JPH078743U - Semiconductor pressure sensor - Google Patents

Semiconductor pressure sensor

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JPH078743U
JPH078743U JP4408193U JP4408193U JPH078743U JP H078743 U JPH078743 U JP H078743U JP 4408193 U JP4408193 U JP 4408193U JP 4408193 U JP4408193 U JP 4408193U JP H078743 U JPH078743 U JP H078743U
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JP
Japan
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bridge
wheel stone
diaphragm
wheelstone
pressure sensor
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Application number
JP4408193U
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Japanese (ja)
Inventor
圭三 大谷
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Azbil Corp
Original Assignee
Azbil Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ホイールストンブリッジの出力端子をリーク
カレントから保護するガードリングのリード線をなく
し、ハーメチックシールの数を少なくする。 【構成】 半導体基板上に4つの歪ゲージ9からなる圧
力測定用ホイールストンブリッジ10と、同じく4つの
歪ゲージ25からなる第2のホイールストンブリッジ2
6を形成する。第2のホイールストンブリッジ26は、
圧力測定用ホイールストンブリッジ10より外側で、か
つ半導体基板のダイヤフラムより外側に位置して形成さ
れる。両ブリッジ10,26は電源ライン27に対して
並列に接続され、また第2のホイールストンブリッジ2
6の出力端子28a,28bは、圧力測定用ホイールス
トンブリッジ10の各出力端子15a,15bを取り囲
むガードリング12a,12bにリード29a,29b
によって接続される。
(57) [Summary] [Purpose] The number of hermetic seals is reduced by eliminating the lead wire of the guard ring that protects the output terminal of the wheelstone bridge from leak current. [Structure] A pressure measuring wheel stone bridge 10 composed of four strain gauges 9 on a semiconductor substrate, and a second wheel stone bridge 2 also composed of four strain gauges 25.
6 is formed. The second wheelstone bridge 26
It is formed outside the pressure measuring wheel stone bridge 10 and outside the diaphragm of the semiconductor substrate. Both bridges 10 and 26 are connected in parallel to the power supply line 27, and the second wheelstone bridge 2
The output terminals 28a and 28b of 6 are leads 29a and 29b to guard rings 12a and 12b surrounding the output terminals 15a and 15b of the wheel stone bridge 10 for pressure measurement.
Connected by.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案は プロセス変量である2点間の圧力差を検出する差圧伝送器や配管の 圧力測定を行う圧力発信器等に用いられる半導体圧力センサに関する。 The present invention relates to a semiconductor pressure sensor used for a differential pressure transmitter for detecting a pressure difference between two points which is a process variable and a pressure transmitter for measuring a pressure in a pipe.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

各種プロセス流体の制御に用いられる差圧伝送器は管内流体の流量を測定する もので、そのため、従来のこの種の差圧伝送器は検出器ボディの両側面にそれぞ れ設けたバリアダイヤフラムに2点間の流体圧を与え、これらダイヤフラムの変 位に伴う検出器ボディ内の内封液の移動を、封入回路を仕切って設けた半導体圧 力センサに導き、このセンサの歪みを電気信号に変換して取り出すように構成さ れている(例:実公平4−16920号等)。 The differential pressure transmitter used to control various process fluids measures the flow rate of the fluid in the pipe.Therefore, this type of conventional differential pressure transmitter has barrier diaphragms installed on both sides of the detector body. By applying fluid pressure between two points, the movement of the internal sealing liquid inside the detector body due to the displacement of these diaphragms is guided to the semiconductor pressure sensor that is provided by partitioning the enclosed circuit, and the distortion of this sensor is converted into an electrical signal. It is configured to convert and take out (eg, Jikken 4-16920, etc.).

【0003】 図2は従来の差圧伝送器の検出部の断面図、図3は半導体圧力センサのブリッ ジ回路を示す図、図4はゲージ部の断面図である。これらの図において、1は検 出器ボディ(図示せず)の上面に一体的に設けられたヘッダーカバー、2はヘッ ダーカバー1の上面に設けられた上部室3内に配設された半導体圧力センサ、4 は上部室2を気密に封止する蓋、5は蓋4をヘッダーカバー1に固定するナット 部材、6a,6bはシリコンオイル等の内封液7が封入された封入回路である。FIG. 2 is a sectional view of a detecting portion of a conventional differential pressure transmitter, FIG. 3 is a diagram showing a bridge circuit of a semiconductor pressure sensor, and FIG. 4 is a sectional view of a gauge portion. In these figures, 1 is a header cover integrally provided on the upper surface of a detector body (not shown), and 2 is a semiconductor pressure provided in an upper chamber 3 provided on the upper surface of the head cover 1. A sensor 4 is a lid for hermetically sealing the upper chamber 2, 5 is a nut member for fixing the lid 4 to the header cover 1, and 6a and 6b are enclosing circuits in which an encapsulating liquid 7 such as silicon oil is enclosed.

