JPH0790596A - Surface treating device and surface treatment - Google Patents

Surface treating device and surface treatment

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JPH0790596A
JPH0790596A JP24987093A JP24987093A JPH0790596A JP H0790596 A JPH0790596 A JP H0790596A JP 24987093 A JP24987093 A JP 24987093A JP 24987093 A JP24987093 A JP 24987093A JP H0790596 A JPH0790596 A JP H0790596A
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JP
Japan
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shaped
donut
spindle
surface treatment
substrate
Prior art date
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Application number
JP24987093A
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Japanese (ja)
Inventor
Mamoru Kaneko
衛 金子
Ryuichi Ushio
隆一 牛尾
Kensho Tanaka
憲昭 田中
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To prevent the contact during treatment of adjacent substrates with each other by fitting a spindle provided with annular grooves and a weight bar provided with the similar annular grooves to the ends in the inner peripheral parts of plural doughnut-shaped substrates. CONSTITUTION:The spindle 15 is inserted into the respective hollow parts of the plural doughnut-shaped substrates 7 and the ends on the upper side of the inner peripheral parts of the doughnut-shaped substrates 7 are fitted into the respective annular grooves 15V of the spindle 15 to hang down the doughnut- shaped substrates 7. The weight bar 16 is inserted into the spacings between the respective hollow parts of plural sheets of the doughnut-shaped substrates 7 and the spindle 15 and the inside of the respective annular grooves 16V of the weight bar 16 are fitted to the ends on the lower side of the inner peripheral parts of the respective doughnut-shaped substrates 7 to place the weight bar 16 on the hollow parts of the respective doughnut-shaped substrates 7. Plural sheets of the doughnut-shaped substrates 7 are then immersed into a treating liquid and are subjected to a surface treatment while the spindle 15 is kept rotated.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、表面処理装置および表
面処理方法に関するものであり、詳しくは、複数枚のド
ーナツ状基板の表面に例えば無電解めっき等の表面処理
を同時に行うために好適な表面処理装置および表面処理
方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface treatment apparatus and a surface treatment method, and more specifically, it is suitable for simultaneously performing surface treatment such as electroless plating on the surfaces of a plurality of donut-shaped substrates. The present invention relates to a surface treatment device and a surface treatment method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、基板の表面に所定の処理を施す技
術は、各種の分野にて広く採用されており、代表的な例
としては、非磁性材料から成るドーナツ状基板の表面に
無電解めっきを施す工程を含む磁気ディスク基盤の製造
が挙げられる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a technique for subjecting a surface of a substrate to a predetermined treatment has been widely adopted in various fields. As a typical example, a surface of a donut-shaped substrate made of a nonmagnetic material is electroless Manufacturing of a magnetic disk substrate including a step of applying plating can be mentioned.

【0003】図7は、無電解Ni−Pめっき工程
(S 9)を採用した無磁気ディスク基盤の製造工程の一
例を示すフローシートであるが、斯かる無磁気ディスク
基盤の製造においては、無電解Ni−Pめっき工程の前
処理工程として、通常、脱脂工程(S1 )からアクチベ
ーティング工程(S 7)に至る複数の表面処理工程が設
けられる。
FIG. 7 is a flow sheet showing an example of a manufacturing process of a non-magnetic disk substrate using the electroless Ni-P plating process (S 9 ). As a pretreatment step for the electrolytic Ni-P plating step, usually, a plurality of surface treatment steps from a degreasing step (S 1 ) to an activating step (S 7 ) are provided.

【0004】すなわち、脱脂工程(S1 )においては基
盤表面を清浄化して親水化表面となし、中和工程
(S3 )においては中和処理を行い、センシタイジング
工程(S 5)においてはスズイオンを基盤表面に吸着さ
せ、アクチベーティング工程(S 7)においては、還元
反応により、無電解めっき反応の触媒核となる金属微粒
子を基盤表面に析出させる。そして、センシタイジング
には、例えば、強酸性の塩化第1スズが好適に用いら
れ、アクチベーティングには、通常、パラジウム、白
金、金、銀などの金属の塩の水溶液が用いられる。な
お、上記の各工程の間には、水洗工程(S 2)等が設け
られる。
That is, in the degreasing step (S 1 ), the substrate surface is cleaned to form a hydrophilic surface, in the neutralization step (S 3 ) a neutralization treatment is performed, and in the sensitizing step (S 5 ). Tin ions are adsorbed on the surface of the substrate, and in the activating step (S 7 ), metal particles serving as catalyst nuclei for the electroless plating reaction are deposited on the surface of the substrate by a reduction reaction. Then, for example, strongly acidic stannous chloride is preferably used for sensitizing, and an aqueous solution of a metal salt such as palladium, platinum, gold, or silver is usually used for activating. A water washing step (S 2 ) and the like are provided between the above steps.

【0005】そして、上記の無磁気ディスク基盤の製造
工程においては、特に、めっき反応によって生成する水
素ガスの基盤からの脱離を容易にすると言う無電解Ni
−Pめっき工程(S 9)での必要性から、ドーナツ状基
板の内周部の端部に嵌合する複数個のリング状溝を周面
に設け且つ水平に配置されたスピンドルを備えた表面処
理装置を用い、複数枚のドーナツ状基板の各中空部にス
ピンドルを挿入し、スピンドルの各リング状溝内に各ド
ーナツ状基板の内周部の上側の端部を嵌合させてドーナ
ツ状基板を吊り下げ、次いで、複数枚のドーナツ状基板
を処理液中に浸漬し、スピンドルを回転させつつ表面処
理を行う方式(基盤回転方式)が採用されている。
In the manufacturing process of the above-mentioned magnetic-free disk substrate, electroless Ni which facilitates desorption of hydrogen gas generated by the plating reaction from the substrate is particularly mentioned.
-A surface provided with a plurality of ring-shaped grooves fitted to the end portion of the inner peripheral portion of the donut-shaped substrate on the peripheral surface and having a spindle arranged horizontally because of the necessity in the P plating step (S 9 ). Using the processing equipment, insert a spindle into each hollow part of multiple donut-shaped substrates, and fit the upper end of the inner peripheral part of each donut-shaped substrate into each ring-shaped groove of the spindle to form a donut-shaped substrate. Is adopted, and then a plurality of donut-shaped substrates are immersed in the treatment liquid, and the surface treatment is performed while rotating the spindle (base rotation method).

