JPH0790243A - Polyimide film adhesive - Google Patents

Polyimide film adhesive

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Publication number
JPH0790243A
JPH0790243A JP25527093A JP25527093A JPH0790243A JP H0790243 A JPH0790243 A JP H0790243A JP 25527093 A JP25527093 A JP 25527093A JP 25527093 A JP25527093 A JP 25527093A JP H0790243 A JPH0790243 A JP H0790243A
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JP
Japan
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diamine
molecular weight
general formula
formula
mol
Prior art date
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Pending
Application number
JP25527093A
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Japanese (ja)
Inventor
Teru Okunoyama
輝 奥野山
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Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Chemical Corp filed Critical Toshiba Chemical Corp
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Publication of JPH0790243A publication Critical patent/JPH0790243A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0393Flexible materials
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/386Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive

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  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Combinations Of Printed Boards (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a polyimide film adhesive containing a specific polyimide resin and a specific rubber having high molecular weight, exhibiting excellent heat-resistance, adhesion and flexibility and suitable for circuit board, etc. CONSTITUTION:This polyimide film adhesive contains (A) a polyimide resin of the formula I {R<1> is tetravalent organic acid residue; >=50mol% of the total acid component constituting the group R<1> is biphenyl ether tetracarboxylic acid of the formula II; R<2> is bivalent diamine residue; 50-99mol% of the total diamine component constituting the group R<2> is diamine compound of the formula III [X is CH2, O, C(CH3)2, SO2 or C(CF3)2] and 50-1mol% is diaminosiloxane of the formula IV (R'' and R' are bivalent organic group; R<5> to R<8> are 1-6C hydrocarbon group; (n) is 0-12)} and (B) preferably 5-40wt.% (based on the component A) of a high-molecular weight rubber having a weight-average molecular weight of >=10,000.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、回路基板等に好適なポ
リイミドのフィルム接着剤に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyimide film adhesive suitable for circuit boards and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、回路基板用フィルム接着剤とし
て、ポリエステル系やエポキシ系のものか使用されてい
た。しかし、これらのフィルムは十分満足すべきもので
はなかった。即ち、ポリエステル系フィルム接着剤は、
耐熱性に劣り回路基板用の接着剤として適したものとは
いえない。また、エポキシ系フィルム接着剤は、可とう
性、低誘電特性に劣るという欠点がある。これらの欠点
を改良したポリイミド系フィルム接着剤が試みられてい
るが、ポリイミド前躯体の組成によっては生成ポリイミ
ド膜と金属箔との接着力が不十分で、回路パターン形成
時に剥離現象を生じ不良の原因となる欠点があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, polyester or epoxy type adhesives have been used as circuit board film adhesives. However, these films were not entirely satisfactory. That is, the polyester film adhesive is
It has poor heat resistance and cannot be said to be suitable as an adhesive for circuit boards. Epoxy film adhesives also have the drawback of poor flexibility and low dielectric properties. Although polyimide film adhesives that have improved these drawbacks have been attempted, depending on the composition of the polyimide precursor, the adhesive force between the generated polyimide film and the metal foil is insufficient, resulting in a peeling phenomenon during circuit pattern formation. There was a flaw that caused it.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の欠点
を解消するためになされたもので、耐熱性、密着性、可
とう性に優れ、かつ、従来の生産性、経済性の欠点を解
決したポリイミドフィルム接着剤を提供しようとするも
のである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned drawbacks, and is excellent in heat resistance, adhesion and flexibility, and has the drawbacks of conventional productivity and economy. It is an object to provide a solved polyimide film adhesive.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、種々の化学構造
のポリマーについて検討した結果、後述するポリイミド
樹脂組成物を用いることによって、上記の目的が達成で
きることを見いだし、本発明を完成したものである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned object, the present inventor has studied polymers having various chemical structures, and by using a polyimide resin composition described later, The inventors have found that the above objects can be achieved and completed the present invention.

