JP2584895B2 - Polyimide adhesive composition - Google Patents
Polyimide adhesive compositionInfo
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
Description
【発明の詳細な説明】 本発明はポリイミド接着剤組成物に関し、より詳細に
は、銅箔に直接に接着される、基材材料としての高接着
ポリイミド組成物の用途に関する。これらの材料は、柔
軟な印刷回路板および自動接着テープ(tape automated
bonding)(TAB)を製造するために適当である。それ
らはまたポリイミド薄フィルムパッケージ技術に適用可
能である。The present invention relates to a polyimide adhesive composition, and more particularly, to the use of a highly adhesive polyimide composition as a substrate material that is directly adhered to copper foil. These materials are used for flexible printed circuit boards and tape automated tapes.
Suitable for manufacturing bonding) (TAB). They are also applicable to polyimide thin film packaging technology.
ポリイミドは、その高い耐熱性および低い誘電率によ
り、柔軟な印刷回路板、自動接着テープ(TAB)、およ
び薄フィルムパッケージの如き、電子工業において用途
が広がった。しかし、ポリイミドは、銅に対するより低
い接着の不利益を有する。その上に接着剤が、たいてい
接着強さを改良するために、銅箔およびポリイミドフィ
ルム間に適用される。用いられる接着剤の耐熱性はポリ
イミド基材のそれより弱いので、生じた柔軟な印刷回路
板および自動接着テープ(TAB)は良くない品質であ
る。接着剤なしの組立は全性能を非常に改良する。Polyimides have found wide application in the electronics industry, such as flexible printed circuit boards, self-adhesive tapes (TABs), and thin film packages, due to their high heat resistance and low dielectric constant. However, polyimide has the disadvantage of lower adhesion to copper. Additionally, an adhesive is applied between the copper foil and the polyimide film, usually to improve the bond strength. The resulting flexible printed circuit boards and self-adhesive tapes (TAB) are of poor quality because the heat resistance of the adhesive used is weaker than that of the polyimide substrate. Adhesiveless assembly greatly improves overall performance.
ポリイミド基材および銅箔間の接着強さを増すための
改質ポリイミドの用途は、特開昭62−278687号公報およ
びSAMPLE Journal 7月/8月1988の如き、従来技術により
開示された。これらの公知の参照は、ポリイミド基材の
接着がポリイミド主鎖ポリマー中にシロキサンセグメン
トを含ませることにより改良されることを、開示した。
しかし、シロキサンを含ませることはポリイミドのガラ
ス転移温度を非常に低下させ、相−分離を起す。従っ
て、均質なポリイミドフィルムは製造され得ない。The use of modified polyimides to increase the bond strength between the polyimide substrate and the copper foil has been disclosed by the prior art, such as JP-A-62-278687 and SAMPLE Journal July / August 1988. These known references disclosed that the adhesion of the polyimide substrate was improved by including siloxane segments in the polyimide backbone polymer.
However, the inclusion of siloxane greatly reduces the glass transition temperature of the polyimide and causes phase-separation. Therefore, a homogeneous polyimide film cannot be produced.
特開昭61−48318号公報および62−141077号公報は、
最終生成物の耐熱性を改良するために、ポリイミド材料
中にビスマレイミドを混ぜることを開示した。しかし、
これらの従来特許は、銅箔およびポリイミド基材間の接
着を有効に増さない。JP-A-61-48318 and JP-A-6-141077,
It has been disclosed to incorporate bismaleimide into a polyimide material to improve the heat resistance of the final product. But,
These prior patents do not effectively increase the adhesion between the copper foil and the polyimide substrate.
従って、本発明の主要な目的は、柔軟な印刷回路板、
自動接着テープ(TAB)、および薄フィルムパッケージ
を二次加工するときに、銅箔およびポリイミド基材間の
接着剤の必要性を除去し得る、高い接着および高い耐熱
ポリイミドを供給することである。Accordingly, a primary object of the present invention is to provide a flexible printed circuit board,
The object is to provide a high adhesion and high heat resistant polyimide that can eliminate the need for an adhesive between copper foil and a polyimide substrate when fabricating automatic adhesive tape (TAB) and thin film packages.
