JPH0786462A - Moving stage device - Google Patents

Moving stage device

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Publication number
JPH0786462A
JPH0786462A JP18667093A JP18667093A JPH0786462A JP H0786462 A JPH0786462 A JP H0786462A JP 18667093 A JP18667093 A JP 18667093A JP 18667093 A JP18667093 A JP 18667093A JP H0786462 A JPH0786462 A JP H0786462A
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JP
Japan
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moving
prepressure
guide surface
permanent magnet
moving stage
Prior art date
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Pending
Application number
JP18667093A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Chiba
伸一 千葉
Kotaro Tsui
浩太郎 堆
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP18667093A priority Critical patent/JPH0786462A/en
Publication of JPH0786462A publication Critical patent/JPH0786462A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Control Of Vehicles With Linear Motors And Vehicles That Are Magnetically Levitated (AREA)
  • Stopping Of Electric Motors (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent tilting and oscillation of a base board by strengthening stiffness of a static pressure bearing means by respective prepressure means, where a prepressure means is a permanent magnet, and controlling a current of a coil generating magnetic force in the same direction with or in the opposite direction to the permanent magnet. CONSTITUTION:A magnetic circuit is formed by a guiding surface 1a, a permanent magnet 901 and both yokes 902, 903 and magnetic force of the magnetic circuit makes a moving base 4 to be sucked by a guiding surface of a base board 1 so as to give prepressure to the second static pressure bearing pads 7, 8. As to a prepressure unit coil 904 of the respective prepressure units 9, when the prepressure unit coil 904 is excited by a current to be fed from a controller, magnetic force of the magnetic circuit is changed to change prepressure. Thereby, oscillation and tilting to be generated at a moving time of a moving stage device can be prevented so as to improve throughput of a semiconductor exposure device, a precision machine tool and a precision measuring machine by speed-up of positioning.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体露光装置、精密
工作機械、精密測定機械等において露光されるウエハ等
基板や、被加工物、被測定物等を高速度かつ高精度で位
置決めするための移動ステージ装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is intended for positioning a substrate such as a wafer exposed in a semiconductor exposure apparatus, a precision machine tool, a precision measuring machine or the like, an object to be processed, an object to be measured at a high speed and with high accuracy. Of the moving stage device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体露光装置、精密工作機械、精密測
定機械においては、露光されるウエハ等基板や、被加工
物、被測定物等を高速度で位置決めすることが要求され
ており、近年、静圧軸受装置によって台盤上に非接触で
支持され、摩擦を低減することでリニアモータ等による
高速駆動を可能にするとともに、台盤表面の粗さや異物
による位置決め精度の低下を防ぐことのできる移動ステ
ージ装置が開発された。
2. Description of the Related Art In semiconductor exposure apparatuses, precision machine tools, and precision measuring machines, it is required to position a substrate such as a wafer to be exposed, an object to be processed, an object to be measured, etc. at a high speed. It is supported in a non-contact manner on the bed by a hydrostatic bearing device, which reduces friction and enables high-speed driving with a linear motor, etc., while also preventing deterioration of positioning accuracy due to surface roughness of the bed and foreign matter. A moving stage device was developed.