【0006】上記の基盤回転方式にて用いられるスピン
ドルについては、その材質に関する改良が特開昭63−
100613号や同63−100614号の各公報によ
って提案されている。
Regarding the spindle used in the above-mentioned substrate rotating method, an improvement in the material thereof has been proposed.
It is proposed by each publication of 100613 and 63-100164.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、磁気
ディスク装置の小型化に伴い、磁気ディスク基盤のサイ
ズも小型化され、特に、基盤の厚さは、薄く(従って軽
く)なって来ている。斯かる磁気ディスク基盤の基盤回
転方式による表面処理においては、処理液中にて基盤が
揺動し易く、その結果、スピンドルの各リング状溝内に
吊り下げられた基板の隣接する同志が端部にて接触し、
基盤表面に傷が発生すると言う問題が惹起されている。
しかしながら、斯かる問題を解決した表面処理装置は、
未だ提案されていない。
By the way, in recent years, along with the miniaturization of magnetic disk devices, the size of the magnetic disk substrate has also been reduced, and in particular, the thickness of the substrate has become thinner (thus lighter). . In the surface treatment of such a magnetic disk substrate by the substrate rotation method, the substrate is apt to rock in the treatment liquid, and as a result, the adjacent members of the substrate suspended in each ring-shaped groove of the spindle are the end portions. Contact at
A problem that scratches occur on the surface of the substrate is caused.
However, the surface treatment apparatus that solves such a problem is
It has not been proposed yet.

【0008】本発明は、上記実情に鑑みなされたもので
あり、その目的は、複数枚のドーナツ状基板を同時に表
面処理するための基盤回転方式の表面処理装置および表
面処理方法であって、特に、隣接する基盤同志の処理中
における接触問題を解決した表面処理装置および表面処
理方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a substrate rotation type surface treatment apparatus and a surface treatment method for simultaneously surface treating a plurality of donut-shaped substrates. To provide a surface treatment apparatus and a surface treatment method that solve the contact problem during the treatment of adjacent substrates.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の第1
要旨は、複数枚のドーナツ状基板を同時に表面処理する
ための装置であって、ドーナツ状基板の内周部の端部に
嵌合する複数個のリング状溝を周面に設け且つ水平に配
置されたスピンドルと、ドーナツ状基板の内周部の端部
に嵌合し且つ上記のスピンドルのリング状溝と実質的に
同一ピッチを有する複数個のリング状溝を周面に設けた
ウエイトバーと、上記のスピンドルの回転機構とから主
として構成されることを特徴とするドーナツ状基板の表
面処理装置に存する。
That is, the first aspect of the present invention
The gist is an apparatus for simultaneously surface-treating a plurality of donut-shaped substrates, which is provided with a plurality of ring-shaped grooves fitted on the ends of the inner peripheral portion of the donut-shaped substrates on the peripheral surface and arranged horizontally. And a weight bar provided on the peripheral surface with a plurality of ring-shaped grooves fitted to the end of the inner peripheral portion of the donut-shaped substrate and having substantially the same pitch as the ring-shaped grooves of the spindle. The doughnut-shaped substrate surface treatment apparatus is mainly composed of the above-described spindle rotation mechanism.

【0010】そして、本発明の第2の要旨は、上記の装
置を用いた表面処理方法であって、複数枚のドーナツ状
基板の各中空部にスピンドルを挿入し、スピンドルの各
リング状溝内に各ドーナツ状基板の内周部の上側の端部
を嵌合させてドーナツ状基板を吊り下げ、更に、複数枚
のドーナツ状基板の各中空部とスピンドルとの間隙にウ
エイトバーを挿入し、各ドーナツ状基板の内周部の下側
の端部にウエイトバーの各リング状溝内を嵌合させて各
ドーナツ状基板の中空部にウエイトバーを載置し、次い
で、複数枚のドーナツ状基板を処理液中に浸漬し、スピ
ンドルを回転させつつ表面処理を行うことを特徴とする
ドーナツ状基板の表面処理方法に存する。
A second aspect of the present invention is a surface treatment method using the above-mentioned apparatus, wherein a spindle is inserted into each hollow portion of a plurality of donut-shaped substrates, and each of the ring-shaped grooves of the spindle is inserted. The donut-shaped substrate is hung by fitting the upper end of the inner peripheral portion of each donut-shaped substrate to, and further, a weight bar is inserted into the gap between each hollow portion of the plurality of donut-shaped substrates and the spindle, Fit the inside of each ring-shaped groove of the weight bar to the lower end of the inner peripheral portion of each donut-shaped substrate, place the weight bar in the hollow part of each donut-shaped substrate, and then place multiple donut-shaped substrates. A doughnut-shaped substrate surface treatment method is characterized by immersing the substrate in a treatment liquid and performing surface treatment while rotating a spindle.

【0011】以下、本発明を詳細に説明する。先ず、本
発明の表面処理装置の一例について説明する。図1は、
本発明の表面処理装置の要部の拡大図であって、表面処
理装置にドーナツ状基板をセットした状態の側面説明
図、図2は、本発明の表面処理装置の要部の拡大図であ
って、表面処理装置にドーナツ状基板をセットした状態
の端面説明図、図3は、本発明の表面処理装置にドーナ
ツ状基板をセットする際のスピンドルとウエイトバーと
の位置関係を示す説明図、図4は、本発明の表面処理装
置を用いた表面処理の準備状態を示す説明図、図5は、
本発明の表面処理装置を用いた表面処理の準備状態であ
って、ドーナツ状基板のセット作業状態を示す説明図、
図6は、図5に示す要部の拡大説明図である。
The present invention will be described in detail below. First, an example of the surface treatment apparatus of the present invention will be described. Figure 1
FIG. 3 is an enlarged view of a main part of the surface treatment apparatus of the present invention, which is a side view showing a state where a donut-shaped substrate is set in the surface treatment apparatus, and FIG. FIG. 3 is an end face explanatory view showing a state where a donut-shaped substrate is set in the surface treatment apparatus, and FIG. 3 is an explanatory view showing a positional relationship between a spindle and a weight bar when setting the donut-shaped substrate in the surface treatment apparatus of the present invention. FIG. 4 is an explanatory view showing a preparation state for surface treatment using the surface treatment apparatus of the present invention, and FIG.
An explanatory view showing a setting state of a donut-shaped substrate in a preparation state for surface treatment using the surface treatment apparatus of the present invention,
FIG. 6 is an enlarged explanatory view of the main part shown in FIG.

【0012】本発明の表面処理装置は、図1及び図2に
示す様に、ドーナツ状基板(7)の内周部の端部(7
1)に嵌合する複数個のリング状溝(15v)、・・・
を周面に設け且つ水平に配置されたスピンドル(15)
と、ドーナツ状基板の内周部の端部(71)に嵌合し且
つ上記のスピンドルのリング状溝(15v)と実質的に
同一ピッチを有する複数個のリング状溝(16v)、・
・・を周面に設けたウエイトバー(16)と、上記のス
ピンドルの回転機構とから主として構成される。なお、
スピンドルの回転機構については後述する。
The surface treatment apparatus of the present invention, as shown in FIGS. 1 and 2, has an end portion (7) of the inner peripheral portion of the donut-shaped substrate (7).
A plurality of ring-shaped grooves (15v) that fit in 1), ...
(15) with a peripheral surface and a horizontal arrangement
And a plurality of ring-shaped grooves (16v) fitted to the end portion (71) of the inner peripheral portion of the donut-shaped substrate and having substantially the same pitch as the ring-shaped groove (15v) of the spindle.
.. is mainly constituted by the weight bar (16) provided on the peripheral surface and the spindle rotating mechanism. In addition,
The rotation mechanism of the spindle will be described later.