【0005】即ち、本発明は、 (A)次の一般式で示されるポリイミド樹脂であって、That is, the present invention provides (A) a polyimide resin represented by the following general formula:

【0006】[0006]

【化5】 (a )上記ポリイミド樹脂の一般式中におけるR1 は4
価の有機酸残基を示して、R1 を構成する全酸成分のう
ちの 50 mol %以上が、次の一般式で示されるビフェニ
ルエーテルテトラカルボン酸であり、
[Chemical 5] (A) R 1 in the general formula of the polyimide resin is 4
Showing a divalent organic acid residue, 50 mol% or more of all the acid components constituting R 1 is a biphenyl ether tetracarboxylic acid represented by the following general formula,

【0007】[0007]

【化6】 (b )上記ポリイミド樹脂の一般式中におけるR2 は2
価のジアミン残基を示し、(b-1 )R2 を構成する全ジ
アミン成分のうちの 50 〜99 mol%が、次の一般式で示
されるジアミン化合物であり、
[Chemical 6] (B) R 2 in the general formula of the polyimide resin is 2
A diamine residue having a valence of 50 to 99 mol% of all the diamine components constituting (b-1) R 2 is a diamine compound represented by the following general formula:

【0008】[0008]

【化7】 (但し式中Xは−CH2 −、−O−、−C(CH3 2
−、−SO2 −、−C(CF3 2 −を表す)(b-2 )
2 を構成する全ジアミン成分のうちの 50 〜1 mol %
が、次の一般式で示されるジアミノシロキサンである
[Chemical 7] (However, in the formula, X is —CH 2 —, —O—, —C (CH 3 ) 2
-, - SO 2 -, - C (CF 3) 2 - represents a) (b-2)
50 to 1 mol% of all diamine components constituting R 2
Is a diaminosiloxane represented by the following general formula:

【0009】[0009]

【化8】 (但し、式中R3 及びR4 は 2価の有機基を、R5 〜R
8 炭素数 1〜6 の炭化水素を表し、n は 0又は12以下の
正の整数を表す)ポリイミド樹脂と、 (B)重量平均分子量10000 以上の高分子量ゴムを含む
ことを特徴とするポリイミドフィルム接着剤である。
[Chemical 8] (However, in the formula, R 3 and R 4 are divalent organic groups, R 5 to R 4
8 represents a hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms, n represents a positive integer of 0 or 12 or less), and (B) a high-molecular-weight rubber having a weight average molecular weight of 10,000 or more. It is an adhesive.

【0010】以下、本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.

【0011】本発明に用いる(A)ポリイミド樹脂は前
記の一般式化5を有したもので、(a )酸成分と(b )
ジアミン成分とを反応させて得られるものである。
The (A) polyimide resin used in the present invention has the above-mentioned general formula 5, and has (a) an acid component and (b)
It is obtained by reacting with a diamine component.

【0012】ポリイミド樹脂に用いる( a)酸成分とし
ては前記の一般式化6で示したビフェニルエーテルテト
ラカルボン酸成分を使用することができる。ビフェニル
エーテルテトラカルボン酸成分の具体的な化合物として
は、 3,4,3′,4′−ビフェニルエーテルテトラカルボン
酸、 2,3,3′,4′−ビフェニルエーテルテトラカルボン
酸、又はそれらの酸無水物若しくは低級アルキルエステ
ル等が挙げられ、これらは単独又は混合して使用するこ
とができる。ビフェニルエーテルテトラカルボン酸成分
は、全酸成分の 50 mol %以上使用することが望まし
い。50 mol%未満では耐酸性に劣り好ましくない。
As the (a) acid component used in the polyimide resin, the biphenyl ether tetracarboxylic acid component represented by the above general formula 6 can be used. Specific examples of the biphenyl ether tetracarboxylic acid component include 3,4,3 ′, 4′-biphenyl ether tetracarboxylic acid, 2,3,3 ′, 4′-biphenyl ether tetracarboxylic acid, or acids thereof. An anhydride, a lower alkyl ester, etc. are mentioned, These can be used individually or in mixture. It is desirable to use the biphenyl ether tetracarboxylic acid component in an amount of 50 mol% or more of the total acid component. If it is less than 50 mol%, the acid resistance is poor and it is not preferable.