【0003】従来の移動ステージ装置の一例を図14に
示す。これは、平坦な案内面101aを有する台盤10
1と、一対のリニアモータ102,103によって台盤
101の案内面101aに沿って所定の軸方向(以下、
「X軸方向」という。)に往復移動される移動台104
からなり、台盤101は、移動台104をX軸方向に案
内する一対のガイド101b,101cと、各リニアモ
ータ102,103の固定体であるリニアコイル102
a,103aを支持し、移動台104は各リニアモータ
102,103の移動体であるリニアマグネット102
b,103bを保持する。移動台104の各ガイド10
1b,101cに対向する表面には移動台104と各ガ
イド101b,101cの間に気体を噴出しその静圧に
よって両者を非接触に支持する第1の静圧軸受パッドが
保持され、また、台盤101の案内面101aに対向す
る表面104cには移動台104と案内面101aの間
に気体を噴出しその静圧によって両者を非接触に支持す
る第2の静圧軸受パッド107,108が保持されてい
る。
FIG. 14 shows an example of a conventional moving stage device. This is a base 10 having a flat guide surface 101a.
1 and a pair of linear motors 102 and 103 along the guide surface 101a of the base 101 in a predetermined axial direction (hereinafter,
It is called "X-axis direction". ) Moving table 104 that is reciprocated
The base 101 includes a pair of guides 101b and 101c that guide the moving base 104 in the X-axis direction, and a linear coil 102 that is a fixed body of the linear motors 102 and 103.
a, 103a are supported, and the moving table 104 is a linear magnet 102 which is a moving body of each linear motor 102, 103.
Holds b and 103b. Each guide 10 of the moving table 104
A first hydrostatic bearing pad is supported on the surface facing the 1b and 101c so as to inject gas between the movable table 104 and the guides 101b and 101c and to support the two in a non-contact manner by its static pressure. On the surface 104c of the board 101 facing the guide surface 101a, the second static pressure bearing pads 107 and 108 for holding the two in a non-contact manner by jetting a gas between the movable table 104 and the guide surface 101a are held. Has been done.

【0004】移動台104上には図示しないウエハや被
測定物等が保持され、各リニアモータ102,103の
リニアコイル102a,103aに電流が供給されて各
リニアモータ102,103が駆動されると、移動台1
04はガイド101b,101cに沿って台盤101上
の所定の位置へ移動し、前記ウエハなどの位置決めを行
う。前述のように、移動台104は台盤101の案内面
101aや各ガイド101b,101cに対して非接触
に支持されており、従って、摩擦抵抗がないために極め
て高速度で移動台104を移動できるとともに、台盤1
01の案内面101aに凹凸があっても、これらによっ
て移動台104が傾いてその平面度が低下し、位置決め
精度を損うおそれもない。
A wafer, an object to be measured, and the like (not shown) are held on the moving table 104, and current is supplied to the linear coils 102a and 103a of the linear motors 102 and 103 to drive the linear motors 102 and 103. , Mobile platform 1
Reference numeral 04 moves to a predetermined position on the base 101 along the guides 101b and 101c to position the wafer and the like. As described above, the moving table 104 is supported in a non-contact manner with respect to the guide surface 101a of the table 101 and the guides 101b and 101c. Therefore, since there is no frictional resistance, the moving table 104 moves at an extremely high speed. You can do it, and base 1
Even if the guide surface 101a of No. 01 has unevenness, the moving table 104 is tilted by these and the flatness thereof is reduced, and there is no possibility of impairing the positioning accuracy.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、リニアモータ等による駆動力の中心と
移動台の重心が不一致であると、これに起因するモーメ
ントのために移動中の移動台が傾いて直進精度が低下し
たり、ピッチング等の振動を発生するおそれがあり、こ
のために移動台を充分な高速度で移動できず、位置決め
に要する時間を充分短縮できないという問題があった。
そこで、静圧軸受パッドの気体の供給圧力を制御したり
(特開昭58−25637号公報参照)、静圧軸受パッ
ドの噴出孔の絞りを圧電素子等の駆動手段を用いて調節
したり(特開昭63−101515号公報参照)、ある
いは台盤の案内面の方に静圧軸受パッドを設け、案内面
を傾斜させることによって移動台の傾きを相殺する方法
(特開平4−27218号公報参照)等が開発された
が、気体の供給圧力を調節したり噴出孔の絞りを調節す
る方法は応答性が悪いために位置決めに要する時間が長
くなり、台盤の案内面に静圧軸受パッドを設けてこれを
傾斜させる方法は台盤の安定性を欠くうえに装置全体が
大形化するおそれがある。
However, according to the above-mentioned conventional technique, when the center of the driving force of the linear motor or the like and the center of gravity of the moving base do not match, the moving base is moving due to a moment resulting from this. However, there is a possibility that the vehicle may be tilted to lower the straight traveling accuracy and generate vibrations such as pitching. Therefore, there is a problem that the moving table cannot be moved at a sufficiently high speed and the time required for positioning cannot be shortened sufficiently.
Therefore, the gas supply pressure of the hydrostatic bearing pad is controlled (see Japanese Patent Laid-Open No. 58-25637), or the orifice of the jet port of the hydrostatic bearing pad is adjusted by using a driving means such as a piezoelectric element ( (See Japanese Laid-Open Patent Publication No. 63-151515) or a method of offsetting the tilt of the movable table by providing a hydrostatic bearing pad on the guide surface of the base and tilting the guide surface (Japanese Patent Laid-Open No. 4-27218). However, the method of adjusting the gas supply pressure or adjusting the orifice of the ejection hole has poor responsiveness, so the time required for positioning becomes long, and the hydrostatic bearing pad is attached to the guide surface of the base. The method of providing and inclining this lacks stability of the pedestal and may increase the size of the entire apparatus.