【0013】スピンドル(15)は、処理液に不活性な
材質にて構成され、通常、金属、セラミック、プラスチ
ック等の中から処理液の種類を考慮して選択される。ポ
リプロピレンでステンレスやオーステナイト系合金の芯
棒を被覆した材料などは好適に用いられる。スピンドル
(15)の周面に設けられる1つのリング状溝(15
v)は、全周面に亘る一条のリング状溝として軸線に対
して垂直方向に形成される。そして、リング状溝(15
v)の形状は、特に限定されず、凹形状、V形状、U形
状などの形状を適宜採用することが出来るが、凹形状の
水平底部をV形状とした溝が好適に採用される。
The spindle (15) is made of a material inert to the processing liquid, and is usually selected from metals, ceramics, plastics and the like in consideration of the type of the processing liquid. A material obtained by coating a core rod of stainless steel or an austenitic alloy with polypropylene is preferably used. One ring-shaped groove (15) provided on the peripheral surface of the spindle (15)
v) is formed in a direction perpendicular to the axis as a single ring-shaped groove extending over the entire peripheral surface. Then, the ring-shaped groove (15
The shape of v) is not particularly limited, and a concave shape, a V shape, a U shape, or the like can be adopted as appropriate, but a groove having a V-shaped concave bottom is preferably adopted.

【0014】また、リング状溝(15v)の幅や深さ等
は、ドーナツ状基板(7)のサイズに応じ、ドーナツ状
基板(7)の内周部の端部(71)にリング状溝(15
v)が十分に嵌合し得る様に適宜決定される。そして、
複数個のリング状溝(15v)の相互の間隔(ピッチ)
及びその個数は、特に制限されず、スピンドル(15)
にセットするドーナツ状基板(7)の数(処理能力)等
を勘案して適宜の間隔を選択することが出来る。
The width, depth, etc. of the ring-shaped groove (15v) depend on the size of the donut-shaped substrate (7), and the ring-shaped groove is formed in the end portion (71) of the inner peripheral portion of the donut-shaped substrate (7). (15
v) is appropriately determined so that it can be fitted sufficiently. And
Mutual spacing (pitch) between a plurality of ring-shaped grooves (15v)
And the number thereof is not particularly limited, and the spindle (15)
An appropriate interval can be selected in consideration of the number (processing capacity) of the donut-shaped substrates (7) set in the above.

【0015】しかしながら、ドーナツ状基板(7)とし
て、非磁性材料から成るドーナツ状基板を用いて磁気デ
ィスク基盤を製造する場合は、通常、斯かるドーナツ状
基板は、25枚を一組としてカセットに収容されて取引
され、しかも、基盤間隔は、通常0.247〜0.25
3インチの範囲、標準的には0.250インチ(6.3
5mm)となされているため、複数個のリング状溝(1
5v)の相互の間隔(ピッチ)は、上記の基盤間隔と同
一の間隔とするのが都合が良い。
However, when a magnetic disk substrate is manufactured by using a donut-shaped substrate made of a non-magnetic material as the donut-shaped substrate (7), usually 25 such donut-shaped substrates are set in a cassette. It is housed and traded, and the board interval is usually 0.247 to 0.25.
3 inch range, typically 0.250 inch (6.3
5 mm), it has multiple ring-shaped grooves (1
It is convenient that the mutual spacing (pitch) of 5v) is the same spacing as the above-mentioned substrate spacing.

【0016】ウエイトバー(16)は、スピンドル(1
5)と同様に、処理液に不活性な材質にて構成される
が、特に、テフロンでステンレスやオーステナイト系合
金の芯棒を被覆した材料は、ドーナツ状基板(7)との
滑り性が良好であるために好適に用いられる。ウエイト
バー(16)の周面に設けられる1つのリング状溝(1
6v)は、全周面に亘る一条のリング状溝として軸線に
対して垂直方向に形成される。そして、リング状溝(1
6v)の形状は、特に限定されず、スピンドル(15)
のリング状溝(15v)と同様の形状を適宜採用するこ
とが出来るが、V形状またはU形状が好適に採用され
る。
The weight bar (16) has a spindle (1
Similar to 5), it is composed of a material that is inert to the processing liquid, but especially the material in which the core rod of stainless steel or austenite alloy is coated with Teflon has good slidability with the donut-shaped substrate (7). Therefore, it is preferably used. One ring-shaped groove (1 provided on the peripheral surface of the weight bar (16)
6v) is formed in the direction perpendicular to the axis as a single ring-shaped groove extending over the entire peripheral surface. Then, the ring-shaped groove (1
The shape of 6v) is not particularly limited, and the spindle (15)
The shape similar to the ring-shaped groove (15v) can be appropriately adopted, but the V shape or the U shape is preferably adopted.

【0017】また、リング状溝(16v)の幅や深さ等
は、リング状溝(15v)の場合と同様の基準で適宜決
定されるが、複数個のリング状溝(16v)の相互の間
隔(ピッチ)は、スピンドル(15)の複数個のリング
状溝(15v)の相互の間隔(ピッチ)と実質的同一で
なければならない。ウエイトバー(16)のリング状溝
(16v)におけるピッチとスピンドル(15)のリン
グ状溝(15v)におけるピッチとが著しく異なる場合
は、スピンドル(15)に複数枚のドーナツ状基板
(7)をセットした際、ドーナツ状基板(7)を垂直に
保持出来ないばかりか、隣接するドーナツ状基板(7)
同志の端部が接触することになる。
The width, depth, etc. of the ring-shaped groove (16v) are appropriately determined according to the same criteria as in the case of the ring-shaped groove (15v). The spacing (pitch) should be substantially the same as the spacing (pitch) between the plurality of ring-shaped grooves (15v) of the spindle (15). When the pitch in the ring-shaped groove (16v) of the weight bar (16) and the pitch in the ring-shaped groove (15v) of the spindle (15) are significantly different, a plurality of donut-shaped substrates (7) are attached to the spindle (15). When set, not only donut-shaped substrates (7) cannot be held vertically, but also adjacent donut-shaped substrates (7)
The ends of the comrades will come into contact.

【0018】スピンドル(15)及びウエイトバー(1
6)は、共に、ドーナツ状基板(7)の各中空部に挿入
される。従って、これらの外径は、ドーナツ状基板
(7)の各中空部への挿入作業を勘案した所定の大きさ
とされる。通常、ウエイトバー(16)の外径は、スピ
ンドル(15)の外径より小さくされる。スピンドル
(15)に複数枚のドーナツ状基板(7)をセットする
操作の詳細は後述するが、通常、ドーナツ状基板(7)
の中空部とスピンドル(15)との間隙にウエイトバー
(16)を挿入する。
The spindle (15) and the weight bar (1
6) are both inserted into each hollow part of the donut-shaped substrate (7). Therefore, these outer diameters have a predetermined size in consideration of the work of inserting the doughnut-shaped substrate (7) into each hollow portion. Usually, the outer diameter of the weight bar (16) is made smaller than the outer diameter of the spindle (15). The details of the operation of setting a plurality of donut-shaped substrates (7) on the spindle (15) will be described later, but usually, the donut-shaped substrates (7) are set.
The weight bar (16) is inserted in the gap between the hollow part of the spindle and the spindle (15).