【0004】 半導体圧力センサ2としては、Si(シリコン)半導体ダイヤフラムを利用し たものが一般的である。このSiダイヤフラム型半導体圧力センサ2は、図2お よび図3に示すように半導体結晶からなる基板(以下半導体基板という)8の表 面に不純物の拡散もしくはイオン打ち込み技術によりピエゾ抵抗領域として作用 する4つの歪ゲージ9を形成して、これらゲージ9をブリッジ結線することによ り圧力測定用ホイールストンブリッジ10を形成すると共に、Alの蒸着等によ り電気接点用配線層11とガードリング12a,12bを形成し、基板裏面の中 央部をエッチングによって除去することにより厚さ20μm〜50μm程度の薄 肉部、すなわちダイヤフラム13を形成して構成したもので、ダイヤフラム13 の表裏面に測定すべき2点間の圧力HpとLpを、不図示のバリアダイヤフラム および封入回路6a,6bにそれぞれ封入された内封液7を介して加えると、ダ イヤフラム13が変位してゲージ9の比抵抗が変化する。したがって、圧力測定 用ホイールストンブリッジ10は、この時の抵抗変化に伴う出力電圧V0 を差動 的に出力する。そして、この出力電圧V0 は発信器14に導かれて増幅器により 増幅された後、遠隔発信される。The semiconductor pressure sensor 2 generally uses a Si (silicon) semiconductor diaphragm. This Si diaphragm type semiconductor pressure sensor 2 acts as a piezoresistive region by impurity diffusion or ion implantation technology on the surface of a substrate (hereinafter referred to as a semiconductor substrate) 8 made of a semiconductor crystal as shown in FIGS. 2 and 3. The four strain gauges 9 are formed, and the gauges 9 are bridge-connected to form the wheel stone bridge 10 for pressure measurement, and the electrical contact wiring layer 11 and the guard ring 12a are formed by vapor deposition of Al or the like. , 12b are formed, and a central portion of the back surface of the substrate is removed by etching to form a thin portion having a thickness of about 20 μm to 50 μm, that is, a diaphragm 13, which is measured on the front and back surfaces of the diaphragm 13. The pressures Hp and Lp between the two power points are sealed in a barrier diaphragm and encapsulation circuits 6a and 6b (not shown), respectively. When it is added through the filled inner sealing liquid 7, the diaphragm 13 is displaced and the specific resistance of the gauge 9 is changed. Therefore, the pressure measuring wheel stone bridge 10 differentially outputs the output voltage V0 according to the resistance change at this time. Then, the output voltage V0 is guided to the oscillator 14, amplified by the amplifier, and then transmitted remotely.

【0005】 ガードリング12a,12bは、歪ゲージ9からのリークカレントによるホイ ールストンブリッジ10の出力電圧V0 のドリフトを防止するためにAlの蒸着 等により形成されるもので、同ブリッジ10の出力端子15a,15bの周囲を 取り囲み、これら出力端子15a,15bと略同電位に保持されている。また、 ガードリング12a,12bは歪ゲージ9と絶縁層16によって電気的に絶縁さ れている。 なお、ホイールストンブリッジ10には印加電圧VB (例えば5V)が印加さ れており、ホイールストンブリッジ10の各リード線17および各ガードリング 12a,12bのリード線18は、蓋4に設けられたリード線挿通孔19を貫通 して発信器14に接続され、またリード線挿通孔19はハーメチックシール20 によってシールされている。図2において、21は上部室3の内底面に固定され たシリコンベースである。The guard rings 12 a and 12 b are formed by vapor deposition of Al or the like in order to prevent the drift of the output voltage V 0 of the Wheelston bridge 10 due to the leak current from the strain gauge 9. The output terminals 15a and 15b are surrounded and are held at substantially the same potential as those of the output terminals 15a and 15b. The guard rings 12a and 12b are electrically insulated by the strain gauge 9 and the insulating layer 16. An applied voltage VB (for example, 5 V) is applied to the wheel stone bridge 10, and the lead wires 17 of the wheel stone bridge 10 and the lead wires 18 of the guard rings 12a and 12b are provided on the lid 4. The lead wire insertion hole 19 is penetrated and connected to the oscillator 14, and the lead wire insertion hole 19 is sealed by a hermetic seal 20. In FIG. 2, reference numeral 21 is a silicon base fixed to the inner bottom surface of the upper chamber 3.