本発明のポリイミド接着剤組成物は、バルビツル酸と
ビスマレイミドの反応生成物を、ポリアミド酸と反応さ
せて得られる生成物を含む。バルビツル酸とビスマレイ
ミドの反応は、1/3〜1/10のビスマレイミドに対するバ
ルビツル酸のモル比、100〜130℃の反応温度、及び0.5
〜6時間の反応時間の条件で実施された。The polyimide adhesive composition of the present invention includes a product obtained by reacting a reaction product of barbituric acid and bismaleimide with a polyamic acid. The reaction between barbituric acid and bismaleimide is performed at a molar ratio of barbituric acid to bismaleimide of 1/3 to 1/10, a reaction temperature of 100 to 130 ° C., and 0.5
The reaction was performed under the condition of a reaction time of 66 hours.
本発明で用いられるポリアミド酸は公知の方法により
行われる二無水物とジアミンとの反応の生成物である。
バルビツル酸とビスマレイミドの反応生成物は、ポリア
ミド酸と室温において混合され、10〜15%固体含有率を
有する新規な組成物を形成した。前記ポリアミド酸と反
応する前の前記バルビツル酸とビスマレイミドの反応生
成物の固体百分率は、得られる組成物の5〜15重量パー
セントであった。The polyamic acid used in the present invention is a product of a reaction between a dianhydride and a diamine performed by a known method.
The reaction product of barbituric acid and bismaleimide was mixed with polyamic acid at room temperature to form a new composition with 10-15% solids content. The solids percentage of the reaction product of barbituric acid and bismaleimide before reacting with the polyamic acid was 5 to 15 weight percent of the resulting composition.
本発明で適当に用いられたポリアミド酸は、二無水物
およびジアミンの反応生成物であった。二無水物は、一
般式: (式中、R4は少なくとも2個の炭素原子からなる4価ラ
ジカルであり、置換もしくは未置換芳香族基、脂肪族
基、脂環式基、直接に、または次のラジカル:アルキレ
ン、ジオキシアルキレン、アリーレン、−SO2−,−O
−,−CO−, −NY−CO−X−CO−NY−,−CO−NY−X−NY−CO−,−
CO−O−X−O−CO−,−O−CO−X−XO−O−、およ
び−CO−NY−NY−CO− (式中、Xは2価アルキレンラジカル、ジオキシアルキ
レンラジカル、もしくはアリーレンラジカルであり、Y
およびY′はアルキルラジカル、アリールラジカル、も
しくは脂環式ラジカルである。) のうちの1種により結合される、少なくとも1種の原子
N,O、もしくはS、または異なるラジカルを含む、複素
環式基であってよい。) を有する。二無水物は、2組のカルボニレート基を有す
る、内部ジイミドを形成することができるカルボニレー
ト化化合物であり、よって単一組に属するカルボニレー
ト基が最大で3個の炭素原子により分離されるのに対し
て、各々の基は片側で単一4価ラジカルの炭素原子に、
他の側で酸素原子に結合される。The polyamic acid suitably used in the present invention was the reaction product of a dianhydride and a diamine. The dianhydride has the general formula: (Wherein R 4 is a tetravalent radical consisting of at least two carbon atoms, and is a substituted or unsubstituted aromatic group, aliphatic group, alicyclic group, directly or the following radical: alkylene, dioxy alkylene, arylene, -SO 2 -, - O
−, −CO−, -NY-CO-X-CO-NY-, -CO-NY-X-NY-CO-,-
CO-OXO-CO-, -O-CO-X-XO-O-, and -CO-NY-NY-CO- (wherein X is a divalent alkylene radical, a dioxyalkylene radical, or An arylene radical, Y
And Y 'are an alkyl radical, an aryl radical, or an alicyclic radical. At least one atom bonded by one of the following:
It may be a heterocyclic group containing N, O, or S, or a different radical. ). A dianhydride is a carbonylated compound capable of forming an internal diimide having two sets of carbonylate groups, so that a single set of carbonylate groups is separated by up to three carbon atoms. And each group on one side is a carbon atom of a single tetravalent radical,
On the other side it is attached to an oxygen atom.