【0019】本発明においては、スピンドル(15)及
びウエイトバー(16)の外径を必要以上に小さくする
ことなく、ウエイトバー(16)の上記の挿入操作を容
易にするため、図3に示す様に、スピンドル(15)及
びウエイトバー(16)何れか一方の軸線方向の周面に
他方の周面を嵌合し得る一条の切欠部を設けるのが好ま
しい。
In the present invention, in order to facilitate the above insertion operation of the weight bar (16) without making the outer diameters of the spindle (15) and the weight bar (16) unnecessarily small, it is shown in FIG. As described above, it is preferable to provide a single cutout portion capable of fitting the peripheral surface of one of the spindle (15) and the weight bar (16) in the axial direction with the other peripheral surface.

【0020】図3に示した上記の切欠部は、スピンドル
(15)側に形成されたリング状溝(15r)(突起
(15p)の左右のリング状溝を指す)にて構成されて
いるが、ウエイトバー(16)の上記の挿入操作を一層
容易にするため、リング状溝(15r)の中心部には、
軸線方向に沿った一条の突起(15p)を形成し、ウエ
イトバー(16)の軸線方向の周面には、突起(15
p)に嵌合するリング状溝(16q)を形成している。
The notch shown in FIG. 3 is composed of a ring-shaped groove (15r) formed on the spindle (15) side (referring to the left and right ring-shaped grooves of the protrusion (15p)). In order to make the above-mentioned insertion operation of the weight bar (16) easier,
A single protrusion (15p) is formed along the axial direction, and the protrusion (15p) is formed on the circumferential surface of the weight bar (16) in the axial direction.
The ring-shaped groove (16q) that fits in p) is formed.

【0021】上記の実施態様によれば、スピンドル(1
5)のリング状溝(15r)内にウエイトバー(16)
を嵌合させて両者を重ね合わせることにより、ドーナツ
状基板(7)の中空部とスピンドル(15)との間隙に
ウエイトバー(16)を挿入する操作が容易となり、し
かも、スピンドル(15)の突起(15p)とウエイト
バー(16)のリング状溝(16q)の嵌合により、ス
ピンドル(15)とウエイトバー(16)との上記の重
ね合わせを確実にすることが出来る。
According to the above embodiment, the spindle (1
The weight bar (16) is placed in the ring-shaped groove (15r) of 5).
By fitting the two together and overlapping them, the operation of inserting the weight bar (16) into the gap between the hollow portion of the donut-shaped substrate (7) and the spindle (15) becomes easy, and furthermore, the spindle (15) By fitting the protrusion (15p) and the ring-shaped groove (16q) of the weight bar (16), it is possible to ensure the above-mentioned superposition of the spindle (15) and the weight bar (16).

【0022】本発明の表面処理装置は、通常、目的とす
る複数の表面処理を行うために独立した複数の処理槽の
上方を逐次移動でき且つ各処理槽内の処理液中にドーナ
ツ状基板を浸漬し得る様に昇降自在に構成されて用いら
れる。斯かる実施態様は、例えば、図4に示す様に、ス
ライダー(2)、懸垂治具(21)、昇降機構(2
2)、搬送レール(3)を利用して実現することが出来
る。
The surface treatment apparatus of the present invention is generally capable of successively moving over a plurality of independent processing baths for performing a plurality of target surface treatments, and a donut-shaped substrate is placed in the processing liquid in each processing bath. It is configured so that it can be moved up and down so that it can be immersed. Such an embodiment is, for example, as shown in FIG. 4, a slider (2), a suspension jig (21), a lifting mechanism (2).
2), it can be realized by using the transport rail (3).

【0023】図4に例示した表面処理装置(1)は、そ
の両端部に配置され且つ上端が内方に屈曲した係止部
(11b)、(11b)を設けている。処理槽(5)の
近傍に配置された適宜の支柱の上には、処理槽(5)及
びこれに続く他の処理槽(図示せず)に平行して且つ水
平に搬送レール(3)が架設されている。搬送レール
(3)上を走行するスライダー(2)は、スクリュー方
式、チエン方式などの昇降機構(22)を備え、当該昇
降機構の水平アームの先端には、逆T字型の懸垂治具
(21)を設け、当該懸垂治具は、昇降機構(22)に
よって昇降自在になされている。符合(23)は昇降機
構(22)の駆動モーターである。図4に示す状態は、
表面処理装置(1)の係止部(11b)、(11b)間
に懸垂治具(21)のT字部を係合させ、表面処理装置
(1)を処理槽(5)の上部に懸垂した状態を示してい
る。
The surface treatment apparatus (1) illustrated in FIG. 4 is provided with locking portions (11b) and (11b) which are arranged at both ends and whose upper ends are bent inward. A transfer rail (3) is horizontally and parallel to the processing tank (5) and other processing tanks (not shown) following the processing tank (5) on an appropriate support column arranged in the vicinity of the processing tank (5). It is installed. The slider (2) traveling on the transport rail (3) is provided with an elevating mechanism (22) such as a screw type or a chain type, and an inverted T-shaped suspension jig ( 21) is provided, and the suspension jig can be raised and lowered by an elevating mechanism (22). Reference numeral (23) is a drive motor of the lifting mechanism (22). The state shown in FIG.
The T-shaped part of the suspension jig (21) is engaged between the locking parts (11b) and (11b) of the surface treatment device (1), and the surface treatment device (1) is suspended above the treatment tank (5). It shows the state of being done.

【0024】また、本発明の表面処理装置において、ス
ピンドル(15)の回転機構には、例えば、図5及び図
6に例示する歯車列を利用することが出来る。すなわ
ち、図示された回転機構は、係止部(11b)、(11
b)にて支持された水平フレーム(11a)と、その下
部の左右に設けられた軸受け(12c)、(12c)
と、これらの軸受けによって水平に支承された回転軸
(12)と、当該回転軸の略中央部に嵌合する歯車(1
2g)と、当該歯車と列をなす歯車(14g)及び(1
5g)と、水平フレーム(11a)の上端部に配置され
たモーター(13)と、当該モーターの回転駆動を回転
軸(12)に伝達するスプロケット(13s)及び(1
2S)及びチェーン(12c)によって構成されてい
る。
Further, in the surface treatment apparatus of the present invention, the gear train illustrated in FIGS. 5 and 6 can be used for the rotation mechanism of the spindle (15). That is, the illustrated rotation mechanism has locking portions (11b), (11
The horizontal frame (11a) supported by b), and the bearings (12c), (12c) provided on the left and right under the horizontal frame (11a).
And a rotary shaft (12) supported horizontally by these bearings, and a gear (1) fitted in a substantially central portion of the rotary shaft.
2g) and gears (14g) and (1
5g), a motor (13) arranged at the upper end of the horizontal frame (11a), and sprockets (13s) and (1) for transmitting the rotational drive of the motor to the rotary shaft (12).
2S) and a chain (12c).