【0006】[0006]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

上記したように従来の半導体圧力センサ2においては、ホイールストンブリッ ジ10の各出力端子15a,15bをガードリング12a,12bによってリー クカレントから保護し、リード線17,18を蓋4に設けたリード線挿通孔19 から外部に導出し、このリード線挿通孔19をハーメチックシール20によって 封止していた。しかしながら、このような構成においては、リード線18の一端 をガードリング12a,12bにワイヤボンディングによって接続しているので 、上部室3から外部に導出するリード線の数が増加、言い換えれば蓋4に形成さ れるリード線挿通孔19およびハーメチックシール20の数が増え、リード線挿 通孔19の封止作業が面倒であるという問題があった。 As described above, in the conventional semiconductor pressure sensor 2, the output terminals 15a, 15b of the wheel stone bridge 10 are protected from the leak current by the guard rings 12a, 12b, and the lead wires 17, 18 are provided on the lid 4. It was led out from the wire insertion hole 19 and the lead wire insertion hole 19 was sealed by a hermetic seal 20. However, in such a configuration, since one end of the lead wire 18 is connected to the guard rings 12a and 12b by wire bonding, the number of lead wires led out from the upper chamber 3 to the outside is increased, in other words, the lid 4 is connected. There is a problem that the number of lead wire insertion holes 19 and hermetic seals 20 formed is increased, and the work of sealing the lead wire insertion holes 19 is troublesome.

【0007】 したがって、本考案は上記したような従来の問題点に鑑みてなされたもので、 その目的とするところは、ホイールストンブリッジの出力端子をリークカレント から保護するガードリングのリード線をなくし、ハーメチックシールの数を少な くすることができるようにした半導体圧力センサを提供することにある。Therefore, the present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and an object thereof is to eliminate a lead wire of a guard ring that protects an output terminal of a wheelstone bridge from a leak current. , To provide a semiconductor pressure sensor capable of reducing the number of hermetic seals.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

上記目的を解決するため本考案は、シリコン単結晶からなる基板の一面に形成 したダイヤフラムと、このダイヤフラム上に拡散形成された複数個の歪ゲージと 、これらの歪ゲージを結線して形成された圧力測定用ホイールストンブリッジと 、この圧力測定用ホイールストンブリッジの出力端子の周囲に設けられたガード リングとを有する半導体圧力センサにおいて、前記ダイヤフラムの外側基板上に 他の歪ゲージによる第2のホイールストンブリッジを形成し、この第2のホイー ルストンブリッジと前記圧力測定用ホイールストンブリッジを並列接続すると共 に、前記第2のホイールストンブリッジの出力端子を前記ガードリングに接続し たものである。 In order to solve the above object, the present invention is formed by connecting a diaphragm formed on one surface of a substrate made of silicon single crystal, a plurality of strain gauges diffused and formed on the diaphragm, and connecting these strain gauges. In a semiconductor pressure sensor having a pressure measuring wheel stone bridge and a guard ring provided around the output terminal of the pressure measuring wheel stone bridge, a second wheel formed by another strain gauge on the outer substrate of the diaphragm. A stone bridge is formed, and the second wheel stone bridge and the pressure measuring wheel stone bridge are connected in parallel, and the output terminal of the second wheel stone bridge is connected to the guard ring. .

【0009】[0009]

【作用】[Action]

本考案においては、圧力検出用のホイールストンブリッジと、第2のホイール ストンブリッジは並列に接続され、第2のホイールストンブリッジの出力端子が ガードリングに接続されていることで、ガードリングのリード線を不要にする。 In the present invention, the pressure detecting wheel stone bridge and the second wheel stone bridge are connected in parallel, and the output terminal of the second wheel stone bridge is connected to the guard ring, so that the lead of the guard ring is connected. Make lines unnecessary.