【0013】ビフェニルエーテルテトラカルボン酸以外
の酸成分としては、例えば、ピロメリット酸、 3,3′4,
4 ′−ビフェニルテトラカルボン酸、 2,3,3′,4′−ビ
フェニルテトラカルボン酸、 3,3′,4,4′−ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸、 2,3,3′,4′−ベンゾフェノン
テトラカルボン酸、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン
酸、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸、1,2,5,6-ナ
フタレンテトラカルボン酸、 3,4,9,10-テトラカルボキ
シフェニレン、 3,3′,4,4′−ビフェニルメタンテトラ
カルボン酸、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プ
ロパン、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキサ
フルオロプロパン、 3,3′,4,4′−ジフェニルスルホン
テトラカルボン酸、2,2-ビス([4-(3,4-ジカルボキシ
フェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン等の無
水物又は低級アルキルエステル等が挙げられ、これらは
単独又は混合して前記ビフェニルエーテルテトラカルボ
ン酸と併用することができる。
Acid components other than biphenyl ether tetracarboxylic acid include, for example, pyromellitic acid, 3,3'4,
4'-biphenyl tetracarboxylic acid, 2,3,3 ', 4'-biphenyl tetracarboxylic acid, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid, 2,3,3 ', 4'-benzophenone tetra Carboxylic acid, 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic acid, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic acid, 1,2,5,6-naphthalene tetracarboxylic acid, 3,4,9,10- Tetracarboxyphenylene, 3,3 ', 4,4'-biphenylmethanetetracarboxylic acid, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) Anhydrous or lower alkyl such as hexafluoropropane, 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid, 2,2-bis ([4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] hexafluoropropane Esters and the like can be mentioned, and these can be used alone or as a mixture to prepare the aforementioned biphenyl ether tetracarbohydrate. It can be used in combination with acid.

【0014】ポリイミド樹脂に用いる(b )ジアミン成
分としては、(b-1 )ジアミン化合物と(b-2 )ジアミ
ノシロキサンとを一定の割合で併用する。
As the (b) diamine component used in the polyimide resin, the (b-1) diamine compound and the (b-2) diaminosiloxane are used together in a fixed ratio.

【0015】(b-1 )ジアミン化合物として、具体的な
ものとして例えば、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキ
シ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェ
ノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス
[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、2,2-
ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]メタン、2,
2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン
等が挙げられ、これらは単独又は混合して使用すること
ができる。このジアミン化合物と後述のジアミノシロキ
サンとを一定の割合で併用する。
Specific examples of the (b-1) diamine compound include 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy). ) Phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, 2,2-
Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 2,
2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination. This diamine compound and the below-mentioned diaminosiloxane are used together in a fixed ratio.

【0016】(b-2 )ジアミノシロキサンとしては、前
記の一般式化8を有するものを使用する。この具体的な
化合物としては、ビス(γ−アミノプロピル)テトラメ
チルジシロキサン、ビス(4-アミノブチル)テトラメチ
ルジシロキサン、ビス(γ−アミノプロピル)テトラフ
ェニルジシロキサン、1,4-ビス(γ−アミノプロピルジ
メチルシリル)ベンゼン等が挙げられ、これらは単独ま
たは混合して使用することができる。
As the (b-2) diaminosiloxane, one having the above general formula 8 is used. Specific examples of the compound include bis (γ-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, bis (4-aminobutyl) tetramethyldisiloxane, bis (γ-aminopropyl) tetraphenyldisiloxane, 1,4-bis ( (γ-aminopropyldimethylsilyl) benzene and the like can be used, and these can be used alone or in combination.

【0017】ジアミン成分として、上述した(b-1 )ジ
アミン化合物と(b-2 )ジアミノシロキサンとを一定の
割合で併用することが重要である。これらの配合割合
は、全ジアミン成分に対して(b-1 )ジアミン化合物が
50 〜 99 mol %、(b-2 )ジアミノシロキサンが 50
〜 1 mol%の割合となるように配合することが望まし
い。(b-1 )ジアミン化合物が 50 mol %未満では、耐
薬品性が低下し、また(b-2 )ジアミノシロキサンが 1
mol%未満では高分子量のゴム成分との相溶性が悪く、
半導体素子等の無機膜(二酸化ケイ素膜や窒化ケイ素
膜)に対する密着性が低下し好ましくない。
As the diamine component, it is important to use the above-mentioned (b-1) diamine compound and (b-2) diaminosiloxane together in a fixed ratio. The mixing ratio of these is such that (b-1) diamine compound is based on all diamine components.
50-99 mol%, 50% of (b-2) diaminosiloxane
It is desirable to mix them in a proportion of ~ 1 mol%. When the content of the (b-1) diamine compound is less than 50 mol%, the chemical resistance is lowered, and the (b-2) diaminosiloxane is less than 1 mol%.
If it is less than mol%, the compatibility with the high molecular weight rubber component is poor,
Adhesion to an inorganic film (silicon dioxide film or silicon nitride film) of a semiconductor device or the like is lowered, which is not preferable.