【0025】歯車(14g)及び(15g)は、歯車
(12g)を挟み込む状態にて水平フレーム(11a)
の略中央部に設けられた左右の垂直フレーム(14)、
(14)の間に適宜の手段で配置されている。そして、
歯車(15g)には、スピンドル(15)が嵌合されて
おり、モーター(13)の回転駆動は、スプロケット
(13s)、チェーン(12c)、スプロケット(12
S)、回転軸(12)、歯車(12g)、(14g)、
(15g)を介してスピンドル(15)に伝達される。
なお、図示した例においては、左右の周面に複数個のリ
ング状溝(15v)を設けたスピンドル(15)を用
い、その中央に歯車(15g)を嵌合させることによ
り、スピンドル(15)の左右にそれぞれ複数枚のドー
ナツ状基板(7)をセットし得る様にしている。
The gears (14g) and (15g) are placed in the horizontal frame (11a) with the gear (12g) sandwiched therebetween.
Left and right vertical frames (14) provided in the substantially central part of the
It is arranged by an appropriate means between (14). And
A spindle (15) is fitted to the gear (15g), and the rotation of the motor (13) is driven by a sprocket (13s), a chain (12c), and a sprocket (12).
S), rotary shaft (12), gear (12g), (14g),
It is transmitted to the spindle (15) via (15g).
In the illustrated example, a spindle (15) having a plurality of ring-shaped grooves (15v) provided on the left and right peripheral surfaces is used, and a gear (15g) is fitted in the center of the spindle (15), so that the spindle (15) A plurality of donut-shaped substrates (7) can be set on each of the left and right sides of the.

【0026】スピンドル(15)へのドーナツ状基板
(7)のセットは、図5及び図6に例示するドーナツ状
基板着脱装置(4)を用いて効率的に行うことが出来
る。ドーナツ状基板着脱装置(4)は、上部開放型(コ
の字型)の架台(41)と、当該架台の内部に所定の下
部空間を設けて配置され且つ略中央部に空間部を有する
水平基台(42)と、該水平基台の上に配置されるカセ
ット移動機構(43)と、架台(41)の下部に配置さ
れた昇降機構(44)とから構成されている。
The donut-shaped substrate (7) can be set on the spindle (15) efficiently by using the donut-shaped substrate attaching / detaching device (4) illustrated in FIGS. 5 and 6. The doughnut-shaped substrate attaching / detaching device (4) is an open upper (U-shaped) pedestal (41) and a horizontal space having a predetermined lower space inside the gantry and having a space portion at a substantially central portion. It is composed of a base (42), a cassette moving mechanism (43) arranged on the horizontal base, and an elevating mechanism (44) arranged under the frame (41).

【0027】そして、架台(41)の左右両端には、ス
ピンドル(15)の回転機構を係止する端部支持部(4
1e)が設けられ、架台(41)の底部の略中央部(水
平基台(42)の空間部に対向する位置)には、上記の
回転機構が支持部(41e)に係止された状態におい
て、上記の回転機構(垂直フレーム(14)、(1
4))が当接する中央支持部(41f)が設けられてい
る。
At the left and right ends of the pedestal (41), end support portions (4) for locking the rotating mechanism of the spindle (15).
1e) is provided, and the rotation mechanism described above is locked to the support portion (41e) at a substantially central portion of the bottom of the gantry (41) (position facing the space of the horizontal base (42)). In the rotating mechanism (vertical frame (14), (1
4)) is in contact with the central support portion (41f).

【0028】上記のカセット移動機構(43)は、レー
ル(43r)と、その底部に設けた走行用ローラー(4
3s)によってレール(43r)上を走行するカセット
台(43a)と、当該カセット台の上に載置される上方
開放型のカセット(6)にて構成されている。図示した
例においては、カセット移動機構(43)は、水平基台
(42)の中央部の空間部の左右に2組配置され、スピ
ンドル(15)の左右にそれぞれ複数枚のドーナツ状基
板(7)をセットし得る様にしている。また、上記の昇
降機構(44)は、例えば、油圧式のジャッキ装置にて
構成することが出来る。
The cassette moving mechanism (43) has a rail (43r) and a traveling roller (4) provided at the bottom thereof.
It is composed of a cassette table (43a) that travels on the rail (43r) by 3s) and an upper open type cassette (6) that is placed on the cassette table. In the illustrated example, two sets of the cassette moving mechanism (43) are arranged on the left and right of the central space of the horizontal base (42), and a plurality of donut-shaped substrates (7) are arranged on the left and right of the spindle (15). ) Can be set. Further, the elevating mechanism (44) can be configured by, for example, a hydraulic jack device.

【0029】次に、上記のドーナツ状基板着脱装置
(4)を利用した本発明の表面処理方法について説明す
る。本発明の表面処理方法においては、複数枚のドーナ
ツ状基板(7)の各中空部にスピンドル(15)を挿入
し、スピンドル(15)の各リング状溝(15v)内に
各ドーナツ状基板(15)の内周部の上側の端部(7
1)を嵌合させてドーナツ状基板(15)を吊り下げ、
更に、複数枚のドーナツ状基板(7)の各中空部とスピ
ンドル(15)との間隙にウエイトバー(16)を挿入
し、各ドーナツ状基板(7)の内周部の下側の端部(7
1)にウエイトバー(16)の各リング状溝(16v)
内を嵌合させて各ドーナツ状基板(7)の中空部にウエ
イトバー(16)を載置し、次いで、複数枚のドーナツ
状基板(7)を処理液中に浸漬し、スピンドル(15)
を回転させつつ表面処理を行う。
Next, the surface treatment method of the present invention using the above-mentioned donut-shaped substrate attaching / detaching device (4) will be described. In the surface treatment method of the present invention, the spindle (15) is inserted into each hollow portion of the plurality of donut-shaped substrates (7), and each donut-shaped substrate (in each ring-shaped groove (15v) of the spindle (15) ( 15) the upper end of the inner circumference (7)
1) is fitted and the donut-shaped substrate (15) is hung,
Further, a weight bar (16) is inserted into the gap between each hollow portion of the plurality of donut-shaped substrates (7) and the spindle (15), and the lower end of the inner peripheral portion of each donut-shaped substrate (7) is inserted. (7
1) Each ring-shaped groove (16v) of the weight bar (16)
The weight bar (16) is placed in the hollow portion of each donut-shaped substrate (7) by fitting the inside, and then, the plurality of donut-shaped substrates (7) is immersed in the treatment liquid, and the spindle (15)
Surface treatment is performed while rotating.