【0010】[0010]

【実施例】【Example】

以下、本考案を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明する。 図1は本考案に係る半導体圧力センサの一実施例を示すブリッジ回路図である 。なお、図中図2〜図4と同一構成部材のものに対しては同一符号をもって示し 、その説明を省略する。同図において、本実施例はシリコン単結晶からなる基板 8のダイヤフラム13(図2参照)上に4つの歪ゲージ9を拡散形成して、これ らの歪ゲージ9を結線することにより圧力測定用ホイールストンブリッジ10を 形成すると共に、圧力測定用ホイールストンブリッジ10の外側に同じく4つの 歪ゲージ25を拡散、イオンの打ち込み等によって形成して、これらの歪ゲージ 25を結線することにより第2のホイールストンブリッジ26を形成し、この第 2のホイールストンブリッジ26と圧力測定用ホイールストンブリッジ10を電 源ライン27に対して並列に接続し、かつ第2のホイールストンブリッジ26の 出力端子28a,28bを、ダイヤフラム13上に蒸着等によって形成されたリ ード29a,29bによって対応するガードリング12a,12bにそれぞれ接 続したものである。第2のホイールストンブリッジ26は、圧力測定用ホイール ストンブリッジ10と同時に形成される。また、この第2のホイールストンブリ ッジ26は半導体基板8の上面外周部にダイヤフラム13の外側に位置するよう 形成される。これは圧力測定時にダイヤフラム13の変位により歪ゲージ25の 抵抗変化を生じないようにするためである。 その他の構成は図2〜図4に示した従来構造と同様である。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the embodiments shown in the drawings. FIG. 1 is a bridge circuit diagram showing an embodiment of a semiconductor pressure sensor according to the present invention. It should be noted that, in the drawings, the same components as those in FIGS. 2 to 4 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. In this figure, in this embodiment, four strain gauges 9 are diffused and formed on a diaphragm 13 (see FIG. 2) of a substrate 8 made of a silicon single crystal, and the strain gauges 9 are connected to each other for pressure measurement. In addition to forming the wheel stone bridge 10, four strain gauges 25 are also formed outside the pressure measuring wheel stone bridge 10 by diffusion, ion implantation, etc., and these strain gauges 25 are connected to form a second strain gauge 25. A wheelstone bridge 26 is formed, the second wheelstone bridge 26 and the pressure measuring wheelstone bridge 10 are connected in parallel to the power supply line 27, and the output terminal 28a of the second wheelstone bridge 26 is 28b corresponding to leads 29a and 29b formed on the diaphragm 13 by vapor deposition or the like. Doringu 12a, is obtained by respectively connecting to 12b. The second wheel stone bridge 26 is formed simultaneously with the pressure measuring wheel stone bridge 10. The second wheelstone bridge 26 is formed on the outer peripheral surface of the upper surface of the semiconductor substrate 8 so as to be located outside the diaphragm 13. This is to prevent the strain gauge 25 from changing its resistance due to the displacement of the diaphragm 13 during pressure measurement. Other configurations are similar to those of the conventional structure shown in FIGS.

【0011】 かくしてこのような構成においては、半導体基板8上に圧力測定用ホイールス トンブリッジ10と第2のホイールストンブリッジ26を形成して、これら両ブ リッジを電源ライン27に対して並列に接続すると共に、第2のホイールストン ブリッジ26の出力端子28a,28bとガードリング12a,12bを電気的 に接続したので、図3に示した従来構造におけるガードリング12a,12bの リード線18が不要で、そのため蓋14にリード線18が挿通されるリード線挿 通孔を形成したり、このリード線挿通孔をハーメチックシールによって封止した りする作業を不要にする。したがって、リード線挿通孔のシール作業が簡単で、 蓋4による封入液7の封止性能を向上させる。また、ガードリング12a,12 bはリークカレントが測定用ホイールストンブリッジ10の出力端子15a,1 5bに流れ込むのを確実に防止することができ、出力電圧V0 のドリフトを防止 する。Thus, in such a configuration, the pressure measuring wheel stone bridge 10 and the second wheel stone bridge 26 are formed on the semiconductor substrate 8, and these bridges are arranged in parallel to the power supply line 27. Since the output terminals 28a and 28b of the second wheelstone bridge 26 and the guard rings 12a and 12b are electrically connected together, the lead wires 18 of the guard rings 12a and 12b in the conventional structure shown in FIG. 3 are unnecessary. Therefore, it is not necessary to form a lead wire insertion hole through which the lead wire 18 is inserted in the lid 14 or to seal the lead wire insertion hole with a hermetic seal. Therefore, the work of sealing the lead wire insertion hole is easy, and the sealing performance of the enclosed liquid 7 by the lid 4 is improved. Further, the guard rings 12a and 12b can surely prevent the leak current from flowing into the output terminals 15a and 15b of the measuring wheel stone bridge 10, and prevent the drift of the output voltage V0.