【0006】本発明は、上記従来の技術の有する問題点
に鑑みてなされたものであり、移動台の振動や傾きを防
ぐための簡単で応答性にすぐれた機構を有する移動ステ
ージ装置を提供することを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and provides a moving stage apparatus having a simple and responsive mechanism for preventing vibration and tilt of the moving table. That is the purpose.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の移動ステージ装置は、案内面を有する台盤
と、静圧軸受手段によって前記案内面に非接触で支持さ
れた移動台と、該移動台を前記案内面に沿って移動させ
る駆動手段と、それぞれ前記移動台を前記案内面に向っ
て付勢する複数の予圧手段と、各予圧手段を制御する制
御手段からなることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a moving stage apparatus of the present invention comprises a base having a guide surface, and a movable base supported by the static pressure bearing means in a non-contact manner on the guide surface. And a drive means for moving the movable table along the guide surface, a plurality of precompression means for urging the movable table toward the guide surface, and a control means for controlling each precompression means. Characterize.

【0008】また、各予圧手段が永久磁石であり、制御
手段が、前記永久磁石と同方向あるいは逆方向に磁力を
発生させるコイルと該コイルの電流を制御するコントロ
ーラであるとよい。
Further, it is preferable that each of the preloading means is a permanent magnet, and the control means is a coil for generating a magnetic force in the same direction or a reverse direction to the permanent magnet and a controller for controlling the current of the coil.

【0009】[0009]

【作用】上記装置によれば、各予圧手段によって静圧軸
受手段の剛性を強化するとともに、各予圧手段を制御す
ることによって台盤の傾きや振動を防ぐことができる。
予圧手段が永久磁石であり、制御手段が前記永久磁石と
同方向あるいは逆方向に磁力を発生させるコイルと該コ
イルの電流を制御するコントローラであれば、移動ステ
ージ装置全体が大形化するおそれがないうえに、応答性
が極めて速い。
According to the above apparatus, the rigidity of the hydrostatic bearing means is enhanced by each preloading means, and tilting and vibration of the bed can be prevented by controlling each preloading means.
If the preload means is a permanent magnet and the control means is a coil that generates a magnetic force in the same direction as or a direction opposite to that of the permanent magnet and a controller that controls the current of the coil, the entire moving stage device may become large. In addition, it is extremely responsive.

【0010】[0010]

【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0011】図1は第1実施例を示す斜視図であって、
本実施例の移動ステージ装置は、平坦な案内面1aを有
する台盤1と、駆動手段である一対のリニアモータ2,
3によって台盤1の案内面1aに沿って所定の軸方向
(以下、「X軸方向」という。)に往復移動される移動
台4からなり、台盤1は、移動台4をX軸方向に案内す
る一対のガイド1b,1cと、各リニアモータ2,3の
固定体であるリニアコイル2a,3aを支持し、移動台
4は各リニアモータ2,3の移動体であるリニアマグネ
ット2b,3bを保持する。
FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment,
The moving stage apparatus according to the present embodiment includes a base 1 having a flat guide surface 1a, a pair of linear motors 2 serving as driving means,
3 comprises a movable table 4 which is reciprocally moved along a guide surface 1a of the table 1 in a predetermined axial direction (hereinafter referred to as "X-axis direction"). The table 1 moves the movable table 4 in the X-axis direction. And a pair of guides 1b and 1c for guiding the linear motors and linear coils 2a and 3a which are fixed bodies of the linear motors 2 and 3, respectively, and a movable table 4 is a linear magnet 2b which is a movable body of the linear motors 2 and 3, Hold 3b.

