さい２０
が最小光出力となる。一方最大光出力は最小光出力のプ
リズム回転位置が０度であるから９０度における光出力
２６が最大光出力となる。最後に求めた最小光出力２０
及び最大光出力２６を用いて消光比を算出する。
【００２２】図４（ｂ）及び図４（ｃ）における場合も
同様にして求めた最小光出力２４’，２３”及び最大光
出力２６’，２６”から消光比を算出できる。
同様にして求めた最小光出力２４’，２３”及び最大光
出力２６’，２６”から消光比を算出できる。
【００２３】図５は図４に示した調整手順の別の例を説
明するための測定値に局所的な凹凸がある場合の探索例
を示すグラフである。
明するための測定値に局所的な凹凸がある場合の探索例
を示すグラフである。
【００２４】この場合も比較する回転角度の幅を段階的
に小さくしているため局所的な凹凸に影響されずに最小
光出力近傍に収束でき、最小光出力２６”及び最大光出
力２７”から実用的な精度で消光比を測定できる。表１
は測定回数と分解能の関係を示した表である。
に小さくしているため局所的な凹凸に影響されずに最小
光出力近傍に収束でき、最小光出力２６”及び最大光出
力２７”から実用的な精度で消光比を測定できる。表１
は測定回数と分解能の関係を示した表である。
【００２５】例えば、測定回数８回で２．８１度の分解
能が得られている。同じ分解能で１８０度の全領域を測
定したとすれば６４回の測定が必要である。このように
非常に少ない測定回数で高分解能を実現できる。
能が得られている。同じ分解能で１８０度の全領域を測
定したとすれば６４回の測定が必要である。このように
非常に少ない測定回数で高分解能を実現できる。
【００２６】
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の消光比測
定方法では、次の探索を二つの測定値のプリズム回転位
置の中心に設定することを基本としているため探索領域
を指数関数的に絞り込むことができ、少ない測定回数で
高い分解能を実現できる。さらに、プリズム回転幅を段
階的に小さくしているため局所的な光出力の凹凸に影響
されず高い信頼性で消光比を測定できる。
定方法では、次の探索を二つの測定値のプリズム回転位
置の中心に設定することを基本としているため探索領域
を指数関数的に絞り込むことができ、少ない測定回数で
高い分解能を実現できる。さらに、プリズム回転幅を段
階的に小さくしているため局所的な光出力の凹凸に影響
されず高い信頼性で消光比を測定できる。
【図１】本発明による消光比測定方法の一実施例を示す
フローチャートである。
フローチャートである。
【図２】図１に示したフローチャートの工程１及び工程
２を説明するためのグラフである。図２（ａ），（ｂ）
は図１に示したフローチャートの工程１，２を説明する
ためのグラフである。
２を説明するためのグラフである。図２（ａ），（ｂ）
は図１に示したフローチャートの工程１，２を説明する
ためのグラフである。
【図３】図２に示したグラフの補足説明をするための４
５度間隔で光出力を測定した場合を示すグラフである。
図３（ａ），（ｂ）は図２に示した補足説明をするため
のグラフである。
５度間隔で光出力を測定した場合を示すグラフである。
図３（ａ），（ｂ）は図２に示した補足説明をするため
のグラフである。
【図４】図４は図１のフローチャートに従って最小光出
力および最大光出力を探索する手順を説明するためのグ
ラフである。図４（ａ），（ｂ），（ｃ）は図１に示し
たフローチャートの工程３，４，５，６，７を説明する
ためのグラフである。
力および最大光出力を探索する手順を説明するためのグ
ラフである。図４（ａ），（ｂ），（ｃ）は図１に示し
たフローチャートの工程３，４，５，６，７を説明する
ためのグラフである。
【図５】図４に示した調整手順の別の例を説明するため
の測定値に局所的な凹凸がある場合の探索例を示すグラ
フである。
の測定値に局所的な凹凸がある場合の探索例を示すグラ
フである。
【図６】消光比測定方法を説明するための装置の平面図
である。
である。
【図７】図６に示した装置で従来例の消光比測定方法を
説明するためのグラフである。
説明するためのグラフである。
【図８】図６に示した装置で従来例の別の消光比測定方
法を説明するためのグラフである。
法を説明するためのグラフである。
１，２，３，４，５，６，７，８ 調整工程 ９，５４ 回転角 １０，５５ 光出力 １１，１１’，１２，１２’，１３，１３’，１９，１
９’ 領域 １４，１４’，１５，１５’，１６，１６’，１７，１
７’，１８’ 測定点 ２０，２０’，２０” 測定点 ２１，２１’，２１” 測定点 ２２，２２’，２２” 測定点 ２３，２３’，２３” 測定点 ２４，２４’，２４” 測定点 ２５，２５’，２５” 測定点 ２６，２６’，２６” 測定点 ２７” 測定点 ５０ 偏波面保存型光ファイバ ５０ａ 半導体レーザ ５１ 偏向プリズム ５２ 光パワ−メ−タ ５３ 回転機構 ５６，５９ 最小値 ５７，６０ 最大値 ５８ 探索開始点
９’ 領域 １４，１４’，１５，１５’，１６，１６’，１７，１
７’，１８’ 測定点 ２０，２０’，２０” 測定点 ２１，２１’，２１” 測定点 ２２，２２’，２２” 測定点 ２３，２３’，２３” 測定点 ２４，２４’，２４” 測定点 ２５，２５’，２５” 測定点 ２６，２６’，２６” 測定点 ２７” 測定点 ５０ 偏波面保存型光ファイバ ５０ａ 半導体レーザ ５１ 偏向プリズム ５２ 光パワ−メ−タ ５３ 回転機構 ５６，５９ 最小値 ５７，６０ 最大値 ５８ 探索開始点
Claims (2)