【0012】[0012]

【考案の効果】[Effect of device]

以上説明したように本考案に係る半導体圧力センサによれば半導体基板上に圧 力測定用ホイールストンブリッジと、ダイヤフラムの外側基板上に位置する第2 のホイールストンブリッジを形成し、これら両ブリッジを電源ラインに対して並 列に接続し、圧力測定用ホイールストンブリッジの各出力端子をガードリングに よって取り囲み、第2のホイールストンブリッジの各出力端子を対応するガード リングにそれぞれ接続して構成したので、ガードリングにリード線を接続する必 要がなく、そのため内封液を封入した差圧伝送器や圧力発信器等においてハーメ チックシールの数を少なくすることができ、リード線挿通孔のシール作業が簡単 で、内封液封入の信頼性を向上させることができる。 As described above, according to the semiconductor pressure sensor of the present invention, the pressure measuring wheel stone bridge and the second wheel stone bridge located on the outer substrate of the diaphragm are formed on the semiconductor substrate. Connected in parallel to the power supply line, surrounding each output terminal of the pressure measuring wheel stone bridge with a guard ring, and connecting each output terminal of the second wheel stone bridge to the corresponding guard ring. Therefore, it is not necessary to connect the lead wire to the guard ring, and therefore the number of hermetic seals can be reduced in the differential pressure transmitter or pressure transmitter filled with the internal sealing liquid, and the seal of the lead wire insertion hole can be reduced. The work is simple and the reliability of encapsulating liquid can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本考案に係る半導体圧力センサのブリッジ回路
を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a bridge circuit of a semiconductor pressure sensor according to the present invention.

【図2】従来の半導体圧力センサを備えた差圧伝送器の
検出部の断面図である。
FIG. 2 is a sectional view of a detection portion of a differential pressure transmitter including a conventional semiconductor pressure sensor.

【図3】同センサのブリッジ回路を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a bridge circuit of the sensor.

【図4】ゲージ部の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a gauge section.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 半導体圧力センサ 8 半導体基板 9 歪ゲージ 10 圧力測定用ホイールストンブリッジ 12a,12b ガードリング 13 ダイヤフラム 15a,15b 出力端子 17 リード線 18 リード線 25 歪ゲージ 26 第2のホイールストンブリッジ 28a,28b 出力端子 29a,29b リード 2 semiconductor pressure sensor 8 semiconductor substrate 9 strain gauge 10 pressure measuring wheel stone bridge 12a, 12b guard ring 13 diaphragm 15a, 15b output terminal 17 lead wire 18 lead wire 25 strain gauge 26 second wheel stone bridge 28a, 28b output terminal 29a, 29b lead

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 シリコン単結晶からなる基板の一面に形
成したダイヤフラムと、このダイヤフラム上に拡散形成
された複数個の歪ゲージと、これらの歪ゲージを結線し
て形成された圧力測定用ホイールストンブリッジと、こ
の圧力測定用ホイールストンブリッジの出力端子の周囲
に設けられたガードリングとを有する半導体圧力センサ
において、 前記ダイヤフラムの外側基板上に他の歪ゲージによる第
2のホイールストンブリッジを形成し、この第2のホイ
ールストンブリッジと前記圧力測定用ホイールストンブ
リッジを並列接続すると共に、前記第2のホイールスト
ンブリッジの出力端子を前記ガードリングに接続したこ
とを特徴とする半導体圧力センサ。
1. A diaphragm formed on one surface of a substrate made of a silicon single crystal, a plurality of strain gauges diffused and formed on the diaphragm, and a wheel stone for pressure measurement formed by connecting these strain gauges. In a semiconductor pressure sensor having a bridge and a guard ring provided around an output terminal of the pressure measuring wheel stone bridge, a second wheel stone bridge formed by another strain gauge is formed on the outer substrate of the diaphragm. A semiconductor pressure sensor characterized in that the second wheelstone bridge and the pressure measuring wheelstone bridge are connected in parallel, and an output terminal of the second wheelstone bridge is connected to the guard ring.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140084867A (en) * 2012-12-27 2014-07-07 타이코에이엠피(유) Sensor system with redundancy circuit and method for controlling output of sensor system

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