【0012】図2に示すように、移動台4の各ガイド1
b,1cに対向する表面4a,4bには移動台4と各ガ
イド1b,1cの間に気体を噴出しその静圧によって両
者を非接触に支持する第1の静圧軸受パッド5,6が保
持され、また、台盤1の案内面1aに対向する表面4c
には移動台4と案内面1aの間に気体を噴出しその静圧
によって両者を非接触に支持する静圧軸受手段である第
2の静圧軸受パッド7,8が保持されている。
As shown in FIG. 2, each guide 1 of the movable table 4 is
On the surfaces 4a, 4b facing b, 1c, there are first static pressure bearing pads 5, 6 for injecting a gas between the movable table 4 and the guides 1b, 1c and supporting the both in a non-contact manner by the static pressure. A surface 4c that is held and faces the guide surface 1a of the base 1.
The second hydrostatic bearing pads 7 and 8 which are hydrostatic bearing means for ejecting gas between the movable table 4 and the guide surface 1a and supporting the two in a non-contact manner by the static pressure thereof are held.

【0013】移動台4の上面には、図示しないウエハや
被測定物等が保持され、各リニアモータ2,3のリニア
コイル2a,3aに電流が供給されて各リニアモータ
2,3が駆動されると、移動台4はガイド2,3に沿っ
て台盤1上の所定の位置へ移動し、前記ウエハなどの位
置決めを行う。前述のように、移動台4は台盤1の案内
面1aや各ガイド1b,1cに対して非接触に支持され
ており、従って、摩擦抵抗がないために移動台4の移動
を極めて高速度で行うことができるとともに、台盤1の
案内面1aに凹凸があっても、これらによって移動台4
が傾いてその直進精度が低下し、位置決め精度を損うお
それもない。
A wafer, an object to be measured, and the like (not shown) are held on the upper surface of the moving table 4, and current is supplied to the linear coils 2a and 3a of the linear motors 2 and 3 to drive the linear motors 2 and 3. Then, the moving table 4 moves to a predetermined position on the table 1 along the guides 2 and 3 to position the wafer and the like. As described above, the movable table 4 is supported in a non-contact manner with respect to the guide surface 1a of the platform 1 and the guides 1b and 1c. Therefore, since there is no frictional resistance, the movable table 4 can be moved at a very high speed. Even if the guide surface 1a of the base 1 has irregularities, the moving table 4a
There is no risk that the linearity accuracy is lowered due to the tilting of the shaft and the positioning accuracy is impaired.

【0014】移動台4は、図3に示すように、X軸方向
の両端面4d,4eにそれぞれ予圧手段である予圧ユニ
ット9,10を保持し、各予圧ユニット9,10は、図
4に示すように、永久磁石901と、これを挟むように
配設された一対のヨーク902,903と、各ヨーク9
02,903の下向きに突出する脚部902a,903
aに巻かれたコイルである予圧ユニットコイル904,
905からなり、永久磁石901と各ヨーク902,9
03は取付部材906によって移動台4に一体的に結合
されている。
As shown in FIG. 3, the movable table 4 holds preloading units 9 and 10 as preloading means on both end surfaces 4d and 4e in the X-axis direction, and each preloading unit 9 and 10 is shown in FIG. As shown, a permanent magnet 901, a pair of yokes 902 and 903 arranged so as to sandwich the permanent magnet 901, and each yoke 9
02,903 leg portions 902a, 903 projecting downward
Preload unit coil 904 which is a coil wound around a
905, and a permanent magnet 901 and each yoke 902, 9
03 is integrally coupled to the movable table 4 by a mounting member 906.