【0018】前述した酸成分とジアミン成分を反応させ
て得られるポリイミド樹脂は、酸成分およびジアミン成
分がブロックあるいはランダムに含有されていてもよ
い。このポリイミド樹脂は、その前駆体であるポリアミ
ック酸樹脂 0.5g /N−メチル−2-ピロリドン10 ml の
濃度溶液として、30℃における対数粘度が 0.2〜 4.0の
範囲であることが好ましく、より好ましくは 0.3〜 2.0
の範囲である。ポリアミック酸樹脂は、ほぼ等モルの酸
成分とジアミン成分とを有機溶媒中で30℃以下、好まし
くは20℃以下の反応温度下に 3〜12時間、付加重合反応
させて得られる。この重合反応における有機溶媒として
は、例えばN,N′−ジメチルスルホオキシド、N,
N′−ジメチルホルムアミド、N,N′−ジエチルホル
ムアミド、N,N′−ジメチルアセトアミド、N,N′
−ジエチルアセトアミド、N−メチル−2-ピロリドン、
ヘキサメチレンホスホアミド等が挙げられ、これらは単
独または混合して使用することができる。
The polyimide resin obtained by reacting the above-mentioned acid component and diamine component may contain the acid component and diamine component in a block or random manner. The polyimide resin, as a precursor solution of 0.5 g of polyamic acid resin / 10 ml of N-methyl-2-pyrrolidone, preferably has a logarithmic viscosity at 30 ° C. in the range of 0.2 to 4.0, more preferably. 0.3-2.0
Is the range. The polyamic acid resin is obtained by subjecting an acid component and a diamine component of approximately equimolar amounts to an addition polymerization reaction in an organic solvent at a reaction temperature of 30 ° C. or lower, preferably 20 ° C. or lower for 3 to 12 hours. Examples of the organic solvent in this polymerization reaction include N, N'-dimethyl sulfoxide, N,
N'-dimethylformamide, N, N'-diethylformamide, N, N'-dimethylacetamide, N, N '
-Diethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone,
Hexamethylene phosphoamide and the like can be used, and these can be used alone or in combination.

【0019】本発明に用いるもう一つの重要な成分であ
る(B)重量平均分子量10000 以上の高分子量ゴムとし
ては例えば、アクリルゴム、アクリルニトリルブタジエ
ンゴム、変性アクリルニトリルブタジエンゴム、ポリビ
ニルブチラール等各種共重合型のゴムが挙げられ、これ
らは単独又は 2種以上混合して使用することができる。
高分子量ゴムの重量平均分子量が10000 未満であると十
分な可とう性が得られず、濡れが悪く好ましくない。重
量平均分子量10000 以上の高分子量ゴムの配合割合は、
前述したポリイミド樹脂に対して5 〜40重量%の範囲で
配合することが望ましい。その割合が5 重量%未満では
各種基材との密着性が十分でなく、また、40重量%を超
えるとポリイミド樹脂とゴム成分との分離が起こり易く
好ましくない。前述したポリアミック酸樹脂に高分子量
ゴムを混合する方法としては、予めゴム成分を適当な溶
剤に溶解した溶液を、ポリアミック酸樹脂溶液に混合攪
拌して製造することができる。
The (B) high molecular weight rubber having a weight average molecular weight of 10,000 or more, which is another important component used in the present invention, includes, for example, acrylic rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, modified acrylonitrile-butadiene rubber, polyvinyl butyral and the like. Polymerizable rubbers may be used, and these may be used alone or in admixture of two or more.
When the weight average molecular weight of the high molecular weight rubber is less than 10,000, sufficient flexibility cannot be obtained and wetting is poor, which is not preferable. The blending ratio of high molecular weight rubber having a weight average molecular weight of 10,000 or more is
It is desirable to mix the polyimide resin in the range of 5 to 40% by weight. If the proportion is less than 5% by weight, the adhesion to various substrates is not sufficient, and if it exceeds 40% by weight, the polyimide resin and the rubber component are likely to be separated from each other, which is not preferable. As a method of mixing the high molecular weight rubber with the polyamic acid resin described above, a solution in which a rubber component is previously dissolved in an appropriate solvent can be mixed with the polyamic acid resin solution and stirred to be manufactured.