本発明において、テトラヒドロフランテトラカルボン
酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボキシル二無水
物、もしくはビシクロ−〔2,2,2〕−オクテン−(7)
−2,3,5,6−テトラカルボキシル−2,3:5,6−二無水物
が、用いられてよい。芳香族二無水物が好ましい。適当
な芳香族二無水物の例は: ピロメリット酸二無水物、 2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、 3,3′,4,4′−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、 1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、 1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、 ビス(3,3−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水
物、およびビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテ
ル二無水物、 を含む。In the present invention, tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride, cyclopentanetetracarboxyl dianhydride, or bicyclo- [2,2,2] -octene- (7)
-2,3,5,6-Tetracarboxyl-2,3: 5,6-dianhydride may be used. Aromatic dianhydrides are preferred. Examples of suitable aromatic dianhydrides are: pyromellitic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenyltetracarboxylic dianhydride 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,3-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, and Bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride.
本発明において用いられるジアミンは下式 H2N−R3−NH2 (上式中、R3は芳香族基、脂肪族基、環式脂肪族基、及
びシロキサンを含む脂肪族基からなる群より選ばれる) で表される。典型的なジアミンの例は次のようである:
エチレンジアミン、プロピレンジアミン、テトラメチレ
ンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレン
ジアミン、2−エチルヘキシレンジアミン、ノナメチレ
ンジアミン、デカメチレンジアミン、2,11−ジアミノ−
ドデカン等;メタ−フェニレンジアミン、パラ−フェニ
レンジアミン、2,2′−ナフタレンジアミン、4,4′−ビ
フェニレンジアミン、メチレンジアニリン−(4,4′−
ジアミノジフェニルメタン)、エチレンジアニリン−
(4,4′−ジアミノジフェニルエタン)、プロピレンジ
アニリン−(4,4′−ジアミノジフェニルプロパン)
等、ビス−(パラ−アミノ−シクロヘキシル)N−フェ
ニルアミン、ビス−(パラ−アミノ−シクロヘキシル)
N−メチルアミン、ヘキサフルオルイソプロピリデン−
ビス−(4−フェニルアミン)、4,4′−ジアミノ−ジ
フェニルメタン、4,4′−ジアミノ−ジフェニルエタ
ン、4,4′−ジアミノ−ジフェニルプロパン、4,4′−ジ
アミノ−ジフェニルブタン、2,6−ジアミノ−ピリジ
ン、ビス−(4−アミノ−フェニル)ジエチルシラン、
ビス−(4−アミノ−フェニル)ジフェニルシラン、ビ
ス−(4−アミノ−フェニル)エチルホスフィンオキシ
ド、ビス−(4−アミノ−フェニル)フェニルホスフィ
ンオキシド、ビス−(4−アミノ−フェニル)−N−フ
ェニルアミン、ビス−(4−アミノ−フェニル)−N−
メチルアミン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノ−ビ
フェニル、3,3′−ジメトキシ−ベンジジン、2,4−ビス
(o−アミノ−t−ブチル)トルエン、ビス(パラ−o
−アミノ−t−ブチル−フェニル)エーテル、パラ−ビ
ス−(2−メチル−4−アミノ−フェニル)ベンゼン、
パラ−ビス−(1,1−ジメチル−5−アミノ−ペンチ
ル)ベンゼン、m−キシレンジアミン、p−キシレンジ
アミン、オキシジアニリン−(4,4′−ジアミノジフェ
ニルエーテル)、ケトジアニリン、4,4′−ジアミノ−
ジフェニルスルフィド、3,3′−ジアミノ−ジフェニル
スルフィド、4,4′−ジアミノ−ジフェニルスルホン、
3,3′−ジアミノ−ジフェニルスルホン、ビス−(パラ
−アミノ−シクロヘキシル)メタン、ビス−(パラ−ア
ミノ−シクロヘキシル)エタン、ビス−(パラ−アミノ
−シクロヘキシル)プロパン、ビス−(パラ−アミノ−
シクロヘキシル)スルフィド、ビス−(パラ−アミノ−
シクロヘキシル)スルホン、ビス−(パラ−アミノ−シ
クロヘキシル)エーテル、ビス−(パラ−アミノ−シク
ロヘキシル)ジエチルシラン、ビス−(パラ−アミノ−
シクロヘキシル)ジフェニルシラン、ビス−(パラ−ア
ミノ−シクロヘキシル)エチルホスフィンオキシド、ビ
ス−(パラ−アミノ−シクロヘキシル)フェニルホスフ
ィンオキシド、1,2−ビス−(3−アミノ−プロポキ
シ)エタン、2,2−ジメチルプロピレンジアミン、3−