【0015】台盤1の案内面1aは鉄等の磁気透過性材
料によって作られており、該案内面1aと、永久磁石9
01および両ヨーク902,903によって磁気回路が
形成され、該磁気回路の磁力によって移動台4を台盤1
の案内面に向って吸引し、第2の静圧軸受パッド7,8
に予圧を与える。各予圧ユニット9,10の予圧ユニッ
トコイル904,905は図示しないコントローラに接
続され、コントローラから供給される電流によって予圧
ユニットコイル904,905が励磁されると、前記磁
気回路の磁力が変化して予圧が変わるように構成されて
いる。
The guide surface 1a of the base 1 is made of a magnetically permeable material such as iron. The guide surface 1a and the permanent magnet 9 are
01 and both yokes 902 and 903 form a magnetic circuit, and the moving table 4 is moved by the magnetic force of the magnetic circuit.
Suction toward the guide surface of the second hydrostatic bearing pad 7, 8
Give preload to. The preload unit coils 904 and 905 of the preload units 9 and 10 are connected to a controller (not shown), and when the preload unit coils 904 and 905 are excited by the current supplied from the controller, the magnetic force of the magnetic circuit is changed to preload the preload units. Is configured to change.

【0016】前記コントローラには、各リニアモータ
2,3の駆動力が発生すると同時に、所定の電流を各予
圧ユニット9,10の予圧ユニットコイル904,90
5に供給する制御プログラムが設定される。
In the controller, at the same time as the driving force of each linear motor 2 and 3 is generated, a predetermined current is applied to the preload unit coils 904 and 90 of each preload unit 9 and 10.
The control program to be supplied to 5 is set.

【0017】すなわち、図5の(a)に示す波形の駆動
電流を各リニアモータ2,3に供給したときの移動台4
の傾きを予め測定しておき、これを防ぐために必要な各
予圧ユニット9,10の電流を算出し、これを各リニア
モータ2,3の駆動と同期して各予圧ユニット9,10
に供給する制御プログラムを作製してコントローラに設
定すれば、移動台4が移動する位置決めサイクルごと
に、自動的に図5の(b)に示す波形の電流が各予圧ユ
ニット9,10に供給されてその予圧が変化し、移動台
4が傾くのを防止する。その結果、移動台4を高速度で
移動させて位置決めに要する時間を短縮できる。
That is, the movable base 4 when the drive current having the waveform shown in FIG. 5A is supplied to each of the linear motors 2 and 3.
Of the preloading units 9 and 10 necessary to prevent this is calculated in advance, and the preloading units 9 and 10 are calculated in synchronization with the driving of the linear motors 2 and 3.
If a control program to be supplied to the preload unit is created and set in the controller, the current having the waveform shown in FIG. 5B is automatically supplied to each preload unit 9 and 10 in each positioning cycle in which the moving table 4 moves. The preload is prevented from changing and the movable table 4 is prevented from tilting. As a result, the moving table 4 can be moved at a high speed to shorten the time required for positioning.

【0018】次に、本実施例の変形例について説明す
る。
Next, a modification of this embodiment will be described.

【0019】図6および図7は本実施例の第1変形例を
示すもので、本変形例は、第1実施例の移動台4と同様
の移動台14の両端面14d,14eにそれぞれ一対ず
つの予圧ユニット19〜22を設けるとともに、移動台
14の上面に加速度検出手段である加速度検出器23を
固着し、該加速度検出器23によって移動台14の加速
度を検出し、その出力を第1実施例と同様の図示しない
コントローラに入力して各予圧ユニット19〜22に所
定の電流を供給するように構成したものである。
FIG. 6 and FIG. 7 show a first modification of the present embodiment. In this modification, a pair of end faces 14d, 14e of a movable base 14 similar to the movable base 4 of the first embodiment are respectively paired. Each of the preload units 19 to 22 is provided, and an acceleration detector 23, which is an acceleration detecting means, is fixed to the upper surface of the moving table 14, and the acceleration of the moving table 14 is detected by the acceleration detector 23. This is configured so that it is input to a controller (not shown) similar to that of the embodiment to supply a predetermined current to each of the preload units 19 to 22.