【0030】ドーナツ状基板(7)としては、スピンド
ル(15)のリング状溝(15v)内に吊り下げられた
際、垂直に自立可能な硬度を有するドーナツ状基板が対
象とされる。斯かるドーナツ状基板としては、例えば、
磁気ディスク基盤、光ディスク基盤が代表的である。こ
れらの基盤は、アルミニウム、セラミックス、ガラス、
プラスチックス等の非磁性材料にて構成されている。
The donut-shaped substrate (7) is intended to be a donut-shaped substrate having a hardness that allows it to stand vertically vertically when suspended in the ring-shaped groove (15v) of the spindle (15). As such a donut-shaped substrate, for example,
A magnetic disk base and an optical disk base are typical. These substrates are made of aluminum, ceramics, glass,
It is made of non-magnetic material such as plastics.

【0031】先ず、本発明の表面処理方法においては、
カセット移動機構(43)の上に複数枚のドーナツ状基
板(7)を収容したカセット(6)を載置し、昇降機構
(44)を駆動させて架台(41)を上昇させ、そし
て、架台(41)の端部支持部(41e)と中央支持部
(41f)によってスピンドル(15)の回転機構を静
止させ、次いで、カセット移動機構(43)のカセット
台(43a)をレール(43r)上を走行させて複数枚
のドーナツ状基板(7)の各中空部にスピンドル(1
5)を挿入する。
First, in the surface treatment method of the present invention,
A cassette (6) accommodating a plurality of donut-shaped substrates (7) is placed on the cassette moving mechanism (43), the elevating mechanism (44) is driven to raise the gantry (41), and the gantry. The rotation mechanism of the spindle (15) is stopped by the end support portion (41e) and the central support portion (41f) of (41), and then the cassette base (43a) of the cassette moving mechanism (43) is placed on the rail (43r). The doughnut-shaped substrates (7) to move the spindle (1
Insert 5).

【0032】次いで、昇降機構(44)を駆動させて架
台(41)を降下させることにより、スピンドル(1
5)の各リング状溝(15v)内に各ドーナツ状基板
(7)の内周部の上側の端部(71)を嵌合させてドー
ナツ状基板(7)を吊り下げる。そして、ドーナツ状基
板(7)の中空部とスピンドル(15)との間隙にウエ
イトバー(16)を挿入し、各ドーナツ状基板(7)の
内周部の下側の端部(71)にウエイトバー(16)の
各リング状溝(16v)を嵌合させて各ドーナツ状基板
(7)の中空部にウエイトバー(16)を載置する。
Then, the elevating mechanism (44) is driven to lower the pedestal (41) to move the spindle (1
The upper end portion (71) of the inner peripheral portion of each donut-shaped substrate (7) is fitted into each ring-shaped groove (15v) of 5) to suspend the donut-shaped substrate (7). Then, the weight bar (16) is inserted into the gap between the hollow portion of the donut-shaped substrate (7) and the spindle (15), and the weight bar (16) is inserted into the lower end (71) of the inner peripheral portion of each donut-shaped substrate (7). The ring-shaped groove (16v) of the weight bar (16) is fitted and the weight bar (16) is placed in the hollow portion of each donut-shaped substrate (7).

【0033】なお、カセット(6)として、上部および
側部開放型のカセットを用いた場合は、複数枚のドーナ
ツ状基板(7)の各中空部にスピンドル(15)を挿入
した後、架台(41)を降下させる前に、ウエイトバー
(16)のセットを行うことも出来る。
When the upper and side open type cassettes are used as the cassette (6), the spindle (15) is inserted into each hollow portion of the plurality of donut-shaped substrates (7) and then the pedestal ( It is also possible to set the weight bar (16) before lowering 41).

【0034】次いで、前述の昇降機構(22)によって
表面処理装置(1)を上昇させ、スライダー(2)によ
って目的とする処理槽の上方に移動させ、昇降機構(2
2)によって降下させて複数枚のドーナツ状基板(7)
を処理液中に浸漬し、スピンドル(15)を回転させつ
つ表面処理を行う。
Then, the surface treatment apparatus (1) is raised by the elevating mechanism (22) described above, and is moved to the upper side of the target treatment tank by the slider (2), and the elevating mechanism (2) is moved.
2) Dropped by donut-shaped substrates (7)
Is immersed in the treatment liquid, and the surface treatment is performed while rotating the spindle (15).

【0035】本発明の表面処理装置および表面処理方法
においては、スピンドル(15)の回転により、ドーナ
ツ状基板(7)は、スピンドル(15)のリング状溝
(15v)内で自転しながら公転し、また、ウエイトバ
ー(16)はドーナツ状基板(7)の内周部の端部(7
1)で回転しながら公転する。そして、斯かる状態で行
われる表面処理においては、ドーナツ状基板(7)は、
相互に平行するスピンドル(15)とウエイトバー(1
6)との各リング状溝(15v)、(16v)によって
保持されているため、ドーナツ状基板(7)がスピンド
ル(15)から外れて落下することがなく、しかも、隣
接するドーナツ状基板(7)の端部が接触することもな
い。
In the surface treatment apparatus and method of the present invention, the donut-shaped substrate (7) revolves in the ring-shaped groove (15v) of the spindle (15) by the rotation of the spindle (15). Further, the weight bar (16) is provided with an end portion (7) of the inner peripheral portion of the donut-shaped substrate (7).
Revolve while rotating in 1). Then, in the surface treatment performed in such a state, the donut-shaped substrate (7) is
Spindle (15) and weight bar (1) parallel to each other
The donut-shaped substrate (7) does not fall off the spindle (15) because it is retained by the ring-shaped grooves (15v) and (16v) with the adjacent donut-shaped substrate (6). The end of 7) does not touch.

【0036】[0036]

【実施例】以下、本発明の表面処理方法を実施例により
更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない
限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、
以下の実施例は、図4に示す移動機構と図5及び図6に
示したスピンドル(15)の回転機構を備えた本発明の
表面処理装置を用い、図7に示すフローシートに従って
磁気ディスク基盤の製造のために行った表面処理の例で
ある。
EXAMPLES The surface treatment method of the present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples as long as the gist thereof is not exceeded. In addition,
The following example uses the surface treatment apparatus of the present invention equipped with the moving mechanism shown in FIG. 4 and the rotating mechanism of the spindle (15) shown in FIGS. 5 and 6, and according to the flow sheet shown in FIG. It is an example of the surface treatment performed for the manufacture of.