【0020】このポリアミック酸樹脂溶液を剥離紙又は
フィルム上にコーティングする操作は、流延塗布により
行うことが好ましく、具体的には次のような方法が利用
される。剥離紙又はフィルム上に、ポリアミック酸樹脂
溶液を製膜用スリットから吐出させて、均一な厚さ(一
般的には10〜300 μm となるように調節される)の塗膜
層を形成させる。この他のコーティング手段としては、
ロールコーター、ナイフコーター、コンマコーター、ド
クターブレード、フローコーター等の公知の手段を使用
することができる。こうして形成したポリアミト塗布層
を加熱して脱溶媒および脱水環化を行う。一般的には、
100 〜250 ℃、好ましくは200 〜250 ℃に加熱する。こ
のようにして剥離紙またはフィルム上にポリイミドフィ
ルムが形成される。
The operation of coating the release paper or film with the polyamic acid resin solution is preferably carried out by casting, and specifically, the following method is used. A coating film layer having a uniform thickness (generally adjusted to 10 to 300 μm) is formed on a release paper or film by discharging a polyamic acid resin solution through a film-forming slit. As other coating means,
Well-known means such as a roll coater, a knife coater, a comma coater, a doctor blade and a flow coater can be used. The polyamite coating layer thus formed is heated to perform solvent removal and dehydration cyclization. In general,
Heat to 100-250 ° C, preferably 200-250 ° C. In this way, the polyimide film is formed on the release paper or film.

【0021】ポリイミドフィルム接着剤を金属箔等に接
着する方法は、加熱・加圧法で行われることが好まし
く、具体的には次のような方法が利用される。加熱・加
圧接着は、シートを広げた状態で行うのが一般的であ
る。ポリイミドフィルム接着剤を金属箔又は板上に直接
乗せて後、加熱・加圧してポリイミドフィルムを融着さ
せる。この時の温度は、150 〜250 ℃好ましくは200 〜
250 ℃が適当である。また、金属箔又は板は、ポリイミ
ドフィルム接着剤を間に介して多層化してもよい。
The method for adhering the polyimide film adhesive to the metal foil or the like is preferably a heating / pressurizing method. Specifically, the following method is used. The heating / pressurizing adhesion is generally performed with the sheet spread. The polyimide film adhesive is placed directly on the metal foil or plate, and then heated and pressed to fuse the polyimide film. The temperature at this time is 150 to 250 ° C, preferably 200 to 250 ° C.
250 ° C is suitable. Further, the metal foil or plate may be multilayered with a polyimide film adhesive interposed therebetween.

【0022】こうして得たポリイミドフィルム接着剤
は、フレキシブル回路板、ハイブリッドIC基板、LS
I実装用基板、各種プリント配線板等に使用することが
でき、特にフレキビリティーを必要とする分野に好適な
ものである。
The polyimide film adhesive thus obtained is used for flexible circuit boards, hybrid IC boards, LS
It can be used for I mounting substrates, various printed wiring boards, and the like, and is particularly suitable for fields requiring flexibility.

【0023】[0023]

【作用】本発明のポリイミドフィルム接着剤は、特定の
酸成分と特定のジアミン成分を用いることによって、フ
ッ酸等に低する耐薬品性を付与させるとともに、密着
性、可とう性をも付与せしめたものである。また、従来
のポリイミドの特性である優れた耐熱性、電気絶縁性等
をそのまま保持させたものである。
The polyimide film adhesive of the present invention, by using a specific acid component and a specific diamine component, imparts low chemical resistance to hydrofluoric acid and the like, and also imparts adhesiveness and flexibility. It is a thing. In addition, the excellent heat resistance, electric insulation, etc., which are the characteristics of conventional polyimide, are retained as they are.