【0020】図8および図9は第2変形例を示すもの
で、本変形例は、第1実施例の移動台4と同様の移動台
34の両端面34d,34eにそれぞれ一対ずつの予圧
ユニット39〜42を設けるとともに、両端面34d,
34eに一対の変位検出手段である非接触の変位検出器
(例えば、静電容量型変位計)43,44をそれぞれ配
設し、これらによって移動台34の垂直方向の変位を直
接検出し、その出力に基づいて予圧ユニット39〜42
に電流を供給するように構成したものである。本変形例
は、移動台34の傾きを直接検出してこれを解消するも
のであるため、移動台34が静止中に質量のアンバラン
スが生じて傾いた場合や、移動台34等の材料の経時的
変形によって平面度が低下した場合等にも、これらを直
ちに検出して位置決め精度の低下を防ぐことができると
いう利点がある。
FIGS. 8 and 9 show a second modified example. In this modified example, a pair of preload units are provided on both end surfaces 34d and 34e of a movable table 34 similar to the movable table 4 of the first embodiment. 39 to 42 are provided, and both end faces 34d,
A pair of non-contact displacement detectors (for example, electrostatic capacitance type displacement gauges) 43 and 44, which are a pair of displacement detecting means, are respectively arranged in 34e, and the vertical displacement of the movable table 34 is directly detected by these, and Preload units 39 to 42 based on the output
It is configured to supply a current to the. In this modification, since the inclination of the moving table 34 is directly detected to eliminate the inclination, when the moving table 34 is tilted due to the imbalance of the mass while the moving table 34 is stationary, the material of the moving table 34 or the like is changed. Even if the flatness is lowered due to deformation over time, there is an advantage that these can be detected immediately and the positioning accuracy can be prevented from lowering.

【0021】図10は第2実施例を示す斜視図であっ
て、本実施例の移動ステージ装置は、第1実施例と同様
に、案内面51aを有する台盤51と、これと一体的に
設けられた一対のガイド51b,51cと、案内面51
a上をガイド51b,51cに沿って移動自在である移
動台54と、これを移動させる駆動手段である一対のリ
ニアモータ52,53を有し、移動台54と両ガイド5
1b,51cおよび案内面51aの間は図11および図
12に示すように静圧軸受手段である静圧軸受パッド5
5〜58によって非接触に保たれている。第1実施例の
予圧ユニット9,10の替わりに、案内面51a上にガ
イド51b,51cと平行な二対の永久磁石ユニット5
9a〜62aが固着され、移動台54は各対の永久磁石
ユニット59a〜62aの間に嵌挿され、これらととも
に磁気手段を構成する予圧ユニットコイル59b〜62
bを保持している。
FIG. 10 is a perspective view showing a second embodiment. The moving stage apparatus of the present embodiment is similar to the first embodiment in that it has a base 51 having a guide surface 51a and an integrated body 51. A pair of guides 51b, 51c provided and a guide surface 51
The movable table 54 is movable along the guides 51b and 51c on a, and the pair of linear motors 52 and 53 is a driving means for moving the movable table 54.
Between the 1b and 51c and the guide surface 51a, as shown in FIGS. 11 and 12, a hydrostatic bearing pad 5 which is hydrostatic bearing means.
It is kept non-contact by 5 to 58. Instead of the preload units 9 and 10 of the first embodiment, two pairs of permanent magnet units 5 parallel to the guides 51b and 51c on the guide surface 51a.
9a to 62a are fixed, and the movable table 54 is fitted and inserted between each pair of permanent magnet units 59a to 62a, and together with these, the preload unit coils 59b to 62 constituting magnetic means.
Holds b.