メトキシ−ヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘ
プタメトヒレン(hylene)ジアミン、5−メチルノナメ
チレンジアミン、1,4−ジアミノ−シクロヘキサン、1,2
−ジアミノ−オクタデカン、2,5−ジアミノ−1,3,4−オ
キサジアゾール。The diamine used in the present invention is represented by the following formula: H 2 N—R 3 —NH 2 (wherein R 3 is a group consisting of an aromatic group, an aliphatic group, a cycloaliphatic group, and an aliphatic group including siloxane. Selected from). Examples of typical diamines are as follows:
Ethylenediamine, propylenediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, 2-ethylhexylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, 2,11-diamino-
Dodecane, etc .; meta-phenylenediamine, para-phenylenediamine, 2,2'-naphthalenediamine, 4,4'-biphenylenediamine, methylenedianiline- (4,4'-
Diaminodiphenylmethane), ethylenedianiline-
(4,4'-diaminodiphenylethane), propylene dianiline- (4,4'-diaminodiphenylpropane)
Bis- (para-amino-cyclohexyl) N-phenylamine, bis- (para-amino-cyclohexyl)
N-methylamine, hexafluoroisopropylidene-
Bis- (4-phenylamine), 4,4'-diamino-diphenylmethane, 4,4'-diamino-diphenylethane, 4,4'-diamino-diphenylpropane, 4,4'-diamino-diphenylbutane, 6-diamino-pyridine, bis- (4-amino-phenyl) diethylsilane,
Bis- (4-amino-phenyl) diphenylsilane, bis- (4-amino-phenyl) ethylphosphine oxide, bis- (4-amino-phenyl) phenylphosphine oxide, bis- (4-amino-phenyl) -N- Phenylamine, bis- (4-amino-phenyl) -N-
Methylamine, 3,3'-dimethyl-4,4'-diamino-biphenyl, 3,3'-dimethoxy-benzidine, 2,4-bis (o-amino-t-butyl) toluene, bis (para-o
-Amino-t-butyl-phenyl) ether, para-bis- (2-methyl-4-amino-phenyl) benzene,
Para-bis- (1,1-dimethyl-5-amino-pentyl) benzene, m-xylenediamine, p-xylenediamine, oxydianiline- (4,4'-diaminodiphenyl ether), ketodianiline, 4,4'- Diamino-
Diphenyl sulfide, 3,3′-diamino-diphenyl sulfide, 4,4′-diamino-diphenyl sulfone,
3,3'-diamino-diphenyl sulfone, bis- (para-amino-cyclohexyl) methane, bis- (para-amino-cyclohexyl) ethane, bis- (para-amino-cyclohexyl) propane, bis- (para-amino-
Cyclohexyl) sulfide, bis- (para-amino-
Cyclohexyl) sulfone, bis- (para-amino-cyclohexyl) ether, bis- (para-amino-cyclohexyl) diethylsilane, bis- (para-amino-
Cyclohexyl) diphenylsilane, bis- (para-amino-cyclohexyl) ethyl phosphine oxide, bis- (para-amino-cyclohexyl) phenyl phosphine oxide, 1,2-bis- (3-amino-propoxy) ethane, 2,2- Dimethylpropylenediamine, 3-
Methoxy-hexamethylenediamine, 2,5-dimethylheptamethhyrene (hylene) diamine, 5-methylnonamethylenediamine, 1,4-diamino-cyclohexane, 1,2
Diamino-octadecane, 2,5-diamino-1,3,4-oxadiazole.