- 【請求項１】偏波面保存型光ファイバと前記偏波面保存
型光ファイバへの光源である半導体レーザとの組立工程
で、前記偏波面保存型光ファイバの透過光出力を偏光プ
リズムを介して測定し、前記偏光プリズムを回転した時
の最大値および最小値から消光比を測定する消光比測定
方法において、前記偏光プリズムの任意の２つの回転位
置で透過光出力を測定して次の測定を行う場合に、前記
２箇所の偏光プリズム回転位置の中心で行い、出力され
る３つの光出力を比較し、小さい方の２つを選択し、そ
の選択された２つの偏光プリズム回転位置の中心で次の
測定を繰り返して行うことを特徴とする消光比測定方
法。 - 【請求項２】（ａ）偏光プリズムの回転位置０度、９０
度で光出力（以下Ｐ１，Ｐ２とする）を測定する工程
と、（ｂ）前記Ｐ１，Ｐ２を比較し出力の小さい方の回
転位置から±４５度プリズムを回転した位置で光出力
（以下Ｐ３，Ｐ４とする）を測定する工程と、（ｃ）前
記Ｐ１，Ｐ２のいずれか小さい方、Ｐ３およびＰ４の中
から光出力の小さい２つを選択し、選択された２つのプ
リズム回転位置の中心で光出力を測定する工程と、
（ｄ）（ｃ）と同様にして設定された回数順次光出力の
小さい２つのプリズム回転位置の中心で光出力を測定し
最小光出力を探索する工程と、（ｅ）最後に残った３つ
の光出力を比較し最小光出力を求める工程と、（ｆ）最
小光出力の得られた回転位置から９０度プリズムを回転
し最大光出力を測定する工程と、（ｇ）最小光出力およ
び最大光出力から消光比を算出する工程とを含むことを
特徴とする請求項１記載の消光比測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10580093A JPH0792422B2 (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 偏波面保存型光ファイバと半導体レーザとの組立工程における消光比測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10580093A JPH0792422B2 (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 偏波面保存型光ファイバと半導体レーザとの組立工程における消光比測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06317498A JPH06317498A (ja) | 1994-11-15 |
| JPH0792422B2 true JPH0792422B2 (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=14417198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10580093A Expired - Lifetime JPH0792422B2 (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 偏波面保存型光ファイバと半導体レーザとの組立工程における消光比測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0792422B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102338691A (zh) * | 2010-07-16 | 2012-02-01 | 北京国科世纪激光技术有限公司 | 光学参数测量装置及静态消光比的测量方法 |
| CN102466560A (zh) * | 2010-11-11 | 2012-05-23 | 北京国科世纪激光技术有限公司 | 一种光学参数测量装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4740089B2 (ja) * | 2006-10-27 | 2011-08-03 | 富士通株式会社 | 光モジュールおよびその製造方法並びに光ファイバの回転角調整方法 |
| CN102338692A (zh) * | 2010-07-16 | 2012-02-01 | 北京国科世纪激光技术有限公司 | 静态消光比测量装置及静态消光比测量方法 |
| CN104034513B (zh) * | 2014-05-22 | 2016-08-17 | 武汉邮电科学研究院 | 空间偏振光消光比测量装置及方法 |
| CN108398242B (zh) * | 2018-01-31 | 2019-11-26 | 北京交通大学 | 椭圆偏振态保持光纤消光比的测量装置和方法 |
-
1993
- 1993-05-07 JP JP10580093A patent/JPH0792422B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102338691A (zh) * | 2010-07-16 | 2012-02-01 | 北京国科世纪激光技术有限公司 | 光学参数测量装置及静态消光比的测量方法 |
| CN102466560A (zh) * | 2010-11-11 | 2012-05-23 | 北京国科世纪激光技术有限公司 | 一种光学参数测量装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06317498A (ja) | 1994-11-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960528 |