【0022】すなわち、図13に示すように、各予圧ユ
ニットコイル59b〜62bはそれぞれ取付部材59c
によって移動台54に固着され、各予圧ユニットコイル
59b〜62bは水平面内で移動台54の移動方向に垂
直な軸のまわりに巻かれており、各永久磁石ユニット5
9a〜62aは、それぞれ垂直方向に積重ねられた2つ
の永久磁石59d,59eであって両者は磁極が逆向き
になるように配設されている。両永久磁石59d,59
eはヨーク59fによって一体化されており、また、各
永久磁石59d,59eの垂直方向の厚さは各予圧ユニ
ットコイル59b〜62bの直径の1/2以下である。
That is, as shown in FIG. 13, each of the preload unit coils 59b to 62b is attached to the mounting member 59c.
The preload unit coils 59b to 62b are fixed to the moving table 54 by means of a coil and are wound around an axis perpendicular to the moving direction of the moving table 54 in the horizontal plane.
Reference numerals 9a to 62a denote two permanent magnets 59d and 59e, which are vertically stacked, and are arranged such that their magnetic poles are opposite to each other. Both permanent magnets 59d, 59
e is integrated by a yoke 59f, and the thickness of each permanent magnet 59d, 59e in the vertical direction is not more than half the diameter of each preload unit coil 59b to 62b.

【0023】各予圧ユニットコイル59b〜62bに電
流が供給されると、案内面51aに垂直にローレンツ力
が発生し、これによって移動台54が案内面51aに吸
引され、第1実施例と同様の予圧を発生する。また、各
予圧ユニットコイル59b〜62bによる予圧は、制御
手段である図示しないコントローラによってこれらに供
給する電流を制御することによって変化させることがで
きる。その他の点は第1実施例と同様であるので説明は
省略する。
When current is supplied to each of the preload unit coils 59b to 62b, a Lorentz force is generated perpendicularly to the guide surface 51a, whereby the movable table 54 is attracted to the guide surface 51a and the same as in the first embodiment. Generate preload. Further, the preload by each of the preload unit coils 59b to 62b can be changed by controlling the current supplied to them by a controller (not shown) which is a control means. Since the other points are the same as those in the first embodiment, the description thereof will be omitted.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明は、上述のように構成されている
ので、以下に記載するような効果を奏する。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects.

【0025】移動ステージ装置の移動時に発生する振動
や傾きを防ぐことができるため、位置決めを高速化して
半導体露光装置や精密工作機械、精密測定機械等のスル
ープットを向上させることが容易である。
Since it is possible to prevent vibrations and tilts that occur when the moving stage apparatus moves, it is easy to speed up the positioning and improve the throughput of semiconductor exposure apparatuses, precision machine tools, precision measuring machines and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment.

【図2】第1実施例の模式側面図である。FIG. 2 is a schematic side view of the first embodiment.

【図3】第1実施例の模式平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view of the first embodiment.

【図4】図2の枠Aで囲んだ部分を拡大して示す拡大部
分斜視図である。
FIG. 4 is an enlarged partial perspective view showing a portion surrounded by a frame A in FIG. 2 in an enlarged manner.

【図5】第1実施例の予圧ユニットを制御するプログラ
ムを説明するもので、(a)はリニアモータを駆動する
信号のタイムチャートであり、(b)は予圧ユニットコ
イルに印加する電流波形を示すものである。
FIG. 5 is a diagram for explaining a program for controlling the preload unit of the first embodiment, (a) is a time chart of signals for driving a linear motor, and (b) shows a current waveform applied to the preload unit coil. It is shown.

【図6】第1実施例の第1変形例を示す模式側面図であ
る。
FIG. 6 is a schematic side view showing a first modification of the first embodiment.

【図7】第1実施例の第1変形例を示す模式平面図であ
る。
FIG. 7 is a schematic plan view showing a first modification of the first embodiment.

【図8】第1実施例の第2変形例を示す模式側面図であ
る。
FIG. 8 is a schematic side view showing a second modification of the first embodiment.

【図9】第1実施例の第2変形例を示す模式平面図であ
る。
FIG. 9 is a schematic plan view showing a second modification of the first embodiment.

【図10】第2実施例を示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing a second embodiment.

【図11】第2実施例を示す模式側面図である。FIG. 11 is a schematic side view showing a second embodiment.