本発明で用いられるビスマレイミドは下式 (上式中、Rは芳香族基、脂肪族基、環式脂肪族基、シ
ロキサンを含む脂肪族基、又はPh−R5−Phであり、Phは
パラフェニレン基であり、そしてR5は芳香族基、脂肪族
基、環式脂肪族基、又はシロキサンを含む脂肪族基であ
る) に相当する。典型的なビスマレイミドの例は次のようで
ある: N,N′−エチレン−ビス−マレイミド、N,N′−ブチレ
ン−ビス−マレイミド、N,N′−フェニレン−ビス−マ
レイミド、N,N′−ヘキサメチレン−ビス−マレイミ
ド、N,N′−4,4′−ジフェニルメタン−ビス−マレイミ
ド、N,N′−4,4′−ジフェニルエーテル−ビス−マレイ
ミド、N,N′−4,4′−ジフェニルスルホン−ビス−マレ
イミド、N,N′−4,4′−ジシクロヘキシルメタン−ビス
−マレイミド、N,N′−キシリレン−ビス−マレイミ
ド、N,N′−ジフェニルシクロヘキサン−ビス−マレイ
ミド等。The bismaleimide used in the present invention has the following formula (In the above formula, R is an aliphatic group or Ph-R 5 -Ph, including aromatic groups, aliphatic groups, cycloaliphatic groups, siloxane, Ph is paraphenylene group, and R 5 is An aromatic group, an aliphatic group, a cycloaliphatic group, or an aliphatic group containing siloxane). Examples of typical bismaleimides are: N, N'-ethylene-bis-maleimide, N, N'-butylene-bis-maleimide, N, N'-phenylene-bis-maleimide, N, N '-Hexamethylene-bis-maleimide, N, N'-4,4'-diphenylmethane-bis-maleimide, N, N'-4,4'-diphenylether-bis-maleimide, N, N'-4,4' -Diphenylsulfone-bis-maleimide, N, N'-4,4'-dicyclohexylmethane-bis-maleimide, N, N'-xylylene-bis-maleimide, N, N'-diphenylcyclohexane-bis-maleimide and the like.
用いられるバルビツル酸は次の一般式: (式中、R1及びR2は独立に、−H、−CH3、−C2H5、−C
6H5、−CH(CH3)2、−CH2CH(CH3)2、−CH2CH2CH
(CH3)2、及び−CH(CH3)CH2CH2CH3からなる群より
選ばれる) で表される。The barbituric acid used has the general formula: (Wherein R 1 and R 2 are independently -H, -CH 3 , -C 2 H 5 , -C
6 H 5, -CH (CH 3 ) 2, -CH 2 CH (CH 3) 2, -CH 2 CH 2 CH
(CH 3 ) 2 , and —CH (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 3 .
例 1 (A)改質ビスマレイミドの製造 8.66gのN,N′−4,4′−ジフェニルメタン−ビス−マ
レイミドを、20gのブチロラクトン中に溶解させた。1g
のバルビツル酸の添加後、生成溶液を110℃で1時間か
く拌した。Example 1 (A) Preparation of modified bismaleimide 8.66 g of N, N'-4,4'-diphenylmethane-bis-maleimide was dissolved in 20 g of butyrolactone. 1g
After addition of the barbituric acid, the resulting solution was stirred at 110 ° C. for 1 hour.