【0024】[0024]

【実施例】次に本発明を実施例によって説明するが本発
明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will now be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0025】実施例1 攪拌機、冷却器および窒素導入管を設けたフラスコに、
2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパ
ン36.9g ( 0.09mol)と、ビス(γ−アミノプロピル)
テトラメチルジシロキサン 2.49g( 0.01mol)と、N−
メチル−2-ピロリドン268.3gを投入し、室温で窒素雰囲
気下に 3,3′,4,4′−ビフェニルエーテルテトラカルボ
ン酸二無水物30.38g( 0.098mol )を溶液温度の上昇に
注意しながら分割して加え、室温で12時間攪拌してポリ
アミック酸樹脂溶液を得た。このポリアミック酸樹脂溶
液100 重量部(N−メチル−2-ピロリドンの80%溶液)
にメチルエチルケトン70%溶液のニポール1072(日
本ゼオン社製、商品名、分子量50万)6 重量部添加して
全体を均一に混合してポリアミック酸樹脂を製造した。
次いでポリアミック酸樹脂を離型フィルム上に流延塗布
して厚さ35μm に均一にコーティングし、180 ℃で加熱
乾燥してポリイミドフィルム接着剤を製造した。
Example 1 A flask equipped with a stirrer, a condenser and a nitrogen inlet tube was charged with
2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane 36.9g (0.09mol) and bis (γ-aminopropyl)
2.49 g (0.01 mol) of tetramethyldisiloxane and N-
Methyl-2-pyrrolidone (268.3 g) was added, and 30.38 g (0.098 mol) of 3,3 ′, 4,4′-biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride was added at room temperature under a nitrogen atmosphere while paying attention to the rise of the solution temperature. The mixture was added in portions and stirred at room temperature for 12 hours to obtain a polyamic acid resin solution. 100 parts by weight of this polyamic acid resin solution (80% solution of N-methyl-2-pyrrolidone)
6 parts by weight of a 70% solution of methyl ethyl ketone in Nipol 1072 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name, molecular weight 500,000) was added uniformly to the whole to prepare a polyamic acid resin.
Then, a polyamic acid resin was cast and coated on the release film to uniformly coat it to a thickness of 35 μm and dried by heating at 180 ° C. to produce a polyimide film adhesive.

【0026】実施例2 攪拌機、冷却器および窒素導入管を設けたフラスコに、
2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサ
フルオロプロパン46.6g ( 0.09mol)と、ビス(γ−ア
ミノプロピル)テトラフェニルジシロキサン 4.97g(
0.01mol)と、N−メチル−2-ピロリドン 268.3g を投
入し、室温で窒素雰囲気下に 3,3′,4,4′−ビフェニル
エーテルテトラカルボン酸二無水物15.50g( 0.050mol
)とピロメリット酸二無水物10.46g( 0.048mol )を
溶液温度の上昇に注意しながら分割して加え、室温で10
時間攪拌してポリアミック酸樹脂溶液を得た。このポリ
アミック酸樹脂溶液100 重量部(N−メチル−2-ピロリ
ドンの80%溶液)にメチルエチルケトン70%溶液のJS
RN6328(日本合成ゴム社製、商品名、分子量30
万)12重量部添加して全体を均一に混合してポリアミッ
ク酸樹脂を製造した。次いでポリアミック酸樹脂を離型
フィルム上に流延塗布して厚さ35μm に均一にコーティ
ングし、180 ℃で加熱乾燥してポリイミドフィルム接着
剤を製造した。 比較例 比較例として市販のアクリルゴム系フィルムを入手し
た。
Example 2 In a flask equipped with a stirrer, a cooler and a nitrogen introducing tube,
2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane 46.6 g (0.09 mol) and bis (γ-aminopropyl) tetraphenyldisiloxane 4.97 g (
0.01 mol) and 268.3 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added, and 15.50 g (0.050 mol of 0.053 mol of 3,3 ', 4,4'-biphenyl ether tetracarboxylic acid dianhydride under nitrogen atmosphere at room temperature.
) And pyromellitic dianhydride (10.46 g (0.048 mol)) are added in portions while paying attention to the increase in solution temperature, and the mixture is added at room temperature to 10
After stirring for a time, a polyamic acid resin solution was obtained. To 100 parts by weight of this polyamic acid resin solution (80% solution of N-methyl-2-pyrrolidone), 70% solution of methyl ethyl ketone in JS
RN6328 (Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., trade name, molecular weight 30
10,000 parts by weight was added and the whole was uniformly mixed to produce a polyamic acid resin. Then, a polyamic acid resin was cast and coated on the release film to uniformly coat it to a thickness of 35 μm and dried by heating at 180 ° C. to produce a polyimide film adhesive. Comparative Example A commercially available acrylic rubber film was obtained as a comparative example.