【0037】実施例1 スピンドル(15)としては、ポリプロピレンでステン
レス芯棒を被覆した材料にて構成され、全周面に亘る一
条のリング状溝(凹形状の水平底部をV形状とした溝、
リング状溝最大幅:1.5mm、リング状溝深さ:2.
5mm、ピッチ:6.35mm)を有する外径15.0
mmのスピンドルを用い、ウエイトバー(16)として
は、テフロンでオーステナイト系合金の芯棒を被覆した
材料にて構成され、全周面に亘る一条のV形状のリング
状溝(リング状溝最大幅:3.0mm、リング状溝深
さ:2.0mm、ピッチ:6.35mm)を有する外径
6.0mmのウエイトバーを用いた。また、ドーナツ状
基板(7)としては、外径65mm、内径20mm、厚
さ0.635mmであり、25枚を一組として上部開放
型のカセットに収容されたガラス基盤(2.5インチサ
イズ)を2組用いた。
Example 1 The spindle (15) is made of a material in which a stainless steel core rod is coated with polypropylene, and has a single ring-shaped groove (a concave horizontal bottom having a V-shaped groove) over the entire peripheral surface.
Maximum width of ring groove: 1.5 mm, depth of ring groove: 2.
Outer diameter 15.0 with 5 mm, pitch: 6.35 mm)
mm spindle, and the weight bar (16) is made of a material in which a core rod of austenitic alloy is coated with Teflon, and has a single V-shaped ring-shaped groove (ring-shaped groove maximum width over the entire circumferential surface). : 3.0 mm, ring-shaped groove depth: 2.0 mm, pitch: 6.35 mm), and a weight bar having an outer diameter of 6.0 mm was used. Further, the donut-shaped substrate (7) has an outer diameter of 65 mm, an inner diameter of 20 mm, and a thickness of 0.635 mm, and a glass substrate (2.5 inch size) housed as a set of 25 sheets in an upper open cassette. 2 sets were used.

【0038】先ず、左右のカセット移動機構(43)の
上に2組のカセット(6)をそれぞれ載置し、昇降機構
(44)を駆動させて架台(41)を上昇させ、そし
て、架台(41)の端部支持部(41e)と中央支持部
(41f)に係合させてスピンドル(15)の回転機構
を静止させ、次いで、カセット移動機構(43)のカセ
ット台(43a)をレール(43r)上を走行させて各
組のドーナツ状基板(7)の各中空部に左右のスピンド
ル(15)を挿入した。
First, two sets of cassettes (6) are respectively placed on the left and right cassette moving mechanisms (43), the elevating mechanism (44) is driven to raise the gantry (41), and then the gantry ( 41) is engaged with the end support portion (41e) and the central support portion (41f) to make the rotation mechanism of the spindle (15) stand still, and then the cassette base (43a) of the cassette moving mechanism (43) is connected to the rail ( 43r), the left and right spindles (15) were inserted into the hollow parts of the doughnut-shaped substrates (7) of each set.

【0039】次いで、昇降機構(44)を駆動させて架
台(41)を降下させることにより、スピンドル(1
5)の各リング状溝(15v)内に各ドーナツ状基板
(7)の内周部の上側の端部(71)を嵌合させてドー
ナツ状基板(7)を吊り下げた。そして、ドーナツ状基
板(7)の中空部とスピンドル(15)との間隙にウエ
イトバー(16)を挿入し、各ドーナツ状基板(7)の
内周部の下側の端部(71)にウエイトバー(16)の
各リング状溝(16v)を嵌合させて各ドーナツ状基板
(7)の中空部にウエイトバー(16)を載置した。
Then, the elevating mechanism (44) is driven to lower the gantry (41) to move the spindle (1
The donut-shaped substrate (7) was suspended by fitting the upper end portion (71) of the inner peripheral portion of each donut-shaped substrate (7) into each ring-shaped groove (15v) of 5). Then, the weight bar (16) is inserted into the gap between the hollow portion of the donut-shaped substrate (7) and the spindle (15), and the weight bar (16) is inserted into the lower end (71) of the inner peripheral portion of each donut-shaped substrate (7). The ring-shaped groove (16v) of the weight bar (16) was fitted and the weight bar (16) was placed in the hollow portion of each donut-shaped substrate (7).

【0040】次いで、昇降機構(22)によって表面処
理装置(1)を上昇させ、スライダー(2)によって脱
脂工程(S1 )のアルカリ処理槽の上方に移動させ、昇
降機構(22)によって降下させ、アルカリ水溶液中に
ドーナツ状基板(7)を浸漬し、スピンドル(15)を
回転させつつ表面処理を行った。スピンドル(15)の
回転数は、6rpmに制御した。
Next, the elevating mechanism (22) raises the surface treatment apparatus (1), the slider (2) moves it to above the alkaline treatment tank in the degreasing step (S 1 ), and the elevating mechanism (22) lowers it. The doughnut-shaped substrate (7) was immersed in an alkaline aqueous solution, and surface treatment was performed while rotating the spindle (15). The rotation speed of the spindle (15) was controlled at 6 rpm.

【0041】次いで、昇降機構(22)によって表面処
理装置(1)を上昇させ、スライダー(2)によって水
洗工程(S2 )の純水洗浄槽の上方に移動させ、昇降機
構(22)によって降下させ、純水中にドーナツ状基板
(7)を浸漬し、スピンドル(15)を回転させつつ表
面処理を行った。スピンドル(15)の回転数は、6r
pmに制御した。
Next, the elevating mechanism (22) raises the surface treatment apparatus (1), the slider (2) moves it to above the pure water cleaning tank in the water washing step (S 2 ), and the elevating mechanism (22) lowers it. Then, the doughnut-shaped substrate (7) was immersed in pure water, and the surface treatment was performed while rotating the spindle (15). The rotation speed of the spindle (15) is 6r
Controlled to pm.

【0042】以下、上記と同様の操作を繰り返し、図7
に示すフローシートに従って、中和工程(S3 )から無
電解Ni−Pめっき工程(S 9)に至る複数の表面処理
工程による処理を行い、ガラス基盤の表面に厚さ0.1
5μmのNi−Pめっき層を形成した。なお、各工程に
おける液組成、温度、pH等の条件は、公知の通常の条
件を採用した。そして、得られた磁気ディスク基盤の表
面の傷の有無を調査した。調査は、オリンパス光学社製
の照明装置「MODEL−LSD」を利用して目視観察
により行った。50枚のガラス基盤には、何れも、傷の
発生はなく、めっき歩留りは100%であった。
Thereafter, the same operation as described above is repeated, and FIG.
In accordance with the flow sheet shown in FIG. 1, a plurality of surface treatment steps from the neutralization step (S 3 ) to the electroless Ni-P plating step (S 9 ) are performed, and the surface of the glass substrate is exposed to a thickness of 0.1.
A Ni-P plated layer having a thickness of 5 μm was formed. The conditions such as liquid composition, temperature, and pH used in each step were known and ordinary conditions. Then, the presence or absence of scratches on the surface of the obtained magnetic disk substrate was investigated. The investigation was performed by visual observation using an illuminating device "MODEL-LSD" manufactured by Olympus Optical Co. No scratch was generated on any of the 50 glass substrates, and the plating yield was 100%.