(B)ポリアミド酸の製造 500ml4首反応器中に、17.45gの4,4′−ジアミノジフ
ェニル−エーテル(DDE)を添加し、130mlのNMPおよび3
0mlのキシレンの混合物中に溶解させた。窒素雰囲気下
で、18.55g(0.085モル)のピロメリット酸二無水物(P
MDA)を添加し、かく拌を維持しながら3時間反応させ
た。さらに0.436g(0.02モル)のPMDAの添加および2時
間の反応により、18.5%の固体含有率を有するポリアミ
ド酸溶液を得た。(B) Preparation of polyamic acid In a 500 ml four-necked reactor, 17.45 g of 4,4'-diaminodiphenyl-ether (DDE) was added, and 130 ml of NMP and 3 ml were added.
Dissolved in a mixture of 0 ml xylene. Under a nitrogen atmosphere, 18.55 g (0.085 mol) of pyromellitic dianhydride (P
MDA) was added, and the mixture was reacted for 3 hours while maintaining stirring. Further addition of 0.436 g (0.02 mol) of PMDA and reaction for 2 hours gave a polyamic acid solution having a solids content of 18.5%.
方法(A)で得た30gの改質ビスマレイミドを、方法
(B)で形成した1.88gのポリアミド酸中に室温で溶解
させた。8.9gのNMPを、生成溶液に15%の固体含有率ま
で添加した。最終生成物を脱脂したCu板に電気泳動で適
用し、滑らかな一様なフィルムを形成するために、下記
にリストしたような記述条件に従ってベーク(baked)
した。30 g of the modified bismaleimide obtained in method (A) was dissolved at room temperature in 1.88 g of polyamic acid formed in method (B). 8.9 g of NMP was added to the product solution to a solids content of 15%. The final product is electrophoretically applied to defatted Cu plates and baked according to the described conditions as listed below to form a smooth uniform film.
did.
a.第1に、温度を30分以内に100℃に上げ、100℃で1時
間維持する。a. First, raise the temperature to 100 ° C. within 30 minutes and maintain at 100 ° C. for 1 hour.
b.第2に、温度を1時間以内に100℃から200℃に上げ、
200℃で1時間維持する。b. Second, raise the temperature from 100 ° C to 200 ° C within one hour,
Maintain at 200 ° C. for 1 hour.
c.第3に、温度を1時間以内に200℃から300℃に上げ、
300℃で1時間維持する。c. Third, raise the temperature from 200 ° C to 300 ° C within one hour,
Maintain at 300 ° C. for 1 hour.
d.第4に、温度を30分間300℃から350℃に上げ、350℃
で30分間維持する。d. Fourth, raise the temperature from 300 ° C to 350 ° C for 30 minutes,
For 30 minutes.
e.最後に、温度を3時間以内に室温まで冷却する。e. Finally, cool the temperature to room temperature within 3 hours.
本実施例で用いたCu箔は、2種類を含む。1種はTCPI
(Nippon Mining Co.Ltd.の商標)であり、他はTaiwan
Copper Foil Co.Ltd.製である。銅の本実施例で形成し
たポリイミド基材に対する接着を、剥離試験機により測
定し、結果を第Iにリストする。得た最終生成物の物理
特性は、従来のポリイミド基材のそれらと同様である。The Cu foil used in this example includes two types. One is TCPI
(Trademark of Nippon Mining Co. Ltd.) and other
Made by Copper Foil Co. Ltd. The adhesion of the copper to the polyimide substrate formed in this example was measured with a peel tester and the results are listed first. The physical properties of the final product obtained are similar to those of conventional polyimide substrates.
例 2 (A)改質ビスマレイミドの製造 11.55gのN、N′−4,4′−ジフェニルメタン−ビス
−マレイミドを、25gのγ−ブチロラクトン中に溶解さ
せた。1gのバルビツル酸の添加後、生成溶液をかく拌を
維持する間120℃で1時間加熱した。Example 2 (A) Preparation of Modified Bismaleimide 11.55 g of N, N'-4,4'-diphenylmethane-bis-maleimide was dissolved in 25 g of γ-butyrolactone. After the addition of 1 g of barbituric acid, the resulting solution was heated at 120 ° C. for 1 hour while maintaining stirring.