【0027】実施例1〜2および比較例で得たフィルム
接着剤について、耐半田性、密着性の試験を行ったので
その結果を表1に示した。本発明の特性が優れており、
本発明の効果を確認することができた。
The film adhesives obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example were tested for soldering resistance and adhesion. The results are shown in Table 1. The characteristics of the present invention are excellent,
The effect of the present invention could be confirmed.

【0028】[0028]

【表1】 フィルム接着剤と銅箔をポリイミドフィルム接着剤の場
合は、 5〜10kg/cm、290 ℃で10分、アクリルゴム系フ
ィルム接着剤の場合は、室温で0.7 kg/cmの条件で加圧
接着させた。 *1 :JIS−C−6481に準じて測定した。 *2 :ASTM−D−1875に準じて測定した。
[Table 1] When film adhesive and copper foil are polyimide film adhesive, press bond at 5-10kg / cm at 290 ° C for 10 minutes, and acrylic rubber film adhesive at room temperature 0.7 kg / cm. It was * 1: Measured according to JIS-C-6481. * 2: Measured according to ASTM-D-1875.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明のポリイミドフィルム接着剤は、耐熱性、密
着性、可とう性に優れ、かつ、従来のポリイミド樹脂の
有する耐熱性、絶縁性をも特性バランスよく保持したも
ので、フレキシブル回路板、ハイブリッドIC基板、L
SI実装用基板、各種プリント配線板等に使用すること
ができ、特にフレキビリティーを必要とする分野に好適
なものである。
As is clear from the above description and Table 1, the polyimide film adhesive of the present invention is excellent in heat resistance, adhesiveness and flexibility, and has the heat resistance and insulation of conventional polyimide resins. It also has good property balance, and has flexible circuit board, hybrid IC board, L
It can be used for SI mounting substrates, various printed wiring boards, and the like, and is particularly suitable for fields requiring flexibility.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)次の一般式で示されるポリイミド
樹脂であって、 【化1】 (a )上記ポリイミド樹脂の一般式中におけるR1 は4
価の有機酸残基を示して、R1 を構成する全酸成分のう
ちの 50 mol %以上が、次の一般式で示されるビフェニ
ルエーテルテトラカルボン酸であり、 【化2】 (b )上記ポリイミド樹脂の一般式中におけるR2 は2
価のジアミン残基を示し、(b-1 )R2 を構成する全ジ
アミン成分のうちの 50 〜99 mol%が、次の一般式で示
されるジアミン化合物であり、 【化3】 (但し式中Xは−CH2 −、−O−、−C(CH3 2
−、−SO2 −、−C(CF3 2 −を表す)(b-2 )
2 を構成する全ジアミン成分のうちの 50 〜1 mol %
が、次の一般式で示されるジアミノシロキサン 【化4】 (但し、式中R3 及びR4 は 2価の有機基を、R5 〜R
8 は炭素数 1〜6 の炭化水素を表し、n は 0又は12以下
の正の整数を表す)であるポリイミド樹脂と、 (B)重量平均分子量10000 以上の高分子量ゴムを含む
ことを特徴とするポリイミドフィルム接着剤。
1. A polyimide resin represented by the following general formula (A), wherein: (A) R 1 in the general formula of the polyimide resin is 4
A divalent organic acid residue is shown, and 50 mol% or more of all the acid components constituting R 1 is a biphenyl ether tetracarboxylic acid represented by the following general formula: (B) R 2 in the general formula of the polyimide resin is 2
A diamine residue having a valence of 50 to 99 mol% of all the diamine components constituting (b-1) R 2 is a diamine compound represented by the following general formula: (However, in the formula, X is —CH 2 —, —O—, —C (CH 3 ) 2
-, - SO 2 -, - C (CF 3) 2 - represents a) (b-2)
50 to 1 mol% of all diamine components constituting R 2
Is a diaminosiloxane represented by the following general formula: (However, in the formula, R 3 and R 4 are divalent organic groups, R 5 to R 4
8 represents a hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms, n represents 0 or a positive integer of 12 or less), and (B) a high molecular weight rubber having a weight average molecular weight of 10,000 or more. Polyimide film adhesive.
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