【図12】第2実施例を示す模式平面図である。FIG. 12 is a schematic plan view showing a second embodiment.

【図13】図12の枠Bで囲んだ部分を拡大して示す拡
大部分斜視図である。
13 is an enlarged partial perspective view showing an enlarged portion surrounded by a frame B in FIG.

【図14】従来例を示す斜視図である。FIG. 14 is a perspective view showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,51 台盤 1a,51a 案内面 1b,1c,51b,51c ガイド 2,3,52,53 リニアモータ 4,14,34,54 移動台 5〜8,55〜58 静圧軸受パッド 9,10,19〜22,39〜42 予圧ユニット 23 加速度検出器 43 変位検出器 59a〜62a 永久磁石ユニット 59b〜62b,904,905 予圧ユニットコイ
ル 901 永久磁石
1,51 Platform 1a, 51a Guide surface 1b, 1c, 51b, 51c Guide 2,3,52,53 Linear motor 4,14,34,54 Moving base 5-8,55-58 Hydrostatic bearing pad 9,10 , 19 to 22, 39 to 42 Preload unit 23 Acceleration detector 43 Displacement detector 59a to 62a Permanent magnet unit 59b to 62b, 904, 905 Preload unit coil 901 Permanent magnet

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/68 K 23/31 H02P 3/00 9178−5H ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location H01L 21/68 K 23/31 H02P 3/00 9178-5H

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 案内面を有する台盤と、静圧軸受手段に
よって前記案内面に非接触で支持された移動台と、該移
動台を前記案内面に沿って移動させる駆動手段と、それ
ぞれ前記移動台を前記案内面に向って付勢する複数の予
圧手段と、各予圧手段を制御する制御手段からなる移動
ステージ装置。
1. A pedestal having a guide surface, a movable table supported by the hydrostatic bearing means in a non-contact manner with the guide surface, and a drive means for moving the movable table along the guide surface, respectively. A moving stage device comprising a plurality of preloading means for urging the moving table toward the guide surface and a control means for controlling each preloading means.
【請求項2】 各予圧手段が永久磁石であり、制御手段
が、前記永久磁石と同方向あるいは逆方向に磁力を発生
させるコイルと該コイルの電流を制御するコントローラ
であることを特徴とする請求項1記載の移動ステージ装
置。
2. The preload means is a permanent magnet, and the control means is a coil for generating a magnetic force in the same direction or a reverse direction to the permanent magnet and a controller for controlling the current of the coil. Item 1. A moving stage device according to item 1.
【請求項3】 各予圧手段がローレンツ力を発生させる
磁気手段であり、制御手段が前記ローレンツ力を変化さ
せるコントローラであることを特徴とする請求項1記載
の移動ステージ装置。
3. The moving stage apparatus according to claim 1, wherein each preloading means is a magnetic means for generating a Lorentz force, and the control means is a controller for changing the Lorentz force.
【請求項4】 制御手段が、駆動手段と同期して駆動さ
れるように構成されていることを特徴とする請求項1な
いし3いずれか1項記載の移動ステージ装置。
4. The moving stage apparatus according to claim 1, wherein the control unit is configured to be driven in synchronization with the driving unit.
【請求項5】 移動台の加速度を検出する加速度検出手
段が設けられており、該加速度検出手段の出力に基づい
て制御手段が駆動されるように構成されていることを特
徴とする請求項1ないし3いずれか1項記載の移動ステ
ージ装置。
5. The acceleration detecting means for detecting the acceleration of the moving table is provided, and the control means is driven based on the output of the acceleration detecting means. 3. The moving stage device according to any one of 3 to 3.
【請求項6】 移動台の傾きを検出する複数の変位検出
手段が設けられており、各変位検出手段の出力に基づい
て制御手段が駆動されるように構成されていることを特
徴とする請求項1ないし3いずれか1項記載の移動ステ
ージ装置。
6. A plurality of displacement detection means for detecting the inclination of the moving table are provided, and the control means is driven based on the output of each displacement detection means. Item 5. The moving stage device according to any one of items 1 to 3.
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