(B)ポリアミド酸の製造 500ml4首反応器中に、13.8gの4,4′−ジアミノジフェ
ニル−エーテル(DDE)を添加し、130mlのNMPおよび30m
lのキシレンの混合物中に溶解させた。窒素雰囲気下
で、20.93g(0.065モル)のベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物(BTDA)を添加し、かく拌を維持する間
3時間反応させた。さらに1.288g(0.004モル)のBTDA
の添加および2時間の反応により、18.4%の固体含有率
を有するポリアミド酸溶液を得た。(B) Preparation of polyamic acid In a 500 ml four-necked reactor, 13.8 g of 4,4'-diaminodiphenyl-ether (DDE) was added, and 130 ml of NMP and 30 m
dissolved in a mixture of 1 xylene. Under a nitrogen atmosphere, 20.93 g (0.065 mol) of benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) was added and reacted for 3 hours while maintaining stirring. 1.288 g (0.004 mol) of BTDA
And a reaction for 2 hours gave a polyamic acid solution having a solids content of 18.4%.
方法(A)により得た30gの改質ビスマレイミドを、
方法(B)で形成した1.8gのポリアミド酸中に室温で溶
解させた。11gのNMPを、固体含有率が15%になるよう
に、生成溶液に添加した。最終生成物を脱脂したCu箔に
適用し、滑らかな一様なフィルムを形成するために、例
1に記述の条件下でベークした。本実施例の最終生成物
の剥離強さをまた表Iにリストする。30 g of the modified bismaleimide obtained by the method (A) is
It was dissolved at room temperature in 1.8 g of the polyamic acid formed in method (B). 11 g of NMP was added to the resulting solution to a solids content of 15%. The final product was applied to degreased Cu foil and baked under the conditions described in Example 1 to form a smooth uniform film. The peel strength of the final product of this example is also listed in Table I.
比較例1 0.62gのN,N′−4,4′−ジフェニル−メタン−ビス−
マレイミドを、10.5gのNMP中に溶解させた。例1の方法
(B)により得た30gのポリアミド酸の添加後、最終生
成物を脱脂したCu箔に適用し、例1に記述の条件下でベ
ークした。最終生成物の剥離強さを表Iにリストする。Comparative Example 1 0.62 g of N, N'-4,4'-diphenyl-methane-bis-
Maleimide was dissolved in 10.5 g NMP. After the addition of 30 g of the polyamic acid obtained according to the method (B) of Example 1, the final product was applied to degreased Cu foil and baked under the conditions described in Example 1. The peel strength of the final product is listed in Table I.
比較例2 例1の方法(B)により得たポリアミド酸を直接に脱
脂したCu箔に適用し、例1に記述の条件下でベークし
た。例の剥離強さを表Iにリストする。Comparative Example 2 The polyamic acid obtained by the method (B) of Example 1 was directly applied to a degreased Cu foil and baked under the conditions described in Example 1. Example peel strengths are listed in Table I.
比較例3 0.61gのN,N′−4,4′−ジフェニル−メタン−ビス−
マレイミドを、10.3gのNMP中に溶解させた。例2の方法
(B)により得た30gのポリアミド酸の添加後、最終生
成物を脱脂したCu箔に適用し、例1に記述の条件下でベ
ークした。最終生成物の剥離強さを表Iにリストする。Comparative Example 3 0.61 g of N, N'-4,4'-diphenyl-methane-bis-
Maleimide was dissolved in 10.3 g NMP. After the addition of 30 g of polyamic acid obtained by method (B) of Example 2, the final product was applied to degreased Cu foil and baked under the conditions described in Example 1. The peel strength of the final product is listed in Table I.
比較例4 例2の方法(B)により得たポリアミド酸を直接に脱
脂したCu箔に適用し、例1に記述の条件下でベークし
た。例の剥離強さを表Iにリストした。Comparative Example 4 The polyamic acid obtained by the method (B) of Example 2 was directly applied to a degreased Cu foil and baked under the conditions described in Example 1. The peel strengths of the examples are listed in Table I.