【0043】実施例2 実施例1において、ドーナツ状基板(7)として、外径
48mm、内径12mm、厚さ0.381mmのガラス
基盤(1.8インチサイズ)を用いた以外は、実施例1
と同様に操作して磁気ディスク基盤を得、その表面の傷
の有無を調査した。50枚のガラス基盤には、何れも、
傷の発生はなく、めっき歩留りは100%であった。
Example 2 Example 1 was repeated except that a glass substrate (1.8 inch size) having an outer diameter of 48 mm, an inner diameter of 12 mm and a thickness of 0.381 mm was used as the doughnut-shaped substrate (7).
A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in (1) and examined for scratches on its surface. Each of the 50 glass substrates,
No scratch was generated and the plating yield was 100%.

【0044】比較例1及び比較例2 実施例1及び又は比較例1において、それぞれ、ウエイ
トバー(16)を用いなかった以外は、各実施例とと同
様に操作して磁気ディスク基盤を得、その表面の傷の有
無を調査した。比較例1は、実施例1に対応して2.5
インチサイズのガラス基盤を用いた例であり、比較例2
は、実施例2に対応して1.8インチサイズのガラス基
盤を用いた例である。何れの比較例においても、50枚
のガラス基盤中、全てのガラス基盤に傷が発生してお
り、めっき歩留りは0%であった。
Comparative Example 1 and Comparative Example 2 A magnetic disk substrate was obtained in the same manner as in Example 1 and / or Comparative Example 1 except that the weight bar (16) was not used. The presence or absence of scratches on the surface was investigated. Comparative Example 1 corresponds to Example 1 with 2.5
This is an example using an inch size glass substrate, and Comparative Example 2
Is an example in which a glass substrate having a size of 1.8 inches is used corresponding to Example 2. In each of the comparative examples, all of the 50 glass substrates had scratches, and the plating yield was 0%.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上説明した本発明によれば、複数枚の
ドーナツ状基板を同時に表面処理するための装置および
方法であって、特に、処理中における隣接する基盤同志
の接触問題を解決した表面処理装置および表面処理方法
が提供され、本発明の工業的価値は顕著である。
According to the present invention described above, there is provided an apparatus and method for simultaneously surface-treating a plurality of donut-shaped substrates, and in particular, a surface which solves the contact problem between adjacent substrates during processing. A treatment apparatus and a surface treatment method are provided, and the industrial value of the present invention is remarkable.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の表面処理装置の要部の拡大図であっ
て、表面処理装置にドーナツ状基板をセットした状態の
側面説明図である。
FIG. 1 is an enlarged view of a main part of a surface treatment apparatus of the present invention, which is a side view showing a state where a donut-shaped substrate is set in the surface treatment apparatus.

【図2】本発明の表面処理装置の要部の拡大図であっ
て、表面処理装置にドーナツ状基板をセットした状態の
端面説明図である。
FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the surface treatment apparatus of the present invention, which is an end face explanatory view in a state where a donut-shaped substrate is set in the surface treatment apparatus.

【図3】本発明の表面処理装置にドーナツ状基板をセッ
トする際のスピンドルとウエイトバーとの位置関係を示
す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a positional relationship between a spindle and a weight bar when setting a donut-shaped substrate in the surface treatment apparatus of the present invention.

【図4】本発明の表面処理装置を用いた表面処理の準備
状態を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a preparation state for surface treatment using the surface treatment apparatus of the present invention.

【図5】本発明の表面処理装置を用いた表面処理の準備
状態であって、ドーナツ状基板のセット作業状態を示す
説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a setting operation state of a donut-shaped substrate in a preparation state for surface treatment using the surface treatment apparatus of the present invention.

【図6】図5に示す要部の拡大説明図である。FIG. 6 is an enlarged explanatory view of a main part shown in FIG.

【図7】無電解Ni−Pめっき工程(S 9)を採用した
無磁気ディスク基盤の製造工程の一例を示すフローシー
トである。
FIG. 7 is a flow sheet showing an example of a manufacturing process of a magneticless disk substrate that employs an electroless Ni—P plating process (S 9 ).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

7:ドーナツ状基板 71:ドーナツ状基板の内周部の端部 15:スピンドル 15v:リング状溝 16:ウエイトバー 16v:リング状溝 7: Donut-shaped substrate 71: End of inner peripheral portion of donut-shaped substrate 15: Spindle 15v: Ring-shaped groove 16: Weight bar 16v: Ring-shaped groove

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数枚のドーナツ状基板を同時に表面処
理するための装置であって、ドーナツ状基板の内周部の
端部に嵌合する複数個のリング状溝を周面に設け且つ水
平に配置されたスピンドルと、ドーナツ状基板の内周部
の端部に嵌合し且つ上記のスピンドルのリング状溝と実
質的に同一ピッチを有する複数個のリング状溝を周面に
設けたウエイトバーと、上記のスピンドルの回転機構と
から主として構成されることを特徴とするドーナツ状基
板の表面処理装置。
1. An apparatus for simultaneously surface-treating a plurality of donut-shaped substrates, wherein a plurality of ring-shaped grooves fitted to the end portions of the inner peripheral portion of the donut-shaped substrates are provided on the peripheral surface and horizontal. And a plurality of ring-shaped grooves fitted on the end of the inner peripheral portion of the donut-shaped substrate and having substantially the same pitch as the ring-shaped grooves of the spindle on the peripheral surface. A doughnut-shaped substrate surface treatment apparatus comprising a bar and the above-described spindle rotation mechanism.
【請求項2】 請求項1に記載の装置を用いた表面処理
方法であって、複数枚のドーナツ状基板の各中空部にス
ピンドルを挿入し、スピンドルの各リング状溝内に各ド
ーナツ状基板の内周部の上側の端部を嵌合させてドーナ
ツ状基板を吊り下げ、更に、複数枚のドーナツ状基板の
各中空部とスピンドルとの間隙にウエイトバーを挿入
し、各ドーナツ状基板の内周部の下端部にウエイトバー
の各リング状溝内を嵌合させて各ドーナツ状基板の中空
部にウエイトバーを載置し、次いで、複数枚のドーナツ
状基板を処理液中に浸漬し、スピンドルを回転させつつ
表面処理を行うことを特徴とするドーナツ状基板の表面
処理方法。
2. A surface treatment method using the apparatus according to claim 1, wherein a spindle is inserted into each hollow portion of a plurality of donut-shaped substrates, and each donut-shaped substrate is placed in each ring-shaped groove of the spindle. The donut-shaped substrate is hung by fitting the upper end of the inner periphery of the donut-shaped substrate, and further, a weight bar is inserted in the gap between each hollow portion of the plurality of donut-shaped substrates and the spindle, Fit the inside of each ring-shaped groove of the weight bar to the lower end of the inner peripheral part and place the weight bar in the hollow part of each donut-shaped substrate, and then immerse the donut-shaped substrates in the treatment liquid. A surface treatment method for a donut-shaped substrate, which comprises performing surface treatment while rotating a spindle.
【請求項3】 ドーナツ状基板が非磁性材料から成る基
板であり、表面処理が無電解めっきである請求項2に記
載の表面処理方法。
3. The surface treatment method according to claim 2, wherein the doughnut-shaped substrate is a substrate made of a nonmagnetic material, and the surface treatment is electroless plating.
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