本発明を詳細に説明してきたが、当業者により、種々
の修正が本発明の真意および特許請求の範囲を離れるこ
となくなされ得ることが、理解される。従って、本発明
は、冒頭の特許請求の範囲による以外は限定されること
を、意図されない。 Having described the invention in detail, it will be understood by those skilled in the art that various modifications may be made without departing from the spirit of the invention and the scope of the claims. Accordingly, it is not intended that the invention be limited, except as by the appended claims.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シアオ クオ ユイ 台湾,シンチョウシー コアンフールー 2トアン 958ハウ (72)発明者 ワン ツォン ション 台湾,タイベイシエン ウーグーシアン チョンシンルー 2トアン 178ハウ (72)発明者 チャン ウエン チャン 台湾,タイベイシエン ヨンホーシー チョンシンチエ 65シアン 7ハウ 5 ロウ (56)参考文献 特開 昭48−68696(JP,A) 特開 昭51−102097(JP,A) 特開 平2−29433(JP,A) 特開 平2−24323(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shiao Kuo Yui Taiwan, Shinchoshi Koanhuluo 2 Toan 958 Howe (72) Inventor Wang Zhong Taiwan, Thaibei Sien Woo Gusian Chong Shinru 2 Toan 178 Howe (72) Inventor Chang Wen Chang Taiwan, Thailand Bay Xian Yong Ho Shi Chong Shin Chie 65 Cyan 7 Howe 5 Row References: Kaihei 2-24323 (JP, A)
Claims (3)
6H5、−CH(CH3)2、−CH2CH(CH3)2、−CH2CH2CH
(CH3)2、及び−CH(CH3)CH2CH2CH3からなる群より
選ばれる) で表されるバルビツル酸とビスマレイミドの反応生成物
を、ポリアミド酸と反応させて得られる生成物を含み、
前記ビスマレイミドに対する前記バルビツル酸のモル比
1/3〜1/10であり、前記ポリアミド酸と反応する前の前
記バルビツル酸とビスマレイミドの反応生成物の固体百
分率が得られる組成物の5〜15重量パーセントである、
ポリイミド接着剤組成物。[1] The following equation (In the above formula, R 1 and R 2 are independently -H, -CH 3 , -C 2 H 5 , -C
6 H 5, -CH (CH 3 ) 2, -CH 2 CH (CH 3) 2, -CH 2 CH 2 CH
Selected from the group consisting of (CH 3 ) 2 and —CH (CH 3 ) CH 2 CH 2 CH 3 ). The reaction product of barbituric acid and bismaleimide is reacted with polyamic acid. Including things,
The molar ratio of the barbituric acid to the bismaleimide
1/3 to 1/10, wherein the solid percentage of the reaction product of the barbituric acid and the bismaleimide before reacting with the polyamic acid is 5 to 15 weight percent of the resulting composition;
Polyimide adhesive composition.
式脂肪族基、及びシロキサンを含む脂肪族基からなる群
より選ばれる) との反応生成物である、請求項1記載のポリイミド接着
剤組成物。2. The polyamic acid according to claim 1, wherein (i) H 2 N—R 3 —NH 2 and (ii) (Wherein R 3 and R 4 are independently selected from the group consisting of aromatic groups, aliphatic groups, cycloaliphatic groups, and aliphatic groups containing siloxanes). The polyimide adhesive composition according to claim 1.
ロキサンを含む脂肪族基、又はPh−R5−Phであり、Phは
パラフェニレン基であり、そしてR5は芳香族基、脂肪族
基、環式脂肪族基、又はシロキサンを含む脂肪族基であ
る) で表される、請求項1記載のポリイミド接着剤組成物。3. The bismaleimide according to claim 1, wherein (In the above formula, R is an aliphatic group or Ph-R 5 -Ph, including aromatic groups, aliphatic groups, cycloaliphatic groups, siloxane, Ph is paraphenylene group, and R 5 is The polyimide adhesive composition according to claim 1, which is an aromatic group, an aliphatic group, a cycloaliphatic group, or an aliphatic group containing siloxane.
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JPH0229433A (en) * | 1988-07-18 | 1990-01-31 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Production of polyimide resin |
-
1990
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